单原子纳米酶

2015年Anasys发布了最新一代产品nanoIR2-s，在广受欢迎的第二代纳米红外光谱系统的基础上增加了散射近场光学成像和光谱功能（s-SNOM）。实现了同一平台兼具AFM-IR和s-SNOM两种技术。仪器的空间分辨率达到10nm，广泛用于各种聚合物、有机无机复合材料、生物样本、半导体、等离子体、纳米天线等。纳米红外&散射近场光学成像和光谱系统(nanoIR2-s)AFM-IR &s-SNOM l AFM-IR 消除分析化学研究人员的担忧--与FTIR光谱完全吻合，没有吸收峰的任何偏移l s-SNOM使用金属镀层AFM探针代替传统光纤探针来增强和散射样品纳米区域内的光辐射，空间分辨率由AFM针尖的曲率半径决定l 专利技术实现智能的光路优化调整，无需担心光路偏差拖延你的实验进度l 最准确的定性微区化学表征，得到美国国家标准局NIST, 橡树岭国家实验室等美国权威机构的认可l 简单易用的操作，被三十多位企业用户和近百位学术界所选择l 基于DI传承的多功能AFM实现纳米热学，力学，电学和磁学测量：l 纳米热分析模块（nanoTA, SThM）l 洛仑兹接触共振模块（LCR）l 导电原子力显微镜镜（CAFM）l 开尔文电势显微镜（KPFM）l 磁力显微镜（MFM）l 静电力显微镜（EFM）10纳米空间分辨率化学成像和光谱石墨烯等离子体 高分辨率成像 石墨烯表面等离子体的近场相位和振幅成像；优于10nm的光学成像PTFE的nano FTIR光谱显示相干分子振动时域图（上图）,和相应的近场光谱（下左图）。pNTP分子层的近场光谱（图下右）。

首创、独有的纳米红外功能和性能Bruker公司推出的Dimension IconIR是一款集合了纳米级红外光谱（nanoIR）技术和扫描探针显微镜（SPM）技术的系统。它整合了数十年的技术创新和研究成果，可以在单一平台上提供无与伦比的纳米级红外光谱、物理和化学性能表征。该系统具有超高的单分子层灵敏度和化学成像分辨率，在保留DimensionIcon最佳的AFM测量能力的同时，还提供了极大的样品尺寸灵活性。Dimension IconIR利用Bruker独有的PeakForce Tapping纳米级物性表征技术和专利的纳米红外光谱技术，使得它能够在纳米尺度下对样品进行纳米化学、纳米电学和纳米力学的关联性表征。只有Dimension IconIR具备：与FTIR完全吻合的红外光谱，优于10 nm的空间分辨率和单分子层灵敏度的高性能纳米红外光谱化学成像可与Peakforce Tapping纳米力学和纳米电学属性表征相关联高性能的AFM成像功能和极大的样品尺寸灵活性广泛适用的应用配件和AFM功能模式专利技术保证真实的红外吸收光谱AFM-IR通过采集样品的热膨胀信号（PTIR）还原样品的红外吸收光谱。由于检测区域的热膨胀只与样品在该波长下的吸收强度有关，而常规的傅里叶红外光谱（FTIR）检测的也是样品在该波长下的吸收强度，因此AFM-IR获得的红外吸收光谱与传统的红外吸收光谱高度吻合。红外吸收成像除采集指定区域的红外吸收光谱外，Dimension IconIR同时提供了固定红外脉冲波长，检测样品表面某一区域在该波长下吸收强度的功能。在该工作模式下，Dimension IconIR会将红外脉冲激光固定在研究者所选的波长，用AFM探针扫描需要检测的表面，记录探针针尖在每个位置检测到的红外吸收强度，并同时给出AFM形貌和该波长下的红外吸收成像。专利保护的接触共振技术专利保护的共振增强技术将测量灵敏度提高到单分子层级别，达到最高的光谱检测灵敏度。因为基于原子力系统的红外技术是以探针来检测样品表面在红外激光作用下的机械振动，随着厚度的减小，这种位移量变得极其微小，超出了原子力显微镜的噪音极限。我们利用专利保护的可调频激光优化脉冲信号频率，使之与探针和样品的接触共振频率吻合，那么这种单谐振子共振模式就能把微弱信号放大两个数量级。。智能光路优化调整，保证实验效率红外激光和AFM联用系统的最大挑战在于光路的优化，为了得到最佳的信号，在实验过程中光斑中心应该始终跟随探针针尖位置并保持良好的聚焦。但是在调频过程中，激光光束的发射角度会随着波长的变化而改变，进而改变光斑位置，聚焦状态也会变化。布鲁克采用全自动软件控制automatic beam steering和自动聚焦系统来修正光斑位置的偏移和聚焦，大大改善了传统联用系统需要手动调节的不便和低效率。同时全自动动态激光能量调整保证信号的稳定性，避免红外信号受激光不均匀功率的影响。

纳米摩擦计 (NTR3)是用于表征众多表面在低接触时的摩擦特性的独特仪器。该系统使用弹性的双悬臂梁和高精度电容传感器，可以精确且极线性地测量出法向和切向力。纳米摩擦计结合了原子力显微镜 (AFM) 的精度与销盘滑动磨损试验装置的稳定性、坚固性和使用简易性。NTR3 进一步扩展了销盘滑动磨损试验装置的应用范围，能够在几 μN 力和几百微米的位移范围内测量。总之，NTR 创造了纳米和微米摩擦测量的新范围。主要特点技术特点独特的双悬臂梁结构，法向力可高达 1000 mN（精度为 3 nN）两个用于感测法向力和摩擦力的独立高精度电容传感器，旋转和/或线性的往复运动高精度电容传感器与压电式驱动器的结合本底噪音低，可用于微米摩擦测量带有角传感器的旋转模块带有位移传感器的先进线性模块悬臂梁可选范围大其他功能附着力测量光学视频显微镜或 AFMX 和 Y 向载物台温度和相对湿度传感器连续的磨损深度测量专用的样品支架技术指标法向力和摩擦力 - 双悬臂梁标准 (ST)高载荷 (HL)高精度 (HR)最大载荷 [mN]100100010最小载荷 [μN]505005载荷精度 [μN]0.0330.003本底噪音 [μN]*1100.1* 本底噪音值取决于环境条件法向力测量：独立的高精度电容传感器摩擦力测量：独立的高精度电容传感器旋转模块转速：1 rpm 到 200 rpm（盘滑动磨损试验装置）磨痕半径：30 μm 到 20 mm（盘滑动磨损试验装置）磨痕半径精度：3 μm（盘滑动磨损试验装置）往复角：±10° 到 ±150 °可从旋转模块逆向转变成线性往复模块线性往复模块划频： 0.01 Hz - 10 Hz（线性摩擦计）行程长度：最大 2 mm（线性摩擦计）行程长度精度：250 nm（线性摩擦计）可从线性往复模块逆向转变成旋转模块

产品特点：GATTA-AFM纳米标尺具有准确、高度平行的结构，可以完美地用于检测或优化原子力显微镜。在实际环境中测试原子力显微镜可以达到的分辨率非常重要，不仅可以测出原子力显微镜达到产品标称分辨率的可能性，还可以测出实际使用时可达到的极限。如今GATTA也提供适合测试的GATTA-AFM纳米标尺，现在，有了GATTA原子力显微镜纳米标尺之后，就有了足够的测试样品，这些样本用DNA做成，呈现70nm*90nm*2nm（高）的长方体形状。技术参数：

原子力显微镜（工业型）产品简介基于专利的、源自德国的主动式针尖技术，百及纳米科技开发了下一代工业智能型原子力显微镜系统，针对工业领域应用提供快速、智能的样品形貌表征，适用于工业型检错、质量评定和量化测量等，尤其适用于检测大尺寸晶圆或光学晶圆。系统集成了大尺寸样品位移台、全自动光学导航系统和配套自动控制软件，可对大尺寸样品进行的光学成像定位，根据光学成像结果自动标定多个准确测量区域，并根据缺陷/待测结构的特点进行模式识别，智能选取原子力显微镜测量参数，在样品多个位置间自动移动，进行可重复的高分辨率测量，生成检测书面报告，整个过程无需人工参与，实现对大尺寸样品形貌的智能化、自动化的高速、高质量纳米级测量。产品特点： 顶级自动化功能、测量过程无需激光调节、即插即用式针尖更换方案、快速自动进针， 针对高深宽比的沟槽或孔洞结构，采用特制的长针尖提供微纳米结构的三维形貌准确测量， 可升级至多针尖并行测量模式，大幅提高微纳结构表征的范围和效率， 可升级为基于针尖光刻的微纳米结构高性能加工系统，大气环境下快速直写5nm以下结构。功能指标样品尺寸100 mm x 100 mm (4英寸) 至 300 mm x 300 mm (12英寸)成像分辨率优于1 nm (水平方向：0.3 nm, 垂直方向：0.2 nm)样品台定位精度运动精度优于1nm，重复精度优于10nm，采用闭环回路定位准确控制。单场扫描范围 (X, Y, Z)35μm x 35μm x 10μm （备选: 100μm x 100μm x 30μm）测量模式1. 非接触式（形貌、相位、误差） 接触式&力曲线2. 扩展模式(导电探针(C-AFM)、开尔文探针力显微镜 (KPFM)、磁力显微镜 (MFM)、扫描针尖光刻 (SPL)等)

百及纳米ParcanNano 高速原子力显微镜AFM系统 产品简介公司以全球独家专利的探针技术为核心竞争力，技术源自于德国伊尔默瑙工业大学 Rangelow 教授，致力于主动式探针技术在微纳米结构制备和表征方面的研发，及其相关设备的产业化。 本款扫描探针显微镜使用主动式智能探针，集传感器、驱动器和可功能化的探针于一身，实现自激发和自传感，无需复杂的激光校准，是取代现有 AFM 激光传感的巨大改进，具有极高性价比优势。该系统可在大气、液态及真空环境下实现对微纳米结构的高速、高效表征，成像精度达到 0.3 nm 的极限精度。 产品拥有像美国麻省理工学院、加州伯克利国家实验室、荷兰德尔夫特大学和清华大学等国内外知名科研客户，以及韩国三星、荷兰 ASML 等高端工业客户。扫描示例：

