纳米生物技术

用于软性与生物材料的纳米压痕仪安东帕 生物压痕测试仪TM 属于纳米压痕仪，非常适用于表征人体组织和软材料的机械性能。该仪器专为研究软生物材料（如软组织）而设计。依靠生物压痕仪无与伦比的载荷与位移范围和出色的分辨率，可以最为灵敏地表征软骨、生物组织、支架、水凝胶或眼部组织的弹性模量、蠕变及其他特性。仪器特点安东帕生物压痕测试仪™ ：专为研究而设计借助安东帕 生物压痕测试仪TM，可以研究得出极软生物材料机械性能。更好地了解人体，以提高诊断水平、开发新药品和进行组织工程等等时，这个尤其重要。针对这些方面，生物压痕测试仪配备用于测试生物材料的特殊功能，例如能够执行受控的载荷与位移测量。另外，生物压痕测试仪通过检测接触刚度的变化来提供判定接触点，并提供专为生物材料而调整的测量模式。压痕程序：针对测量进行了优化安东帕 生物压痕测试仪TM 提供了多种压痕测试模式选择，包括标准、高级和循环模式。支持使用简单矩阵、高级矩阵和可视矩阵等各种矩阵进行统计评估和定制压痕测试。可以建立用户定义的压痕配置文件。接触点判定便捷，使生物压痕测试仪成为一种非常易于使用的仪器。测量系统：独具一类该仪器本身的测量单位专为高精度测量设计。集成式载荷传感器能够施加最大 20 mN 的载荷。位移传感器可以测量较大的量程。另外，安东帕 生物压痕测试仪TM 还具有良好的热稳定性，适合研究蠕变和流动特性。提供长焦物镜显微镜。高精度自动样品台使得能在 X、Y 和 Z 方向精确移动，从而将样品放到理想位置。软件：获得结果的关键所在借助功能强大但易于操作的软件，用户可以完全控制压痕程序（载荷、位移等）。软件会自动分析结果，另外还提供了统计模块，让用户可以获得数据和结果的快速分析。可以执行用户定义的 ASCII 导出，并且多名用户可以利用受控的访问权限来使用仪器。另外，还可以利用赫兹应力模型从压痕曲线的加载部分计算得出弹性模量，与常用的 Oliver & Pharr 方法相比，该方法更为适合生物材料。各种不同的针尖：用户可以根据需求选择安东帕 生物压痕测试仪TM 支持多种不同的压头，具体取决于用户的材料和需求。种类包括半径 0.01 mm 至 0.5 mm 及更大的球形、平头（平底圆柱）、锥形、维氏和立方锥，另外还可以按需要定制针尖，以便满足乃至要求最苛刻的应用要求（大半径球形、圆柱形等）。技术指标载荷最大载荷20 mN分辨率最小至 0.001 μN本底噪音0.1 [rms] [μN]*位移最大位移100 μm分辨率最小至 0.006 nm本底噪音0.25 [rms] [nm]*

2023 BTE广州国际生物技术大会-专场会议2023年9月14-15日 广州嘉逸皇冠酒店 主办单位蛋白药研究会、广东省生物产业协会、广州医药行业协会、振威国际会展集团 支持单位广东省保健协会检验分会、广东工业大学生物医药学院、深圳市生命科技产学研资联盟、广州国际生物岛有限公司、珠海市药学会、珠海市医药行业协会、珠海市食品安全协会、中山市药学会、中山市健康科技产业基地、深圳市生物医药促进会、广东医谷 组织机构广州振威国际展览有限公司www.bteexpo.com 随着生物科技的不断创新突破，全国居民人均可支配收入的逐年提高以及国家鼓励支持政策的陆续出台，加上新冠疫情爆发以来，药物产品市场需求迅速提升，病毒检测、疫苗与药物开发、防护设备与设施井喷式增长，使得我国生物药行业及市场迅速发展。为贯彻落实国家《“十四五”生物经济发展规划》总体要求，引导企业突破核心技术，大力发展免疫细胞、基因、IVD、创新药等产业领域，打造未来产业创新高地、发展壮大未来产业集群。2023 BTE广州国际生物技术大会{专场会议}将于9月14-15日在广州嘉逸皇冠酒店举办，大会将设展示区、多场细分论坛，紧密围绕新药研发、纳米抗体药物创制、核酸药物与新型疫苗、生物药工艺、靶向与细胞免疫治疗、3D细胞培养与类器官、肿瘤标志物、合成生物学等相关话题，特邀来自科研院所、医疗机构、创新药企、生物技术和服务企业、产业链上下游企业、产业园区、投融资机构、行业协会及媒体等多位权威专家与产业先锋齐聚一堂，分享研讨技术成果，共同推动产业的迅速发展。预计参会人次达5000人。 活动议题【具体议程以现场大会公布为准】（一）精准医疗时代下的新药研发论坛①　类器官药物敏感性检测在肿瘤精准治疗中的临床应用②　纳米磁微球偶联修饰技术与分子诊断产品开发③　肿瘤细胞外囊泡检测新技术与应用④　感染性疾病分子诊断前沿进展与挑战⑤　Challenges to overcome solid tumors战胜实体瘤的挑战⑥　科研与专利申请推动分子诊断创新发展⑦　新形势下伴随诊断创新技术发展⑧　预防和治疗新冠感染中和抗体药物研究⑨　抗肿瘤双特异性纳米抗体⑩　生物制药细胞株朔源构建及稳定性⑪ 　抗体类产品生产工艺预防吐温降解的考量⑫ 　抗体药物国际商业化的要求与考量⑬ 　连续灌流工艺的优势与应用⑭ 　小核酸商业规模生产中应考虑的事项（二）靶向与细胞免疫治疗论坛①　CAR-T细胞治疗概况及实施要点②　通用型细胞治疗产品的研发进展③　iPSC-CARNK路径的免疫细胞产品发展④　免疫细胞治疗有效性的挑战与策略⑤　CGT药物快速无菌检测⑥　恶性实体肿瘤特异性杀伤T细胞药物⑦　无血清细胞培养技术应用⑧　细胞治疗CGMP细胞生产

EVG系列纳米压印设备之紫外纳米压印：600 一、 简介 EVG公司成立于1980年，公司总部和制造厂位于奥地利，在美国、日本和台湾设有分公司，并在其他各地设有销售代理及售后服务部，产品和服务遍及世界各地。EVG公司是一家致力于半导体制造设备的全球供应商，其丰富的产品系列包括：涂胶和喷胶/显影机/热板/冷板、掩模版光刻/键合对准系统、基片热压键合/低温等离子键合系统、基片清洗机、基片检测系统、SOI 基片键合系统、基片临时键合/分离系统、纳米压印系统。目前已有数千台设备安装在世界各地，被广泛地应用于MEMS微机电系统/微流体器件，SOI基片制造，3D封装，纳米压印，化合物半导体器件和功率器件等ling 域。EVG是世界上为数不多的可以商业化纳米压印设备的著ming公司，可为客户提供完整的纳米压印方案，包括热压印、紫外压印、微接触印刷。EVG公司以其专利的极其优异的对准技术和世界ling 先的热压技术为纳米压印的成功实施打下了坚实的基础。EVG620紫外纳米压印用于从印章到衬底的紫外图形转移。EVG620自动纳米压印系统允许衬底和印章的尺寸从很小的芯片到150mm直径的圆片范围。用于纳米技术应用的配置包括印章机械释放、程序控制高或低的接触压力。EVG独有的吸盘设计支持软印章和硬印章压印，可以保证大面积纳米压印的均匀压力，从而保证获得很高的良率。 二、应用范围纳米压印技术主要应用于如下方面：LEDS 制作，LED PSS纳米压印工艺，LED纳米透镜阵列；微流体学；芯片实验室；抗反射层； 纳米压印光栅； 莲花效应；光子带隙；光学及通讯：光晶体，激光器件；生物技术解决方案：医药分析，血液分析，细胞生长。三、主要特点u 适用于紫外纳米压印和微接触印刷；u 紫外光曝光；u 配备专用的紫外纳米压印工具；u 适于软或硬印章压印；u 适用衬底：Si，玻璃，化合物半导体； 四、技术参数亚科电子设备咨询电话：（微信同号）；欢迎您的来电咨询！

NIL TECHNOLOGY Aps (NILT) 位于丹麦的哥本哈根市的丹麦技术大学(TECHNICAL UNIVERSITY OF DENMARK）校园里，是一家专门从事纳米光学、纳米结构制作和纳米压印设备制作的公司，公司与的丹麦国家微纳米实验中心(Danchip)是“合作伙伴”关系，并享有共同的超净设备和研发技术成果，公司同时从事欧盟诸多纳米制作项目的研发，并拥有多位教授和博士后团队。NILT 开发的CNI系列 实验室用台式纳米热压印机是专为实验室和研发机构设计和开发的简单易用、性能稳定的研发型设备，用户可以通过CNI设备高效、低成本地实现高精度的纳米热压工艺，许多知名的研发机构均购买了CNI的设备。Nano Fabriction Solution 技术方案已在多个领域为用户提供基于纳米技术的行业解决方案，包括： * LED纳米压印解决方案：LEDS 制作，LED PSS纳米压印工艺，LED纳米透镜阵 *μ-Fluidics 纳米应用流体学 * Lab-On-A-Chip 微流控纳米应用 *Anti-Reflection 抗反射纳米应用*Wire Grid Polarizer 纳米压印光栅 * Lotus Effect 莲花效应 *Photonic Band Gap （PBG) 光子带隙 *光学及通讯: 光晶体，激光器件 *LOC解决方案 *生物技术解决方案: 医药分析，血液分析，细胞生长

纳米压印设备之紫外纳米压印：EVG600系列 一、 简介 EVG公司成立于1980年，公司总部和制造厂位于奥地利，在美国、日本和台湾设有分公司，并在其他各地设有销售代理及售后服务部，产品和服务遍及世界各地。EVG公司是一家致力于半导体制造设备的全球供应商，其丰富的产品系列包括：涂胶和喷胶/显影机/热板/冷板、掩模版光刻/键合对准系统、基片热压键合/低温等离子键合系统、基片清洗机、基片检测系统、SOI 基片键合系统、基片临时键合/分离系统、纳米压印系统。目前已有数千台设备安装在世界各地，被广泛地应用于MEMS微机电系统/微流体器件，SOI基片制造，3D封装，纳米压印，化合物半导体器件和功率器件等ling 域。EVG是世界上为数不多的可以商业化纳米压印设备的著ming公司，可为客户提供完整的纳米压印方案，包括热压印、紫外压印、微接触印刷。EVG公司以其专利的极其优异的对准技术和世界ling 先的热压技术为纳米压印的成功实施打下了坚实的基础。EVG620紫外纳米压印用于从印章到衬底的紫外图形转移。EVG620自动纳米压印系统允许衬底和印章的尺寸从很小的芯片到150mm直径的圆片范围。用于纳米技术应用的配置包括印章机械释放、程序控制高或低的接触压力。EVG独有的吸盘设计支持软印章和硬印章压印，可以保证大面积纳米压印的均匀压力，从而保证获得很高的良率。 二、应用范围纳米压印技术主要应用于如下方面：LEDS 制作，LED PSS纳米压印工艺，LED纳米透镜阵列；微流体学；芯片实验室；抗反射层； 纳米压印光栅； 莲花效应；光子带隙；光学及通讯：光晶体，激光器件；生物技术解决方案：医药分析，血液分析，细胞生长。三、主要特点u 适用于紫外纳米压印和微接触印刷；u 紫外光曝光；u 配备专用的紫外纳米压印工具；u 适于软或硬印章压印；u 适用衬底：Si，玻璃，化合物半导体； 四、技术参数设备咨询电话：欢迎您的来电咨询！

