肖特基场发射

日立高新热场式场发射扫描电镜SU5000--搭载全新用户界面，向所有用户提供高画质图像-- 日立高新技术公司（以下简称：日立高新）8月4日开始发售的肖特基式场发射扫描电子显微镜"SU5000"，搭载了全新的用户界面和"EM Wizard"，无论用户的操作技巧是否娴熟都可以拍出好的照片。 扫描电子显微镜在纳米技术领域、材料领域、医学生物等领域均被广泛使用。但随着近年来仪器性能的大幅提升，以及用户群体的不断扩大，使得用户对不需要任何经验和技术就能得到好照片的需求迅速扩增。而且，由于观察对象的样品的不断多样化，对样品的大小和性质的无制约观察变得尤为重要。 这次新开发的"SU5000"对用户没有任何操作技巧上的要求，通过”EM Wizard“只要选择好观察目的就可以得到好照片。"EM Wizard"以人为本的设计理念使电镜的操作性大幅上升，对于用户来说，再也不用去讨论该用什么条件进行观察，只要按照观察目的选择”表面细节观察“或是”成分分布“等就可以自动将适合的观察条件设置好。除此之外，使用经验丰富的操作人员也可以像往常一样自由的选择观察条件，按照自己的操作习惯进行设置。”EM Wizard“对于初学者或者使用经验尚浅的客户来说，它独有的操作简易性和各种学习工具可以帮助您迅速成长起来；对使用经验丰富的客户来说，开放了丰富的可设置选项，会令您操作起来更加得心应手。这正是"EM Wizard"的价值所在。 另外"SU5000"的寻找视野功能"3D MultiFinder"更是独一无二的。不但可大幅提高做样速度，更使视野再现性得到大大提高。并且，为了能适应各种分析的需求，最大束流可达到200nA。再加上全新设计的背散射电子探头和低真空二次电子探头等，都使该款电镜无论在是观察样品还是分析都具备了超强的功能与强大的扩展性。 日立高新在8月3日至8月7日在美国康涅狄格州举办的"Microscopy & Microanalysis"，9月3日至9月5日在日本千叶县幕张国际展览中心举办的"JASIS 2014"，9月7日至9月12日在捷克举行的"18th International Microscopy Congress"上都做了实机展出。*：肖特基式场发射电子显微镜：高亮度、大束流、超强稳定性汇聚一身肖特基式场发射电子显微镜。分辨率高和可做各种定量定性分析。 肖特基式场发射电子显微镜"SU5000" "EM Wizard"画面样式【主要参数】 电子枪ZrO/W 肖特基式场发射电子枪加速电压0.5~30kV着陆电压0.1~2kV分辨率2.0nm@1kV（*1）、1.2nm@30kV、3.0nm@15kV 低真空模式（*2）放大倍率底片倍率：10~600000倍、显示倍率：18~1000000倍5轴马达台X：0~100mm、Y：0~50mm、Z：3~65mm、T：-20~90°、R：360° *1：减速模式是选配项 *2：低真空模式是选配项 2014年，日立高新技术公司（以下简称：日立高新） 新型肖特基场发射扫描电镜*"SU5000"作为工业用设备荣获由公益财团法人日本设计振兴会颁发的GOOD DESIGN AWARD 2014”(2014年度最佳设计奖)。

FE-SEM获得的图像分辨率高，信息丰富，样品处理相对简单，并且它可以观察、测量并分析样品的细微结构，因此被广泛应用于纳米技术、半导体、电子器件、生命科学、材料等领域。近年来，以Materials Integration为代表，其应用领域及用途在不断扩展，短时间内获取大量数据，减轻作业负荷成为市场的一大需求。为满足这一需求，此次特推出的SU8700作为一款面向新时代的SEM，在日立电镜贯有的高图像质量和高稳定性的基础上，增加了包括自动获取数据等高通量的功能。SU8700可配置各种分析附件，适用于从低加速观察到高束流的EBSD分析，支持陶瓷、金属等不同材料的解析。该系列产品的特点如下：1．支持自动获取数据在FE-SEM的观察和分析中，需要根据测量样品与需求调整观察条件。调整所需时间的长短取决于用户的操作熟练度，这是造成数据质量与效率差异的因素之一。此系列产品标配自动调整功能，可避免人为操作导致的差异。此外，随着仪器性能的提升，需要获取的数据种类与数量也在增加，手动获取各种大量数据会大大增加用户的作业负担。此系列产品可选配“EM Flow Creator”，用户可根据自身需求设定条件，自动获取数据，这对于未来通过获取大量数据实现数据驱动开发起到重要作用。2．增加获取信息的种类与数量通过SEM能够收集到多种信号，且此系列产品最多可以同时显示和存储6个检测器的信号。在减少图像获取次数的同时能够获取多种信息。此外，为一次性获取大量信息，单次扫描像素扩展到了40,960 x 30,720（选配），是之前型号的64倍。利用这一功能，可凭借一张数据图像有效评估多处局部的细微结构。3．增强信号检测能力SU8700的样品仓设计巧妙，可使用短工作距离进行EDS分析，通过提高EDS分析的空间分辨率，能够实现更微小部位的分析。

国仪量子场发射扫描电镜SEM4000Pro场发射扫描电子显微镜SEM4000ProSEM4000Pro是一款分析型热场发射扫描电子显微镜，配备了高亮度、长寿命的肖特基场发射电子枪。三级磁透镜设计，束流最大可达200 nA，在EDS、EBSD、WDS等应用上具有明显优势。标配低真空模式，以及高性能的低真空二次电子探测器和插入式背散射电子探测器，可观察导电性弱或不导电样品。标配的光学导航模式，以及直观的操作界面，让您的分析工作倍感轻松。产品特点 配备高亮度、长寿命的肖特基场发射电子枪分辨率高，30kV下优于0.9nm的极限分辨率三级磁透镜设计，束流可调范围大，最大支持 200 nA 的分析束流标配低真空模式，以及高性能的低真空二次电子探测器和插入式背散射电子探测器无漏磁物镜设计，可直接观察磁性样品标配的光学导航模式，中文操作软件，让分析工作更轻松应用案例产品参数关键参数高真空分辨率0.9 nm @ 30 kV，SE低真空分辨率2.5 nm @ 30 kV，BSE，30 Pa1.5 nm @ 30 kV, SE, 30 Pa加速电压200 V ~ 30 kV放大倍率1 ~ 1,000,000 x电子枪类型肖特基热场发射电子枪样品室真空系统全自动控制低真空模式最大180 Pa摄像头双摄像头（光学导航+样品仓内监控）行程X=110 mm，Y=110 mm，Z=65 mmT: -10°~+70°，R: 360°探测器和扩展标配旁侧二次电子探测器（ETD）低真空二次电子探测器（LVD）插入式背散射电子探测器（BSED）选配能谱仪（EDS）背散射衍射（EBSD）插入式扫描透射探测器（STEM）样品交换仓轨迹球&旋钮控制板软件语言中文操作系统Windows导航光学导航、手势快捷导航自动功能自动亮度对比度、自动聚焦、自动像散

岛津场发射电子探针EPMA-8050G 开创新纪元——卓越的空间分辨率与超高灵敏度的完美结合 “The Grand EPMA” 诞生搭载最尖端场发射电子光学系统将岛津EPMA分析性能发挥到极致。从SEM观察条件到1μA量级，在各种束流条件下都拥有无与伦比卓越空间分辨率的尖端场发射电子光学系统。结合岛津传统的高性能X射线谱仪，将分析性能发挥至极致。 当之无愧的 “The Grand EPMA” ，最高水准的EPMA诞生！ [性能特点]● 卓越的空间分辨率电子探针可达到的最高级别的二次电子图像分辨率3nm（加速电压30kV），分析条件下No.1的二次电子分辨率。（加速电压10kV时20nm@10nA/50nm@100nA/150nm@1μA）● 大束流超高灵敏度分析实现3.0μA（加速电压30kV）的最大束流。可超高灵敏度进行超微量元素的面分析。并且全束流范围无需更换物镜光阑。● 高性能X射线谱仪秉承岛津电子探针颇具优势的52.5°X射线取出角。采用4英寸罗兰圆半径的分光晶体兼顾高灵敏度与高分辨率。可同时搭载5通道高性能X射线谱仪。分析性能更胜一筹。● 全部分析操作简单易懂全部操作仅靠一个鼠标就可进行的先进可操作性。追求「易懂」的人性化用户界面。搭载导航模式，自动指引直至生成报告。 ◎实现微区超高灵敏度分析的先进技术 1　高亮度肖特基发射体岛津场发射电子枪采用的肖特基发射体比一般传统SEM使用的发射体针尖直径更大，输出更高。即可以保持其高亮度，还可提供高灵敏度分析不可缺少的稳定大电流。 2　 EPMA专用电子光学系统电子光学系统，聚光透镜尽可能的接近电子枪一侧，交叉点不是靠聚光透镜形成，而是由安装在与物镜光阑相同位置上，具有独立构成与控制方式的可变光阑透镜来形成交叉点的。简单的透镜结构，既能获得大束流，同时全部电流条件下设定最合适的打开角度，将电子束压缩到最细。当然是不需要更换物镜光阑的。3　超高真空排气系统电子枪室、中间室、分析腔体之间分别安装有筛孔（orifice）间隔方式的2级差动排气系统。中间室与分析腔体间的气流孔做到最小，以控制流入中间室的气体，使电子枪室始终保持着超高真空，确保发射体稳定工作。4　高灵敏度X射线谱仪岛津场发射电子探针最多可同时搭载5通道兼顾高灵敏度与高分辨率的4英寸X射线谱仪。52.5°的X射线取出角在提高了X射线信号的空间分辨率的同时，又可减小样品对X射线的吸收，实现高灵敏度的分析。 [应用举例] 1. 岛津场发射电子探针EPMA-8050G检测：无铅焊锡焊料中Ag与Cu的分布对无铅焊锡焊料中大量含有Ag的区域进行面分析的数据。（加速电压：10kV；照射电流：20nA）Ag的X射线像中颗粒形状与BSE像（COMPO）的颗粒形状一致。直径约0.1μm的Ag颗粒也清晰可辨（红色虚线圈出）。同时可确认Cu颗粒的存在（黄色虚线圈出）。 岛津场发射电子探针EPMA-8050G应用数据 2. 岛津场发射电子探针EPMA-8050G检测：生物体组织中的金属元素 以下数据为EPMA捕捉到的肿瘤细胞中铂（Pt）元素图像，通过靶向给药将抗肿瘤药物卡铂（铂络合物）导入小鼠头颈部肿瘤组织中后进行分析检测。卡铂通过与癌细胞内的遗传因子DNA链结合，阻碍DNA的分裂（复制）以杀灭癌细胞，我们可以通过元素图像了解抗癌药物以何种形态进入癌细胞内。 岛津场发射电子探针EPMA-8050G应用数据

