自组装多孔薄膜

多孔氮化硅薄膜窗口特点 ● 相对大的实验区域；● 增加了薄膜的弹性；● 孔的尺寸适合实验要求；● 薄膜边缘有25μm宽度是无孔的； 多孔氮化硅薄膜窗参数： 框架大小：Φ3mm； 框架厚度：200μm；薄膜厚度：50/100nm； 窗口大小：0.5x0.5mm；孔径：2.5μm； 孔间距：4.5μm；孔排列：100x100； 详细资料请咨询：上海昭沅仪器设备有限公司 021-35359028/29 admin@instsun.com

X射线透射显微成像/能谱（同步辐射）用氮化硅薄膜窗口 产品概述： X-射线薄膜窗能够实现软X-射线(如真空紫外线)的最大透射率。主要用于同步辐射X射线透射显微成像时承载样品。 X-射线越软(能量越低)，穿透能力越差，所需氮化硅薄膜窗越薄。特别在&ldquo 离轴&rdquo 状态工作（即薄膜与光束成一定角度）时，也需要较薄的薄膜窗口，便于X射线更好地穿透。 氮化硅薄膜窗口是利用现代MEMS技术制备而成，由于此种氮化硅窗口选用低应力氮化硅（0-250MP）薄膜，因此比计量式和ST氮化硅薄膜更坚固耐用。提供的氮化硅薄膜窗口非常适合应用于透射成像和透射能谱等广泛的科学研究领域，例如，X-射线（上海光源透射成像/能谱线站）、TEM、SEM、IR、UV等。 现在提供X-射线显微成像/能谱（同步辐射）用氮化硅薄膜窗系列产品，规格如下： 外框尺寸 (4种标准规格): &bull 5 mm x 5 mm (窗口尺寸：1.0 mm 或和 1.5 mm 方形) &bull 7.5 mm x 7.5 mm (窗口尺寸：2.0 mm 或 2.5 mm) &bull 10 mm x 10 mm (窗口尺寸：3.0 mm 或 5 mm 方形) 边框厚度： 200µ m、381µ m、525µ m。 Si3N4薄膜厚度：50、100、150和200nm 我们也可以为用户定制产品（30-500nm），但要100片起订。 本产品为一次性产品，不建议用户重复使用，本产品不能进行超声清洗，适合化学清洗、辉光放电和等离子体清洗。 技术指标： 透光度： 对于X射线用窗口，500nm厚的氮化硅薄膜有很好的X光穿透效果，对于软X射线（例如碳边吸收谱），100-200nm厚的氮化硅薄膜窗口是用户首选。 真空适用性： 真空适用性数据如下： 　 薄膜厚度 窗口面积 压力差 &ge 50 nm &le 1.0 x 1.0 mm 1 atm &ge 100 nm &le 1.5 x 1.5 mm 1 atm &ge 200 nm &le 2.5 x 2.5 mm 1 atm 表面平整度： 氮化硅薄膜窗口产品的表面平整性很稳定（粗糙度小于1nm），对于X射线应用没有任何影响。 温度特性： 氮化硅薄膜窗口产品是耐高温产品，能够承受1000度高温，非常适合在其表面利用CVD方法生长各种纳米材料。 化学特性： 氮化硅薄膜窗口是惰性衬底。 应用简介和优点： 1、 同步辐射X射线（紫外或极紫外）透射成像或透射能谱应用中是不可或缺的样品承载体。 2、 耐高温、惰性衬底，适应各种聚合物、纳米材料、半导体材料、光学晶体材料和功能薄膜材料的制备环境，利于制备理想的用于X射线表征用的自组装单层薄膜或薄膜（薄膜直接沉积在窗口上）。 3、 生物和湿细胞样本的理想承载体。特别是在等离子体处理后，窗口具有很好的亲水性。 4、 耐高温、惰性衬底，也可以用于化学反应和退火效应的原位表征。 5、 适合做为胶体、气凝胶、有机材料和纳米颗粒等的表征实验承载体。 同步辐射X射线应用参考文献：PRL

成卷的或预先切成方形或圆形的Prolene，超聚酯，聚丙烯，Mylar，聚碳酸脂和聚酰亚胺样品支撑薄膜。 成卷的薄膜(7.6cm×15.2m） 正方形薄膜（63.5mm×63.5mm） 圆形薄膜（直径63.5mm） 多孔聚丙烯薄膜（6.4cm×5.1m）

Quantifoil是精密排列有各种尺寸、形状的网孔的多孔支持膜。与普通多孔碳膜相比，此种支撑膜在透射电镜（TEM）网格和低能电子点源显微镜(LEEPS)上应用更具优势。Quantifoil多孔碳膜固定的几何外形便于在透射电子显微镜（TEM）上进行自动化操作，这对于普通碳膜来说基本上是不可行。此种多孔碳支持膜性能优越、但成本稍高Quantifoil碳支撑膜孔表面积大，常用于减少样本厚度，降低支撑膜干扰造成的失真。Quantifoil多孔碳支持膜可用于支撑超薄碳膜，或直接作为较大样品的载体（如微米级粉末）。这在电子衍射（ED）、电子能量损失谱(EELS)、电子能量损失谱成像和暗场成像中非常重要。此种膜还可应用于物质纳米特征研究，如生物大分子复合体在载体自由悬层的研究。 一、圆孔碳支持膜Quantifoil圆孔碳支持膜（with circular holes）更适合于低温透射电子显微镜(TEM)，因为圆形孔眼更有助于形成均匀厚度的冰层。孔间距的选择取决于所需放大倍数和是否将支撑膜印迹置入最终影像中。如果膜片被置入最终影像，那么影像质量评定就比较容易，因为膜片在功率谱上要比孤立的冰层大许多。孔径2和1.2μm的Quantifoil圆孔膜片可用于30,000至40,000倍放大。如果需要较大的射束位置公差或射束直径(如在自动影像采集中)，推荐使用Quantifoil R2/4。当在一个深印于冰中的小孔边缘聚焦，而非在临近小孔的薄膜上聚焦时，通常适用于R 2/1。注意以下产品用网是200目铜网，镍网、金网的多孔碳支持膜也提供！订购信息：货号Hole shapeHole size规格Q225-CR1R2/12μm25个/盒Q225-CR2R2/22μm25个/盒Q225-CR4R2/42μm25个/盒Q225-CR1.3R1.2/1.31.22μm25个/盒 二、方孔碳支持膜Quantifoil方孔碳支持膜, 具有较小的网格线宽，适用于透射电子显微镜（TEM）分析。在此碳膜厚度太薄不能覆盖网格间距，也不能对X射线能谱分析区提供良好支撑。这种方形孔薄膜对于大于7x7 μm网孔的微粒也有用。当你不仅要求良好的机械稳定性，还要求最大开孔面积时，Quantifoil S7/2 表现出最佳的几何学注意以下产品用网是200目铜网，镍网、金网的多孔碳支持膜也提供！ 订购信息：货号Hole shapeHole size规格Q225-CS7S7/27x7 μm25个/盒Q250-CS7S7/27x7 μm50个/盒请联系海德公司获取详细产品信息。

