标样期间核查

天仁分析仪器设备耗材导购流程感谢您选择天仁仪器产品您在选购仪器耗材时请核查仪器设备的名称、型号、所需配件及数量信息。以便确认购买无误，节省您宝贵的时间。确认选购信息无误后，请点击购买选项。如产品未标注价格，请联系客服询价。客服会第一时间您发送报价清单及购置清单。（清单内含相关资费明细）您在填写确认购置清单后付款，我们确认收款后将会在第一时间为您发货。（发货途中产品如有损坏，我们将为您免费更换或维修，第一时间为您安排重新发货。）

灰熔融性测试仪配件测量煤炭或焦炭专业的特征熔融温度、变形（DT）、软化（ST）、半球温度（HT）、流动温度（FT）。 灰熔融性测试仪配件特点 高度自动化：环境温度下自动加载，再度判别4个特征温度 一次性可加载9个样品 实时监测：装备有CCD相机，实时监测监测过程，计算机显示和存储图像 精确测试结果：高清彩色相机确保图像清晰，更容易判断特征温度 二次核查测试结果：测试完成后测试图片存储下来，可二次核查图片和温度 精密控制炉温，超低气体消耗 方便使用：基于Windows系统软件，一台计算机可控制多台煤炭灰熔融性测试仪 灰熔融性测试仪配件符合标准ISO540固体矿产燃料硬煤和焦炭可熔性分析ASTM D1857-04-09 煤炭和焦炭可熔性测量GB/T219-2008煤炭可熔性分析灰熔融性测试仪配件参数测量能力：5个/批 最高温度： 1600℃ 温度分辨率：1℃ 炉材料：莫来石 加热器件：酸化镍,钼棒 加热速率：20+/-5℃/分钟 （=900℃)，5+/-1℃/分钟 （900℃) 测试气体：氧化气体，气体流量法 电源： 220V,50Hz, 2400W 尺寸：550x850x854mm 重量：100kg

这个系列的GaN功率器件,GaN MFET采用全球领先的半导体制造技术，具有全球最高的转换效率,最低的导通损耗,最高的工作频率, 并适合高温800摄氏度以上的应用。GaN功率器件,GaN MFET采用全球领先的GaN-on-Si晶圆无金工艺结合凹栅 工艺制造技术，非常方便集成为独立完整的GaN功率核心器件、器件驱动、保护电路和周边无源器件在内的直接面对终端应用的功能性模块。

μPAGE 缓冲液和寡合苷酸标样 μPAGE 聚丙烯酰胺凝胶填充毛细管是将所有的应用从平板凝胶转移到CE 的最直接工具，从而得以体验CE 自动化、高速、高分离度和定量的优点。这种毛细管最适合寡核苷酸、单链和双链DNA 片段、聚合酶链反应（PCR）产物、测序反应产物和寡糖的高分离度分离。μPAGE 毛细管有三种不同孔径。分子筛孔径的大小由单体浓度（%T）和聚合物交联度（%C）控制。较高的%T 和%C 值的凝胶具有更小的孔径，因此更适合于筛分较小的分子。对于反义治疗药、引物和探针以及寡核苷酸的分离，μPAGE-10（10%T，0%C）毛细管具有高分辨能力。μPAGE-5（5%T，5%C）能够实现寡核苷酸（[pd（A）] 范围在20-150 个碱基范围内）的单碱基分离。为了方便起见，可以一同购买或分别购买μPAGE 毛细管和μPAGE 缓冲液。要达到最高的重现性和最长的毛细管使用寿命，请将μPAGE 缓冲液和μPAGE 毛细管配合使用。 订货信息：μPAGE 缓冲液和寡合苷酸标样按 μPAGE 毛细管类型定义的试剂盒部件号μPAGE Tris-硼酸盐和尿素缓冲液，用于 μPAGE-10，4 x 237 mL590-4005μPAGE Tris-硼酸盐和尿素缓冲液，用于 μPAGE-3 和 μPAGE-5，4 x 237 mL590-4001μPAGE pd（A）寡核苷酸标样，用于 25-30，40-60 μPAGE-3 和 μPAGE-5 试剂盒，3 x 50 μL590-4000