国仪量子 场发射透射电子显微镜 TH-F120 TH-F120取名源自中华名山“太行”（TH），寓意TH-F120将如太行山一样成为中国透射电镜产业的脊梁。产品特点肖特基场发射电子枪平行束/会聚束自适应切换照明系统对称式极靴、恒功率物镜 （高衬度/高分辨模式可选）高像素CMOS相机四轴高精度样品台全中文软件交互界面产品优势人机分离 电镜空间与工作空间分离，减少人为干扰，提升安全性，带来舒适的使用体验高效操作各模块控制高度集成至PC端，全中文软件交互界面一目了然，提升操作效率越级体验将场发射电子枪、高自动化系统等配置120 kV平台，入门即高配丰富拓展预设充足的附件加装接口以及整机升级空间，满足用户使用新需求，有效应对多样的应用场景产品参数 高衬度版高分辨版加速电压10～120 kV10～120 kV信息分辨率0.20 nm0.14 nm点分辨率0.36 nm0.30 nm放大倍率10～1,200,000 x10～1,500,000x主相机像素4096×40964096×4096样品台倾转角-90 °~+90 °-70 °~+70 °支持拓展EDS、STEM、侧插式相机、EELS、插入式冷冻盒

国仪量子场发射扫描电镜SEM5000Pro产品介绍 SEM5000Pro是一款分辨率高、功能丰富的场发射扫描 电子显微镜。先进的镜筒设计，高压隧道技术(SuperTunnel)、 低像差无漏磁物镜设计，实现了低电压高分辨率成像，同时磁 性样品可适用。光学导航、完善的自动功能、精心设计的人机 交互，优化的操作和使用流程，无论经验是否丰富，都可以快 速上手，完成高分辨率拍摄任务。电子枪类型 肖特基场发射电子枪加速电压 20V ~ 30 kV分辨率 0.8 nm @ 15 kV, SE 1.2nm @ 1 kV, SE 样品台 五轴全自动样品台放大倍率 1 ~ 2,500,000 x产品特点分辨率高，低加速电压下实现高分辨成像高压隧道技术(SuperTunnel) ，在隧道中的电子能保持高能量，减少了空间电荷效应，低电压分辨率得到保证电磁复合物镜，减小像差，显著提高低电压下的分辨率，而且可观察磁性样品电子光路无交叉，有效的降低系统像差，提升分辨能力水冷恒温物镜，保证物镜工作的稳定性、可靠性和可重复性磁偏转六孔可调光阑，自动切换光阑孔，无需机械调节，实现高分辨率观察或大束流分析模式快速切换应用领域规格参数关键参数分辨率0.8 nm @15 kV,SE1.2 nm @1.0 kV,SE加速电压20V~30 kV放大倍率1~2,500,000x电子枪类型肖特基场发射电子枪样品室真空系统全自动控制摄像头双摄像头(光学导航+样品仓内监控)样品台行程X=110mm,Y=110 mm,Z=50 mm T:-10°~+70°,R:360°探测器和扩展标配镜筒内电子探测器旁侧二次电子探测器(ETD)选配插入式背散射电子探测器(BSED)插入式扫描透射探测器(STEM)能谱仪(EDS)背散射衍射(EBSD)样品交换仓轨迹球&旋钮控制板软件语言中文操作系统Windows导航光学导航、手势快捷导航自动功能自动亮度对比度、自动聚焦、自动像散

Apero 2-超高分辨场发射扫描电镜【产品描述】Thermo Scientific Apreo 2 SEM高性能场发射扫描电镜搭载独特的实时元素成像功能和先进的自动光学系统，实现灰色区域解析，让您不再忧心显微镜性能，更加专注于研究本身。 Thermo Scientific Apreo 2 SEM具有多功能性和高质量成像性能，即使是磁性样品或是传统意义上成像非常困难的样品也可以实现极佳成像性能。全新Apreo 2 SEM在原有性能基础之上，进一步优化了超高分辨成像能力，并且增设许多新功能提升其高级功能的易用性。Apreo 2 SEM在耐用的SEM平台上引入了SmartAlign（智能对中）技术，不再需要用户手动进行调整操作，而且，FLASH（闪调）自动执行精细调节工作，只需移动鼠标几次，就可以完成必要的透镜居中、消像散和聚焦校正。此外，Apreo 2 SEM是唯一在10 mm分析工作距离下具有1 nm分辨率的SEM，长工作距离不再意味着低分辨成像，有了Apreo 2 SEM，任何用户都可以自信地得到很好的成像效果。 【特点与应用】 全面解析全面的纳米和亚纳米分辨率性能，适用于纳米颗粒、粉末、催化剂、纳米器件、大块磁性样品等材料； 极佳的灵活性非常灵活的处理范围，样品类型广泛，包括绝缘体、敏感材料和磁性样品，收集最重要的数据； SmartAlign技术使用SmartAlign（智能对中）技术，实现光学系统自动调整，减少维护时间； 先进的自动化先进的自动化用于自动图像微调、撤销、用户向导、Maps成像拼接的FLASH（闪调）技术； 实时定量EDS元素信息触手可及，利用ColorSEM技术，提供实时元素面分布成像定量分析，结果获取更加快速、简便； 长工作距离唯一在长工作距离（10 mm）具有高分辨率的性能(1 nm)和优秀的图像质量的SEM产品参数发射源：高稳定型肖特基场发射电子枪分辨率： 型号Apero 2 CApero 2 S末级透镜静电复合高真空15kV0.9nm 0.5nm1kV1.0nm0.8nm500V 1.2nm0.8nm加速电压范围：200 V ~ 30 kV 着陆电压范围：200 eV ~ 30 keV探针电流范围：1 pA ~ 50 nA，连续可调（可选配400 nA）最大水平视场宽度：10 mm WD时为3 mm（相当于最低放大倍率29倍）X-Ray工作距离：10 mm，EDS检出角35°样品室：从左至右为 340 mm 宽的大存储空间，样品室可拓展接口数量12个，含能谱仪接口3 个（其中2个处于180° 对角位置）样品台：五轴优中心全自动马达驱动X=110 mm,Y=110 mm,Z=65 mm,T=-15o~90o,R=360o （连续旋转）多用途SEM样品安装载物台，可同时放置 18 个标准样品座（φ12 mm）最大样品尺寸，直径122 mm，可沿X、Y轴完全旋转时最大样品高度，到优中心点间隔为85 mm最大样品承重 5 kg探测器系统：样品室二次电子探测器ETD镜筒内背散射电子探测器T1镜筒内二次电子探测器T2镜筒内二次电子探测器T3（选配）样品室内IR-CCD红外相机（观察样品台高度）图像导航彩色光学相机Nav-Cam+&trade 样品室低真空二次电子探测器（选配）可伸缩透镜下背散射探测器（选配）控制系统： 操作系统：Windows 10图像显示：24寸LCD显示器，最高显示分辨率1920×1200支持用户自定义的GUI，可同时实时显示四幅图像软件支持Undo和Redo功能

Quattro-环境扫描场发射电镜Quattro SEM为具有独特环境真空功能的极灵活、多功能高分辨率扫描电镜，可以将成像和分析全面性能与环境模式（ESEM）相结合，使得样品研究得以在自然状态下进行。Quattro的场发射电子枪（FEG）确保了优异的分辨率，通过不同的探测器选项，可以调节不同衬度信息，包括定向背散射、STEM和阴极荧光信息。来自多个多个探测器和探测器区分的图像可以同步采集和显示，使得单次扫描即可获得样品信息，从而降低电子束敏感样品的束曝光并实现真正额动态试验。Quattro的三种真空模式使得系统极具灵活性，可以容纳最广泛的样品类型，无论样品导电、绝缘、潮湿或是在高温条件下，均可获得可靠的分析结果。Quattro独特的硬件有用户向导支持，不仅可以指导操作者，还可以直接进行交换，轻松缩短结果获取时间。金属及合金、断口、焊点、抛光断面、磁性及超导材料陶瓷、复合材料、塑料薄膜/涂层地质样品断面、矿物软材料：聚合物、药物、滤膜、凝胶、生物组织、植物材料颗粒、多孔材料、纤维水合/脱水/湿润/接触角分析结晶/相变氧化/催化材料生成拉伸（伴随加热或冷却）产品参数发射源：高稳定型肖特基场发射电子枪分辨率：型号Quattro CQuattro S高真空30 kV（STEM）0.8 nm30 kV（SE）1.0 nm1 kV（SE）3.0 nm高真空下减速模式1 kV（BD+BSED）3.0 nm1 kV（BD+ICD）2.1 nm200 V（BD+ICD）3.1 nm低真空30 kV（SE）1.3 nm3 kV（SE）3.0 nm30 kV（BSE）2.5 nm环境扫描模式30 kV（SE）1.3 nm 放大倍率：6 ~ 2,500,000×加速电压范围：200 V ~ 30 kV 着陆电压：20 eV~30 keV，电子束减速可选探针电流范围：1 pA ~ 200 nA，连续可调X-Ray工作距离：10 mm，EDS检出角35°样品室：从左至右为340 mm宽的大存储空间，样品室可拓展接口数量12个，含能谱仪接口3个（其中2个处于180°对角位置），通用9针电气接口样品台和样品：型号Quattro CQuattro S类型优中心测角台，5轴电动X Y轴55×55 mm110×110 mm重复精度3.0 μm（0°倾斜时）电动Z轴65 mm旋转N×360°，连续倾斜-15°/+90°最大样品高度与优中心点（10 mm）间隔85 mm最大样品重量0°倾斜时，最大为5 kg最大样品尺寸可沿X、Y轴完全旋转时的直径为122 mm探测器系统： 同步检测多达四种信号，包括 样品室高真空二次电子探测器ETD 低真空二次电子探测器LVD气体SED（GSED，用于环境扫描模式）样品室内IR-CCD红外相机（观察样品台高度） 样品导航彩色光学相机Nav-Cam™ 珀尔帖台集成式STEM，用于观察湿薄样品- WetSTEM™ 控制系统： 操作系统：64位GUI（Windows 7）、键盘、光学鼠标 图像显示：24寸LCD显示器，WUXGA 1920×1200定制化的图像用户界面，可同时激活多达四个视图导航蒙太奇 软件支持Undo和Redo功能可选Joystick操纵杆 可选多功能控制板

