电子显微学年会

[table=640][tr][td=2,1]2010年全国电子显微学会议及征文通知（第一轮）[/td][/tr][tr][td=2,1][color=#999999]浏览次数：120（2010-4-1） 双击自动滚屏[/color][/td][/tr][tr][td=2,1]一、2010年全国电子显微学会议通知2010年我们将庆祝中国电子显微镜学会成立三十周年！这三十年来，随着中国改革开放的不断深入，中国的电子显微学事业也有了飞跃发展，我国电子显微学领域的研究工作已开始步入世界相关学科前沿行列中。许多老科学家为中国电镜事业的发展奉献了他们毕生的精力！学会决定于2010年秋季召开全国电子显微学学术研讨会，以此庆贺中国电子显微镜学会成立三十周年。大会将特别邀请国际、国内显微学及相关科学领域著名学者做特邀报告，以使我国相关领域的广大电镜工作者和青年学生获得与这些著名学者直接交流的机会。大会将邀请相关仪器设备的厂商做电镜和其他仪器的最新发展介绍及产品展示。大会的学术交流内容包括透射电子显微镜、扫描电子显微镜、微束分析、扫描探针显微镜（包括STM、AFM等）、激光共聚焦显微镜等在物理学、材料科学、纳米科技、生命科学、化学化工、环境科学、地学等领域中的基础和应用研究成果；显微学相关仪器的理论、技术和实验方法的发展与改进；电镜及其它显微学仪器的使用、改进与维修经验的交流等。二、征文1. 征文内容：（1）透射电子显微镜、扫描电子显微镜、微束分析仪器、扫描探针显微镜（含扫描隧道显微镜，原子力显微镜等）、激光共聚焦显微镜等在物理学、材料科学、生命科学、医学、农林、化学化工、地学、环境科学等研究领域和生产中的应用。（2）电子显微镜、微束分析仪器、扫描探针显微镜（含扫描隧道显微镜，原子力显微镜等）、激光共聚焦显微镜等仪器设备相关的理论研究，新产品研制，性能改进，软件开发等。（3）显微学的图像处理的理论研究，仪器设备及软件研发。（4）显微学样品制备的仪器，制样方法和技术的研发与改进。（5）显微学仪器的管理、使用及维修方面的经验。会议将以大会邀请报告，分会场报告，专题讨论，论文展示（poster）等形式进行。2. 论文的体裁、格式、版面要求 (1) 应征论文应主题突出、数据可靠、论证严密、图像清晰、文句简练。要求提供论文详细摘要稿1份（原稿），同时请提供论文全文稿1份（原稿）。来稿同时用电子邮件发至编辑部（E-mail：dzxwxb@blem.ac.cn）（格式见《电子显微学报》征稿简则，请登录学报网页查看：www.dzxwxb.ac.cn）。论文摘要供会议论文（摘要）集刊用。论文全文将择优录用刊载于《电子显微学报》。 (2) 对论文要求： 入选论文摘要稿将汇编成《2010年全国电子显微学年会论文集》，单独印刷出版，不再属《电子显微学报》。论文集为大16开本，文稿全部内容排在170mm×240mm的版面内，每篇论文摘要可占1~2个版面，所附图片要求另用A4白纸剪裁整齐，规范排好。附英文题目、作者单位及作者姓名的汉语拼音。文集将在会议前出版。（参阅历届全国电子显微学会议出版的论文摘要集的版面格式） 择优选用的论文全文稿将在《电子显微学报》以正刊形式于2010年内发表。 要求有详细的英文摘要。 (3) 来稿由学术委员会组织专家审阅，根据文章水平及图片质量择优选用。来稿不论选用与否，概不退回。 (4) 征文截稿日期为2010年4月15日，以邮戳为准。来稿请写明联系人的姓名、地址、邮编、电话（含手机）及E-mail地址等。论文稿请寄“北京市中关村北二条13号，中国电子显微镜学会2010年全国电子显微学会议秘书处，邮编100190”。过时恕不受理。 联系电话：010-82671519（编辑部）；010-82673560（秘书处） E-mail：dzxwxb@blem.ac.cn 中国电子显微镜学会“2010年全国电子显微学会议”秘书处2010年12月28日 附《电子显微学报》介绍 ☆中国科学引文数据库来源期刊（CSCD）（核心库期刊） ☆中国学术期刊综合评价数据库来源期刊（CAJCED） ☆中国期刊全文数据库全文收录（CJFD） ☆中国自然科学核心期刊（北京大学图书馆） ☆美国化学文摘CA 收录 ☆俄罗斯文摘杂志AJ 收录 [/td][/tr][/table]

《分析电子显微学导论》作者：戎咏华 王晓东 黄宝旭 李 伟出版社：高等教育出版社 分析电子显微学是揭示材料介观和微观世界的有力工具，它能对材料显微组织的形貌、结构、成分进行三位一体的原位分析，是材料研究的重要现代技术之一。本书是材料科学与工程专业硕士生的课程教材。全书共分六章，内容包括分析电子显微镜的构造及其功能，样品的制备方法，电子衍射花样的特征和标定方法，晶体衍射中的数学处理，电子衍射衬度运动学和动力学理论及其应用，高分辨和高空间分析电子显微术的原理和应用以及分析电子显微学的进展。 本教材是掌握分析电子显微术原理和应用的入门书，故注重基本的物理概念和相关的数学推导，并附许多实例和思考题、练习题以便读者理解和掌握重点。本书配有电子课件和练习答案的光盘，便于教师授课。本教材也可作为正在从事该领域学习和研究的科技人员的参考书。如有需要该书的课件，可以留下邮箱，发给大家共享！！[em31]

一般做电镜或者能谱的同行都可以参加的，大概需要两个人推荐。如果参加了，可以定期收到电子显微学报，还有会议交流，技术培训的最新信息。具体可以问中国电子显微学会联系，秘书胡萍老师：010－82673560[em17] [em17] [em17]

本人最近急需有关电子显微学方面的资料，哪位达人有的话，能否告诉我。可以发到我的邮箱 denniszzh1688@sina.com以下书目急需：材料评价的分析电子显微学方法材料评价的高分辨电子显微学方法薄晶体电子显微学高空间分辨分析电子显微学谢谢了！

透射电子显微学(黄孝瑛编著_上海科技出版社_1987.05)希望对大家有用[~125482~]

[font=宋体][font=宋体]学会决定于[/font][font=Arial]2010[/font][font=宋体]年秋季召开[/font][color=black][font=宋体]全国电子显微学学术研讨会，以此[/font][/color][font=宋体]庆贺中国电子显微镜学会成立三十周年[/font][color=black][font=宋体]。[color=black][font=宋体]征文截稿日期为[/font][/color][color=black][font=Arial]2010[/font][/color][color=black][font=宋体]年[/font][/color][color=black][font=Arial]3[/font][/color][color=black][font=宋体]月[/font][/color][color=black][font=Arial]31[/font][/color][color=black][font=宋体]日[/font][/color][color=black][font=宋体]，以邮戳为准。呵呵，好像每年的通知都一样的，开会时间不定，而且网上还搜索不到。电子显微学会太神秘了！[/font][/color][/font][/color][/font]

给大家推荐一本透射电子显微学，希望能对大家的学习和工作有所帮助，附件可免费下载哦~~~

显微学表征技术主要扫描电镜（SEM）、透射电镜（TEM）、扫描探针显微镜（SPM/AFM）及其相关领域的技术。显微学技术以其独特的优势在材料、生命科学、机械、电子、化工等学科中得到了广泛的推广与应用。显微表征新技术也一直被研究领域乃至生产行业高度关注，2017年诺贝尔化学奖授予Jacques Dubochet,Joachim Frank和Richard Henderson 3位科学家,以表彰他们在发展利用冷冻电子显微学技术解析溶液中生物大分子高分辨率结构方面做出的开创性贡献，至此，业界对显微学技术的关注再次掀起热潮。 与此同时，面对市场的需求，各大显微技术仪器设备生产商也纷纷加大对新技术、新产品研发的投入，以期在需求不断增长的市场中博得一席之地。

[align=left]《电子显微学网络会议（iCEM 2018）》 报名开始啦，想学习的抓紧机会~~~[/align][align=left][b]会议主题：[/b]电子显微学仪器原理、技术及仪器进展（7.24 上午）电子显微学仪器维护保养与制样技术（7.24 下午）电子显微学仪器在材料领域的应用（7.25 全天）电子显微学仪器在生命科学领域的应用（7.26 全天）[/align][align=left][b]专家阵容（排名不分先后）[/b]张跃飞（北京工业大学）孙磊（中科院生物物理所）关波（中科院化学所）黄荣（华东师范大学）柴志刚（原空军飞行事故和失效分析中心）黄文氢（中石化北京化工研究院）黄小俊（生物物理所）沈庆涛（上海科技大学）孙异临（北京市神经外科研究所）尹长城（北京大学医学部生物物理学系）王素霞（北京大学第一医院）[color=#333333] [/color][b]免费报名：[/b][url=http://www.instrument.com.cn/webinar/meetings/iCEM2018/][color=windowtext][/color][/url][color=windowtext][url=http://www.instrument.com.cn/webinar/meetings/iCEM2018/]http://www.instrument.com.cn/webinar/meetings/iCEM2018/[/url][/color][/align][align=left]一台电脑or一部手机即可聆听大咖讲座，天涯变咫尺！[/align]

像差校正透射电子显微镜是从原子尺度认识物质微观结构的有力工具。为满足相关人员对像差校正透射电子显微学理论、应用和实验技术学习的需求，在教育部高等教育仪器设备和优质资源共享系统项目、科技部国家科技基础条件平台和中国电子显微镜学会支持下，清华大学北京电子显微镜中心联合中科院物理所和西安交通大学，举办“像差校正透射电子显微学培训班”。培训内容包括像差校正电子显微学的发展、原理、应用以及实验技术等内容。培训方式为请国内知名专家学者做主题讲座和实验室参观及演示等。主办单位：清华大学北京电子显微镜中心时间：2014年4月4日地点：清华大学主楼11区（东配楼）培训班对象：电子显微学、材料、化学、化工、物理等方向的研究生、教师、研究人员、技术人员等。报名办法：本次培训班培训人员限额为55人，按报名先后，额满为止。报名者请将回执发送至邮箱：程志英：czy@mail.tsinghua.edu.cn会务事宜：具体报到地点和会议议程我们将根据回执情况寄发下一轮通知，请有意参加会议者及时返回回执。报名咨询电话：010-62773998 清华大学北京电子显微镜中心 2014年1月3日请填写回执后于2014年3月1日前Email至czy@mail.tsinghua.edu.cn，以便寄送下一轮详细通知。http://bbs.instrument.com.cn/xheditor/xheditor_skin/blank.gif像差校正透射电子显微镜培训班 姓名 性别 工作单位 通讯地址 邮编 联系电话 手机 E-mail 注：此次研讨会不收参会

