国家纳米科学中心

魔技纳米MJ-Works适用多种材料的超快激光微纳加工中心超快激光微纳加工中心，不仅拥有纳米级3D加工能力，还配备了双波长飞秒激光输出，可加工更广泛的材料。可对玻璃、光纤、晶体内部和表面进行改性或刻蚀，也可对金属、合金、陶瓷等硬质材料进行微米级精度的处理，包括打孔、表面结构处理、选择性激光消融、改性等多种功能。MJ-Works同样拥有高精度、超高速度的特点，并且可进行大幅面加工、全自动操控、长时稳定性、简单直观的软件操作以及适配多种材料的特点，适用于微纳光学、生物医学、半导体、光通信等行业的微纳加工领域。 如需了解更多产品信息，欢迎查询我司官网 魔技纳米科技或来电咨询。 [企业介绍]魔技纳米科技创立于2017年，是一家高精度微纳三维装备制造与服务提供商、国家高新技术企业、省专精特新企业。主要业务为高端激光微纳三维直写光刻设备的研发、生产、销售及技术服务等。研发团队拥有十余年微纳三维制造技术经验，在光学、电气、机械、软件、材料等方面，拥有完整的自主开发能力，可以为多行业应用场景提供专业的一体化解决方案。企业推出了高精度纳米级3D打印设备、超快激光加工中心、无掩膜直写光刻设备三大系列及多款光刻胶产品，其中自主研发的商用纳米级三维激光直写系统，可实现70纳米精度的三维结构加工。凭借高精度、高速度、大幅面和长时稳定性等技术优势，实现了科研探索到商业化应用的跨越，有力推动了微纳三维制造在生物医疗、光电通信、新材料、微纳器件、航空航天等领域的规模化工业生产。

魔技纳米PROME-Uni基于多光⼦ 聚合原理的超⾼ 速度一体化纳米级三维加⼯ 设备自研专利技术，大幅提高加工效率，突破多光子聚合速度限制，适应不同尺度的精密加工需求；拥有多项稳定系统，可长时无需维护，稳定工作；采用模块化的光机电设计，拥有极高的灵活性和可扩展性；为科研和工业领域提供全新的3D加工技术解决方案，适用于微光学器件、微流控芯片、微机械、超材料、微纳传感器件光子芯片集成等领域 主要特点： 如需了解更多产品信息，欢迎查询我司官网 魔技纳米科技或来电咨询。 企业介绍 魔技纳米科技创立于2017年，是一家高精度微纳三维装备制造与服务提供商、国家高新技术企业、省专精特新企业。主要业务为高端激光微纳三维直写光刻设备的研发、生产、销售及技术服务等。研发团队拥有十余年微纳三维制造技术经验，在光学、电气、机械、软件、材料等方面，拥有完整的自主开发能力，可以为多行业应用场景提供专业的一体化解决方案。企业推出了高精度纳米级3D打印设备、超快激光加工中心、无掩膜直写光刻设备三大系列及多款光刻胶产品，其中自主研发的商用纳米级三维激光直写系统，可实现70纳米精度的三维结构加工。凭借高精度、高速度、大幅面和长时稳定性等技术优势，实现了科研探索到商业化应用的跨越，有力推动了微纳三维制造在生物医疗、光电通信、新材料、微纳器件、航空航天等领域的规模化工业生产。

魔技纳米MJ-Works-Fiber专为光纤应用设计的纳米级三维激光直写设备MJ-Works-Fiber是一款专为光纤传感与光通信应用而生的超高精度加工而设计的高性能3D激光直写设备，配有超清成像及纳米级定位对准系统，可实现在光纤纤芯或光芯片表面及内部进行纳米级3D加工。配备有专门的卷对卷光纤自动输送装置，并配有应力监测，纤芯自动识别、定位及对准，实现高通量精准快速生产。如需了解更多产品信息，欢迎查询我司官网 魔技纳米科技或来电咨询。【企业简介】魔技纳米科技创立于2017年，是一家高精度微纳三维装备制造与服务提供商、国家高新技术企业、省专精特新企业。主要业务为高端激光微纳三维直写光刻设备的研发、生产、销售及技术服务等。研发团队拥有十余年微纳三维制造技术经验，在光学、电气、机械、软件、材料等方面，拥有完整的自主开发能力，可以为多行业应用场景提供专业的一体化解决方案。企业推出了高精度纳米级3D打印设备、超快激光加工中心、无掩膜直写光刻设备三大系列及多款光刻胶产品，其中自主研发的商用纳米级三维激光直写系统，可实现70纳米精度的三维结构加工。凭借高精度、高速度、大幅面和长时稳定性等技术优势，实现了科研探索到商业化应用的跨越，有力推动了微纳三维制造在生物医疗、光电通信、新材料、微纳器件、航空航天等领域的规模化工业生产。

魔技纳米DLW-Bio专为生物应用设计的加工检测一体纳米级三维激光直写设备DLW-Bio具备纳米级高精度3D加工能力，满足复杂生物结构的微纳制造需求，同时可兼有生物荧光显微功能。设备配备多种生物样品台，可根据具体需求灵活配置和定制，适应不同生物医学样品和微流控芯片等打印要求。该设备还特别配备多种生物相容性打印材料，包括无生物毒性且具备亚微米特征和高纵横比的光敏聚酯、水凝胶，均符合ISO-10993-5/USP87标准，可在生物医学领域安全应用。用户可以根据研究需要选择适合的材料，实现定制化的生物医学样品打印。从组织工程到微流控芯片，从药物递送系统到个性化医疗，DLW-RD-Bio为多样化的生物医学应用提供强大的材料支持。如需了解更多产品信息，欢迎查询我司官网 魔技纳米科技或来电咨询。 [企业介绍] 魔技纳米科技创立于2017年，是一家高精度微纳三维装备制造与服务提供商、国家高新技术企业、省专精特新企业。主要业务为高端激光微纳三维直写光刻设备的研发、生产、销售及技术服务等。研发团队拥有十余年微纳三维制造技术经验，在光学、电气、机械、软件、材料等方面，拥有完整的自主开发能力，可以为多行业应用场景提供专业的一体化解决方案。企业推出了高精度纳米级3D打印设备、超快激光加工中心、无掩膜直写光刻设备三大系列及多款光刻胶产品，其中自主研发的商用纳米级三维激光直写系统，可实现70纳米精度的三维结构加工。凭借高精度、高速度、大幅面和长时稳定性等技术优势，实现了科研探索到商业化应用的跨越，有力推动了微纳三维制造在生物医疗、光电通信、新材料、微纳器件、航空航天等领域的规模化工业生产。