GeminiSEM 系列产品高对比度、低电压成像的场发射扫描电子显微镜为对任意样品进行高水准的成像和分析而生蔡司GeminiSEM 系列产品具有出色的探测效率，能够轻松地实现亚纳米分辨成像。无论是在高真空还是在可变压力模式下，更高的表面细节信息灵敏度让您在对任意样品进行成像和分析时都具备更佳的灵活性，为您在材料科学研究、生命科学研究、工业实验室或是显微成像平台中获取各种类型样品在微观世界中清晰、真实的图像，提供灵活、可靠的场发射扫描电子显微镜技术和方案。GeminiSEM 500 具有出色的分辨率，在较低的加速电压下仍可呈现给您更强的信号和更丰富的细节信息，其创新设计的NanoVP可变压力模式，甚至让您在使用时拥有在高真空模式下工作的感觉；更强的信号，更丰富的细节GeminiSEM 500 为您呈现任意样品表面更强的信号和更丰富的细节信息，尤其在低的加速电压下，在避免样品损伤的同时快速地获取更高清晰度的图像。经优化和增强的Inlens探测器可高效地采集信号，助您快速地获取清晰的图像，并使样品损伤降至更低；在低电压下拥有更高的信噪比和更高的衬度，二次电子图像分辨率1 kV达0.9nm，500 V达1.0 nm，无需样品台减速即可进行高质量的低电压成像，为您呈现任意样品在纳米尺度上更丰富的细节信息；应用样品台减速技术-（Tandem decel），可在1 kV下获得高达0.8nm二次电子图像分辨率；创新设计的可变压力模式-NanoVP技术，让您拥有身处在高真空模式下工作的感觉。洞察产品背后的科技Gemini电子光学系统Gemini 1类型镜筒 -延续创新和发展如今，扫描电子显微镜（SEM）在低电压下的高分辨成像能力，已成为其在各项应用领域中的标准配置。低电压下的高分辨率成像能力，在以下应用领域中扮演着尤为重要的角色：电子束敏感样品不导电样品获取样品极表面的真实形貌信息Gemini的革新电子光学设计，应用高分辨率电子枪模式、Nano-twin lens物镜(GeminiSEM 500)、以及Tandem decel样品台减速技术（选配），有效提高了在低电压时的信号采集效率和图像衬度。高分辨率电子枪模式：缩小30%的出射电子束能量展宽，有效地降低像差；获得更小的束斑。Nano-twin lens物镜： 优化静电场和磁场的复合功效，在低电压下具有的更高的分辨率； 提高镜筒内Inlens探测器在低电压下的信号采集效率。Tandem decel样品台减速技术，进一步提高对适用样品在低电压甚至极低电压下的分辨率：Tandem decel减速技术将镜筒内减速和样品台偏压减速技术相结合，有效地实现低着陆电压；使用1 kV及以下更低电压时，镜筒内背散射探测器的检测效率获得更好地增强，低电压下的分辨率得到进一步提高。对适用的样品可以加载高达-5 kV的样品台偏压，在低电压下获得更高质量的图片优化静电场和磁场的复合功效，在低电压下具有的更高的分辨率；提高镜筒内Inlens探测器在低电压下的信号采集效率。技术参数：基本规格蔡司 GeminiSEM 500热场发射电子枪，稳定性优于0.2 %/h加速电压0.02 - 30 kV探针电流3 pA - 20 nA（100 nA配置可选）存储分辨率最高达32k × 24k 像素放大倍率50 – 2,000,000标配探测器镜筒内Inlens二次电子探测器样品室内的Everhart Thornley二次电子探测器可选配的项目NanoVP可变压力模式高效VPSE探测器（包含在NanoVP可变压力选件中）局部电荷中和器镜筒内能量选择背散射探测器环形STEM探测器（aSTEM 4）EDS能谱仪EBSD探测器(背散射电子衍射)可订制特殊功能样品台环形背散射电子探测器阴极射线荧光探测器

产品简介日立高新热场式场发射扫描电镜SU5000--搭载全新用户界面，向所有用户提供高画质图像--日立高新技术公司（以下简称：日立高新）8月4日开始发售的肖特基式场发射扫描电子显微镜"SU5000"，搭载了全新的用户界面和"EM Wizard"，无论用户的操作技巧是否娴熟都可以拍出好的照片。扫描电子显微镜在纳米技术领域、材料领域、医学生物等领域均被广泛使用。但随着近年来仪器性能的大幅提升，以及用户群体的不断扩大，使得用户对不需要任何经验和技术就能得到好照片的需求迅速扩增。而且，由于观察对象的样品的不断多样化，对样品的大小和性质的无制约观察变得尤为重要。 这次新开发的"SU5000"对用户没有任何操作技巧上的要求，通过”EM Wizard“只要选择好观察目的就可以得到好照片。"EM Wizard"以人为本的设计理念使电镜的操作性大幅上升，对于用户来说，再也不用去讨论该用什么条件进行观察，只要按照观察目的选择”表面细节观察“或是”成分分布“等就可以自动将适合的观察条件设置好。除此之外，使用经验丰富的操作人员也可以像往常一样自由的选择观察条件，按照自己的操作习惯进行设置。”EM Wizard“对于初学者或者使用经验尚浅的客户来说，它独有的操作简易性和各种学习工具可以帮助您迅速成长起来；对使用经验丰富的客户来说，开放了丰富的可设置选项，会令您操作起来更加得心应手。这正是"EM Wizard"的价值所在。另外"SU5000"的寻找视野功能"3D MultiFinder"更是独有的。不但可大幅提高做样速度，更使视野再现性得到大大提高。并且，为了能适应各种分析的需求，最大束流可达到200nA。再加上全新设计的背散射电子探头和低真空二次电子探头等，都使该款电镜无论在是观察样品还是分析都具备了超强的功能与强大的扩展性。 日立高新在8月3日至8月7日在美国康涅狄格州举办的"Microscopy & Microanalysis"，9月3日至9月5日在日本千叶县幕张国际展览中心举办的"JASIS 2014"，9月7日至9月12日在捷克举行的"18th International Microscopy Congress"上都做了实机展出。*：肖特基式场发射电子显微镜：高亮度、大束流、超强稳定性汇聚一身肖特基式场发射电子显微镜。分辨率高和可做各种定量定性分析。【主要参数】 电子枪ZrO/W 肖特基式场发射电子枪加速电压0.5~30kV着陆电压0.1~2kV分辨率2.0nm@1kV（*1）、1.2nm@30kV、3.0nm@15kV 低真空模式（*2）放大倍率底片倍率：10~600000倍、显示倍率：18~1000000倍5轴马达台X：0~100mm、Y：0~50mm、Z：3~65mm、T：-20~90°、R：360° *1：减速模式是选配项 *2：低真空模式是选配项 2014年，日立高新技术公司（以下简称：日立高新） 新型肖特基场发射扫描电镜*"SU5000"作为工业用设备荣获由公益财团法人日本设计振兴会颁发的GOOD DESIGN AWARD 2014”(2014年度最佳设计奖)。

FE-SEM获得的图像分辨率高，信息丰富，样品处理相对简单，并且它可以观察、测量并分析样品的细微结构，因此被广泛应用于纳米技术、半导体、电子器件、生命科学、材料等领域。近年来，以Materials Integration为代表，其应用领域及用途在不断扩展，短时间内获取大量数据，减轻作业负荷成为市场的一大需求。为满足这一需求，此次特推出的SU8700作为一款面向新时代的SEM，在日立电镜贯有的高图像质量和高稳定性的基础上，增加了包括自动获取数据等高通量的功能。SU8700可配置各种分析附件，适用于从低加速观察到高束流的EBSD分析，支持陶瓷、金属等不同材料的解析。该系列产品的特点如下：1．支持自动获取数据在FE-SEM的观察和分析中，需要根据测量样品与需求调整观察条件。调整所需时间的长短取决于用户的操作熟练度，这是造成数据质量与效率差异的因素之一。此系列产品标配自动调整功能，可避免人为操作导致的差异。此外，随着仪器性能的提升，需要获取的数据种类与数量也在增加，手动获取各种大量数据会大大增加用户的作业负担。此系列产品可选配“EM Flow Creator”，用户可根据自身需求设定条件，自动获取数据，这对于未来通过获取大量数据实现数据驱动开发起到重要作用。2．增加获取信息的种类与数量通过SEM能够收集到多种信号，且此系列产品最多可以同时显示和存储6个检测器的信号。在减少图像获取次数的同时能够获取多种信息。此外，为一次性获取大量信息，单次扫描像素扩展到了40,960 x 30,720（选配），是之前型号的64倍。利用这一功能，可凭借一张数据图像有效评估多处局部的细微结构。3．增强信号检测能力SU8700的样品仓设计巧妙，可使用短工作距离进行EDS分析，通过提高EDS分析的空间分辨率，能够实现更微小部位的分析。