[align=center][img]https://simg.instrument.com.cn/bbs/images/default/em09505.gif[/img][img]https://simg.instrument.com.cn/bbs/images/default/em09505.gif[/img][b][color=#ff0000]号外！号外！[/color][/b][img]https://simg.instrument.com.cn/bbs/images/default/em09505.gif[/img][img]https://simg.instrument.com.cn/bbs/images/default/em09505.gif[/img][/align][align=center][b]“第六届电子显微学网络会议(iCEM 2020)”[/b]将于[u]2020年6月16日-19日[/u]召开！[/align][align=center]为提升会议专业性及会议效果：[/align][align=center]iCEM 2020将由[color=#ff0000]仪器信息网与中国电子显微镜学会首次联合主办！[/color][/align][align=center]四天的报告，将[color=#ff0000]首次邀请8位电镜专家分别主持[/color]每半天的会议！[/align][align=center]六大会议主题会场邀您线上免费聆听专家报告与主持解读！[/align][table][tr][td=1,1,173][align=center][font=arial, helvetica, sans-serif][size=16px][b]日期[/b][/size][/font][/align][/td][td=1,1,369][align=center][font=arial, helvetica, sans-serif][size=16px][b]专场主题[/b][/size][/font][/align][/td][/tr][tr][td=1,1,173][align=center][font=arial, helvetica, sans-serif][size=16px]2020[/size][size=16px]年[/size][size=16px]6[/size][size=16px]月[/size][size=16px]16[/size][size=16px]日上午[/size][/font][/align][/td][td=1,1,369][align=center][font=arial, helvetica, sans-serif][size=16px]电子显微学技术及应用进展[/size][/font][/align][/td][/tr][tr][td=1,1,164][align=center][font=arial, helvetica, sans-serif][size=16px]2020[/size][size=16px]年[/size][size=16px]6[/size][size=16px]月[/size][size=16px]16[/size][size=16px]日下午[/size][/font][/align][/td][td=1,1,369][align=center][font=arial, helvetica, sans-serif][size=16px]原位电子显微学技术及应用[/size][/font][/align][/td][/tr][tr][td=1,1,173][align=center][font=arial, helvetica, sans-serif][size=16px]2020[/size][size=16px]年[/size][size=16px]6[/size][size=16px]月[/size][size=16px]17[/size][size=16px]日上午[/size][/font][/align][/td][td=1,1,369][align=center][font=arial, helvetica, sans-serif][size=16px]先进电子显微学技术及应用[/size][/font][/align][/td][/tr][tr][td=1,1,173][align=center][font=arial, helvetica, sans-serif][size=16px]2020[/size][size=16px]年[/size][size=16px]6[/size][size=16px]月[/size][size=16px]17[/size][size=16px]日下午[/size][/font][/align][/td][td=1,1,369][align=center][font=arial, helvetica, sans-serif][size=16px]电镜实验操作技术及经验分享[/size][/font][/align][/td][/tr][tr][td=1,1,173][align=center][font=arial, helvetica, sans-serif][size=16px]2020[/size][size=16px]年[/size][size=16px]6[/size][size=16px]月[/size][size=16px]18[/size][size=16px]日全天[/size][/font][/align][/td][td=1,1,369][align=center][font=arial, helvetica, sans-serif][size=16px]电子显微学技术在材料领域应用[/size][/font][/align][/td][/tr][tr][td=1,1,173][align=center][font=arial, helvetica, sans-serif][size=16px]2020[/size][size=16px]年[/size][size=16px]6[/size][size=16px]月[/size][size=16px]19[/size][size=16px]日全天[/size][/font][/align][/td][td=1,1,369][align=center][font=arial, helvetica, sans-serif][size=16px]电子显微学技术在生命科学领域应用[/size][/font][/align][/td][/tr][/table][align=center]免费参会报名请点击：[/align][align=center][url]https://www.instrument.com.cn/webinar/meetings/iCEM2020/[/url][/align][align=center][img]https://img1.17img.cn/17img/images/202005/pic/c2f24e02-118e-4953-9357-9805b6f1e003.jpg[/img][/align][align=center][b]或扫描二维码报名[/b][/align][size=18px][color=#3333ff]附：第六届电子显微学网络会议(iCEM 2020) 第一轮通知[/color][/size]电子显微学网络会议（iConference on Electron Microscopy，iCEM）于2015年在业内首次发起举办，旨在利用互联网技术为国内的广大电子显微学科研及相关工作者提供一个突破时间地域限制的免费学习平台，让电镜从业者足不出户即可聆听电子显微学专家精彩报告，促进行业技术交流。2020年6月16日-19日，仪器信息网(www.instrument.com.cn) 联合中国电子显微镜学会共同主办“第六届电子显微学网络会议(iCEM 2020)”，将围绕当下电子显微学最新技术和热点应用邀请业界知名专家学者做精彩报告，诚邀业界人士报名参会。[b]一、主办单位[/b]仪器信息网(www.instrument.com.cn)中国电子显微镜学会[b]二、会议时间[/b]2020年6月16日-19日[b]三、会议日程[/b][table][tr][td=1,1,173][align=center][font=arial, helvetica, sans-serif][size=16px][b]日期[/b][/size][/font][/align][/td][td=1,1,369][align=center][font=arial, helvetica, sans-serif][size=16px][b]专场主题[/b][/size][/font][/align][/td][/tr][tr][td=1,1,173][align=center][font=arial, helvetica, sans-serif][size=16px]2020[/size][size=16px]年[/size][size=16px]6[/size][size=16px]月[/size][size=16px]16[/size][size=16px]日上午[/size][/font][/align][/td][td=1,1,369][align=center][font=arial, helvetica, sans-serif][size=16px]电子显微学技术及应用进展[/size][/font][/align][/td][/tr][tr][td=1,1,164][align=center][font=arial, helvetica, sans-serif][size=16px]2020[/size][size=16px]年[/size][size=16px]6[/size][size=16px]月[/size][size=16px]16[/size][size=16px]日下午[/size][/font][/align][/td][td=1,1,369][align=center][font=arial, helvetica, sans-serif][size=16px]原位电子显微学技术及应用[/size][/font][/align][/td][/tr][tr][td=1,1,173][align=center][font=arial, helvetica, sans-serif][size=16px]2020[/size][size=16px]年[/size][size=16px]6[/size][size=16px]月[/size][size=16px]17[/size][size=16px]日上午[/size][/font][/align][/td][td=1,1,369][align=center][font=arial, helvetica, sans-serif][size=16px]先进电子显微学技术及应用[/size][/font][/align][/td][/tr][tr][td=1,1,173][align=center][font=arial, helvetica, sans-serif][size=16px]2020[/size][size=16px]年[/size][size=16px]6[/size][size=16px]月[/size][size=16px]17[/size][size=16px]日下午[/size][/font][/align][/td][td=1,1,369][align=center][font=arial, helvetica, sans-serif][size=16px]电镜实验操作技术及经验分享[/size][/font][/align][/td][/tr][tr][td=1,1,173][align=center][font=arial, helvetica, sans-serif][size=16px]2020[/size][size=16px]年[/size][size=16px]6[/size][size=16px]月[/size][size=16px]18[/size][size=16px]日全天[/size][/font][/align][/td][td=1,1,369][align=center][font=arial, helvetica, sans-serif][size=16px]电子显微学技术在材料领域应用[/size][/font][/align][/td][/tr][tr][td=1,1,173][align=center][font=arial, helvetica, sans-serif][size=16px]2020[/size][size=16px]年[/size][size=16px]6[/size][size=16px]月[/size][size=16px]19[/size][size=16px]日全天[/size][/font][/align][/td][td=1,1,369][align=center][font=arial, helvetica, sans-serif][size=16px]电子显微学技术在生命科学领域应用[/size][/font][/align][/td][/tr][/table][b]四、会议形式[/b]仪器信息网网络讲堂在线网络直播平台[b]五、参会方式[/b]1. 本次会议免费参会，参会报名请点击：[url]https://www.instrument.com.cn/webinar/meetings/iCEM2020/[/url][align=center][img]https://img1.17img.cn/17img/images/202005/pic/c2f24e02-118e-4953-9357-9805b6f1e003.jpg[/img][/align][align=center][b]或扫描二维码报名[/b][/align]2. 温馨提示1) 报名成功，通过审核后您将收到通知；填写不完整或填写内容敷衍将不予审核。2) 通过审核后，会议当天您将收到短信提醒。点击短信链接，输入报名手机号，即可参会。[b]六、联系方式[/b]1. 报名参会仪器信息网杨编辑；电话：010-51654077-8032；手机：15311451191；邮箱：yanglz@instrument.com.cn中国电子显微镜学会汪老师；手机：13637966635；邮箱：1437849457@qq.com2. 会议赞助魏先生；电话：010-51654077-8015；手机：13552834693；邮箱：weihh@instrument.com.cn[align=right]仪器信息网[/align][align=right]中国电子显微镜学会[/align][align=right]2020年5月22日[/align]

[color=#0070c0][b] [font=none][size=16px][b]2024年6月25-28日[/b][/size][/font][font=none][size=16px]，仪器信息网(www.instrument.com.cn) 与中国电子显微镜学会（对外）（www.china-em.cn）将联合主办“[/size][/font][font=none][size=16px][b]第十届电子显微学网络会议(iCEM 2024)[/b][/size][/font][font=none][size=16px]”。会议结合目前电子显微学主要仪器技术及应用热点，邀请业界知名电子显微学专家、电子显微学仪器技术专家、电子显微学应用专家等，[/size][/font][font=none][size=16px][b]重点邀请近来有重要工作成果进展的优秀青年学者代表线上分享精彩报告[/b][/size][/font][font=none][size=16px]。[/size][/font][font=none][size=16px]第十届电子显微学网络会议(iCEM 2024)将设置八个分会场：1) 原位/环境电子显微学与应用；2）先进电子显微学与应用；3）扫描电镜/聚焦离子束显微镜技术与应用；4）电子能量损失谱/电镜光谱分析技术；5）低温电子显微学与应用；6）生物医学电镜技术与应用；7）电镜实验操作技术及经验分享；8）电镜开放共享平台及自主保障体系建设。诚邀业界人士线上报名参会。[/size][/font][/b][/color][color=#0070c0][b][img=,432,1599]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2024/06/202406141627496825_2789_4074018_3.jpg!w432x1599.jpg[/img][img=,394,1600]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2024/06/202406141628334168_1949_4074018_3.jpg!w394x1600.jpg[/img][/b][/color][color=#0070c0][b][img=,432,1599]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2024/06/202406141628088684_4676_4074018_3.jpg!w432x1599.jpg[/img][/b][/color][font=none][size=16px][color=#656565][/color][/size][/font]