魔技纳米UV-Smart桌面级无掩膜直写光刻设备专为实验室科研需求和小批量生产设计。其小巧紧凑的设计使其适用于实验室环境，并具有高直写速度、高分辨率和高对准精度等特点。采用集成化设计和全自动控制，操作简便，适合快速加工、建模或小批量生产。广泛应用于微流控、半导体、生物技术和微电子等领域。如需了解更多产品信息，欢迎查询我司官网 魔技纳米科技或来电咨询。 [企业介绍]魔技纳米科技创立于2017年，是一家高精度微纳三维装备制造与服务提供商、国家高新技术企业、省专精特新企业。主要业务为高端激光微纳三维直写光刻设备的研发、生产、销售及技术服务等。研发团队拥有十余年微纳三维制造技术经验，在光学、电气、机械、软件、材料等方面，拥有完整的自主开发能力，可以为多行业应用场景提供专业的一体化解决方案。企业推出了高精度纳米级3D打印设备、超快激光加工中心、无掩膜直写光刻设备三大系列及多款光刻胶产品，其中自主研发的商用纳米级三维激光直写系统，可实现70纳米精度的三维结构加工。凭借高精度、高速度、大幅面和长时稳定性等技术优势，实现了科研探索到商业化应用的跨越，有力推动了微纳三维制造在生物医疗、光电通信、新材料、微纳器件、航空航天等领域的规模化工业生产。

魔技纳米UV-Ultra高性能无掩膜直写光刻设备UV-Ultra是一款专为高端和工业级应用而设计的高性能无掩膜直写光刻设备。它采用先进的超高速加工方式，采用自研算法和高性能硬件，实现更高的对准、拼接和套刻精度。具备高直写速度和高分辨率，适用于快速、精准的加工需求。MN-UV-Ultra采用集成化设计和全自动控制，操作简便，适用于高达12英寸的基材。广泛应用于微流控、半导体、生物技术和微电子等领域。如需了解更多产品信息，欢迎查询我司官网 魔技纳米科技或来电咨询。 企业介绍 魔技纳米科技创立于2017年，是一家高精度微纳三维装备制造与服务提供商、国家高新技术企业、省专精特新企业。主要业务为高端激光微纳三维直写光刻设备的研发、生产、销售及技术服务等。研发团队拥有十余年微纳三维制造技术经验，在光学、电气、机械、软件、材料等方面，拥有完整的自主开发能力，可以为多行业应用场景提供专业的一体化解决方案。企业推出了高精度纳米级3D打印设备、超快激光加工中心、无掩膜直写光刻设备三大系列及多款光刻胶产品，其中自主研发的商用纳米级三维激光直写系统，可实现70纳米精度的三维结构加工。凭借高精度、高速度、大幅面和长时稳定性等技术优势，实现了科研探索到商业化应用的跨越，有力推动了微纳三维制造在生物医疗、光电通信、新材料、微纳器件、航空航天等领域的规模化工业生产。

厦门福流生物科技有限公司自主研发的纳米流式检测仪（Flow NanoAnalyzer）是一款真正具有单个纳米颗粒（100 nm）多参数综合表征能力的流式产品，是纳米尺度颗粒（7-1000 nm）的有效表征设备，可以在单颗粒水平对生物纳米颗粒的物理化学和生化性状进行快速的多参数综合表征，填补了国际空白，在核酸疫苗、外泌体、疫苗/病毒（慢病毒、腺病毒、腺相关病毒）、纳米药物、细菌、亚细胞器等生物医药领域均有成熟的解决方案，对生物医学和纳米科技的创新发展形成非常重要的助力。详细参数如下：1.前所未有的检测灵敏度和分辨率。2. 梯度稀释的线性相关性和重现性。福流生物的纳米流式检测仪（Flow NanoAnalyzer）可实现外泌体、亚细胞结构、细菌、病毒等天然生物纳米颗粒以及功能化纳米颗粒的表征，为流式分析技术打开了通往纳米世界的窗口。通过对单个7-1000 nm纳米颗粒的粒径、颗粒浓度以及生物化学性质(表面蛋白、核酸、磷脂等)的高分辨、高通量检测，纳米流式检测仪为生命科学和生物医学研究以及纳米科技的发展提供了一个强有力的表征手段。 纳米流式检测仪填补了国际空白，客户遍布全球顶级机构，全球用户接近200家，如美国安德森癌症中心、梅奥诊所、约翰霍普金斯大学、美国国立卫生研究院（NIH）、Codiak Biosciences、EVOX、帝国理工大学、悉尼大学、第一三共、葛兰素史克、赛诺菲、台湾大学、复旦大学等全球高水平研究机构和高科技公司，获得全球机构和科研院所的认可，欢迎电话咨询或留言进行了解！

魔技纳米DLW-RD桌面级经济型三维激光直写设备DLW-RD基于多光子聚合原理，具有封闭光路设计，独特隔振温控系统，使得小型化、经济型设备也具有加工过程中的长时稳定性。得益于多光子聚合和高自由度的设计，给出了一种经济型纳米级3D制造的解决方案，适配多功能的材料，可应用于生物医学工程、微光学器件、超材料等应用领域。如需了解更多产品信息，欢迎查询我司官网 魔技纳米科技或来电咨询。【企业介绍】 魔技纳米科技创立于2017年，是一家高精度微纳三维装备制造与服务提供商、国家高新技术企业、省专精特新企业。主要业务为高端激光微纳三维直写光刻设备的研发、生产、销售及技术服务等。研发团队拥有十余年微纳三维制造技术经验，在光学、电气、机械、软件、材料等方面，拥有完整的自主开发能力，可以为多行业应用场景提供专业的一体化解决方案。企业推出了高精度纳米级3D打印设备、超快激光加工中心、无掩膜直写光刻设备三大系列及多款光刻胶产品，其中自主研发的商用纳米级三维激光直写系统，可实现70纳米精度的三维结构加工。凭借高精度、高速度、大幅面和长时稳定性等技术优势，实现了科研探索到商业化应用的跨越，有力推动了微纳三维制造在生物医疗、光电通信、新材料、微纳器件、航空航天等领域的规模化工业生产。

