搜索
我要推广仪器
下载APP
首页
选仪器
耗材配件
找厂商
行业应用
新品首发
资讯
社区
资料
网络讲堂
仪课通
仪器直聘
市场调研
当前位置:
仪器信息网
>
行业主题
>
>
等离子刻蚀
仪器信息网等离子刻蚀专题为您整合等离子刻蚀相关的最新文章,在等离子刻蚀专题,您不仅可以免费浏览等离子刻蚀的资讯, 同时您还可以浏览等离子刻蚀的相关资料、解决方案,参与社区等离子刻蚀话题讨论。
等离子刻蚀相关的方案
等离子体原子层刻蚀实现无损伤刻蚀
提供等离子体原子层刻蚀实现无损伤刻蚀。原子层蚀刻(ALE)是一种技术允许每次精确除去一个原子层,是使用常规刻蚀无法达到的控制水平。 牛津仪器的设备和工艺已通过充分验证,正常运转时间可达90%以上,一旦设备安装完毕,可立即投入使用。PlasmaPro 100系列市场应用广,包括但不限于: MEMS和传感器、光电子、分立元器件和纳米技术。它具有足够的灵活性,可用于研究和开发,通过打造质量满足生产需求。
上海伯东 IBE离子束刻蚀(离子铣)基本原理与应用介绍
在半导体制程工艺中,刻蚀(Etch)是指将晶圆上没有被光刻胶覆盖或保护的部分,以化学反应或物理作用的形式加以去除,完成将图形转移到晶圆片表面上的工艺过程。刻蚀分为湿刻蚀(Wet Etching)和干刻蚀(Dry Etching)。干刻蚀则泛指采用气体进行刻蚀的所有工艺,即在晶圆上叠加光刻胶或金属掩模后,将其裸露于刻蚀气体中的工艺。干法刻蚀分为三种:PE等离子体刻蚀、IBE离子束刻蚀和RIE反应离子体刻蚀。
Hakuto IBE离子刻蚀机运用于 PDMS 软刻蚀用母模板研究
随着微纳制造技术的发展,软刻蚀技术因其在微流体、组织工程和生物医学等领域的广泛应用而受到重视。PDMS(聚二甲基硅氧烷)作为一种常用的软刻蚀材料,其母模板的制备质量直接影响到最终产品的性能。Hakuto 7.5IBE 离子刻蚀机以其高效、简便的操作特点,为软刻蚀母模板的制备提供了新的选择。西南某高校在 PDMS 软刻蚀用母模板研究中有采用到伯东 Hakuto 离子蚀刻机 7.5IBE .
Hakuto 离子刻蚀机 7.5IBE 用于氮化硅刻蚀工艺研究
重庆某研究所在在氮化硅刻蚀工艺研究中采用 hakuto 离子刻蚀机 7.5IBE.针对氮化硅刻蚀工艺中硅衬底刻蚀损失的问题, 为了提高氮化硅对二氧化硅的刻蚀选择比, 采用 CF4, CH3F和O2这3种混合气体刻蚀氮化硅, 通过调整气体流量比, 腔内压强及功率, 研究其对氮化硅刻蚀速率、二氧化硅刻蚀速率及氮化硅对二氧化硅选择比等主要刻蚀参数的影响.