http://203.64.230.194/web/Content.asp?ID=39269【汉语拼音】dianzi xianweixue 【中文词条】电子显微学 【外文词条】electron microscopy 【作　　者】郭可信 用电子显微镜研究物质的显微组织﹑成分和晶体结构的一门科学技术。电子显微镜是用一束电子照射到样品上并将其组织结构细节放大成像的显微镜。根据成像特点﹐目前广泛使用的电子显微镜有﹕透射电子显微镜﹔扫描电子显微镜﹔扫描透射电子显微镜。 透射电子显微镜 (transmission electron microscopy﹐简写为TEM)。 构造原理 电子显微镜的构造原理与光学显微镜相似﹐主要由照明系统和成像系统构成(图1 光学显微镜与电子显微镜的对比 )。照明系统包括电子枪和聚光镜。钨丝在真空中加热并在电场的作用下发射出电子流﹐经聚光镜会聚﹐照射到样品上。成像系统主要是物镜和投影镜﹐后者相当于光学显微镜中的目镜。从样品上物点发射出的散射电子波﹐经过物镜的聚焦成像作用在其像面上产生一次放大像﹐再经过投影镜在荧光屏上产生二次放大像﹐可供直接观察或拍摄相片。在电子显微镜中所有透镜都是磁透镜﹐利用强磁场使电子束聚焦。 分辨极限 光学显微镜的分辨极限受所用光波波长的限制﹐大约相当于波长的一半。可见光的波长为0.4～0.7微米﹐因此不能观察小于0.2微米的细节﹐放大倍数不过一两千倍。电子的运动也具有波动特征﹐加速电压越高﹐波长越短。下列是常用的一些加速电压与电子波的波长﹕ 加速电压(kV) 100 200 500 1000 波长(0.01A) 3.70 2.51 1.42 0.87显然﹐根据电子波长得出的电子显微镜的理论分辨极限远小于0.1A﹐但是由于磁透镜的球面象差和象散﹐电压与电流的波动﹐仪器的震动﹐样品的漂移等等﹐透射电子显微镜的实际分辨本领远逊于此值。1939年第一台商品电子显微镜问世(1932年在实验室中就已研制成功)﹐使用单聚光镜和两个成像透镜﹐分辨本领优于100A。现在的一级电子显微镜普遍采用双聚光镜和3～4个成像透镜(在物镜与投影镜之间安装1～2个中间镜﹐见图3 改变中间镜物距(改变透镜电流)可以在中间镜像面上得到二次放大像或一次放大衍射图。BB及CC截面相当于图4(b)及(c)的情况﹐前者是散焦的像﹐后者是散焦的衍射图 )﹐可以直接得到放大一百万倍的像﹐分辨本领为2～3A﹐不但可以分辨点阵平面像(图9 金膜的(200)及(020)点阵平面象 )﹐而且可以分辨原子﹐直接观察到晶体与分子中的原子(图10 金原子在 (111)点阵平面上的分布 )。由此可见﹐放大倍数高﹐分辨极限可以小到原子尺度﹐这是透射电子显微镜的最显著的特点。

各位朋友，谁有衍射物理和薄晶体电子显微学英文版的电子版书能否共享一下。或跟我联系。Bowu@imr.ac.cn

下面是J. Spence教授来信推荐书籍（网页http://www.public.asu.edu/~jspence/ElectrnDiffn.html上有），中文注解和中文书籍为王建波所加，供大家学习参考。Books, special issues of journals, tables.(More details, including ISBN numbers and out-of-print books can be found on at specialist booksellers on the web.)"Analytical electron microscopy for materials science". D. Shindo, T. Oikawa. Springer (2002). Excellent, up to date, practical . (ELS, EDX, CBED, Alchemi, Sample prep, holography etc).有中文版，即《材料评价的分析电子显微学方法》，图文并茂，非常实用，分析电子显微学讲述深入浅出。作者T. Oikawa是日本电子首席研究员，来电镜中心多次，十月份会议将参加。强烈推荐，案头必备（新、实际应用）。 "High resolution electron microscopy and related techniques". P. Buseck, J.Cowley and L.Eyring, Eds. Oxford Univ Press.(1989). Comprehensive overview. Electron Backscattering Diffraction in Materials Science, A. J. Schwartz, M. Kumar and B. L. Adams (Eds.) Plenum (New York, 2000) Atlas of Backscattering Kikuchi Diffraction Patterns D J Dingley, K Z Baba-Kishi and V Randle IOP (Bristol, 1995)扫描电镜的强有力附件EBSD，可以在扫描电镜中看到表面形貌和微区成分（EDS）的同时得到对应的结构（EBSD），最新技术。本书先给出基本原理，其后附上大量EBSD图片。实用，易学。强烈推荐，EBSD(SEM)必备。Introduction to Texture Analysis V Randle and O Engler Gordon and Breach (Amsterdam 2000)Texture and Anisotropy U F Kocks, C. N. Tomé and H-R Wenk Cambridge (Cambridge 1998)Elastic and Inelastic Scattering in Electron Diffraction and Imaging Z L Wang Plenum (New York 1995)王中林的大作，理论功底深厚，推导数学化，愿意深入理解电子显微学得可以阅读。Introduction to Analytical Electron Microscopy J J Hren, J I Goldstein and D. C Joy (Eds) Plenum (New York 1979)Principles of Analytical Electron Microscopy D C Joy, A D Romig and J I Goldstein (Eds) Pleum (New York 1986)分析电子显微学较早的书籍，有影印本。Convergent Beam Electron Diffraction of Alloy Phases J Mansfield (Ed) Adam Hilger (Bristol 1984)Large-angle convergent beam electron diffraction. J.P. Morniroli. (Society of French Microscopists. Paris). 2002. In english. ISBN 2-901483-05-4Diffraction Physics. J.M.Cowley. North-Holland. 3rd Edition. 1990. 高分辨电子显微学的鼻祖Cowley教授的镇山之作，衍射物理的有一圣经，几次重版。强烈推荐，案头必备。上邹化民老师《电子衍射与衍衬》必备参考书。读懂后会理论功力大涨，方圆几里无对手。Advanced computing in electron microscopy. E.J.Kirkland. Plenum. New York. 1998.计算原理讲解，附有源代码，可以仔细调试研读。"Transmission Electron Microscopy and Diffractometry of Materials". B. Fultz and J. Howe. Springer. 2001. Excellent coverage of theory and worked examples."Fundamentals of HREM". S. Horiuchi. North Holland. 1994."Structural Electron Crystallography" D. L. Dorset, Plenum/Kluwer. 1997. Mainly organics."Transmission electron microscopy: A textbook for materials science". D.B.Williams and C.B.Carter. Plenum Press. 1996. Pedagogically sound introductory text. Indispensible.美国电镜最好的教科书，四卷本，有基础、衍射、成像、谱，深入浅出，初学者和高级研究人员都会开卷有益。Amazon网上书店最畅销书。作者Carter也是现任国际显微学联合会秘书长，下任理事长，可能于十月来武汉出席会议。最强烈最强烈推荐，案头必备。读懂后在电镜中心也成为牛人了。See http://www1.cems.umn.edu/research/carter/book.html"High Resolution Electron Microscopy". J.C.H.Spence. Oxford Univ Press. 2003. (3rd Edn).How to do HREM.Electron energy loss specrtroscopy in the electron microscope. R.F. Egerton. Plenum. New York. 2nd edition 1996.电子能量损失谱的专著，作者Egerton是显微学联合会理事，Micron杂志主编，预计十月份出席武汉会议。强烈推荐，EELS必备。"Convergent beam electron diffraction IV". M.Tanaka, M.Terauchi, K.Tsuda, K.Saitoh. JEOL Ltd. Tokyo. and earlier volumes. Superb collection of CBED patterns.不只是这一本，共有四本，是会聚束电子衍射的权威Tanaka教授的一生心血，大量精彩的图片。强烈推荐，CBED必备。"Electron microdiffraction". J.Spence and J.M. Zuo (Plenum, 1992). How to do QCBED. Workedexample of how to find space-group of crystal from CBED patterns.定量CBED，左建民作了大量工作。推荐，定量CBED必备。"Electron Diffraction Techniques". Vols 1 and 2. Oxford/IUCr Press. J.Cowley, ed. 1993.不错，可以学习很多大家的电子衍射技巧。推荐"High resolution electron microscopy for materials science". D.Shindo, K.Hiraga.Springer. 1998.Beautiful collection of HREM images and examples of their analysis.有中文版，《材料评价的高分辨电子显微学方法》，大量精彩的高分辨照片，使用技巧。强烈推荐，HRTEM必备。"Electron Microscopy of thin crystals". P.B.Hirsch et al. Krieger. New York. 1977.Classic text with many worked examples. Indispensible.电子显微学的圣经，开创电子显微学的开山之作，可以比如盘古开天辟地。迄今也是电子衍射和衍衬的最重要参考书。据说王仁卉教授通读达6-7遍，平时翻阅参考还不算。作者之一A Howie教授将于十月到武汉大学开会。强烈推荐，案头必备。读懂后也是一代牛人。"Electron-diffraction Analysis of Clay Mineral Structures". B. B Zvyagin. Plenum. 1967"Electron Diffraction Structure Analysis". B. K. Vainshtein. Pergamon. 1964"Intro. to Scanning Transmission Electron Microscopy", R. J. Keyse, A. J. Garratt-Reed, P.J. Goodhew and G. W. Lorimer, (BIOS Scientific Publishers, Royal Micros. Soc., 1998)"Electron Energy Loss Spectroscopy", Rik Brydson, (BIOS Scientific Publishers, Royal Micros. Soc., 2001)."Transmission Electron Microscopy. 4th edit.", L. Reimer, (Springer-Verlag 1997).Excellent broad coverage with all the basic physics, including radiation damage. Indispensible."Electron Holography", A. Tonomura, (Springer-Verlag, 1999)"Introduction to electron holography". E. Voelkl, Ed. (1998). Plenum."Practical Electron Microscopy in Materials Science", J. W. Edington (Van Nostrand Reinhold, 1976)"Electron beam analysis of materials" by M. Loretto. Chapman and Hall. 1984."Electron microscopy in heterogeneous catalysis". P. Gai and E. Boyes. Inst Phys. (2003)."Interpretation of electron diffraction patterns" Andrews, K., Dyson, D., Keown, S. (1971). Plenum New York."Crystallography and crystal defects". Reprinted by Techbooks, 4012 Williamsburg Court, Fairfax, Virginia, USA 22032. Extremely useful. Highly recommended.JCPDS-ICDD Powder diffraction file. http://www.icdd.com/ . Identify crystalline phases from their diffraction data.Special issue of Zeitschrift Kirstallographie on electron crystallography. 2003/4. U.Kolb.Journal of Microscopy and Microanalysis (mid 2003) Special issue on Quantitative Electron Diffraction. J.C.H. Spence, editor.中文书籍推荐：郭可信《电子衍射图》王仁卉、郭可信《晶体学中的对称群》