仪器简介：从1979年开始，BUCHI公司一直供应小型喷雾干燥仪B-190、B-191和B-290系统，目前已成为实验室规模喷雾干燥仪领域的全球市场领导者。我们在全球的大学、研究所以及各类专业研究机构安装了4000多台喷雾干燥仪。喷雾干燥作为一种柔和、连续和可拓展的干燥过程正日益受到关注，它可快速将液体转化为干燥粉末。纳米喷雾干燥仪B-90具有在亚微米甚至纳米范围生成颗粒粒径的独特能力，可以以高产率处理毫克级样品量，从而使当今的喷雾干燥方法产生了根本性变化。B90尤其适合满足制药、生物技术、材料和纳米技术市场的需求。在这些领域中所呈现的最新应用趋势，重点集中在复杂材料、高价值药品和纳米颗粒等方面。曾经，喷雾干燥常受到颗粒直径、产率和样品量的约束。而今，可获得的最小颗粒直径锐减至300纳米，而产率直线提高至90%，能处理的最小样品量更是达到令人惊叹的毫克级。这一切都归功于集创新技术的喷头、加热系统和静电颗粒收集器。技术参数：1. 加热功率：1400W；温度控制：± 1℃2. 最高入口温度：120℃3. 蒸发能力：最大0.2L/h，有机溶剂更高4. 空气流量：80-160L/min5. 喷雾盖（孔直径）：4μm，5.5μm，7μm6. 平均雾滴直径：8-21μm7. 平均颗粒粒径：300nm-5μm8. 平均停留时间：1-4s9. 尺寸（W× H× D）：58× 110/150× 55cm （低位或高位配置）10. 重量：65/70kg （低位或高位配置）主要特点：1. 全球独创的压电雾化技术2. 适合小量样品（ml，mg）高效喷雾3. 颗粒粒径分布窄4. 高产率的静电颗粒收集器5. 模块化玻璃组件和全可视化喷雾过程6. 安装时间短，清洗方便7. 连接惰性循环系统B-295, 可安全处理有机溶剂8.PC软件实现在线的参数监控和存储， 过程参数记录和输出功能 应用领域： 1.制药2.生物技术3.材料4.纳米技术 纳米喷雾干燥仪的应用实例：1. 采用纳米喷雾干燥技术制备壳聚糖亚微米/纳米颗粒2. 采用纳米喷雾干燥技术生产海藻酸钠亚微米/纳米颗粒3. 纳米喷雾干燥技术在治疗性蛋白领域中的应用 - -乳糖降解酶，酶活性试验4. 纳米喷雾干燥技术在蛋白质制剂领域中的应用 - -单克隆抗体、L-乳酸脱氢酶5. 采用纳米喷雾干燥技术制备粉末吸入剂--呼吸给药6. 纳米喷雾干燥技术在材料化学领域中的应用 --汽车和电子工业用燃料电池 层流加热系统 静电颗粒收集器惰性循环系统B-295

ZetaView适用于各类生物纳米颗粒0 x 耗材5 x 更快的切换10 x 更快的清洗12 x 荧光通道∞ x 统计学数据生物纳米颗粒（比如细胞外囊泡、外泌体、病毒或类病毒颗粒）在生命科学和纳米药物研究中的作用越来越重要。NTA技术可以帮助用户检测生理缓冲液条件下的单个颗粒，并让用户真实地看到他们所测的样品颗粒。ZetaView系列产品以其更方便的操作、更快的检测速度，又将进一步助力客户对EV-抗体偶联物的荧光检测。 主要特点&bull 扫描式NTA：无需额外配件，即可自动在样品池内的11个检测位置依次完成测试，并自动评估样品和数据质量；&bull 直观的软件：红绿信号指示可以帮用户直接判断当前浓度的样品是否可以测试。&bull 全新的固定式样品池模块设计：进一步增强了仪器稳定性，进一步保障仪器高效稳定地测试。&bull 功能一体化：可一次性完成样品的粒径、浓度、zeta电位和荧光测试。&bull 自动校准&自动聚焦：光学部件可通过仪器软件实现自动校准与优化，节省了用户的实验准备时间，完全避免了可能产生的用户主观偏差。&bull 荧光分析：仪器配备了超灵敏的CMOS相机和更多的荧光滤光片，具有更高的荧光检测灵敏度，进一步增强了仪器的荧光检测与分析能力。&bull 快速测试：60秒即可分析2000多个样品颗粒。&bull 无需高成本耗材：除进样所需的注射器之外，无其他耗材。&bull 易于维护：新的固定式样品池模块使仪器清洗更加简单便捷。&bull 无需校准：测试方法是客观的，仪器无需再校准多荧光NTA（F-NTA）Particle Metrix提供从单激光到多激光的一系列PMX设备，新增加了12位的荧光检测通道，各设备均可实现不同激光波长之间、散射光模式与荧光模式之间的一键切换。PMX系列设备的固定式样品池模块设计，既进一步增强了仪器的稳定性和测试的可靠性，又进一步简化了仪器清洗过程，提高了测试效率。新增加的共定位分析功能（C-NTA）ZetaView 配备了高精度的激光器，还可以实现仪器部件的快速切换。这也是它能完成生物标志物共定位检测这一极具挑战性工作的必要条件。例如一种细胞外囊泡，用不同浓度的两种膜染料Cell MaskTM Green和Cell MaskTM Red进行染色，通过ZetaView TWIN的动画视频可以看到不同荧光通道之间的快速切换。主要应用生物纳米颗粒：&bull 细胞外囊泡&bull 外泌体&bull 脂质体&胶束&bull 蛋白质聚集体&bull 病毒&类病毒颗粒（VLPs）&bull 药物载体&bull 荧光标记的纳米颗粒 低浓度样品：&bull 纳米气泡&bull 纳米金属&bull 微量样品&bull 量子点

魔技纳米UV-Smart桌面级无掩膜直写光刻设备专为实验室科研需求和小批量生产设计。其小巧紧凑的设计使其适用于实验室环境，并具有高直写速度、高分辨率和高对准精度等特点。采用集成化设计和全自动控制，操作简便，适合快速加工、建模或小批量生产。广泛应用于微流控、半导体、生物技术和微电子等领域。如需了解更多产品信息，欢迎查询我司官网 魔技纳米科技或来电咨询。 [企业介绍]魔技纳米科技创立于2017年，是一家高精度微纳三维装备制造与服务提供商、国家高新技术企业、省专精特新企业。主要业务为高端激光微纳三维直写光刻设备的研发、生产、销售及技术服务等。研发团队拥有十余年微纳三维制造技术经验，在光学、电气、机械、软件、材料等方面，拥有完整的自主开发能力，可以为多行业应用场景提供专业的一体化解决方案。企业推出了高精度纳米级3D打印设备、超快激光加工中心、无掩膜直写光刻设备三大系列及多款光刻胶产品，其中自主研发的商用纳米级三维激光直写系统，可实现70纳米精度的三维结构加工。凭借高精度、高速度、大幅面和长时稳定性等技术优势，实现了科研探索到商业化应用的跨越，有力推动了微纳三维制造在生物医疗、光电通信、新材料、微纳器件、航空航天等领域的规模化工业生产。

产品介绍LUMiSpoc是一款高端的单颗粒计数仪(纳米级)，类似于流式细胞仪，它以绝佳的分辨率和动态范围测量悬浊液和乳浊液中纳米和微米颗粒的粒度分布和颗粒浓度。 仪器基于单粒子光散射技术SPLS ( Single Particle Light-Scattering)，该技术记录单个纳米和微米颗粒在通过具有特殊光束横截面的激光束时小角度和侧向的散射光。 SPLS Technology技术能够深入了解复杂的纳米和微米微粒系统，从而帮助您优化颗粒和分散体系产品。 LUMiSpoc - 纳米颗粒计数新标准。应用领域分散体包括：CMP浆料，炭黑，颜料，填料，医药乳浊液和悬浊液，标样/参考样，生物细胞，病毒。。。颗粒计数和粒径测定颗粒浓度测定直接测定纳米和微米颗粒的粒径分布纳米材料分级记录团聚和絮凝动力学变化过程确定颗粒尾端分布颗粒污染物检测检测分离膜和过滤介质，确定截留点优势超高分辨率的单峰、多峰和多颗粒分散体系粒度的分布优异的颗粒分级计数效率高（高频数字化、脉冲分析和分级）宽泛的动态范围（可测量40 nm到8µ m的粒径），无需切换范围或改变组件检测时间短易于操作样品量少嵌入式触屏和基于服务器/浏览器的软件通过参考粒子进行单点校