TESCAN--场发射扫描电镜 MIRA zui新一代的MIRA场发射扫描电镜给用户带来了zui新的技术优点（如改进的高性能电子设备使成像过程更快，快速扫描系统包括了动态与静态图像扭曲补偿，有内置的编程软件等），同时保持着zui高的性价比。MIRA3的设计适用于各种各样的SEM应用及当今研究和产业的需求。大电子束流下的高分辨率有利于分析应用，例如：EBSD、WDX等分析。MIRA3场发射扫描电镜可配置LM、XM或GM三种样品室。所有的MIRA样品室（LM、XM或GM）提供you xiu的5轴马达驱动全计算机化优中心样品台，完善的几何设计更适合安装能谱仪（EDS），波谱仪（WDX），电子背散射衍射（EBSD）。XM和GM样品室适用于大样品的分析。现代电子光路 高亮度肖特基电子枪可获得高分辨率/高电流/低噪音图像 独特的三透镜大视野观察（Wide Field Optics™ ）设计提供了多种工作与显示模式 独特的中间镜的作用就如同软件“光阑转换器”，它以电磁方式有效地改变物镜光阑 结合了完善的电子光学设计软件的实时电子束追踪（In-Flight Beam Tracing™ ），可模拟和优化电子束 可选的In-Beam探头可获得特高分辨率图像 电镜的全自动设置 成像速度快 使用3维电子束技术，实时得到立体图像，三维导航维修简单现在保持电镜处在you xiu的状态很简单，只需要很短的停机时间。每个细节设计得很仔细，使得仪器的效率zui大化，操作zui简化。自动操作设备的特点包括了自动设置和众多自动操作。除此之外，电镜还有样品台自动导航与自动分析 程序，能明显减少操作员的操作时间。通过内置脚本语言（Python）可进入软件的大多数功能，包括显微镜的控制、样品台的控制、图像采集、处理与分析。通过脚本语言用户还可以编程其自己的自动操作程序。用户界面友好的软件与软件工具 多语言操作界面 多用户界面（包括了EasySEMTM模式）不同账户的权利使常规分析过程更快 图片管理，报告生成 内置的系统检查与系统诊断 网络操作与远程进入/诊断 模块化软件体系结构 标准软件包括了测量、图像处理、对象区域，等模块 可选的软件和包括颗粒度分析标准版/专家版、3维表面重建，等模块MIRA3 GMMIRA3 GM是一款完全由计算机控制的场发射扫描电子显微镜，可在高真空和低真空模式下操作，其具有突出的光学性能，清晰的数字化图像，成熟、用户界面友好的操作软件等特点。基于Windows™ 平台的操作软件提供了简易的电镜操作和图像采集，可以保存标准文件格式的图片，可以对图像进行管理、处理和测量，实现了电镜的自动设置和许多其它自动操作。MIRA3 XMMIRA3 XM是一款完全由计算机控制的场发射扫描电子显微镜，可在高真空和低真空模式下操作，其具有突出的光学性能，清晰的数字化图像，成熟、用户界面友好的操作软件等特点。基于Windows™ 平台的操作软件提供了简易的电镜操作和图像采集，可以保存标准文件格式的图片，可以对图像进行管理、处理和测量，实现了电镜的自动设置和许多其它自动操作。MIRA3 LMMIRA3 LM是一款完全由计算机控制的场发射扫描电子显微镜，可在高真空和低真空模式下操作，其具有突出的光学性能，清晰的数字化图像，成熟、用户界面友好的操作软件等特点。基于Windows™ 平台的操作软件提供了简易的电镜操作和图像采集，可以保存标准文件格式的图片，可以对图像进行管理、处理和测量，实现了电镜的自动设置和许多其它自动操作。

TESCAN--场发射扫描电镜 MIRA zui新一代的MIRA场发射扫描电镜给用户带来了zui新的技术优点（如改进的高性能电子设备使成像过程更快，快速扫描系统包括了动态与静态图像扭曲补偿，有内置的编程软件等），同时保持着zui高的性价比。MIRA3的设计适用于各种各样的SEM应用及当今研究和产业的需求。大电子束流下的高分辨率有利于分析应用，例如：EBSD、WDX等分析。MIRA3场发射扫描电镜可配置LM、XM或GM三种样品室。所有的MIRA样品室（LM、XM或GM）提供you xiu的5轴马达驱动全计算机化优中心样品台，完善的几何设计更适合安装能谱仪（EDS），波谱仪（WDX），电子背散射衍射（EBSD）。XM和GM样品室适用于大样品的分析。现代电子光路 高亮度肖特基电子枪可获得高分辨率/高电流/低噪音图像 独特的三透镜大视野观察（Wide Field Optics&trade ）设计提供了多种工作与显示模式 独特的中间镜的作用就如同软件“光阑转换器”，它以电磁方式有效地改变物镜光阑 结合了完善的电子光学设计软件的实时电子束追踪（In-Flight Beam Tracing&trade ），可模拟和优化电子束 可选的In-Beam探头可获得特高分辨率图像 电镜的全自动设置 成像速度快 使用3维电子束技术，实时得到立体图像，三维导航维修简单现在保持电镜处在you xiu的状态很简单，只需要很短的停机时间。每个细节设计得很仔细，使得仪器的效率zui大化，操作zui简化。自动操作设备的特点包括了自动设置和众多自动操作。除此之外，电镜还有样品台自动导航与自动分析 程序，能明显减少操作员的操作时间。通过内置脚本语言（Python）可进入软件的大多数功能，包括显微镜的控制、样品台的控制、图像采集、处理与分析。通过脚本语言用户还可以编程其自己的自动操作程序。用户界面友好的软件与软件工具 多语言操作界面 多用户界面（包括了EasySEMTM模式）不同账户的权利使常规分析过程更快 图片管理，报告生成 内置的系统检查与系统诊断 网络操作与远程进入/诊断 模块化软件体系结构 标准软件包括了测量、图像处理、对象区域，等模块 可选的软件和包括颗粒度分析标准版/专家版、3维表面重建，等模块MIRA3 GMMIRA3 GM是一款完全由计算机控制的场发射扫描电子显微镜，可在高真空和低真空模式下操作，其具有突出的光学性能，清晰的数字化图像，成熟、用户界面友好的操作软件等特点。基于Windows&trade 平台的操作软件提供了简易的电镜操作和图像采集，可以保存标准文件格式的图片，可以对图像进行管理、处理和测量，实现了电镜的自动设置和许多其它自动操作。MIRA3 XMMIRA3 XM是一款完全由计算机控制的场发射扫描电子显微镜，可在高真空和低真空模式下操作，其具有突出的光学性能，清晰的数字化图像，成熟、用户界面友好的操作软件等特点。基于Windows&trade 平台的操作软件提供了简易的电镜操作和图像采集，可以保存标准文件格式的图片，可以对图像进行管理、处理和测量，实现了电镜的自动设置和许多其它自动操作。MIRA3 LMMIRA3 LM是一款完全由计算机控制的场发射扫描电子显微镜，可在高真空和低真空模式下操作，其具有突出的光学性能，清晰的数字化图像，成熟、用户界面友好的操作软件等特点。基于Windows&trade 平台的操作软件提供了简易的电镜操作和图像采集，可以保存标准文件格式的图片，可以对图像进行管理、处理和测量，实现了电镜的自动设置和许多其它自动操作。 北京亚科电子（山东）欢迎来电咨询 ！

热场发射电子源大束国产电子源型号921 5736可替代进口FEI电子源4035 272 7572 NG场发射灯丝（Helios专用） 921 5736 RBLD,NGSEM HOTSWAP MOD大束科技自主研发的场发射灯丝适用于Helios400，Helios400S，Helios600，Helios600i等机型。电子显微镜通过发射电子与样品相互作用成像，用来“照射”样品的可靠电子源是电镜最重要的部分之一。电子显微镜对电子束的要求非常高。目前只有两种电子源满足要求：热电子发射源和场发射电子源。目前商用的，热电子发射源用的是钨灯丝（较少见）或六硼化镧（ ）晶体（较常见）；场发射电子源用的是很细的针状钨丝（具体分为肖特基发射源和冷场发射源）。大束科技成立于2018年，是一家以自主技术驱动的电子显微镜核心配件研发制造商及配套服务商。 目前公司主要生产电子显微镜的核心配件离子源、电子源以及配套耗材抑制极、拔出极、光阑等销往国内外市场，此外，还为用户提供定制化电子显微镜以及电子枪系统等的维修服务，以及其他技术服务和产品升级等一站式、全方位的支持。在场发射电子源（电子显微镜灯丝）、离子源以及电镜上的高低压电源、电镜控制系统研发制造等领域等均具有优势。大束科技致力于成为电子显微镜行业上游配件的研发制造供应商；未来将在满足本土市场的同时，进军国际高端电子显微镜市场。

产品详情日本JEOL热场发射扫描电子显微镜JSM-7200F JSM-7200F的电子光学系统应用了日本电子旗舰机-JSM-7800F Prime采用的浸没式肖特基电子枪技术，标配了TTLS系统（Through-The-Lens System），因此无论是在高/低加速电压下，空间分辨率都比传统机型有了很大的提升。 产品规格： 主要选配件可插拔式背散射电子探头（RBED）高位二次电子探头（USD）低真空二次电子探头（LV-SED）能谱仪（EDS)波谱仪（WDS）电子背散射衍射系统（EBSD)阴极荧光系统（CLD）样品台导航系统（SNS）电子束曝光系统 产品特点：JSM-7200F的电子光学系统应用了日本电子旗舰机-JSM-7800F Prime采用的浸没式肖特基电子枪技术，标配TTLS系统（Through-The-Lens System），无论是在高/低加速电压下，空间分辨率都比传统机型有了很大的提升。此外，保证300nA的最大束流，能兼顾高分辨率观察和高通量分析，具有充实的自动功能和易用性，是新一代的多功能场发射扫描电镜。 ＜特点＞ JSM-7200F的主要特点有：应用了浸没式肖特基电子枪技术的电子光学系统；利用GB（Gentle Beam 模式）和各种检测器在低加速电压下能进行高分辨观察和选择信号的TTLS系统（Through-The-Lens System）；电磁场叠加的混合式物镜。 浸没式肖特基电子枪 浸没式肖特基场发射电子枪为日本电子的专利技术，通过对电子枪和低像差聚光镜进行优化，能有效利用从电子枪中发射的电子，即使电子束流很大也能获得很细的束斑。因而可以实现高通量分析（EDS、WDS面分析、EBSD分析等）。 TTLS（through-the-lens系统） TTLS（through-the-lens系统）是利用GB(Gentle Beam 模式）在低加速电压下能进行高分辨率观察和信号选择的系统。 利用GB（Gentle Beam 模式）通过给样品加以偏压，对入射电子有减速、对样品中发射出的电子有加速作用，即使在低加速电压（入射电压）下，也能获得信噪比良好的高分辨率图像。 此外，利用安装在TTLS的能量过滤器过滤电压，可以调节二次电子的检测量。这样在极低加速电压的条件下，用高位检测器（UED）就可以只获取来自样品浅表面的大角度背散射电子。因过滤电压用UED没有检测出的低能量电子，可以用高位二次电子检测器（USD，选配件）检测出来，因此JSM-7200F能同时获取二次电子像和背散射电子像。 混合式物镜（电磁场叠加） JSM-7200F的物镜采用了本公司新开发的混合式透镜。 这种混合式透镜是组合了磁透镜和静电透镜的电磁场叠加型物镜，比传统的out-lens像差小，能获得更高的空间分辨率。 JSM-7200F仍然保持了out-lens的易用性，所以可以观察和分析磁性材料样品。