产品名称：Chemplex1540系列带微孔薄膜Chemplex提供哪些产品？迈拉膜、样品薄膜、麦拉膜、XRF样品膜、XRF测试薄膜、EDX样品薄膜、EDX薄膜、样品薄膜、ROHS测试膜、X荧光光谱仪用样品膜、光谱仪样品薄膜 预切圆（圆形）：( 直径：2.5" (63.5mm)；500片/盒)用于美国热电公司、美国PE公司、美国瓦里安公司、美国利曼公司、日本岛津公司、天瑞仪器、德国斯派克公司、法国JY公司、精谱、帕纳克、精工、牛津、安捷伦、堀场、（随机排名~）等等~……的XRF分析仪器使用。Chemplex样品盒，Chemplex样品杯系列 北京美同达供应标准油和相关耗材的提供。包括：CANNON标油，CONOSTAN标油，TEKMAR吹扫，VHG标油，ASI标油，CEC参考油，TMC参考油，油料光谱仪耗材(盘电极，棒电级)，X荧光样品膜，样品杯等等。

chemplex样品薄膜型号：090，250品牌：chemplex产地：美国 一、产品介绍： 在用x荧光光谱仪进行rohs检测，weee检测和一般材料成分分析时，由于样品的不规则（特别是液体、粉末等），需要借助样品杯和薄膜辅助检测；但不合适的样品薄膜往往造成样品污染并影响材料成分分析的x射线信号和检测结果。选择适当的薄膜材料对于分析结果至关重要。 在现有的众多不同的物质类型中，只有为数不多的几种具备能满足光谱化学需要的一致性和化学、物理属性。 如何选择薄膜样本支撑窗材料？适当的薄膜样本支撑窗的选择主要以满足首要重要的实验室要求为基础： 使用方便快捷； 避免造成待测样品污染； 优越的分析物透射比与强度； 对待测样品的耐化学性。chemplex industries有限公司专业从事样品前处理设备、耗材研发和生产的公司，是x射线光谱仪（xrf）配件耗材领域的全球知名厂商。chemplex xrf样品杯和样品薄膜用于rohs、weee专业测试仪器盛放小颗粒固体，粉末，液体，适用于各种品牌的x射线荧光光谱仪。chemplex样品薄膜薄膜张力特性极/佳，与样品杯组合使用，适合盛放各类金属重物、液体或粉末。对特别配制的塑料和保持其物理和化学属性一致性的特别关注，使得chemplex xrf样本杯、样品薄膜在xrf物质成分分析应用范围和性能上无与伦比。chemplex的许多xrf样本杯、样品薄膜被列为新颖独特的设计和应用，并被美国专利商标局授予知识产权地位。美同达作为美国chemplex公司的中国代理商，提供chemplex所有系列用于对应欧盟rohs和weee环保检测仪器——x射线荧光光谱仪（xrf）的检测实验消耗产品！我们不仅能够为您提供样品薄膜、样品杯, 还可根据您的样品应用为您选择、定制合适的样品薄膜、样品杯。 二、适用仪器：德国斯派克spectro、英国牛津oxford、日本堀场horiba、飞利浦/帕纳科philips/panalytical、德国布鲁克 bruker、美国赛默飞世尔科技（热电）thermo，瑞士arl及日本理学rigaku, siemens, spectrace,jordan, kevex, metorex,fisons, asoma，venus 200,valley等生产的x荧光光谱仪(xrf)。（适用x 射线荧光光谱仪品牌型号：所有x射线荧光光谱仪包括：尼通(niton)：xlt797z 、xlt794、xlt898 ；伊诺斯(innov-x)：alpha6000；牛津(oxford)：met-5000；帕纳科(panalytical)：minipal4、 minipal2；精工(seiko)：sea1000a；斯派克（spectro）：xepos、midex m；热电(thermo)：arl quant’x；日本电子（jeol）jsx－3400r；horriba等。） 三、spectromembrane® 样品薄膜随着spectromembrane® 样本支撑托架的面世，在处理薄膜时用户不再需要担心静电附着或潜在的污染风险或吸引空中颗粒等问题。除样本杯外，薄膜不再近距离接触其它任何物体。薄膜处理将通过使用集成的托框完成，托框能够在组装过程中自动分离，留下绷紧的薄膜样本平面。spectromembrane® 薄膜样本支撑托架由一块粘在托架上作为支撑物的薄膜样本支撑物质组成。在把薄膜物质粘在xrf样本杯上时，薄膜物质并不会被直接处理，这就消除了污染的可能性。接近完成或在完成附着时，薄膜将自动从托架上分离，留下绷紧的无皱样本支撑窗。

透射电镜（TEM）用氧化硅薄膜窗格 氧化硅与氮化硅薄膜窗格比较： 相比氮化硅薄膜，氧化硅薄膜更适合用于含氮样本。在EDS研究中，如基片薄膜含氮，则会与样本造成混淆。 样本安置面：对多数用户来说，样本应安置在薄膜窗格的&ldquo 覆膜面&rdquo 而非&ldquo 蚀坑面&rdquo 。但我们也知道在一些特殊情况下，蚀坑面也可安置样本。除对样本进行原子力显微镜（AFM）观测外，蚀坑面本质上并非不可用于放置样本。实际上，没有一个显微镜的悬臂可以伸至蚀坑内&ldquo 看清&rdquo 薄膜表面。 产品规格： 氧化硅薄膜窗特点： 清洗：采用等离子清洗，无有机物残留，改善成像质量； 均匀性：减少了不同区域的不均匀性； 稳定性： 耐高温，1000℃； 良好的化学稳定性：图像分辨率和机械强度达到理想的平衡； 化学计量比的SiO2：可用于氮气环境下的EDX分析； 氧化硅薄膜窗规格 窗口类型薄膜厚度窗口尺寸框架尺寸框架厚度20nm2x1阵列，100X1500μmΦ3mm200μm40nm2x1阵列，100X1500μmΦ3mm200μm20nm3x3阵列，窗口100X100μmΦ3mm200μm40nm3x3阵列，窗口100X100μmΦ3mm200μm8nm窗口0.5x0.5mm，氮化硅薄膜200nm；24个网格，网格大小70x70μmΦ3mm200μm18nm窗口0.5x0.5mm，氮化硅薄膜200nm；24个网格，网格大小60x60μmΦ3mm200μm 40nm窗口0.5x0.5mm，氮化硅薄膜200nm；24个网格，网格大小50x50μmΦ3mm200μm 优点： SEM应用中，薄膜背景不呈现任何结构和特点。 x-射线显微镜中，装载多个分析样的唯一方法。 无氮 应用： 氧化硅薄膜应用范围非常广，甚至有时使不可能变为可能，但所有应用都有无氮要求（因样本中有氮存在）： ● 惰性基片可用于高温环境下，通过TEM、SEM或AFM（某些情况下）对反应进行动态观察。 ● 作为耐用（如&ldquo 强力&rdquo ）基片，首先在TEM下，然后在SEM下对同一区域进行&ldquo 匹配&rdquo 。 ● 作为耐用匹配基片，对AFM和TEM图像进行比较。 ● 聚焦离子束（FIB）样本的装载，我们推荐使用多孔薄膜，而非不间断薄膜。 氧化硅薄膜TEM网格操作使用： 如果正确操作，氧化硅薄膜将会拥有非常好的性能。相反，若用工具直接接触薄膜，则会即刻损坏薄膜。为防损坏，可用尖嘴镊子小心夹取，就像夹取其他TEM网格一样。 使用前清洁： 氧化硅薄膜窗格在使用前不需进行额外清洁。有时薄膜表面边角处会散落个别氧化物或氮化物碎片。由于单片网格需要从整个硅片中分离，并对外框进行打磨，因此这些微小碎片不可避免。尽管如此，我们相信这些碎片微粒不会对您的实验产生任何影响。 如果用户确实需要对这些碎片进行清理，我们建议用H2SO4 : H2O2 (1:1)溶液清洁有机物，用H2O:HCl: H2O2 (5:3:3)溶液清洁金属。 通常不能用超声波清洗器清洁薄膜，因超声波可能使其粉碎性破裂。 详细请咨询：021-35359028/ admin@instsun.com