百及纳米ParcanNano 单离子注入系弘SII（纳米级定位单离子注入系统SII） 单离子注入系统（纳米级定位单离子注入系统SII）产品简介公司中德技术团队家研发了一款基于新型扫描探针精准定位的离子注入 系统，能有效控制注入半导体器件的杂质种类、数量和位置，实现多种离 子（如 H、N、O、Si、P、B、As、Te、Ar 等）的精准定位定量掺杂注入。该 系统可以满足量子比特阵列,金刚石中的氮空位中心（NV 色心）以及单原子 器件的工艺精度要求，研制的设备可用于探索纳米结构器件、量子比特系 统和量子信息处理器电路的开发。 公司的一项革 命性发明专利，解决了注入离子由于晶格散射带来的位置 不确定性问题，颠覆性地将注入离子在晶体中位置的误差缩减到 10nm 以 下，实现纳米级精确定位注入掺杂离子。技术特点：• 精准确定位定量离子注入• 针尖悬臂上的小孔小于50nm• 锥形电场稀释和准直离子束• 横向电场形成离子闸门应用领域：• 功能材料定位掺杂• 纳米尺度功能器件制备• 固态量子信息技术相关图片

本原纳米原子力显微镜BY1000-3000BY系列扫描探针显微镜--高性价比的扫描探针显微镜/原子力显微镜/扫描隧道显微镜BY系列仪器包括三种机型:BY1000 扫描隧道显微镜(Scanning Tunneling Microscope,STM)BY2000 原子力显微镜(Atomic Force Microscope,AFM)BY3000 扫描探针显微镜(Scanning Probe icroscope,SPM)性能优越原子级分辨率和稳走度大样品腔设计，适应性强主控制系统采用德州仪器(TI)32位高性能数字信号处理器(DSP)高压扫描驱动采用APEX集成高压运算放大器主控制系统内置实时操作系统 系统采用快速以太网接口(Fast Ethernet)与计算机连接基于Windows 11/10/8/7/Vista/XP/2000的在线控制软件和图像处理软件

名称：GATTA-AFM (原子力显微镜)纳米尺 应用：用于原子力显微镜测试及校准 Testing the achievable resolution of atomic force microscopes under realistic conditions is important in order to know the possibilities but also the limits of real applications. With GATTA?AFM nanorulers, now adequate test samples are finally available. These DNA-based samples are in a well-defined rectangular shape with a size of 70 nm times 90 nm and a height of 2 nm. The GATTA-AFM nanorulers represent accurate and highly parallelized structures and are therefore perfectly suited to optimize and test the resolution of atomic force microscopes.The samples are shipped in solution. The amount of material is sufficient for at least 10 AFM surfaces, densely packed with DNA?origami rectangles. The ladder like substructure in the middle of the GATTA-AFM sample shows a line spacing of around 6 nm. Samples are shipped in solution. 尺寸:≈ 90 nm x 70 nm x 2 nm建議 使:Tapping Mode in liquid梯间距 正中接縫:6 ± 1 nm卷: 20 μl浓度: 2 nM

本原纳米CSPM5500原子力显微镜1.系统功能:①*原子力显微镜(AFI)/摩擦力/横向力显微镜(LFI):横向 0.2rm,垂直 0.1mm，包括接触、轻敲、相移成像等多种工作模式 支持形貌/振幅/相移，形貌/探针起伏/横向力多路信号同时成像 支持全系列 AFI探针，轻敲兼容比~2MEz工作频率 ②)*扫描隧道显微镜(ST0):横向 0.1nm，垂直 0.01nm，包括恒高、恒流工作模式 检测头具备微电流放大处理能力，可以拓展对样品进行实时、原位的电特性检测，可通过更换不同探针架，从而在同一探头下实现扫描隧道显微镜或原子力显微镜的测试功能 可扩展扫描隧道显微镜和扫描微电极联用测量系统及其测量技术，实现电极表面结构-电化学性质原位同时测量 ③*预留开放接口，可升级磁力显微镜,静电力显微镜、纳米加工、导电原子力显微镜、扫描探针声学/压电力显微镜、液相扫描探针显微镜 ④*密闭系统:具有探针-样品体系的密闭系统，大口径石英顶视窗和内置亮度连续可调的照明光源，便于实时监控和样品宽光谱辐射处理。可扩展为高精度温度控制器和冷热一体控温台，无需更换台体，即可实现样品高低温控制及连续变温控制，实时原位检测温度对样品性质的影响 5*具备数字化光学显微镜系统:包括光学显微镜、数码彩色摄像机、高度连续可调照明光源。2.参数性能:少电流检测灵敏度:10pA安力检测灵敏度::1nN国图象分辨率:128X128，256X256，512X512，1024X1024，2048X2048，4096X4096安扫描角度:0~360°园扫描频率:0.1~100Hz3.电子控制系统:①*内置德州仪器(TD的双核处理器(DSP+ARM) @*嵌入式 PID 自整定智能调节器，无需手动设置，系统自动整定优化参数 ③*采用国际主流以 DSP 技术为基础实现完全数字反馈控制系统方案 ④*设计系统信号的监测接口和外加调制信号的输入接口，预留多通道的信号输入/输出和标准电源供电接口，采用标准D型插头，信号定义(Power、AD/DA、DID0、SignalOut、SigralIn)全部公开并遵从统一的电气标准 ⑤)*融合以太网 TCPI 协议和高速 USB的双通讯接口，完全实现采样点的高实时性和时间间隔的准确性，确保通讯的高稳定和数据的可靠性 @*具有 16X4液晶显示屏，实时交替显示系统状态指示、序列号、物理地址，接收数据包数里/发送数据包数里等。4.机械性能:①*探头采用大底座三螺杆支挥全开放结构，全自动步进电机控制进样，无需手动粗调，行程 30mm,定位精度 50mmv步:②*大平台直径为 200mm，预留 20mmx20mm 的I4螺孔阵列，固定外加激光、传感器、光照等装置 ③样品尺寸:最大可达直径45mmm，厚度30mmm，重里160g。

l纳米团簇束流沉积系统由纳米团簇源、质量选择器、沉积系统构成。 l可以用于基于纳米粒子的器件加工，可在结构、化学组分、封装等不同环节上对纳米结构单元进行操纵。l可用于纳米粒子膜的大规模工业化制备。l工艺过程高效、快速和低成本。v创新的镀膜、沉积设备 v新型的纳米颗粒制备设备 纳米粒子源通过气相聚集过程及差分束流系统形成纳米团簇束流，由质量选择器进行筛选，然后在高真空下以声速（低能）或被加速（高能）沉积于基底上。1、纳米团簇束流沉积系统——纳米团簇源l纳米粒子的平均直径：0.5～35nm（1 ～ 106个）可调。 l纳米粒子的尺寸分布（FWHM）：2～5nm。 l可选用多靶套件。 l可选用粒子弯头，实现多种团簇沉积或取样。 l相比传统磁控溅射系统，节约大约50%氩气。 l靶材可以是金属（包括碱金属、贵金属和特高熔点金属，例如：锇、钨）、非金属（常温常压下固态非金属单质和化合物）、半导体（例如硅、锗）、能在真空存在的固态有机材料等。2、纳米团簇束流沉积系统——质量选择器l基于德国科学家的时间飞行法对小团簇进行原子数级的质量选择，可以从“白”束流中分选出pA-nA流量的单原子数组分束流，质量选择精度为0.5 ～2%。 l1-200单原子可控。l尺寸选择精度：亚纳米级。 l通量：1010/s ～ 1011/s(1-10nA)。l选择后束流原子数在1 ～10000之间，选择精度优于20，可达200。3、纳米团簇束流沉积系统——沉积系统l纳米薄膜沉积速度可监控，并在0.05 ～2nm/s连续可调。 l标准纳米束流直径：0.5 ～25mm可调，可选配样品X-Y扫描器，制备150×150mm以上样品。 l可实现加速动能为1 ～40keV的荷能纳米粒子沉积。 l系统背景真空度可达10-9Torr。 l控制沉积速度（声速）并配合控温台（选配）实现沉积过程不升温。 l可选配快速降温组件，实现退火，得到一些特殊相。 l可用于制备纳米颗粒。

仪器简介：随着纳米技术、MEMS技术、半导体工业的飞速发展，对纳米级精度的移动定位装置、操纵装置、加工装置等的需求也在快速增长。为了满足这一市场需要，我们推出了一系列纳米定位、微操纵装置。纳米精度定位装置该系列产品设计极为紧凑，可以使样品或探针作直线或旋转移动。而且很多型号可以工作在极端环境条件下，例如极低温、超高真空、强磁场等。这些设备可以提供多种不同尺寸和材料，开辟了一个全新的定位设备的市场，在很多领域开拓了全新的研究方向。●适应各种极端工作环境：低温、超高真空、强磁场●提供多种运动自由度：XYZ直线、旋转、XY扫描、Z扫描、Θ、Φ等等，并且可以任意组合●定位精度高达纳米级● 很高的稳定性，无机械漂移、无回差、无需高压●负载大，可达自重的数倍●部分型号具有两种工作模式，单独一个设备既可以实现粗定位，也可以用于扫描●部分型号可选配多种位置读出设备，实现闭环控制●可根据客户要求定制各种特殊定位装置纳米级操纵装置，适用于SEM, TEM, FIB系统纳米马达拥有原子量级分辨率，运动行程达厘米级，横跨8个数量级，可提升6倍于自身重量的物体，并适应多种工作环境，包括超高真空、磁场、甚至液氮。纳米定位平台●最大承重量为2kg●行程：5~70mm●运动速度： 2 mm/s●运动分辨率：2nm ●定位传感器分辨率：10nm机械手包括微操作机械手、力反馈机械手、XYZ机械手等，可对夹持力进行精确控制，具有分辨率高，行程大，设计灵活等特点。