产品概要：定制各种封装类型如TO220,SOT23,DFN等器件测试夹具，支持开尔文测试。基本信息： TO封装测试夹具1. 定制化封装夹具，支持Kelvin与非开尔文连接；2. 最大支持3000V 500A(脉冲，占空比小于1%)；3. 适配keithley，keysight功率器件封装夹具以及其他功率测试机；4. 工作温度范围：0-25℃；5. 高温选件(0- 200℃)；6. 接头可选香蕉头与螺丝接头 金手指封装夹具1. 定制化封装夹具，支持Kelvin与非开尔文连接，封装类型包括：SOD,SMA,SMB,SOP,TSSOP,QFN等；2. 支持该封装器件最大电压电流工作范围：3kV，500A(脉冲，占空比小于1%)具体根据封装类型定义；3. 适配keithley，keysight功率器件标准封装夹具；4. 工作温度范围：0-25℃；5. 高温选件(0- 200℃)技术优势：1、温度范围：-55℃ to ﹢200摄氏度2、适配主流B1505,B1506以及IWATSU测试机应用方向：应用于开尔文测试。

微型电子器件插件采用特制夹具将微型电子器件、太阳能电池以及其他晶片状材料固定在样品杯中，使其免遭到破坏。测试后，样品可以完好无损的取下，重新回到制备环节中去，或者参与其他损耗检测。微型电子器件插件与金像样品杯结合使用，可以直接将样品固定于插件上。不需要在背面粘附样品或者样品表面接触，通过倾斜的夹钳将样品牢固的固定在插件上，16 个夹钳均匀施力，不会造成样品的损坏。X-断面观测插件适合于涂层以及多层半导体器件等断口、断面的观测。与传统的耗时又费钱的树脂镶嵌相比，这种办法简单而快速，且不需要螺丝等其它工具来固定样品。X-断面观测插件与金像样品杯结合使用。借助X-断面观测插件，样品固定在特制夹具中，无需其他辅助工具，可以迅速而简便的对样品的位置进行调整。X-断面观测插件保留样品断面的原始状态，无需抛光，使得观测完毕后样品可重新使用或进行其它检测。

光谱用标样 铁标样， 铝标样， 铜标样 锡标样， 锌标样， 钛标样， 进口MBH标样碳钢：10#钢、20#钢、45#钢等、中低合金钢、模具钢、高锰钢、工具钢、不锈钢：316、316L、303、304、201、202等。HT250、HT350等5052、K384、6061、6063、ADC12、Y113、ZL101等纯铜、无氧铜、黄铜H62、黄铜H65、黄铜H96、铅黄铜、锡青铜等。纯锡、无铅锡（3%银、0.3%银）、有铅锡（63%Sn）等纯锌、锌铝合金（Al：4%）种类齐全，欢迎咨询火花直读光谱仪用户请告知我们你们的具体要求。

【产品详情】 此能谱标样为单质Mn校准标样，表面喷碳并镶嵌于样品台上，可适用于所有品牌的电镜。样品台根据电镜型号不同而不同，Zeiss/FEI/Tescan电镜通常搭配12.5mm直径钉形样品台，Jeol电镜通常搭配25mm直径，5mm高度的圆柱形样品台，Hitachi电镜通常搭配15mm直径，6mm高度的带M4的样品台。 Mn单质标样尤其适用于能谱设备的校准。 Mn单质标样的元素组成及质量分数和能谱图：元素质量分数WT%Mn100%【规格详情】产品规格证书Mn单质标样原厂证书一套产品详细价格及资料，请登录电镜耗材在线商城网站查看。

产品介绍1.纯铁、铸铁光谱标样2.碳素钢光谱标样3.中、低合金钢光谱标样4.高合金钢、不锈钢光谱标样5.工具钢光谱标样?技术参数?? (块状)标准样品1.纯铁、铸铁光谱标样2.碳素钢光谱标样3.中、低合金钢光谱标样4.高合金钢、不锈钢光谱标样5.工具钢光谱标样6.高温合金光谱标样 7.光谱校正样品(10#、20#、45#、20MnSi、Q235等)8.氧氮氢气体标准样品9.铜及铜合金光谱标样10.铝及铝合金光谱标样11.其他有色金属光谱标样(锌及锌合金、镁及镁合金、铅及铅合金等)

尊敬的用户：本公司为专业研发是、生产、销售光谱分析仪器的专业制造商，我们配备各种不同种类的标准样，我们以专业、热情的态度为您服务！标样和化学标样，数量繁多，拍前请咨询客服，请咨询客服，请咨询客服！我们快速反应，为您报价！拍下时请务必注明标样的编号、名称牌号及数量，以免发错！谢谢您的配合！标样品种规格多，为方便购买，标样价格为暂定价，不作为实际成交价格，提供您所需要的标样牌号编号给客服，我们会快速为您报价，谢谢!