洞察纳米世界的利器 ：纳米级光学成像 + 高光谱扫描您手边纳米研究神器：无标记识别 + 纳米表征 + 映射产品介绍 Cytoviva超分辨率荧光显微成像系统技术最初源于美国国防部和美国宇航局共同开发空中成像技术。Cytoviva已经发展成为一个专有技术，并将其专利整合到的显微成像系统中，可以在纳米尺度进行材料的光谱定量分析和活细胞的观察。并在2006和2007连续两年获得著名的R＆D 100奖的获奖荣誉，2007获得了Nano50TM奖，源于它对纳米科学研究的杰出的贡献。 2005年进入市场以来，Cytoviva在全球范围内已有几百台的装机，包括美洲、亚洲到欧洲国家重点实验室、学术科研机构和独立的工业实验室。 Cytoviva超光谱成像系统配合cytoviva显微镜系统，可以广泛应用于量化细胞和组织中的纳米材料。该系统捕获扫描范围内近红外（400-1000nm）内每个像素的光谱信号。先进的分析软件可以提供的扫描材料的详细光谱信息。 CytoVivac超光谱成像系统配合CytoViva纳米显微镜可以同时提供材料及生物样品的光谱分析和图像数据。该系统在可见-近红外光谱范围内（VNIR）进行数据采集。Cytoviva HSI有着广泛的应用研究范围：纳米药物递送、纳米毒理学、纳米材料、细胞生物学、病理学、病毒学、植物学等等。光谱分析方法支持非荧光、荧光标记的成分在活细胞、组织和纳米材料等不同样本中的观察分析。 Cytoviva技术正迅速成为纳米材料和生命科学研究的实验室标准。Cytoviva能提供您所需要的实验结果。为客户采集到真实，定量的研究数据提供了一套无缝的解决方案。 产品特点● 无需荧光标记● 纳米尺度样品光学图像表征（20-50nm）● 纳米高光谱表征● 映射多种环境中纳米尺度样品应用方向● 药物递送，纳米药物研发及临床试验● 外泌体研究，肿瘤早期诊断、研究及治疗● 食品及组织中细菌检测● 脑疾病研究：Alzheimer’s Disease,AD ；帕金森● 纳米乳剂● Liposomes● 免疫组化，组织切片直接观察，纳米级表征● 病毒、病原体检测与表征● 高分子材料检测与表征● 小分子材料检测与表征● MOF 材料检测与表征● 纳米尺寸材料检测与表征● 表面等离激元（单分子发光）● 环境污染治理● 稀土材料、上转换纳米材料表征● 复合纳米材料研究● 生物燃料研发组合光谱成像技术 多功能集成显微镜系统可同时提供宽场成像模式（反射，透射，明场，暗场，偏振光和荧光），以及高光谱显微成像模式（拉曼，荧光，光致发光，透射和反射）；又保证了无论在哪种成像模式之间切换都不需要移动样品，确保呈现同一区域的所有多模态图像信息。 拉曼系统内置四个光栅，用于优化光谱分辨率，可配备最多 3 个激光器（从蓝色到 NIR+），用于实现 Raman，PL 以及 FL 高光谱成像。检测器从普通 CCD 到 EMCCD 根据不同需求可供选择。

公司背景-Global Leader in Process Control since 1976KLA-Tencor 是全球半导体在线检测设备市场最大的供应商；KLA-Tencor2018 年 3 月从 Keysight Technologies 公司收购了行业的龙头产品-高精度原位微纳米力学测试系统-Nano Indenter G200 和高精度微纳米拉伸系统-UTM T150；该力学设备的工厂是全球最大的高精度力学测试系统的供应商，1983 年成功制造了世界上第一台商用Nano Indenter。该力学设备的工厂是业内唯一拥有超过 35 年的 Nano Indenter 生产和研究经验的供应商，成熟的工艺保证了新一代 Nano Indenter G200 具有最好的稳定性和可靠性。该力学设备的工厂拥有最广泛的顾客群，在高端力学测试系统领域内拥有最高的的市场占有率。 1． 产品技术水平KLA-Tencor 公司拥有最多的 Nano Indenter 的核心专利技术，包括已成为业界标准的连续刚度测量功能、接触刚度成像功能以及快速纳米压入测试技术等等；KLA-Tencor 公司的连续刚度测量功能已经成为薄膜、涂层、多相材料等样品检测最常用的的测试技术，并已经录入各种力学领域的国际标准和中国国家标准内。KLA-Tencor 拥有世界上最快压痕测试技术的专利，最快可达到 1 压痕点/秒。 2． 售后服务和技术支持KLA-Tencor 公司在中国有超过 600 名员工，在国内配备本土 Nano Indenter 方面的技术专家，在业内拥有最好的口碑。KLA-Tencor 公司在中国拥有自己的纳米科学示范实验室，并有专职的应用专家在实验室工作，负责用户的应用技术支持工作；KLA-Tencor 公司还定期地举办高级用户培训班，由公司的应用科学家为不同学科的用户进行各个领域应用的深层次培训。 特点和优势– 广受赞誉的高速测试选项可以和所有G200 型纳米压痕仪配合使用, 包括DCMII 和 XP 模块以及样品台– 快速进行面积函数和框架刚度校对– 精确和可重复的结果, 完全符合ISO14577 标准– 通过电磁驱动, 可在无与伦比的范围内连续调整加载力和位移– 结构优化, 适合传统测试或全新应用– 模块化选项, 适合划痕测试, 高温测试– 和动态测试– 强大的软件功能, 包括对试验进行实时控制, 简化了的特殊测试方法的开发 第五代原位纳米力学测试系统 Nano Indenter G200在微/纳尺度范围内的加载和位移构成精确的力学测试 应用– 半导体器件, 薄膜– 硬质涂层, DLC薄膜– 复合材料, 光纤, 聚合物材料– 金属材料, 陶瓷材料– 无铅焊料– 生物材料, 生物及仿生组织等等 先进的设计所有的纳米压痕试验都取决于精确的加载和位移数据，要求对加载到样品上的 载荷有精确的控制。KT最新的第五代 G200 型纳米压痕仪采用电磁驱动的载荷装置，从而保证测量的精确度，独特的设计避免了横向位移的影响。 KT最新的第五代 G200 型纳米压痕仪的杰出设计带来很多的便利性，包括方便的测试到整个样品台，精确的样品定位，方便的确定样品位置和测试区域，简 便的样品高度调整，以及快速的测试报告输出。模块化的控制器设计为今后的 升级带来极大的方便。 此外，最新的第五代 G200 型纳米压痕仪完全符合各种国际标准，保证了数据的完整性。客户可以通过每个力学传感器自主设计试验，在任何时候对其进行切换，同时整个设备占地面积小，适合各种实验室环境。2017年获得联合国教科文组织颁奖的纳米科技领域的创新技 NanoSuite的特点和优势 – 极其灵活、精确的数据采集和控制– 不断更新的测试方法– 最新的批处理测试功能– 新型的 2D 图形输出功能– 测试数据更有效的分析功能– PDF 测试数据的直接输出– 优越的自我定制测试模型的建立– 非常方便的个性化测试方法的建立– 功能齐全完善的图像处理功能– 用户可轻松的编辑自己的测试方法以满足特殊的应用与需求– 定制化的测试方法同样可满足 ISO14577 国际标准– 提供专业的建模和仿真软件, 帮助用户实现特殊的离线研究需要 KLA-Tencor技术顾问服务KT拥有一支经验丰富的技术支持和服务工程师团队，可针对客户的 特殊应用与测试需求提供定制化的技术顾问服务。 经过超过 35 年的发展，NanoSuite 已经成为业内公认的界面友好、操作简便、功能齐全的数据采集和处理软件包，NanoSuite 不仅可以自动测试，也可以使用户利用网络远程遥控进行实验控制，NanoSuite 不仅能够做到压入过程中硬度和弹性模量等力学性能的实时计算和显示，同时允许用户根据自 己的研究需求以及提出的新模型随时添加新的软件通道，此外，根据实验参 量的变化快慢能够自动调整数据的采集速率，实现了智能化的数据采集功 能，从而既获得您真正需要的数据，又可避免不必要的垃圾数据。 增强的载荷加载系统新一代 Nano Indenter G200 系列纳米压痕仪是具有从纳牛到牛顿最为完整的加载力范围，并且不同的加载装置可自动软件切换，整个测试流程都是全 自动的，极大的提高了测试数据的可靠性和可重复性，避免了可能的人为因 素的影响，确保每个测试都是合理、一致、精确。 标准的加载装置Nano Indenter G200 纳米压痕仪标准配置是 XP 加载系统 (最大为500mN)， 位移分辨率 0.01纳米，最大压入深度 500 微米,该装置可应用到所有的测试功能。压头更换轻松完成，非常好的机架刚度极大的减少了系统对测试的 影响。高精度加载装置DCM II 是高分辨的纳米纳牛力加载模块，它既可以单独工作，也可以作为一个附件与Nano Indenter G200 协同工作。由于其惯性质量很低，使得纳米压痕中的初始表面的选取更加灵敏、精确， DCM II 在超低载荷下的纳米压痕测试具有极高的精确度和可重复性，由于它自身的空载共振频率远高于一般建筑物的振动频率，这就使得一般的环境振动对它几乎没有影响，DCM II 具有很宽的动态频率范围 (0.1 Hz 到 300 Hz)，所有这些特点使得 DCM II 可以提供同类设备不可比拟的高信噪比和高可靠性的试验数据，例如右图所示的蓝宝石上三个纳米深度的压痕测试，在几个纳米的压痕深度范围内获得了非常可靠的弹性模量。大载荷加载装置Nano Indenter G200的大载荷加载选件，大大强化了 G200 系列纳米压痕仪的应用范围。这个选件可以用于标准的 XP 加载模块，将 G200 型纳米压痕仪的加载能力扩展至 10N，可对陶瓷、金属块材和复合材料进行力学表征。大载荷选件的巧妙设计，使得 G200 既避免了在低载荷的情况下牺牲仪器的载荷和位移精度，同时又保证了用户在需要大加载力的测试时，通过鼠标操作就可以在测试实验中进行无缝加载装置切换。