第二届像差校正透射电子显微学培训班（第一轮通知）像差校正透射电子显微镜是从原子尺度认识物质微观结构的有力工具。为满足相关人员对像差校正透射电子显微学理论、应用和实验技术学习的需求，在教育部高等教育仪器设备和优质资源共享系统项目、科技部国家科技基础条件平台和中国电子显微镜学会支持下，清华大学北京电子显微镜中心联合中科院物理所和西安交通大学，举办“像差校正透射电子显微学培训班”。培训内容包括像差校正电子显微学的发展、原理、应用以及实验技术等内容。培训方式为请国内知名专家学者做主题讲座和实验室参观及演示等。主办单位：清华大学北京电子显微镜中心时间：2014年4月4日地点：清华大学主楼11区（东配楼）培训班对象：电子显微学、材料、化学、化工、物理等方向的研究生、教师、研究人员、技术人员等。报名办法：报名者请将回执发送至邮箱：czy@mail.tsinghua.edu.cn（程志英老师）会务事宜：具体报到地点和会议议程我们将根据回执情况寄发下一轮通知，请有意参加会议者及时返回回执。报名咨询电话：010-62773998清华大学北京电子显微镜中心 2014年1月3日请填写回执后于2014年3月1日前Email至czy@mail.tsinghua.edu.cn，以便寄送下一轮详细通知。http://bbs.instrument.com.cn/xheditor/xheditor_skin/blank.gif像差校正透射电子显微镜培训班[

[color=#000000]原位电镜（in situ transmission electron microscopy）是一种在电子显微镜下实时高空间分辨率观察和记录材料或样品在不同条件下变化的技术，这种技术的应用涵盖了多个领域，包括材料科学、纳米科技、生物学等。特别是得益于气体和液体环境的引入，大大的拓展了原位电镜技术的应用范畴，如腐蚀科学和催化反应等。电子显微镜本身具有非常高的真空工作环境，因此，[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Mp][color=#3333ff]气相[/color][/url]和[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/5p][color=#3333ff]液相[/color][/url]反应介质通常被密封在一个非常小的纳米反应器里面。由于氮化硅（SiNx）具有易于微纳米制造且在一定厚度下仍有可靠的力学特性及适度的电子透明度等优点，被广泛应用于原位电镜中芯片用的密封膜材料。[/color][color=#000000]在过去20年，基于像差校正器、单色器及直接探测器等硬件技术的发展，电子显微镜本身的性能包括空间和能量分辨率都得到显著提升。但是原位电子显微学直到目前为止，在空间分辨率上并无显著突破。关键原因是作为密封的SiNx膜材料限制了电镜本身及原位实验的品质因子。目前商用的SiNx膜的厚度一般为50 nm，而[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Mp][color=#3333ff]气相[/color][/url]和[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/5p][color=#3333ff]液相[/color][/url]电子显微学一般需要用两个原位芯片，这样仅密封膜的厚度就高达100 nm。如此厚的密封膜会造成非常高的有害电子散射，大大降低了原位电子显微学实验中采集的各种数据的信噪比。在原位电子显微学领域，学者们都一直认为降低SiNx膜的厚度非常必要，但是直到目前仍很难实现，因为仅通过刻蚀降低SiNx膜厚度，会造成力学性能的显著恶化。[/color][color=#000000]针对此问题，[b]美国西北大学的Xiaobing Hu[/b]和[b]Vinayak Dravid教授[/b]研究团队从自然界蜂窝结构稳定性获得灵感，巧妙利用[b]掺杂浓度对Si的刻蚀速率影响，在观察窗口区域引入了额外的微米尺度Si支撑图案，成功的将SiNx膜的厚度从50 nm降至10 nm以下。[/b]这种在窗口区域具有支撑图案的超薄原位芯片具有很多优点，如优异的力学性能、耐电子束辐照、充分大的可观察区域，保证了该超薄芯片在原位电子显微学上的广泛应用。基于Pd的储氢特性，作者系统了探索了超薄芯片对原位实验测量品质因子的影响，及Pd纳米颗粒的吸/析氢行为。[/color][align=center][img]https://img1.17img.cn/17img/images/202401/uepic/c12df4c5-8db9-4fce-8ddf-16d17cfd42fd.jpg[/img][/align][align=center][size=14px][color=#7f7f7f]图1. 超薄原位电镜用芯片的制备及其优异的力学稳定性和电子束耐辐照性能，插图A、C中标尺分别为10 mm, 100 μm[/color][/size][/align][color=#000000]图1A显示超薄芯片的制备过程，图1B显示了具有不同厚度的SiNx窗口的原位芯片。图1C的扫描透射模式下的暗场和明场像显示出超薄芯片窗口区域的蜂窝状特征。图1D显示出这种超薄芯片优异的力学特性，即使在5 nm厚的情况下，仍能承受1个大气压，完全满足绝大多数的[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Mp][color=#3333ff]气相[/color][/url]原位实验。图1E显示出超薄芯片非常好的耐电子束辐照特性，当厚度从50 nm降到10 nm时，临界电子束剂量几乎没有改变。图1E为用光学方法和电子能量损失谱测量的不同厚度的SiNx膜数据。[/color][align=center][img]https://img1.17img.cn/17img/images/202401/uepic/6f3b49eb-f7b1-4f8f-8a5f-362aa1e61846.jpg[/img][/align][align=center][size=14px][color=#7f7f7f]图2. 基于超薄原位芯片的[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Mp][color=#3333ff]气相[/color][/url]电子显微学实验品质因数的显著提升[/color][/size][/align][color=#000000]图2A为理论模拟不同厚度的SiNx对Au纳米颗粒明场像信噪比的影响，对于超薄原位芯片而言，即使在电子剂量比较低的情况下，仍可以拥有很好的信噪比，成像质量比较高。图2B、C显示出在一个大气压的Ar环境不同SiNx膜厚度下的高分辨像对比。可以看出与常规50 nm厚的原位芯片相比，超薄芯片的应用不仅提高了图像的信噪比，分辨率也从2.3 ?提高到1.0 ?。图2C显示出了能谱对比结果，可以看出在一个大气压的Ar环境下，当原位芯片窗口区域膜厚度从50 nm 降低到10 nm时，Ar/Si峰值比从0.59%升到8.3%，提高了14倍以上。图2E-G数据显示了超薄原位芯片显著提高了电子能量损失谱分析的灵敏度。[/color][align=center][img]https://img1.17img.cn/17img/images/202401/uepic/6d6e2657-12c9-4711-80d5-725e65b1eeb9.jpg[/img][/align][align=center][size=14px][color=#7f7f7f]图3. 基于超薄原位芯片电子显微学在储氢材料中应用[/color][/size][/align][color=#000000]图3A、3B为在不同支撑载体下纳米Pd颗粒的电子衍射对比图，可以看出超薄芯片显著压制了膜材料本身的有害电子散射，提高的电子衍射的信噪比。而这也允许研究人员在原位[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Mp][color=#3333ff]气相[/color][/url]实验中进行定量衍射分析。图3C-D的原位电子衍射，显示出Pd纳米颗粒在原位充氢、放氢过程中的相变行为。图3E的电子能量损失谱分析确认了相变产物PdHx的产生。[/color][color=#000000]基于[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Mp][color=#3333ff]气相[/color][/url]超薄原位芯片的设计与探索实验，作者提出这种超薄芯片的设计策略可大规模推广到[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/5p][color=#3333ff]液相[/color][/url]原位及其它基于SiNx的原位芯片上，大大提高原位电子显微学实验的品质因子，从而允许研究人员在原位实验过程中不单单观察形貌变化，可将其它先进电子显微学方法应用到原位实验上来。更进一步，这种超薄芯片也可拓展到原位X射线领域。可以说，超薄芯片的概念提出，将大大的影响整个原位实验领域。[/color][color=#000000]这一成果近期发表在[b][i]Science Advances[/i][/b]上，美国西北大学[b]胡肖兵研究副教授[/b]，[/color][color=#000000][b]Vinayak Dravid讲席教授[/b][/color][color=#000000]为文章的通讯作者，[b]Kunmo Koo博士[/b]为文章的第一作者。[/color][来源：材料学网][align=right][/align]

各位版友，前几天无意中看到一份课件里面有比较详细的透射电镜研究领域的发展史背景介绍，记得其中提到了透射电子显微学发展过程中的几大学派（包括英国学派，澳大利亚学派，美国学派等）的领军人物及成果。这些背景知识挺有用，但是我找不到其出处了，不知哪位大大手头有这份讲义呢？有的话欢迎分享一下,jeffrylee@126.com，多谢了！