EPMA-8050G 场发射电子探针从SEM观察条件到1μA量级，在各种束流条件下都拥有无与伦比卓越空间分辨率的场发射电子光学系统。结合岛津传统的高性能X射线谱仪，将分析性能发挥至极。 范围 硬度标尺 ：4Be~92U 发射源：搭载高亮度肖特基发射体 二次电子图像分辨率：3nm（加速电压30kV） X射线取出角角度：52.5°，大限度减少X射线被吸收 分光晶体：全聚焦型 X射线谱仪：高灵敏度、高分辨率型优点1、高亮度肖特基发射体 场发射电子枪采用的肖特基发射体比一般传统SEM使用的发射体针尖直径更大，输出更高。即可以保持其高亮度，还可提供高灵敏度分析不可缺少的稳定大电流。2、 EPMA专用电子光学系统 电子光学系统，聚光透镜尽可能的接近电子枪一侧，交叉点不是靠聚光透镜形成，而是由安装在与物镜光阑相同位置上，具有独立构成与控制方式的可变光阑透镜来形成交叉点。简单的透镜结构，既能获得大束流，同时全部电流条件下设定最合适的打开角度，将电子束压缩到最细。当然是不需要更换物镜光阑的。3、超高真空排气系统 电子枪室、中间室、分析腔体之间分别安装有筛孔（orifice）间隔方式的2级差动排气系统。中间室与分析腔体间的气流孔做到最小，以控制流入中间室的气体，使电子枪室始终保持着超高真空，确保发射体稳定工作。4、高灵敏度X射线谱仪 最多可同时搭载5通道兼顾高灵敏度与高分辨率的4英寸X射线谱仪。52.5°的X射线取出角在提高了X射线信号的空间分辨率的同时，又可减小样品对X射线的吸收，实现高灵敏度的分析。

TESCAN MAGNA 新一代超高分辨场发射扫描电镜 TESCAN MAGNA 是一款功能极其强大的分析仪器，适用于纳米材料的形貌表征以及微观分析。TESCAN MAGNA 配置 Triglav&trade 型 SEM 镜筒，具有超高的分辨率，在低电压下尤为明显；镜筒内探测器系统具有电子信号过滤能力，可以获得更好的图像衬度和表面灵敏度，非常适用于不导电样品的成像，如陶瓷、无涂层生物样品，以及在半导体光敏样品。此外，TESCAN MAGNA 配备肖特基场发射电子枪，能够提供高达 400 nA 的束流，结合 Triglav&trade 型 SEM 镜筒所具备的出色纳米尺度分析性能和高稳定性，为微分析和长耗时样品的分析应用提供了最佳条件。TESCAN MAGNA 使用了全新的 TESCAN Essence&trade 软件，用户界面友好，可以满足各类应用需求，可定制的布局以及自动化的样品制备功能，最大限度地提升了操作便捷性和工作效率。TESCAN MAGNA FE-SEM 主要优势：* 强大的微观形貌观测和微分析能力TESCAN 专利的 Triglav&trade 型 SEM 镜筒具有 TriLens&trade 三物镜系统 ，适用领域更加多样化。UH-resolution 物镜提供的超高分辨率非常适合于形貌细节观察，使研究人员能够更好的分析纳米级样品。全新的高分辨 Analytical 物镜可实现无漏磁成像，是磁性样品观察和分析（EDS, EBSD）的理想选择。第三个物镜可以实现多种观测模式切换，新一代 Triglav&trade 镜筒还具有自适应束斑优化功能，可以提高了大束流下的分辨率，这一特点有利于更好的进行 EDS、WDS 和 EBSD 等分析。* 提供最佳的分析条件肖特基场发射电子枪能够产生高达 400 nA 的电子束流，电压也可以快速改变并保证在所有的分析应用下都能够获得良好的信号。* 让复杂的应用变的前所未有的简单新一代 TESCAN Essence&trade 是一款简化的、支持多用户的软件，它的布局管理器可以帮助用户快速、方便地访问所有主要功能。软件界面可自定义，更好地适应特定的应用方向，符合不同用户的使用偏好。软件的各种功能模块、向导和应用方案使得无论是入门级用户或是专家级用户都能够轻松顺畅的掌握扫描电镜的操作，从而提升样品的处理速度，提高工作效率。* 可以获得不同衬度图像，最大程度洞察样品 TESCAN MAGNA 配备 TriBE&trade 探测器系统：包含三个背散射电子探测器，可以根据角度和能量的差异选择性地收集信号。Mid-Angle BSE 和 In-Beam f-BSE 探测器位于镜筒内，可以接收中角度和轴向的背散射电子，而样品室内背散射电子探测器则用于接收广角背散射电子。同时，TESCAN MAGNA 还配备 TriSE&trade 探测器系统：共有三个二次电子探测器，可在所有工作模式下以最佳方式获取二次电子：In-Beam SE 探测器可以在非常短的工作距离下接收二次电子；SE（BDM）为电子束减速模式下的二次电子探测器，可以提供最佳的分辨率；样品室内的二次电子探测器则能提供最佳形貌衬度的图像。 TESCAN MAGNA FE-SEM 突出特点：ü 专利的电子信号选择检测功能，帮助用户获得更好的表面灵敏度和衬度。ü 进一步提升了低电压下超高分辨 SEM 成像，以及在 30keV 下使用 STEM 表征纳米材料的性能。ü 自适应束斑优化功能，有利于更好的进行 EDS、WDS 和 EBSD 等分析。* TESCAN MAGNA 基于 S9000 平台的升级。

KYKY-EM8100场发射扫描电子显微镜产品特点：高性能肖特基场发射电子枪，亮度高、单色性好、束斑小、寿命长具备卓越的低加速电压成像性能超大样品腔室，更多扩展接口，满足多探测器、多功能联用、多嵌入原位测试束流稳定，满足长时间工作需求非导体试样或电子束敏感试样可不喷涂导电膜直接观测技术指标：分辨率0.9nm@30KV（SE） 3.0nm@1KV（SE） 2.5nm@30KV （BSE）放大倍率2-3000000 倍电子枪肖特基热场发射电子枪加速电压0.2～30kV透镜系统多级高性能透镜系统，低像差锥形物镜样品台五轴全自动预对中样品台探测器高真空二次电子探测器（具备防碰撞功能）应用领域：电池材料、半导体、复合材料、高分子、动植物、微生物、粉末冶金、矿物、金属行业、建筑材料、化工材料、陶瓷材料

KYKY-EM8000场发射扫描电子显微镜产品特点：高性能肖特基场发射电子枪，亮度高、单色性好、束斑小，寿命更长低加速电压下，保持较好的亮度、分辨率低加速电压不导电样品可以直接观测，无需喷金束流稳定度高，满足长时间工作需求满足用户定制化需求，适合多模块嵌入，多系统互联易操作，易维护，性价比高，性能远高于普通钨灯丝类电镜技术指标：分辨率1.5nm@15kV（SE）；3nm@30kV（BSE）放大倍率8～1600000 倍电子枪肖特基场发射电子枪加速电压0～30kV样品台手动样品台（标配）、五轴全自动预对中样品台（选配）探测器高真空二次电子探测器（具备防碰撞功能）透镜系统多级高性能锥形透镜系统应用领域：电池材料、半导体、复合材料、高分子、动植物、微生物、粉末冶金、矿物、金属行业、建筑材料、化工材料、陶瓷材料

飞纳台式场发射扫描电镜 Phenom Pharos G2荷兰飞纳公司推出第二代肖特基场发射电子源台式扫描电镜 Phenom Pharos G2, 集背散射电子成像、二次电子成像和能谱分析功能于一体。高亮度肖特基场发射电子源，使用户可以轻松获得高分辨率图像，且低电压性能优异。Phenom Pharos G2 低电压成像优势明显，可减轻电子束对样品的损伤和穿透，更好地观测绝缘和电子束敏感的样品，可以最大程度还原样品真实形貌。Phenom Pharos G2 —— 电镜能谱一体化设计Phenom Pharos 飞纳台式场发射电镜采用热场发射电子源，信噪比高，使用寿命长，保证长期稳定的性能。飞纳台式场发射扫描电镜能谱一体机标配背散射电子成像、二次电子电子成像和能谱分析功能，可对各种样品进行高分辨成像及元素分析。飞纳台式场发射电镜的技术优势 分辨率优于 1.5 nm 低电压下可得到高分辨样品的图像，表面细节丰富 彩色光学显微镜全景导航 集成全自动马达样品台 操作简单，培训 30 分钟即可上手 内置真空锁，15 秒抽真空 无需喷金，直接观察不导电样品 电子束流大，稳定，能谱分析效率高 内置 27 组独立减震单元，完全防震 电子光路免维护维护成本低飞纳电镜系列产品性能稳定，可以长时间工作，自动化程度高，大量节省了人力成本。飞纳台式场发射扫描电镜的灯丝使用稳定，寿命长，电子光路免维护，后期维护简单。飞纳电镜系列产品加入了硬件防护设计，杜绝人为操作不当引起设备故障；同时，提供终身免费的远程联网检测，实时维护您的电镜。