多功能台式　微米和纳米加工制造仪 适合各式纳米材料及薄膜的表面粗糙度或表面形貌量测。● 无需抽真空及快速的量测取得量测图像。● 直觉性的操作接口。● 一键扫描的快速功能。ACST为科研人员和教育工作者带来了一种先进的、多功能的台式微米和纳米制造的仪器，可以作为研究和教育工具。不仅帮助科研人员拓展他们现有的工作向不同的领域发展，而且还可以帮助教育工作者打夯实基础，教育学生掌握工业用的微米和纳米加工制造技术。COSMOS nanoFAB是一个加工制造仪器，这对我们培养纳米科学家的教育计划至关重要，也为学生在日益增长的微制造和纳米技术领域提供丰富的就业机会。 COSMOS nanoFAB采用了一种非常成熟的设计，充分考虑到其性能、成本和多样性。模块化设计理念允许在不同的技术中使用通用型的机械元件/电子元件，从而保证了使用方便和成本低廉。该仪器完全有能力成为快速j加工或新研究的实验验证工具。在教育领域，COSMOS nanoFAB可应用于表面化学、材料科学、工业应用、电子元件和半导体器件制造、生物分子固化和生物传感应用等领域的教学和应用。可被应用于高解析影像和测量需求，特别是具备次奈米级的 Z 轴分辨率。其低噪声和开回路设计于一体的扫描仪可以快速地针对样本进行扫描。独特光像散式的光路模块提供业界最小的雷射光点，让用户可运用于更小且快速的AFM 探针，COSMOS nanoFAB提供了在纳米和微米加工制造技术方面的功能，这并且在业界得到了很好的认可： ★ 紫外线光刻: 通过一系列的实验，学生们学习了紫外线光刻技术的概念；半导体行业的基本技术★ 微接触印刷（μCP）： 学生们了解这一传统简易的技术，使用有机、无机和生物材料进行纳米/微米的图案加工。★ 纳米压印加工技术（NIL）： 学生操作和实践纳米压印加工技术。业内专家认为，作为半导体行业未来的市场需求，纳米 压印加工技术（NIL）是最具前景的一项技术。 总之，COSMOS nanoFAB可以应用的领域包括：● 表面化学● 材料科学● 工业应用● 半导体器件的电子元件制造● 生物固定和生物传感应用● 直觉式的数据撷取软件 PSX 可提供用户在最基本教育训练下，即可直接操作。值得一提的是，一键扫描功能可自动地设定参数与进行扫描，用户同样能够快速获得高质量的扫描结果。PSX 内建的扫描库管理功能有效地简化扫描数据的整理，以方便用户删除或输出扫描图文件。 ● 永效性的光路校准系统---雷射点实时维持在四象限二极管中心，不须另外校正。● 一键扫描- 藉由智能预测算法，即可轻松点击按键便可进行全自动扫频、下针、做力图曲线、以及扫描样品等相关流程。 应用案例和模块信息介绍-微接触印刷（μCP）: 描述：微接触印刷(μCP)是一种非光刻技术，也是“软刻蚀技术”的前身。μCP是一种常有吸引力的、可以应用于生物技术领域的、用于微米和纳米图案/结构制备的技术。它使用弹性印章，通过将各种分子（从有机分子到大的生物物质）点印到固体基底上，以生成二维的微米和纳米结构。这项技术包括两个主要步骤：印章的制作及印刷，如图所示。包被靶标分子的弹性印章通过预施加的控制来接触基底表面，从而将靶标分子转移到基底上。不同的大小和形状的几何图形可以生成各种各样的印章，例如可以使用大的平面印章或滚动印章(类似于油漆辊)在平面和非平面表面上点印，从而轻松地对很大的区域进行图案制备。印章是由弹性体聚合物制成，如聚二甲基硅氧烷(PDMS)，聚氨酯，聚酰亚胺和树脂等等。 应用：微接触印刷是一个从下而上的加工技术,由于简单方便，高通量和成本低廉，现广泛应用于多个领域，如光学、MEMS、高密度分子电路、微流体、微阵列和生物传感器点印寡核苷酸、固定细胞来研究细胞-细胞和细胞-基底表面的相互作用、生成肽阵列研究免疫实验和生物传感器实验的蛋白质和生物配体。 我们客户还可以探索如何在大尺寸和纳米尺度上点印计算机芯片或者如何制作生物传感器。例如，在实验室里，可以使用大尺寸和纳米尺度的印章，用光刻技术制作纳米印章模板和聚合物。印章将被包被有机小分子与黄金等贵金属，然后点印在黄金薄膜的基底上，随后的是金的湿蚀刻，没有被有机分子保护的区域将被蚀刻。在这样的一个实验中，印章上的结构将被复制到基底上。 应用案例和模块信息介绍-光刻技术: 光刻技术是当今世界上最成功的精密加工技术之一。自1959年发明以来，它就是最有价值和最有利润的行业，最初是开发出来用于微电子工业（集成电路平面技术），现在也被用来制造微型器件（硅晶体平面的三维结构材料刻蚀)。从那以后，这个行业一直在广泛需求中不断发展，包括单个电路元件和整合的半导体材料，基本上所有的集成电路是用光刻技术制造的。光刻工艺概述如图所示，预先设计的图案是从光掩模（例如用电子束光刻法）传送到靶标的硅基底。该程序包括以下常用的步骤: 1、在硅片层基底上包被一层薄薄的紫外线敏感的聚合物抗蚀剂（光刻胶）（图2a，图2b）。 2、随后紫外光透过有图案的印章（图2c）进行照射，只有部分抗蚀剂暴露在紫外线下，这引起了抗蚀溶解度的变化。然后将印章放置于离样品尽可能近的地方但是不接触，如图2c所示。由于光衍射，辐射面积会增大一些，大于印章对应的开口区域（这将导致分辨率降低）。这种光刻蚀程序只能用于创建尺寸小于辐射波长的图案和器件。因此，半导体工业也开始使用更短波长的光线来做辐射。 3、紫外线曝光后，将样品浸入显影剂中，以便从显影剂中除去光刻胶暴露在光线下的地方（图2d）。 4. 硅晶片上的抗蚀图案随后被用来从裸片上蚀刻材料（将硅晶片暴露于蚀刻剂）（图2e）或沉积电路设计需要的其他材料。最后光刻胶完全脱离硅晶片（图2）。 在这四个步骤之后，抗蚀剂（光刻胶）上的图案特征被转移到硅晶片的基底上（步骤f）。整个过程可以按电路设计要求重复多次。 用途：光刻蚀是一种从上而下的制作工艺，选择光刻蚀工艺是因为它可以产生小到几十纳米的图案，并提供精确的控制形状，大小，并且制备成本非常低。 光刻技术被广泛应用于从微电子到生命科学的各个行业，在可预见的未来，它还将是微处理器、存储器和其他微电子设备信息技术的基础。此外，它还用于许多设备的制造业和小型化，从而带来了高性能、可移植性、节约时间、节省成本、节省试剂、提高生产通量、改善功耗、提高检测限度以及新功能的开发。 应用案例和模块信息介绍-纳米压印加工技术（NIL）: 描述：纳米压印加工技术（NIL）是基于一种与传统微加工有着根本区别的原理，该技术具有高通量，小于10纳米分辨率和低成本的优点，是目前其他现有刻蚀方法无法达到的。在压印过程中，图案被热敏或紫外光复制到抗蚀剂中，然后被转移到下面的基底上。在热敏纳米压印加工技术（NIL）(T-NIL)工艺中，将表面具有纳米结构的模具压入基底上铸造的薄层抗蚀剂中。抗蚀剂是一种热敏塑料，由于粘度低，在玻璃化温度（Tg）以上时容易变形。当抗蚀剂冷却到Tg以下时，模具被移除，模具的图案被复制在抗蚀剂中。在光固化纳米压印加工技术（UV- NIL）中，将模具在室温下，压入顶层的UV光刻胶中，然后紫外照射交联抗蚀剂，最后模具复制品转移到底层的抗蚀剂和基底上。 在这两个过程中，模具表面都涂上了钝化层，以防止在分离过程中抗蚀剂粘在模具上。在图案转移过程中，利用反应离子刻蚀~RIE等各向异性刻蚀工艺去除压缩区域的残余抗蚀剂，将压印中产生的厚度对比图案转移到整个抗蚀剂中。 应用：为了加快纳米结构的研究和商业化，必须有一个高通量和低成本的纳米加工技术，来实现尺寸、形状和间距完全自由化的设计。这就是为什么纳米压印会快速发展，并且它已经扩展到许多学科，如微电子学、生物学、化学、医学和信息存储。还有希望应用于光学器件、磁存储器、微电子机械系统、生物技术、微波器件的三D打印、生物技术中使用的微流控通道、存储器VRAM的环形结构、无源光学元件等。

Optics11成立于2011年，是阿姆斯特丹自由大学(VU)的衍生组织。从那时起，这家初创公司的收入和员工持续增长，成为荷兰发展最快的公司之一，并具有国际影响力。Optics11 Life提供功能强大的新型纳米压痕仪，与传统的同类产品相比，使用方便、功能多样、坚固耐用。主要用于测量复杂、不规则的生物材料，如单细胞、组织、水凝胶和涂层的机械性能。Piuma Nanoindenter生物组织、软物质材料力学性能测试的新方法Piuma是功能强大的台式仪器，可探索水凝胶、生理组织和生物工程材料的微观机械特性。表征尺度从宏观直至细胞。专为分析测试软材料而设计，测量复杂和不规则材料在生理条件下的力学性能。杭州轩辕科技有限公司主要优势● 内置摄像镜头，方便实时观察样品台● 实时分析计算测量结果，原始数据并将以文本文件存储，方便任何时候导入Dataviewer软件进行复杂处理● 探针经过预先校准，即插即用。对于时间敏感的样品确保了快速测量● 光纤干涉MEMS技术能够以无损的方式测量即使是最软的材料，并保证分辨率。同时探针可以重复使用Piuma轩辕纳米压痕仪Piuma轩辕纳米压痕仪 技术参数模量测试范围5 Pa - 1 GPa探头悬臂刚度0.025 - 200 N/m探头尺寸(半径)3 - 250 μm最大压痕深度100 μm传感器最大容量200测试环境air, liquid (buffer/medium)粗调行程X*Y：12×12 mm Z：12 mm加载模式Displacement / Load* / Indentation*测试类型准静态(单点，矩阵)蠕变，应力松弛DMA动态扫描 (E', E'', tanδ)动态扫描频率*0.1 - 10 Hz内置拟合模型Young's Modulus (Hertz / Oliver-Pharr / JKR)*为可选升级配置Fiber-On-Top 探头新型光纤干涉式悬臂梁探头，利用干涉仪来监测悬臂梁形变。相较于原子力显微镜或传统纳米压痕仪创新型光纤探头，弥补了传统纳米压痕仪无法测试软物质的问题，也解决了AFM在力学测试中的波动大，操作困难、制样严苛等常见缺陷。● 背景噪音低：激光干涉仪抗干扰强于AFM反射光路● 制样更简单：对样品的粗糙度宽容度高于AFM● 刚度选择更准确：平行悬臂梁结构有利于准确判别压痕深度与压电陶瓷位移比例关系，便于选择合适刚度探头来保证弹性形变关系的稳定性，进而获得重复率更高、准确性更好的数据内置分析软件● 借助功能强大而易于操作的软件，用户可以自由控制压痕程序（载荷、位移等）。自动处理曲线的流程，可以获得数据和结果的快速分析● 原始参数完整txt导出，便于后续复杂处理的需要● 利用Hertz接触模型从加载部分计算弹性模量，与常用的Oliver&Pharr方法相比，更为适合生物组织和软物质材料特性视频介绍如果您感兴趣的话，我们可以为您提供试样服务，请联系：近期文献年 份期 刊题 目2022Advanced Functional MaterialsEngineering Vascular Self-Assembly by Controlled 3D-Printed Cell Placement2022BiomaterialsHydrogels derived from decellularized liver tissue support the growth and differentiation of cholangiocyte organoids2021Biofabrication3D bioprinting of tissue units with mesenchymal stem cells, retaining their proliferative and differentiating potential, in polyphosphate-containing bio-ink2021nature communicationsJanus 3D printed dynamic scaffolds for nanovibration-driven bone regeneration2020Environmental Science & TechnologyEffect of Nonphosphorus Corrosion Inhibitors on Biofilm Pore Structure and Mechanical Properties2020Acta BiomaterialiaA multilayer micromechanical elastic modulus measuring method in ex vivo human aneurysmal abdominal aortas