502-383 SAAR1700 Coal Standard , 0.38% Sulfur 50g 煤标样501-001 / 502-433 SAAR1701 Coal Standard, 0.4% Sulfur 50g 煤标样，硫含量0.4%501-005 /502-435 / 502-671 SAAR1704 Coal Standard, 1.0% Sulfur 50g 煤标样，硫含量1%

1)玻璃非球面透镜 非球面透镜可以解决目前球面镜片所带了的畸变和像差，也可以减少成像系统的体积，提高系统的整体成像质量。已被广泛应用于医疗设备、精密仪器、航空航天、国防科技等重要领域，代表了镜片发展的趋势。 可加工材料包括：融石英、微晶玻璃、碳化硅（陶瓷）、高分子聚合物 晶体材料（锗、硒化锌、氟化镁等） 可加工口径：1,000mm 加工面型精度可达：（P-V）1/20λ 加工表面粗糙度可达RMS：0.3nm 2)金属反射镜 大口径金属反射镜可实现各种光束收集、光束准直和光束聚焦，被广泛应用于天体观测光学装置、光谱检测、天文望远系统、瞄准仪、扩束镜、红外系统、聚光太阳能系统，投影系统以及发射/探测设备等领域。 目前的金属反射镜加工主要集中在6英寸（150mm）以内，我司加工口径达到20英寸（500mm），处于国内领先水平。 可加工材料包括：航空铝、铜、钢（镀镍）、合金 加工口径可达：500mm 加工面型精度可达:（P-V）1/4λ 加工表面粗糙度可达： 2nm 3)奇异光学 传统的光学加工仅能针对平面、球面、部分非球面进行相应面型加工，而奇异光学的发展突破了光学加工的瓶颈，可以针对不同光学表面面型进行高精度、高效率、大尺寸的加工，是目前光学零件的发展方向。 目前，我司生产的奇异光学元器件已被广泛应用于科学仪器、集成电路、天文望远等领域。产品具有大尺寸、高精度、面型复杂等特点。

GC/MS 分析仪标样试剂盒说明 部件号GC/MS 半挥发性化合物分析仪校验混合物 5190-04733 合1 环境样品分析仪Solvents plus 校验混标 G3440-05012GC/MS 农药分析仪内标样品，菲-d10，浓度1000 μg/mL 的二氯甲烷溶液, 4 x 1 mL 5190-0472农药分析仪测试样品溶液，20 种农药的丙酮溶液，浓度10 μg/mL，5 x 1 mL 5190-0468农药校验标样，100 μg/L，3 x 1 mL 5190-0494GC/MS 毒理学校验混合物 5190-0471残留溶剂修方订法467，2A 类，1 x 1 mL 5190-0492残留溶剂修订方法467，2B类低浓度 5190-0513残留溶剂修订方法467，2B 类，1 x 1 mL 5190-0491残留溶剂修订方法467，2C类，1 x 1 mL 5190-0493残留溶剂修订方法467，第1 类 5190-0490用于生物柴油分析的丁三醇内标#1 5982-0024用于生物柴油分析的甘油三葵酸酯内标#2 5982-0025农药保留时间锁定标准溶液, 三种农药的正己烷溶液，浓度10 μg/mL，3 x 1 mL 5190-1441甘油校准标样试剂盒，5 x 1 mL G3440-85028甘油酯的THF 溶液标样，1 x 2 mL G3440-85018FAME 保留时间标样甲苯溶液，5 x 2 mL G3440-85027十九酸甲酯甲苯溶液标准品5 x 10 mL G3440-85026Solvents-plus 检测混标，3 x 2 mL G3440-85012变压器油气体分析仪校验混标，17 L SCOTTY 气瓶 G3440-85007PAH 分析仪校验标样，5 x 2 mL G3440-85009C6 至C12 正构烷烃混标，3 x 2 mL G3440-85013天然气分析仪校验混标，14 L SCOTTY 气瓶 G3440-85017氘代十七烷酸甲酯的十二烷溶液，3 x 2 mL G3440-85029血醇分析仪乙醇校准试剂盒 G3440-85035血醇分析仪多组分醇类校准试剂盒 G3440-85036

单晶硅标样,用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm，方格间距10μm，线宽1.9μm，通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线，用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成，深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。单晶硅标样,随标样提供校准证书，但需支付额外费用。保证的准确度为3％。标样由英国NPL实验室（National Physical Laboratory）用激光干涉测量法测定。