TESCAN MIRA 场发射扫描电镜给用户带来了最新的技术优点（如改进的高性能电子设备使成像过程更快，快速扫描系统包括了动态与静态图像扭曲补偿，有内置的编程软件等），同时保持着最高的性价比。MIRA 的设计适用于各种各样的SEM应用及当今研究和产业的需求。大电子束流下的高分辨率有利于分析应用，例如：EBSD、WDX等分析。现代电子光路高亮度肖特基电子枪可获得高分辨率/高电流/低噪音图像 独特的三透镜大视野观察（Wide Field Optics&trade ）设计提供了多种工作与显示模式 独特的中间镜的作用就如同软件“光阑转换器”，它以电磁方式有效地改变物镜光阑 结合了完善的电子光学设计软件的实时电子束追踪（In-Flight Beam Tracing&trade ），可模拟和优化电子束 可选的In-Beam探头可获得特高分辨率图像 电镜的全自动设置 成像速度快 使用3维电子束技术，实时得到立体图像，三维导航 维修简单现在保持电镜处在优秀的状态很简单，只需要很短的停机时间。每个细节设计得很仔细，使得仪器的效率最大化，操作最简化。自动操作设备的特点包括了自动设置和众多自动操作。除此之外，电镜还有样品台自动导航与自动分析 程序，能明显减少操作员的操作时间。通过内置脚本语言（Python）可进入软件的大多数功能，包括显微镜的控制、样品台的控制、图像采集、处理与分析。通过脚本语言用户还可以编程其自己的自动操作程序。用户界面友好的软件与软件工具多语言操作界面 多用户界面（包括了EasySEMTM模式）不同账户的权利使常规分析过程更快 图片管理，报告生成 内置的系统检查与系统诊断 网络操作与远程进入/诊断 模块化软件体系结构 标准软件包括了测量、图像处理、对象区域，等模块 可选的软件和包括颗粒度分析标准版/专家版、3维表面重建，等模块MIRA AMU特大样品室定制版

肖特基场发射电子探针PlusJXA-8530F Plus采用浸没式肖特基场发射电子枪,优化了角电流密度，能利用2 μA以上的大探针电流进行分析，还提高了分析条件下的二次电子像的分辨率。高级软件新开发了多种基于Windows操作系统的软件，其中包括：能使痕量元素分析更加简便的“痕量元素分析程序”、能自动制作相图的“相图制作器”以及只需简单输入就能对表面凹凸不平样品进行测试的“不平坦样品的分析程序”等。灵活的WDS配置X射线波谱仪可以选择140 R或100 R罗兰圆， 罗兰圆半径为140 mm的XCE/L型X射线谱仪检测范围宽，波长分辨率高和P/ B比优异，100 mm的H型X射线谱仪具有X射线衍射强度高的特点，可以根据需要选择使用。WDS/EDS组合系统JXA-8530FPlus标配了JEOL制造的30平方毫米 SD检测器（以下简称SD检测器），凭借高计数率的SD检测器，在与WDS相同的分析条件下可以进行EDS分析，通过简单的操作就能采集EDS谱图。强力、清洁的真空系统高强力真空系统包括两台磁悬浮涡轮分子泵， 镜筒内还采用两个中间室，通过差动抽气保持电子枪室的高真空。软X射线分析谱仪 (SXES)SXES (Soft X-Ray Emission Spectrometer)软X射线分析谱仪是日本东北大学多元物质科学研究所（寺内正己教授）和日本电子株式会社共同开发的的高分辨率软X射线分析谱仪。 新开发的变栅距衍射光栅(VLS）和高灵敏度的CCD相机组合，同时检测Li-K系谱线和B-K系谱线，该谱仪实现了极高的能量分辨率，因而能进行化学结合状态分析等。miXcroscopy （关联显微镜)miXcroscopy 光学显微镜/扫描电子显微镜关联系统能批量登录光学显微镜指定的坐标数据作为EPMA的分析点，该系统最适合于需要用光学显微镜决定分析位置的样品。多功能样品室样品室的可扩展性强，配备了样品交换室，可以安装各种附件。可以安装的附件：电子背散射衍射系统（EBSD）阴极荧光检测系统软X射线分析谱仪不暴露在大气环境下的转移舱高蚀刻速率的离子源

国仪量子场发射扫描电镜SEM4000Pro场发射扫描电子显微镜SEM4000ProSEM4000Pro是一款分析型热场发射扫描电子显微镜，配备了高亮度、长寿命的肖特基场发射电子枪。三级磁透镜设计，束流最大可达200 nA，在EDS、EBSD、WDS等应用上具有明显优势。标配低真空模式，以及高性能的低真空二次电子探测器和插入式背散射电子探测器，可观察导电性弱或不导电样品。标配的光学导航模式，以及直观的操作界面，让您的分析工作倍感轻松。产品特点 配备高亮度、长寿命的肖特基场发射电子枪分辨率高，30kV下优于0.9nm的极限分辨率三级磁透镜设计，束流可调范围大，最大支持 200 nA 的分析束流标配低真空模式，以及高性能的低真空二次电子探测器和插入式背散射电子探测器无漏磁物镜设计，可直接观察磁性样品标配的光学导航模式，中文操作软件，让分析工作更轻松应用案例产品参数关键参数高真空分辨率0.9 nm @ 30 kV，SE低真空分辨率2.5 nm @ 30 kV，BSE，30 Pa1.5 nm @ 30 kV, SE, 30 Pa加速电压200 V ~ 30 kV放大倍率1 ~ 1,000,000 x电子枪类型肖特基热场发射电子枪样品室真空系统全自动控制低真空模式最大180 Pa摄像头双摄像头（光学导航+样品仓内监控）行程X=110 mm，Y=110 mm，Z=65 mmT: -10°~+70°，R: 360°探测器和扩展标配旁侧二次电子探测器（ETD）低真空二次电子探测器（LVD）插入式背散射电子探测器（BSED）选配能谱仪（EDS）背散射衍射（EBSD）插入式扫描透射探测器（STEM）样品交换仓轨迹球&旋钮控制板软件语言中文操作系统Windows导航光学导航、手势快捷导航自动功能自动亮度对比度、自动聚焦、自动像散

TESCAN MIRA 是 TESCAN 推出的第四代高性能扫描电子显微镜，配置有高亮度肖特基场发射电子枪，在TESCAN 的 Essence&trade 操作软件的同一个窗口中实现了 SEM 成像和实时元素分析。这种结合大大简化了从样品中获取形貌和元素数据的过程，从而使得MIRA 成为质量控制、失效分析和实验室常规材料检测的有效分析解决方案。TESCAN MIRA 具有创新的光学设计，确保在需要时可以随时无缝地选择成像或分析条件，而无需对镜筒内的任何元件重新进行机械对中；借助完全集成的 Essence&trade EDS 软件，可以快速、轻松地从成像切换到分析操作模式，一键即可实现所有设置参数的更改。主要特点ü 完全集成的 TESCAN Essence&trade EDS 分析平台，可在 Essence&trade 软件的同一个窗口中实现 SEM 成像和实时元素分析；ü TESCAN 独特的无光阑光路设计及实时电子束追踪技术(In-flight Beam Tracing&trade )，可快速获得最佳的成像和分析条件；ü 独特的大视野光路（Wide Field Optics&trade ）设计，可实现最小放大倍率低至2倍，因而无需额外的光学导航相机，即可轻松、精确的对样品进行导航；ü 标配的 SingleVac&trade 模式，不导电样品或电子束敏感样品无需喷镀即可在此模式下直接进行观察；直观的模块化 Essence&trade 软件，无论用户的经验水平如何，均可轻松操作；ü Essence&trade 3D 防碰撞模型，可确保样品台和样品移动时，安装在样品室内探测器的安全性； ü 可选配的镜筒内 SE 和 BSE 探测器，以及电子束减速技术，更好的提升了低电压下的成像性能；ü 标准分析平台，可选配集成最多种类的探测器和附件（如阴极荧光探测器，水冷背散射电子探测器或拉曼光谱仪等）。中间镜设计MIRA 的镜筒中增加了一个特殊的透镜，使得电子束斑尺寸更小，进而提升大束流下的分辨率。这个独特的透镜--中间镜 (Intermediate Lens&trade ) 结合电子束追踪技术(In-?ight Beam Tracing&trade )，可确保操作者设定的束流值与真实作用在样品上的束流相一致。这对于需要大束流下进行的分析应用如EDS/EBSD/WDS等，以及必须在相同条件下进行重复实验或表征的需求尤其重要。更多的探测器和附件TESCAN MIRA 可以安装各类附件以满足特定的应用需求，同时还可以选配镜筒内 SE 和BSE 探测器以及电子束减速技术，进一步拓展了 MIRA 的分析能力，满足当前和未来在亚微米尺度的表征需求。选配镜筒内 SE 和 BSE 探测器后，即可同时获得包括样品室内SE、样品室内BSE、镜筒内SE及镜筒内BSE的4种不同衬度信号。电子束减速技术则可提升其成像能力，尤其是在低电压下的分辨率。全新的 EssenceTM 电镜控制软件采用 TESCAN Essence&trade 多用户电镜操作软件，具有快速搜索、操作步骤撤销/重做和预设参数等功能，实现更高效的样品分析和表征。用户可以根据实际操作水平或特殊应用需求的不同在软件中自定义界面布局。另外，Essence&trade 防碰撞模型软件虚拟出样品室内部，直观的显示样品室内的所有硬件的几何关系，样品台的大小和位置，以及样品和安装的其它附件。创新的 SingleVac TM 模式SingleVac&trade 模式是 TESCAN MIRA 的标配功能，TESCAN 已为此模式预设了真空值，荷电样品无需喷镀也可以使用背散射电子探测器直接观察。同时还可以选配 UniVac&trade 模式，该模式下可连续调节真空度最高至 700 Pa，用于极端放电、放气及电子束敏感样品的二次电子和背散射电子成像。软件： 测量软件, 公差测量软件 图像处理 预设参数 直方图及LUT SharkSEM&trade 基础版 (远程控制) 3D 防碰撞模型软件 对象区域 光电联用 定时关机 CORAL&trade （用于生命科学的电镜模块） 自动拼图软件 样品观察 TESCAN Flow&trade (离线处理软件)根据实际配置和需求

