卡西米尔斥力

Super-Q™ Plus试剂级超纯水系统根据使用点的需要，可提供最高10升/分钟的超纯水超纯水水质Super-Q Plus系统是专门对反渗透、蒸馏或去离子预处理的水进行“最后的精纯”。Super-Q Plus系统能够稳定地生产最高达12 L/min的超纯水，而且水质超过ASTM/CAP/NCCLS I类水质的要求。? TP纯化柱该系统使用的纯化柱为热塑焊接结构。这避免了因使用胶水和溶剂而导致产水中的T.O.C. (有机物)含量增高。? 纯化介质Merck Milli-Q 通过严格的测试体系来选择树脂和其他纯化介质。选择去离子树脂时，不仅要求高离子载量和快速冲洗，也要求低融出率，均以T.O.C.和颗粒物含量(树脂微粒)计算。? 可持续发展我们的设备利用HPLC、离子色谱和T.O.C.分析等领域的最新进展结果，不断改进产品材质和制造工艺。? 自动再循环在无需要用水的时候，系统可设定 “就绪”状态。每过1小时30分钟，泵会自动循环5分钟，以保持水质的稳定。参数规格流速：10-12 L/min；(2.6 ~ 3.0 gpm)产水水质：电阻率：18Ωcm(25°C) (嵌入式温度补偿电阻率计)有机物 (ppb)： 20，T.O.C (使用Organex-QTM TP超滤柱和反渗透供水)细菌 (cfu/ml)： 10(使用Durapore TP超滤柱)T.D.S. (ppm): 0.03硅酸盐 (ppm)： 0.01重金属 (ppm)： 0.01进水参数温度范围：5-40°C压力：最大1 bar (15 psi)，最小0.03 bar (0.5 psi)操作压力：最大5 bar (75 psi)管道接头进口/出口：1/2” ’Fast+Tite’ 卡套式接头，接1/2” 刚性管子尺寸宽度：1150 mm，45.25英寸高度：800 mm，31.5英寸深度(前－后)：220 mm，8.75英寸运输重量：30 kg, 66 lbs。运行重量(系统充满水)：63 kg, 140 lbs。

Huber Chili 配置 Pilot ONE Chili是全封闭式温控循环器——Unistat产品系列中的新型加热循环器。Chili机身紧凑，标配Professional级别的E-grade功能，具有优良的导热性能，拥有多种功能满足应用的高要求。Chili能够确保高准确、可重复的温度控制结果，加热时间短，温度范围广，且无需更换导热液体。与所有的Unistats设备一样，Chili配备新款Pilot ONE控制器，5.7英寸触控屏和便捷的菜单导航。 经济高效的Unistat技术保证最小化的操作成本和高效的能源管理。另一个优点是延长了导热液体的使用寿命。液压密封系统可防止油蒸气的形成和氧化。Chili是Huber产品系列中体积最小的加热循环器，可搭配Marlotherm作为导热液体。选配外部冷却盘管（未调节），可额外提供可控的制冷功能。由于其卓越的技术性能和低廉的采购价格，Chili是植物提取中蒸馏环节的理想温控器 新型多点触摸控制器Pilot ONE带有5.7寸触摸屏，图形用户界面和导航菜单。所有重要的运行参数和温度值都整齐地显示在触摸屏上。新的收藏夹菜单，一键式操作和技术术语使用户操作非常方便，就像使用智能手机一样。集成USB和以太网端口，可与计算机和网络连接，例如：用于远程控制和数据传输。

Huber Chili配置Pilot ONE 动态温度控制系统 / 循环恒温器 报价 数据表 3-2-2保修 下载 操作手册 附件 需求列表 Unistat 系列具有独特的热力学温度控制系统，一系列功能满足最高的要求。Unistat 技术保证控温精确和结果重复性好，加热和制冷时间短，温度范围宽。所有Unistats系列配有创新型Pilot ONE 控制器，带有5.7 寸彩色触摸屏，简洁的导航菜单。重要参数一目了然，以图线方式显示实时的温度变化。 Unistats 系列配有最新的泵技术，优化热传递。可调控泵确保最佳的循环和流量。有效防止玻璃反应釜因软启动导致损坏。Unistat 技术通过有效的能源管理将操作成本最小化。 延长导热油使用寿命。密封的液压系统防止导热油氧化。Unistats 系列操作安全，可在无人监视的状态下实现连续工作。 可持续监测工作状态，如果出现故障，紧急启动电路，关闭系统。 新型多点触摸控制器Pilot ONE带有5.7寸触摸屏，图形用户界面和导航菜单。所有重要的运行参数和温度值都整齐地显示在触摸屏上。新的收藏夹菜单，一键式操作和技术术语使用户操作非常方便，就像使用智能手机一样。集成USB和以太网端口，可与计算机和网络连接，例如：用于远程控制和数据传输。

动态光散射纳米粒度及zeta电位分析仪原理当激光照射到分散于液体介质中的微小颗粒时，由于颗粒的布朗运动引起散射光的频率偏移，导致散射光信号随时间发生动态变化，该变化的大小与颗粒的布朗运动速度有关，而颗粒的布朗运动速度又取决于颗粒粒径的大小，颗粒大布朗运动速度低，反之颗粒小布朗运动速度高，因此动态光散射纳米粒度及zeta电位分析仪技术是分析样品颗粒的散射光强随时间的涨落规律，使用光子探测器在固定的角度采集散射光，通过相关器进行自相关运算得到相关函数，再经过数学反演获得颗粒粒径信息。动态光散射纳米粒度及zeta电位分析仪性能特点1、高效的光路系统：采用固体激光器和一体化光纤技术集成的光路，充分满足空间相干性的要求，极大地提高了散射光信号的信噪比。2、高灵敏度光子探测器：采用计数型光电倍增管或雪崩光电二极管，对光子信号具有极高的灵敏度和信噪比； 采用边沿触发模式对光子进行计数，瞬间捕捉光子脉冲的变化。3、大动态范围高速光子相关器：采用高、低速通道搭配的结构设计光子相关器，有效解决了硬件资源与通道数量之间的矛盾，实现了大的动态范围，并保证了相关函数基线的稳定性。4、高精度温控系统：基于半导体制冷技术，采用自适应PID控制算法，使样品池温度控制精度达±0.1℃。5、数据筛选功能：引入分位数检测异常值的方法，鉴别受灰尘干扰的散射光数据，并剔除异常值，提高粒度测量结果的准确度。6、优化的反演算法：采用zui优拟合累积反演算法计算平均粒径及多分散系数，基于非负约束正则化算法反演颗粒粒度分布，测量结果的准确度和重复性都优于1%。纳米粒度及zeta电位分析仪测量纳米粒度及zeta电位分析仪是表征分散体系稳定性的重要指标zeta电位愈高，颗粒间的相互排斥力越大，胶体体系愈稳定， 因此通过电泳光散射法测量zeta电位可以预测胶体的稳定性。动态光散射纳米粒度及zeta电位分析仪原理带电颗粒在电场力作用下向电极反方向做电泳运动，单位电场强度下的电泳速度定义为电泳迁移率。颗粒在电泳迁移时，会带着紧密吸附层和部分扩散层一起移动，与液体之间形成滑动面，滑动面与液体内部的电位差即为zeta电位。Zeta电位与电泳迁移率的关系遵循 Henry方程，通过测量颗粒在电场中的电泳迁移率就能得出颗粒的zeta电位。纳米粒度及zeta电位分析仪性能特点1.利用光纤技术集成发射光路和接收光路，替代传统电泳光散射的分立光路，使参考光和散射光信号的传输不受灰尘和外界杂散光的干扰，有效地提高了信噪比和抗干扰能力。2.先对散射光信号进行频谱预分析，获取需要细化分析的频谱范围，然后在窄带范围内进行高分辨率的频谱细化分析，从而获得准确的散射光频移。3.基于双电层理论模型，求解颗粒的双电层厚度，获得准确的颗粒半径与双电层厚度的比值，再利用最小二乘拟合算法获得精确的Henry函数表达式，进而有效提高了纳米粒度及zeta电位分析仪的计算精度。Henry函数的取值：当双电层厚度远远小于颗粒的半径，即ka1，Henry函数近似为1.5。双电层厚度远远大于颗粒半径时，即ka1，Henry函数近似为1.0。使用最小二乘曲线拟合算法对Wiersema计算的精确Henry函数值进行拟合， 得到优化Henry函数表达式.强大易用的控制软件ZS-920系列纳米粒度及zeta电位分析仪的控制软件具有纳米颗粒粒度和zeta电位测量功能，一键式测量，自动调整散射光强， 无需用户干涉，自动优化光子相关器参数，以适应不同样品，让测量变得如此轻松。控制软件更具有标准化操作(SOP)功能，让不同实验室、不同实验员间的测量按照同一标准进行，测量结果更具有可比性。测量完成自动生成报表，以可视化的方式展示测量结果，让测量结果一目了然。动态光散射纳米粒度及zeta电位分析仪的技术指标

动态光散射纳米粒度及zeta电位分析仪原理当激光照射到分散于液体介质中的微小颗粒时，由于颗粒的布朗运动引起散射光的频率偏移，导致散射光信号随时间发生动态变化，该变化的大小与颗粒的布朗运动速度有关，而颗粒的布朗运动速度又取决于颗粒粒径的大小，颗粒大布朗运动速度低，反之颗粒小布朗运动速度高，因此动态光散射纳米粒度及zeta电位分析仪技术是分析样品颗粒的散射光强随时间的涨落规律，使用光子探测器在固定的角度采集散射光，通过相关器进行自相关运算得到相关函数，再经过数学反演获得颗粒粒径信息。动态光散射纳米粒度及zeta电位分析仪性能特点1、高效的光路系统：采用固体激光器和一体化光纤技术集成的光路，充分满足空间相干性的要求，极大地提高了散射光信号的信噪比。2、高灵敏度光子探测器：采用计数型光电倍增管或雪崩光电二极管，对光子信号具有极高的灵敏度和信噪比； 采用边沿触发模式对光子进行计数，瞬间捕捉光子脉冲的变化。3、大动态范围高速光子相关器：采用高、低速通道搭配的结构设计光子相关器，有效解决了硬件资源与通道数量之间的矛盾，实现了大的动态范围，并保证了相关函数基线的稳定性。4、高精度温控系统：基于半导体制冷技术，采用自适应PID控制算法，使样品池温度控制精度达±0.1℃。5、数据筛选功能：引入分位数检测异常值的方法，鉴别受灰尘干扰的散射光数据，并剔除异常值，提高粒度测量结果的准确度。6、优化的反演算法：采用优拟合累积反演算法计算平均粒径及多分散系数，基于非负约束正则化算法反演颗粒粒度分布，测量结果的准确度和重复性都优于1%。纳米粒度及zeta电位分析仪测量纳米粒度及zeta电位分析仪是表征分散体系稳定性的重要指标zeta电位愈高，颗粒间的相互排斥力越大，胶体体系愈稳定， 因此通过电泳光散射法测量zeta电位可以预测胶体的稳定性。动态光散射纳米粒度及zeta电位分析仪原理带电颗粒在电场力作用下向电极反方向做电泳运动，单位电场强度下的电泳速度定义为电泳迁移率。颗粒在电泳迁移时，会带着紧密吸附层和部分扩散层一起移动，与液体之间形成滑动面，滑动面与液体内部的电位差即为zeta电位。Zeta电位与电泳迁移率的关系遵循 Henry方程，通过测量颗粒在电场中的电泳迁移率就能得出颗粒的zeta电位。纳米粒度及zeta电位分析仪性能特点1.利用光纤技术集成发射光路和接收光路，替代传统电泳光散射的分立光路，使参考光和散射光信号的传输不受灰尘和外界杂散光的干扰，有效地提高了信噪比和抗干扰能力。2.先对散射光信号进行频谱预分析，获取需要细化分析的频谱范围，然后在窄带范围内进行高分辨率的频谱细化分析，从而获得准确的散射光频移。3.基于双电层理论模型，求解颗粒的双电层厚度，获得准确的颗粒半径与双电层厚度的比值，再利用小二乘拟合算法获得精确的Henry函数表达式，进而有效提高了纳米粒度及zeta电位分析仪的计算精度。Henry函数的取值：当双电层厚度远远小于颗粒的半径，即ka1，Henry函数近似为1.5。双电层厚度远远大于颗粒半径时，即ka1，Henry函数近似为1.0。使用小二乘曲线拟合算法对Wiersema计算的精确Henry函数值进行拟合， 得到优化Henry函数表达式.强大易用的控制软件ZS-920系列纳米粒度及zeta电位分析仪的控制软件具有纳米颗粒粒度和zeta电位测量功能，一键式测量，自动调整散射光强， 无需用户干涉，自动优化光子相关器参数，以适应不同样品，让测量变得如此轻松。控制软件更具有标准化操作(SOP)功能，让不同实验室、不同实验员间的测量按照同一标准进行，测量结果更具有可比性。测量完成自动生成报表，以可视化的方式展示测量结果，让测量结果一目了然。动态光散射纳米粒度及zeta电位分析仪的技术指标