生物组织纳米压痕仪介绍Piuma纳米压痕仪的核心部件是其安装在压痕移动平台上极其敏锐的压痕探头1.压痕移动平台，具备粗进以及精进两级移动精度，使得探针可以自动寻找到表面并且提供高精度压痕。除了压痕移动平台，Piuma纳米压痕仪还有一个手动样品移动平台2.方便样品的安放。你的样品可以放在X-Y移动台上piuma生物软组织纳米压痕仪3.进行杨氏模量的测试或者进行多点阵测试。一个内置式的显微镜4.可以直接观察实验过程！piuma生物软组织纳米压痕仪 生物组织纳米压痕仪是一个简单易用的产品，为软物质以及生物材料组织的微观以及纳观研究带来希望。依靠自身*的新型光学技术以及杰出的微加工工艺，Piuma纳米压痕仪可以测量杨氏模量软的样品，范围甚至是从5Pa到5GPa!Piuma同样非常适合在液体中测试样品。其操作非常简单易学，只需将探头插入仪器中，简单定标后，即可马上开始压痕实验。产品构件详细介绍：1.PROBE探头纳米压痕仪核心:一个微加工工艺制作的光学压痕探头如果您感兴趣的话，我们可以为您提供试样服务请联系2.SAMPLE样品从水凝胶到骨组织等，在大气中或者浸没在液体中3.SAMPLEXYSTAGEXY样品台在X-Y（12x12mm）范围内测试样品4.INDENTATIONSTAGE压痕移动台粗进以及精进移动台实现精确压痕以及自动寻找样品表面5.MANUALSTAGE手动平台为任何样品以及容器创造空间 纳米以及微米级别的生物机械性能Piuma是一个创新的，具有成本效益的工具，用来表征生物材料、组织、细胞器、细胞层、软骨、静电支架、力学性能，3D打印材料，水凝胶等的微纳米机械性能。The Piuma 纳米压痕仪专为迎合生物材料以及组织研究人员和工程师的需求，提供易用性和便携性，同时提供高精度、高通量和多样化的数据。Optics11小型化的玻璃探针式压头，特别适合在液体中测量水合样品。组织工程和再生医学的研究者，Piuma纳米压痕仪是衡量他们感兴趣材料刚度的一个解决方案。 软物质材料表征在生物材料、组织工程、再生医学和医学研究领域，Piuma可以在溶液里进行非破坏性测量测量某点或者某个区域的杨氏模量、蠕变和松弛实验，点阵测量粘附力，描述应变硬化行为，样品的粘度等。测试生物材料和组织样本的软硬度可以很容易地在Piuma纳米压痕仪上用其optics11 PIUMA探头和专用的Piuma软件来实现。 Piuma Nanoindenter是荷兰Optics11公司出品的新型生物纳米压痕仪。主要应用范围为生物组织、生物支架、水凝胶、聚合物、细胞等软物质以及生物材料的机械性能研究。采用了新型探头设计，弥补了传统其他纳米压痕仪无法测试软物质的问题也解决了原子力显微镜在软物质测试中的数据波动大，操作困难、制样严苛等常见问题。更开创性的在压痕仪中加入了动态力学测试模式DMA，可以获得材料与振动频率相关的储存模量、损失模量和损失因子，用于研究材料在交变力作用下的滞后现象和力学损耗。

Optics11成立于2011年，是阿姆斯特丹自由大学(VU)的衍生组织。从那时起，这家初创公司的收入和员工持续增长，成为荷兰发展最快的公司之一，并具有国际影响力。Optics11 Life提供功能强大的新型纳米压痕仪，与传统的同类产品相比，使用方便、功能多样、坚固耐用。主要用于测量复杂、不规则的生物材料，如单细胞、组织、水凝胶和涂层的机械性能。Piuma Nanoindenter生物组织、软物质材料力学性能测试的新方法Piuma是功能强大的台式仪器，可探索水凝胶、生理组织和生物工程材料的微观机械特性。表征尺度从宏观直至细胞。专为分析测试软材料而设计，测量复杂和不规则材料在生理条件下的力学性能。主要优势● 内置摄像镜头，方便实时观察样品台● 实时分析计算测量结果，原始数据并将以文本文件存储，方便任何时候导入Dataviewer软件进行复杂处理● 探针经过预先校准，即插即用。对于时间敏感的样品确保了快速测量● 光纤干涉MEMS技术能够以无损的方式测量即使是最软的材料，并保证分辨率。同时探针可以重复使用 技术参数模量测试范围5 Pa - 1 GPa探头悬臂刚度0.025 - 200 N/m探头尺寸(半径)3 - 250 μm最大压痕深度100 μm测试环境air, liquid (buffer/medium)粗调行程X*Y：12×12 mm Z：12 mm加载模式Displacement / Load* / Indentation*测试类型准静态(单点，矩阵) 蠕变，应力松弛 DMA动态扫描 (E', E'', tanδ) 动态扫描频率*0.1 - 10 Hz内置拟合模型Young's Modulus (Hertz / Oliver-Pharr / JKR)*为可选升级配置Fiber-On-Top 探头新型光纤干涉式悬臂梁探头，利用干涉仪来监测悬臂梁形变 相较于原子力显微镜或传统纳米压痕仪创新型光纤探头，弥补了传统纳米压痕仪无法测试软物质的问题，也解决了AFM在力学测试中的波动大，操作困难、制样严苛等常见缺陷。● 背景噪音低：激光干涉仪抗干扰强于AFM反射光路● 制样更简单：对样品的粗糙度宽容度高于AFM● 刚度选择更准确：平行悬臂梁结构有利于准确判别压痕深度与压电陶瓷位移比例关系，便于选择合适刚度探头来保证弹性形变关系的稳定性，进而获得重复率更高、准确性更好的数据内置分析软件● 借助功能强大而易于操作的软件，用户可以自由控制压痕程序（载荷、位移等）。自动处理曲线的流程，可以获得数据和结果的快速分析● 原始参数完整txt导出，便于后续复杂处理的需要● 利用Hertz接触模型从加载部分计算弹性模量，与常用的Oliver&Pharr方法相比，更为适合生物组织和软物质材料特性近期文献年 份期 刊题 目2022Advanced Functional MaterialsEngineering Vascular Self-Assembly by Controlled 3D-Printed Cell Placement2022BiomaterialsHydrogels derived from decellularized liver tissue support the growth and differentiation of cholangiocyte organoids2021Biofabrication3D bioprinting of tissue units with mesenchymal stem cells, retaining their proliferative and differentiating potential, in polyphosphate-containing bio-ink2021nature communicationsJanus 3D printed dynamic scaffolds for nanovibration-driven bone regeneration2020Environmental Science & TechnologyEffect of Nonphosphorus Corrosion Inhibitors on Biofilm Pore Structure and Mechanical Properties2020Acta BiomaterialiaA multilayer micromechanical elastic modulus measuring method in ex vivo human aneurysmal abdominal aortas

魔技纳米UV-Ultra高性能无掩膜直写光刻设备UV-Ultra是一款专为高端和工业级应用而设计的高性能无掩膜直写光刻设备。它采用先进的超高速加工方式，采用自研算法和高性能硬件，实现更高的对准、拼接和套刻精度。具备高直写速度和高分辨率，适用于快速、精准的加工需求。MN-UV-Ultra采用集成化设计和全自动控制，操作简便，适用于高达12英寸的基材。广泛应用于微流控、半导体、生物技术和微电子等领域。如需了解更多产品信息，欢迎查询我司官网 魔技纳米科技或来电咨询。 企业介绍 魔技纳米科技创立于2017年，是一家高精度微纳三维装备制造与服务提供商、国家高新技术企业、省专精特新企业。主要业务为高端激光微纳三维直写光刻设备的研发、生产、销售及技术服务等。研发团队拥有十余年微纳三维制造技术经验，在光学、电气、机械、软件、材料等方面，拥有完整的自主开发能力，可以为多行业应用场景提供专业的一体化解决方案。企业推出了高精度纳米级3D打印设备、超快激光加工中心、无掩膜直写光刻设备三大系列及多款光刻胶产品，其中自主研发的商用纳米级三维激光直写系统，可实现70纳米精度的三维结构加工。凭借高精度、高速度、大幅面和长时稳定性等技术优势，实现了科研探索到商业化应用的跨越，有力推动了微纳三维制造在生物医疗、光电通信、新材料、微纳器件、航空航天等领域的规模化工业生产。

EVG720紫外纳米压印机一、设备原理：EVG720紫外纳米压印用于从印章到衬底的紫外图形转移。EVG720自动纳米压印系统允许衬底和印章的尺寸从很小的芯片到150mm直径的圆片范围。用于纳米技术应用的配置包括印章机械释放、程序控制高或低的接触压力。EVG独有的吸盘设计支持软印章和硬印章压印，可以保证大面积纳米压印的均匀压力，从而保证获得很高的良率。二、应用范围纳米压印技术主要应用于如下方面：LEDS 制作，LED PSS纳米压印工艺，LED纳米透镜阵列；微流体学；芯片实验室；抗反射层； 纳米压印光栅； 莲花效应；光子带隙；光学及通讯：光晶体，激光器件；生物技术解决方案：医药分析，血液分析，细胞生长。三、主要特点及技术参数：1、主要特点：。 最大产量高达40wafers每小时；。 紫外光曝光；。配备专用的紫外纳米压印工具；。 正面对准或者正反双面对准；。 适用衬底：Si，玻璃，化合物半导体；。 硬紫外纳米压印，软紫外纳米压印、微接触压印。2、技术参数晶圆尺寸：最大150mm大面积压印：最大150mm产能：最大可到40wafers/小时印章制备：支持工作模具制备，支持自动楔形脱模曝光：曝光光源：高功率窄带曝光；波长：300-500nm, 光强：~ 400 mW/cm2，光强均匀性：20%（6寸）对准模块：机械对位精度±200um，光学对位精度±3um压印微结构尺寸范围：40nm-2um；压印结构分辨率：≤40纳米压印残留层厚度：≤20纳米滚压印速度：2mm/s-16mm/s, 可以调节图形保型度：≥90%支持倾斜光栅压印，倾斜度45-90°上料系统：3料盒台，现场可升级u SECS/GEM II: 可选。公司简介：EVG公司成立于1980年，公司总部和制造厂位于奥地利，在美国、日本和台湾设有分公司，并在其他各地设有销售代理及售后服务部，产品和服务遍及世界各地。EVG公司是一家致力于半导体制造设备的全球供应商，其丰富的产品系列包括：涂胶和喷胶/显影机/热板/冷板、掩模版光刻/键合对准系统、基片热压键合/低温等离子键合系统、基片清洗机、基片检测系统、SOI 基片键合系统、基片临时键合/分离系统、纳米压印系统。目前已有数千台设备安装在世界各地，被广泛地应用于MEMS微机电系统/微流体器件，SOI基片制造，3D封装，纳米压印，化合物半导体器件和功率器件等领域。EVG是世界上为数不多的可以商业化纳米压印设备的著名公司，可为客户提供完整的纳米压印方案，包括热压印、紫外压印、微接触印刷。EVG公司以其专利的极其优异的对准技术和世界领先的热压技术为纳米压印的成功实施打下了坚实的基础。