“第五届电子显微学网络会议(iCEM 2019)”四天的报告日程[color=#ff0000][b]正式揭晓[/b][/color]，34位电子显微学领域主流专家将在8月13-16日，与大家线上相约，在线“面对面”，共同探讨2019年电子显微学领域的方方面面。[url=https://www.instrument.com.cn/webinar/meetings/iCEM2019/][color=#ff0000]【会议官网】[/color][/url]　　本次网络研讨会邀请的34位电镜专家，涵盖了当下电子显微学领域主流学术专家、应用专家，以及电子显微学相关仪器技术专家，报告主题涉及代表先进电子显微学技术的冷冻电镜/球差电镜技术与应用、时下火热的原位电镜技术与应用、电镜研究离不开的在生命科学与材料科学领域的应用、电镜仪器新技术，以及电镜实验操作技巧与经验分享等电镜的方方面面。[align=center][url=https://www.instrument.com.cn/webinar/meetings/iCEM2019/][img=001.jpg,500,111]https://img1.17img.cn/17img/images/201907/uepic/398733ac-d0de-4306-a0e4-6cf1cefce9f6.jpg[/img][/url][/align]　　无论你是电镜的使用者、研究者、学者，或是电镜仪器研发应用工作者，还是你的工作可能即将使用到电镜技术，iCEM 2019都是一次绝佳的学习或与业内人士交流机会。　　[b][color=#ff0000]学习时间[/color][/b]：8月13-16日　　[b][color=#ff0000]学习形式[/color][/b]：网络线上学习　　[b][color=#ff0000]参与方式[/color][/b]：免费报名，[color=#00b0f0][url=https://www.instrument.com.cn/webinar/meetings/iCEM2019/]【报名链接】[/url][/color]　　[b][color=#ff0000]什么是“电子显微学网络会议”?[/color][/b]　　电子显微学网络会议(iConference on Electron Microscopy,iCEM)由仪器信息网于2015年在业内首次发起，每年一届，旨在利用互联网技术为国内的广大电子显微学工作者提供一个突破时间地域限制的免费学习平台，让大家足不出户便能聆听到电子显微学主流专家的精彩报告，节省时间与资金成本。　　截至目前，iCEM已成功举办四届，累计邀请电子显微学领域技术及应用专家报告70余个，在线课堂及课后视频用户关注量超过10万人次，获得网络在线用户的广泛好评和持续支持。　[color=#ff0000]　[b]本次iCEM 2019将呈现哪些内容?[/b][/color]　　iCEM 2019根据电子显微学技术热点与广大用户建议，将会议分设为：电子显微学技术及应用、原位电子显微学技术与应用、电镜实验操作技术及经验分享、先进电子显微学技术及应用、电子显微学仪器在材料领域应用、电子显微学仪器在生命科学领域应用6个主题专场。以下简要分享部分本次会议即将呈现的精彩内容。[align=center][img=0.jpg,600,359]https://img1.17img.cn/17img/images/201907/uepic/c02ccf32-1eac-45bf-8f61-378c3cd9f0b8.jpg[/img][/align]　[color=#ff0000]　[b]1)冷冻电镜技术[/b][/color]　　[b]王宏伟[/b]教授——中国冷冻电镜领域翘楚，清华大学生命科学学院成立以来第二任院长(第一任院长为施一公院士)，将在8月16日上午“生命科学”会场为大家分享冷冻电镜技术的最新见解。　　[b]李宗利[/b]教授——美国哈弗大学医学院，在新成立的哈佛冷冻电镜结构生物学中心担任facility director，在冷冻电镜研究工作超过20年。在8月16日上午“生命科学”会场为大家分享关于冷冻电镜单颗粒技术高分辨数据收集的相关研究进展。　　[b]沈庆涛[/b]研究员——中国生物物理学会监事，生物物理学学会冷冻电镜分会理事，上海科技大学iHuman研究所冷冻电子显微学实验室。将在8月14日上午“先进电子显微学”会场，为大家分享利用冷冻电镜技术在新城疫病毒的基因组与结构蛋白方面的研究。　[color=#ff0000]　[b]2)扫描透射/球差电镜技术[/b][/color]　　[b]车仁超[/b]教授——中国电子显微学学会常务理事，中国晶体学会理事，中国材料学会理事，复旦大学先进材料实验室。将在8月14日“先进电子显微学”会场为大家分享磁斯格明子的洛伦兹低温透射电镜方面的研究进展。　　[b]王玉梅[/b]副研究员——中科院物理所副研究员。2006年获中科院物理所凝聚态物理博士学位。2014年11月到2017年2月在美国休斯顿大学物理系及德克萨斯超导研究中心任Research Associate。主要研究方向为电子显微学，电子晶体学及其在热电等功能材料中的应用。将在8月14日“先进电子显微学”会场为大家分享扫描透射电镜技术在热电材料研究中的应用。　[b]　毛晶[/b]副主任——天津大学材料学院测试中心副主任，负责透射电镜、X射线衍射仪及透射相关制样仪器(包括球差透射电镜、离子减薄仪等)的运行维护及分析测试工作，掌握球差及冷冻杆、原位加热杆、电感、三维重构等各种透射电镜先进技术。将在8月15日“材料学”专场，为大家分享球差矫正透射电子显微镜基本原理及其在新能源材料研究中的应用。　　[b][color=#ff0000]3) 原位电镜技术[/color]　　孙立涛[/b]教授——东南大学电子科学与工程学院、微电子学院院长，东南大学-江南石墨烯研究院先进碳材料应用联合研发中心主任，东南大学-FEI纳皮米中心主任。中国电子显微学会常务理事兼原位电子显微学专业委员会主任。将在8月13日下午“原位电镜”会场，为大家分享原位电子显微学的创新性新技术和新方法。　　[b]王建波[/b]教授——武汉大学电子显微镜中心主任，中国晶体学会理事、中国电子显微镜学会常务理事、湖北省电子显微镜学会理事长。主要从事固体材料超微结构表征工作，利用先进的球差校正及原位电子显微学，结合第一性原理计算等针对微纳尺度材料结构和缺陷的原子尺度表征、演变及调控开展系统深入的研究工作，取得一系列重要研究进展和成果。将在8月13日下午“原位电镜”会场，为大家分享纳米材料的原子尺度表征及其动态结构演变。　　[b]张跃飞[/b]研究员——北京工业大学固体微结构与性能研究所研究员，师从中国科学院张泽院士，长期从事原位电子显微学方法及仪器的开发。研发并完成了原位扫描电镜高温(1200℃)力学微尺度仪器系统，该仪器为系统探究材料显微结构、成分、加工工艺与性能之间关系，满足国家重大战略需求提供了有力的条件保障。将在8月13日下午“原位电镜”会场，为大家分享原位高温扫描电子显微学及应用。　　[b]白雪冬[/b]研究员——中科院物理研究所研究员，1999年在中科院金属研究所获得博士学位，2002-2003年在美国佐治亚理工学院和哈佛大学做博士后，在透射电镜-扫描探针联合实验技术的开发与科研应用方面做出了系列工作。2011年获得国家自然科学二等奖，2015年获得中国物理学会胡刚复奖，2016年入选万人计划领军人才。将在8月13日下午“原位电镜”会场，为大家分享原位透射电镜研究进展：从纳米操纵到量子调控。　　[b]谷猛[/b]副教授——南方科技大学材料科学与工程系副教授。专注于使用原位/像差校正扫描透射电镜探测研究能源相关材料的结构-性能关系。于2011年在加州大学戴维斯分校获材料科学博士学位。随后加入太平洋西北国家实验室EMSL后，主要从事电池材料、催化剂等能源材料的研究。于2014年2月加入密歇根州道康宁，担任核心研发材料科学家，专注于工业催化剂的开发和反应的高级显微镜分析。2015年，因其杰出的研究成果获得了美国显微学会颁发的Albert CREWE奖。将在8月13日下午“原位电镜”会场，为大家分享原位透射电镜在能源存储材料中的应用。　[color=#ff0000]　[b]4)电子显微学技术在材料学中应用[/b][/color]　　[b]杜奎[/b]研究员——中国科学院金属研究所研究员。1999年到德国马普金属研究所和美国凯斯西储大学进行定量电子显微学研究，2006年后在中国科学院金属研究所工作。将在8月15日上午“材料科学”会场，为大家分享镍基单晶高温合金形变机制的电子显微学研究。　　[b]闫鹏飞[/b]教授——北京工业大学教授。2010年博士毕业于中科院金属研究所，师从隋曼龄教授。2010-2013在日本NIMS从事博士后研究，2013-2017在美国太平洋西北国家实验室(PNNL)从事锂电池相关的透射电子显微学研究。于2017年10月加入北京工业大学固体微结构与性能研究所。将在8月15日下午“材料科学”会场，为大家分享先进电子显微学技术在电池材料研究中的应用。　　[b]贾志宏[/b]教授——重庆大学教授，轻金属科学与技术重庆市重点实验室副主任。组织了全国扫描透射电子显微镜及相关分析技术研讨会(2017，主席)，第七届中国FIB学术与技术交流研讨会(2016，主席)，首届东亚电镜会议(2013)。中国FIB专业委员会委员，中国电镜学会会员，重庆大学分析测试中心专家委员会委员。将在8月15日下午“材料科学”会场，为大家分享铝合金中析出相结构演变与溶质原子界面偏聚原子尺度研究。　　[b]曾毅[/b]研究员——中国科学院上海硅酸盐所分析测试中心副主任，主要从事材料显微结构-性能-工艺关系研究，近年来作为项目负责人承担了863、科技部国际合作专项、中科院重点部署项目、上海市民口科技支撑项目等多项材料表征技术相关研究项目。出版《低电压扫描电镜应用技术研究》和《扫描电镜和电子探针的基础及应用》学术专著两部，起草扫描电镜相关国家标准5个。将在8月13日上午，与大家分享EBSD技术在材料学研究中的最新进展。　[b]　林君浩[/b]副教授——南方科技大学物理系副教授。博士毕业于美国范德堡大学(Vanderbilt University)，后赴日本任JSPS特聘研究员(合作导师Kazu Suenaga博士)。主要利用高分辨扫描透射电镜和第一性原理计算作为研究工具，致力于实验与理论相结合的手段研究二维材料中原子结构与材料性能之间的关联。将在8月15日上午“材料科学”会场，为大家分享结合透射电子显微镜与第一性原理计算探索二维材料的缺陷动态演变行为。　　[b]于奕[/b]研究员——于2013年获得清华大学材料科学与工程博士学位，2013-2017年在美国加州大学伯克利分校和劳伦斯伯克利国家实验室从事博士后研究工作，2017年至今任上海科技大学助理教授、研究员、博士生导师。目前研究聚焦在能源纳米材料的原子尺度表征以及显微原子成像与谱学的方法研究。将在8月15日下午“材料科学”会场，为大家分享电子束敏感材料的原子尺度电子显微学研究。　　[b]徐强[/b]博士——1999年毕业于清华材料与科学工程系，获学士学位 2002年硕士毕业于清华大学电镜中心 2007年博士毕业于荷兰国家电镜实验中心。2007-2009年间，在荷兰Delft大学做博士后，2009-2011年间在比利时EMAT国家电镜中心做博士后。自2012年起，回到Delft大学做从事原位电子显微镜学研究，将研制的电镜原位样品系统开发成标准产品，并出任 DENSsolutions公司副总裁及应用总监，兼职浙江大学客座研究员。将在8月15日下午“材料科学”会场，为大家分享原位电子显微学在材料研究的应用。　　[b][color=#ff0000]5)电子显微学技术在生命科学中应用[/color]　　陈文列[/b]教授——福建中西医结合研究院重点实验室主任兼电镜实验中心主任，国家中医药三级科研实验室-中药药理(细胞结构与功能)实验室主任、福建省中西医结合老年性疾病重点实验室常务副主任 中国中西医结合学会基础研究专委会委员、中国电镜学会理事及医学电镜专委会委员、福建电镜学会理事长、中国原生动物学会理事、省动物学会常务理事。从事医学细胞超微结构与功能等细胞生物学、细胞药理学等研究及研究生教学工作二十多年 目前主要研究方向为中西医结合基础研究，侧重于中医药干预的细胞生物学和细胞药理-毒理学研究。将在8月16日下午“生命科学”会场，为大家分享电子显微学在医药学中的应用研究。　[b]　王亚林[/b]主任——西湖大学生物医学实验技术中心主任，毕业于美国堪萨斯大学，冷泉港实验室博士后，历任纽约城市大学斯塔腾岛学院、霍华德休斯医学研究院珍妮莉亚研究园区、弗吉尼亚大学医学院、清华大学生命学院显微成像平台主管，主要从事各类显微成像和样品制备技术工作，有20多年生物影像工作经验。研究方向为光电联用及三维电镜成像样品制备、超分辨率荧光与电镜同源成像、以及用于光电联用的新荧光探针研究。将在8月16日下午“生命科学”会场，为大家分享光电联用的应用与发展。　　[b]宋敬东[/b]副研究员——中国疾病预防控制中心病毒病预防控制所，任中国医学影像技术研究会第四届电子显微镜分会主任委员。主要从事医学病毒形态学、病毒结构生物学、生物医学电子显微镜技术研究。曾多次参与我国重大疫情病原体鉴定工作。将在8月16日上午“生命科学”会场，为大家分享透射电镜制样技术在病毒形态鉴定中的应用。　　[b]张辉[/b]研究员——中国科学院植物研究所研究员，在美国爱荷华大学就读博士期间，任Keck显微成像中心的研究助理, 参与了显微成像系统的组建和二维/三维图像分析系统 (DIAS) 的开发。在全美国The Scripps Research Institute做助理研究员时，运用RhoGTPases生物探针研究了如何调控嗜中性白血球细胞的极性定向运动和超氧化物的产生。将在8月16日下午“生命科学”会场，为大家分享电子显微学技术应用于生物研究中的进展。　[b][color=#ff0000]　6)电子显微学实验技术与经验分享[/color]　　常圣海[/b]助理研究员——2009-2015年就读于中国科学院生物物理研究所并获博士学位。2015年至今在浙江大学医学院工作，主要负责冷冻电镜的维护和技术支持，多年来一直从事生物大分子的结构生物学研究。将在8月14日下午“实验技术”专场，与大家分享冷冻电镜数据自动收集的相关设定和监控。　　[b]李晓明[/b]主任——2013年于中国科学院上海应用物理研究所取得博士学位，2013年-2015年于上海应用物理所进行博士后研究。现任上海科技大学生命学院分子影像平台主任，负责学院影像平台的组建与管理。将在8月14日下午“实验技术”专场，与大家分享如何选择适合的显微成像技术。　[b]　郭建胜[/b]——2014年于同济大学获得博士学位。现任职于浙江大学冷冻电镜中心，主攻技术方向：大尺度三维重构技术、电子断层技术和高压冷冻-冷冻替代制样技术。将在8月14日下午“实验技术”专场，与大家分享基于FIB-SEM大尺度三维重构技术在生物超微结构研究中的应用。　　[b]周固[/b]高级工程师——1982年起在北京师范大学分析测试中心电镜室工作至今。主要从事各种材料的扫描和透射电子显微镜的分析测试工作。近年来主要在扫描电镜上开展STEM模式的方法及应用。将在8月14日下午“实验技术”专场，与大家分享场发射扫描电镜的使用技巧。　　[b][color=#ff0000]7)电镜仪器技术动向[/color]　　韩伟[/b]——Thermo Fisher Scientific高级产品工程师，将会在8月13日上午“电子显微学技术”专场，为大家分享赛默飞扫描双束新产品与应用。　　[b]何伟[/b]——聚束科技(北京)有限公司总经理、联合创始人，将会在8月14日上午“先进电子显微学”专场，为大家分享高通量(场发射)扫描电镜的概述及其应用-半导体到脑科学。　　[b]赵颉[/b] ——北京天耀科技有限公司赵颉博士，将会在8月13日上午“电子显微学技术”专场，为大家分享台式扫描电镜操作技巧以及应用。　[b]　日本电子[/b]——日本电子将会在8月14日上午“先进电子显微学”专场，为大家分享日本电子电镜技术的最新进展。　　[b]程路[/b]——徕卡显微系统电镜制样技术资深应用专家，将会在8月15日上午“材料学”专场，为大家分享四种制样实验方案在SEM/EBSD领域的应用。　　[b]赵同新[/b]——岛津企业管理（中国）有限公司上海分析中心应用工程师，将会在8月15日下午“材料学”专场，为大家分享EPMA与SEM的异同及其在材料测试中的应用。　　[b]张天庆[/b]——徕卡电镜制样领域资深产品经理，将在8月16日上午“生命科学”专场，为大家分享低温电镜制样技术全套解决方案。　　[b][color=#ffffff]附1：如何免费参会[/color][/b]　[color=#ff0000]　[b]1)点击以下链接进入报名通道[/b][/color][align=center][url=https://www.instrument.com.cn/webinar/meetings/iCEM2019/][img=1.jpg,350,124]https://img1.17img.cn/17img/images/201907/uepic/10e92be7-83b0-4ffc-885a-5b5472634efa.jpg[/img][/url][/align][b]　[color=#ff0000]　2)加入“电镜技术交流群”随时关注会议动向及会议交流[/color][/b][align=center][img=110.jpg,250,306]https://img1.17img.cn/17img/images/201907/uepic/127cfc6c-6fd4-4106-8b75-6017150e3816.jpg[/img][/align][align=center]　　[b][color=#ff0000]或电话咨询[/color]：[/b]15311451191(同微信)[/align][align=center]　　[b][color=#ff0000]邮件咨询[/color][/b]：yanglz@instrument.com.cn[/align]　[color=#ff0000]　[b]附2：往届回顾[/b][/color][align=center][url=https://www.instrument.com.cn/webinar/meetings/iCEM2018/][img=01.jpg,250,188]https://img1.17img.cn/17img/images/201907/uepic/d02f3c4a-27a7-45ee-ab23-fe56e89160ad.jpg[/img][/url][/align][align=center][url=https://www.instrument.com.cn/webinar/meetings/iCEM2017/][img=02.jpg,250,187]https://img1.17img.cn/17img/images/201907/uepic/8204faee-8eab-4844-8273-e9702e6ba67f.jpg[/img][/url][/align][align=center][url=https://www.instrument.com.cn/webinar/icem2016/index2016.html][img=03.jpg,250,187]https://img1.17img.cn/17img/images/201907/uepic/d58be49c-273d-42c0-aefb-71e2aa7ac93b.jpg[/img][/url][/align][align=center][url=https://www.instrument.com.cn/webinar/icem2015/][img=04.jpg,250,187]https://img1.17img.cn/17img/images/201907/uepic/c3a59d29-261f-4533-9ab0-ea790ca4255c.jpg[/img][/url][/align]