纳米粒径及Zeta电位分析仪Nicomp Z3000介绍 NICOMP 380 Z3000纳米粒径与电位分析仪采用先进的设计理念优化结构设计，充分有效地融合了动态光散射(Dynamic Light Scattering, DLS)和电泳光散射(ELS)技术，即可以多角度（步长0.9μm ）检测分析液态纳米颗粒系的粒度及粒度分布，又可以小角度测量Zeta电位。粒度测试范围：粒度测试范围：0.3 nm – 10 μm。 NICOMP 380 Z3000纳米粒径与电位分析仪通过检测分析胶体颗粒的电泳迁移率测量Zeta电位。Zeta电位是对颗粒之间相互排斥或吸引力的强度的度量，是表征胶体分散系稳定性的重要指标，Zeta电位（正或负）越高，体系越稳定。Zeta电位表征的是粒子之间的排斥力。由于大部分的水相胶体体系是通过粒子之间的静电排斥力来保持稳定的，粒子之间的排斥力越大，粒子越不容易发生聚集，胶体也会越稳定。NICOMP 380 Z3000结合了动态光散射技术（DLS）和电泳光散射法（ELS），实现了同机测试纳米粒子分布和Zeta电势电位。 应用行业：磨料、化学机械抛光液、陶瓷、粘土、涂料、污染监测、化妆品、乳剂、食品、液体工作介质/油、墨水、 乳液、色漆、制药粉体、颜料、聚合物、蛋白质大分、二氧化硅以及自组装TiO_2纳米管(TNAs)等 自动滴定仪NICOMP 380 Z3000纳米粒径与电位分析仪在增加自动滴定模块后，可以一次性使用同一样品在不同PH值或不同离子浓度的条件下进行一系列测试，实现了在等电点测试的技术难题。 相位分析光散射法PALS（Phase Analyze Light Scattering）技术PSS 于 2004 年推出ling先的 PALS 技术，用相位（Phase）变化的分析取代原 先频谱的漂移，不仅使 Zeta 电位分析的精度及稳定性有了显著的提高，而且突破了水相体系的限制，对油、有机物体系同样能提供 Zeta 电位的分析。NICOMP 380 Z3000 纳米粒径与电位分析仪特点同机测试悬浮液体的粒径分布以及ZETA电势电位Zeta电位运用了多普勒电泳迁移原理以及zui新的相位分析散射法可以测试水相和有机相的样品检测范围宽广，亚微米颗粒均可以被检测样品测试量小高辨析率结果重现性好，误差小于1%100 % 样品可回收li用可搭载自动滴定仪, 自动稀释器和自动进样器无须校准一次性进样，避免交叉污染样品可选配大功率激光发生器以及jun品级APD雪崩二极管检测器来检测粒径小于1nm的颗粒 技术参数：粒径检测范围粒度分析：0.3 nm - 10 μmZeta电位检测范围粒度0.3 nm-100 μm分析方法粒径：动态光散射，Gaussian 单峰算法和 Nicomp 无约束自由拟合多峰算法；电位：电泳光散射(ELS)技术和相位分析光散射法pH值范围2 - 12温度范围0℃ - 90 ℃激光光源（可选）5 mW氦氖光源；15 mW, 35 mW,50 mW激光光源；100 mW激光光源（红）；20 mW，50 mW，100 mW激光光源（蓝/绿）检测角度（可选）90°或 多角度（10°- 175°，可选配）检测器（可选）PMT（光电倍增管），CMP（4倍增益放大）APD雪崩二极管（7倍增益放大）高浓度样品背散射175°背散射可用溶剂水相,绝大多数有机相样品池标准4 mL样品池（1cm×4cm，高透光，石英玻璃或塑料）；1mL样品池（玻璃，高透光率微量样品池，zui小进样量10μL）选配模块高浓度背散射；自动稀释模块，自动进样器，多角度检测器，高能激光发生器，高增益检测器，21CFR PART11规范软件，在线模块。分析软件Windows 兼容软件；符合 21 CFR Part 11 规范分析软件（可选）验证文件有电压220 - 240 VAC，50Hz 或100 - 120 VAC，60Hz计算机配置要求Windows XP及以上版本windows操作系统，40Gb硬盘，1G内存，光驱，USB接口，串口（COM口）外形尺寸56 cm * 41 cm * 24cm重量约26kg（与配置有关）电泳光散射法（ELS）与粒子的动电（Zeta）电位： ELS 是将电泳和光散射结合起来的一种新型光散射。它的光散射理论基础是 准弹性碰撞理论，只是在实验时在式样槽中多加一个外电场，带电粒子即以固定 速度向与带电粒子电性相反的电极方向移动，与之相应的动力光散射光谱产生多普勒漂移，这一漂移正比于带电粒子的移动速度，因此实验测得谱线的漂移，就 可以求得带电粒子的电泳速度，从而求得ζ-电位。相位分析光散射法PALS（Phase Analyze Light Scattering）技术PSS 于 2004 年推出ling先的 PALS 技术，用相位（Phase）变化的分析取代原 先频谱的漂移，不仅使 Zeta 电位分析的精度及稳定性有了显著的提高，而且突破了水相体系的限制，对油、有机物体系同样能提供 Zeta 电位的分析。动态光散射原理 Nicomp 380纳米粒径分析仪采用动态光散射（Dynamic Light Scattering, DLS）原理来获得范围在0.3 nm到10 μm的胶体体系的粒度分布。DLS是通过一定波长的聚焦激光束照射在悬浮于样品溶液的粒子上面，从而产生很多的散射光波。这些光波会互相干涉从而影响散射强度，散射强度随时间不断波动，二者之间形成一定的函数关系。粒子的扩散现象（或布朗运动）导致光强不断波动。光强的变化可以通过探测器检测得到。使用自相关器分析随时间而变的光强波动就可以得到粒度分布系数（Particle size distribution, PSD）。单一粒径分布的自相关函数是一个指数衰减函数，由此可以很容易通过衰减时间计算得到粒子扩散率。zui终，粒子的半径可以很容易地通过斯托克斯（Stokes-Einstein）方程式计算得到。如下是Nicomp 380纳米粒径分析仪的检测原理简图： 大部分样品一般都不均匀，往往会呈现多分散体系状态，即测出来的粒径正态分布范围会比较大，直观的呈现是粒径分布峰比较宽。自相关函数是由多组指数衰减函数综合组成，每一个指数衰减函数都会因指数衰减时间不同而存在差异，此时计算自相关函数就变得不再简单。Nicomp 380纳米粒径分析仪巧妙运用了去卷积算法来转化原始数据，从而得出zui接近真实值的粒度分布。Nicomp 尤其适合测试粒度分布复杂的样品体系，li用一组独特的去卷积算法将简单的高斯正态分布模拟成高分辨率的多峰分布模式，这种去卷积分析方法，即得到PSS粒度仪公司独有的粒径分布表达方法—Nicomp分布（Nicomp Distribution）。有些仪器的高斯分析模式可以使用基线调整参数的功能，以此来补偿测试环境太脏而超出仪器灵敏度的问题。高斯分析模式也可以允许使用者指定“固体重量模式”或者“囊泡重量模式”来分析带有小囊泡的胶体体系，比如脂质体。Nicomp分析方法是一种专li的高分辨率的去卷积算法，它首次在1990年提出并应用于分析和统计粒径分布。在历史上已经证明Nicomp分析方法能够精确分析非常复杂的双峰样品分散体系（比如 2：1比例），甚至是三峰样品分散体系。在科学研究中，找到粒子聚集分布的杂峰是非常有用的。 NICOMP 380 Z3000纳米粒径与电位分析仪广泛适用于检测悬浮在水相和有机相的颗粒物。

HORIBA SZ-100系列纳米颗粒分析仪在描述小颗粒物理性质方面是灵活的分析工具。根据不同的配置和应用程序可以完成颗粒度的分析，zeta电位的检测，分子量（Mw）以及第二维利系数（A2）的测定。SZ-100的典型应用包括：纳米颗粒，胶体，乳液以及亚微米悬浮液。 颗粒分析仪采用动态光散射原理（DLS）。根据样品的物理性质，动态测量范围为0.3 nm &ndash 8 µ m。检测范围的下限受到以下因素的影响：样品浓度、样品对光的散射强度以及大的杂质颗粒的存在。检测上限受样品浓度影响，因为DLS原理是颗粒的布朗运动而不是重力沉降。SZ-100以颗粒表面电荷特性来检测悬浮液的zeta电位。将样品注入一次性样品池，通过颗粒电泳迁移率的结果计算zeta电位。 zeta电位通常是样品分散稳定性的一个指标。Zeta电位的数值较大表明颗粒带电较多，斥力较大，较难发生团聚，溶液保持稳定。通常根据pH值或其他化学参数的改变检测zeta电位以便于设计可长时间保存的产品。相反地，发现zeta电位为零时（就是说，样品处于等电点），就要考虑选择最佳条件将颗粒进行絮凝和分离。SZ-100还可以用于检测蛋白质、聚合物及其他大分子的分子量和第二维利系数。用户准备几个已知浓度的溶液，然后使用系统的静态光散射模式绘制Debye曲线，从而计算出Mw和A2。特征将粒度、zeta电位、分子量及第二维利系数的检测集于一身宽检测范围，宽浓度范围双光路双角度粒径测量（90° 和173° ）多重粒径测量模式用于小颗粒和微弱散射光用于粒径和zeta电位检测的微量样品池自动滴定仪：可用于zeta电位测量过程中pH值的自动滴定

梓梦科技动态光散射纳米粒度及zeta电位分析仪原理当激光照射到分散于液体介质中的微小颗粒时，由于颗粒的布朗运动引起散射光的频率偏移，导致散射光信号随时间发生动态变化，该变化的大小与颗粒的布朗运动速度有关，而颗粒的布朗运动速度又取决于颗粒粒径的大小，颗粒大布朗运动速度低，反之颗粒小布朗运动速度高，因此动态光散射纳米粒度及zeta电位分析仪技术是分析样品颗粒的散射光强随时间的涨落规律，使用光子探测器在固定的角度采集散射光，通过相关器进行自相关运算得到相关函数，再经过数学反演获得颗粒粒径信息。动态光散射纳米粒度及zeta电位分析仪性能特点1、高效的光路系统：采用固体激光器和一体化光纤技术集成的光路，充分满足空间相干性的要求，极大地提高了散射光信号的信噪比。2、高灵敏度光子探测器：采用计数型光电倍增管或雪崩光电二极管，对光子信号具有极高的灵敏度和信噪比； 采用边沿触发模式对光子进行计数，瞬间捕捉光子脉冲的变化。3、大动态范围高速光子相关器：采用高、低速通道搭配的结构设计光子相关器，有效解决了硬件资源与通道数量之间的矛盾，实现了大的动态范围，并保证了相关函数基线的稳定性。4、高精度温控系统：基于半导体制冷技术，采用自适应PID控制算法，使样品池温度控制精度达±0.1℃。5、数据筛选功能：引入分位数检测异常值的方法，鉴别受灰尘干扰的散射光数据，并剔除异常值，提高粒度测量结果的准确度。6、优化的反演算法：采用优拟合累积反演算法计算平均粒径及多分散系数，基于非负约束正则化算法反演颗粒粒度分布，测量结果的准确度和重复性都优于1%。纳米粒度及zeta电位分析仪测量纳米粒度及zeta电位分析仪是表征分散体系稳定性的重要指标zeta电位愈高，颗粒间的相互排斥力越大，胶体体系愈稳定， 因此通过电泳光散射法测量zeta电位可以预测胶体的稳定性。动态光散射纳米粒度及zeta电位分析仪原理带电颗粒在电场力作用下向电极反方向做电泳运动，单位电场强度下的电泳速度定义为电泳迁移率。颗粒在电泳迁移时，会带着紧密吸附层和部分扩散层一起移动，与液体之间形成滑动面，滑动面与液体内部的电位差即为zeta电位。Zeta电位与电泳迁移率的关系遵循 Henry方程，通过测量颗粒在电场中的电泳迁移率就能得出颗粒的zeta电位。纳米粒度及zeta电位分析仪性能特点1.利用光纤技术集成发射光路和接收光路，替代传统电泳光散射的分立光路，使参考光和散射光信号的传输不受灰尘和外界杂散光的干扰，有效地提高了信噪比和抗干扰能力。2.先对散射光信号进行频谱预分析，获取需要细化分析的频谱范围，然后在窄带范围内进行高分辨率的频谱细化分析，从而获得准确的散射光频移。3.基于双电层理论模型，求解颗粒的双电层厚度，获得准确的颗粒半径与双电层厚度的比值，再利用小二乘拟合算法获得精确的Henry函数表达式，进而有效提高了纳米粒度及zeta电位分析仪的计算精度。Henry函数的取值：当双电层厚度远远小于颗粒的半径，即ka1，Henry函数近似为1.5。双电层厚度远远大于颗粒半径时，即ka1，Henry函数近似为1.0。使用小二乘曲线拟合算法对Wiersema计算的精确Henry函数值进行拟合， 得到优化Henry函数表达式.强大易用的控制软件ZS-920系列纳米粒度及zeta电位分析仪的控制软件具有纳米颗粒粒度和zeta电位测量功能，一键式测量，自动调整散射光强， 无需用户干涉，自动优化光子相关器参数，以适应不同样品，让测量变得如此轻松。控制软件更具有标准化操作(SOP)功能，让不同实验室、不同实验员间的测量按照同一标准进行，测量结果更具有可比性。测量完成自动生成报表，以可视化的方式展示测量结果，让测量结果一目了然。动态光散射纳米粒度及zeta电位分析仪的技术指标