纳米压印设备之热压印：EVG510HE 一、 简介 EVG公司成立于1980年，公司总部和制造厂位于奥地利，在美国、日本和台湾设有分公司，并在其他各地设有销售代理及售后服务部，产品和服务遍及世界各地。EVG公司是一家致力于半导体制造设备的全球供应商，其丰富的产品系列包括：涂胶和喷胶/显影机/热板/冷板、掩模版光刻/键合对准系统、基片热压键合/低温等离子键合系统、基片清洗机、基片检测系统、SOI 基片键合系统、基片临时键合/分离系统、纳米压印系统。目前已有数千台设备安装在世界各地，被广泛地应用于MEMS微机电系统/微流体器件，SOI基片制造，3D封装，纳米压印，化合物半导体器件和功率器件等领域。EVG是世界上为数不多的可以商业化纳米压印设备的好的公司，可为客户提供完整的纳米压印方案，包括热压印、紫外压印、微接触印刷。EVG公司以其zhuan li的极其优异的对准技术和好的的热压技术为纳米压印的成功实施打下了坚实的基础。EVG510HE是一款半自动的热压印设备，用于硬模压印和纳米印刷。该热压印系统配备了一个通用的热压腔室，具备高真空和高接触压力能力，可以处理用于热压印的所有聚合物材料。EVG510HE可以实现长宽比的热压印和多重脱模工艺，为客户提供高质量的图形转移和纳米级分辨率。 二、应用范围纳米压印技术主要应用于如下方面：LEDS 制作，LED PSS纳米压印工艺，LED纳米透镜阵列；微流体学；芯片实验室；抗反射层； 纳米压印光栅； 莲花效应；光子带隙；光学及通讯：光晶体，激光器件；生物技术解决方案：医药分析，血液分析，细胞生长。二、 主要特点u 用于聚合物衬底和旋涂树脂的热压印；u 自动化热压印程序；u EVGzhuan li的单独对准技术用于压印和印刷前对准；u 全程软件控制工艺流程的运行；

产品描述PFR150系列超薄型XY（Z）多轴纳米定位压电平台，可用于与倒置显微镜的标准大范围纳米定位压电平台集成在一起。载物台具有较大的孔径，可容纳行业标准的样品架/微孔板、便于进行进行活细胞研究。PFR150系列为研究人员提供了对Z轴的快速，高精度控制，是反卷积，3D重建和共聚焦显微镜的理想选择；尤其适用于需要活细胞的应用。与其他仅移动一个物镜的压电聚焦设备不同，PFR150可以在载物框架位置使用，从而确保不失去共焦性。PFR150系列的闭环行程为80~200 μm，可与蔡司、尼康、奥林巴斯、莱卡等显微镜配合使用。其中压电平台，压电控制器和专接板均单独出售。可选的应变测量反馈闭环操作版本，采用高分辨率应变测量位置传感器，具有高精度和可重复的运动，也补偿压电陶瓷的蠕变特性，闭环装置可以用于开环或闭环控制。可选附件转接环，方便用户安装到指定设备中。产品特性—位移：80μm/150μm（闭环）—中空尺寸：83×93 mm—适用于质量达1000g样品扫描—嵌入型设计—并联结构设计具有高谐振频率选配功能—可定制转接装置—可选PZT&Sensor连接器及线缆长度—可选配闭环(SGS) 位置反馈系—可选择定制其它固定方式及培养皿支架应用领域—超分辨率显微镜—表面扫描和分析、测量技术—筛选、生物技术—自动聚焦系统—共聚焦显微镜 结构原理 响应特性 典型应用PFR150-XYZ100U/200U系列技术参数

产品描述“简易执行机构”系列是具有结合在弹性铰链机构中的压电元件的致动器。带有螺纹孔，易于固定和拆卸，简易执行机构内部无内置传感器，所以本产品开环操作时具有迟滞和蠕变特性。压电执行器通电后会收缩运动。采用机械放大结构设计，因此行程比单个压电元件长几倍。柔性铰链导向无需维护、无摩擦、无磨损，无需润滑。高推拉力，大行程，紧凑的尺寸，亚纳米分辨率，亚毫秒级快速响应。机械放大式压电促动器是由不锈钢材质的外部椭圆框架将压电陶瓷的主轴变形沿短轴进行放大。这个椭圆形的框架也提供了压电陶瓷对拉力的抵抗。为客户提供了易于集成机械接口。此预应力和放大曲张框架给压电陶瓷施加预紧力保证其比传统的基于杠杆臂和弯曲支点的传统的机械式放大器，在动态应用下有更长的使用寿命和更好的性能。产品特性—轴向收缩运动—行程：1500μm—出力: 1300 N—位移放大式选配功能—可定制安装固定螺纹尺寸—可定制线缆长度—可定制闭环方式—可定制位移典型应用:• 光子学/集成光学 • 纳米级微调操作纳米定位 • 光纤拉伸 • 高速切换• 微扫描 • 激光腔调谐 • 测流技术 • 生物技术迟滞和蠕变特性：在开环操作中，具有滞后和蠕变现象 位移放大结构形式：行程比单个压电陶瓷大几倍

PolyPico 高精度生物材料纳米材料点样仪：Picospotter 和 Picoprecise（不同型号精度不同），提供现成的以及定制化的解决方案来满足您对高精度、微量体积的点样，沉积，打印的需求，适用的生物材料如：Proteins, Anti-bodies, DNA, Living cells, Reagents, High throughput screening/drug discovery。这套用户友好型的系统创新性的采用了一次性喷头的技术，使其与同类产品相比具有更多的优势性能。Poly-Pico技术设计能够帮您在科研工作或者工业生产中降低生产成本，提高生产效率。主要特征：非接触式、高精量液滴的任意点样一次性喷头，避免样本的交叉感染无需清洗装置高精度点样：对任何体积样本CV优于2%仪器可自动进行校正和检查样本通过喷头进行保存或者点样喷头以及样本可在-20°C进行保存喷头无明显的死体积可配置多个喷头来进行样本的点样可兼容多个尺寸喷头（50, 70和100微米）的卡夹墨盒喷头墨盒可达100ml容量皮升级别可控液滴体积喷点速度可达1000滴/秒很小的死体积可避免样本的浪费应用方向：高密度微阵列数字PCR可实现纳升级/皮升级微量样品的点样生物芯片的制作全自动的试剂供给库高通量的药物筛选对微量液滴进行包被试剂/蛋白/生物材料的点样活细胞的点样单个干细胞打印实现高精度液滴的点样应用案例（更多其他生物材料和纳米材料应用请直接联系我们）：活细胞点样：PolyPico可用于活细胞点样，如仓鼠卵巢细胞（CHO）样本蛋白/抗体微阵列点样DNA扩增纳米材料点样PolyPico还可实现低粘度UV固化胶黏剂精确打印

产品描述PFB-050U/100U是重载设计直接驱动型的压电陶瓷物镜聚焦平台，是专门用于显微镜物镜的精确定位设计。典型应用为半导体晶圆切割领域，它设计行程为50/100μm的两种规格。便于用户选择适合的产品。PFB-050U/100U的应用范围包括：Z向移动，3D成像，自动对焦或与我们提供的XY纳米位移台设备一起使用。PFC-050U/100U本体由铝，钢和黄铜制成，闭环配有稳定性的传感器采用全闭环配置。黄铜安装环可以轻松更换，以使每个物镜都适合PFC纳米定位器。可用的标准产品包括RMS、M25、M26、M27、M32、M38等，也可以按需定制。本系列产品可匹配蔡司、尼康、奥林巴斯、徕卡等多种标准镜头。零间隙，高精度柔性铰链导向系统可实现更好的聚焦稳定性。它们的刚性可实现高负载能力，可带动较大物镜的高动态定位和扫描。可选的应变测量反馈闭环操作版本，采用高分辨率应变测量位置传感器，具有高精度和可重复的运动，也补偿压电陶瓷的蠕变特性，闭环装置可以用于开环或闭环控制。产品特性—位移：50μm/100μm（闭环）—螺纹尺寸：W0.8x1 / 36“至M38x0.75—适用于质量达1Kg专用物镜—高重载型应用设计—高动态应用选配功能—可定制转接装置及固定方式—可选PZT&Sensor连接器及线缆长度—可选配闭环(SGS) 位置反馈系—可选择定制其它螺纹规格应用领域—半导体晶元切割、半导体测试、生物技术—自动聚焦系统、测量技术—干涉测量、筛选—3D成像、共聚焦显微镜—光学圆盘显微镜、超分辨率显微镜 结构原理 响应特性 典型应用PFB-050U/100U系列技术参数

产品描述PFV-600U/800U是长行程压电陶瓷物镜聚焦平台，是专门用于显微镜物镜的精确定位及有长距离定位操作而设计的产品。PFV-600U/800U的应用范围包括：Z向移动，3D成像，自动对焦或与我们提供的XY纳米位移台设备一起使用。PFV-600U/800U本体由铝，钢和黄铜制成，闭环配有稳定性的传感器采用全闭环配置。转接环可以轻松更换，以使每个物镜都适合PFV-600U/800U纳米定位器。可用的标准产品包括RMS，M25，M26，M27、M32等，也可以按需定制。本系列产品可匹配蔡司、尼康、奥林巴斯、徕卡等多种标准镜头。零间隙，高精度柔性铰链导向系统可实现更好的聚焦稳定性。它们的刚性可实现高负载能力，可带动较大物镜的高动态定位和扫描。可选的应变测量反馈闭环操作版本，采用高分辨率应变测量位置传感器，具有高精度和可重复的运动，也补偿压电陶瓷的蠕变特性，闭环装置可以用于开环或闭环控制。可选附件转接环，方便用户安装到指定设备中。产品特性—位移：600~1100μm—螺纹尺寸：W0.8x1/36“至M32x0.75—适用于质量达300g物镜—超紧凑型长行程设计—高精度柔性铰链机械结构选配功能—可定制转接装置及固定方式—可选PZT&Sensor连接器及线缆长度—可选配闭环(SGS) 位置反馈系—可选择定制其它螺纹规格应用领域—倒置/正立显微镜—表面扫描和分析、AFM显微镜—生物技术（例如细胞扫描）—光束聚焦用于印刷过程—半导体测试设备 结构原理 叠堆形式 典型应用PFV-600U/800U系列技术参数