捷欧路JEOL热场发射扫描式电子显微镜JSM7000F的电子光学系统应用了日本电子旗舰机JSM7000F采用的浸没式肖特基电子枪技术，标配了TTLS系统（Through-The-Lens System），因此无论是在高/低加速电压下，空间分辨率都比传统机型有了很大的提升。产品规格：主要选配件可插拔式背散射电子探头（RBED）高位二次电子探头（USD）低真空二次电子探头（LV-SED）能谱仪（EDS)波谱仪（WDS）电子背散射衍射系统（EBSD)阴极荧光系统（CLD）样品台导航系统（SNS）电子束曝光系统 产品特点：捷欧路JEOL热场发射扫描式电子显微镜JSM7000F的电子光学系统应用了日本电子旗舰机-JSM-7800F Prime采用的浸没式肖特基电子枪技术，标配TTLS系统（Through-The-Lens System），无论是在高/低加速电压下，空间分辨率都比传统机型有了很大的提升。此外，保证300nA的最大束流，能兼顾高分辨率观察和高通量分析，具有充实的自动功能和易用性，是新一代的多功能场发射扫描电镜。＜特点＞捷欧路JEOL热场发射扫描式电子显微镜JSM7000F的主要特点有：应用了浸没式肖特基电子枪技术的电子光学系统；利用GB（Gentle Beam 模式）和各种检测器在低加速电压下能进行高分辨观察和选择信号的TTLS系统（Through-The-Lens System）；电磁场叠加的混合式物镜。 浸没式肖特基电子枪浸没式肖特基场发射电子枪为日本电子的专利技术，通过对电子枪和低像差聚光镜进行优化，能有效利用从电子枪中发射的电子，即使电子束流很大也能获得很细的束斑。因而可以实现高通量分析（EDS、WDS面分析、EBSD分析等）。 TTLS（through-the-lens系统）TTLS（through-the-lens系统）是利用GB(Gentle Beam 模式）在低加速电压下能进行高分辨率观察和信号选择的系统。 利用GB（Gentle Beam 模式）通过给样品加以偏压，对入射电子有减速、对样品中发射出的电子有加速作用，即使在低加速电压（入射电压）下，也能获得信噪比良好的高分辨率图像。 此外，利用安装在TTLS的能量过滤器过滤电压，可以调节二次电子的检测量。这样在极低加速电压的条件下，用高位检测器（UED）就可以只获取来自样品浅表面的大角度背散射电子。因过滤电压用UED没有检测出的低能量电子，可以用高位二次电子检测器（USD，选配件）检测出来，因此捷欧路JEOL热场发射扫描式电子显微镜JSM7000F能同时获取二次电子像和背散射电子像。 混合式物镜（电磁场叠加）捷欧路JEOL热场发射扫描式电子显微镜JSM7000F的物镜采用了本公司新开发的混合式透镜。 这种混合式透镜是组合了磁透镜和静电透镜的电磁场叠加型物镜，比传统的out-lens像差小，能获得更高的空间分辨率。 捷欧路JEOL热场发射扫描式电子显微镜JSM7000F仍然保持了out-lens的易用性，所以可以观察和分析磁性材料样品。日本JEOL热场发射扫描电子显微镜捷欧路JEOL热场发射扫描式电子显微镜JSM7000F 信息由科沃安科技（苏州）有限公司为您提供，如您想了解更多关于日本JEOL热场发射扫描电子显微镜捷欧路JEOL热场发射扫描式电子显微镜JSM7000F 报价、型号、参数等信息，欢迎来电或留言咨询。

岛津场发射电子探针EPMA-8050G 开创新纪元——卓越的空间分辨率与超高灵敏度的完美结合 “The Grand EPMA” 诞生搭载最尖端场发射电子光学系统将岛津EPMA分析性能发挥到极致。从SEM观察条件到1μA量级，在各种束流条件下都拥有无与伦比卓越空间分辨率的尖端场发射电子光学系统。结合岛津传统的高性能X射线谱仪，将分析性能发挥至极致。 当之无愧的 “The Grand EPMA” ，最高水准的EPMA诞生！ [性能特点]● 卓越的空间分辨率电子探针可达到的最高级别的二次电子图像分辨率3nm（加速电压30kV），分析条件下No.1的二次电子分辨率。（加速电压10kV时20nm@10nA/50nm@100nA/150nm@1μA）● 大束流超高灵敏度分析实现3.0μA（加速电压30kV）的最大束流。可超高灵敏度进行超微量元素的面分析。并且全束流范围无需更换物镜光阑。● 高性能X射线谱仪秉承岛津电子探针颇具优势的52.5°X射线取出角。采用4英寸罗兰圆半径的分光晶体兼顾高灵敏度与高分辨率。可同时搭载5通道高性能X射线谱仪。分析性能更胜一筹。● 全部分析操作简单易懂全部操作仅靠一个鼠标就可进行的先进可操作性。追求「易懂」的人性化用户界面。搭载导航模式，自动指引直至生成报告。 ◎实现微区超高灵敏度分析的先进技术 1　高亮度肖特基发射体岛津场发射电子枪采用的肖特基发射体比一般传统SEM使用的发射体针尖直径更大，输出更高。即可以保持其高亮度，还可提供高灵敏度分析不可缺少的稳定大电流。 2　 EPMA专用电子光学系统电子光学系统，聚光透镜尽可能的接近电子枪一侧，交叉点不是靠聚光透镜形成，而是由安装在与物镜光阑相同位置上，具有独立构成与控制方式的可变光阑透镜来形成交叉点的。简单的透镜结构，既能获得大束流，同时全部电流条件下设定最合适的打开角度，将电子束压缩到最细。当然是不需要更换物镜光阑的。3　超高真空排气系统电子枪室、中间室、分析腔体之间分别安装有筛孔（orifice）间隔方式的2级差动排气系统。中间室与分析腔体间的气流孔做到最小，以控制流入中间室的气体，使电子枪室始终保持着超高真空，确保发射体稳定工作。4　高灵敏度X射线谱仪岛津场发射电子探针最多可同时搭载5通道兼顾高灵敏度与高分辨率的4英寸X射线谱仪。52.5°的X射线取出角在提高了X射线信号的空间分辨率的同时，又可减小样品对X射线的吸收，实现高灵敏度的分析。 [应用举例] 1. 岛津场发射电子探针EPMA-8050G检测：无铅焊锡焊料中Ag与Cu的分布对无铅焊锡焊料中大量含有Ag的区域进行面分析的数据。（加速电压：10kV；照射电流：20nA）Ag的X射线像中颗粒形状与BSE像（COMPO）的颗粒形状一致。直径约0.1μm的Ag颗粒也清晰可辨（红色虚线圈出）。同时可确认Cu颗粒的存在（黄色虚线圈出）。 岛津场发射电子探针EPMA-8050G应用数据 2. 岛津场发射电子探针EPMA-8050G检测：生物体组织中的金属元素 以下数据为EPMA捕捉到的肿瘤细胞中铂（Pt）元素图像，通过靶向给药将抗肿瘤药物卡铂（铂络合物）导入小鼠头颈部肿瘤组织中后进行分析检测。卡铂通过与癌细胞内的遗传因子DNA链结合，阻碍DNA的分裂（复制）以杀灭癌细胞，我们可以通过元素图像了解抗癌药物以何种形态进入癌细胞内。 岛津场发射电子探针EPMA-8050G应用数据

国仪量子 场发射透射电子显微镜 TH-F120 TH-F120取名源自中华名山“太行”（TH），寓意TH-F120将如太行山一样成为中国透射电镜产业的脊梁。产品特点肖特基场发射电子枪平行束/会聚束自适应切换照明系统对称式极靴、恒功率物镜 （高衬度/高分辨模式可选）高像素CMOS相机四轴高精度样品台全中文软件交互界面产品优势人机分离 电镜空间与工作空间分离，减少人为干扰，提升安全性，带来舒适的使用体验高效操作各模块控制高度集成至PC端，全中文软件交互界面一目了然，提升操作效率越级体验将场发射电子枪、高自动化系统等配置120 kV平台，入门即高配丰富拓展预设充足的附件加装接口以及整机升级空间，满足用户使用新需求，有效应对多样的应用场景产品参数 高衬度版高分辨版加速电压10～120 kV10～120 kV信息分辨率0.20 nm0.14 nm点分辨率0.36 nm0.30 nm放大倍率10～1,200,000 x10～1,500,000x主相机像素4096×40964096×4096样品台倾转角-90 °~+90 °-70 °~+70 °支持拓展EDS、STEM、侧插式相机、EELS、插入式冷冻盒