动态光散射纳米粒度及zeta电位分析仪技术是分析样品颗粒的散射光强随时间的涨落规律，使用光子探测器在固定的角度采集散射光，通过相关器进行自相关运算得到相关函数，再经过数学反演获得颗粒粒径信息。纳米粒度及Zeta电位分析仪是一种用于环境科学技术及资源科学技术领域的物理性能测试仪器，简单、方便而且准确，主要作用就是测量胶体颗粒表面电位电势。其独特的开放式样品槽设计与频谱漂移分析技术相结合，使其具有极高的分辨率，足以分辨等电点附近的多峰电泳分布情况。　　仪器原理　　带电颗粒在电场力作用下向电极反方向做电泳运动，单位电场强度下的电泳速度定义为电泳迁移率。颗粒在电泳迁移时，会带着紧密吸附层和部分扩散层一起移动，与液体之间形成滑动面，滑动面与液体内部的电位差即为zeta电位。Zeta电位与电泳迁移率的关系遵循Henry方程，通过测量颗粒在电场中的电泳迁移率就能得出颗粒的zeta电位。　　动态光散射纳米粒度及zeta电位分析仪优势　　1、高效的光路系统：采用固体激光器和一体化光纤技术集成的光路，充分满足空间相干性的要求，极大地提高了散射光信号的信噪比。　　2、数据筛选功能：引入分位数检测异常值的方法，鉴别受灰尘干扰的散射光数据，并剔除异常值，提高粒度测量结果的准确度。　　3、优化的反演算法：采用拟合累积反演算法计算平均粒径及多分散系数，基于非负约束正则化算法反演颗粒粒度分布，测量结果的准确度和重复性都优于1%。　　4、高精度温控系统：基于半导体制冷技术，采用自适应PID控制算法，使样品池温度控制精度达±0.1℃。　　5、高灵敏度光子探测器：采用计数型光电倍增管或雪崩光电二极管，对光子信号具有极高的灵敏度和信噪比；采用边沿触发模式对光子进行计数，瞬间捕捉光子脉冲的变化。　　6、大动态范围高速光子相关器：采用高、低速通道搭配的结构设计光子相关器，有效解决了硬件资源与通道数量之间的矛盾，实现了大的动态范围，并保证了相关函数基线的稳定性。　　纳米粒度及zeta电位分析仪测量　　纳米粒度及zeta电位分析仪是表征分散体系稳定性的重要指标zeta电位愈高，颗粒间的相互排斥力越大，胶体体系愈稳定，因此通过电泳光散射法测量zeta电位可以预测胶体的稳定性。　　纳米粒度及zeta电位分析仪性能特点　　1、利用光纤技术集成发射光路和接收光路，替代传统电泳光散射的分立光路，使参考光和散射光信号的传输不受灰尘和外界杂散光的干扰，有效地提高了信噪比和抗干扰能力。　　2、先对散射光信号进行频谱预分析，获取需要细化分析的频谱范围，然后在窄带范围内进行高分辨率的频谱细化分析，从而获得准确的散射光频移。　　3、基于双电层理论模型，求解颗粒的双电层厚度，获得准确的颗粒半径与双电层厚度的比值，再利用最小二乘拟合算法获得精确的Henry函数表达式，进而有效提高了纳米粒度及zeta电位分析仪的计算精度。　　Henry函数的取值：　　当双电层厚度远远小于颗粒的半径，即ka1，Henry函数近似为1.5。双电层厚度远远大于颗粒半径时，即ka1，Henry函数近似为1.0。使用最小二乘曲线拟合算法对Wiersema计算的精确Henry函数值进行拟合，得到优化Henry函数表达式。　　强大易用的控制软件　　ZS-920系列纳米粒度及zeta电位分析仪的控制软件具有纳米颗粒粒度和zeta电位测量功能，一键式测量，自动调整散射光强，无需用户干涉，自动优化光子相关器参数，以适应不同样品，让测量变得如此轻松。控制软件更具有标准化操作(SOP)功能，让不同实验室、不同实验员间的测量按照同一标准进行，测量结果更具有可比性。测量完成自动生成报表，以可视化的方式展示测量结果，让测量结果一目了然。　　注意事项　　1、测量粒径前，需查知样品分散剂的粘度、折光指数（Refractive Index）；　　2、用卷纸轻轻点拭样品池外侧水滴，切勿用力擦拭，以防将样品池划伤，如发现样品池有划纹，需更换；　　3、手尽量避免触摸样品池下端，否则会影响光路； 　　4、一定要去除样品池内的气泡；　　5、实验室提供的样品池为聚苯乙烯材质，不可用于测量有机分散体系；　　6、实验室提供的样品池,测量温度不可高于50摄氏度；　　7、如需测量有机分散体系或高于50摄氏度，请自带石英比色皿；　　8、使用滤纸过滤时，舍去过滤后的d一滴样品，以防滤纸上杂质进入样品池；　　9、测量时需自带：卷纸、多个注射器、多个离心管（用于稀释样品）。

适用范围：大米、面粉、玉米、小麦、豆粕、麸皮、花生粕、米糠、玉米蛋白粉、玉米胚芽粕、喷浆玉米皮、DDGS、膨化玉米、植物油、成品饲料等。【检验原理】本产品应用荧光定量免疫层析技术。在检测卡的反应区预先包被C线和T线，T线与C线的荧光信号比值和待测样本中的目标物含量成反比。通过与配套荧光免疫分析仪内置的标准曲线对比，定量检测目标物含量。【产品性能指标】1．定量检测范围：玉米赤霉烯酮：0～1000μg/kg2．准确度：80%～120%3．精密度：CV≤15%

动态光散射纳米粒度及zeta电位分析仪技术是分析样品颗粒的散射光强随时间的涨落规律，使用光子探测器在固定的角度采集散射光，通过相关器进行自相关运算得到相关函数，再经过数学反演获得颗粒粒径信息。纳米粒度及Zeta电位分析仪是一种用于环境科学技术及资源科学技术领域的物理性能测试仪器，简单、方便而且准确，主要作用就是测量胶体颗粒表面电位电势。其独特的开放式样品槽设计与频谱漂移分析技术相结合，使其具有极高的分辨率，足以分辨等电点附近的多峰电泳分布情况。　　仪器原理　　带电颗粒在电场力作用下向电极反方向做电泳运动，单位电场强度下的电泳速度定义为电泳迁移率。颗粒在电泳迁移时，会带着紧密吸附层和部分扩散层一起移动，与液体之间形成滑动面，滑动面与液体内部的电位差即为zeta电位。Zeta电位与电泳迁移率的关系遵循Henry方程，通过测量颗粒在电场中的电泳迁移率就能得出颗粒的zeta电位。　　动态光散射纳米粒度及zeta电位分析仪优势　　1、高效的光路系统：采用固体激光器和一体化光纤技术集成的光路，充分满足空间相干性的要求，极大地提高了散射光信号的信噪比。　　2、数据筛选功能：引入分位数检测异常值的方法，鉴别受灰尘干扰的散射光数据，并剔除异常值，提高粒度测量结果的准确度。　　3、优化的反演算法：采用拟合累积反演算法计算平均粒径及多分散系数，基于非负约束正则化算法反演颗粒粒度分布，测量结果的准确度和重复性都优于1%。　　4、高精度温控系统：基于半导体制冷技术，采用自适应PID控制算法，使样品池温度控制精度达±0.1℃。　　5、高灵敏度光子探测器：采用计数型光电倍增管或雪崩光电二极管，对光子信号具有极高的灵敏度和信噪比；采用边沿触发模式对光子进行计数，瞬间捕捉光子脉冲的变化。　　6、大动态范围高速光子相关器：采用高、低速通道搭配的结构设计光子相关器，有效解决了硬件资源与通道数量之间的矛盾，实现了大的动态范围，并保证了相关函数基线的稳定性。　　纳米粒度及zeta电位分析仪测量　　纳米粒度及zeta电位分析仪是表征分散体系稳定性的重要指标zeta电位愈高，颗粒间的相互排斥力越大，胶体体系愈稳定，因此通过电泳光散射法测量zeta电位可以预测胶体的稳定性。　　纳米粒度及zeta电位分析仪性能特点　　1、利用光纤技术集成发射光路和接收光路，替代传统电泳光散射的分立光路，使参考光和散射光信号的传输不受灰尘和外界杂散光的干扰，有效地提高了信噪比和抗干扰能力。　　2、先对散射光信号进行频谱预分析，获取需要细化分析的频谱范围，然后在窄带范围内进行高分辨率的频谱细化分析，从而获得准确的散射光频移。　　3、基于双电层理论模型，求解颗粒的双电层厚度，获得准确的颗粒半径与双电层厚度的比值，再利用最小二乘拟合算法获得精确的Henry函数表达式，进而有效提高了纳米粒度及zeta电位分析仪的计算精度。　　Henry函数的取值：　　当双电层厚度远远小于颗粒的半径，即ka1，Henry函数近似为1.5。双电层厚度远远大于颗粒半径时，即ka1，Henry函数近似为1.0。使用最小二乘曲线拟合算法对Wiersema计算的精确Henry函数值进行拟合，得到优化Henry函数表达式。　　强大易用的控制软件　　ZS-920系列纳米粒度及zeta电位分析仪的控制软件具有纳米颗粒粒度和zeta电位测量功能，一键式测量，自动调整散射光强，无需用户干涉，自动优化光子相关器参数，以适应不同样品，让测量变得如此轻松。控制软件更具有标准化操作(SOP)功能，让不同实验室、不同实验员间的测量按照同一标准进行，测量结果更具有可比性。测量完成自动生成报表，以可视化的方式展示测量结果，让测量结果一目了然。　　注意事项　　1、测量粒径前，需查知样品分散剂的粘度、折光指数（Refractive Index）；　　2、用卷纸轻轻点拭样品池外侧水滴，切勿用力擦拭，以防将样品池划伤，如发现样品池有划纹，需更换；　　3、手尽量避免触摸样品池下端，否则会影响光路； 　　4、一定要去除样品池内的气泡；　　5、实验室提供的样品池为聚苯乙烯材质，不可用于测量有机分散体系；　　6、实验室提供的样品池,测量温度不可高于50摄氏度；　　7、如需测量有机分散体系或高于50摄氏度，请自带石英比色皿；　　8、使用滤纸过滤时，舍去过滤后的d一滴样品，以防滤纸上杂质进入样品池；　　9、测量时需自带：卷纸、多个注射器、多个离心管（用于稀释样品）。

产品描述 2 Tier Jar Mill (115V / 50-60Hz)型号: LC-92 2 Tier Jar Mill (230V / 50Hz)型号: LC-92FLC-92罐米尔斯是两层，地板模型，并容纳一个或两个罐在操作过程中氯丁橡胶辊。最大进给容量为5.6L，焊接钢框架和滚子链传动。密封球轴承使用寿命长。LC-92型号为115V/50-60Hz或230V/50Hz。这些单位使用罗阿洛占地面积瓷或高铝磨罐. 研磨罐和研磨介质需要与JAR米尔斯单独出售。功能特色全封闭直流电机固态辊速控制转速范围在20～300转/分之间1m m partle topsize；final size 1-50微米2in (50.8mm) diameter neoprene rollers 包含项目：2层罐磨配饰磨罐研磨介质

产品描述 3 Tier Jar Mill (115V / 50-60Hz)型号: LC-95 3 Tier Jar Mill (230V / 50Hz)型号: LC-95F这个LC-95缸米尔斯系列是三层楼模型单元。它们可容纳一个至六个罐，以氯丁橡胶辊为中心，最大进给能力为84L。由焊接钢框架构成，这些单元具有滚子链传动和密封滚珠轴承，使用寿命长。型号有115V/50-60Hz或230V/50Hz。LC-95系列用途罗勒克斯瓷或高铝研磨罐。研磨罐和研磨介质需要与JAR米尔斯单独出售。功能特色全封闭直流电动机20~300转/分的可调速度设置2in（50.8mm）直径氯丁橡胶辊保持磨罐为中心1m m partle topsize；final size 1-50微米包含项目：3层罐磨配饰磨罐研磨介质