产品描述PFC-030U是重载设计的压电陶瓷物镜聚焦平台，是专门用于显微镜物镜的精确定位设计。典型应用为半导体晶圆切割领域，它设计为30μm的行程。PFC-030U的应用范围包括：Z向移动，3D成像，自动对焦或与我们提供的XY纳米位移台设备一起使用。PFC-050U/100U本体由铝，钢和黄铜制成，闭环配有稳定性的传感器采用全闭环配置。。黄铜安装环可以轻松更换，以使每个物镜都适合PFC纳米定位器。可用的标准产品包括RMS，M25，M26，M27、M32、M38等，也可以按需定制。本系列产品可匹配蔡司、尼康、奥林巴斯、徕卡等多种标准镜头。零间隙，高精度柔性铰链导向系统可实现更好的聚焦稳定性。它们的刚性可实现高负载能力，可带动较大物镜的高动态定位和扫描。可选的应变测量反馈闭环操作版本，采用高分辨率应变测量位置传感器，具有高精度和可重复的运动，也补偿压电陶瓷的蠕变特性，闭环装置可以用于开环或闭环控制。产品特性—位移：30μm（闭环）—螺纹尺寸：W0.8x1/36“至M32x0.75—适用于质量达1Kg专用物镜—超紧凑型设计高谐振频率选配功能—可定制转接装置及固定方式—可选PZT&Sensor连接器及线缆长度—可选配闭环(SGS) 位置反馈系—可选择定制其它螺纹规格应用领域—倒置/正立显微镜—表面扫描和分析、AFM显微镜—生物技术（例如细胞扫描）—光束聚焦用于印刷过程—半导体测试设备 结构原理 响应时间 典型应用PFC-030U系列技术参数

iNano纳米压痕仪使测量薄膜、涂层和小体积材料变得更简单。准确、灵活、用户友好的仪器可以进行多样的纳米材料力学测试，包括压痕、硬度、划痕和通用的纳米尺度测试。大的力和位移动态测量范围允许对从软聚合物到金属材料进行精确和可重复的测试。 模块选项可以适配各种应用：材料性能分布图、特定频率测试、划痕和磨损测试以及高温测试。iNano纳米压痕仪拥有一整套可扩展的测试选项，包括样品加热、连续刚度测量、NanoBlitz 3D/4D性能分布图和远程视频选项。产品描述iNano纳米压痕仪使测量薄膜、涂层和小体积材料变得更简单。准确、灵活、用户友好的仪器可以进行多样的纳米材料力学测试，包括压痕、硬度、划痕和通用的纳米尺度测试。大的力和位移动态测量范围允许对从软聚合物到金属材料进行精确和可重复的测试。 模块选项可以适配各种应用：材料性能分布图、特定频率测试、划痕和磨损测试以及高温测试。iNano纳米压痕仪拥有一整套可扩展的测试选项，包括样品加热、连续刚度测量、NanoBlitz 3D/4D性能分布图和远程视频选项。iNano采用InForce 50作动器进行纳米压痕和通用纳米机械测试。InForce 50的50mN力荷载和50μm位移范围使得该系统适合各种测试。InView软件是一个灵活的现代软件包，可以轻松进行纳米级测试。iNano是内置高速InQuest控制器和隔振门架的紧凑平台。该系统可以测试金属、陶瓷、复合材料、薄膜、涂层、聚合物、生物材料和凝胶等各种不同的材料和器件。主要功能● InForce 50作动器，用于电容位移测量和电磁力驱动，具有可互换的压头● 独特的软件集成压头校准系统，可实现快速准确的压头校准● InQuest高速电子控制器，具有100kHz数据采集速率和20μs时间常数● XY移动系统带有易于安装的磁性样品架● 具有数字变焦功能的集成显微镜，可获得精确的压痕定位● ISO 14577和标准化测试方法● InView软件包，包含RunTest、ReviewData、InFocus报告、InView University在线培训和InView移动应用程序主要应用● 硬度和模量测量（Oliver Pharr）● 材料力学性能分布图● ISO 14577硬度测试● 聚合物损耗因子，储存模量和损耗模量● 高温纳米压痕测试硬度和模量测量（基于Oliver-Pharr模型）在薄膜的工艺控制和制造过程中，表征其力学性能至关重要，其中包括汽车行业的涂层质量，以及半导体制造中的前道和后道工艺控制等。iNano 纳米压痕仪可以测量各种材料的硬度和模量，从超软胶到硬涂层。高效地评估材料性能，保证了在生产线上进行有效的质量管控。快速材料力学性能成像对于包括复合材料在内的许多材料而言，不同区域之间的力学性能可能存在很大差异。iNano提供了X和Y轴100毫米和Z轴25毫米的样品台移动，允许在大样品面积上测试各种样品高度。使用NanoBlitz功能选项进行材料表面和断层力学性能成像，可以快速获得各种被测力学性能的彩色分布图。ISO 14577 硬度测试iNano纳米压痕仪包括一个预先编写的ISO 14577测试方法，用于测量符合ISO 14577标准的材料硬度。 该测试方法可以自动测量并输出杨氏模量、纳米压痕硬度、维氏硬度和归一化压痕功。聚合物损耗因子iNano纳米压痕仪能够测量 超软材料（包括粘弹性聚合物）的损耗因子。 储存模量、损耗模量和损耗因子是粘弹性聚合物的重要性能，因为作用到此类材料上的能量以弹性能的形式储存或以热量的形式耗散。上述指标即用于衡量材料中的能量储存和耗散情况。高温纳米压痕测试高温纳米压痕对于表征热应力作用下的材料性能至关重要，在定量研究热机械加工过程中的失效机理时更是如此。在不同温度下进行力学测试，不仅可以研究材料受热时的性能变化，还可以量化研究材料的塑性转变，这在纳米尺度上并非易事。适用行业● 大学、研究实验室和研究所● 半导体和封装行业● 聚合物和塑料● MEMS（微机电系统）/纳米级通用测试● 陶瓷和玻璃● 金属和合金● 制药● 涂料和油漆● 聚合物制造● 复合材料● 电池和储能● 更多应用，请联系我们以满足您的要求适用行业举例半导体晶圆半导体制造商通常致力于生产高质量的薄膜，而薄膜柔韧性较差将导致开裂和剥离。基底和外延层中未检测到的缺陷，也可能导致长期隐患和裂纹延展，造成器件失效。KLA纳米压痕仪能够测量超薄膜的弹性模量和硬度，及断裂韧性和开裂阈值，且不受基底的影响。将纳米力学性能与工艺参数建立关联，对于最大化半导体器件产能至关重要。半导体封装电子元件的性能和寿命可能取决于其封装的完整性。KLA纳米压痕仪让半导体封装厂商可以评估聚合物底部填充物的力学性能、焊料应变速率敏感因子和金属部件的强度。聚合物与塑料聚合物与塑料由于其时效变形特性，而被用于许多应用之中。无论聚合物是用作减振器、挤出材料还是医疗植入物，通常都通过动态力学分析（DMA）对其进行分析。在许多情况下，塑料部件的几何形状不适合采用传统的DMA仪器进行测试。无论样品的几何形状如何，KLA纳米压痕仪都能够局部定位塑料部件上的目标区域，并测量与频率相关的储能模量、损耗模量和损耗因子。iNano也可用于测量粘弹性蠕变和应力松弛特性。陶瓷与玻璃陶瓷和玻璃因其独特的光学、力学和电学特性，而成为许多应用中使用的重要材料。陶瓷与玻璃的传统力学测试（例如，四点弯曲测试）可能既耗时又昂贵。iNano可以快速表征少量材料的弹性模量和硬度。纳米压痕仪的划痕测试功能也非常适合定量评估光学涂层的耐划擦性。金属与合金金属与合金在许多行业中发挥着重要作用，例如汽车、航空航天、医疗和半导体。金属与合金的传统力学测试（例如，拉伸测试）可能既耗时又昂贵。iNano可以对少量材料进行快速表征。它还让用户可以表征弹性模量、硬度和抗蠕变性，以及这些特性随空间位置变化的梯度。电池与储能电池材料的力学性能与电池的稳定性、充电容量和续航时间密切相关。iNano 纳米压痕仪非常适合测试各种电池材料，从软质锂金属到硬质陶瓷基片。iNano提供面向多种环境的先进测量解决方案，其中包括干燥室和手套箱。制药、食品和个人护理药品、食品和个人护理产品的力学性能与客户满意度和体验密切相关。材料的弹性模量或刚度可能与质地和触感有关。药物糖衣的力学性能对于准时释放药性也至关重要。iNano 纳米压痕仪提供定量信息，补充定性客户反馈。纳米级通用测试iNano纳米压痕仪系统能够测量纳米级力学形变和其它纳米力学特性。iNano的多种测试能力包括纳米压痕、压缩、拉伸、蠕变、应力松弛和疲劳的测量。此外还支持标准和自定义试验方法。KLA纳米压痕仪团队的专职科学家还可提供咨询和实验设计。选配件连续刚度测量（CSM）连续刚度测量用于量化测定动态材料特性，例如应变速率效应和频率相关特性。CSM技术在压痕过程中控制压头振荡，以测量样品性能随深度、荷载、时间或频率的变化。该选项默认进行恒应变速率测试，测量硬度和模量随深度或载荷的变化，这是学术界和工业界最常用的测试方法。CSM 还可用于其它高级测试选项，包括 ProbeDMA&trade 选项以测量存储模量和损耗模量，以及AccuFilm&trade 选项以获得不受衬底影响的薄膜性能。CSM 功能集成在 InQuest 控制器和 InView 软件中，使用极为简便，且确保数据质量。300°C样品加热300°C样品加热选项允许将样品放入加热室中进行均匀加热的同时使用InForce 50作动器进行测试。 该选项包括高精度温度控制系统、惰性气体保护系统以减少氧化、冷却系统以移除余热。ProbeDMA、AccuFilm、NanoBlitz和CSM功能均与样品加热选项兼容。NanoBlitz 3DNanoBlitz 3D利用InForce 50作动器和Berkovich压头来生成高模量 ( 3GPa)材料的纳米机械特性的3D图。 NanoBlitz 3D每个压痕时间小于1s，单次测试可包含多达100,000个压痕点（300×300阵列），获得每个压痕点在特定载荷下的杨氏模量（E）、硬度（H）和接触刚度（S）。大量的测试数据能够提高统计的准确性。统计直方图可以呈现样品中的多个物相或材料组分。NanoBlitz 3D方法包还包含可视化软件和数据处理功能。NanoBlitz 4DNanoBlitz 4D公司利用InForce 50作动器和Berkovich压头来生成低模量/硬度和高模量 (3GPa)材料的纳米机械性能的4D图。 NanoBlitz 4D每个压痕仅需5-10秒，单次测试可包含多达10,000个压痕点（100×100阵列），获得每个压痕点的杨氏模量（E）、硬度（H）和接触刚度（S）等随深度的变化。NanoBlitz 4D 采用恒应变率方法。其软件包还包含可视化软件和数据处理功能。AccuFilm&trade 薄膜方法包AccuFilm&trade 薄膜方法包提供基于Hay-Crawford模型的InView测试方法，其采用连续刚度测量(CSM)获得不受衬底影响的薄膜材料性能。AccuFilm&trade 能够修正薄膜力学性能测量中衬底的影响，其应用既包括“硬膜软基底”，也包括“软膜硬基底”的情况。ProbeDMA&trade 聚合物方法包聚合物方法包可以测量聚合物的复模量随频率的变化。该方法包中包括平压头、粘弹性标样和评估材料粘弹性的测试方法。该技术可以有效表征纳米尺度聚合物和聚合物薄膜，填补传统的动态力学分析(DMA)测试仪在此领域的空白。Biomaterials生物材料方法包生物材料方法包基于连续刚度测量（CSM）技术，可以测量剪切模量低至1kPa的生物材料的复模量。该方法包中包括一个平压头和评估材料粘弹性的测试方法。该技术可以有效表征小尺寸生物材料，填补传统的流变仪在此领域的空白。划痕和磨损测试方法包划痕测试中，在压头上施加恒定或线性变大的载荷，并使其以设定速度在样品表面划过。划痕测试可以表征多样的材料体系，例如薄膜、脆性陶瓷和聚合物等。DataBurst对于配有InView软件和InQuest控制器的系统，DataBurst选项容许以大于1kHz的速率记录位移数据，用于测量阶跃载荷响应、位移突进（pop-in）和其它瞬时事件。配备了“用户方法开发”选项的iMicro系统，也可以修改方法以启用DataBurst。InView的“用户方法开发”选项InView提供一个功能极为强大且直观的实验脚本编辑平台，可用于设计新颖或复杂的实验。经验丰富的用户使用配备独有InView选项的iNano系统几乎可以设置和执行所有微力学测试。主动减震系统以及一体式机柜可选的高性能主动隔振系统在其内置隔振的基础上，为iNano纳米压痕仪提供了额外的隔振。 该系统易于安装，可在所有六个自由度上减少震动，且无需调试。一体式模组托架将所有模组集成在一处，方便使用。True TestI-V电气测量iNano微力学系统的True Test I-V选项采用InView软件控制，使用了精密电流表和电压源、一个可以通过压头的导通电路和导电压头。 该设计帮助用户对样品施加特定电压，测量压头处的电流，且同时操作InForce 50。压痕仪压头和校准样品InForce 50和Gemini作动器采用可互换的压头。 有多种尖锐的压头可供选择，例如玻式（Berkovich）、立方角（cube corner）和维氏（Vickers）压头，还可提供平压头、球形压头和其它几何形状的压头。整个产品系列也提供标准参考材料和校准标准。远程视频选项除了现有的显微镜物镜之外，远程视频选项还在iNano腔室内提供了两个视角。 第一个安装的支架专门关注测试过程中的压痕仪压头，此设置非常适合于柔性和软材料。 第二个支架安装在机架上，用于在测试设置期间观察样品和显微镜物镜。 标准显微镜物镜和USB摄像头之间的视图切换由软件控制。相关产品