透射电镜（TEM）用氮化硅薄膜窗口 产品概述： 与X射线用氮化硅窗口类似，透射电镜（TEM）用氮化硅薄膜窗口也使用低应力氮化硅薄膜基底。但整体尺度更小，适合TEM装样的要求。窗口有单窗口和多窗口阵列等不同规格。同时NTI也定制多孔氮化硅薄膜窗口。 现在可以提供透射电镜（TEM）用氮化硅薄膜窗系列产品，规格如下： 外框尺寸: &bull 3 mm x 3 mm (窗口尺寸：0.5 mm，薄膜厚度：30 nm) &bull 3 mm x 3 mm (窗口尺寸：1.0 mm，薄膜厚度：50 nm) 边框厚度： 200µ m、381µ m。 Si3N4薄膜厚度： 50nm、100nm 可以为用户定制产品(30-200nm)，但要100片起订。 本产品为一次性产品，不建议用户重复使用，本产品不能进行超声清洗，适合化学清洗、辉光放电和等离子体清洗。 技术指标： 表面平整度： 我们认为薄膜与其下的硅片同样平整， TEM用氮化硅薄膜窗口的表面粗糙度为：0.6-2nm。完全适用于TEM表征。 亲水性： 该窗格呈疏水性，如果样品取自水悬浮液，悬浮微粒则不能均匀地分布在薄膜上。用等离子蚀刻机对薄膜进行亲水处理，可暂时获得亲水效果。虽然没有对其使用寿命进行过测试，但预期可以获得与同样处理的镀碳TEM网格相当的寿命。我们可以生产此种蚀刻窗格，但无法保证其使用寿命。如果实验室有蚀刻工具也可对其进行相应的处理提高其亲水性能。 温度特性： 氮化硅薄膜窗口产品是耐高温产品，能够承受1000度高温，非常适合在其表面利用CVD方法生长各种纳米材料。 化学特性： 氮化硅薄膜窗口是惰性衬底。 应用简介和优点： 1、 适合TEM、SEM、AFM、XPS、EDX等的对同一区域的交叉配对表征。 2、 大窗口尺寸，适合TEM大角度转动观察。 3、 无碳、无杂质的清洁TEM观测平台。 4、 背景氮化硅无定形、无特征。 5、 耐高温、惰性衬底，适应各种聚合物、纳米材料、半导体材料、光学晶体材料和功能薄膜材料的制备环境，（薄膜直接沉积在窗口上）。 6、 生物和湿细胞样本的理想承载体。特别是在等离子体处理后，窗口具有很好的亲水性。。 7、 耐高温、惰性衬底，也可以用于化学反应和退火效应的原位表征。 8、 适合做为胶体、气凝胶、有机材料和纳米颗粒等的表征实验承载体。 详细请咨询：021-35359028/ admin@instsun.com

由化学蒸气沉淀形成，转移到多碳孔支持膜横向电磁场的网格上，石墨烯悬浮没有底层，比碳孔高2微米。石墨烯薄膜生长方法：CVD合成、转移方法：干净转移，质量控制：光学显微镜、拉曼光谱、扫描电镜和透射电镜批签，大小：3毫米，外观（颜色）：透明，透明度：97%,外观（形状）：薄，覆盖率：95%，石墨烯层数：1，厚度（原理上）：0.345毫微米，场效应管电子AI203迁移率：2,800cm2/Vs,场效应管SIO2/SI的电子迁移率：3,500cm2/Vs,表面电阻：170欧姆平方米，晶粒尺寸：约10μm，横向电磁场网格：类型：多孔碳支持膜 ?R2/4，孔大小：2微米，孔间距：4微米，孔直径：3毫米，涂层：镀金。

产品信息：96孔板固相萃取板产品【3M EmporeTM 96-Well Disk Plate】是空隙量极小的96孔板，其使用的是可实现多样品迅速处理的隔膜固相。用PTFE的细微纤维将固相粒子连接起来，将隔膜成形的固相萃取薄膜片使用于固相。通过与对应96孔板的自动作机器人相组合后，可以针对多孔板板在无人状态下实行大量处理。特 长* 可以较少的溶剂实现抽取，可简化操作。* 优异的重现性，精度有进一步提升的空间。* 可对应自动化装置，可实施多样品同时处理。* 有着均质的固相萃取薄膜片，因此孔间无偏差。* 贮存器容量有1.2mL标准型，以及2.5mL深型。* 粒径50μm、1孔内径5.5mm、膜厚0.75mm。* 另配有过滤器板。通用树脂板对于在惯用的C18、C8之类逆相模式，以及MPC之类复合模式下较难实施处理的LC／ MS分析来说，其需要的是避免在极性化合物及缓冲中使用高浓度的盐，而新开发出来的通用树脂（URP）则作为高通量（High Throughput）前处理法，正可有效实现这一目的。订货信息： 其他固相萃取薄膜片板类 型品 名包装单位（个）Cat.No.标 准（1.2mL）C18 SD15010-3020235010-30200125010-30203C8 SD15010-3020735010-30205125010-30208C2 SD15010-3021235010-30210125010-30213MPC SD15010-3021735010-30215125010-30218过滤器板※15010-3312135010-33122125010-33127深度（deep）（2.5mL）C18 SD15010-3030235010-30300125010-30303C8 SD15010-3030735010-30305125010-30308C2 SD15010-3031235010-30310125010-30313MPC SD15010-3031735010-30315125010-30318过滤器板※15010-3312435010-33125125010-33128

Atlas™ 标准薄膜制样机与高温薄膜制样系统Specac的等厚度薄膜制样工具主要用于高分子材料的光谱测定，根据热压制膜原理，所得到的样品是纯样品，谱图中只出现样品信息。Specac公司为满足客户的不同需求，提供三种等厚度薄膜制样工具，不仅可以将较厚的聚合物变成更薄的薄膜，还能将粒状，块状或板材，如药包材料，包装材料，特殊包裹材料等不规则的聚合物变成可以检测的薄膜。 GS15800高温薄膜制样系统技术参数： 最高操作温度高达400℃ 满足高端科研的要求 一周期40分钟 通过CE安全认证 集成的供热制冷设备? 2T的载荷极限 0.015, 0.025, 0.050, 0.100, 0.250, 0.500mm 薄膜直径29mm 压力范围0-2吨 一体式加热盘系统 双数字显示，精度1度 安全切换装置：70℃ 切断加热希同/55℃ 重启加热系统 一体式冷却盘高温薄膜制样机P/N GS15800有一组加热板是嵌入到薄膜制样机中的，所以当P/N GS15800装载在压 片机上时， 是不需要额外的Atlas 加热压盘P/NGS15515的。订购信息GS15640标准薄膜制样机特点：独立加热压盘，满足不同直径薄膜需要独立冷却盘，可缩短制膜周期重现性哈，制备过程简单 制膜过程无需化学品，成本低6种不同厚度的垫圈，适合各种高分子材料技术参数： 操作温度高达300℃ 一周期30分钟 4T的载荷极限 0.015, 0.025, 0.050, 0.100, 0.250, 0.500mm 薄膜直径29mm 双数字显示，精度℃ 可配套加热板P/N GS15515使用 冷却系统停止时切断加热系统 冷却水流速大于0.2/min时重启加热系统 独立冷却盒订购信息GS15640 Atlas™ 标准薄膜制样机包括: 0.015, 0.025, 0.050, 0.100, 0.250和0.500 mm 垫圈铝膜 直径40mm(200 片)Specacards 卡夹式，圆形通光孔直径10mm，样品架(20张)不锈钢镊子GS15800 Atlas™ 高温薄膜制样系统包括: 0.015, 0.025, 0.050, 0.100, 0.250and 0.500 mm 垫圈铝膜直径40mm(200 片)制作铝膜样品杯的工具Specacards 卡夹式，圆形通光孔直径10mm，样品架(20张)不锈钢镊子高稳定性及高精度的温度控制器(400℃) 薄膜制样套装GS15631 Atlas™ 标准型薄膜制样套装1包括: 薄膜制样系统(GS15640) 加热板和加热压盘以及数字全自动温控器(300°C) (GS15515)GS15633 Atlas™ 标准型薄膜制样套装2包括: 薄膜制样系统(GS15640)加热板和加热压盘以及数字温控器(300oC) (GS15515)15T手动液压机(GS15011)(对于GS15800,GS15631和GS15633，请指定220V或110V电压和使用的国家。)GS15800 Atlas™ 高温薄膜制样系统套装 包括: 高温薄膜制样系统(GS15800) 15T手动液压机(GS15011)(请指定220V或110V电压和使用的国家。)备件及耗材GS03800 卡夹式，圆形通光孔直径10mm，样品架 (100张/盒)GS03805 用于固定易伸缩薄膜样品的尼龙卡簧(20)GS03810 10mm x 25mm 矩形通光孔Specacards (100)GS03820 磁性薄膜样品架 圆形通光孔直径25mmGS15627 直径为40mm的铝膜(200)GS15641 冷却盒 用于标准薄膜制样系统 替换GS15642 标准薄膜制样压盘套装GS15629 标准薄膜制样机可替换的垫圈组件GS15805 高温薄膜制样机可替换的垫圈组件