NanoFrazor Scholar适合科研领域的中小型实验净房与纳米加工的学术研究领域 Thermal Scanning Probe Lithography Toolwith In-situ Imaging and Grayscale Patterning Capabilities适合科研领域的中小型实验净房与纳米加工的学术研究领域原位成像和灰度光刻模块的热探针光刻解决方案NanoFrazor® Scholar特别适合纳米加工研究的学术单位，用于在1D/2D 材料，例如量子点和纳米数组上制作量子器件的纳米结构，其独特的功能使能够应用任何新材料。例如，灰度光子学设备、纳米流道结构或用于细胞生长的仿生基质等进阶应用；通过加热探针对材料进行局部改性，例如化学反应和物理相变。关于我们Stella InternationalStella International携手光刻技术领航者-海德堡仪器公司，共同为客户带来*的综合应用效能，同时建立紧密的合作伙伴关系。为了服务客户更广泛多元的应用领域，Stella International于 2016年在苏州成立海德堡仪器演示中心，以海德堡原厂伙伴技术支援，提供客户技术交流平台以及各式前段打样的基础研究，这些年来已服务许多的国内知名大学，研究院所与企业前期研发单位。品牌介绍德国海德堡 高精密无掩膜激光直写设备HEIDELBERG MASKLESS AND LASER LITHOGRAPHY SYSTEM 德国海德堡设备(Heidelberg Instruments)，创始于1984年，在激光直写设备的发展和设计上持续地改良、在各种应用上客制化。应用范围包括：微电脑和纳米科技, MEMS, 平面屏幕, BGA, ASICS, TFT, Plasma Displays, Micro Optics, 和其他相关领域。销售横跨欧洲、美国、亚洲等超过50几个国家、700个以上销售据点，用于研发、快速原型制作和工业生产系统，是企业研究和发展的伙伴。