? Femtocut是一套采用红外波段飞秒激光器作光源，可以对生物医学样品，多种有机和无机材料进行光学细微加工和处理的设备。具有超精密切割，钻孔结合高分辨率非介入式3D成像等功能。它可以： l 用于光学基因转移的靶定向转染。l 细胞内染色体分离l 组织切片中单细胞分离l 光学方法击出细胞元素l 纳米加工和光学波导写入l 光学数据存储 设备外观图片 透明材料和生物细胞的3D纳米加工系统产品概述： Femtocut系统采用紧凑的近红外皮秒激光器对透明材料进行3维纳米加工。低能量（亚纳焦至纳焦）高至90兆赫兹重复频率的激光脉冲通过高数值孔径（NA1.3）光学组件聚焦并在亚飞升（10-15升）体积内产生光学击穿。光束能量密度可用一台电机驱动的衰减器控制。焦点区域光功率密度可达几个TW/cm2的水平，于是可以通过多光子电离过程进行超精细的剥蚀加工。加工最小尺寸小于70纳米（半高全宽度）。设备的基本结构是一台配置了高速检流计振镜扫描组件的常用显微镜。能够以亚微米精度进行全幅扫描，局部区域（ROI）扫描，线扫描以及单点剥蚀（点扫描，钻孔）等模式的加工操作。配置了一台电机驱动平台用于大区域加工操作。聚焦光学元件安装于压电陶瓷驱动平台上，可实现精度为40nm的垂直定位。Femtocut还是一套非介入式层析诊断工具。可以对样品进行高分辨率成像来选择微加工处理的目标区域，也可同时监视剥蚀处理的效果。 飞秒激光脉冲分离染色体 人染色体的纳米加工处理 染色体内部孔洞的加工 CHO细胞的靶定位转染。GFP质粒通过一个瞬 态生成的亚微米小孔导入到细胞膜中应用领域:超短脉冲激光已经成为半导体，金属材料，介电材料，高分子材料和生物组织的纳米结构成型的强大工具，显示了不可替代的卓越的性能。在大多是材料中，紫外激光具有较强的线性吸收，所以其仅适用于进行表面团成型。作为鲜明对比，Femtocut 则能够提供真正的三维加工处理。其能够处理的深度可达100μm. 加工线宽达到亚微米量级。通过采用焦点区域的多光子电离过程，切割尺寸可以突破衍射极限的限制。这一系统可以在对近红外透明的材料上进行直接的纳米微尺度结构写入。这一能力大大开拓了在工业，医疗和科学研究领域的应用范围。 飞秒激光纳米尺度微成型技术已经用于波导刻写，光掩膜加工和某些特殊材料的表面改性领域。更进一步，还可在多种材料上进行细微钻孔。激光诱导细胞膜瞬态改变眼组织纳米尺度结构成型：角膜薄片制备超快激光和生物材料的相互作用的一个重要特点是其作用区域强烈地被限制在焦点区域，这样就大大地减小了对邻近组织的损害。于是，可以利用这一特性将突变组织和正常生命细胞分离开来。Femtocut的高空间分辨率处理能力还可以在不发生任何显见的损害效应情况下将单细胞器从细胞中撞击出去。 Femtocut这种极强的局域工作特性使其具有成为实现DNA操控的强大工具的潜能。它可以用来对染色体某些特定的基因片段进行光学去活性处理。不仅如此，飞秒激光脉冲还显示了应用于人类染色体片段分离以及高度局域的基因和分子转移的前景。 不同材料上进行结构成型：A：金 B: 硅 C：玻璃 细胞间连接的激光加工处理处理前细胞间连接的激光加工处理(处理后）技术数据：紧凑型飞秒激光器（典型数据）激光脉冲宽度： 100fs重复频率：80 MHz激光平均输出功率：1.5W波长：710-990 nm全幅扫描，局部感兴趣区域（ROI）扫描, 线扫描，单点照明（点扫描，钻孔）典型光束扫描区间：350x350μm (水平)200μm（垂直）平台位移行程：120x102mm空间分辨率：1μm (水平)2μm (垂直)聚焦光学元件：放大率40倍数值孔径（NA）1.3CCD相机数字成像视频监视接口运行环境温度：15-35摄氏度相对湿度：5-80%电源功率需求：交流230V（50赫兹）系统尺寸基座490x280x480mm316kg扫描头：280x190x90mm36kg控制组件：450x300x130mm38kg激光器（典型值）：600x370x180mm342kg(激光头)450x440x270mm321kg（电源）270x200x380mm320kg（水冷器）对于激光器运行建议配置空调系统所有参数可能会有所变动恕不提前通知

仪器简介：随着纳米技术、MEMS技术、半导体工业的飞速发展，对纳米级精度的移动定位装置、操纵装置、加工装置等的需求也在快速增长。为了满足这一市场需要，我们推出了一系列纳米定位、微操纵装置。纳米精度定位装置该系列产品设计极为紧凑，可以使样品或探针作直线或旋转移动。而且很多型号可以工作在极端环境条件下，例如极低温、超高真空、强磁场等。这些设备可以提供多种不同尺寸和材料，开辟了一个全新的定位设备的市场，在很多领域开拓了全新的研究方向。●适应各种极端工作环境：低温、超高真空、强磁场●提供多种运动自由度：XYZ直线、旋转、XY扫描、Z扫描、Θ、Φ等等，并且可以任意组合●定位精度高达纳米级● 很高的稳定性，无机械漂移、无回差、无需高压●负载大，可达自重的数倍●部分型号具有两种工作模式，单独一个设备既可以实现粗定位，也可以用于扫描●部分型号可选配多种位置读出设备，实现闭环控制●可根据客户要求定制各种特殊定位装置纳米级操纵装置，适用于SEM, TEM, FIB系统纳米马达拥有原子量级分辨率，运动行程达厘米级，横跨8个数量级，可提升6倍于自身重量的物体，并适应多种工作环境，包括超高真空、磁场、甚至液氮。纳米定位平台●最大承重量为2kg●行程：5~70mm●运动速度： 2 mm/s●运动分辨率：2nm ●定位传感器分辨率：10nm机械手包括微操作机械手、力反馈机械手、XYZ机械手等，可对夹持力进行精确控制，具有分辨率高，行程大，设计灵活等特点。

技术规格型号AMH-MINI操作压力0-2200bar处理量3-5L/H最小处理量7ml电压380V，三相四线制，2KW容腔配置300um 金刚石副腔+100um 金刚石 Y/Z 型主腔动力系统伺服直驱电缸系统控制系统德国西门子，美国埃莫森伺服控制系统外形尺寸709*419*345mm重量50kg工作原理高压缸中充满的物料被做恒力驱动往复运动的柱塞杆以极高的压力（最高300Mpa）通过具有极小孔径的金刚石容腔，形成超音速的微小射流，利用高速射流之间相互的强烈剪切和冲击作用将物料颗粒破碎，因此产生完全混合、均一、更细微的产品，可以显著改善提高物料的乳化性，溶解度，稳定性，透明度等特性，粒径细化，分布变窄，满足制药，生物技术，化妆品，食品和石墨烯等行业高端均质需求。产品特点1. 微射流均质机是新一代的高压均质机，其独特的金刚石微孔道超音速对射流技术可以做到更小更均一的纳米级粒径，相较于普通高压均质机有能力做各行业中粒径分布要求极高、附加值较高的应用。2. 微射流均质机的核心均质部件是金刚石交互容腔，与普通高压均质机可调节间隙的均质阀不同的是，其内部的微孔道是固定尺寸不可调节的，在使用同种型号金刚石交互容腔且是相同均质工艺参数条件下，可以保证批次间产品的粒径结果非常稳定。 3. 微射流均质机的产能放大是通过金刚石交互容腔内部微孔道的并列排布实现的，多个与实验型机器一样孔径的微孔道再配合上大功率的增压泵，可以实现研发工艺的线性放大，生产型设备在增加产能的同时不会改变均质效果，这也是普通高压均质机很难达到的优势，故很多较高要求应用采用微射流均质机以免在昂贵的研发实验后无法顺利放大生产。4.微射流均质机采用液压增压模式提供均质动力，其液压站在较低的几十Mpa压力下就能输出高达几百Mpa的均质压力，这样状态下液压动力单元能持续稳定运行，同时又能保证提供很高的均质压力，相较于普通高压均质机的曲折连杆高频动作设计可以大大降低设备的故障率，保证生产的顺利进行。应用范围食品/饮料● 饮料乳化● 脂肪替代品● 牛奶● 调味剂、食品添加剂保健品/化妆品● 护发产品● 脂质乳化● 指甲油● 护肤膏制药/生物技术 ● 细胞破碎● 静脉注射剂、吸入剂● 营养剂● 药膏化工/材料● 锂电池、氢能源● 石墨烯、CNT碳管分散● 纳米纤维素● 半导体