Hakuto 离子刻蚀机 10IBE 刻蚀衍射光学元件提高均匀度
衍射光学元件因其独特的光学性能在多个高技术领域中得到广泛应用。随着技术的发展,对衍射光学元件的制造工艺提出了更高的要求。Hakuto 10IBE 离子刻蚀机的应用,为实现高精度和高均匀性的光学元件制造提供了新的解决方案。
伯东NS 10 IBE离子束刻蚀机用于物理量传感器(MEMS)加工
上海伯东某科研客户的研究方向是物理量传感器,用于监测土壤的力学结构变化,一般用于山体、岩石和冻土等环境研究。这种传感器通过镀膜、沉积、刻蚀等工艺多次循环来加工,Au 和 Pt 是传感器加工中常用的涂层,在完成镀膜(溅镀 Sputter 或者电子束蒸镀 E-beam)用传统的湿法刻蚀、ICP 刻蚀和 RIE 刻蚀等工艺无法有效的刻蚀出所需的图形。离子束刻蚀 IBE 作为最有效的刻蚀方案可以解决这个问题,刻蚀那些很难刻蚀的硬质或惰性材料。
上海伯东IBE离子束刻蚀用于铌酸锂LiNbO3薄膜刻蚀
随着基于铌酸锂LN的光源、光调制、光探测等重要器件的实现,铌酸锂LN光子集成芯片有望像硅基集成电路一样,成为高速率、高容量、低能耗光学信息处理的重要平台,在光量子计算、大数据中心、人工智能及光传感激光雷达等领域彰显其应用价值。由于铌酸锂LN的特殊化学性能,IBE离子束刻蚀+EBL电子束曝光是最优的解决方案。
Hakuto 离子刻蚀机 10IBE 制作DNA芯片模板
本报告详细介绍了 Hakuto 10IBE 离子刻蚀机在制作面阵石英 DNA 芯片模板中的应用。该设备配备 KRI 考夫曼公司的 KDC 160 离子源和 Pfeiffer 涡轮分子泵 Hipace 700,确保了高真空度和刻蚀过程的高均匀性。Hakuto 10IBE 离子刻蚀机制作的芯片模板表面微结构形貌有利于 DNA 序列样本与芯片模板的吸附耦合,提高了实验效率和准确性。
上海伯东 Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-J 用于陶瓷板 Pt、Au、Cr 薄膜刻蚀
深圳某电子公司采用Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-J 对陶瓷板的 Pt、Au、Cr 薄膜刻蚀, 高端印制电路板生产为主
不同氩离子刻蚀模式对膜材料深度分析中元素化学态的影响
岛津AXIS Supra具备全自动传样系统,样品预抽时便可进行目标测试位置选择与深度剖析方法的提交。可配GCIS多模式离子枪,单氩离子模式用于金属类膜材料的深度剖析,低能团簇模式适用于常规有机物的刻蚀分析,20 kV最大团簇能量可以保证无机材料的有效分析。
等离子技术在蚀刻领域的应用
等离子技术蚀刻的应用范围-任何需要进行精确且高效修改的材料表面。 -用于蚀刻塑料、 半导体、玻璃
QCM-D研究光刻蚀分解
光响应高分子(光刻胶)材料被广泛的应用于工业处理,如电子器件和刻蚀。他们对光敏感,并且大量使用在表面上。本文主要采用QCM-D技术对光响应高分子的性能进行了研究。
等离子清洗机处理手机PC壳案例,等离子处理后达因值56
清洗过程:PC壳放托盘由PLC控制好丝杆速度,调整高度3.两托盘并排放流水线上过等离子4.两枪头左右进行清洗,提高清洗效果
手机盖板贴膜,经等离子处理后测试接触角的测试报告-晟鼎精密
采用等离子设备对样品表面进行处理,要求在指定的走速范围内清洗至54达因以上通过测的实际数据分析可以得出一下几点结论:(1)采用大气等离子表面处理可以达到要求(2)处理距离更小一些,或者增加处理时间可使样品处理效果更好(3)清洗效率比预期更好
等离子清洗机的八大应用
等离子清洗机在半导体、电子材料干式清洗中的应用越来越广泛,如硅胶片的光刻胶剥离、除去有机膜、界面活性化、微细研磨、除去碳化膜等领域,等离子产品都发挥了积极的作用。 从研究开发到工艺生产使用,从表面微细加工到表面处理改质,等离子设备有着很广的社会应用需求。在多个领域也都有普遍应用。
Hakuto 离子蚀刻机20IBE-J 用于陶瓷基片银薄膜减薄
某陶瓷基片制造商采用伯东 Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-J 应用于 5G 陶瓷基片银薄膜减薄, 通过蚀刻工艺把基片涂层银薄膜刻蚀减薄, 并降低工差, 提高薄膜均匀性.