纳米银粉超高速纳米研磨分散机，纳米铝粉银粉高剪切研磨分散机，纳米金属粉体超高速研磨分散机，机械法循环型研磨机，金粉耐磨高速分散机，珠光防伪变色油墨研磨分散机 纳米金属颗粒具有量子尺寸效应、小尺寸效应、表面效应、宏观量子隧道效应，并且有许多奇特的电学、光学、磁学性能，使它在航天、原子能、军事、电子、化工、冶金等工业有着重要的应用价值。纳米金属粉体分散液可广泛用于涂料、油墨、电子工业等域。 目随着纳米金属粒子的生产工艺逐渐成熟，它的应用也随之扩大。在其应用过程中，较突出的问题是纳米金属粒子由于表面积大和表面能高，在制备、后处理及应用过程中易发生粒子凝结、团聚、形成二次粒子，使颗粒粒径变大，从而失去纳米粉末所具备的性能。研究者们为提高纳米金属粒子的分散性和稳定性，提出了一些有效的方法。 根据我司为多家客户定制方案，建议采用的方案为：在罐体内先进行固体物料的简单混合,将需要的配比浓度的物料投入罐体内,开动低速搅拌机进行简单混合,使得物料形成较为均一的物料；然后再罐体底部的物料出口开动阀门使得物料由管路进入我司的管线式研磨分散机进行剪切研磨分散处理,经过剪切研磨分散后在由设备的出口管路输送进入罐体内,实现物料的一次循环处理！经过多次罐外循环处理能达到很好的分散悬浮效果,物料颗粒细度均一。纳米银粉超高速纳米研磨分散机，纳米铝粉银粉高剪切研磨分散机，纳米金属粉体超高速研磨分散机，机械法循环型研磨机，金粉耐磨高速分散机，珠光防伪变色油墨研磨分散机 纳米金属粉体超高速研磨分散机是胶体磨和分散机的一体化设计，相对于胶体磨和分散机的串联而言更具优势。胶体磨与分散机串联的话存在时间差，当物料通过胶体磨之后，磨细后物料会出现抱团的现象，再经过分散机分散，效果不是很好。而CMSD超细研磨分散机的话，物料磨细后，瞬间又通过分散工作组，进行分散，在物料还未抱团之，就进行了分散，一个瞬间作用，效果会好很多。从设备角度分析，影响分散结果的因素有以下几点：1 分散头的形式（批次式和连续式）（连续式比批次好）；2 分散头的剪切速率 （越大，效果越好）；3 分散头的齿形结构（分为初齿，中齿，细齿，超细齿，约细齿效果越好）；4 物料在分散腔体的停留时间，分散时间（可以看作同等的电机，流量越小，效果越好）；5 循环次数（越多，效果越好，到设备的期限，就不能再好）。纳米金属粉体超高速研磨分散机设备结构： 第yi由具有精细度递升的三层锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每都可以改变方向。第二由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子（乳化头）和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为 在对输送性的要求方面，特别要引起注意的是：在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是转子齿的排列，还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例，依据以的经验选取相应的工作头来满 足一个具体的应用。在大多数情况下，机器的构造是和具体应用相匹配的，因而它对制造出产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。设备等：化工、卫生I、卫生II、无菌电机形式：普通马达、变频调速马达、防爆马达、变频防爆马达、气动马达电源选择： 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ电机选配件： PTC 热保护、降噪型均质机材质：SUS316L 、SUS316L 、SUS316Ti均质机选配：储液罐、排污阀、变频器、电控箱、移动小车均质机表面处理：抛光、耐磨处理进出口联结形式：法兰、螺口、夹箍均质机选配容器：本设备适合于种不同大小的容器.IKN管线式研磨分散机的技术参数：研磨分散机流量*输出线速度功率入口/出口连接类型l/hrpmm/skWCMD 2000/470014000404DN25/DN15CMD 2000/55,00010,5004011DN40/DN32CMD 2000/1010,0007,3004022DN50/DN50CMD 2000/2030,0004,9004045DN80/DN65CMD 2000/3060,0002,8504075DN150/DN125CMD 2000/501000002,00040160DN200/DN150*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，同时流量可以被调节到大允许量的10%。1 表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。2 处理量取决于物料的粘度，稠度和终产品的要求。纳米银粉超高速纳米研磨分散机，纳米铝粉银粉高剪切研磨分散机，纳米金属粉体超高速研磨分散机，机械法循环型研磨机，金粉耐磨高速分散机，珠光防伪变色油墨研磨分散机

——纳米力学和纳米摩擦学测试系统，加速纳米力学研究进入更高阶段。布鲁克的海思创TI 980 TriboIndenter同时具有良好的性能、灵活性、可信度、实用性和速度。基于海思创几十年的技术创新，它为纳米力学表征带来了更高水平的性能、功能和易用性。TI 980达到了一台优异纳米力学测试仪器所需的所有要求，实现了控制上突出的先进性和高效性，试验上的灵活度与可实现性，测量稳定性，以及系统设计的模块化。先进的Performech II控制模块和电子设计高性能的高速闭环控制业界噪音控制集成的带输入/输出信号的多参数控制五百倍于前代产品的力学测试速度多维度测量耦合充分优化各个传感器的特质适用不同测量需要，通过多维传感器的选择实现不同测量间的无缝耦合多种有效的测试模块配置，包括纳米/微米压痕、纳米划痕、纳米摩擦磨损、高分辨原位扫描探针显微镜成像、动态纳米压痕和高速力学性能成像等。丰富的系统控制和数据分析软件TriboScan(TM) 10提供了创新性的控制功能，包括XPM超快纳米压痕，SPM+原位扫描探针显微镜成像，动态表面搜索，全自动系统校准和创新的测试程序。Tribo iQ (TM)提供了强大的数据处理、分析和画图功能，并具有可编程数据分析模块和自动生成的定制测试报告功能。极大的灵活性和具有前瞻性的表征潜质布鲁克纳米压痕仪Ti 980提供了多级别的防护罩提供了超强环境隔绝能力，并具有用于将来的升级可扩展接口样品台提供了机械、磁性和真空固定方式，适用于各种样品。始终处于材料研究和开发的最前沿海思创从1992年起就在全球范围内处于纳米力学和纳米摩擦学表征的位置。通过与研究人员和工程师的持续合作，布鲁克理解您的独特需求，通过创新的技术帮助您解决当下和将来面临的材料挑战。海思创TI 980 TriboIndenter是这些努力的集大成者。它提供了卓越的性能，能满足您持续更新的材料表征需求。简洁、高速的自动控制——系统自动校正使得每次测试都无懈可击针尖面积函数自动校正传感器自动校正压针和光学系统校正自动测试程序快速、多样品自动测试功能实现高通量表征智能化自动程序确保用户选择合适的针尖高分辨多尺度成像结合全尺寸样品的光学搜索，极大简化测试流程低的噪音水平，实现真正纳米尺度表征从微米到几个纳米的多尺度测量纳牛级别的力噪音水平和小于90%原子直径的位移测量能力，实现几乎任何材料的定量表征系统可实现超过6个数量级的力测量和10个数量级的位移测量力和位移噪音水平保证在客户现场安装时实现最快的反馈控制速率布鲁克纳米压痕仪Ti 980精确控制测试过程实现精度、可信度和重复性的真正定量纳米力学和纳米摩擦学表征特殊的力和位移反馈控制方法用于海思创的传感器-专门针对海思创传感器物理特性开发的力与位移反馈控制算法每隔0.013毫秒实现一次完整反馈控制，使得系统能测量快速瞬态过程，并对其作出反馈，真正实现用户的测试意图-每隔0.013毫秒实现一次完整的感知-分析-控制的循环，使得系统能对瞬态过程进行测量与反馈，以此重现用户定义的测试方式强大的测试模块配置，放大化您的表征潜能自下而上的先进设计提供了世界zui xian jin的纳米力学测试系统实现最丰富的潜在测试能力Performech II高级控制模块精确控制纳米力学测试过程力和位移噪音水平实现测量精度和重复性超快反馈控制算法提供整个测试过程的精确控制专为各种不同测试而开发的一整套高性能传感器多达24个通道的数据采集能力，每个通道都能同时达到1.2MHz采样率多个测试头的耦合——一整套传感器适用于各种测试任务任意两个测头之间无缝连接标配二维传感器和nanoDMA III传感器实现系统的多种测试功能和高性能多种有效的测试模块配置纳米压痕：硬度，模量，蠕变，应力弛豫，断裂韧性、高速力学性能成像纳米摩擦：薄膜结合力，摩擦系数，抗划擦性能，磨损扫描探针显微镜成像：形貌和梯度成像，纳米级别定位精度，摩擦力成像动态纳米压痕：随着深度连续测量硬度和模量，存储模量，损失模量，损耗角正切布鲁克纳米压痕仪Ti 980nanoDMA III：动态纳米压痕布鲁克的nanoDMA III是强大的动态纳米压痕技术。它提供了弹/塑性和粘弹性随着压入深度、频率和时间的变化关系。全面表征各种材料的普适性方法，从较软的聚合物到硬质镀层都能适用；集成直流和交流调制使得从初始接触点开始就能实现纳米尺度动态性能的可靠、定量表征；原位参考频率法校正温漂使得长时间测试的精度大大提高。XPM：快速力学性能成像不论是测量分辨率和精度，还是测量速度，XPM都是纳米力学测试的业界新标杆。有了XPM，原来可能需要一整年才能获得的数据，现在只需要一个下午就能获得。这些性能是通过以下三个技术实现的。1）高带宽静电激励传感器；2）快速控制和数据采集电子系统；3）自上而下的原位扫描探针显微镜成像。这些技术联用能实现每秒六次纳米压痕测试，从而获得全面的定量纳米力学性能图谱以及性能分布的统计数据。更少时间测量更多参数超高速定量力学性能测量（每秒6次测量）快速、高分辨空间硬度和模量分布统计一分钟内可靠完成针尖函数自动校正；比传统纳米压痕测试快500倍的数据采集速率 xSol 环境控制腔及载台，可实现极端环境条件下高通量测量。SPM+实现纳米力学测试前后的准确原位成像布鲁克首创的扫描纳米压痕技术使用同一根探针实现样品表面形貌成像和纳米压痕测试。这种方法实现了定位精度，并且可以在纳米压痕测试后立即对样品塑性形变进行成像，加快测试速度。高定位精度（+/-10nm）——可以从64x64到4096x4096范围内设定扫描分辨率，可以对各种高长宽比的特征形貌进行不同X-Y分辨率成像，纳米力学性能成像分辨率和调色板，可以和摩擦力成像，nanoDMA III，nanoECR和xSol环境控制腔等联用强大的系统控制和分析TriboScan 10：强大的测试灵活性提供了无限的测试可能性将布鲁克纳米压痕全套测试技术集成到一个直观的软件内，基于标签页架构的软件设计使得用户可以方便的使用软件功能，灵活的测试过程分段定义方法提供了适用于所有测试模式的优异控制TriboIQ: 可编程数据分析程序易用的操作界面，从简单到复杂的可定制数据分析包直观的数据组织和分析流程，简单点击即可生成数据报告直观可自定义的数据处理和分析模块开放式架构使得多用户合作更加容易海思创TI980升级选项xSol环境控制腔与载台环境控制腔实现了定量纳米力学性能和纳米摩擦学特征随着温度、气氛和湿度的变化。nanoECR纳米压痕测试的原位导电特性可以和纳米力学性能，材料形变行为和接触电阻等同步研究。xProbe基于MEMS传感器的探针可以实现原子力显微镜级别的超低力和位移噪音水平。iTF专利的原位薄膜力学性能分析包提供了排除基底效应影响的薄膜和多层膜结构的定量力学性能。3D OmniProbe和多量程通过扩展力和位移测量量程实现微米尺度的力学和摩擦学特性表征。NanoProbe同步拉曼光谱原位研究力学性能和摩擦学特性与材料结构和化学成分的相关性。模量成像动态扫描纳米压痕模式提供材料表面的定量、高分辨模量分布。荧光显微镜联用集成荧光显微镜可实现荧光共定位纳米力学测试等。电化学模块实现氧化和还原环境下的原位定量纳米力学和纳米摩擦学行为研究。自动探针更换模块按钮操作的自动探针更换模块。样品台多尺度的磁性、机械和真空固定方式可以固定几乎所有待测样品，包括300mm晶圆。TriboAE&trade 声音传感器能通过针尖原位监测纳米压痕过程中的断裂和形变产生的声音信号。TriboImage&trade 纳米尺度划痕/磨损的实时表征。