Global Leader in Process Control since 1976KLA-Tencor 是全球半导体在线检测设备市场最大的供应商；KLA-Tencor2018 年 3 月从 Keysight Technologies 公司收购了行业的龙头产品-高精度原位微纳米力学测试系统-Nano Indenter G200 和高精度微纳米拉伸系统-UTM T150；该力学设备的工厂是全球最大的高精度力学测试系统的供应商，1983 年成功制造了世界上第一台商用Nano Indenter。该力学设备的工厂是业内唯一拥有超过 35 年的 Nano Indenter 生产和研究经验的供应商，成熟的工艺保证了新一代 Nano Indenter G200 具有最好的稳定性和可靠性。该力学设备的工厂拥有最广泛的顾客群，在高端力学测试系统领域内拥有最高的的市场占有率。 1． 产品技术水平KLA-Tencor 公司拥有最多的 Nano Indenter 的核心专利技术，包括已成为业界标准的连续刚度测量功能、接触刚度成像功能以及快速纳米压入测试技术等等；KLA-Tencor 公司的连续刚度测量功能已经成为薄膜、涂层、多相材料等样品检测最常用的的测试技术，并已经录入各种力学领域的国际标准和中国国家标准内。KLA-Tencor 拥有世界上最快压痕测试技术的专利，最快可达到 1 压痕点/秒。 2． 售后服务和技术支持KLA-Tencor 公司在中国有超过 600 名员工，在国内配备本土 Nano Indenter 方面的技术专家，在业内拥有最好的口碑。KLA-Tencor 公司在中国拥有自己的纳米科学示范实验室，并有专职的应用专家在实验室工作，负责用户的应用技术支持工作；KLA-Tencor 公司还定期地举办高级用户培训班，由公司的应用科学家为不同学科的用户进行各个领域应用的深层次培训。 特点和优势– 广受赞誉的高速测试选项可以和所有G200 型纳米压痕仪配合使用, 包括DCMII 和 XP 模块以及样品台– 快速进行面积函数和框架刚度校对– 精确和可重复的结果, 完全符合ISO14577 标准– 通过电磁驱动, 可在无与伦比的范围内连续调整加载力和位移– 结构优化, 适合传统测试或全新应用– 模块化选项, 适合划痕测试, 高温测试– 和动态测试– 强大的软件功能, 包括对试验进行实时控制, 简化了的特殊测试方法的开发Nano Indenter G200在微/纳尺度范围内的加载和位移构成精确的力学测试 应用– 半导体器件, 薄膜– 硬质涂层, DLC薄膜– 复合材料, 光纤, 聚合物材料– 金属材料, 陶瓷材料– 无铅焊料– 生物材料, 生物及仿生组织等等先进的设计所有的纳米压痕试验都取决于精确的加载和位移数据，要求对加载到样品上的 载荷有精确的控制。KT最新的第五代 G200 型纳米压痕仪采用电磁驱动的载荷装置，从而保证测量的精确度，独特的设计避免了横向位移的影响。 KT最新的第五代 G200 型纳米压痕仪的杰出设计带来很多的便利性，包括方便的测试到整个样品台，精确的样品定位，方便的确定样品位置和测试区域，简 便的样品高度调整，以及快速的测试报告输出。模块化的控制器设计为今后的 升级带来极大的方便。 此外，最新的第五代 G200 型纳米压痕仪完全符合各种国际标准，保证了数据的完整性。客户可以通过每个力学传感器自主设计试验，在任何时候对其进行切换，同时整个设备占地面积小，适合各种实验室环境。KLA-Tencor技术顾问服务KT拥有一支经验丰富的技术支持和服务工程师团队，可针对客户的 特殊应用与测试需求提供定制化的技术顾问服务。 经过超过 35 年的发展，NanoSuite 已经成为业内公认的界面友好、操作简便、功能齐全的数据采集和处理软件包，NanoSuite 不仅可以自动测试，也可以使用户利用网络远程遥控进行实验控制，NanoSuite 不仅能够做到压入过程中硬度和弹性模量等力学性能的实时计算和显示，同时允许用户根据自 己的研究需求以及提出的新模型随时添加新的软件通道，此外，根据实验参 量的变化快慢能够自动调整数据的采集速率，实现了智能化的数据采集功 能，从而既获得您真正需要的数据，又可避免不必要的垃圾数据。增强的载荷加载系统新一代 Nano Indenter G200 系列纳米压痕仪是具有从纳牛到牛顿最为完整的加载力范围，并且不同的加载装置可自动软件切换，整个测试流程都是全 自动的，极大的提高了测试数据的可靠性和可重复性，避免了可能的人为因 素的影响，确保每个测试都是合理、一致、精确。标准的加载装置Nano Indenter G200 纳米压痕仪标准配置是 XP 加载系统 (最大为500mN)， 位移分辨率 0.01纳米，最大压入深度 500 微米,该装置可应用到所有的测试功能。压头更换轻松完成，非常好的机架刚度极大的减少了系统对测试的影响。高精度加载装置DCM II 是高分辨的纳米纳牛力加载模块，它既可以单独工作，也可以作为一个附件与Nano Indenter G200 协同工作。由于其惯性质量很低，使得纳米压痕中的初始表面的选取更加灵敏、精确， DCM II 在超低载荷下的纳米压痕测试具有极高的精确度和可重复性，由于它自身的空载共振频率远高于一般建筑物的振动频率，这就使得一般的环境振动对它几乎没有影响，DCM II 具有很宽的动态频率范围 (0.1 Hz 到 300 Hz)，所有这些特点使得 DCM II 可以提供同类设备不可比拟的高信噪比和高可靠性的试验数据，例如右图所示的蓝宝石上三个纳米深度的压痕测试，在几个纳米的压痕深度范围内获得了非常可靠的弹性模量。大载荷加载装置Nano Indenter G200的大载荷加载选件，大大强化了 G200 系列纳米压痕仪的应用范围。这个选件可以用于标准的 XP 加载模块，将 G200 型纳米压痕仪的加载能力扩展至 10N，可对陶瓷、金属块材和复合材料进行力学表征。大载荷选件的巧妙设计，使得 G200 既避免了在低载荷的情况下牺牲仪器的载荷和位移精度，同时又保证了用户在需要大加载力的测试时，通过鼠标操作就可以在测试实验中进行无缝加载装置切换。

泽攸科技 PicoFemto系列扫描电子显微镜纳米探针台实现了三维空间上的准确定位，具有小尺寸大行程、高定位精度、操作简单、能在真空下使用等优点，使用于在SEM真空腔体内完成各种纳米精度运动操作及物性测量。PicoFemto 系列扫描电子显微镜 纳米探针台 基于压电陶瓷驱动技术，运动无需润滑，兼容扫描电镜真空环境，并可在多种温度范围内工作；步进和扫描双模式工作，在宏观行程范围内达到亚纳米分辨率的定位。三轴探针台由XYZ三个单轴运动台组合而成。一个SEM腔体内可安装多个三轴探针台。平台上可安装电学探针、光纤探针、纳米镊子、金刚石纳米力压头、显微注射器等各类操纵和测量头，实现微纳操纵和测量的目的。纳米探针台-技术指标（单个三轴探针台）运动指标尺寸参数1. X轴移动行程：±10mm；1. 长/宽/高: 48.6mm/33.2mm/43.6mm2. Y轴移动行程：±10mm；2. 重量：225g3. Z轴移动行程：±10mm；4. 运动速度：0-3mm/s；5. 细调分辨率：0.5nm 纳米探针台-产品选型泽攸科技提供适配Thermofisher/FEI、JEOL、ZEISS、Tescan及ZEPTOOLS等多种扫描电子显微镜型号的纳米探针台，支持定制。 安徽泽攸科技有限公司是纳米探针台生产厂家，关于扫描电镜原位样品台价格请咨询(微信同号)原文：安徽泽攸科技有限公司，是一家具有完全自主知识产权的先进装备制造公司。公司集研发、生产和销售业务于一体，向客户提供原位电镜解决方案、扫描电子显微镜等设备，立志成为具有国际先进水平的电子显微镜及附件制造商。 　　公司有精通机械、光学、超高真空、电子技术、微纳加工技术、软件技术的团队，我们为纳米科学的研究提供的设备。公司团队于20世纪90年代投入电镜及相关附件研发中，现有两个系列核心产品： 　　　 （1）PicoFemto系列原位TEM/SEM测量系统； 　　　 （2）ZEM15台式扫描电子显微镜。 　　　 PicoFemto系列原位TEM/SEM测量系统自问世以来，获得了国内外研究者的高度关注，并且已外销至澳洲、美国、欧洲等地。我们协助用户做出大量研究成果，相关成果发表在Nature及其子刊/JACS/AM/Nano. Lett./Joule/Nano. Energy/APL/Angewandte/Inorg. Chem.等高水平刊物上。 目前在国内使用我公司产品的课题组/实验平台多达八十余个，遍布五十余所大学/研究机构，包括中科院过程所、北京大学、清华大学、浙江大学、中科院硅酸盐研究所、厦门大学、电子科大、苏州大学、西安交通大学、武汉理工大学、上海大学、中科院大连化物所等等。国外用户包括澳洲昆士兰科技大学、英国利物浦大学、美国休斯顿大学、美国莱斯大学等。安徽泽攸科技有限公司为您提供PicoFemto扫描电镜原位高温拉伸台的参数、价格、型号、原理等信息，PicoFemto扫描电镜原位高温拉伸台产地为安徽、品牌为泽攸科技，型号为高温拉伸台，价格为面议，更多相关信息可来电咨询，公司客服电话7*24小时为您服务