薄膜拉力测试仪、塑料薄膜拉伸强度检测、塑料薄膜剥离测试仪介绍：LQJ211万能材料试验机有着超大数显控制系统-为主机曲线、力值、速度和变形动态显示，加上电脑可实现微机操作，参数随意设定，可以做不同材料30KN以内的拉伸、压缩、弯曲、剥离、撕裂、剪切、刺破、低调疲劳等多项力学试验.可根据国际标准ISO.JIS.ASTM.DIN等国际标准和国外标准进行试验和提供数据.以windows操作系统使试验数据曲线动态显示,试验数据可以任意删加,对曲线操作更加简便.轻松.随时随地都可以进行曲线遍历.叠加.分离.缩放.打印等全电子显示监控. 薄膜拉力测试仪、塑料薄膜拉伸强度检测、塑料薄膜剥离测试仪技术参数 Main specifications 1、最大负荷Load Accuracy： 30KN（任意选） 2、荷重元精度Load Accuracy： 0.01% 3、测试精度Measuring accuracy： ± 0.5% 4、操作方式Control： 全电脑控制,windows模式操作 5、有效试验宽度Valid width： 约420mm 6、有效拉伸空间Stroke： 约800mm 7、试验速度Tetxing speed : 0.001~500mm/min 8、速度精度 Speed Accuracy：: ± 0.5%以内； 9、位移测量精度Stroke Accuracy： ± 0.5%以内； 10、变形测量精度Displacement Accuracy： ± 0.5%以内 11、安全装置 Safety device： 电子限位保护，紧急停止键 Safeguard stroke 12、机台重量Main Unit Weight ： 约140kg

薄膜偏振片英文名Thin film polarizer，薄膜偏振片是一种介质镀膜偏振片把s光和p光分开，适合高功率激光或高能量激光应用，适合内腔和外腔应用。布儒斯特型薄膜偏振片又叫Thin film polarizer,布儒斯特角偏振片，是一种适合高能激光应用的偏振片，损伤阈值高达10J/cm2 @1064nm 8ns. 薄膜偏振片常常作为格兰泰勒棱镜和偏振立方分束器（偏振立方体）的替代用品使用。常用的基质材料是BK7和紫外熔炉石英。56度入射角（布儒斯特角）情况下的 偏振比值Tp/Ts=200：1.特点：1）薄膜偏振片,Thin film polarizer有效地分开s光和p光 2）薄膜偏振片,Thin film polarizer配备有库存，可以立刻发货。薄膜偏振片标准参数 材料：BK7, UVFS直径公差：+0.0/-0.12mm厚度公差：+/-0.2mm净孔径：90%表面质量： 20-10 scratch&dig表面平整度：Lambda/10 @633nm平行度：30arec sec 消光比Tp/Ts：200:1典型透过率： Tp90%典型反射率：Ts99.5%激光损伤阈值： 5J/cm2 10ns 1064nm现有产品：266nm,343nm, 355nm, 400nm, 515nm, 532nm,780nm, 780-820nm, 795-805nm,940nm980nm, 1020-1040nm, 1064nm, 1550nm偏振片中国领先的进口精密激光光学器件旗舰型服务商--孚光精仪！

手持式薄膜测厚仪配件是全球首款便携式光学薄膜厚度测量仪,可测量透明或半透明单层薄膜或膜系的薄膜厚度,薄膜的吸收率/透过率，薄膜反射率，荧光等。手持式薄膜测厚仪可测量膜层的厚度,光学常量（折射率n和k)，薄膜厚度测量范围为350-1000nm，不需要电线连接，也不需要实验室安装空间，它从USB连接中获取工作电源，这种独特设计方便客户移动测量，只需USB线缆从计算机控制测量即可，采用全球领先的3648像素和16bit的光谱仪，具有超高稳定性的LED和荧光灯混合光源，光源寿命高达20000小时，手持式薄膜测厚仪配件特色USB接口供电，不需要额外的线缆供电超级便携方便现场使用超低价格手持式薄膜测厚仪配件参数 可测膜厚： 15nm-90微米；波长范围: 360-1050nm 探测器：3648像素Si CCD阵列，16bit A/D精度：1nm 斑点大小：0.5mm 光源：LED混合光源（ 360-1050nm )所测样品大小：10-150mm, 计算机要求：Windows XP, vista, Win7均可，USB接口；尺寸：300x110x500mm 重量：600克手持式薄膜测厚仪配件应用用于薄膜吸收率,透过率和荧光测量，用于化学和生物薄膜测量，传感测量用于光电子薄膜结构测量 用于半导体制造用于聚合物薄膜测量 在线薄膜测量用于光学镀膜测量

James Heal 纺织品酚黄测试用聚乙烯薄膜泛黄测试聚乙烯薄膜用途：纺织品酚黄测试，黄变测试，泛黄测试James Heal酚黄 (泛黄) 变测试膜400X200mm 100片/包 706-792ISO 105-X18 M&S C20B-TOadidas***酚黄(泛黄)变测试膜酚黄 (泛黄)变测试套件酚黄(泛黄)变测试纸100X75mm706-720酚黄(泛黄)变测试纸100X30mm706-709酚黄(泛黄)变测试膜400X200mm 706-792James Heal酚黄 (泛黄) 变测试纸100X75mm 50/包 706-720ISO 105-X18 M&S C20B-TOadidas***酚黄(泛黄)变测试纸James Heal酚黄 (泛黄) 变控制布100X30mm 25片/包 706-709ISO 105-X18 M&S C20B-TOadidas***酚黄(泛黄)变控制布