单轴长行程压电纳米位移台基于粘滑仿生运动原理及特殊设计的驱动和纳米伺服技术，具有纳米级重复定位精度，可实现数百mm的运动行程。该促动器结构紧凑，具有较高的保持力与长期的稳定性，能够实现跨尺度的纳米定位和复杂的轨迹运动。支持面向不同应用和需求的产品开发与定制。技术特点：长行程：16mm高分辨率：传感器分辨率为1.2nm超高精度：最小步长2nm运动速度：可达10mm/s高稳定性：保持力可达8N超高真空兼容性；运动模式：支持开环与闭环轻量化、结构紧凑，高可靠性模块化设计，摩擦单元可替换应用领域：扫描电镜（SEM）样品操纵主动光学超分辨成像样品移动大范围电子束直写（EBL）微纳装备及制造集成电路制造与检测高真空样品精度对准及调姿纳米聚焦与扫描显微及纳米CT

产品特点：金纳米螺旋标尺（L，R）是手性的纳米标记物，尤其适合于3D断层扫描，电子显微镜（EM）或冷冻电镜。我们的手性标记物显示纯手性（L或R），由于高对比度和金纳米颗粒的精准排列，可以很容易地被电镜检测到。金纳米螺旋标尺（L，R）是用DNA折纸技术制备，金纳米颗粒（10nm）被排列成纳米螺旋（螺距57nm 长110nm 直径34nm）。纳米标尺，AFM纳米标尺，原子力显微镜纳米标尺，共聚焦显微镜纳米标尺，超高分辨显微镜纳米标尺，SIM纳米标尺，STED纳米标尺，STORM纳米标尺，电镜纳米螺旋标尺，金纳米螺旋标尺，显微镜亮度灵敏度标尺，显微镜纳米标尺技术参数：在透射电镜载网中：样品放在干燥的透射电镜载网上使用，以提高由银增强放大了的螺旋效果。样本存储在石蜡膜覆盖的塑料孔中进行运输。保质期是6个月。在缓冲液中:该纳米螺旋储存在缓冲液（1X TE，11mM MgCl2）中运输。样本量约为30μL，这个量足以用于10个以上的TEM。样品保存于低温的保温盒中进行运输。适当的储存条件下（避光，4℃），保质期为3个月。

一.机型称号：纳米粒子颗粒微粒研磨混合机，药物研磨混合机，毫微米研磨混合机，超飞快研磨混合机，水管式研磨混合机，3级研磨混合机，高剪切研磨混合机。二.研磨机：机型19款，处理量50到8*10000KG/小时，旋转1100到1.4*10000转/分钟，线速度23到44m/秒，电滚功耗1.5到160kW，磨头胶体磨&锥体磨。三.研磨分散机：机型6款，处理量50到6*1000KG/小时，旋转1100到9*1000转/分钟，线速度23m/秒，电滚功耗2.2到150kW，磨头胶体磨。四.小型分散乳化机：机型30款，处理量0.2克到10KG/小时，旋转50到3*10000转/分钟，线速度3到33m/秒，电滚功耗0.3到0.8kW。五.真空分散乳化机：机型32款，处理量5到2*10000KG/小时，旋转14到1.4*10000转/分钟，线速度44m/秒，电滚功耗0.18到120kW。六.均质匀浆机：机型4款，处理量0.2到150克/小时，旋转3500到8*1000转/分钟，线速度3到10m/秒，电滚功耗0.145到0.18kW。七.多效用分散乳化均质机：机型27款，处理量150到12.5*10000KG/小时，旋转960到1.4*10000转/分钟，线速度10到44m/秒，电滚功耗1.5到160kW。八.混合机：机型I6款，处理量300到12.5*10000KG/小时，旋转1100到9*1000转/分钟，线速度20到23m/秒，电滚功耗1.5到160kW。九.实用物料种类：胶粘溶胶，巨粒子固态液体悬空液乳剂，不包溶等。十.终级粒径：主腔内有叁组定转子，每组粗齿、中齿、细齿、超细齿。调动定转子间隙，加工后地终级粒径在10微纳米之下。十一.胚料配件：百分之八十以上进ロ海内外公司。十二.技艺出处：引荐德国技艺，立发明加工，备有专利。十三.工作方式：有在线式，批次式，内外循环式，水管式，可倒式，若干效用式。十四.机型合成：靠预加工锅、搅动锅、泵、液压系统、倒料系统、电力调动系统、主腔等部件合成。十五.智力化：CIP冲洗系统，液压升降松盖，包括配料给料吸料安装。十六.磨头好处：研磨头可调5款模版，6款分散头，20多款工作头。十七.锥磨好处：锥磨转子外层包含金属碳化物跟不一样粒子地陶瓷镀层等高上材料，提防毁伤腐蚀。十八.机型材料：统统接碰物料地材料皆是进口耐酸钢，主腔跟管路内乃亮面抛光三百EMSH（卫生级），无死角。十九.密封好处：博格曼双机械密封，液压平稳系统（可以担当16atm重压），软密封。二十.搅动方式：可挑刮壁式/锚固式/融解式/叶面式。二十一.机型好处：机型采选上层同轴三重装搅动器，循环管路，出水阀。二十二.操控箱好处：不但可以操控电滚旋转，摄氏度降温升温（经历电能，热汽，油水循环，可以担当-40到250摄氏度），重压，PH度，粘性。且可以设定不一样效用模版，呈现相称地个个参数，可以线性扩大量产。?.可抉选：参观窗，硅氟酸玻璃参观，电导率计，二层绝缘保护，稳定夹，作业台，底盘，图案解析多功用显微硬度仪（测量界线1—4千维氏硬度），管路式测量电炉（测量界线zui高1350度），传送泵/转子泵/气动隔膜泵/锚杆泵/离心泵（产量850—4.3万升/H），反应翻搅单罐/多罐（500—3千升/H），反渗入/全自动纯净装备（0.5—3千升/H)，超氧产生器，过流式紫外光灭菌器等。?.别的特长：整体立方小，电耗低，分贝低，可每日不断出产。?.访客垂访：按照访客实况必要恰当抉选！别的可订制非标和生产线！假若是非常情况，比方超温，超压，易烧易炸，侵蚀性，可产品升级！?.物料测量：得到访客物料后当即投入测量，瞧可否到达要求&答复测量进程&成果。?.方案价格：断定好产品功用后当即策画方案，包含2D部署图，总安装出产线表示图，立体成果图，&呈上本该得价格单子！?.结语：我们是出产厂家，详尽信息可以企业查看，因此分外恭候访客去垂访&更深一步长谈！以上信息不容坊造，非常道谢！扩展内容可不看：纳米颗粒是指粒径在1-100nm之间的颗粒（纳米颗粒也称为超细颗粒）。 属于胶体粒径范畴。它们处于原子团与宏观物体之间、微观系统与宏观系统之间的过渡地带，是由少量原子或分子组成的群，既不是典型的微观系统，也不是典型的宏观系统。1959 年末，诺贝尔奖获得者 Richard Feynman 在一次演讲中提出了纳米的概念，但对纳米粒子真正有效的研究始于 1960 年代。 1963年Uyeda等人采用气体冷凝法制备金纳米粒子。1984年以来，德国科学家格莱特等人通过惰性气体冷凝法成功获得铁纳米粒子，标志着纳米科学技术的正式诞生。 近十年来，越来越多的科学家致力于纳米材料的相关研究，在制备、性能和应用等方面取得了丰硕的研究成果。可以预见，纳米粒子应该具有一些新颖的物理和化学性质。 纳米粒子与宏观物体的区别在于其表面积占很大比例，表面原子既没有长序也没有短序无定形层。可以认为，纳米粒子表面的原子状态更接近于气态，而粒子内部的原子可能呈有序排列。即便如此，由于粒径小，表面曲率大，内部会产生很高的Gilibs压力，这会导致内部结构发生一定的变形。 纳米粒子的这种结构特征使其具有以下四种作用：音量效果，表面效果，量子尺寸效应，宏观量子隧穿效应。