实验原理AFM是SPM家族中应用领域最为广泛的表面观察与研究工具之一。其工作原理基于原子之间的相互作用力。当一根十分尖锐的微探针在纵向充分逼近样品表面至数纳米甚至更小间距时，微探针尖端的原子和样品表面的原子之间将产生相互作用的原子力。原子力的大小与间距之间存在一定的曲线关系。在间距较大的起始阶段，原子力表现为引力，随着间距的进一步减小，由于价电子云的相互重叠和两个原子核的电荷间的相互作用，原子力又转而表现为排斥力。这种排斥力随着间距的缩短而急剧增大。AFM正是利用原子力与间距之间的这些关系，通过检测原子间的作用力而获得样品表面的微观形貌的。仪器概述AFM采用对微弱力极其敏感的微悬臂作为力传感器──微探针。微悬臂一端固定，另一端置有一与微悬臂平面垂直的金字塔状微针尖。当针尖与样品之间的距离逼近到一定程度时，两者间将产生相互作用的原子力，其中切向力（摩擦力）Ft使微悬臂扭曲，法向（纵向）力Fn将推动微悬臂偏转。我们所关心的主要是纵向力Fn，它与针尖──样品间距成一定的对应关系，即与样品表面的起伏具有对应关系。微悬臂的偏转量十分微小，无法进行直接检测，采用光学方法将偏转量放大，可推知微悬臂偏转量（即原子力）的大小，最终获得样品表面的微观形貌。仪器特点特有的卧式探头卧式AFM探头设计，使原子力作用方向与重力方向垂直而互不干扰；降低了探头的整体重心；克服了原有粗调与微调逼近机构的垂直蠕动；具有独特的卧式可视化光路。探头及仪器性能更加稳定和优越。稳定的三轴压电扫描器采用互相正交的三轴压电陶瓷扫描控制器，X、Y、Z三轴压电陶瓷之间互不耦合，可保证扫描图像不因耦合而失真；扫描器具有更好的扫描线性和独立性、更高的强度和刚度，兼具更强的扫描驱动力，能同时适用于较小与较大、较轻与较重样品的扫描成像。优化的检测与控制系统采用优化的微纳米扫描与反馈控制电路系统，配以多路高精度A/D&D/A控制接口，可获得更高的扫描分辨率、更好的重复性和更佳的图像质量。完善的软件界面与功能功能强大、界面友好，可适用于Windows XP/Win7/Win8/Win10等操作系统。一般操作者均可轻松而熟练地掌握，只需点击鼠标，即可完成从图像扫描到图像处理及数据信息计算的全部操作。可用鼠标任意选择局部扫描区域，实现图像平移、定位和缩放；可设定扫描次数并自动控制扫描停止；具有实现X、Y方向的面扫描和线扫描的功能；可获得样品表面的纳米级三维形貌结构和截面线；高质量的彩色/黑白平面图像显示与三维立体图像显示；具有图像的二维和三维纳米标尺标注功能及粒径测量功能；具备纳米级表面微观粗糙度的统计及计算功能；可精确测定样品表面的微纳米级台阶高度和深度；完善的图像处理功能，包括裁剪、粘贴、旋转、对比调节、亮度调节、颜色调整、背景色调整、图像平滑、滤波等。简单便捷的仪器操作AFM的操作十分简单和便捷，一般操作人员即可完成，无需专人操作和维护。安装探针、安装样品、粗调和微调进样、图像扫描、图像存储等操作，均可在1分钟内完成。特别适用于科学研究、教学实验及产品检测。高稳定性与抗干扰能力AFM既可在良好的实验条件下完美工作，也可在有一般实验室、普通桌面、有轻微振动、有环境干扰、有光照等条件下正常运作，快速扫描观察各种微纳米样品，获得理想的图像和微纳米结构信息。具备更好的稳定性和抗震性，更强的抗（光、电、磁等）干扰能力，更快的扫描速度（最快1幅图像/1~6秒，作为对比，进口仪器的扫描速率一般为1幅图像/10~20分钟甚至更慢）。高适用性广泛应用领域可同时适用于科学研究、本科生和研究生的教学实验及纳米技术产品的检测，广泛适用于各种金属/非金属、导体/非导体、磁性/非磁性材料样品的扫描检测。对被测材料样品无特殊要求，免去繁琐的样品制备过程，可直接扫描获得微纳米结构信息。实验内容与典型实验数据部分扫描测试样品的AFM图像 部件列表描述数量原子力显微镜探头1控制机箱1直流高压电源1A/D&D/A控制接口卡1AFM微探针15组60 tipsUSB光学显微镜1一体机, 含AFM扫描控制软件1样品5剪刀、镊子、启子、放大镜等工具1

? 自动化工业级原子力显微镜，带来线上晶片检查和测量Park Systems推出业内噪声最低的全自动化工业级原子力显微镜——XE-Wafer。该自动化原子力显微镜系统旨在为全天候生产线上的亚米级晶体（尺寸200 mm和300 mm）提供线上高分辨率表面粗糙度、沟槽宽度、深度和角度测量。借助True Non-Contact™ 模式，即便是在结构柔软的样品，例如光刻胶沟槽表面，XE-Wafer可以实现无损测量。? 现有问题目前，硬盘和半导体业的工艺工程师使用成本高昂的聚焦离子束(FIB)/扫瞄式电子显微镜(SEM)获取纳米级的表面粗糙度、侧壁角度和高度。不幸的是，FIB/SEM会破坏样品，且速度慢，成本高昂。? 解决方案NX-Wafer原子力显微镜实现全自动化的在线200 mm & 300 mm晶体表面粗糙度、深度和角度测量，且速度快、精度高、成本低。? 益处NX-Wafer让无损线上成像成为可能，并实现多位置的直接可重复高分辨率测量。更高的精确度和线宽粗糙度监控能力让工艺工程师得以制造性能更高的仪器，且成本显著低于FIB/SEM。? 应用l 串扰消除实现无伪影测量 独特的解耦XY轴扫描系统提供平滑的扫描平台 平滑的线性XY轴扫描将伪影从背景曲率中消除 精确的特征特亮和行业领先的仪表统计功能 卓越的工具匹配l CD(临界尺寸)测量出众的精确且精密纳米测量在提高效率的同时，也为重复性与再现性研究带来最高的分辨率和最低的仪表西格玛值。l 精密的纳米测量媒介和基体亚纳米粗糙度测量凭借行业最低的噪声和创新的True Non-ContactTM模式，XE-Wafer在最平滑的媒介和基体样品上实现最精确的粗糙度测量。l 精确的角度测量Z轴扫描正交性的高精度校正让角度测量时精确度小于0.1度。l 沟槽测量独有的True Non-Contact模式能够线上无损测量小至45 nm的腐蚀细节。l 精确的硅通孔化学机械研磨轮廓测量借助低系统噪声和平滑轮廓扫描功能，Park Systems实现了前所未有的硅通孔化学机械研磨(TSV CMP)轮廓测量。? Park NX-Wafer特点l 全自动图形识别借助强大的高分辨率数字CCD镜头和图形识别软件，Park NX-Wafer让全自动图形识别和对准成为可能。l 自动测量控制自动化软件让NX-Wafer的操作不费吹灰之力。测量程序针对悬臂调谐、扫描速率、增益和点参数进行优化，为您提供多位置分析。l 真正非接触模式和更长的探针使用寿命得益于专利的高强度Z轴扫描系统，XE系列原子力显微镜让真正非接触模式成为可能。真正非接触模式借助了原子间的相互吸引力，而非相互排斥力。因此，在真正非接触模式下，探针与样品间的距离可以保持在几纳米，从而盖上原子力显微镜的图像质量，保证探针尖端的锋利度，延长使用寿命。l 解耦的柔性XY轴与Z轴扫描器Z轴扫描器与XY轴扫描器完全解耦。XY轴扫描器在水平面移动样品，而Z轴扫描器则在垂直方向移动探针。该设置可实现平滑的XY轴测量，让平面外移动降到最低。此外，XY轴扫描的正交性和线性也极为出色。l 行业最低的本底噪声为了检测最小的样品特征和成像最平的表面，Park推出行业本底噪声最低（）的显微镜。本底噪声是在“零扫描”情况下确定的。当悬臂与样品表面接触时，在如下情况下测量系统噪声： 0 nm x 0 nm扫描范围，停在一个点 0.5增益，接触模式256 x 256像素l 选项高通量自动化自动探针更换(ATX)借助自动探针更换功能，自动测量程序能够无缝衔接。该系统会根据参考图形测量数据，自动校正悬臂的位置和优化测量设定。创新的磁性探针更换功能，成功率高达99%，高于传统的真空技术。设备前端模块(EFEM)实现自动晶体处理您可以为NX-Wafer加装自动晶片装卸器(EFEM或FOUP或其他)。高精度无损晶片装卸机械臂能够百分百保证XE-Wafer用户享受到快速且稳定的自动化晶片测量服务。长距离移动平台，助力化学机械研磨轮廓扫描该平台带有专有的用户界面，可支持自动化学机械研磨轮廓扫描和分析。平面外运动(OPM)在样品为5 mm时小于2 nm；10 mm时小于5 nm；50 mm时小于100 nm离子化系统离子化系统可有效地消除静电电荷。由于系统随时可生产和位置正离子和负离子之间的理想平衡，便可以稳定地离子化带电物体，且不会污染周边区域。它也可以消除样品处理过程中意外生成的静电电荷。

自动化工业级原子力显微镜，带来线上晶片检查和测量Park Systems推出业内超低噪声的全自动化工业级原子力显微镜——XE-Wafer。该自动化原子力显微镜系统旨在为全天候生产线上的亚米级晶体（尺寸200 mm和300 mm）提供线上高分辨率表面粗糙度、沟槽宽度、深度和角度测量。借助True Non-Contact&trade 模式，即便是在结构柔软的样品，例如光刻胶沟槽表面，XE-Wafer可以实现无损测量。现有问题目前，硬盘和半导体业的工艺工程师使用成本高昂的聚焦离子束(FIB)/扫瞄式电子显微镜(SEM)获取纳米级的表面粗糙度、侧壁角度和高度。不幸的是，FIB/SEM会破坏样品，且速度慢，成本高昂。解决方案NX-Wafer原子力显微镜实现全自动化的在线200 mm & 300 mm晶体表面粗糙度、深度和角度测量，且速度快、精度高、成本低。益处NX-Wafer让无损线上成像成为可能，并实现多位置的直接可重复高分辨率测量。更高的精确度和线宽粗糙度监控能力让工艺工程师得以制造性能更高的仪器，且成本显著低于FIB/SEM。* 应用串扰消除实现无伪影测量 独特的解耦XY轴扫描系统提供平滑的扫描平台 平滑的线性XY轴扫描将伪影从背景曲率中消除 精确的特征仪表统计功能CD(临界尺寸)测量出众的精确且精密纳米测量在提高效率的同时，也为重复性与再现性研究带来高的分辨率和低的仪表西格玛值。* 精密的纳米测量媒介和基体亚纳米粗糙度测量凭借行业超低噪声和创新的True Non-ContactTM模式，XE-Wafer在最平滑的媒介和基体样品上实现最精确的粗糙度测量。精确的角度测量Z轴扫描正交性的高精度校正让角度测量时精确度小于0.1度。沟槽测量独有的True Non-Contact模式能够线上无损测量小至45 nm的腐蚀细节。精确的硅通孔化学机械研磨轮廓测量借助低系统噪声和平滑轮廓扫描功能，Park Systems实现了前所未有的硅通孔化学机械研磨(TSV CMP)轮廓测量。 Park NX-Wafer特点全自动图形识别借助强大的高分辨率数字CCD镜头和图形识别软件，Park NX-Wafer让全自动图形识别和对准成为可能。自动测量控制自动化软件让NX-Wafer的操作不费吹灰之力。测量程序针对悬臂调谐、扫描速率、增益和点参数进行优化，为您提供多位置分析。真正非接触模式和更长的探针使用寿命得益于高强度Z轴扫描系统，XE系列原子力显微镜让真正非接触模式成为可能。真正非接触模式借助了原子间的相互吸引力，而非相互排斥力。 因此，在真正非接触模式下，探针与样品间的距离可以保持在几纳米，从而盖上原子力显微镜的图像质量，保证探针针尖的锋利度，延长使用寿命。 解耦的柔性XY轴与Z轴扫描器Z轴扫描器与XY轴扫描器完全解耦。XY轴扫描器在水平面移动样品，而Z轴扫描器则在垂直方向移动探针。该设置可实现平滑的XY轴测量，让平面外移动降到超低。此外，XY轴扫描的正交性和线性也极为出色。行业超低的本底噪声为了检测最小的样品特征和成像最平的表面，Park推出行业本底噪声超低（ 0.5A）的显微镜。本底噪声是在“零扫描”情况下确定的。当悬臂与样品表面接触时，在如下情况下测量系统噪声： 0 nm x 0 nm扫描范围，停在一个点 0.5增益，接触模式 256 x 256像素选项高通量自动化自动探针更换(ATX)借助自动探针更换功能，自动测量程序能够无缝衔接。该系统会根据参考图形测量数据，自动校正悬臂的位置和优化测量设定。创新的磁性探针更换功能，成功率高达99%，高于传统的真空技术。设备前端模块(EFEM)实现自动晶体处理您可以为NX-Wafer加装自动晶片装卸器(EFEM或FOUP或其他)。高精度无损晶片装卸机械臂能够百分百保证XE-Wafer用户享受到快速且稳定的自动化晶片测量服务。 长距离移动平台，助力化学机械研磨轮廓扫描该平台带有专有的用户界面，可支持自动化学机械研磨轮廓扫描和分析。平面外运动(OPM)在样品为5 mm时小于2 nm；10 mm时小于5 nm；50 mm时小于100 nm离子化系统离子化系统可有效地消除静电电荷。由于系统随时可生产和位置正离子和负离子之间的理想平衡，便可以稳定地离子化带电物体，且不会污染周边区域。它也可以消除样品处理过程中意外生成的静电电荷。