小型科研型便携式显微拉曼光谱仪产品介绍　　PERS-SR532Pro小型便携科研型拉曼光谱仪是为满足现场快速检测科研检测需求，仪器结合显微镜，具备对微小区域实时成像和采集该区域物体拉曼光谱的能力，配备可视化十寸大屏幕，具有简单、精准、高效、便携特点，可第一时间携至现场保障检测需求。仪器内置可充电锂电池，无需外接电源，可连续在现场续航八小时以上。应用深制冷的检测仪（可至-60℃），保证了超强的灵敏度。在Du品、刑侦痕量、文物修复、食药分析、材料、医疗癌症等领域广泛应用。小型科研型便携式显微拉曼光谱仪产品特点★ 用一体式设计，使现场检测具备实验室级别运用★ 深制冷可至-60℃★ 一键采集、快速无损检测，无需直接接触样品，可透过玻璃、塑封袋、饮料瓶等透明、半透明容器检测；★ 10寸大屏幕，可视化现场分析；★ 分辨率高，重现率高，更容易提取特征峰；★ 多种测量模式，自动模式和专家模式等；★ 内置锂电池，使运用场合更加灵活；★ 标配显微镜，满足微小物体拉曼定位检测；★ 配合自主研发多种规格增强试剂，可满足不同结构物质检测。小型科研型便携式显微拉曼光谱仪产品参数　　　　厦门市普识纳米科技有限公司是由国家科技部投资、厦门市政府及厦门大学国际领先的拉曼光谱研究团队创立的国家高新技术企业，是十二五国家重大科学仪器开发专项“等离激元增强拉曼光谱仪器研发与应用（Pers）”技术的唯一产业化单位。　　☆ 荣获国家科学技术奖　　☆ 国家《拉曼光谱仪》标准起草单位——唯一企业单位　　☆ 中科院院士,国家杰青,长江学者领衔研发团队

压电直线纳米位移台 Z轴扫描台,得益于特殊的结构设计，卓聚科技的Z轴扫描台，提供约等于5nm的粗调步进。产品支持真空，低温等应用。Z轴扫描台尺寸参数中间位置外形尺寸（长*宽*高）45.6*44.0*24.6mm样品台面平面度5 μm总重量78g运动参数Z轴行程±1.0mm粗调步进5~200nm细调行程300nm细调步进（理论值）0.005nm闭环运动分辨率2nm负载竖直方向负载10N操作环境闭环（开环）操作温度-20~80（-269~80）℃是否适用真空是/以上就是东莞市卓聚科技有限公司提供的压电直线纳米位移台 Z轴扫描台的介绍，了解更多直接咨询：原文： 随着微电子、纳米科技和人工智能等领域的进一步发展，精密定位不仅在实验室用途广泛，工业界的应用也越来越多。该团队在以往研究基础上，发展出一系列具有自主知识产权的超精密定位产品，填补了国产空白。一个火柴盒大小、外壳包覆金属的小方块，通过电压控制能够实现纳米级别的精密位移，可以用于对精密度要求超.高的科学实验、精密制造和半导体工业等领域。日前，在松山湖材料实验室高.端科研设备产业化团队的实验室内，团队负责人许智展示了该团队拥有核心技术的压电驱动纳米位移台。 安徽泽攸科技有限公司为您提供压电旋转纳米位移台RF-5950A的参数、价格、型号、原理等信息，压电旋转纳米位移台RF-5950A产地为安徽、品牌为泽攸科技，型号为旋转纳米位移台，价格为面议，更多相关信息可来电咨询，公司客服电话7*24小时为您服务

生命科学全自动低温中药打粉机真超细海璐智能纳米粉碎机厂家供货智能制造：全自动纳米粉碎机 精密美观执行规定：GB4706.1 GB4706.30设备类型：高速气流粉碎机产品特点：低温 超细 食品级 全自动产品型号：CN65639 2019-2039产品材质：SUS304不锈钢 净重2690g产品功率：300W 电压110V/220V电机转速：28000r/min 产能＞400g/次入料干燥：＞99% 不含油不含胶 硬度＜46HRC出料粒度：3层机智产600目至20000目自动清理：入新料前掀盖 开机 瞬间自动清理干净操作提示：亲 请开机时注意离手产品质保：按说明书使用免工费维护10年用户体验：按说明书使用2层机600目3层机2万目4层机26万目5层机40万目(12纳米)产品祝福语：全自动智能纳米粉碎机的研发成功，是人类品质生活的源泉。将为人类生活提供更佳的享受与体验，给予人类思维方式的更新以及生活方式的现代化。全自动智能纳米粉碎机，助予科研更成功，助予男性更健壮、助予女性更美丽、助予长辈更幸福、助予孩童更聪明。全自动智能纳米粉碎机，助于您关爱生命，健康幸福！

卓聚科技 什么是压电多轴纳米位移台？压电多轴纳米位移台是多个纳米位移平台组合而成的多轴运动和定位产品，包括2轴，3轴，4轴，5轴等，形式多样，可根据需要定制。 压电多轴纳米位移台适用于物理科学，工业，半导体等领域，多轴纳米位移台，分辨率高，行程大，操作简单，定位准确，能在真空下使用等优点。 点击图片了解压电纳米位移台 随着微电子、纳米科技和人工智能等领域的进一步发展，精密定位不仅在实验室用途广泛，工业界的应用也越来越多。卓聚科技在以往研究基础上，发展出一系列具有自主知识产权的超精密定位产品，填补了国产空白。 如果您的实验对精密位移要求高，可以联系卓聚科技定制高精密压电纳米位移台，欢迎您咨询。原文： 一个火柴盒大小、外壳包覆金属的小方块，通过电压控制能够实现纳米级别的精密位移，可以用于对精密度要求超.高的科学实验、精密制造和半导体工业等领域。日前，在松山湖材料实验室高.端科研设备产业化团队的实验室内，团队负责人许智展示了该团队拥有核心技术的压电驱动纳米位移台。