产品描述PSWH30-005U系列是具有纳米级定位分辨率的高速，多轴，精密纳米定位系统。本系列产品提供多功能性，可以配置XY或XYZ运动，并拥有独立的Z/X轴运动产品。可选配内部位置传感器进行闭环，可进行重复的位置测量。体积小，外形尺寸仅有30x30x33mm，具有高谐振频率，高稳定性，高精度使其非常适合需要低噪声和高速性能的计量应用。可根据客户要求定制。PSWH30-005U系列压电陶瓷元件直接移动工作台面，具有高刚性，即使在高负载下可实现稳定定位。产品特性—高速1ms响应，多轴定位—最短的响应时间—亚纳米范围内的高分辨率—高度紧凑的设计带来卓越的性能选配功能—可定制孔位及转接装置—可选PZT&Sensor连接器及线缆长度—可选配闭环(SGS) 位置反馈系—可提供XYZ版本应用领域—原子力显微镜、扫描探针显微镜—测量、计量—光学探针、光学扫描、光束对准—微流体技术 结构原理 叠堆形式 典型应用PSWH30-005U系列技术参数

产品描述PS2H30-005U系列是具有纳米级定位分辨率的高速，多轴，精密纳米定位系统。本系列产品提供的多功能性，可以配置XY或XYZ运动，并拥有独立的Z/X轴运动产品。可选配内部位置传感器进行闭环，可进行重复的位置测量。体积小，外形尺寸仅有30x30x30mm，具有高谐振频率，高稳定性，高精度使其非常适合需要低噪声和高速性能的计量应用。可根据客户要求定制。PS2H30-005U系列压电陶瓷元件直接移动工作台面，具有高刚性，即使在高负载下可实现稳定定位。产品特性—高速1ms响应，多轴定位—最短的响应时间—亚纳米范围内的高分辨率—高度紧凑的设计带来卓越的性能选配功能—可定制孔位及转接装置—可选PZT&Sensor连接器及线缆长度—可选配闭环(SGS) 位置反馈系—可提供XYZ版本应用领域—原子力显微镜、扫描探针显微镜—测量、计量—光学探针、光学扫描、光束对准—微流体技术 结构原理 位移特性 典型应用PS2H30-005U系列技术参数

neaSCOPE纳米光谱与成像系统neaSCOPE是德国neaspec公司推出的全新一代散射式近场光学显微镜（简称s-SNOM），加载了全新技术，拓展了产品功能，以满足客户多样的实验需求。基于化的散射式核心设计技术，neaSCOPE大地提高了光学分辨率，并且不依赖于入射激光的波长，能够在可见、红外和太赫兹光谱范围内，提供优于10 nm空间分辨率的光谱和近场光学图像。neaSCOPE同时支持s-SNOM功能与纳米红外（FTIR）、针增强拉曼（TERS）、超快光谱（Ultrafast）和太赫兹光谱（THz）进行联用，实现高分辨光谱和成像。由于其高度的可靠性和可重复性，neaSCOPE已成为纳米光学领域热点研究方向的选科研设备，在等离子激元、二维材料声子化、半导体载流子浓度分布、生物材料红外表征、电子激发及衰减过程等众多研究方向得到了许多重要科研成果。设备特点：行业的针增强技术，高质量的纳米分析实验数据。功能多样、可靠性高，已得到大量发表文章的印证，在纳米光学领域有很深的影响力，是国内外实验室的头号选择。软件使用方便，提供交互式用户引导功能，新用户也能快速上手。流程化的软件界面，逐步引导用户轻松完成实验操作。采用模块化设计，针对用户的实验需求量身定制配置，同时兼顾未来的升需求，无需重复购置主机。s-SNOM基本原理：一个被照明的颗粒会在其周围形成增强的光场，而这个近场会被其附近的样品改变，这种近场互相作用会导致在远场接受到的散射光带有样品局部的光学性质。当一束激光（可见，红外、太赫兹）聚焦到一个标准金属涂层AFM针上时，会在针点形成一个比激发波长小几千倍，尺寸只由针曲率半径决定的纳米焦点。这个纳米焦点别用来局部探测样品，通过记录探针扫描样品过程中的散射光可以获得近场光学成像。设备型号：所有产品都包含支持红外、太赫兹和可见光波长范围的纳米尺度成像和光谱的化订制AFMIR-neaSCOPE基于AFM 针的激光诱导光热膨胀（PTE+）的纳米红外成像和光谱。VIS-neaSCOPE+s局部电磁场偏振分辨的近场成像（振幅和相位）。IR-neaSCOPE+s探测商用AFM针的弹性散射光，实现纳米红外成像和光谱。cryo-neaSCOPE+xs低温环境下的纳米尺度光学成像和光谱THz-neaSCOPE+xs纳米尺度太赫兹(THz)近场成像和光谱平台IR-neaSCOPE+fs10fs 时间分辨率和 10nm 空间分辨率的超快泵浦光谱。IR-neaSCOPE+TERsnano-FTIR与nano-PL和TERS相结合，突破性的纳米尺度光谱探测技术。Comparison Table参考不同型号功能，选择适合您研究需求的neaSCOPE。标准原子力显微镜功能光热膨胀功能轻敲式原子力红外吸收光谱散射式近场光学成像与光谱近场透射模式纳米傅里叶红外光谱与成像近场泵浦-探测高速全息成像纳米太赫兹时域光谱针增强拉曼/纳米光致发光开尔文探针力、导电力、压电力、探针力显微功能Available for all room-T systems共聚焦显微功能Upgrade Available

一.机型称号：纳米碳管研磨混合机，药物研磨混合机，毫微米研磨混合机，超飞快研磨混合机，水管式研磨混合机，3级研磨混合机，高剪切研磨混合机。二.研磨机：机型19款，处理量50到8*10000KG/小时，旋转1100到1.4*10000转/分钟，线速度23到44m/秒，电滚功耗1.5到160kW，磨头胶体磨&锥体磨。三.研磨分散机：机型6款，处理量50到6*1000KG/小时，旋转1100到9*1000转/分钟，线速度23m/秒，电滚功耗2.2到150kW，磨头胶体磨。四.小型分散乳化机：机型30款，处理量0.2克到10KG/小时，旋转50到3*10000转/分钟，线速度3到33m/秒，电滚功耗0.3到0.8kW。五.真空分散乳化机：机型32款，处理量5到2*10000KG/小时，旋转14到1.4*10000转/分钟，线速度44m/秒，电滚功耗0.18到120kW。六.均质匀浆机：机型4款，处理量0.2到150克/小时，旋转3500到8*1000转/分钟，线速度3到10m/秒，电滚功耗0.145到0.18kW。七.多效用分散乳化均质机：机型27款，处理量150到12.5*10000KG/小时，旋转960到1.4*10000转/分钟，线速度10到44m/秒，电滚功耗1.5到160kW。八.混合机：机型I6款，处理量300到12.5*10000KG/小时，旋转1100到9*1000转/分钟，线速度20到23m/秒，电滚功耗1.5到160kW。九.实用物料种类：胶粘溶胶，巨粒子固态液体悬空液乳剂，不包溶等。十.终级粒径：主腔内有叁组定转子，每组粗齿、中齿、细齿、超细齿。调动定转子间隙，加工后地终级粒径在10微纳米之下。十一.胚料配件：百分之八十以上进ロ海内外公司。十二.技艺出处：引荐德国技艺，立发明加工，备有专利。十三.工作方式：有在线式，批次式，内外循环式，水管式，可倒式，若干效用式。十四.机型合成：靠预加工锅、搅动锅、泵、液压系统、倒料系统、电力调动系统、主腔等部件合成。十五.智力化：CIP冲洗系统，液压升降松盖，包括配料给料吸料安装。十六.磨头好处：研磨头可调5款模版，6款分散头，20多款工作头。十七.锥磨好处：锥磨转子外层包含金属碳化物跟不一样粒子地陶瓷镀层等高上材料，提防毁伤腐蚀。十八.机型材料：统统接碰物料地材料皆是进口耐酸钢，主腔跟管路内乃亮面抛光三百EMSH（卫生级），无死角。十九.密封好处：博格曼双机械密封，液压平稳系统（可以担当16atm重压），软密封。二十.搅动方式：可挑刮壁式/锚固式/融解式/叶面式。二十一.机型好处：机型采选上层同轴三重装搅动器，循环管路，出水阀。二十二.操控箱好处：不但可以操控电滚旋转，摄氏度降温升温（经历电能，热汽，油水循环，可以担当-40到250摄氏度），重压，PH度，粘性。且可以设定不一样效用模版，呈现相称地个个参数，可以线性扩大量产。二十三.可以抉择：察看窗，硅氟酸玻璃察看，电导率计，二重绝缘以防，稳固夹，工作架，底座，图谱剖析多效用显微硬度器（测试界限1到4千HV），管路式测试电炉（测试界限zui高1350度），输出泵/转子泵/气动隔膜泵/锚固泵/离心泵（处理量850到4.3*10000KG/小时），反应搅动单罐/组合罐（500到3*1000KG/小时），反渗透/全自动纯水安装（0.5到3*1000KG/小时)，臭氧发生器，过流式紫外线消菌器等。?.别的特长：整体立方小，电耗低，分贝低，可每日不断出产。?.访客垂访：按照访客实况必要恰当抉选！别的可订制非标和生产线！假若是非常情况，比方超温，超压，易烧易炸，侵蚀性，可产品升级！?.物料测量：得到访客物料后当即投入测量，瞧可否到达要求&答复测量进程&成果。?.方案价格：断定好产品功用后当即策画方案，包含2D部署图，总安装出产线表示图，立体成果图，&呈上本该得价格单子！?.结语：我们是出产厂家，详尽信息可以企业查看，因此分外恭候访客去垂访&更深一步长谈！以上信息不容坊造，非常道谢！扩展内容可不看：碳纳米管（CNTs），管状纳米级石墨晶体，是由单层或多层石墨片以一定的螺旋角绕中心轴卷曲而成的无缝纳米管。 每一层的C经过SP2杂化形成六边形平面的圆柱面。 碳纳米管还具有天然存在的碳晶体的特性。 制造被称为碳原子材料的碳纳米管。 科学发现自然，自然验证科学。