单颗粒电感耦合等离子体质谱分析法的原理与应用
纳米技术是一个快速发展的新兴领域,其发展和前景也给科学家和工程师们带来了许多巨大的挑战。纳米颗粒正在被应用于众多材料和产品之中,如涂料(用于塑料、玻璃和布料等)、遮光剂、抗菌绷带和服装、MRI 造影剂、生物医学元素标签和燃料添加剂等等。然而,纳米颗粒的元素组成、颗粒数量、粒径和粒径分布的同步快速表征同样也是难题。对于无机纳米颗粒,最为满足上述特点的技术就是在单颗粒模式下应用电感耦合等离子体质谱分析法(ICP-MS)。使用ICP-MS 分析单纳米颗粒时,需要采用有别于溶解元素测量的另一种不同方式。本文介绍了单颗粒ICP-MS 测量背后的理论,并通过溶解态元素的分析进行比较,提出差异。
使用微型光谱仪进行等离子体监测
在其他气体和纳米颗粒被引入到等离子体腔室时,可以使用Ocean HDX光谱仪测量氩等离子体的发射变化。在封闭反应室中的等离子体的光谱数据,将通过光谱仪,光纤和余弦校正器从腔室外的小窗口收集的发射光谱而得到。Ocean HDX光谱仪为UV-Vis配置,采用400μ m抗老化的光纤耦合余弦校正器进行采样。选择抗老化光纤是为了避免由等离子体的强UV光引起的光纤内涂层降解。选择余弦校正器从等离子腔室获取数据可解决等离子体强度的差异和测量窗口的不均匀结垢。准直透镜也可作为等离子体监测测量中余弦校正器的常用备选方案。
中智科仪逐光IsCMOS像增强相机拍摄激光诱导等离子体羽流
本次实验采用中智科仪的逐光IsCMOS像增强相机(TRC411),拍摄了激光诱导等离子体羽流的形貌演化过程。基于逐光IsCMOS像增强相机的纳秒级快门门控、高精度的时序同步技术和变延迟序列推扫功能,记录了等离子体羽流的完整演化过程。
水在银表面的界面Pockels效应引起的等离子体共振中的电场位移
在用于信息通信的光调制器的应用研究中,需要具有大的Pockels效应(折射率变化与电场成比例)的材料。众所周知,透明氧化物电极表面的界面水具有巨大的Pockels系数,该系数比实际使用的固体Pockels晶体大一个数量级。了解水在氧化物表面和金属表面上的Pockels系数对于理解水的界面Pockels效应的机制是重要的。然而,目前还没有建立一种评估水-金属界面系数的方法。在这里,我们提出了一种根据由电场引起的界面水的折射率变化引起的表面等离子体激元共振的光谱偏移来评估金属(银)表面上界面水的Pockels系数的方法。银界面水的Pockels系数被评估为pm/V,而不需要确切了解界面层(水的双电层)的厚度,只要等离子体的穿透深度大于厚度即可。
上海伯东 Europlasma 等离子纳米涂层 PCB 耐腐蚀能力实验
上海伯东代理比利时原装进口 Europlasma 是基于低压等离子技术的创新超薄纳米涂层设备. 等离子体涂层技术 Nanofics@ 和无卤素涂层技术 PlasmaGuard®. Europlasma 凭借超过 25年的低压等离子体技术经验, 设计和生产真空等离子处理设备, 实现产品疏水 WCA 120°, 亲水 WCA
激光剥蚀电感耦合等离子体质谱鉴别蓝色圆珠笔色痕
建立了法庭科学中蓝色圆珠笔色痕的激光剥蚀电感耦合等离子体质谱鉴别方法.对95种不同来源的蓝色圆珠笔进行了分析!依据所含金属元素种类的差别将,95种圆珠笔分为34类,其中26类圆珠笔根据元素种类的差别可直接区分!其余8类依据元素间响应值之比进行区分!对字痕载体纸张的考察结果表明了纸张对检测结果无影响.实验结果表明方法重现性良好!精密度10%,与传统分析技术相比!本方法可获得更好的鉴别结果,95种蓝色圆珠笔中有88种可使用该方法有效鉴别.该方法简便快速"精密度良好"对样本宏观无损!适合法庭科学对蓝色圆珠笔鉴定的需要.