XLW(B)磁卡磁心剥离力测试仪 电池片剥离试验机适用于塑料薄膜、复合膜、胶粘剂、胶粘带、医用贴剂、保护膜、橡胶、人造革、纸张纤维等产品的抗拉强度、剥离强度、变形率、拉断力、剥离力、开启力等性能测试。XLW(B)磁卡磁心剥离力测试仪 电池片剥离试验机主要技术特征：1级测试精度有效地保证了测试结果的准确性 拉伸、剥离两种独立的测试程序，满足用户不同的试验需求每次试验均给出测试数据的最大值、最小值、和平均值，且提供成组统计分析功能 配备精密的伸长量和伸长率读数标尺，轻松获取试样的形变率参数 多种规格的力值传感器以及七档试验速度选择，为用户不同试验条件的测试提供了便利 微电脑控制、PVC操作面板、LED数码显示，方便用户快速操作行程保护、过载保护、故障提示和自动清零的智能设计，保证用户的操作安全 配备RS232数据接口和微型打印机接口，方便系统与电脑的外部连接和数据传输 通过搭配Lystem&trade 实验室数据共享系统，试验数据与设备信息仅需简单设置与操作即可上报，轻松实现实验室测试数据的集中化和系统化管理XLW(B)磁卡磁心剥离力测试仪 电池片剥离试验机测试原理：将试样装夹在夹具的两个夹头之间，两夹头做相对运动，通过位于动夹头上的力值传感器和机器内置的位移传感器，采集到试验过程中的力值变化和位移变化，从而计算出试样的拉伸、剥离、伸长率等性能指标。执行标准：GB/T 4850-2000、 GB 8808、 GB/T 1040.3-2006、GB/T 17200、 GB/T 2790、GB/T 2791、GB/T 2792、QB/T 2358XLW(B)磁卡磁心剥离力测试仪 电池片剥离试验机技术指标：规格：200N（可选配30N 50N 100N其一） 精度：1级 试验速度：50 100 150 200 250 300 500 mm/min 试验数量：1件试样宽度：30 mm（标配夹具） 50 mm（可选夹具） 试样夹持：手动行程：600 mm 外形尺寸：450mm(L)×580mm(W)×1100mm(H)电源：AC 220V 50Hz 净重：61kg XLW(B)磁卡磁心剥离力测试仪 电池片剥离试验机仪器配置：标准配置：主机、专业软件、通信电缆、通用夹具选购件：传感器、微型打印机、通信电缆、标准压辊、试验板、取样刀、低速解卷装置、夹具 了解关于更多相关仪器信息，您可以登陆济南兰光公司网站查看具体信息或致电咨询。Labthink兰光期待与行业中的企事业单位增进技术交流与合作。

尺寸控制设备KaliX 通过人工放料，尺寸控制设备KaliX适合于各种形状零件尺寸的自动无接触式测量。KaliX能够测量单个或多个零件的尺寸，无论是O型圈或是异形件。KaliX安装了一个高达500万像素Firewire相机，并且其尺寸测量范围达到160x160mm。它拥有双远心镜头以及平行光束以保证其避免图像失真。该设备的软件可以保存每一个产品的参数信息，并随时调用。kalix适合于测量橡胶垫片，塑料制品，金属零件及绝大多数在其测量尺寸范围内的其他零件。

玉米赤霉烯酮检测仪深圳市芬析仪器制造有限公司生产的CSY-JAZ玉米赤霉烯酮检测仪能够快速检测粮食、饲料、谷物、食用油、调味品等食品中玉米赤霉烯酮检测仪含量，CSY-JAZ玉米赤霉烯酮检测仪适用于粮油监测中心、粮油饲料生产加工、食品加工贸易、畜禽养殖户自查、工商质监部门用于市场快速筛查等一、产品名称：玉米赤霉烯酮检测仪二、产品型号：CSY-JAZ三、技术参数：1、测试条宽度：2-6mm（支持定制）2、屏幕：真彩触摸屏3、检测结果：半定量、定量检测结果可排除无效检测结果，能对数据结果、原始扫描曲线进行保存和打印浓度结果和浓度单位4、检测项目参数：用户可以从仪器功能选项中读取仪器的配置参数5、检测结果报告：可准确报告出被测物质的浓度，可在触摸屏上显示，可通过仪器内置打印机输出6、连接方式：USB接口，串口，网口（支持定制）7、附属功能：内置WIFI模块8、测量原理：光电测量反射衰减信号强度（扫描）9、检测速度：240次/小时10、重复性：DR值不大于1%(标准卡)11、仪器批间差：3%以内(标准卡)12、数据传输：USB 以及网口13、屏幕显示：7英寸（支持定制10英寸及各种规格）14、LED光源波长：450nm～475nm15、检测通道：单通道（支持双通道、五通道、10通道及客户要求定制通道数量）五、产品特点：1、支持ID卡独立加密与授权，内置浓度曲线及批号2、CT线位置可自定义识别，支持线宽及线间距设定，支持实时显示检测曲线3、内置大容量存储数据库，可随时分类查询已测项目4、可内置条形码识别模块，可加装二维码识别模块（定制）5、自动精准识别CT线位置，纠错范围可达 ±3mm6、12V低压电源供电，支持使用车载电源，定制机型可内置充电电池7、整机支持按客户要求定制（ODM加工及OEM项目合作）以上是CSY-JAZ玉米赤霉烯酮检测仪的产品信息，如果您想了解更多有关于CSY-JAZ玉米赤霉烯酮检测仪产品资料；请致电深圳市芬析仪器制造有限公司

Nicomp 380纳米粒度仪采用动态光散射原理检测分析颗粒系的粒度及粒度分布，粒径检测范围 0.5nm – 10μm。粒度分析复合采用 Gaussian 单峰算法和拥有技术的 NiComp 多峰算法，对于多组分、粒径分布不均匀液态分散体系的分析以及胶体体系的稳定性分析具有独特优势，其优异的解析度及重现性是其他同类产品无可比拟的。整机采用模块化设计,可灵活方便地扩展 Zeta 电位等其它功能。Nicomp380纳米粒度仪基本概述：Nicomp380 是纳米粒径分析仪器，采用现在先进的动态光散射原理，利用的Nicomp多峰算法可以很准确的分析比较复杂多组分混合样品。为实验室的研究提供最好的分析技术。测试范围：0.3nm–6μm。产品介绍：Nicomp380采用动态光散射原理检测分析颗粒系的粒度及粒度分布，粒径检测范围0.3nm-10μm。粒度分析复合采用Gaussian单峰算法和拥有技术的Nicomp多峰算法，对于多组分、粒径分布不均匀液态分散体系的分析以及胶体体系的稳定性分析具有独特优势，其优异的解析度及重现性是其他同类产品无可比拟的。纳米粒度仪工作原理：动态光散射法(DLS)，有时称为准弹性光散射法（QELS），是一种成熟的非侵入技术，可测量亚微细颗粒范围内的分子与颗粒的粒度及粒度分布，使用最新技术，粒度可小于1nm。动态光散射法的典型应用包括已分散或溶于液体的颗粒、乳剂或分子表征。悬浮在溶液中的颗粒的布朗运动，造成散射光光强的波动。分析光强的波动得到颗粒的布朗运动速度，再通过斯托克斯-爱因斯坦方程得到颗粒的粒度。纳米粒度仪仪器参数：粒径测量范围粒度分析：0.3nm-10μm分析方法粒度分析：动态光散射，Gaussian单峰算法和NiComp无约束自由拟合多峰算法pH值范围2-12温度范围0℃-90℃检测角度（可选）粒度分析：90°或多角度（10°-175°，可选配）高浓度样品背散射175°背散射可用溶剂水和绝大多数有机溶剂样品池4mL（标准，石英玻璃或有机玻璃）；500μL（高透光率微量样品池）分析软件Windows运行环境，符合21CFRPart11规范分析软件电压220–240VAC，50Hz或100–120VAC，60Hz外形尺寸56cm*41cm*24cm重量约26kg（与配置有关）纳米粒度仪配件：大功率激光二极管PSS使用一系列大功率激光二极管来满足更多更苛刻的要求。使用大功率激光照射，以便从小粒子出货的足够的入射光。15mW,35mW,50mW,100mW–波长为635nm的红色二极管。20mW50mW和100mW波长为514.4nm的绿色二极管。雪崩光电二极管检测器（APDDetector）提供比普通光电倍增管(PMT)高20倍的灵敏度。Zeta电位模块Zeta电位是确定交替系统稳定性的重要参数，决定粒子之间静电排斥力大小，从未影响粒子间的聚集作用及分散系的稳定。该模块使用电泳光散射（ELS）技术，通过测量带点粒子在外加电场中的移动速度，即电泳迁移率、推算出Zeta电位，实现了粒子的粒径与Zeta电位，实现了粒子的粒径与Zeta电位测定的同机操作。自动稀释系统模块将初始浓度较高的样本自动稀释至可检测的的浓度，可稀释初始固含量为50%的原始样品，本模块收保护，其可免除人工稀释样品带来的外界环境的干扰和数据上的误差，此技术被用于批量进样和在线检测的过程中。多角度检测系统模块提供多角度的检测能力。使用高精度的步进电机和针孔光纤技术可对散射光的接收角度进行调整，可为微粒粒径分布提供可高分辨率的多角度检测。对高浓度样品（≤40%）以及大粒子多分散系的粒径提供了提供15至175度之间不同角度上散射光的采集和检测。自动进样器批量自动进样器能实现最多76个连续样本的分析而无需操作人员的干预。因此它是一个非常好的质量控制工具，能增大样品的处理量。大大节省了宝贵的时间。自动滴定模块样品的浓度及PH值是Zeta电位的重要参数，搭配瑞士万通的滴定仪进行检测，真正实现了自动滴定，自动调节PH值，自动检测Zeta电位值。免除外界的干扰和数据上的误差，精确分析出样品Zeta电位的趋势。纳米粒度仪应用领域：适用于检测悬浮在水相和有机相的颗粒物。1）磨料磨料既有天然的也有合成的，用于研磨、切削、钻孔、成形以及抛光。磨料是在力的作用下实现对硬度较低材料的磨削。磨料的质量取决于磨料的粗糙度和颗粒的均匀性。2）化学机械抛光(CMP)化学机械抛光是半导体制造加工过程中的重要步骤。化学机械抛光液是由腐蚀性的化学组分和磨料(通常是氧化铝、二氧化硅或氧化铈)两部分组成。抛光过程很大程度上取决于晶片表面构型。晶片的加工误差通常以埃计，对晶片质量至关重要。抛光液粒度越均匀、不聚集成胶则越有利于化学机械抛光加工过程的顺利进行。3）陶瓷陶瓷在工业中的应用非常广泛，从砖瓦到生物医用材料及半导体领域。在生产加工过程中监测陶瓷颗粒的粒度及其粒度分布可以有效地控制最终产品的性能和质量。4）粘土粘土是一种含水细小颗粒矿物质天然材料。粉砂与粘土类似，但粉沙的颗粒比粘土大。粘土中易于混杂粉砂从而降低粘土的等级和使用性能。ISO14688定义粘土的颗粒小于63μm。5）涂料涂料种类繁多，用途广泛。涂料的颗粒大小及粒度分布直接影响涂料的质量和性能。6）污染监测粒度检测分析在产品的污染监测方面起着重要作用，产品的污染对产品的质量影响巨大。绝大多数行业都有相应的标准、规程或规范，必须严格遵守和执行，以保证产品满足质量要求。7）化妆品无论是普通化妆品还是保湿剂、止汗剂，它们的性能都直接与粒度的大小和分布有关。化妆品的颗粒大小会影响其在皮肤表面的涂抹性能、分布均匀性能以及反光性能。保湿乳液(一种乳剂)的粒度小于200纳米时才能被皮肤良好吸收，而止汗剂的粒度只有足够大时才能阻塞毛孔起到止汗的作用。8）乳剂乳剂是两种互不相溶的液体经乳化制成的非均匀分散体系，通常是水和油的混合物。乳剂有两种类型，一种是水分散在油中，另一种是油分散在水中。常见的乳剂制品有牛奶（水包油型）和黄油（油包水型），加工过程中它们均需均质化处理到所需的粒径大小以期延长保质期。9）食品食品的原料（粉末及液体）通常来源于不同的加工厂，不同来源的原料必须满足某些特定的标准以使最终制品的质量均一稳定。原料性质的任何波动都会对食品的口味和口感产生影响。用原料的粒度分布作为食品质量保证和质量控制（QA/QC）的一个指标可确保生产出质量均以稳定的食品制品。10）液体工作介质/油液体工作介质（如：油）越来越昂贵，延长液体介质的寿命是目前普遍关心的问题。机械设备运转过程中会产生金属屑或颗粒落入工作介质中（如：油浴润滑介质或液力传递介质），因此需要一种方法来确定介质（油）的更换周期。通过监测工作介质（油）中颗粒的分布和变化可以确定更换工作介质的周期以及延长其使用寿命。11）墨水随着打印机技术的不断发展，打印机用的墨水变得越来越重要。喷墨打印机墨水的粒度应当控制在一定的尺度以下，且分布均匀，大的颗粒易于堵塞打印头并影响打印质量。墨水是通过研磨方法制得的，可用粒度检测分析仪器设备监测其研磨加工过程，以保证墨水的颗粒粒度分布均匀，避免产生聚集的大颗粒。12）胶束胶束是表面活性剂在溶液中的浓度超过某一临界值后，其分子或离子自动缔合而成的胶体尺度大小的聚集体质点微粒，这种胶体质点与离子之间处于平衡状态。乳液、色漆、制药粉体、颜料、聚合物、蛋白质大分、二氧化硅以及自组装TiO_2纳米管(TNAs)等