纳米压印技术解决了传统光刻在特征尺寸减小过程中的难题，具有分辨率高、低成本、高产率的特点。自1995年提出以来，纳米压印已经经过了14年的发展，演变出了多种压印技术，广泛应用于半导体制造、mems、生物芯片、生物医学等领域。NIL压印机的基本思想是通过模版，将图形转移到相应的衬底上，转移的媒介通常是一层很薄的聚合物膜，通过热压或者辐照等方法使其结构硬化从而保留下转移的图形。整个过程包括压印和图形转移两个过程。根据压印方法的不同，NIL主要可分为热塑（Hot embossing）、紫外固化UV和微接触（Micro contact printing， uCP）三种光刻技术。 二、 功能l 主要功能纳米压印机的主要功能是将图形转移到相应的衬底上，转移的媒介通常是一层很薄的聚合物膜，通过热压或者辐照等方法使其结构硬化从而保留下转移的图形。压印技术主要分为以下两种：热压：首先在衬底上涂上一层薄层热塑形高分子材料（如PMMA）。升温并达到此热塑性材料的玻璃化温度Tg（Glass transistion temperature）之上。热塑性材料在高弹态下，将具有纳米尺度的模具压在上面，并施加适当的压力，热塑性材料会填充模具中的空腔，模压过程结束后，温度降低使热塑性材料固化，从而得到与模具的重合的图形。随后移去模具，并进行各相异性刻蚀去除残留的聚合物。接下来进行图形转移。图形转移可以采用刻蚀或者剥离的方法。刻蚀技术以热塑性材料为掩膜，对其下面的衬底进行各向异性刻蚀，从而得到相应的图形。剥离工艺先在表面镀一层金属，然后用有机溶剂溶解掉聚合物，随之热塑性材料上的金属也将被剥离，从而在衬底上有金属作为掩膜，随后再进行刻蚀得到图形。紫外压印：为了改善热压印中热变形的缺点，特克萨斯大学的C. G. willson和S. v. Sreenivasan开发出步进-闪光压印（Step- Flash Imprint Lithography），这种工艺中采用对紫外透明的石英玻璃（硬模）或PDMS（软模），光阻胶采用低粘度，光固化的单体溶液。先将低粘度的单体溶液滴在要压印的衬底上，结合微电子工艺，薄膜的淀积可以采用旋胶覆盖的方法，用很低的压力将模版压到晶圆上，使液态分散开并填充模版中的空腔。透过模具的紫外曝光促使压印区域的聚合物发生聚合和固化成型。后刻蚀残留层和进行图形转移，得到高深宽比的结构。后的脱模和图形转移过程同热压工艺类似。 技术特点★主机包含：真空系统，温度控制系统，压力控制系统，水冷系统，PLC 控 制系统，软件操作界面，紫外光源，单面电磁加热系统 设备压印尺寸：4 英寸。 设备可以实现热压印、紫外曝光压印 ★大压力：8bar（空压机），20bar（外接超净室气源） 温度范围：从室温到 250 摄氏度。 紫外光源类型：高压汞灯：功率：400W，主波长：365nm。 ★设备真空度：10 帕。 ★设备随机可以根据科研需求提供全系列的纳米压印胶，包括： 热压胶、紫外光固化胶 深刻蚀型压印胶、举离型（Lift-Off）压印胶 快速模板制作材料、各类模板防沾剂、衬底增粘剂等 ★随设备随机可以根据科研需求提供定制纳米压印模板，包括：周期 400nm的 4英寸点阵模板镍模板 SFP & Hybrid Mold软模板 支持 20nm 分辨率及曲面压印，并提供文献工艺支持， ★支持自动脱模，电磁加热功能 国内外大于 10 个客户 ★工艺包括： 纳米压印胶旋涂工艺支持 纳米压印模板防粘工艺支持，避免脱模粘胶影响 纳米压印机参数调节 软模板工艺，包括 PDMS 模板、SFP 以及 Hybrid Mold 工艺 ICP 刻蚀工艺 柔性聚合物衬底压印工艺，Nickel Template 金属镍模板热压 PET、PMMA 等 举离（Lift-off）工艺支持，加工金属结构 纳米压印表征技术 更新压印工艺研发指导，文献支持 技术能力该设备的发明人2001年至 2003 年，在纳米压印技术发明人、 美国普林斯顿大学 StephenY.Chou 教授的纳米结构实验室作为研究助理进行了为期 3 年的研究工作，发展了紫外光固化纳米压印工艺与材料，对纳米压印技术的发展做出了重要的贡献。2004 年加入材料科学与工程系后继续围绕纳米微加工技术与纳米压印技术开展研究工作，研发了数种新型纳米压印材料，发展了新型高分子压印模板，提出了曲面纳 米压印技术；利用 863 课题“紫外光固化和热压两用纳米压印设备的研制与应用”项目的支持，研制成功具有紫外光固化和热压功能两用纳米压印设备，现已成为产品，并被南京大学、北京航空航天大学、国防科技大学、黑龙江大学、中科院深圳研究院等多家高校和科研机构所采用，形成了具有自主知识产权的纳米压印核心技术，，技术水准与当前国际该领域先进水平同步。纳米压印技术是目前纳米沟道加工的主要技术。传统的光刻技术主要是利用电子和光子改变光刻胶的物理化学性质，进而得到相应的纳米图形。而纳米压印技术则可以在不使用电子和光子的前提下，直接利用物理学机理机械地在光刻胶上构造纳米尺寸图形。正是由于这种机械作用，使得纳米压印技术不再受到光子衍射和电子散射的限制，可大面积地制备纳米级图形。同时，由于这项技术所用的设备简单，制备时间短，压印模板可以重复使用，所以应用该技术制备纳米图形所需的成本也较低。目前典型的三类纳米压印技术分别是：热压印，紫外固化压印，微接触印刷。分别适用在其各自的领域：热压印技术：光电、光学器件；微型机电系统领域。紫外固化压印技术：纳米光电器件、纳米电子器件的生产；NEMS和MEMS加工；半导体集成电路的制造。微接触印刷技术：生物芯片和微流体器件的生产；生物传感器（抗体光栅）；微机械元件的生产。加工工艺来分，主要包含五大部分：压印，刻蚀，镀膜，检测&表征与其他。所涉及的仪器设备主要包括：纳米压印机，感应耦合等离子体刻蚀机，电子束蒸发镀膜机，原子力显微镜&扫描电镜，以及超声波清洗机&真空干燥箱等。 Sandwiched Flexible Polymer-SFP & Hybrid Mold软模板压印技术尽可能消除灰尘颗粒对于纳米压印结果产生的影响 在不规则表面或者曲面进行纳米压印（下图为单模光纤进行的纳米压印） Nickel Template金属镍模板热压技术直接对于聚合物衬底（PMMA、PET等材料上）直接热压，免去了刻蚀环节。 先进的电镀工艺支持加工微纳米尺度镍模板 600nm周期镍模板镍模板寿命长，适合高温高压连续压印。