下面是J. Spence教授来信推荐书籍（网页http://www.public.asu.edu/~jspence/ElectrnDiffn.html上有），中文注解和中文书籍为王建波所加，供大家学习参考。Books, special issues of journals, tables.(More details, including ISBN numbers and out-of-print books can be found on at specialist booksellers on the web.)"Analytical electron microscopy for materials science". D. Shindo, T. Oikawa. Springer (2002). Excellent, up to date, practical . (ELS, EDX, CBED, Alchemi, Sample prep, holography etc).有中文版，即《材料评价的分析电子显微学方法》，图文并茂，非常实用，分析电子显微学讲述深入浅出。作者T. Oikawa是日本电子首席研究员，来电镜中心多次，十月份会议将参加。强烈推荐，案头必备（新、实际应用）。"High resolution electron microscopy and related techniques". P. Buseck, J.Cowley and L.Eyring, Eds. Oxford Univ Press.(1989). Comprehensive overview.Electron Backscattering Diffraction in Materials Science, A. J. Schwartz, M. Kumar and B. L. Adams (Eds.) Plenum (New York, 2000) Atlas of Backscattering Kikuchi Diffraction Patterns D J Dingley, K Z Baba-Kishi and V Randle IOP (Bristol, 1995)扫描电镜的强有力附件EBSD，可以在扫描电镜中看到表面形貌和微区成分（EDS）的同时得到对应的结构（EBSD），最新技术。本书先给出基本原理，其后附上大量EBSD图片。实用，易学。强烈推荐，EBSD(SEM)必备。Introduction to Texture Analysis V Randle and O Engler Gordon and Breach (Amsterdam 2000)Texture and Anisotropy U F Kocks, C. N. Tomé and H-R Wenk Cambridge (Cambridge 1998)Elastic and Inelastic Scattering in Electron Diffraction and Imaging Z L Wang Plenum (New York 1995)王中林的大作，理论功底深厚，推导数学化，愿意深入理解电子显微学得可以阅读。Introduction to Analytical Electron Microscopy J J Hren, J I Goldstein and D. C Joy (Eds) Plenum (New York 1979)Principles of Analytical Electron Microscopy D C Joy, A D Romig and J I Goldstein (Eds) Pleum (New York 1986)分析电子显微学较早的书籍，有影印本。Convergent Beam Electron Diffraction of Alloy Phases J Mansfield (Ed) Adam Hilger (Bristol 1984)Large-angle convergent beam electron diffraction. J.P. Morniroli. (Society of French Microscopists. Paris). 2002. In english. ISBN 2-901483-05-4Diffraction Physics. J.M.Cowley. North-Holland. 3rd Edition. 1990. 高分辨电子显微学的鼻祖Cowley教授的镇山之作，衍射物理的有一圣经，几次重版。强烈推荐，案头必备。上邹化民老师《电子衍射与衍衬》必备参考书。读懂后会理论功力大涨，方圆几里无对手。Advanced computing in electron microscopy. E.J.Kirkland. Plenum. New York. 1998.计算原理讲解，附有源代码，可以仔细调试研读。"Transmission Electron Microscopy and Diffractometry of Materials". B. Fultz and J. Howe. Springer. 2001. Excellent coverage of theory and worked examples."Fundamentals of HREM". S. Horiuchi. North Holland. 1994."Structural Electron Crystallography" D. L. Dorset, Plenum/Kluwer. 1997. Mainly organics."Transmission electron microscopy: A textbook for materials science". D.B.Williams and C.B.Carter. Plenum Press. 1996. Pedagogically sound introductory text. Indispensible.美国电镜最好的教科书，四卷本，有基础、衍射、成像、谱，深入浅出，初学者和高级研究人员都会开卷有益。Amazon网上书店最畅销书。作者Carter也是现任国际显微学联合会秘书长，下任理事长，可能于十月来武汉出席会议。最强烈最强烈推荐，案头必备。读懂后在电镜中心也成为牛人了。See http://www1.cems.umn.edu/research/carter/book.html"High Resolution Electron Microscopy". J.C.H.Spence. Oxford Univ Press. 2003. (3rd Edn).How to do HREM.Electron energy loss specrtroscopy in the electron microscope. R.F. Egerton. Plenum. New York. 2nd edition 1996.电子能量损失谱的专著，作者Egerton是显微学联合会理事，Micron杂志主编，预计十月份出席武汉会议。强烈推荐，EELS必备。"Convergent beam electron diffraction IV". M.Tanaka, M.Terauchi, K.Tsuda, K.Saitoh. JEOL Ltd. Tokyo. and earlier volumes. Superb collection of CBED patterns.不只是这一本，共有四本，是会聚束电子衍射的权威Tanaka教授的一生心血，大量精彩的图片。强烈推荐，CBED必备。"Electron microdiffraction". J.Spence and J.M. Zuo (Plenum, 1992). How to do QCBED. Workedexample of how to find space-group of crystal from CBED patterns.定量CBED，左建民作了大量工作。推荐，定量CBED必备。"Electron Diffraction Techniques". Vols 1 and 2. Oxford/IUCr Press. J.Cowley, ed. 1993.不错，可以学习很多大家的电子衍射技巧。推荐"High resolution electron microscopy for materials science". D.Shindo, K.Hiraga.Springer. 1998.Beautiful collection of HREM images and examples of their analysis.有中文版，《材料评价的高分辨电子显微学方法》，大量精彩的高分辨照片，使用技巧。强烈推荐，HRTEM必备。"Electron Microscopy of thin crystals". P.B.Hirsch et al. Krieger. New York. 1977.Classic text with many worked examples. Indispensible.电子显微学的圣经，开创电子显微学的开山之作，可以比如盘古开天辟地。迄今也是电子衍射和衍衬的最重要参考书。据说王仁卉教授通读达6-7遍，平时翻阅参考还不算。作者之一A Howie教授将于十月到武汉大学开会。强烈推荐，案头必备。读懂后也是一代牛人。"Electron-diffraction Analysis of Clay Mineral Structures". B. B Zvyagin. Plenum. 1967"Electron Diffraction Structure Analysis". B. K. Vainshtein. Pergamon. 1964"Intro. to Scanning Transmission Electron Microscopy", R. J. Keyse, A. J. Garratt-Reed, P.J. Goodhew and G. W. Lorimer, (BIOS Scientific Publishers, Royal Micros. Soc., 1998)"Electron Energy Loss Spectroscopy", Rik Brydson, (BIOS Scientific Publishers, Royal Micros. Soc., 2001)."Transmission Electron Microscopy. 4th edit.", L. Reimer, (Springer-Verlag 1997).Excellent broad coverage with all the basic physics, including radiation damage. Indispensible."Electron Holography", A. Tonomura, (Springer-Verlag, 1999)"Introduction to electron holography". E. Voelkl, Ed. (1998). Plenum."Practical Electron Microscopy in Materials Science", J. W. Edington (Van Nostrand Reinhold, 1976)"Electron beam analysis of materials" by M. Loretto. Chapman and Hall. 1984."Electron microscopy in heterogeneous catalysis". P. Gai and E. Boyes. Inst Phys. (2003)."Interpretation of electron diffraction patterns" Andrews, K., Dyson, D., Keown, S. (1971). Plenum New York."Crystallography and crystal defects". Reprinted by Techbooks, 4012 Williamsburg Court, Fairfax, Virginia, USA 22032. Extremely useful. Highly recommended.JCPDS-ICDD Powder diffraction file. http://www.icdd.com/ . Identify crystalline phases from their diffraction data.Special issue of Zeitschrift Kirstallographie on electron crystallography. 2003/4. U.Kolb.Journal of Microscopy and Microanalysis (mid 2003) Special issue on Quantitative Electron Diffraction. J.C.H. Spence, editor.中文书籍推荐：郭可信《电子衍射图》王仁卉、郭可信《晶体学中的对称群》