纳米库尔特粒度仪，又称微流脉冲纳米分析（MRPS）技术，唯一一种提供微流体粒度分析的技术，并提供荧光选择，更多分析成为可能。ARC：生物粒子分析的新亮点库尔特微流电阻脉冲和荧光技术的结合：1、基于粒度、浓度和荧光的同步表型分析2、电学+光学：一次测量中的两种正交技术3、直接测量粒径，无需假设折光率（RI）4、具有明确的检测限的定量荧光5、与传统染料和染色协议兼容6、比光学流式细胞仪更快、更易于使用——几分钟即可获得结果7、比荧光纳米粒子跟踪分析（f-NTA）更准确

燃料电池用氢分析在线气相色谱KA8000Ex，该系统经过充分验证，是氢燃料电池用氢质量分析的在线过程气相色谱，可同时检测永久性气体和硫化物。【燃料电池用氢分析在线气相色谱KA8000Ex主要技术特点】● 无需预浓缩，在线直接测量硫化物，检测限0.5 ppb●性价比高,一台表同时测量硫化物和永久气体●高灵敏度：¨ 带稳定电极的Epd 增强型等离子检测器技术*¨ 增强检测限eLOD: 先进的信号处理算法●具有科学验证手段，iGCS全钝化音速喷嘴稀释校准仪确保超痕量检测的有效性和准确性●¨ 稳定耐用：¨ μInProve* 用于硫化物分析的色谱阀¨ iMov Ex * 色谱平台●¨ 无需燃料气或氧气，如 FPD 或 SCD● 只需要惰性气体为载气 燃料电池用氢分析在线气相色谱KA8000Ex

无论您从事金相学、医疗设备制造还是微电子领域，速度都显得至关重要。您可根据自身需求定制徕卡这款高度模块化的工业显微镜。它将徕卡优异的光学品质、丰富的对比度模式以及直观易用的软件集于一身，有助于加速您的工作流程。徕卡DMi8工业显微镜助您加速工作流程徕卡DMi8工业显微镜可以为您节省时间和资金。区别于正立式显微镜，您可直接将样品置于载物台对其表面对焦一次，然后在所有放大倍率下对焦，并对后续样品进行操作。由于物镜位于载物台下方，与样品发生碰撞的危险大大降低。节省时间您切换样品的速度将加快四倍您可获得更宽敞的工作空间，轻松放置大而重的样品可观察重量最高 30 kg 的样品细致入微地观察样品您需要观察大尺寸样品并进行详尽分析吗?徕卡显微系统(Leica Microsystems)提供的宏观*物镜可令您在更短的时间内观察更多样品细节。只需单击一下，即可从宏观模式 (35 mm) 切换到纳米模式 (200 nm)。DMi8工业显微镜宏观物镜可提供 4 倍于标准物镜的视场 (以 0.7 倍放大倍率观察 35.7 mm 样品的概况)。 您可在不同的放大倍率间切换： 0.7x、5x、10x、 20x、 50x 、100x ，并从不同角度照亮样品。3 档调焦驱动器可在不同放大倍率下实现灵敏可调的对焦，从而提高您的样品检测效率。您可针对自己的工作需要打造完美工具对系统进行量身定制，使其符合您的预算、应用需求和偏好。现在就为您工作所需的特性进行投资 – 并为未来需要做好准备。更大的自由度 您可升级自己的系统，以满足未来所需 在手动、编码和自动功能之间进行选择 您可使用丰富的对比度模式，满足所有应用需求一次击键即可轻松完成再现和存档Leica Application Suite (LAS) 软件提供一系列专家级模块以减轻您的工作负担，例如： Steel Expert Phase Expert Grain Expert定期更新和升级 LAS 软件可确保您始终走在竞争前列。UC-3D 照明装置观察更多细节徕卡显微系统(Leica Microsystems)独家提供超对比度 3D 照明装置。它可从不同角度对样品进行照明，以帮助您获得更多表面结构信息，并实现更高的对比度。因此您可在更短的时间内观察到更多样品细节。令观察更深入 内置照明解决方案带来更轻松的使用体验 无需额外成本，获得更多样品信息 您可选择徕卡手动或电动版本图像摄取：Duplex Steel 3140 BF 20x.jpgDuplex Steel 3140 DIC + UC-3D 照明装置 20x以个性化功能支持您的工作流程按照个人偏好对功能键进行个性化设置，并使用编码组件和照明控件。在向导式工作流程的帮助下，您可更快地获取结果并流畅地使用显微镜工作。 按下 1 个按钮即可激活宏观模式，迅速观察样品概况 对比度模式与放大倍率同步切换 (如从 10x HDF 到 50X DIC) 将某个功能键编程为使用摄像头摄取图像，实现存档目的

分辨率测试采用了国际标准的ISO12233解析度分辨率卡进行测试，采取统一拍摄角度和拍摄环境， 而分辩率的计算又使用了HYRes软件，分开垂直分辨率和水平分辨率两部分进行。 　对于数码摄像头的评测与其他产品不同，不像笔记本、DIY等有大量软件去测试客观的数据，能够从数据上说明一切。而评定数码相机的质量除了需要有一定的客观数据外，还需要结合实际的使用操作以及样张的拍摄来评定。因此，我们的评测是以客观数据为原则，并结合经验丰富的评测人员的理性分析，以求获得最客观的评测结果。 品牌：3nh 出品：Made in China 原产地：英国&瑞士ISO12233标准分辨率测试卡 用途 解析度卡(分辨率卡)是标准样张，可以提供实际拍摄的垂直分辨率和水平分辨率等辅助测试。分辨率测试采用了国际标准的ISO12233解析度分辨率卡进行测试，采取统一拍摄角度和拍摄环境。而分辩率的计算又使用了HYRes软件，分开垂直分辨率和水平分辨率两部分进行。 对于数码摄像头的评测与其他产品不同，不像笔记本、DIY等有大量软件去测试客观的数据，能够从数据上说明一切。而评定数码相机的质量除了需要有一定的客观数据外，还需要结合实际的使用操作以及样张的拍摄来评定。因此，我们的评测是以客观数据为原则，并结合经验丰富的评测人员的理性分析，以求获得最客观的评测结果。 ISO12233标准分辨率测试卡遵照12233的标准&ldquo 摄影-电子照相画面-衡量方法". 在1 X 大小的这个活动区域,测量20 cm 高度只有约0.1毫米的误差。他具有几乎大部分解析度卡所具有的特征。规格分类 活性区域 材料以下为完整的产品系列： 常用标准规格 ISO12233 分辨率测试卡 0,5X (10x17.8 cm), semimatt (normative contrast), image on photographic paper0.5倍 半哑（标准反差）高清照相纸 Product NO. : NQ-10-50A1X (20x35.6 cm), semimatt (normative contrast), image on photographic paper 1倍 半哑（标准反差）高清照相纸 Product NO. : NQ-10-100A2X (40x71.1 cm), semimatt (normative contrast), image on photographic paper2倍 半哑（标准反差）高清照相纸 Product NO. : NQ-10-200A4X (80x142.2 cm), semimatt (normative contrast), image on photographic paper4倍 半哑（标准反差）高清照相纸 Product NO. : NQ-10-400A8X (160x284.4 cm), semimatt (normative contrast), image on photographic paper4倍 半哑（标准反差）高清照相纸 Product NO. : NQ-10-800A ENHANCED ISO12233 增强型ISO12233分辨率测试卡 0.5X (10x17.8 cm), semimatt (normative contrast), image on photographic paper 0.5倍 半哑 (标准反差) 高清照相纸 Product NO. : NE-10-50A 1X (20x35.6 cm), semimatt (normative contrast), image on photographic paper 1倍 半哑 (标准反差) 高清照相纸 Product NO. : NE-10-100A 2X (40x71.1 cm), semimatt (normative contrast), image on photographic paper2倍 半哑 (标准反差) 高清照相纸 Product NO. : NE-10-200A 4X (80x142.2 cm), semimatt (normative contrast), image on photographic paper4倍 半哑 (标准反差) 高清照相纸 Product NO. : NE-10-400A 8X (160x284.4 cm), semimatt (normative contrast), image on photographic paper4倍 半哑（标准反差）高清照相纸 Product NO. : NE-10-800A DIGITAL CINE ISO 12233 based RESOLUTION charts 数字电影模式ISO12233分辨率测试卡 .75X (15x36 cm), semimatt (normative contrast), image on photographic paper0.75倍 半哑 (标准反差) 高清照相纸 1,5X (30x72 cm), semimatt (normative contrast), image on photographic paper1.5倍 半哑 (标准反差) 高清照相纸 3X (60x144 cm), semimatt (normative contrast), image on photographic paper3倍 半哑 (标准反差) 高清照相纸 4X (80x192 cm), semiglossy (normative contrast), image on photographic paper4倍 半光 (标准反差) 高清照相纸

big squid white带玻璃表面的磁力搅拌器。数字速度显示（LED）电子控制电机，容量更大转速范围从 0 - 2.500 转/分钟最大搅拌容量 1.5 升由 TPC-ET 制成的玻璃顶部和合成底部具有出色的耐化学性可回收材料技术参数搅拌点位数目1最大搅拌量 (H2O)1.5 l最大载荷3 kg电机输出功率2 W旋转方向右速度显示设定值LED转速控制控制旋钮速度范围0 - 2500 rpm设置速度精度50 rpm搅拌子最大长度30 mm工作盘材质玻璃工作盘外形尺寸Ø 160 mm外形尺寸185 x 45 x 205 mm重量0.889 kg允许环境温度5 - 40 °C允许相对湿度80 %DIN EN 60529 保护方式IP 54电压100 - 240 V频率50/60 Hz仪器输入功率4 W直流电压12 V=电流消耗300 mA

为满足工业客户需求，昕虹推出全新工业级Herriott高温多通池。全新光学设计和精密机械加工工艺带来稳固可靠的工业级产品，高温恒温伴热模块将池体温度稳定至高达300℃。激光输入采用预对准光纤FC接口输入，耦合效率高，温度漂移低，省去复杂的耦合对光操作，降低了维护难度和成本。 本产品非常适合工业级高精度近红外TDLAS气体分析系统集成，可有效提高抽取式热湿法TDLAS对NH3、H2O、CO、NOx、SO2、H2S等气体分子检测的灵敏度和精度。产品优势&bull 稳固、可靠的工业量产模块，有效光程达15米 （其它光程可定制）&bull 气密池体选用低热膨胀系数材料，防止温度波动引起的对光偏移&bull 惰性涂层内壁，抗腐蚀、防止活性气体吸附&bull 50℃至300℃恒温伴热，温控精度达1℃&bull 预对准光纤FC接口输入，省去复杂的耦合对光操作&bull （升级）气体压力控制单元产品参数有效光程14.5m （可根据需要订制）光束直径3.5mm气体容积0.84L（一个标准大气压）外围尺寸0.35(L)×0.1(W)×0.15(H)m3工作温度 室温 至 300℃工作气压10Pa至102kPa镜片镀层氧化层镀膜金属（反射率可达98%）波长范围0.2至12μm窗口材料无镀膜或镀膜石英、CaF?或ZnSe主体材料304、316不锈钢等气体接口6mm不锈钢卡套