Optics11成立于2011年，是阿姆斯特丹自由大学(VU)的衍生组织。从那时起，这家初创公司的收入和员工持续增长，成为荷兰发展最快的公司之一，并具有国际影响力。Optics11 Life提供功能强大的新型纳米压痕仪，与传统的同类产品相比，使用方便、功能多样、坚固耐用。主要用于测量复杂、不规则的生物材料，如单细胞、组织、水凝胶和涂层的机械性能。Piuma Nanoindenter生物组织、软物质材料力学性能测试的新方法Piuma是功能强大的台式仪器，可探索水凝胶、生理组织和生物工程材料的微观机械特性。表征尺度从宏观直至细胞。专为分析测试软材料而设计，测量复杂和不规则材料在生理条件下的力学性能。主要优势● 内置摄像镜头，方便实时观察样品台● 实时分析计算测量结果，原始数据并将以文本文件存储，方便任何时候导入Dataviewer软件进行复杂处理● 探针经过预先校准，即插即用。对于时间敏感的样品确保了快速测量● 光纤干涉MEMS技术能够以无损的方式测量即使是最软的材料，并保证分辨率。同时探针可以重复使用 技术参数模量测试范围5 Pa - 1 GPa探头悬臂刚度0.025 - 200 N/m探头尺寸(半径)3 - 250 μm最大压痕深度100 μm测试环境air, liquid (buffer/medium)粗调行程X*Y：12×12 mm Z：12 mm加载模式Displacement / Load* / Indentation*测试类型准静态(单点，矩阵) 蠕变，应力松弛 DMA动态扫描 (E', E'', tanδ) 动态扫描频率*0.1 - 10 Hz内置拟合模型Young's Modulus (Hertz / Oliver-Pharr / JKR)*为可选升级配置Fiber-On-Top 探头新型光纤干涉式悬臂梁探头，利用干涉仪来监测悬臂梁形变 相较于原子力显微镜或传统纳米压痕仪创新型光纤探头，弥补了传统纳米压痕仪无法测试软物质的问题，也解决了AFM在力学测试中的波动大，操作困难、制样严苛等常见缺陷。● 背景噪音低：激光干涉仪抗干扰强于AFM反射光路● 制样更简单：对样品的粗糙度宽容度高于AFM● 刚度选择更准确：平行悬臂梁结构有利于准确判别压痕深度与压电陶瓷位移比例关系，便于选择合适刚度探头来保证弹性形变关系的稳定性，进而获得重复率更高、准确性更好的数据内置分析软件● 借助功能强大而易于操作的软件，用户可以自由控制压痕程序（载荷、位移等）。自动处理曲线的流程，可以获得数据和结果的快速分析● 原始参数完整txt导出，便于后续复杂处理的需要● 利用Hertz接触模型从加载部分计算弹性模量，与常用的Oliver&Pharr方法相比，更为适合生物组织和软物质材料特性近期文献年 份期 刊题 目2022Advanced Functional MaterialsEngineering Vascular Self-Assembly by Controlled 3D-Printed Cell Placement2022BiomaterialsHydrogels derived from decellularized liver tissue support the growth and differentiation of cholangiocyte organoids2021Biofabrication3D bioprinting of tissue units with mesenchymal stem cells, retaining their proliferative and differentiating potential, in polyphosphate-containing bio-ink2021nature communicationsJanus 3D printed dynamic scaffolds for nanovibration-driven bone regeneration2020Environmental Science & TechnologyEffect of Nonphosphorus Corrosion Inhibitors on Biofilm Pore Structure and Mechanical Properties2020Acta BiomaterialiaA multilayer micromechanical elastic modulus measuring method in ex vivo human aneurysmal abdominal aortas

选型指南：PB1000型微纳米力学综合测试系统是美国NANOVEA公司销量最高的一款微纳米力学测试系统测量系统，这款仪器采用模块化设计，可在一款仪器下实现纳米与微米/大载荷三个尺度下的压痕，划痕与摩擦磨损测试，进而可得到硬度、弹性模量、蠕变信息、弹塑性、断裂韧度、应力-应变曲线、膜基结合力、划痕硬度、摩擦系数、磨损率等微观力学数据。产品特性:◎可在一台仪器上实现纳米尺度、微米尺度及大载荷尺度下的压痕、划痕与摩擦测试 ◎压痕、划痕与摩擦磨损完全符合ASTM及ISO的国际标准◎模块化设计：可根据客户需求任意选择纳米/微米/大载荷模块的压痕/划痕/磨损功能◎专利的设计可保证系统具有高稳定性与高的精度◎可拓展性强：可随意升级已有设备到多种测试功能技术参数：◎工作台自动控制范围：150 mm×150mm ◎Z方向自动移动范围：50mm◎工作台定位精度：1μm◎光学显微物镜：5X,10X,20X,50X,100X可选◎总放大倍数：200X, 400X, 800X,2000X200X, 4000X可选◎纳米压痕仪/纳米划痕仪/纳米摩擦磨损仪◎微米压痕仪/微米划痕仪/微米摩擦磨损仪◎大载荷压痕仪/大载荷划痕仪/大载荷摩擦磨损仪可选件： ◎ 测量模块：客户需要自己选择纳米模块、微米模块与大载荷模块其中之一 ◎ 光学镜头：客户需要自己选择光学镜头的个数与倍率 ◎ 原子力显微镜产品应用： ◎薄膜及超薄膜(金属膜、陶瓷膜、Low k 膜、多层复合膜等) ◎复合材料(树脂基、陶瓷基、金属基、纤维增强材料表面及界面等) ◎聚合物 (共混物、共聚物等) ◎生物及仿生材料(细胞、骨组织、血管、牙齿、支架等) ◎金属及合金(晶面/晶界/组织相、金属玻璃、稀土等) ◎MEMS (微悬臂、微镜、微泵等) ◎陶瓷材料 ◎电子及半导体(硅片、蓝宝、硬脆及软脆材料等)

室温纳米精度位移台-attoECS 德国attocube公司是上著名的端环境纳米精度位移器制造商，其生产的位移器以稳定而优异的性能，原子定位精度，纳米位移步长和厘米位移范围受到科学家的肯定和赞誉。attoECS系列纳米位移台在提供高精度位移控制的同时，保证了优异而高的稳定性能，适用于室温、大气到超高真空环境中，负载可达几公斤，行程达到50mm，小步长50nm，配备的光学位移传感器可将位移精度控制到10nm，提供多维度位移功能。attoECS位移台应用领域加速器及同步辐射计量测量学半导体空间科学attoECS位移台特点+ 在厘米的行程范围内，达到纳米高精度位移控制+ 高的机械稳定性+ 位移驱动电压45V，无需高压屏蔽+ 10nm位移精度，+/-200nm位移重复性，0.01% 精度+ 特殊材质，兼容各种光学实验环境和超高真空环境+ 快速样品更换装置设备型号ECS系列纳米位移台ECS系列线性位移器采用闭环（/NUM光栅式反馈）或开环控制，典型单步位移步长为： 50nm。位移范围大为：50mm。位移器尺寸小为：30X30 mm。负载大24Kg。 线性纳米精度位移台型号尺寸mm3(长宽高)步长行程(mm)载重(N)ECSx303030x30 9.550nm2090ECSx3030/NUMECSx304030x40 9.550nm25120ECSx3040/NUMECSx305030x50 9.550nm30150ECSx3050/NUMECSx306030x60 9.550nm35180ECSx3060/NUMECSx307030x70 9.550nm40210ECSx3070/NUMECSx308030x80 9.550nm50240ECSx3080/NUMECSx505050x50 9.550nm30150ECSx5050/NUMECSxy505050x50 16.450nm25x25150ECSxy5050/NUMECSz505050x50 3230nm88ECSz5050/NUMECR系列旋转台ECR系列旋转台技术参数表ECR系列旋转器采用闭环（/NUM光栅式反馈）或开环控制，典型步长为： 0.4m°。可360度连续旋转。旋转台尺寸小为：30 mm × 30 mm。负载大2Kg。 高精度旋转台型号尺寸mm3(长宽高)步长行程 载重(N)ECR3030 30x30 13.50.4m°360度（连续旋转）20ECR3030/NUMECR4040 40x40 14.50.2m°360度（连续旋转）20ECR4040/NUMECR5050hs 50x50 13.50.2m°360度（连续旋转）20ECR5050hs/NUM ECG系列倾角台ECG系列倾角台技术参数表ECG系列倾角台采用闭环（/NUM光栅式反馈）或开环控制，典型步长为： 0.4m°。倾角范围：10°。倾角台尺寸为：50 mm × 50 mm。负载大1000g。 高精度倾角台型号尺寸mm3(长宽高)步长行程载重(N)ECGt505050x50 170.1m°10°10ECGt5050/NUMECGp505050x50 170.1m°10°10ECGp5050/NUM应用案例■ attocube纳米位移台在大尺寸昆虫自然色三维高分辨率成像的应用 关键词：高分辨三维成像； 纳米精度位移台； C-SIM高分辨率三维成像技术在生物领域已经有非常多的应用。然而，当研究大型标本时，如厘米大小的昆虫，现有的三维成像工具往往非常耗时。此外，大多数3D成像系统无法得到标本的自然颜色信息。为了突破现有3D成像的局限性，中国科学院西安光学精密机械研究所瞬态光学与光子技术重点实验室姚保利课题组出了一种基于结构照明的方法，能够提供大的视场三维图像方法。采用这种方法，获得了580nm横向分辨率的自然彩色全尺寸昆虫的三维图像和三维形态数据。这种方法提供了一种很有前景的方法，可以用在不同类型的昆虫学研究，包括分类学、进化学、仿生学，发育生物学、功能形态学、古生物学、林业等。实验采用全新设计的彩色结构化照明显微镜（C-SIM），C-SIM中集成了德国attocube 的纳米精度位移台ECS3040（行程为25mm，分辨率1nm，精度50nm），这也是能够得到纳米分辨率的三维全彩图像的关键。 两种中华虎的三维成像结果 参考文献Vol. 27, No. 4 | 18 Feb 2019 | OPTICS EXPRESS 4845用户单位attocube公司产品以其稳定的性能、高的精度和良好的用户体验得到了国内外众多科学家的认可和肯定，在全球范围内有超过了130多位低温强磁场显微镜用户。attocube公司的产品在国内也得到了低温、超导、真空等研究领域著名科学家和研究组的欢迎......国内部分用户北京大学中国科技大学中科院物理所中科院武汉数学物理所中科院上海应用技术物理研究所复旦大学清华大学南京大学中科院半导体所上海同步辐射中心北京理工大学哈尔滨工业大学中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所… … 国外部分用户