Chemplex样品薄膜、麦拉膜、迈拉膜、XRF样品膜、XRF测试薄膜、EDX样品薄膜、EDX薄膜、样品薄膜、ROHS测试膜、X荧光光谱仪样品膜、光谱仪样品薄膜、CAT.NO：106麦拉膜、CAT.NO：150麦拉膜、CAT.NO：250麦拉膜、CAT.NO：256麦拉膜、CAT.NO：257麦拉膜、CAT.NO：416麦拉膜、CAT.NO：426麦拉膜、3014麦拉膜、欢迎咨询 美国Chemplex 杯膜 XRF样品杯，又名X荧光光谱仪样品杯、XRF样品杯、X-ray光谱仪样本杯、ROHS专用样品杯、高纯度聚脂测试杯，是应用于X荧光光谱仪XRF上的一次性量杯，广泛应用于牛津、斯派克、岛津、热电、帕纳科、日本理学等各种品牌的XRF光谱仪。 产品类型：XRF样品杯Sample Cups 品 牌：美国Chemplex型 号：所有型号（欢迎来电索取产品目录）产 地：美国 产品介绍： Chemplex XRF样品杯用于RoHS、WEEE专业测试仪器盛放小颗粒固体，粉末，液体，适用于各种品牌的X射线荧光光谱仪。对特别配制的塑料和保持其物理和化学属性一致性的特别关注，使得Chemplex XRF样本杯在XRF物质成分分析应用范围和性能上无与伦比。Chemplex的许多XRF样本杯被列为新颖独特的设计和应用，并被美国专利商标局授予知识产权地位。 Chemplex独有的SpectroCertified? X荧光光谱仪（XRF）样本杯的质量始于一种特别配置的聚乙烯！ Chemplex样本杯由专为该应用配制的专用高密度聚乙烯注模制成。该材料的特点有：1、符合RoHS指令； 2、不含有可能影响X射线数据的“白化”因子；3、光滑，能够促进薄膜样本支撑窗口的光滑和稳固附着；4、耐热和抗辐射的物理性能特点；5、能抵抗与无法确定的样本材料物质接触时产生的化学污染； 6、低微量元素杂质。 Chemplex Industries有限公司专业从事样品前处理设备、耗材研发和生产的公司，是X射线光谱仪（XRF）配件耗材领域的全球知名厂商。从产品研发和设计新概念，在内部生产，Chemplex工业公司是形成了样品制备方法的基础的重大贡献。样本杯的设计始于一个开发一种用于承装和处理X射线分析的液体和粉末状样本物质的方法的创意。 谱飞科技作为美国Chemplex公司的中国代理商，提供Chemplex所有系列用于对应欧盟ROHS和WEEE环保检测仪器——X射线荧光光谱仪（XRF）的检测实验消耗产品！主要有：高纯度聚脂样品杯，铝制样品杯，样品薄膜等。 我们不仅提供各种尺寸和属性的XRF样本杯、样品薄膜，还能根据您的样品类型和仪器品牌/型号为您选择合适的样品杯、样品薄膜。 二、XRF样品杯尺寸、属性和仪器兼容性： 为了对样本杯与仪器提供的样本夹持设备（金属样本杯、旋转盘、滑动平台、固定台等）进行匹配，购买样本杯前请告知您使用的X荧光光谱仪品牌和型号，或请直接测量仪器样本夹持设备的内径、高度和孔径。 我们列出了各种类型的样本杯的属性以更好地服务于应用，有需要的客户请联系本公司。本公司免费为客户提供包括样品杯的式样、尺寸、价格、编号、适用仪器型号等信息的产品目录。 适用仪器： 德国斯派克Spectro、英国牛津Oxford、日本堀场Horiba、飞利浦/帕纳科Philips/Panalytical、德国布鲁克Bruker、美国赛默飞世尔科技（热电）Thermo，瑞士ARL及日本理学Rigaku, Siemens, Spectrace,Jordan, Kevex, Metorex,Fisons, Asoma，Venus 200,Valley等生产的X荧光光谱仪(XRF)。 （适用X射线荧光光谱仪品牌型号：所有X射线荧光光谱仪包括：尼通(NITON)：Xlt797z 、Xlt794、Xlt898 ；伊诺斯(Innov-X)：AlPHA6000；牛津(Oxford)：Met-5000；帕纳科(Panalytical)：Minipal4、Minipal2；精工(Seiko)：SEA1000A；斯派克（Spectro）：XEPOS、 MIDEX M；热电(Thermo)：ARL Quant’X；日本电子（JEOL）JSX－3400R；Horriba等。） 三、Chemplex产品系列： 注册商标有：Chemplex、SpectroCertified、SpectroSulfur?、SpectroMicro?、TrimLessTM、ThermoPlasticTM、TrimLessTM、FunnelShapeTM等XRF样品杯。 四、产品系列：1000系列带有紧固套的单和双开口32和40mm薄膜支撑样品杯,和带有紧固盖和排气室的45mm样品杯 1300系列带有旋转咬合盖和咬合圈的双开口32和40mm样品杯 1400系列带有排气和小样品管的单开口32和40mm样品杯 1500系列带有多孔薄膜和咬合附件的双开口32和40mm样品杯 1545系列适用于样品表面水平和样品表面倾斜的XRF系统的样品杯 1700系列带有咬合排气和排气室的单开口32和40mm样品杯 1800系列带有排气装置和排气室的单开口32和40mm样品杯 1080,1085,1850系列带有排气装置和排气室的单和双开口47mm样品杯。 1、1000系列：TRIMLESS?套筒样本杯与SPECTROSULFUR?分析仪杯，TRIMLESS?套筒能套住薄膜样本支撑窗并清除过量剪屑。适用仪器：适用于Spectro & SpectroAsoma Xepos, X-Lab 2000, Xepos Low S, 200, 200T Titan, Phoenix，Panalytical Venus与Rigaku（日本理学株式会社）仪器。产品编号：10601双开端、1065单开端、1070双开端、1075单开端、1080双开端、1083单开端、1085单开端、1095双开端带通风盖与球形柄。2、1300系列：可重复密封的可通风式XRF样本杯，集成外部溢流储液槽，并可选择使用集成的薄膜样本支撑窗修剪器。适用仪器：适用于Spectro & SpectroAsoma Xepos, X-Lab 2000, Xepos Low S, 200, 200T Titan, Phoenix仪器。产品编号：1330双开端、1330-SE直接固定环拥有集成的薄膜修整器、1340双开端。3、1400系列：单开端可通风XRF样本杯。适用仪器：适用于Spectro & SpectroAsoma Xepos, X-Lab 2000, Xepos Low S, 200, 200T Titan, Phoenix仪器。 产品编号：1430单开口端ThermoPlastic?密封排气、1430-SE、1440单开口端密封排气、1440L* 特长单开口端。4、1500系列：双开口端XRF样本杯。 适用仪器：适用于Spectro & SpectroAsoma Xepos, X-Lab 2000, Xepos Low S, 200, 200T Titan, Phoenix等仪器。产品编号：1530 双开口端、1530-SE直接固定环带有集成的薄膜修整器、1540 双开口端。5、1600系列：狭缝通风样本杯盖，适用于1500系列XRF样本杯。样品编号：1630样本杯盖、1640样本杯盖。6、1700系列：集成的咬合式通风XRF样本杯。适用仪器：适用于Spectro & SpectroAsoma Xepos, X-Lab 2000, Xepos Low S, 200, 200T Titan, Phoenix仪器。产品编号：1730 咬合式通风、1730-SE直接固定环拥有集成的薄膜修整器、1740Snap-Post通风。7、1800系列：单开口端XRF样本杯，集成的外部溢流储液槽，通风装置；与可选用的集成薄膜样本支撑窗修整器。 适用仪器：适用于Spectro & SpectroAsoma Xepos, X-Lab 2000, Xepos Low S, 200, 200T Titan, Phoenix仪器。产品编号：1830 ThermoPlastic?密封通风、1830-SE直接固定环拥有集成的薄膜修整器、1840ThermoPlastic?密封通风。8、1850系列：单开口端SPECTROSULFUR?分析仪样本杯，Thermoplastic Seal?通风，集成外部溢流储液槽和排泄装置，适用于X射线光学系统“SINDIE?”仪器与其它硫分析仪。9、1900系列：双开口端XRF样本杯，顶部样本注入与可选用的集成薄膜样本支撑窗修剪器。适用仪器：适用于Spectro & SpectroAsoma Xepos, X-Lab 2000, Xepos Low S, 200, 200T Titan, Phoenix仪器；适应于Oxford Lab-X仪器。产品编号：19301双开口端、1930-SE1直接固定拥有集成的薄膜修整器、19401双开口端、1940L2 双开口端。10、1935-OX系列：双开口端XRF样本杯与通风盖，适用于牛津分析仪。用作替换的腔室和盖子，适用于牛津CK-100，耗材元件，零件编号54-CK-100。11、2100系列：双开口端TRIMLESS?套筒XRF样本杯、内部溢流储液槽，通风的直接固定盖，TRIMLESS?套筒薄膜样本支撑窗附着。产品编号：2132 、2135、2140、2143、2144、2145、2146、2195。12、3100系列：SPECTROMICRO?样本杯，采用“FUNNELSHAPE?”（漏斗形）样本杯技术。产品编号：3106、3110、3115、3120。更多信息咨询美同达科技

基于PELCO® 多孔氮化硅上的石墨烯支持膜这种石墨烯产品是由多孔氮化硅支撑，在0.5x0.5mm的窗口上铺了一层Si3N4，网格的孔径为2.5um，孔间距为4.5um。石墨烯的使用率为75%，可提供单层、2层、3-5层和6-8层石墨烯。适合UHR成像，或者作为一种实验平台。Example of nanopatterning of an atomically thin matter-wave beam splitter from a single-layer Graphene on Holey Silicon Nitride product. Ref: C. Brand, et. al. Nature Nanotechnology, Vol. 10, Oct. 2015 货号产品描述包装21712-5基于多孔氮化硅的单层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mm pkg/521712-10基于多孔氮化硅的单层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/1021712-25基于多孔氮化硅的单层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/25 货号产品描述包装21722-5基于多孔氮化硅的2层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/521722-10基于多孔氮化硅的2层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/1021722-25基于多孔氮化硅的2层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/25 货号产品描述包装21742-5基于多孔氮化硅的3-5层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/521742-10基于多孔氮化硅的3-5层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/1021742-25基于多孔氮化硅的3-5层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/25 货号产品描述包装21772-5基于多孔氮化硅的6-8层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/521772-10基于多孔氮化硅的6-8层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/1021772-25基于多孔氮化硅的6-8层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/25