Monolith X分子互作仪【轻松、快速、精准检测分子间相互作用】产品简介：Monolith 系列分子互作仪，采用创新性的光谱位移技术（Spectral Shift） 和 经 典 的 微 量 热 泳 动 技 术 ( MicroScale Thermophoresis, MST)，轻松检测最具挑战的分子互作。仅需极微量的样品 , 即可在液体环境中快速、精确地定量检测各种类型的分子间相互作用力，且检测浓度范围广、操作简单。技术原理&bull 光谱位移技术：通过荧光发射光谱的蓝移或红移来检测分子间的结合。Monolith X 在等温条件下精确检测 650nm 和 670nm 双波长的发射光，因而能够精确检测到极细微的光谱位移。 &bull 微量热泳动技术：MST技术是通过激光在溶液中产生精确而短暂的温度变化从而检测配体结合引起的荧光强度变化。以配体浓度为横坐标，荧光值为纵坐标作图，从而获得平衡解离常数 Kd 产品优势：&bull 双技术模块：可同时搭载光谱位移（Spectral Shift）和微量热泳动（MST）技术模块，可灵活升级&bull 无需固定样品：可直接在溶液中定量检测&bull 无惧分子量：各种分子互作轻松驾驭，蛋白质、核酸、多肽、小分子、离子、纳米颗粒等&bull 节省样品：最低样品消耗量仅需 10μL，10分钟即可检测1个 Kd &bull 智能优化：实时监测样本质量，并提供优化建议&bull 无液流系统：无堵塞风险，免维护产品优势 - 解决SPR难以应对的分子互作难题：&bull 样品固定会阻碍 Kd 值的测定SPR 中不合适的固定或再生条件会负面干扰配体结合。由于 Monolith 是在可控平衡条件下进行溶液内结合检测，因此可以帮助您测定固有无序蛋白（IDPs）等存在构象动态复杂变化的具有挑战性的样品。&bull 待测分子与芯片基质间的非特异性结合由于 SPR 无法区分待测分子是与固定在芯片上的样品还是芯片基质发生了结合，因此您还需要做进一步检测来识别和排除非特异性结合。而您在使用 Monolith 时无需专门检测此类非特异性结合，因为检测是在溶液内完成的。&bull 强亲和力结合分析难度大使用 SPR 评估强亲和力结合是极为困难的, 其原因是：强亲和力互作的解离速率极慢，而 SPR 需要通过解离速率来计算亲和力，因此您需要等待极长的时间才能准确测得此数据。而 Monolith 是直接检测结合，您完全无需等待。&bull 检测共价结合用 SPR 研究共价结合是非常繁琐的。而 Monolith 是直接在溶液内检测结合，您无需考虑如何再生芯片，这就使共价结合的检测变得非常容易。应用方向： 蛋白质-小分子蛋白质-蛋白质蛋白质-离子蛋白质-核酸蛋白质-多肽蛋白质-脂类蛋白质-糖类蛋白质-纳米颗粒案例精选[ 蛋白质-纳米颗粒: 核酸适配体修饰的纳米颗粒探针 ]纳米颗粒在医学影像、分子诊断、靶向治疗等方面具有广泛应用。 双酚 A（Bisphenol A，BPA）广泛用于制造塑料瓶，食品罐内涂层等，同时它又是一种已知的内分泌干扰素， 威胁胎儿和儿童的健康。研究人员研发出一种纳米颗粒探针，将双酚 A 固定到金纳米颗粒上，可通过竞争 结合的方式定量病患儿童血液中的双酚 A 含量，指导医生的诊断和治疗。应用 MST 技术，研究人员检测 了纳米颗粒探针与双酚 A 核酸适配体之间的相互作用，测定到亲和力为 54 nM；这与游离双酚 A 和相同适 配体的亲和力（10 nM）差异不大。说明固定到金纳米颗粒上没有影响双酚 A 与适配体的结合。 MST 技术不受相互作用分子大小的限制，纳米颗粒，甚至是更大的病毒颗粒与配体的相互作用，都可以应用 MST 技术进行测定。Marks, H. L., Pishko, M. V., Jackson, G. W. & Cote, G. L. Rational design of a bisphenol A aptamer selective surface-enhanced Raman scattering nanoprobe. Analytical chemistry 86, 11614-11619, doi:10.1021/ac502541v (2014). Pant, K. et al. Surface charge and particle size determine the metabolic fate of dendritic polyglycerols. Nanoscale 9, 8723-8739, doi:10.1039/ c7nr01702b (2017).耗材支持: &bull NanoTemper在线商城小程序（微信搜索）&bull NanoTemper官网关于NanoTemper: 德国NanoTemper始创于2008年，总部位于慕尼黑。作为全球知名的科学仪器制造商，历经十余载发展，在全球13个国家设立分支机构。 我们始终致力于为蛋白质分析研究提供更加优质的解决方案。基于专利微量热泳动技术（MST）、微量差示扫描荧光技术（nanoDSF）和光谱位移技术（Spectral Shift）等创新技术，公司先后推出分子相互作用检测仪（Monolith系列）、蛋白稳定性分析仪（Prometheus 系列）、高通量亲和力筛选系统（Dianthus系列）以及新品蛋白质表达和功能快速筛选系统 （ Andromeda X ）。 NanoTemper以优质的产品与服务迅速赢得全球知名药企、生物技术公司、服务公司和科研机构的好评，成为优选合作伙伴。需要更多信息或希望获得个性化解决方案？请随时联系我们~

实验型高压均质机是一种常用于实验室的设备，主要用于研究各种材料的均质化处理。这种设备利用高压技术，能够将物料在瞬间内通过一个非常狭窄的间隙，从而在物料内部产生极高的压力和极快的速度。这种强大的压力和速度能够将物料破碎、分散和混合，以达到均质化的效果。工作原理：物料在柱塞的往复运动的作用下，输送到一个大小可调的阀组中，受到极强的压缩作用，在通过限流狭缝时，以极快的速度撞击在均质阀，产生空穴效应，撞击效应和剪切效应，使团聚的物料均匀分散。应用范围：食品/饮料● 饮料乳化● 脂肪替代品● 牛奶● 调味剂、食品添加剂保健品/化妆品● 护发产品● 脂质乳化● 指甲油● 护肤膏制药/生物技术● 细胞破碎● 静脉注射剂、吸入剂● 营养剂● 药膏化工/材料● 锂电池、氢能源● 石墨烯、CNT碳管分散● 纳米纤维素● 半导体产品特点：1. 独特的两级均质阀，均质阀材质可以是陶瓷材质，或合金材质2. 便于观察的数字显示压力表和电子过压保护系统3. 体积小——方便放在实验台4.模块化结构,操做方便,维护简单5.内置控温模块：温度保持在5～10度产品参数：型号AH-NANO处理量（MINI）15ml处理量（MAX）10L/H工作压力（MAX）1800bar外形尺寸（长*宽*高）795*450*490mm设备净重（kg）140功率1.5kw

系统概述骇思HyperPureX ICM-P系列制药/生物技术纯化水系统以严谨的合规性指导系统的设计、制造、安装和验证的全过程，集成了预处理（包含：多介质过滤、活性炭过滤、水软化、超滤和紫外氧化）、一级RO1st或二级RO2nd、EDI、纯水储存分配（包含：紫外氧化、微滤）等模块，系统工艺规范符合中国药典、日本药典、欧洲药典或美国药典法规要求，可提供整套符合cGMP要求的验证文件系统。 水质标准CP、EP、USP、JP等国药典对纯化水的技术要求或GB/T 6682（1级水）、ASTM D1193（Ⅱ型试剂级水）、JIS K0557等规定的水质标准 工艺路径1. 预处理系统+一级反渗透RO1st系统+二级反渗透RO2nd系统+储存分配系统2. 预处理系统+一级反渗透RO1st系统+二级反渗透RO2nd系统+EDI系统+储存分配系统3. 消毒方式：根据用户需求（URS），可选活性炭巴氏消毒、CIP清洗系统、分配系统臭氧灭菌、分配系统巴氏消毒、分配系统纯蒸汽灭菌。 性能特点10“彩色触控屏及 PLC控制模块且具有物联网（IOT）和云平台功能的全自动控制系统；模块化设计理念，结构紧凑，便于操作及后期维护； 所有焊点可采用轨道自动氩弧焊，且符合3D标准；多通道阀门设计，满足工艺零死角要求； 每个单元都有取样点，便于检测；整套设备可以完全排空设计；可根据客户原水水质优化调整工艺路线； 系统内部部分浓水可回收，可提高系统回收率至80%以上；确保过程检验、质量监控、验证文件符合用户需求； 应用范围诊断试剂、生物技术产品、精药、药品原料、中间体、口服液、保健品、医疗器械等

奥地利SmartNIL紫外纳米压印：EVG7200一、设备原理：EVG7200紫外纳米压印用于从印章到衬底的紫外图形转移。EVG720自动纳米压印系统允许衬底和印章的尺寸从很小的芯片到150mm直径的圆片范围。用于纳米技术应用的配置包括印章机械释放、程序控制高或低的接触压力。EVG独有的吸盘设计支持软印章和硬印章压印，可以保证大面积纳米压印的均匀压力，从而保证获得很高的良率。二、应用范围纳米压印技术主要应用于如下方面：LEDS 制作，LED PSS纳米压印工艺，LED纳米透镜阵列；微流体学；芯片实验室；抗反射层； 纳米压印光栅； 莲花效应；光子带隙；光学及通讯：光晶体，激光器件；生物技术解决方案：医药分析，血液分析，细胞生长。三、主要特点及技术参数：1、主要特点：。 最大产量高达40wafers每小时；。 紫外光曝光；。配备专用的紫外纳米压印工具；。 正面对准或者正反双面对准；。适用衬底：Si，玻璃，化合物半导体；。硬紫外纳米压印，软紫外纳米压印、微接触压印。2、技术参数晶圆尺寸：最大200mm大面积压印：最大200mm产能：最大可到40wafers/小时印章制备：支持工作模具制备，支持自动楔形脱模曝光：曝光光源：高功率窄带曝光；波长：300-500nm, 光强：~ 400 mW/cm2，光强均匀性：20%（6寸）对准模块：机械对位精度±200um，光学对位精度±3um压印微结构尺寸范围：40nm-2um；压印结构分辨率：≤40纳米压印残留层厚度：≤20纳米滚压印速度：2mm/s-16mm/s, 可以调节图形保型度：≥90%支持倾斜光栅压印，倾斜度45-90°上料系统：3料盒台，现场可升级SECS/GEM II: 可选。