QE85%超导纳米线单光子探测器所属类别： ? 探测器/光子计数器 ? 单光子计数器 产品简介QE85%超导纳米线单光子探测器 高量子效率85%,低暗计数10cps,高计数率20MHz 很新的超高效率超导纳米线单光子探测器，其在600nm-2300nm内达到高量子效率85%，暗计数10cps，同时zui高计数率20MHz，是目前市场上性能良好的超导单光子探测器，此型号超导纳米线单光子探测器可提供zui多8通道同时运行 超导单光子探测器， SSPD，SNSPD超导纳米线单光子探测器，单光子计数器， Superconducting Nanotechnology，红外单光子计数器，高灵敏度单光子计数器 技术指标：l 量子效率: ≥ 80 %l 时间抖动: ≤ 45 ps (20 ps on request)l 暗计数: ≤ 10 cps (0.01 cps on request)l 光谱范围: 0.6 ÷ 2.3 μml 无后脉冲l 光纤耦合l 连续模式 一般参数：l 探测通道数: 1-8l 光纤类型: SMF-28e l 原始输出电压: ≤ 150 mVl 输出信号类型: TTL, ECL, LVDSl 驱动接口: USB, LabVIEW 应用领域：l 光量子计算l 光子相关性测量l 量子密码和QKDl CMOS缺陷分析l α，β粒子探测l TCSPCl 单分子荧光光谱l 弹道成像l 单等离子体检测l 自由空间通信l LIDARl 时间分辨荧光测量l 单量子点荧光光谱l 片上量子光学l 单线态/三线态氧荧光探测l 皮秒集成电路分析l 单电子探测 相关产品 超低暗计数(0.01cps)超导单光子探测器 超高速（500MHz）超导单光子探测器 超快(120MHz)近红外单光子计数OEM模块 符合计数单光子计数系统

产品简介：布鲁克的海思创TI 980 TriboIndenter同时具有最高的性能、灵活性、可信度、实用性和速度。基于海思创几十年的技术创新，它为纳米力学表征带来了更高水平的性能、功能和易用性。TI 980达到了一台优异纳米力学测试仪器所需的所有要求，实现了控制上突出的先进性和高效性，试验上的灵活度与可实现性，测量稳定性，以及系统设计的模块化。产品参数：TI 980xSol环境控制腔与载台环境控制腔实现了定量纳米力学性能和纳米摩擦学特征随着温度、气氛和湿度的变化。nanoECR纳米压痕测试的原位导电特性可以和纳米力学性能,材料形变行为和接触电阻等同步研究。xProbe基于MEMS传感器的探针可以实现原子力显微镜级别的超低力和位移噪音水平。iTE专利的原位薄膜力学性能分析包提供了排除基底效应影响的薄膜和多层膜结构的定量力学性能。3D OmniProbe和多量程NanoProbe通过扩展力和位移测量量程实现微米尺度的力学和摩擦学特性表征。同步拉曼光谱原位研究力学性能和摩擦学特性与材料结构和化学成分的相关性。模量成像动态扫描纳米压痕模式提供材料表面的定量、高分辨模量分布。荧光显微镜联用集成荧光显微镜可实现荧光共定位纳米力学测试等。电化学模块实现氧化和还原环境下的原位定量纳米力学和纳米摩擦学行为研究。自动探针更换模块按钮操作的自动探针更换模块。样品台多尺度的磁性、机械和真空固定方式可以固定几乎所有待测样品，包括300mm晶圆。TriboAE TM声音传感器能通过针尖原位监测纳米压痕过程中的断裂和形变产生的声音信号。Tribolmage TM纳米尺度划痕/磨损的实时表征。产品特点：简洁、高速的自动控制针尖面积函数自动校正 传感器自动校正 压针和光学系统校正自动测试程序快速、多样品自动测试功能实现高通量表征 智能化自动程序确保用户选择正确的针尖 高分辨多尺度成像结合全尺寸样品的光学搜索，极大简化测试流程实现真正纳米尺度表征从微米到几个纳米的多尺度测量 纳牛级别的力噪音水平和小于90%原子直径的位移测量能力，实现几乎任何材料的定量表征 系统可实现超过6个数量级的力测量和10个数量级的位移测量 力和位移噪音水平保证在客户现场安装时实现精准控制测试过程实现最大精度、可信度和重复性的真正定量纳米力学和纳米摩擦学表征 特殊的力和位移反馈控制方法用于海思创的传感器-专门针对海思创传感器物理特性开发的力与位移反馈控制算法 每隔0.013毫秒实现一次完整反馈控制，使得系统能测量快速瞬态过程，并对其作出反馈，真正实现用户的测试意图-每隔0.013毫秒实现一次完整的感知-分析-控制的循环，使得系统能对瞬态过程进行测量与反馈，以此重现用户定义的测试方式强大的测试模块配置

Optics11成立于2011年，是阿姆斯特丹自由大学(VU)的衍生组织。从那时起，这家初创公司的收入和员工持续增长，成为荷兰发展最快的公司之一，并具有国际影响力。Optics11 Life提供功能强大的新型纳米压痕仪，与传统的同类产品相比，使用方便、功能多样、坚固耐用。主要用于测量复杂、不规则的生物材料，如单细胞、组织、水凝胶和涂层的机械性能。Piuma Nanoindenter生物组织、软物质材料力学性能测试的新方法Piuma是功能强大的台式仪器，可探索水凝胶、生理组织和生物工程材料的微观机械特性。表征尺度从宏观直至细胞。专为分析测试软材料而设计，测量复杂和不规则材料在生理条件下的力学性能。杭州轩辕科技有限公司主要优势● 内置摄像镜头，方便实时观察样品台● 实时分析计算测量结果，原始数据并将以文本文件存储，方便任何时候导入Dataviewer软件进行复杂处理● 探针经过预先校准，即插即用。对于时间敏感的样品确保了快速测量● 光纤干涉MEMS技术能够以无损的方式测量即使是最软的材料，并保证分辨率。同时探针可以重复使用Piuma轩辕纳米压痕仪Piuma轩辕纳米压痕仪 技术参数模量测试范围5 Pa - 1 GPa探头悬臂刚度0.025 - 200 N/m探头尺寸(半径)3 - 250 μm最大压痕深度100 μm传感器最大容量200测试环境air, liquid (buffer/medium)粗调行程X*Y：12×12 mm Z：12 mm加载模式Displacement / Load* / Indentation*测试类型准静态(单点，矩阵)蠕变，应力松弛DMA动态扫描 (E', E'', tanδ)动态扫描频率*0.1 - 10 Hz内置拟合模型Young's Modulus (Hertz / Oliver-Pharr / JKR)*为可选升级配置Fiber-On-Top 探头新型光纤干涉式悬臂梁探头，利用干涉仪来监测悬臂梁形变。相较于原子力显微镜或传统纳米压痕仪创新型光纤探头，弥补了传统纳米压痕仪无法测试软物质的问题，也解决了AFM在力学测试中的波动大，操作困难、制样严苛等常见缺陷。● 背景噪音低：激光干涉仪抗干扰强于AFM反射光路● 制样更简单：对样品的粗糙度宽容度高于AFM● 刚度选择更准确：平行悬臂梁结构有利于准确判别压痕深度与压电陶瓷位移比例关系，便于选择合适刚度探头来保证弹性形变关系的稳定性，进而获得重复率更高、准确性更好的数据内置分析软件● 借助功能强大而易于操作的软件，用户可以自由控制压痕程序（载荷、位移等）。自动处理曲线的流程，可以获得数据和结果的快速分析● 原始参数完整txt导出，便于后续复杂处理的需要● 利用Hertz接触模型从加载部分计算弹性模量，与常用的Oliver&Pharr方法相比，更为适合生物组织和软物质材料特性视频介绍如果您感兴趣的话，我们可以为您提供试样服务，请联系：近期文献年 份期 刊题 目2022Advanced Functional MaterialsEngineering Vascular Self-Assembly by Controlled 3D-Printed Cell Placement2022BiomaterialsHydrogels derived from decellularized liver tissue support the growth and differentiation of cholangiocyte organoids2021Biofabrication3D bioprinting of tissue units with mesenchymal stem cells, retaining their proliferative and differentiating potential, in polyphosphate-containing bio-ink2021nature communicationsJanus 3D printed dynamic scaffolds for nanovibration-driven bone regeneration2020Environmental Science & TechnologyEffect of Nonphosphorus Corrosion Inhibitors on Biofilm Pore Structure and Mechanical Properties2020Acta BiomaterialiaA multilayer micromechanical elastic modulus measuring method in ex vivo human aneurysmal abdominal aortas

纳米操作机、纳米机械手、纳米操纵机械臂、纳米操纵仪TNI LF-2000产品简介 TNI LF-2000是目前市面上基于SEM电镜下使用的自动化程度最 高的纳米操作系统，也是一种能够在SEM电镜下提供可重复 定位、低漂移、闭环运动控制定位的纳米操作系统。 产品特性 完全兼容主流电镜，不影响电镜功能 市面上较佳的运动定位性能：大行程、亚纳米分辨率 位移传感器集成自动化和可编程运动 SEM真空环境优化设计，可快速安装与拆卸规格参数应用案例电学特性LifeForce为纳米材料提供可靠、低噪音的电测量，以及与纳米结构的原位相互连接。图片展示的是四探针测量纳米线电学性能。力学测量LifeForce为纳米材料的力学特性提供高分辨率的力和位移反馈，图片展示的是用球端AFM悬臂探针对单根纳米线的拉伸测试。拾取和放置操作使用末端工具（例如：探针、微纳米夹持器、超声切割针），操作者能够操作LifeForce纳米操作手在SEM电镜内对微纳米物体进行推、拉和抓取等操作。制作微纳米器件精密的操作手运动能够实现微纳米器件的快速成型和后处理。图片展示的是纳米线FET传感器的构造。

布鲁克Anasys的 nanoIR3-s 系统将散射扫描近场光学显微镜（s-SNOM）、纳米级红外光谱（AFM-IR）与原子力显微镜（AFM）完美整合到单一平台。依托 Anasys 技术在 AFM 纳米光学表征方面的领先地位，nanoIR3-s 可提供纳米级红外光谱、化学成像和光学成像，在 2D 材料样品上实现 10 纳米空间分辨率。该系统还可以提供达到纳米级分辨率的 AFM 形貌和性能成像，因此是对各种材料科学应用开展相关性研究的理想仪器。只有 nanoIR3-s 能够提供：高性能纳米级 FTIR 光谱高性能红外近场光谱，采用目前最先进的纳米红外激光源纳米级 FTIR 光谱，采用集成式DFG，可与宽带同步辐射光源集成适用于光谱和化学成像的多芯片 QCL 激光源