等离子设备用于清洗行业解说
等离子设备用于清洗几乎所有的材料都能使用等离子进行精密清洗。工艺部件的表面通过离子来的物理轰击而被清洗。 工艺部件的表面也可与特定气体发生化学反应从而被清洗。工艺污染物转化为气相被排出。
上海力晶:电感耦合等离子体质谱法同时测定铜铅锌矿石中微量元素铊的干扰消除
对电感耦合等离子体质谱法同时测定铜矿石、铅矿石和锌矿石中铊时,基体效应和主量元素铜、铅、锌对测量的干扰情况及可能的消除方法进行试验,结果表明,溶液中共存小于200 μg /mL 锌对上述微量元素的测量没有干扰 溶液中共存大于50 μg /mL 的铜对铊的测量有负干扰,共存大于100μg /mL 铅对钨的测量有正干扰,对钼的测量有负干扰,采用钪、铼、镧混合内标或基体匹配可以消除这些干扰 溶液中共存大于20 μg /mL 的铅对铊的测量有正干扰,选择203 Tl 为测量质量数,可使耐受铅的干扰浓度提高到50μg /mL,铅对铊测量的干扰可以采用校正系数法或基体匹配进行校正或消除。
上海力晶:电感耦合等离子体质谱法同时测定铜铅锌矿石中微量元素钼的干扰消除
对电感耦合等离子体质谱法同时测定铜矿石、铅矿石和锌矿石中钼时,基体效应和主量元素铜、铅、锌对测量的干扰情况及可能的消除方法进行试验,结果表明,溶液中共存小于200 μg /mL 锌对上述微量元素的测量没有干扰 溶液中共存大于50 μg /mL 的铜对钼的测量有负干扰,共存大于100μg /mL 铅对钨的测量有正干扰,对钼的测量有负干扰,采用钪、铼、镧混合内标或基体匹配可以消除这些干扰 溶液中共存大于20 μg /mL 的铅对铊的测量有正干扰,选择203 Tl 为测量质量数,可使耐受铅的干扰浓度提高到50μg /mL,铅对铊测量的干扰可以采用校正系数法或基体匹配进行校正或消除。
电感耦合等离子体质谱法同时测定铜铅锌矿石中微量元素镓铟铊钨钼的干扰消除
对电感耦合等离子体质谱法同时测定铜矿石、铅矿石和锌矿石中镓、铟、铊、钨和钼量时,基体效应和主量元素铜、铅、锌对测量的干扰情况及可能的消除方法进行试验,结果表明,溶液中共存小于200 μg /mL 锌对上述微量元素的测量没有干扰 溶液中共存大于50 μg /mL 的铜对镓、铟、铊、钨、钼的测量有负干扰,共存大于100μg /mL 铅对钨的测量有正干扰,对钼的测量有负干扰,采用钪、铼、镧混合内标或基体匹配可以消除这些干扰 溶液中共存大于20 μg /mL 的铅对铊的测量有正干扰,选择203 Tl 为测量质量数,可使耐受铅的干扰浓度提高到50μg /mL,铅对铊测量的干扰可以采用校正系数法或基体匹配进行校正或消除。
上海力晶:电感耦合等离子体质谱法同时测定铜铅锌矿石中微量元素钨的干扰消除
对电感耦合等离子体质谱法同时测定铜矿石、铅矿石和锌矿石中钨,基体效应和主量元素铜、铅、锌对测量的干扰情况及可能的消除方法进行试验,结果表明,溶液中共存小于200 μg /mL 锌对上述微量元素的测量没有干扰 溶液中共存大于50 μg /mL 的铜对钨的测量有负干扰,共存大于100μg /mL 铅对钨的测量有正干扰,对钼的测量有负干扰,采用钪、铼、镧混合内标或基体匹配可以消除这些干扰 溶液中共存大于20 μg /mL 的铅对铊的测量有正干扰,选择203 Tl 为测量质量数,可使耐受铅的干扰浓度提高到50μg /mL,铅对铊测量的干扰可以采用校正系数法或基体匹配进行校正或消除。