迷你薄膜制样套装一款5分钟就能实现红外透射分析专用的聚合物薄膜制样机特点：液压机与加热压盘以及温控器一体化的设计体积小巧，方便存储，携带薄膜重现性好，使用快捷 无需化学品，成本低,6种不同的垫圈这种设计允许加热板先进行预加热，温度升高至样品所需的熔点，并保持这个温度。样品在被引入到预加热板之前，薄膜制样机就可以独立的为几克的样品准备好相应的载荷和合适的定型圈。当薄膜制样机达到预设温度并稳定后，通常使用0.5T负载转动丝杆来热压薄膜。一旦从热压机上移走，低温块体薄膜制备制样机可以在冷却板上快速冷却到室温，压制成型的薄膜可以移除。薄膜样品可被镶嵌在一个3×2英寸的自粘帖卡片(Specacard) 上以用于红外透射光谱分析使用。与传统方法相比，这个过程可缩短薄膜制备的周期，实际上，制作一个薄膜样品的周期可小于5分钟。如何制备薄膜样品放置好隔热板, 选择好定型圈和较小的铝膜，放到下方组件上。1) 将样品放到铝膜的中央位置，然后在上面覆盖上较大的铝膜和上方组件2) 将准备好的以上组件整体放置到预加热板平面间，再施加1T位的载荷。3) 一旦样品完成压缩从压片机取出，分开组件，小心的将铝膜从样品上剥离。4) 制成的薄膜放入Specacard，然后一同放置到光谱仪器中进行分析。 技术参数： 快速，可重复的制备薄膜样品 样品熔点范围从室温到260℃ 标准薄膜厚度15,25，50, 100,250和500μm 直径15mm 压力范围0-2吨 制样包包括液压机和集成的加热板 周期5分钟 加热压盘直径25mm 加热压盘最大功率：35W 温度控制器：双数字显示，精度1℃ 加热压盘可调距离0-20mm 独立冷却盘 重量5.7kg 订购信息 迷你薄膜制样套装 GS03970 迷你薄膜制样套装 备件及耗材 GS03971 迷你薄膜制样组件 (包括压板组件，隔热板， 下压板组件，定型圈组件) GS03972 定型圈(15, 25, 50, 100, 250 和500 μm GS03973 铝膜(200 对) GS03974 迷你薄膜制样机冷却板 GS03975 迷你薄膜制样机压板(包括上压板，隔热板，下压板) GS03800 Specacards (100包) 直径10mm的圆形通光孔 GS15628 不锈钢镊子

基于PELCO® 多孔氮化硅上的石墨烯支持膜这种石墨烯产品是由多孔氮化硅支撑，在0.5x0.5mm的窗口上铺了一层Si3N4，网格的孔径为2.5um，孔间距为4.5um。石墨烯的使用率为75%，可提供单层、2层、3-5层和6-8层石墨烯。适合UHR成像，或者作为一种实验平台。Example of nanopatterning of an atomically thin matter-wave beam splitter from a single-layer Graphene on Holey Silicon Nitride product. Ref: C. Brand, et. al. Nature Nanotechnology, Vol. 10, Oct. 2015 货号产品描述包装21712-5基于多孔氮化硅的单层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mm pkg/521712-10基于多孔氮化硅的单层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/1021712-25基于多孔氮化硅的单层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/25 货号产品描述包装21722-5基于多孔氮化硅的2层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/521722-10基于多孔氮化硅的2层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/1021722-25基于多孔氮化硅的2层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/25 货号产品描述包装21742-5基于多孔氮化硅的3-5层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/521742-10基于多孔氮化硅的3-5层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/1021742-25基于多孔氮化硅的3-5层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/25 货号产品描述包装21772-5基于多孔氮化硅的6-8层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/521772-10基于多孔氮化硅的6-8层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/1021772-25基于多孔氮化硅的6-8层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/25

x射线定硫仪消耗品样品薄膜，迈拉膜，样品杯 Chemplex样品薄膜 型号：090，250 品牌：Chemplex 产地：美国 一、产品介绍： 在用X荧光光谱仪进行ROHS检测，WEEE检测和一般材料成分分析时，由于样品的不规则（特别是液体、粉末等），需要借助样品杯和薄膜辅助检测；但不合适的样品薄膜往往造成样品污染并影响材料成分分析的X射线信号和检测结果。 选择适当的薄膜材料对于分析结果至关重要。 在现有的众多不同的物质类型中，只有为数不多的几种具备能满足光谱化学需要的一致性和化学、物理属性。 如何选择薄膜样本支撑窗材料？ 适当的薄膜样本支撑窗的选择主要以满足首要重要的实验室要求为基础： 使用方便快捷； 避免造成待测样品污染； 优越的分析物透射比与强度； 对待测样品的耐化学性。 Chemplex Industries有限公司专业从事样品前处理设备、耗材研发和生产的公司，是X射线光谱仪（XRF）配件耗材领域的全球知名厂商。 Chemplex XRF样品杯和样品薄膜用于RoHS、WEEE专业测试仪器盛放小颗粒固体，粉末，液体，适用于各种品牌的X射线荧光光谱仪。Chemplex样品薄膜薄膜张力特性佳，与样品杯组合使用，适合盛放各类金属重物、液体或粉末。对特别配制的塑料和保持其物理和化学属性一致性的特别关注，使得Chemplex XRF样本杯、样品薄膜在XRF物质成分分析应用范围和性能上无与伦比。Chemplex的许多XRF样本杯、样品薄膜被列为新颖独特的设计和应用，并被美国商标局授予知识产权地位。 美同达为美国Chemplex公司的中国代理商，提供Chemplex所有系列用于对应欧盟ROHS和WEEE环保检测仪器——X射线荧光光谱仪（XRF）的检测实验消耗产品！ 我们不仅能够为您提供样品薄膜、样品杯, 还可根据您的样品应用为您选择、定制合适的样品薄膜、样品杯。 二、适用仪器： 德国斯派克Spectro、英国牛津Oxford、日本堀场Horiba、飞利浦/帕纳科Philips/Panalytical、德国布鲁克 Bruker、美国赛默飞世尔科技（热电）Thermo，瑞士ARL及日本理学Rigaku, Siemens, Spectrace,Jordan, Kevex, Metorex,Fisons, Asoma，Venus 200,Valley等生产的X荧光光谱仪(XRF)。 （适用X 射线荧光光谱仪品牌型号：所有X射线荧光光谱仪包括：尼通(NITON)：Xlt797z 、Xlt794、Xlt898 ；伊诺斯(Innov-X)：AlPHA6000；牛津(Oxford)：Met-5000；帕纳科(Panalytical)：Minipal4、 Minipal2；精工(Seiko)：SEA1000A；斯派克（Spectro）：XEPOS、MIDEX M；热电(Thermo)：ARL Quant’X；日本电子（JEOL）JSX－3400R；Horriba等。） 三、SPECTROMEMBRANE?样品薄膜 随着SpectroMembrane?样本支撑托架的面世，在处理薄膜时用户不再需要担心静电附着或潜在的污染风险或吸引空中颗粒等问题。除样本杯外，薄膜不再近距离接触其它任何物体。薄膜处理将通过使用集成的托框完成，托框能够在组装过程中自动分离，留下绷紧的薄膜样本平面。 SpectroMembrane?薄膜样本支撑托架由一块粘在托架上作为支撑物的薄膜样本支撑物质组成。在把薄膜物质粘在XRF样本杯上时，薄膜物质并不会被直接处理，这就消除了污染的可能性。接近完成或在完成附着时，薄膜将自动从托架上分离，留下绷紧的无皱样本支撑窗。 x射线定硫仪消耗品样品薄膜，迈拉膜，样品杯 106麦拉膜、CAT.NO：150麦拉膜、CAT.NO：250麦拉膜、CAT.NO：256麦拉膜、CAT.NO：257麦拉膜、CAT.NO：416、CAT.NO：426等Cat. No. Type Thickness Format Size Qty/Pack446-5 Kapton? 7.5 μm (0.3mil) Precut Circles 2.5" (63.5mm) 50090 Ultra-Polyester? 1.5μm (0.06mil) Roll 3.0" (76.2mm) 300' (91.4m)95 Etnom? 1.5μm (0.06mil) Roll 3.0" (76.2mm) 300' (91.4m)100 Mylar? 2.5μm (0.1mil) Roll 3.0" (76.2mm) 300' (91.4m)100-PP Mylar? 2.5μm (0.1mil) Roll - PrePerf 3.0" (76.2mm) 300' (91.4m)106 Mylar? 2.5μm (0.1mil) Precut Circles 2.5" (63.5mm) 500107 Mylar? 2.5μm (0.1mil) Precut Circles 2.5" (63.5mm) 1000150 Mylar? 3.6μm (0.14mil) Roll 3.0" (76.2mm) 300' (91.4m)150-PP Mylar? 3.6μm (0.14mil) Roll - PrePerf 3.0" (76.2mm) 300' (91.4m)156 Mylar? 3.6μm (0.14mil) Precut Circles 2.5" (63.5mm) 500157 Mylar? 3.6μm (0.14mil) Precut Circles 2.5" (63.5mm) 1000250 Mylar? 6.0μm (0.24mil) Roll 3.0" (76.2mm) 300' (91.4m)250-PP Mylar? 6.0μm (0.24mil) Roll - PrePerf 3.0" (76.2mm) 300' (91.4m)256 Mylar? 6.0μm (0.24mil) Precut Circles 2.5" (63.5mm) 500257 Mylar? 6.0μm (0.24mil) Precut Circles 2.5" (63.5mm) 1000美国Chemplex工业公司自1971年成立以来，一直坚持专注于X射线光谱分析的样品制备领域，拥有多系列独有的特色产品线以及产权，以质量和全面的X射线的样品制备产品线享誉全球。美国Chemplex公司一直以产品创新、质量保证、、服务周到、准时交货为原则，几乎所有的产品有库存。美同达代理美国Chemplex工业公司旗下系列产品：XRF样品杯、XRF样品膜、X-ray光谱仪样本杯、ROHS专用样品杯、符合ROHS方法的PE/PVC高分子聚合物（块/粉）、XRF/XRD化学试剂盒套包装等。全线供应给各大中石油、中石化、中海油旗下研发质检实验室，是一家专业的油品实验室进口配件耗材打包供应专家！