有需要的快下载，下载的同志帮忙顶一下[img]http://www.instrument.com.cn/bbs/images/affix.gif[/img][url=http://www.instrument.com.cn/bbs/download.asp?ID=59092]透射电子显微学的教学[/url]

[b][size=4][color=red][marquee]欢迎大家前来与drizzlemiao版主一起就TEM在材料中应用一起探讨~！活动时间：2009年9月9日——9月24日[/marquee][/color][/size] [/b][color=#fff8dc]00[/color][size=5][b][center]【线上讲座18期】透射电子显微学在材料科学研究中的应用[/center][/b][/size][b][center]主讲人：drizzlemiao[/center][/b][color=#00008b][center]活动时间：2009年9月9日——9月24日[/center][/color][color=red][b][center]感谢drizzlemiao版主在百忙之中奉献精彩的讲座！[/center] [/b][/color][center][img]http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2017/01/201701191651_625783_1622715_3.gif[/img][/center][b]前言：[/b]　透射电子显微学（Transmission electron microscopy，TEM）内容非常丰富，涉及光学、电磁学、固体物理、晶体学、电子学、真空技术、计算物理学、数据分析等多种学科和技术领域，是一门理论与实验高度结合的学科。[u][b]本讲座以非专业人员为对象，以材料科学为应用领域，为大家介绍一些这个学科的基本知识。[/b][/u]讲座以实用技术为线索，辅以简单的解释，尽量避开理论问题，力求使大家了解这门学科及相关技术的基本原理和典型应用。需要说明的是生物科学是TEM的另一个重要应用领域，并且有很多独特的内容，但是这不在本讲座讨论的范围内。[b]drizzlemiao版主简介：[/b]drizzlemiao版主目前在University of Sheffield, UK.从事研究工作，有丰厚的TEM的工作经验，发表过多篇关于TEM的研究学术论文，欢迎各位前来与drizzlemiao版主一起就TEM在材料科学中的应用进行切磋和探讨。[center][img]http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2017/01/201701191651_625783_1622715_3.gif[/img][/center]目录：一、前言二、透射电子显微术的优缺点三、透射电子显微镜的三种常见工作模式四、透射电子显微镜样品制备技术五、透射电子显微镜的常见附属设备六、透射电子显微镜常见技术简介七、计算模拟在电子显微学中的地位[center][img]http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2017/01/201701191651_625783_1622715_3.gif[/img][/center][color=#dc143c][b]交流切磋时间：即日起至2009年9月24日[/b][/color][b]特邀佳宾：[/b]TEM版面的版主：[color=#dc143c]ustb、sourbing[/color]；TEM版面的专家：[color=red]iamikaruk、mn、 shxie、 templus、tygk98[/color][b]参与人员：[/b]仪器论坛全体注册用户[b]活动细则：[/b]1、请大家就[b]TEM在材料研究中[/b]遇到的相关技术问题进行提问，直接回复本帖子即可，自即日起提问截至日期2009年9月24日2、凡积极参与且有自己的观点或言论的都有积分奖励（1-50分不等），提问的也有奖励[u][b]3、提问格式：[/b][/u]为了规范大家的提问格式，请按下面的规则来提问 ：[color=#dc143c]drizzlemiao您好！我有以下问题想请教，请问：……[/color][center][img]http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2017/01/201701191651_625783_1622715_3.gif[/img][/center][u][i][b]说明：[/b][/i][/u]本讲座内容仅用于个人学习，请勿用于商业用途，由此引发的法律纠纷本人概不负责。虽然讲座的内容主要是对知识与经验的讲解、整理和总结，但是也凝聚着笔者大量心血，版权归drizzlemiao和仪器信息网所有。 本讲座是根据笔者对资料的理解写的，理解片面、错误之处肯定是有，欢迎大家指正。[center][img]http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2017/01/201701191651_625783_1622715_3.gif[/img][/center]

摘要:　本文扼要介绍了电子显微镜的现状与展望。透射电子显微镜方面主要有：高分辨电子显微学及原子像的观察，像差校正电子显微镜，原子尺度电子全息学，表面的高分辨电子显微正面成像，超高压电子显微镜，中等电压电镜，120kV,100kV分析电镜，场发射枪扫描透射电镜及能量选择电镜等，透射电镜将又一次面临新的重大突破；扫描电子显微镜方面主要有：分析扫描电镜和X射线能谱仪、X射线波谱仪和电子探针仪、场发射枪扫描电镜和低压扫描电镜、超大试样室扫描电镜、环境扫描电镜、扫描电声显微镜、测长／缺陷检测扫描电镜、晶体学取向成像扫描电子显微术和计算机控制扫描电镜等。扫描电镜的分辨本领可望达到0.2—0.3nm并观察到原子像。 关键词　透射电子显微镜　扫描电子显微镜　仪器制造与发展 中图法分类号　TN16　O766.1　Q336 　　 电子显微镜(简称电镜，EM)经过五十多年的发展已成为现代科学技术中不可缺少的重要工具。我国的电子显微学也有了长足的进展［1］。电子显微镜的创制者鲁斯卡(E.Ruska)教授因而获得了1986年诺贝尔奖的物理奖［2］。 　　电子与物质相互作用会产生透射电子，弹性散射电子，能量损失电子，二次电子，背反射电子，吸收电子，X射线，俄歇电子，阴极发光和电动力等等。电子显微镜就是利用这些信息来对试样进行形貌观察、成分分析和结构测定的。电子显微镜有很多类型，主要有透射电子显微镜(简称透射电镜，TEM)和扫描电子显微镜(简称扫描电镜，SEM)两大类。扫描透射电子显微镜(简称扫描透射电镜，STEM)则兼有两者的性能。为了进一步表征仪器的特点，有以加速电压区分的，如：超高压(1MV)和中等电压(200—500kV)透射电镜、低电压(～1kV)扫描电镜；有以电子枪类型区分的，如场发射枪电镜；有以用途区分的，如高分辨电镜，分析电镜、能量选择电镜、生物电镜、环境电镜、原位电镜、测长CD-扫描电镜；有以激发的信息命名的，如电子探针X射线微区分析仪(简称电子探针，EPMA)等。 半个多世纪以来电子显微学的奋斗目标主要是力求观察更微小的物体结构、更细小的实体、甚至单个原子，并获得有关试样的更多的信息，如标征非晶和微晶，成分分布，晶粒形状和尺寸，晶体的相、晶体的取向、晶界和晶体缺陷等特征，以便对材料的显微结构进行综合分析及标征研究［3］。近来，电子显微镜(电子显微学)，包括扫描隧道显微镜等，又有了长足的发展。本文仅讨论使用广泛的透射电镜和扫描电镜，并就上列几个方面作一简要介绍。部分透射电镜和扫描电镜的主要性能可参阅文献［1］。 透射电子显微镜 1、高分辨电子显微学及原子像的观察 材料的宏观性能往往与其本身的成分、结构以及晶体缺陷中原子的位置等密切相关。观察试样中单个原子像是科学界长期追求的目标。一个原子的直径约为1千万分之2—3mm。因此，要分辨出每个原子的位置需要0.1nm左右的分辨本领，并把它放大约1千万倍。70年代初形成的高分辨电子显微学(HREM)是在原子尺度上直接观察分析物质微观结构的学科。计算机图像处理的引入使其进一步向超高分辨率和定量化方向发展，同时也开辟了一些崭新的应用领域。例如，英国医学研究委员会分子生物实验室的A.Klug博士等发展了一套重构物体三维结构的高分辨图像处理技术，为分子生物学开拓了一个崭新的领域。因而获得了1982年诺贝尔奖的化学奖，以表彰他在发展晶体电子显微学及核酸—蛋白质复合体的晶体学结构方面的卓越贡献［4］。 用HREM使单个原子成像的一个严重困难是信号／噪声比太小。电子经过试样后，对成像有贡献的弹性散射电子(不损失能量、只改变运动方向)所占的百分比太低，而非弹性散射电子(既损失能量又改变运动方向)不相干，对成像无贡献且形成亮的背底(亮场)，因而非周期结构试样中的单个原子像的反差极小。在档去了未散射的直透电子的暗场像中，由于提高了反差，才能观察到其中的重原子，例如铀和钍—BTCA中的铀(Z＝92)和钍(Z＝90)原子［5］。对于晶体试样，原子阵列会加强成像信息。采用超高压电子显微镜和中等加速电压的高亮度、高相干度的场发射电子枪透射电镜在特定的离焦条件(Scherzer欠焦)下拍摄的薄晶体高分辨像可以获得直接与晶体原子结构相对应的结构像。再用图像处理技术，例如电子晶体学处理方法，已能从一张200kV的JEM-2010F场发射电镜(点分辨本领0.194nm)拍摄的分辨率约0.2nm的照片上获取超高分辨率结构信息，成功地测定出分辨率约0.1nm的晶体结构［6］。 2.像差校正电子显微镜 电子显微镜的分辨本领由于受到电子透镜球差的限制，人们力图像光学透镜那样来减少或消除球差。但是，早在1936年Scherzer就指出，对于常用的无空间电荷且不随时间变化的旋转对称电子透镜，球差恒为正值。在40年代由于兼顾电子物镜的衍射和球差，电子显微镜的理论分辨本领约为0.5nm。校正电子透镜的主要像差是人们长期追求的目标。经过50多年的努力，1990年Rose提出用六极校正器校正透镜像差得到无像差电子光学系统的方法。最近在CM200ST场发射枪200kV透射电镜上增加了这种六极校正器，研制成世界上第一台像差校正电子显微镜。电镜的高度仅提高了24cm，而并不影响其它性能。分辨本领由0.24nm提高到0.14nm［7］。在这台像差校正电子显微镜上球差系数减少至0.05mm(50μm)时拍摄到了GaAs〈110〉取向的哑铃状结构像，点间距为0.14nm［8］。 3、原子尺度电子全息学 Gabor在1948年当时难以校正电子透镜球差的情况下提出了电子全息的基本原理和方法。论证了如果用电子束制作全息图，记录电子波的振幅和位相，然后用光波进行重现，只要光线光学的像差精确地与电子光学的像差相匹配，就能得到无像差的、分辨率更高的像。由于那时没有相干性很好的电子源，电子全息术的发展相当缓慢。后来，这种光波全息思想应用到激光领域，获得了极大的成功。Gabor也因此而获得了诺贝尔物理奖。随着Mollenstedt静电双棱镜的发明以及点状灯丝，特别是场发射电子枪的发展，电子全息的理论和实验研究也有了很大的进展，在电磁场测量和高分辨电子显微像的重构等方面取得了丰硕的成果［9］。Lichte等用电子全息术在CM30 FEG/ST型电子显微镜(球差系数Cs＝1.2mm)上以1k×1k的慢扫描CCD相机，获得了0.13nm的分辨本领。目前，使用刚刚安装好的CM30 FEG/UT型电子显微镜(球差系数Cs＝0.65mm)和2k×2k的CCD相机，已达到0.1nm的信息极限分辨本领［10,11］。