场发射扫描电镜 MIRA zui新一代的MIRA场发射扫描电镜给用户带来了zui新的技术优点（如改进的高性能电子设备使成像过程更快，快速扫描系统包括了动态与静态图像扭曲补偿，有内置的编程软件等），同时保持着zui高的性价比。MIRA3的设计适用于各种各样的SEM应用及当今研究和产业的需求。大电子束流下的高分辨率有利于分析应用，例如：EBSD、WDX等分析。MIRA3场发射扫描电镜可配置LM、XM或GM三种样品室。所有的MIRA样品室（LM、XM或GM）提供优xiu的5轴马达驱动全计算机化优中心样品台，完善的几何设计更适合安装能谱仪（EDS），波谱仪（WDX），电子背散射衍射（EBSD）。XM和GM样品室适用于大样品的分析。现代电子光路 高亮度肖特基电子枪可获得高分辨率/高电流/低噪音图像 独特的三透镜大视野观察（Wide Field Optics™ ）设计提供了多种工作与显示模式 独特的中间镜的作用就如同软件“光阑转换器”，它以电磁方式有效地改变物镜光阑 结合了完善的电子光学设计软件的实时电子束追踪（In-Flight Beam Tracing™ ），可模拟和优化电子束 可选的In-Beam探头可获得特高分辨率图像 电镜的全自动设置 成像速度快 使用3维电子束技术，实时得到立体图像，三维导航维修简单现在保持电镜处在优xiu的状态很简单，只需要很短的停机时间。每个细节设计得很仔细，使得仪器的效率zui大化，操作zui简化。自动操作设备的特点包括了自动设置和众多自动操作。除此之外，电镜还有样品台自动导航与自动分析 程序，能明显减少操作员的操作时间。通过内置脚本语言（Python）可进入软件的大多数功能，包括显微镜的控制、样品台的控制、图像采集、处理与分析。通过脚本语言用户还可以编程其自己的自动操作程序。用户界面友好的软件与软件工具 多语言操作界面 多用户界面（包括了EasySEMTM模式）不同账户的权利使常规分析过程更快 图片管理，报告生成 内置的系统检查与系统诊断 网络操作与远程进入/诊断 模块化软件体系结构 标准软件包括了测量、图像处理、对象区域，等模块 可选的软件和包括颗粒度分析标准版/专家版、3维表面重建，等模块MIRA3 GMMIRA3 GM是一款完全由计算机控制的场发射扫描电子显微镜，可在高真空和低真空模式下操作，其具有突出的光学性能，清晰的数字化图像，成熟、用户界面友好的操作软件等特点。基于Windows™ 平台的操作软件提供了简易的电镜操作和图像采集，可以保存标准文件格式的图片，可以对图像进行管理、处理和测量，实现了电镜的自动设置和许多其它自动操作。MIRA3 XMMIRA3 XM是一款完全由计算机控制的场发射扫描电子显微镜，可在高真空和低真空模式下操作，其具有突出的光学性能，清晰的数字化图像，成熟、用户界面友好的操作软件等特点。基于Windows™ 平台的操作软件提供了简易的电镜操作和图像采集，可以保存标准文件格式的图片，可以对图像进行管理、处理和测量，实现了电镜的自动设置和许多其它自动操作。MIRA3 LMMIRA3 LM是一款完全由计算机控制的场发射扫描电子显微镜，可在高真空和低真空模式下操作，其具有突出的光学性能，清晰的数字化图像，成熟、用户界面友好的操作软件等特点。基于Windows™ 平台的操作软件提供了简易的电镜操作和图像采集，可以保存标准文件格式的图片，可以对图像进行管理、处理和测量，实现了电镜的自动设置和许多其它自动操作。设备咨询电话：（微信同号）；QQ：；邮箱：欢迎您的来电咨询！

产品详情日本JEOL热场发射扫描电子显微镜JSM-7900F JEOL新一代场发射扫描电子显微镜的旗舰机型。 它继承了上一代广获好评的性能如极高的空间分辨率、高稳定性、多种功能等的同时，操作性能极大简单化。该设备不依赖操作者的技能，始终能够发挥其最佳性能。 产品规格：分辨率1.0 nm (0.5 kV)0.7 nm (1 kV)0.6 nm (15 kV)3.0 nm (5 kV、WD: 10 mm、5 nA)倍率×10 ～ ×1,000,000加速电压0.01 ～ 30 kV探针电流数 pA ～ 500 nA检测器（标配）高位检测器(UED)、低位检测器(LED)电子枪浸没式肖特基Plus场发射电子枪最佳光阑角控制镜内置物镜超级混合式物镜/SHL自动功能自动聚焦、自动消像散、自动调节亮度、自动调节衬度大景深模式(LDF)内置样品台全对中测角样品台样品移动X:70mm Y:50mm Z:2 ～ 41mm 倾斜轴:-5 ～ 70° 旋转:360°马达驱动5轴马达驱动样品交换室最大直径: 100mm 　最大高度: 40mm抽真空系统SIP、TMP、RP 主要特点：◇ Neo Engine（New Electron Optical Engine）新一代电子光学控制系统Neo Engine（New Electron Optical Engine），是JEOL电子光学技术荟萃的结晶。 它综合了透镜控制系统和自动化技术，即使改变电子光学条件，光轴的偏离也极小，大大提高了可操作性及观察精度。 无论是谁都可以很简便地发挥出仪器原本的功能。 ① 提高了自动功能 样品 : 用CP 制备的矿物截面（树脂包埋） 入射电压 : 5 kV，检测器 : RBED，观察倍率 : ×100,000 不仅提高了自动功能的精度，而且只需要几秒钟就可以聚焦。 ② 提高了倍率的精度 样品 : 测长用的样品（MRS5） 入射电压 : 10 kV， 观察倍率: ×50,000 大幅度地提高了倍率的精度，而且实现了高精度测长。 ③ 能量过滤器更加易用 样品 : 名片 入射电压 : 1.5 kV， 检测器 : UED， 观察倍率 : ×3,500 即使大幅度改变能量过滤器的设定值，视野或聚焦位置基本不会偏离。 ◇ GBSH-S (GENTLEBEAM™ Super High resolution Stage bias mode)GBSH 是在低加速电压下提高分辨率的一种方法。 新开发的GBSH-S可以给样品台施加高达5 kV的偏压。 因此，使用GBSH模式不需要使用专用的样品杆就可以无缝过渡到其他模式。※GENTLEBEAM™ 通过给样品施加偏压，起到了对入射电子减速，对出射电子加速的作用。 ◇ 新型背散射电子检测器　※ 选配件采用新开发的超高灵敏度的背散射电子检测器，可以在清晰的衬度下进行观察。 灵敏度比以往的产品提高了很多，特别是在低加速电压下能得到高衬度的成分像。旧机型 新机型 样品 : Cu的截面 入射电压 : 3 kV 观察倍率 : ×10,000 WD： 4.5 mm ◇ 新型外观设计 外观设计紧凑，大大节省了安装空间，可以支持多种安装环境。 ◇ 新的样品交换方式 采用新设计的样品交换系统（load lock），操作简单了，不仅减少误操作还提高了通量和耐用性。 ◇ SMILENAVISMILENAVI 是为初学者在短时间内学会基础操作而开发的操作导航系统。 操作人员按照流程，只要点击图标，SEM操作画面就会联动，依照提示引导即可操作。① 强调操作按钮只要将鼠标光标挪到SMILENAVI的指南键上，SEM的GUI上的相应键会出现方框。 在SMILENAVI指南里点击按键后，SEM的GUI会变成灰色来强调相应键。 ② 显示照片在SMILENAVI的指南里点击按键后，会显示该按键位置的照片。 ③ 显示操作顺序的视频 SMILENAVI的指南里有介绍操作顺序的视频。 继承了旧机型的高性能 ◇ 浸没式肖特基 Plus 电子枪浸没式肖特基Plus FEG 通过与电子枪和低像差聚光镜的组合，性能进一步得到改善，达到了更高的亮度。 能有效地收集从电子枪发射出的电子，即使在低加速电压下，也能获得数pA ～数10 nA 的探针电流，不用交换物镜光阑也能进行高分辨观察和快速元素面分布及EBSD 分析。 ◇ ACL（最佳光阑角控制镜）ACL（最佳光阑角控制镜）位于物镜的上方，自动优化整个电流范围内的物镜光阑角。 因此，即使改变探针电流量，也能调整入射电子的扩散，始终可以获取最小的电子束斑。不管是高分辨观察还是X 射线分析，对探针电流的大幅度变化都能轻松对应。 ◇ 超级混合式物镜 / SHLJSM-7900F 标配了JEOL 开发的电磁场叠加物镜 —“超级混合式物镜（SHL）”，对任何样品包括磁性和绝缘材料都能进行超高空间分辨率观察和分析。 ◇ 检测器系统能够同步采集多达4 种检测器的信号。标配低位检测器（LED）和高位检测器（UED）。 此外，还可以安装选配件：可插拔式背散射电子检测器（RBED）和高位二次电子检测器（USD）。 ◇ 高空间分辨率观察利用GBSH，即使在极低的加速电压下也能进行高分辨率观察。 GBSH下，高空间分辨率观察应用● 氧化物纳米材料

主要参数：用途：场发射环境扫描电镜，配备能谱仪和冷台。扫描电镜和能谱仪，可用于测试各种材料，如金属材料、高分子材料、无机材料（矿物、岩土、甚至含水分材料）等的样品表面二次电子形貌信息，背散射电子组分区分，能谱元素成分分析。结合冷台，可通过控制样品室内温度和湿度，模拟环境测试样品在动态环境中的形貌和组分变化，并记录这些变化的过程。 三 工作环境：1电压：100-240V（-6%，+10%）2工作温度：20±3 ℃3 相对湿度： 80%4 震动和磁场需由厂家装机前测试并给出报告 四 主要技术性能指标：1 电子光学：1.1 发射源：高分辨肖特基场发射电子枪。1.2 加速电压：200V – 30kV。1.3 放大倍数：6× - 2,500,000×。1.4 电镜内设计有压差真空系统，保护低真空/环境真空下电子枪，延长寿命。1.5 大的电子束束流：1pA -200nA 连续可调，保证能谱高效工作。 2 真空系统2.1 1个250 l/s分子涡轮泵+1个机械泵+2个离子泵2.2 集成的离子泵备用电池（用于意外断电保护）2.2 高真空模式：＜6×10-4 Pa （测试导电样品或喷金处理样品）2.3 低真空模式：10 – 200 Pa （直接测试不导电样品）2.4 环境真空模式：10 – 4000 Pa （测试含水分样品）2.5 高真空模式下的换样时间：≤3.5min2.6 环境真空模式下的换样时间：≤4.5min 3 分辨率独立的高真空专用探测器，分辨率指标3.1 高真空分辨率30 kV下1.0 nm (二次电子)3.2 高真空分辨率30 kV下2.5 nm (背散射电子)3.3 高真空分辨率1 kV下3.0 nm (二次电子)独立的低真空专用探测器3.4 低真空分辨率30 kV下1.3 nm (二次电子)3.5 低真空分辨率30 kV下2.5 nm (背散射电子)3.6 低真空分辨率3 kV下3.0 nm (背散射电子)独立环境真空专用探测器3.7环境真空分辨率30 kV下1.3 nm (二次电子) 4 样品室4.1 样品室内宽：340mm4.2 分析工作距离：10 mm4.3 样品室红外CCD相机：1个4.4 最多可升级12个探测器或附件接口 5 样品台5.1 样品台类型：五轴全自动U中心对中样品台，同时保留五轴手动功能5.2 行程：X：110 mm，Y：110 mm ，Z：65 mm，5.4 旋转R=n×360o，倾斜T=-15o/+90o5.3 多功能样品台，存放标准样品台 (?12 mm)平面18个，斜面3个，同时提供2个断面夹具5.4 样品最大安全高度≥85mm6 图象处理及系统控制……7 循环冷却系统……更多详细的技术参数，请与深圳市天禧仪器有限公司销售人员联系。