聚合物薄膜测厚仪配件用于测量聚合物薄膜、有机薄膜、高分子薄膜和 光致抗蚀剂薄膜, 光刻胶膜,光刻薄膜,光阻膜在加热或制冷情况下薄膜厚度和光学常量（n, k)的变化。为了这种特色的测量，孚光精仪公司特意研发了专业的软件和算法，使得该聚合物薄膜测厚仪能够给出薄膜的物理化学指标：例如玻璃化转变温度 glass transition temperature (Tg)，热分解温度，薄膜的厚度测量范围也高达10nm--100微米。聚合物薄膜测厚仪配件在传统薄膜测厚仪的基础上添加了加热/制冷的温度控制单元，使用白光反射光谱技术（WLRS)，实时测量薄膜厚度和折射率，并通过专业软件记录下这些数据，能够快速实时给出薄膜厚度和薄膜光学常量等物理化学性能数据，并且能够控制薄膜加热和制冷的速度，是聚合物薄膜特性深入研究的理想工具。干膜测厚仪所使用的软件也适合薄膜的其他热性能研究，例如：薄膜的热消融/热剥蚀thermal ablation研究，薄膜光学性质随温度的变化，薄膜预烘烤Post Apply Bake，光刻过程后烘烤 Post Exposure Bake对薄膜厚度的损失等诸多研究。对于薄膜的厚度测量，这款聚合物薄膜测厚仪,薄膜热特性测厚仪要求薄膜衬底是透明的，背面是不反射的。它能够处理最高4层薄膜的膜堆layer stacks，给出两个参数：例如两个薄膜的厚度或一个薄膜的厚度和光学常量。这套聚合物薄膜测厚仪,薄膜热特性测厚仪已经成功应用于测量不同聚合物薄膜的热性能，光刻薄膜的热处理影响分析，Si晶圆wafer上的光致抗蚀剂薄膜分析等。聚合物薄膜测厚仪配件参数 可测膜厚： 5nm-150微米；波长范围：200-1100nm 精度：0.5%分辨率：0.02nm 测量点光斑大小：0.5mm可测样品大小：10-100mm计算机要求：Windows XP, vista, Win7均可，USB接口；尺寸：360x400x180mm重量：13.5kg 电力要求：110/230VAC聚合物薄膜测厚仪配件应用聚合物薄膜测量光致抗蚀剂薄膜测量化学和生物薄膜测量，传感测量光电子薄膜结构测量 半导体薄膜厚度测量在线测量光学镀膜测量聚合物薄膜厚度测量polymer films测量测量有机薄膜厚度测量光致抗蚀剂薄膜测光刻胶膜测厚测量光刻薄膜厚度测量光阻薄膜测厚测量光阻膜厚度

显微薄膜测量仪配件是一款超级紧凑而功能多样的薄膜测试仪系统，可以结合显微镜测量薄膜的吸收率，透过率，反射率以及测量点的荧光。薄膜测试仪通过反射率的测量，测量点处的薄膜厚度，薄膜光学常量（n &k)以及thick film stacks都能在瞬间测量出来。整套显微薄膜测量仪的组成是：光栅光谱仪（200-1100nm)+显微镜目镜 适配器+软件+显微镜（可选）。其中目镜适配器包含镜头，可增加光的收集。标准的40X物镜可做到测量点直径约200微米。更高倍数的物镜的测量点更小。整套薄膜测量仪和薄膜测试仪到货即可使用，仅仅需要用户准备一台计算机提供USB接口即可，操作非常方便。 安装到显微镜上的薄膜测量仪照片 薄膜测试仪SiO2薄膜测量结果（20X物镜）薄膜厚度测试仪配件软件 这款薄膜测试仪配备专业的仪器控制，光谱测量和薄膜测量功能的软件，具有广阔的应用范围。该薄膜厚度测试仪软件能够实时采集吸收率，透过率，反射率和荧光光谱，并且能够能够快速计算出结果。对于吸收率/透过率模式的配置，所有的典型参数如 A, T可快速计算出来。其他的非标准参数，如signal integration也能测量出来。对于反射率测量，该薄膜厚度测试仪软件能够精确测量膜层小于10层薄膜厚度（《10nm到100微米）， 光学常量（n & k)。 薄膜厚度测试仪配件参数 可测膜厚： 10nm-150微米； 波长范围：200-1100nm 精度：0.5% 分辨率：0.02nm 光源：使用显微镜光源 光斑大小：由显微镜物镜决定 计算机要求：Windows XP, vista, Win7均可，USB接口； 尺寸：120x120x120mm 重量：1.2kg 薄膜厚度测试仪配件应用 测量薄膜吸收率,透过率 测量化学薄膜和生物薄膜测量 光电子薄膜结构测量 半导体制造 聚合物测量 在线测量 光学镀膜测量

&bull 非常适用于 Ti:sapphire 和 Yb:doped 超快激光&bull 已针对在 45° 入射角时分离 S 偏振和 P 偏振进行了优化&bull 在 DWL 具有 1000:1 的高消光比通用规格入射角 (°):45 ±1涂层:Thin Film Dielectric消光比:1000:1基底:Fused Silica (Corning 7980)表面质量:10-5厚度 (mm):3.00 ±0.10平行度（弧分）:3有效孔径 (%):85传输波前，P-V (λ):λ/10 @ 633nm产品描述TECHSPEC® 超快薄膜偏振片运用薄膜镀膜技术，在 800 和 1030nm 处实现最佳性能。在入射角为 45° 时，这些偏振片上的离子束溅射 (IBS) 镀膜可对 s 偏振提供超过99.8% 的反射率，对 p 偏振提供超过 98% 的透射率。TECHSPEC 超快薄膜偏振片非常适合与超快激光源（例如 Ti:sapphire 和 Yb:doped 激光器）搭配使用。若您的应用需要使用定制尺寸或镀膜规格的超快薄膜偏振片，请联系我们。注意：这些光学元件边缘上的箭头指向薄膜偏振片镀膜。技术数据订购信息DWL (nm)消光比表面质量Dia. (mm)CA (%)厚度 (mm)产品编码800 1000: 10-5 12.70 +0.00/-0.1085 3.00 ±0.1013-0541030 1000:110-5 12.70 +0.00/-0.10 85 3.00 ±0.1013-055800 1000:110-5 25.40 +0.00/-0.1085 3.00 ±0.1012-9931030 1000:110-5 25.40 +0.00/-0.1085 3.00 ±0.1012-992