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单晶硅标样, 用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm，方格间距10μm，线宽1.9μm，通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线，用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成，深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。单晶硅标样, 随标样提供校准证书，但需支付额外费用。保证的准确度为5％。标样由英国NPL实验室（National Physical Laboratory）用激光干涉测量法测定。

单晶硅标样, 用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm，方格间距10μm，线宽1.9μm，通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线，用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成，深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。单晶硅标样随标样提供校准证书，但需支付额外费用。保证的准确度为9％。标样由英国NPL实验室（National Physical Laboratory）用激光干涉测量法测定。

单晶硅标样, 用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm，方格间距10μm，线宽1.9μm，通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线，用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成，深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。单晶硅标样, 随标样提供校准证书，但需支付额外费用。保证的准确度为8％。标样由英国NPL实验室（National Physical Laboratory）用激光干涉测量法测定。

单晶硅标样, 用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm，方格间距10μm，线宽1.9μm，通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线，用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成，深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。单晶硅标样, 随标样提供校准证书，但需支付额外费用。保证的准确度为4％。标样由英国NPL实验室（National Physical Laboratory）用激光干涉测量法测定。

单晶硅标样, 用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm，方格间距10μm，线宽1.9μm，通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线，用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成，深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。单晶硅标样, 随标样提供校准证书，但需支付额外费用。保证的准确度为5％。标样由英国NPL实验室（National Physical Laboratory）用激光干涉测量法测定。

单晶硅标样, 用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm，方格间距10μm，线宽1.9μm，通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线，用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成，深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。单晶硅标样随标样提供校准证书，但需支付额外费用。保证的准确度为9％。标样由英国NPL实验室（National Physical Laboratory）用激光干涉测量法测定。

单晶硅标样, 用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm，方格间距10μm，线宽1.9μm，通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线，用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成，深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。单晶硅标样, 随标样提供校准证书，但需支付额外费用。保证的准确度为6％。标样由英国NPL实验室（National Physical Laboratory）用激光干涉测量法测定。

在多孔碳膜上镀上金膜并沉积石墨化碳颗粒。通过孔观察颗粒可以反映电镜的性能。蒸发的金颗粒为多晶的岛形结构，在诸岛之间可分辨出晶格条纹。该标样亦可通过观察金膜中孔内碳的沉积速率监测电镜中的污染状况。

在多孔碳膜上镀上金膜并沉积石墨化碳颗粒。通过孔观察颗粒可以反映电镜的性能。蒸发的金颗粒为多晶的岛形结构，在诸岛之间可分辨出晶格条纹。该标样亦可通过观察金膜中孔内碳的沉积速率监测电镜中的污染状况。

单晶硅标样, 用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm，方格间距10μm，线宽1.9μm，通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线，用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成，深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。随标样提供校准证书，但需支付额外费用。保证的准确度为13％。标样由英国NPL实验室（National Physical Laboratory）用激光干涉测量法测定。

单晶硅标样, 用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm，方格间距10μm，线宽1.9μm，通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线，用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成，深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。随标样提供校准证书，但需支付额外费用。保证的准确度为11％。标样由英国NPL实验室（National Physical Laboratory）用激光干涉测量法测定。

单晶硅标样,用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm，方格间距10μm，线宽1.9μm，通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线，用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成，深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。单晶硅标样,随标样提供校准证书，但需支付额外费用。保证的准确度为3％。标样由英国NPL实验室（National Physical Laboratory）用激光干涉测量法测定。

单晶硅标样,用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm，方格间距10μm，线宽1.9μm，通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线，用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成，深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。单晶硅标样,随标样提供校准证书，但需支付额外费用。保证的准确度为2％。标样由英国NPL实验室（National Physical Laboratory）用激光干涉测量法测定。

单晶硅标样,用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm，方格间距10μm，线宽1.9μm，通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线，用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成，深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。单晶硅标样,随标样提供校准证书，但需支付额外费用。保证的准确度为7％。标样由英国NPL实验室（National Physical Laboratory）用激光干涉测量法测定。

单晶硅标样, 用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm，方格间距10μm，线宽1.9μm，通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线，用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成，深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。单晶硅标样, 随标样提供校准证书，但需支付额外费用。保证的准确度为6％。标样由英国NPL实验室（National Physical Laboratory）用激光干涉测量法测定。