为了感谢大家过去一年的陪伴，网络讲堂的小编们特做了历届电子显微学网络会议的合集。[b]老用户1秒登录即可领取，新用户注册登陆后默认享受该特权！[img]http://img.baidu.com/hi/jx2/j_0002.gif[/img][/b][color=#ff0000][b]点击下方图片，一键领取[/b][/color][align=center][url=https://www.instrument.com.cn/webinar/video/collection/10835][img=444.jpg,456,172]https://img1.17img.cn/17img/files/202112/baiduUEditor/856fe2d4-85f2-42b4-b9e3-f184101d1b78.jpg[/img][/url][/align][align=center][/align]

摘自《电子显微学报》薛涛,张长亮等[img]http://www.instrument.com.cn/bbs/images/affix.gif[/img][url=http://www.instrument.com.cn/bbs/download.asp?ID=26113]模拟电子显微镜扫描系统的电路原理及维修[/url]

我收集到黄孝瑛的四本书，还有一本《透射电子显微学》上海科学技术出版社出版，1987年，没有，我扫描上去后，在传给大家。[img]http://www.instrument.com.cn/bbs/images/affix.gif[/img][url=http://www.instrument.com.cn/bbs/download.asp?ID=46470]黄孝瑛电子显微分析图书[/url]

一、高性能场发射枪电子显微镜日趋普及和应用 场发射枪透射电镜能够提供高亮度、高相干性的电子光源。因而能在原子--纳米尺度上对材料的原子排列和种类进行综合分析。九十年代中期，全世界只有几十台；现在已猛增至上千台。我国目前也有上百台以上场发射枪透射电子显微镜。 常规的热钨灯丝（电子）枪扫描电子显微镜，分辨率最高只能达到3.0nm；新一代的场发射枪扫描电子显微镜，分辨率可以优于1.0nm；超高分辨率的扫描电镜，其分辨率高达0.5nm-0.4nm。其中环境描电子显微镜可以做到：真正的“环境”条件，样品可在100%的湿度条件下观察；生物样品和非导电样品不要镀膜，可以直接上机进行动态的观察和分析；可以“一机三用”。高真空、低真空和“环境”三种工作模式。 二、努力发展新一代单色器、球差校正器，以进一步提高电子显微镜的分辨率 球差系数:常规的透射电镜的球差系数Cs约为mm级；现在的透射电镜的球差系数已降低到Cs0.05mm。 色差系数:常规的透射电镜的色差系数约为0.7；现在的透射电镜的色差系数已减小到0.1。 场发射透射电镜、STEM技术、能量过滤电镜已经成为材料科学研究，甚至生物医学必不可少的分析手段和工具。 物镜球差校正器把场发射透射电镜分辨率提高到信息分辨率。即从0.19nm提高到0。12nm甚至于小于0.1nm。 利用单色器，能量分辨率将小于0.1eV。但单色器的束流只有不加单色器时的十分之一左右。因此利用单色器的同时，也要同时考虑单色器的束流的减少问题。 聚光镜球差校正器把STEM的分辨率提高到小于0.1nm的同时，聚光镜球差校正器把束流提高了至少10倍，非常有利于提高空间分辨率。 在球差校正的同时，色差大约增大了30%左右。因此，校正球差的同时，也要同时考虑校正色差。 三、电子显微镜分析工作迈向计算机化和网络化在仪器设备方面，目前扫描电镜的操作系统已经使用了全新的操作界面。用户只须按动鼠标，就可以实现电镜镜筒和电气部分的控制以及各类参数的自动记忆和调节。 不同地区之间，可以通过网络系统，演示如样品的移动，成像模式的改变，电镜参数的调整等。以实现对电镜的遥控作用。 四、电子显微镜在纳米材料研究中的重要应用 由于电子显微镜的分析精度逼近原子尺度，所以利用场发射枪透射电镜，用直径为0.13nm的电子束，不仅可以采集到单个原子的Z-衬度像，而且还可采集到单个原子的电子能量损失谱。即电子显微镜可以在原子尺度上可同时获得材料的原子和电子结构信息。观察样品中的单个原子像，始终是科学界长期追求的目标。一个原子的直径约为1千万分之2-3mm。所以，要分辩出每个原子的位置，需要0.1nm左右的分辨率的电镜，并把它放大约1千万倍才行。人们预测，当材料的尺度减少到纳米尺度时，其材料的光、电等物理性质和力学性质可能具有独特性。因此，纳米颗粒、纳米管、纳米丝等纳米材料的制备，以及其结构与性能之间关系的研究成为人们十分关注的研究热点。 利用电子显微镜，一般要在200KV以上超高真空场发射枪透射电镜上，可以观察到纳米相和纳米线的高分辨电子显微镜像、纳米材料的电子衍射图和电子能量损失谱。如，在电镜上观察到内径为0.4nm的纳米碳管、Si-C-N纳米棒、以及Li掺杂Si的半导体纳米线等。 在生物医学领域，纳米胶体金技术、纳米硒保健胶囊、纳米级水平的细胞器结构，以及纳米机器人可以小如细菌，在血管中监测血液浓度，清除血管中的血栓等的研究工作，可以说都与电子显微镜这个工具分不开。 总之： 扫描电镜、透射电镜在材料科学特别纳米科学技术上的地位日益重要。稳定性、操作性的改善使得电镜不再是少数专家使用的高级仪器，而变成普及性的工具；更高分辨率依旧是电镜发展的最主要方向；扫描电镜和透射电镜的应用已经从表征和分析发展到原位实验和纳米可视加工；聚焦离子束(FIB)在纳米材料科学研究中得到越来越多的应用；FIB/SEM双束电镜是目前集纳米表征、纳米分析、纳米加工、纳米原型设计的最强大工具；矫正型STEM(Titan)的目标：2008年实现0.5Å分辨率下的3D结构表征。 五、低温电镜技术和三维重构技术是当前生物电子显微学的研究热点低温电镜技术和三维重构技术是当前生物电子显微学的研究热点。主要是研讨利用低温电子显微镜（其中还包括了液氦冷台低温电镜的应用）和计算机三维像重构技术，测定生物大分子及其复合体三维结构。如利用冷冻电子显微学测定病毒的三维结构和在单层脂膜上生长膜蛋白二维晶体及其电镜观察和分析。 当今结构生物学引起人们的高度重视，因为从系统的观点看生物界，它有不同的层次结构：个体®器官®组织®细胞®生物大分子。虽然生物大分子处于最低位置，可它决定高层次系统间的差异。三维结构决定功能结构是应用的基础:药物设计，基因改造，疫苗研制开发，人工构建蛋白等，有人预言结构生物学的突破将会给生物学带来革命性的变革。 电子显微学是结构测定重要手段之一。低温电子显微术的优点是：样品处于含水状态，分子处于天然状态；由于样品在辐射下产生损伤，观测时须采用低剂量技术（lowdosetechnique)；观测温度低，增强了样品耐受辐射能力；可将样品冻结在不同状态，观测分子结构的变化，通过这些技术，使各种生物样品的观察分析结果更接近真实的状态。 六、高性能CCD相机日渐普及应用于电子显微镜中 CCD的优点是灵敏度高，噪音小，具有高信噪比。在相同像素下CCD的成像往往通透性、明锐度都很好，色彩还原、曝光可以保证基本准确，摄像头的图像解析度/分辨率也就是我们常说的多少像素，在实际应用中，摄像头的像素越高，拍摄出来的图像品质就越好，对于同一画面，像素越高的产品它的解析图像的能力也越强，但相对它记录的数据量也会大得多，所以对存储设备的要求也就高得多。 当今的TEM领域，新开发的产品完全使计算机控制的，图象的采集通过高分辨的CCD摄像头来完成，而不是照相底片。数字技术的潮流正从各个方面推动TEM应用以至整个实验室工作的彻底变革。尤其是在图象处理软件方面，许多过去认为不可能的事正在成为现实。