徕卡DMi1倒置显微镜支持您专属的工作流程。操作直观，灵活自如，使您可以完全专注于您的工作。根据需要，选择功能，如有必要，您还可以轻松添加必须的各种配件。快速检验活细胞的睿智之选显微镜独特的灵活性使之可以支持S40聚光镜（40-50mm工作距离），或只需简单的手动移动，即可切换至S80聚光镜（80mm工作距离）。高品质的徕卡物镜，提供色彩鲜明的图像。深思熟虑的设计以及质量控制元件，使您即使面对冗长的工作，仍然可以舒适地工作。智能功能使您的工作流程顺畅、高效，节省了时间和资源。徕卡显微系统的高品质成像技术提供精准的结果，降低出错的风险。显微镜的LED照明意味着低能源成本以及最小的停工时间。无需经常更换灯泡，或等待达到合适的色温。徕卡DMi1是用于出色品质的睿智之选。10 x至20 x至40 x相衬可单手移动 徕卡DMi1用 于 观 察 相 衬 ，使 用 简 便 。利用徕卡显微系统的新物镜 ，您 只 需 轻松旋转物镜转换盘，即可在10x至20x至40x相衬之间切换。无需改变相衬插板中的相衬环——PH1相衬环匹配全部三种物镜！节省成本,安全色LED照明所有的徕卡DMi1显微镜的特点是，具有5W LED照明，在所有的强度上具有恒定的色温。冷LED光能够为精细的活标本提供完美的环境。不会因过热引起器件失真，能够提供稳定的焦点。另外，LED灯泡还具有巨大的经济意义 。绿 色 LED技术以及2小时自动断电功 能 ，降 低 能 量 损 耗 。正 常 情 况 下 ，每个灯泡的寿命长达20年（ 40个工作小时/周 ），这 意 味 着 停 工 时 间 更 短 以 及运维成本很低。自动光强智能传感器集成在相衬插板中，确保光强在明场和相衬之间自动调节。该功 能 不 仅 保 护 眼 睛 ，节 省 时 间 ，并 且 增加用户的舒适度。从40-50或80毫米工作距离之间迅速切换工 作 距 离 很 广，使 徕 卡 DMi1成为活细胞实 验 室 的 完 美 搭 档 。利 用 S40聚光镜搭配相衬插板，可 用 于 培养皿、多孔盘以及大多数类型的培养瓶，获得最佳分辨率：S40通过简单地移动即可提供额外的10mm自由空间。当搭配较高的培养瓶时，只需几个步骤将S40更换成S80聚 光 镜 。无 需 拆 换整个照明臂。一体式显像以及数据存储徕卡DMi1相机版本是图像采集和细胞培养存档的一体式解决方案。您可以在250万或500万像素分辨率之间选择。相机安装在支架背面。无需额外的三目镜筒，可获清晰视图及轻松进入工作区域。使用遥控采集图像甚至视频。数据直接存储在SD卡上，无需使用电脑。相机可连接任意HDMI显示器，与同事或学生一起进行讨论。HDMI端口可在屏幕上提供优质的图像。若需要测量和批注，提炼图像分析，系统中包含用于PC的徕卡应用套件（LAS）软件的核心版本可以完成此项工作。坚固的结构由于徕卡DMi1重心较低，因此极其稳定。使用高档材料——几乎全金属——有助于避免振动以及由此产生的图像模糊。防刮载物台、高品质的学元件以及各种各样的配件，确保在很低的运维成本下，保持很长的产品寿命。模块化扩展 可使用徕卡现有平台的组件，获得更多的灵活度以及节省开销。移动尺（及配件）拥有针对培养瓶、培养皿 、多 孔 板 不同样本夹。

徕卡科研级倒置金相显微镜DMI8A DMI8C DMI8M颠覆游戏，保持领先徕卡倒置金相显微镜 Leica DMi8在竞争中保持领先是您事业前进的动力。无论您从事金相学、医疗设备制造还是微电子领域，速度都显得至关重要。您可根据自身需求定制徕卡这款高度模块化的倒置式显微镜。它将徕卡优异的光学品质、丰富的对比度模式以及直观易用的软件集于一身，有助于加速您的工作流程。徕卡倒置式显微镜助您加速工作流程徕卡倒置式显微镜可以为您节省时间和资金。区别于正立式显微镜，您可直接将样品置于载物台对其表面对焦一次，然后在所有放大倍率下对焦，并对后续样品进行操作。由于物镜位于载物台下方，与样品发生碰撞的危险大大降低。节省时间您切换样品的速度将加快四倍您可获得更宽敞的工作空间，轻松放置大而重的样品可观察重量最高 30 kg 的样品细致入微地观察样品您需要观察大尺寸样品并进行详尽分析吗？徕卡显微系统（Leica Microsystems）独家提供的宏观*物镜可令您在更短的时间内观察更多样品细节。只需单击一下，即可从宏观模式 (35 mm) 切换到纳米模式 (200 nm)。徕卡宏观物镜可提供 4 倍于标准物镜的视场 (以 0.7 倍放大倍率观察 35.7 mm 样品的概况)。您可在不同的放大倍率间切换： – 0.7x – 5x – 10x – 20x- 50x – 100x –，并从不同角度照亮样品。3 档调焦驱动器可在不同放大倍率下实现灵敏可调的对焦，从而提高您的样品检测效率。您可针对自己的工作需要打造完美工具。对系统进行量身定制，使其符合您的预算、应用需求和偏好。现在就为您工作所需的特性进行投资 – 并为未来需要做好准备。更大的自由度您可升级自己的系统，以满足未来所需在手动、编码和自动功能之间进行选择您可使用丰富的对比度模式，满足所有应用需求一次击键即可轻松完成再现和存档Leica Application Suite (LAS) 软件提供一系列专家级模块以减轻您的工作负担，例如：Steel ExpertPhase ExpertGrain Expert定期更新和升级 LAS 软件可确保您始终走在竞争前列。使用独一无二的 UC-3D 照明装置观察更多细节徕卡显微系统（Leica Microsystems）独家提供超对比度 3D 照明装置。它可从不同角度对样品进行照明，以帮助您获得更多表面结构信息，并实现更高的对比度。因此您可在更短的时间内观察到更多样品细节。令观察更深入内置照明解决方案带来更轻松的使用体验无需额外成本，获得更多样品信息您可选择徕卡手动或电动版本图像摄取：Duplex Steel 3140 BF 20x.jpgDuplex Steel 3140 DIC + UC-3D 照明装置 20xDuplex Steel 3140 BF 20x.jpgDuplex Steel 3140 DIC + UC-3D Illumination 20x以个性化功能支持您的工作流程按照个人偏好对功能键进行个性化设置，并使用编码组件和照明控件。在向导式工作流程的帮助下，您可更快地获取结果并流畅地使用显微镜工作。按下 1 个按钮即可激活宏观模式，迅速观察样品概况对比度模式与放大倍率同步切换 (如从 10x HDF 到 50X DIC)将某个功能键编程为使用摄像头摄取图像，实现存档目的徕卡科研级倒置金相显微镜DMI8A DMI8C DMI8M技术参数：（金相显微镜-正置/倒置）光学系统：最新无限远双重色差校正光学系统。观察方式：满足试样在明场，暗场，偏光下的观察要求；检偏器可180°调节。目镜：10x 2个，视场数22。观察视野大而舒适；物镜：物镜，即：2.5 x 5x，10x，20x，50x，100x观察功能转盘：反射光照明器6编码功能转盘，预留升级空间；调焦机构：粗中微三级调焦，调焦更加细致。照明装置：LED灯，恒定色温，寿命长；载物台：三板机械载物台，载物台设计合理。可放置大而重的试样，试样X Y轴移动范围优于100x50mm，配备多孔径可更换转换板（孔径10mm,20mm,30mm数量各1个）；物镜转盘：6孔适合安装明暗场物镜的手动物镜转盘。带有电子编码。机身前置12颗LED灯，可显示物镜状态以及观察方式。智能化光强管理，在不同倍数及观察方式下，可记忆不同的光强亮度；载物台带有无调整机构的自动锁定防止下滑的机构，长时间使用不会出现下滑现象；图像采集装置：显微镜同一品牌工业用彩色数字制冷摄像头，CCD感光元件，1200万像素（非数插值），在计算机控制下，实时采集，同步捕捉图像；图像分析软件：专业分析软件功能强大，测量精度高(任何倍数下应符合标尺测量偏差±1%)，操作方便，既具有通用图像处理功能（图像标注，定倍打印，图谱对比，面积测量，模板化检测报告，全自动和手动景深扩展和图像拼接，又具有专业测量功能（面积，含量，长度等测量及晶粒度评级，石墨分析等）。计算机：DELL Intel酷睿i5处理器 /4G/128G固态+1T机械/独显/DVDRW /DVDRW/22DELL显示器；