北京英格海德:高级朗缪尔探针(Langmuir Probe)在等离子体诊断中的应用
ESPion高级Langmuir探针(Advanced Langmuir Probes for Electrical Plasma Characterisation)可快速、可靠、精确地进行等离子体诊断,是最先进可靠的 Langmuir 探针。 应用: 蚀刻/沉积/ 清洁等离子体 脉冲等离子体操作 离子密度 (Ni & Gi) 电子温度(Te & EEDF) 电子密度(Ne) 等离子体电位 Debye 长度,悬浮电位
ICP-OES等离子体光谱仪在飞灰实验室中的应用
Plasma1500是钢研纳克自主研发的一款高分辨率电感耦合等离子体光谱仪,可广泛适用于冶金、地质、材料、环境、食品、医药、石油、化工、生物、水质等各领域的元素分析。本文在瀚蓝(常山华侨经济开发区)固废处理有限公司,依据HJ/T300-2007《固体废物 浸出毒性浸出方法 醋酸缓冲溶液法》对飞灰原样浸提,浸提液参照HJ786-2016《固体废物 22种金属元素的测定 电感耦合等离子体光谱法》消解和测试。垃圾焚烧飞灰:在焚烧炉窑之后,焚烧烟气的颗粒被捕集下来的就是飞灰,这些需要进行卫生填埋或者进入危废填埋场。在进入填埋之前需要模拟固体废物在填埋场渗滤液的影响下,从废物中浸出的过程。对其浸提液进行检测,评价其对环境的影响。浸出步骤包括:含水率测试、样品破碎、浸提液的确定、样品的浸提和抽滤消解。
应用分享-燃烧环境下激光诱导等离子体成像
中智科仪逐光IsCMOS时间分辨像增强相机兼具皮秒级时间分辨率以及皮秒级同步触发精度,一方面可以对等离子体形成和演化过程进行瞬时冻结成像,另一方面借助精确的外同步延迟触发功能采集不同时间延迟下的多幅图像对等离子体形成和演化过程进行重构。中智科仪逐光IsCMOS时间分辨像增强相机已经成为激光诱导等离子体发光瞬态过程和演化规律诊断和研究的强有力工具。
相关专题
瑞士万通离子色谱25周年庆典专题
食品中重金属污染的检测及应对方案
国产离子色谱三十周年
锂电检测技术系列专题之成分分析
Easy选型-离子色谱仪IC
第六届亚太地区冬季等离子体光谱化学国际会议(2015 APWC)
尘埃粒子计数器(悬浮粒子测定仪)有奖调研
2013赛默飞色谱质谱光谱新品在行动
盛瀚推出重大新品CIC-D500 型离子色谱仪
国产质谱最新进展之天瑞篇
厂商最新方案
相关厂商
苏州市奥普斯等离子体科技有限公司
湖南博友等离子自动化设备有限公司
北京瑞科中仪科技有限公司
载德半导体技术有限公司
赛福国际集团有限公司
东莞市启天自动化设备有限公司
深圳纳恩科技有限公司
深圳市蓝星宇电子科技有限公司
东方集成
南通宏腾微电子技术有限公司
相关资料
Mini等离子、反应离子刻蚀机
EQP等离子体刻蚀中的应用2
EQP等离子体刻蚀中的应用
科普|等离子刻蚀机常见问题及相关干货
等离子体刻蚀设备 集成电路产业全书8.7-8.8
ICP等离子体刻蚀系统射频偏压的实验研究
\MEMS加工中电感耦合等离子体_ICP_刻蚀硅片的模型与模拟
牛津仪器PlasmaPro 100 等离子体刻蚀系统-2017 PlasmaPro-100-Brochure-CN
聚酰亚胺膜的反应离子刻蚀工艺研究
【行业应用】石化行业 酸性刻蚀液中氟离子含量的测定