压电直线纳米位移台ML-92A 大行程直线位移台，不仅拥有紧凑的安装尺寸，同时还兼具低温真空等应用环境。是小空间内大行程高精度的定位的优先选择产品。 压电直线纳米位移台ML-92A尺寸参数外形尺寸（长*宽*高）123*28*15.5mm台面平面度10 μm总重量190g运动参数行程±46mm运动速度上限3mm/s材料机身铝合金/驱动PZT压电陶瓷/驱动机构铍青铜/导线屏蔽线，铜线/运动控制闭环位置传感器分辨率2nm开环运动分辨率0.05nm负载垂直运动方向负载20N沿运动方向负载4N操作环境操作温度0~60℃操作湿度温度达到40℃时，相对湿度95%。（非冷凝）/是否适用真空是其它控制类型开环/闭环/驱动电压上限125V以上就是东莞市卓聚科技有限公司提供的压电直线纳米位移台ML-92A的介绍，了解更多直接咨询：原文： 随着微电子、纳米科技和人工智能等领域的进一步发展，精密定位不仅在实验室用途广泛，工业界的应用也越来越多。该团队在以往研究基础上，发展出一系列具有自主知识产权的超精密定位产品，填补了国产空白。一个火柴盒大小、外壳包覆金属的小方块，通过电压控制能够实现纳米级别的精密位移，可以用于对精密度要求超.高的科学实验、精密制造和半导体工业等领域。日前，在松山湖材料实验室高.端科研设备产业化团队的实验室内，团队负责人许智展示了该团队拥有核心技术的压电驱动纳米位移台。安徽泽攸科技有限公司为您提供压电旋转纳米位移台RF-5950A的参数、价格、型号、原理等信息，压电旋转纳米位移台RF-5950A产地为安徽、品牌为泽攸科技，型号为旋转纳米位移台，价格为面议，更多相关信息可来电咨询，公司客服电话7*24小时为您服务

PDMS系列压电摩擦纳米发电机测试机 方案简介：王中林院士在纳米科学与能源技术领域有着高深的造诣，其所提出的纳米发电机方向，为不少高校材料学院的研究方向之一。但是由于此类材料，多为高阻材料，其对测试的仪器仪表有了更高的要求。6514和6517B以其高达200TΩ的源内阻，以及pA至mA级别的高精度电流量程，成为了纳米发电机电压，电流测试的不二之选。 材料介绍：纳米发电机，是基于规则的氧化锌纳米线，在纳米范围内将机械能转换成电能，是较小的发电机。目前纳米发电机分为三类：压电纳米发电机；摩擦纳米发电机；热释电纳米发电机，一般应用于生物医学，无线通信，无线传感等领域。PDMS系列压电摩擦纳米发电机测试机主要技术参数1.采集软件功能:软件可快速采集电流、电压、电阻、电荷随时间变化曲线,V-T, I-T,R-T,Q-T曲线。软件可设置静电计的量程范围、对静电计进行零点校正、设置静电计NPLC采样速度。可连续可调设置采集卡的采集速度,最大可达50k/s，可设置记录时间,在测试的过程中实时绘制数据曲线，数据自动保存、数据可用Excel、记事本、Origin打开并分析。包含采集卡1个、转接头适配器1个及USB通信电缆1条，RS232通信电缆1条、低噪声3同轴测试电缆1条2.静电计技术参数： 2.1输入阻抗：200TΩ 2.2电压量程：10µ V-200V 2.3电流量程：50pA-20mA2.4电阻量程：10mΩ-200GΩ 2.5电荷量程：20nC-20µ C 3.直线电机技术参数3.1有效行程：360mm 3.2最佳行程：280mm 3.3峰值推力：163N 3.4持续推力：29N3.5持续推力（风冷）：54N 3.6力常数：20.4N/A3.7最大电流@72VDC：8A 3.8最大电流@48VDC：6.3A 3.9最大速度@72VDC：3.2m/s 3.10最大速度@48VDC：2.2m/s3.11配置驱动软件1套3.12光学面包板1套 3.13控电柜1个3.14剪式升降台2个3.15 TENG 直角架与转接板1板 4.测力计技术参数4.1拉压力测量:501bF/800ozF/25kgF/25000gF/250N4.2精度：±0.1%FS4.3分辨率：0.00lbF/0.2ozF/0.005kgF/5gF/0.05N 4.4测量单位：lbF ozF kgF gF N4.5输出：RS232 digiatic USB analogue4.6可存储测量值：1000 个

压电直线纳米位移台ML-23A，大行程直线位移台，不仅拥有紧凑的安装尺寸，同时还兼具低温真空等应用环境。是小空间内大行程高精度的定位的优先选择产品。 尺寸参数外形尺寸（长*宽*高）43.4*20.0*12.8mm台面平面度10 μm总重量42g材料机身铝合金/驱动PZT压电陶瓷/驱动机构铍青铜/导线屏蔽线，铜线/粗调模式运动范围±11.5mm运动步进50~2000nm速度上限3mm/s细调模式细调步进0.05nm细调范围3000nm闭环运动分辨率20nm负载垂直运动方向负载20N沿运动方向负载4N操作环境操作温度-20~80℃是否适用真空是/其它控制类型开环/闭环/运动分辨率0.05nm驱动电压上限125V以上就是东莞市卓聚科技有限公司提供的压电直线纳米位移台ML-23A的介绍，了解更多直接咨询：原文： 随着微电子、纳米科技和人工智能等领域的进一步发展，精密定位不仅在实验室用途广泛，工业界的应用也越来越多。该团队在以往研究基础上，发展出一系列具有自主知识产权的超精密定位产品，填补了国产空白。一个火柴盒大小、外壳包覆金属的小方块，通过电压控制能够实现纳米级别的精密位移，可以用于对精密度要求超.高的科学实验、精密制造和半导体工业等领域。日前，在松山湖材料实验室高.端科研设备产业化团队的实验室内，团队负责人许智展示了该团队拥有核心技术的压电驱动纳米位移台。 安徽泽攸科技有限公司为您提供压电旋转纳米位移台RF-5950A的参数、价格、型号、原理等信息，压电旋转纳米位移台RF-5950A产地为安徽、品牌为泽攸科技，型号为旋转纳米位移台，价格为面议，更多相关信息可来电咨询，公司客服电话7*24小时为您服务

压电直线纳米位移台ML-15A，大行程直线位移台，不仅拥有紧凑的安装尺寸，同时还兼具低温真空等应用环境。 尺寸参数外形尺寸（长*宽*高）33.4*20*12.8mm台面平面度10 μm总重量30g材料机身铝合金/驱动PZT压电陶瓷/驱动机构铍青铜/导线屏蔽线，铜线/粗调模式运动范围±7.5mm运动步进50~2000nm速度上限3mm/s细调模式细调步进0.05nm细调范围3000nm闭环运动分辨率20nm负载垂直运动方向负载20N沿运动方向负载4N操作环境操作温度-20~80℃是否适用真空是/其它控制类型开环/闭环/运动分辨率0.05nm驱动电压上限125V 以上就是东莞市卓聚科技有限公司提供的压电直线纳米位移台ML-15A的介绍，了解更多直接咨询：原文： 随着微电子、纳米科技和人工智能等领域的进一步发展，精密定位不仅在实验室用途广泛，工业界的应用也越来越多。该团队在以往研究基础上，发展出一系列具有自主知识产权的超精密定位产品，填补了国产空白。一个火柴盒大小、外壳包覆金属的小方块，通过电压控制能够实现纳米级别的精密位移，可以用于对精密度要求超.高的科学实验、精密制造和半导体工业等领域。日前，在松山湖材料实验室高.端科研设备产业化团队的实验室内，团队负责人许智展示了该团队拥有核心技术的压电驱动纳米位移台。安徽泽攸科技有限公司为您提供压电旋转纳米位移台RF-5950A的参数、价格、型号、原理等信息，压电旋转纳米位移台RF-5950A产地为安徽、品牌为泽攸科技，型号为旋转纳米位移台，价格为面议，更多相关信息可来电咨询，公司客服电话7*24小时为您服务