LUMITEK红外显示卡是基于被称为“电子捕获”的工作原理。以荧光体为基础的化合物，用来吸收和“诱捕”来自短波的光能量，从更长的红外波长激发后，以可见光的形式释放储存的光。可以观察到的局部辉光，跟存储光能量和激发感应区域的红外光功率大小有关。将LUMITEK的上转换材料暴露在IR红外光照射，局部会产生发散的可见光，可用于探测和定位红外光斑。这些红外显示卡提供了一种低成本的方式，替代激光观察仪和光束轮廓分析仪，为用户提供了一种即时可见的图像来确定光束位置和近似光束大小。此外，红外显示卡的高灵敏度为各种IR光源和元件(如红外发光二极管、光纤等)的用户提供了一种有效的工具来确定IR光的存在与否。使用下面的图表来确定适合你需要的荧光体材料，或者让韵翔光电的应用工程师来帮助你选择。ET® 荧光体峰值发射波长( nm )/ colorIR 波长范围 (µ m )大约低IR强度(暗室)大约低IR强度(室内光)泵浦波长分辨率 (典型值)Q-11625 / 橘色0.7 - 1.412µ W/cm2500µ W/cm2visible....UV3 Lp/mmQ-16485/ 蓝绿0.7 - 1.4 10µ W/cm2500µ W/cm2visible...UV3 Lp/mmQ-32650 / 红色0.8 - 1.78µ W/cm2 500µ W/cm2visible...UV3 Lp/mmQ-42640/ 深橘色0.7 - 1.63µ W/cm2100µ W/cm2 visible...UV3 Lp/mmL-IR550 / 绿色0.9-1.1few mWfew mWNot Required3 Lp/mmU-21深橘色0.19-0.4variesvariesNot Required3 Lp/mm 首先从荧光体规格表和灵敏度曲线中选择波长范围。例如，如果你正在使用光纤通信范围（1350-1550纳米），好的选择是Q32型。对于YAG激光器，或在大约1000 nm范围内，L- IR材料是理想的选择，虽然这需要稍高的功率（它有个功率阈值），并且IR灵敏度具有较窄的范围，但是它不需要在使用前充能（它具有直接上转换特性）。注意Q型荧光体涂层需要在使用之前，用环境光充能。将Q涂层暴露于IR光照，电荷逐渐耗尽，所以你必须移动卡片以找到一个未曝光的区域，以便更好地看到红外光束图像，或者你需要再次充能。如果你喜欢其他的橙色-红色的发光材质，你可以选择Q-16或L -IR型。（注意，L- IR型具有更高的功率要求和更窄的灵敏度带宽。）基本款型号列表红外显示卡 2”x 2“尺寸 R系列 (反射式)Q-11-RQ-16-RQ-32-RQ-42-RL-IR-RU-21-R反射式的红外显示卡是常用的基本型号。 荧光体涂层被封装在透明塑料中，可用于各种近红外探测和成像应用。可以提供各种荧光体材质，总尺寸2.5″x 4″，有效区域 2″x2″红外显示卡 2”x 2“尺寸 T系列 (透射式)Q-11-TQ-16-T Q-32-TQ-42-TL-IR-TU-21-T透射式的红外显示卡是常用的基本型号。 荧光体涂层被封装在透明塑料中，可用于各种近红外探测和成像应用。可以提供各种荧光体材质，总尺寸2.5″x 4″，有效区域 2″x2″红外显示卡 3/4”x 3/4“尺寸 R系列 (反射式)Q-11-R-StickQ-16-R-StickQ-32-R-StickQ-42-R-StickL-IR-R-StickU-21-R-Stick反射式的红外显示卡是常用的基本型号。 荧光体涂层被封装在透明塑料中，可用于各种近红外探测和成像应用。可以提供各种荧光体材质，有效区域0.75″x0.75″红外显示卡 3/4”x 3/4“尺寸 T系列 (透射式)Q-11-T-StickQ-16-T-StickQ-32-T-StickQ-42-T-StickL-IR-T-StickU-21-T-Stick透射式的红外显示卡是常用的基本型号。 荧光体涂层被封装在透明塑料中，可用于各种近红外探测和成像应用。可以提供各种荧光体材质，有效区域0.75″x0.75″红外显示卡 4”x 5“尺寸 R系列 (反射式)Q-11-R45Q-16-R45Q-32-R45Q-42-R45L-IR-R45U-21-R45反射式的红外显示卡是常用的基本型号。 荧光体涂层被封装在透明塑料中，可用于各种近红外探测和成像应用。可以提供各种荧光体材质，有效区域 4”x 5“红外显示卡 4”x 5“尺寸 T系列 (透射式)Q-11-T45Q-16-T45Q-32-T45Q-42-T45L-IR-T45U-21-T45透射式的红外显示卡是常用的基本型号。 荧光体涂层被封装在透明塑料中，可用于各种近红外探测和成像应用。可以提供各种荧光体材质，有效区域 4”x 5“用于光束准直的硬板式红外显示卡硬板式红外显示卡 2”x 2“尺寸AP-R系列 (反射式)Q-11-AP-RQ-16-AP-RQ-32- AP-RQ-42- AP-RL-IR- AP-RU-21- AP-R这种反射式的红外显示卡具有1/8″厚度的刚性聚碳酸酯基材。 可以提供各种荧光体材质，总尺寸2″ x 4″，有效区域 2″x2″，并且带有十字AP刻度线图案。它们可以被夹紧，钻孔，螺栓，或以其他方式固定在各种装置上，用于**安装。都有2毫米间隔的刻度线。可以提供各种荧光体材质。硬板式红外显示卡 2”x 2“尺寸CC-R系列 (反射式)Q-11-CC-RQ-16-CC-RQ-32- CC-RQ-42- CC-RL-IR- AP-RU-21- AP-R这种反射式的红外显示卡具有1/8″厚度的刚性聚碳酸酯基材。 可以提供各种荧光体材质，总尺寸2″ x 4″，有效区域 2″x2″，并且带有同心圆CC图案。它们可以被夹紧，钻孔，螺栓，或以其他方式固定在各种装置上，用于**安装。都有2毫米间隔的刻度线。可以提供各种荧光体材质。 硬板式红外显示卡 2”x 2“尺寸AP-T系列 (透射式)Q-11-AP-TQ-16-AP-TQ-32- AP-TQ-42- AP-TL-IR- AP-TU-21- AP-T这种透射式的红外显示卡具有1/8″厚度的刚性聚碳酸酯基材。 可以提供各种荧光体材质，总尺寸2″ x 4″，有效区域 2″x2″，并且带有十字AP刻度线图案。它们可以被夹紧，钻孔，螺栓，或以其他方式固定在各种装置上，用于**安装。都有2毫米间隔的刻度线。可以提供各种荧光体材质。硬板式红外显示卡 2”x 2“尺寸CC-T系列 (透射式)Q-11-CC-TQ-16-CC-TQ-32- CC-TQ-42- CC-TL-IR- AP-TU-21- AP-T这种透射式的红外显示卡具有1/8″厚度的刚性聚碳酸酯基材。 可以提供各种荧光体材质，总尺寸2″ x 4″，有效区域 2″x2″，并且带有同心圆CC图案。它们可以被夹紧，钻孔，螺栓，或以其他方式固定在各种装置上，用于**安装。都有2毫米间隔的刻度线。可以提供各种荧光体材质。光学玻璃红外显示片光学玻璃红外显示片Q-11-IRSCR-27Q-16-IRSCR-27Q-32-IRSCR-27Q-42-IRSCR-27L-IR-IRSCR-27U-21-IRSCR-2727mm直径光学玻璃，可以配合任一种荧光体涂层，贴在玻璃的一侧。来自激光或者LED的IR红外辐射可以在红外显示片的任一侧进行观察。背贴式红外显示片 背贴式红外显示片2″x2″尺寸ADQ-11-2×2ADQ-16-2×2ADQ-32-2×2ADQ-42-2×2ADL-IR-2×2ADU-21-2×2薄的，柔性的红外显示片可以被切割成任何期望的尺寸，并通过剥离保护性背贴并黏贴到大多数表面上。荧光体涂层位于透明聚酯薄膜上，背面涂有薄膜粘合剂。这个红外显示片不是层压的。红外显示片在黏贴到反射材料时具有大的红外灵敏度， 也可以应用于从两侧观察的透明材料。可以选择任一种荧光体涂层。也可以定制尺寸。 背贴式红外显示片4″x4″尺寸ADQ-11-4×4ADQ-16-4×4ADQ-32-4×4ADQ-42-4×4ADL-IR-4×4ADU-21-4×4薄的，柔性的红外显示片可以被切割成任何期望的尺寸，并通过剥离保护性背贴并黏贴到大多数表面上。荧光体涂层位于透明聚酯薄膜上，背面涂有薄膜粘合剂。这个红外显示片不是层压的。红外显示片在黏贴到反射材料时具有大的红外灵敏度， 也可以应用于从两侧观察的透明材料。可以选择任一种荧光体涂层。也可以定制尺寸。背贴式红外显示片8″x10″尺寸ADQ-11-8×10ADQ-16-8×10ADQ-32-8×10ADQ-42-8×10ADL-IR-8×10ADU-21-8×10薄的，柔性的红外显示片可以被切割成任何期望的尺寸，并通过剥离保护性背贴并黏贴到大多数表面上。荧光体涂层位于透明聚酯薄膜上，背面涂有薄膜粘合剂。这个红外显示片不是层压的。红外显示片在黏贴到反射材料时具有大的红外灵敏度， 也可以应用于从两侧观察的透明材料。可以选择任一种荧光体涂层。也可以定制尺寸。在选择合适的荧光体材料后，选择适合您的应用的LUMITEK产品 -------高分辨率红外显示卡(CF16-R, CQ42-R, CQ16-R)，适合用于红外激光源(ND-YAG & CO2)，这些光源容易烧穿标准的红外显示卡。 这些显示卡尺寸为2.5英寸x 4英寸，有效荧光体区域直径是2英寸。对于CO2激光器，使用热激发型号CF-16。这个显示卡大约需要红外光照射区达到1瓦特/平方厘米或增加1到2°C升温，与周围的荧光体相比。为了保持荧光体的发光，可能需要一只长波紫外线灯。CQ42-R是耐高温的，但在日光下只需要1 / 4到1 /2mw/ cm2的IR红外照射能量。在昏暗的环境，它只需要20-30μw / cm2红外照射。激光束调整显示卡(Q ** - CC或APT - R或T)常用的三种荧光体材料被涂覆在坚硬的聚碳酸酯衬底上，厚度为C英寸。尺寸为2“x 4”，并带有同心圆或x - y轴十字线图案。都可以选择透射或反射模式。它们可被夹紧、钻孔、螺栓固定，或以其他方式固定在各种装置上**安装。它们都有2毫米间距的测量线。照射红外信号的空间坐标不仅是可见的，而且是可测量的。光学玻璃红外显示卡Q* *——IRSCR-27 直径27毫米的光学透明玻璃，你可以选择我们的一种荧光体，它附着在玻璃基板的一面。从你的激光器或LED光源发射的红外辐射将从显示卡的任何一侧显现出来。塑封红外显示卡(Q - * - R或T)这些塑封的反射或透射式显示卡是常用的产品。荧光体位于透明塑料膜的夹层，适用于广泛的近红外探测和成像应用。可以使用我们所有的荧光体材料，总体尺寸为2.5x 4英寸，有效区域2 x 2英寸。其他尺寸可按要求提供。黏贴式红外显示卡ADQ** - 2"x2 "或4 "x4"柔性显示卡可以被切成任何想要的形状。撕开背面保护贴，按压到位，可以黏贴到大多数的表面。荧光体涂覆在透明的聚酯薄膜上，背面带粘性薄膜。当粘结在反射材料上，显示卡将具有大的红外灵敏度，也可以应用于透明材料，以便从显示卡的两侧观察。我们所有的荧光体都可以做成这种类型。定制尺寸可根据要求提供。 紫外线显示卡(U - 21- R或T)不同于我们的上转化的荧光体，这种材料将紫外线转换成可见光的波长。这种材料在250nm到500nm波长具有高灵敏度。它的尺寸和我们其他的卡片一样，但是荧光体没有塑封，这样就不会抑制紫外线的透射。显示卡的总体尺寸为2.5x 4英寸，有效区域2x 2英寸。其他尺寸可按要求提供。特殊显示卡产品Lumitek还可以提供特制显示卡产品，例如带私人标志、名片或其他定制尺寸。我们可以为你提供产品，替代以前的柯达显示卡。给我们的销售部门打电话找任何你可能会感兴趣的特殊项目 Lumitek推出一种新的红外传感器产品*适合YAG激光器和IR LED的用户*不需要预充光能**稳定的光输入得到恒定的光输出*Model #L-IR-*荧光体峰值发射光IR红外波长L-IRBlue / Green900 – 1100 nm

GW-1050赫里奥特长光程气体池是采用Herriott 光路结构设计而成，不同于White结构，它更适用于光程更长的激光光源场合。光进入气体池后会经过多次的反射才被射出，一般延长了几倍或者几十倍的光路，光程一般在2米以上，光程长度为物理长度的几倍或几十倍。可应用于烟气分析、工业过程气体检测等领域。可选配温度控制系统以及压力检测传感器。测量范围 6-16米可选技术原理 近中红外波段应用领域 光谱分析、气体检测、气体实验产品特性1、产品设计专业性：敢为有专业的光学工程师以及实验室，每个产品都精心设计。可靠性：长达时间的气体池设计经验，国内遥遥领先。稳定性：累计为超过100家科研院所以及企业定制产品，行业应用数不胜数。2、加工工艺光学冷加工：精密光学加工，精确测量光学镀膜：金属膜、介质膜全覆盖腔体加工：第五代CNC一体式加工工艺腔体表面处理：阳极氧化、多彩电镀、特氟龙等可选组装调试：可见光预调、高低温老化、目标光精调、整机测试。3、随心选配多种接口：不锈钢卡套、快拧、自锁式快插等多接口可选。 多种窗片：JGS1、JGS2、GaF2、BaF2、ZnSe、Krs-5......多种材料：A型整体特种铝合金/B型铝合金+石英腔体/C型奥氏体不锈钢整体技术指标系列GW-1050系列产品型号GW-1050A-XXM使用波段 红外：700nm-10um光程长6812 16定制外形尺寸519*75*88mm内腔尺寸 Φ56*298容积655ml进出气口尺寸Φ6卡套进出光孔接头FC/APC或空间光温度传感器（选配）PT100（Φ4*30mm）压力传感器（选配）扩散硅压力传感器（G1/8G管螺纹）窗口透射镜片默认GaF2耐压0.15MPa耐温≤60℃腔体材料特种铝合金+石英可选配件三维调整架+光纤准直器 注：1，XX代表光程长度，单位默认为cm；2，无特殊说明，尺寸误差在±0.5mm；3，尺寸标注默认为：长*宽*高（cm）或直径*长（mm）4，以上仅为常规型号尺寸，定制或不同型号产品以实物为准。 技术原理1-技术原理气体池是专为气体检测而设计的光学器皿装置，气体检测的原理遵照朗伯--比尔(Lambert-Beer)吸收定律。光源发出的红外光窗片进入气室，光分别穿透气体池后由探测器接收。通过对信号进行分析，可以得出气体中相关组分的浓度。2-光路示意多次反射型气体池，光程一般比较长，光程长度为物理长度的几倍或几十倍。光经过气体池入光口射入，穿透窗片进入气体池，与气体内部的多组镜片进行多次词折返，同时与气体池的气体发生多次吸收反应后经过窗片从出光口射出。3-机械结构 敢为科技的所有产品均是基于产品化思路而开发的，所以机械结构的设计原则首先是结构稳定可靠、安装精密标准、维护简单方便4-尺寸示意注：该尺寸图仅为该系列一种型号的示意图，具体产品详询业务经理或者技术人员。5-温压控制温度控制：可选配气体池专用温度控制系统：包含加热装置、温度传感器、温度控制器。压力检测：可选配气体池专用数显输出二合一的压力传感器。 应用场景GW-1050赫里奥特长光程气体池，体积小巧，设计精密。可应用于波长标定、傅里叶光谱仪检测、激光分析等实验领域。