TEM用纯Si薄膜窗 纯硅薄膜窗特点 纳米级厚度：薄膜厚度为5-15nm，比目前无定形碳薄膜窗口还薄，为高倍成像减少了背景干扰； 清洗：采用等离子清洗，无有机物残留，改善成像质量； 均匀性：减少了不同区域的不均匀性； 稳定性：高电子束电流和退火温度下具有很好的稳定性(600℃ for non-porous, 1000℃ for nanoporous)； 减少污染：彩色污染仅为C膜的一半； 纳米孔：为纳米尺寸材料提供稳定的成像，无背景干扰； Si成分：溅镀沉积、纯的Si； 最小的背景信号：可对含Ni或C样品进行元素分析； 纯硅薄膜窗规格 单窗口系列窗口类型薄膜厚度窗口尺寸框架尺寸框架厚度5nm25x25μmΦ3mm100μm30nm500x500μm纳米孔10-60nmΦ3mm100μm多窗口系列窗口类型薄膜厚度窗口尺寸框架尺寸框架厚度5nm2x1阵列，50X1500μmΦ3mm100μm9nm/15nm2x1阵列，100X1500μmΦ3mm100μm5nm2x1阵列，100X100μmΦ3mm200μm9nm/15nm2x1阵列，100X1500μmΦ3mm200μm5nm3x3阵列，8个窗口50X50μm，1个窗口50X100μmΦ3mm100μm5nm/9nm3x3阵列，8个窗口100X100μm，1个窗口100X350μmΦ3mm100μm9nm3x3阵列，8个窗口100X100μm，1个窗口100X350μmΦ3mm200μm15nm3x3阵列，8个窗口100X100μm，1个窗口100X350μmΦ3mm100μm30nm3x3阵列，8个窗口100X100μm，1个窗口100X350μm；纳米孔10-60nmΦ3mm100μm15nm3x3阵列，窗口100X100μmΦ3mm200μm详细资料请咨询：021-35359028/ admin@instsun.com

不锈钢无菌薄膜过滤器（多联不锈钢薄膜过滤器）由上海书培实验设备有限公司加工定制，规格有单联，双联，三联，六联，采用316L不锈钢精心制作。产品介绍：产品名称：不锈钢无菌薄膜过滤器（多联不锈钢薄膜过滤器）规格：三联，六联①滤器内径50mm②有效容积：100ml 仪器特点：①省去抽滤瓶、重量轻、体积小，适宜于净化台内操作。②滤器呈半透明状，便于观察，定量控制。③滤器备有底座，可配套更换，适合于常规试验。④每个滤器设有阀门，可单独使用。⑤耐压、耐温，可在121℃30分钟热压消毒 材质：316L不锈钢需要一个抽滤瓶作为收集滤液所用，连接顺序是过滤器--滤瓶--真空泵，真空泵不可直接接过滤器本仪器按照中国药典2005年版之无菌检查法实验要求，参加国际通用标准设计而成，适用于除菌过滤，菌落检查及液体中微粒的测定。所用测试膜规格孔径：0.45微米直径：50MM产品名称 规格材质单价（元）品牌不锈钢薄膜过滤器三联带支架316L2300书培不锈钢薄膜过滤器六联带支架316L4500书培不锈钢无菌过滤杯100ml316L+玻璃550书培真空泵配套1500 注意事项：①使用前，必须对过滤器进行洁净处理，所选滤膜应浸泡过夜。②消毒时将湿态膜贴在支撑板上，盖上密封垫圈，将贮液杯和支座螺纹稍旋紧，待消毒后在旋紧，以纱布包裹进行热压消毒，以免微孔滤膜破裂。（四）适应范围： ①医药工业药品检验：注射用抗生素及其他可溶性药品的无菌检查。②引水、饮料及食品的菌落检查。③医院的医学临床检验：体液的细菌及微生物测定。④科研、教学领域的除菌过滤或检查细菌用。⑤用于微孔滤膜的质量检查

规格：10mL U型多孔玻板吸收管有白色和棕色两种，用于测量空气中有毒物质 的含量，主要采集气态、蒸汽态物质，也可采集雾态气溶胶及空气中各 种样品，采样效率在95%以上， U型吸收管适用于Q/320684DN01-1998规定的检测方法，如环境保护， 劳动卫生，职业卫生，医学科学研究部门。

适用范围：薄膜/纸张/铜箔/铝箔/等非金属材料试样的拉伸测试 可选A或B型接头：A接头 轴外径20mm长度30mm（配锁 紧母）B接头 内孔20mm深30mm 插销孔径10mm，插销孔中心到接头 端面距离14.5mm。不配接头时夹具体M12内牙夹片规格：宽30*高25mm贴胶面. 夹持试样厚度5mm。单个夹具重量500g

教学型光学薄膜测厚仪配件是一款低价台式光学薄膜厚度测量仪,可测量薄膜厚度,薄膜的吸收率/透过率，薄膜反射率，荧光等，也可测量膜层的厚度,光学常量（折射率n和k)。光学薄膜测厚仪配件基于白光反射光谱技术，膜层的表面和底面反射的光VIS/NIR光谱，也是干涉型号被嵌入的光谱仪收集分析，结合多次反射原理，给出膜层的厚度和光学常数（n，k)，到货即可使用，仅仅需要用户准备一台计算机提供USB接口即可，操作非常方便。光学薄膜测厚仪配件参数 可测膜厚： 100nm-30微米；波长范围: 300-1000nm 探测器：650像素Si CCD阵列，12bit A/D精度：1%斑点大小：0.5mm 光源：钨灯-汞灯（360-2000nm)所测样品大小：10-150mm, 计算机要求：Windows XP, vista, Win7均可，USB接口；尺寸：320x360x180mm 重量：9.2kg光学薄膜测厚仪配件应用用于薄膜吸收率,透过率和荧光测量，用于化学和生物薄膜测量，传感测量用于光电子薄膜结构测量 用于半导体制造用于聚合物薄膜测量 在线薄膜测量用于光学镀膜测量

崂应中流量采样器，天虹中流量采样器，各厂家粉尘采样器配套常用耗材采集总尘，呼吸性粉尘用规格：直径25mm，30mm，40mm，37mm，75mm，90mm等材质：丙纶备注： 本公司长期现货供应各种规格和材质测尘滤膜：材质：丙纶滤膜，玻璃纤维滤膜，微孔滤膜等直径：直径25mm，30mm，40mm，37mm，75mm，90mm等 各种规格活性炭管和硅胶采样管：溶解/热解活性炭采样管，溶解/热解硅胶采样管，酸/碱性硅胶采样管，401有机担体，GDX-103管，XAD-2管，XAD-7管，GDX-501管，GDX-502管等 各种规格吸收瓶：大型气泡吸收瓶，U型多孔玻板吸收瓶，冲击式吸收瓶，SO2吸收瓶，烟道吸收瓶和配套采样箱等联系人：陈先生 15301598898

薄膜厚度测量系统配件是一种模块化设计的薄膜厚度测量仪，可灵活扩展成精密的薄膜测量仪器，可在此基础上衍生出多种基于白光反射光谱技术的薄膜厚度测试仪，比如标准吸收/透过率，反射率的测量，薄膜的测量，薄膜温度和厚度的测量。薄膜厚度测量系统配件：核心模块----光谱仪；外壳模块----各种精密精美的仪器外壳；工作面积模块----测量工作区域；光纤模块----根据不同测量任务配备各种光纤附件；测量室-/环境罩---给测量带去超净工作区域。薄膜厚度测量仪核心模块---光谱仪孚光精仪提供多种光谱仪类型，不同光谱范围和光源，满足各种测量应用