卓聚科技 压电旋转纳米位移台RF-5950A 可在-269℃的低温下进行开环使用。设备具备合适的安装尺寸。得益于更跟均衡的尺寸设计，设备具有更大的负载能力。设备支持真空环境。并且支持定制化的开孔位置，满足不同的安装场景。压电陶瓷的驱动模块使用，使设备具有360°全行程的高精度定位及高分辨率。 压电旋转纳米位移台RF-5950A尺寸参数外形尺寸59.0*59.0*21.5mm台面平面度10 μm总重量190g材料机身铝合金/驱动PZT压电陶瓷/驱动机构铍青铜/导线屏蔽线，铜线/粗调模式行程360°无限制°回转直径50mm运动步进0.1~7.21m°速度上限0.132rad/s细调模式细调步进0.16μ°细调范围10.8m°闭环运动分辨率0.33m°负载垂直运动方向负载10N负载扭矩160N/mm操作环境闭环（开环）操作温度-20~80（-269~80）℃是否适用真空是/其它控制类型开环/闭环/运动分辨率0.16μ°驱动电压上限125V以上就是东莞市卓聚科技有限公司提供的压电旋转纳米位移台RF-5950A的介绍，了解更多直接咨询：原文： 随着微电子、纳米科技和人工智能等领域的进一步发展，精密定位不仅在实验室用途广泛，工业界的应用也越来越多。该团队在以往研究基础上，发展出一系列具有自主知识产权的超精密定位产品，填补了国产空白。一个火柴盒大小、外壳包覆金属的小方块，通过电压控制能够实现纳米级别的精密位移，可以用于对精密度要求超.高的科学实验、精密制造和半导体工业等领域。日前，在松山湖材料实验室高.端科研设备产业化团队的实验室内，团队负责人许智展示了该团队拥有核心技术的压电驱动纳米位移台。

卓聚科技 压电旋转纳米位移台RF-33A 专为紧凑安装空间而设计的小型转台。其可应用与真空和低温的特性，有效的保证了更多的应用场景。360°无死角行程，及高分辨率和精调步进是该旋转台的核心竞争力。压电旋转纳米位移台RF-33A 尺寸参数外形尺寸Φ33.0*14.2mm台面平面度10 μm总重量30g材料机身铝合金/驱动PZT压电陶瓷/驱动机构铍青铜/导线屏蔽线，铜线/粗调模式行程360°无限制°回转直径33mm运动步进0.33~23m°速度上限0.419（24）rad/s（°/s）细调模式细调步进0.52μ°细调范围34m°闭环运动分辨率0.33m°负载垂直运动方向负载10N负载扭矩50N/mm操作环境闭环（开环）操作温度-20~80（-269~80）℃是否适用真空是/其它控制类型开环/闭环/运动分辨率0.52μ°驱动电压上限125V以上就是东莞市卓聚科技有限公司提供的压电旋转纳米位移台RF-33A的介绍，了解更多直接咨询：原文： 随着微电子、纳米科技和人工智能等领域的进一步发展，精密定位不仅在实验室用途广泛，工业界的应用也越来越多。该团队在以往研究基础上，发展出一系列具有自主知识产权的超精密定位产品，填补了国产空白。一个火柴盒大小、外壳包覆金属的小方块，通过电压控制能够实现纳米级别的精密位移，可以用于对精密度要求超.高的科学实验、精密制造和半导体工业等领域。日前，在松山湖材料实验室高.端科研设备产业化团队的实验室内，团队负责人许智展示了该团队拥有核心技术的压电驱动纳米位移台。

一.机型称号：纳米粒子颗粒微粒研磨混合机，药物研磨混合机，毫微米研磨混合机，超飞快研磨混合机，水管式研磨混合机，3级研磨混合机，高剪切研磨混合机。二.研磨机：机型19款，处理量50到8*10000KG/小时，旋转1100到1.4*10000转/分钟，线速度23到44m/秒，电滚功耗1.5到160kW，磨头胶体磨&锥体磨。三.研磨分散机：机型6款，处理量50到6*1000KG/小时，旋转1100到9*1000转/分钟，线速度23m/秒，电滚功耗2.2到150kW，磨头胶体磨。四.小型分散乳化机：机型30款，处理量0.2克到10KG/小时，旋转50到3*10000转/分钟，线速度3到33m/秒，电滚功耗0.3到0.8kW。五.真空分散乳化机：机型32款，处理量5到2*10000KG/小时，旋转14到1.4*10000转/分钟，线速度44m/秒，电滚功耗0.18到120kW。六.均质匀浆机：机型4款，处理量0.2到150克/小时，旋转3500到8*1000转/分钟，线速度3到10m/秒，电滚功耗0.145到0.18kW。七.多效用分散乳化均质机：机型27款，处理量150到12.5*10000KG/小时，旋转960到1.4*10000转/分钟，线速度10到44m/秒，电滚功耗1.5到160kW。八.混合机：机型I6款，处理量300到12.5*10000KG/小时，旋转1100到9*1000转/分钟，线速度20到23m/秒，电滚功耗1.5到160kW。九.实用物料种类：胶粘溶胶，巨粒子固态液体悬空液乳剂，不包溶等。十.终级粒径：主腔内有叁组定转子，每组粗齿、中齿、细齿、超细齿。调动定转子间隙，加工后地终级粒径在10微纳米之下。十一.胚料配件：百分之八十以上进ロ海内外公司。十二.技艺出处：引荐德国技艺，立发明加工，备有专利。十三.工作方式：有在线式，批次式，内外循环式，水管式，可倒式，若干效用式。十四.机型合成：靠预加工锅、搅动锅、泵、液压系统、倒料系统、电力调动系统、主腔等部件合成。十五.智力化：CIP冲洗系统，液压升降松盖，包括配料给料吸料安装。十六.磨头好处：研磨头可调5款模版，6款分散头，20多款工作头。十七.锥磨好处：锥磨转子外层包含金属碳化物跟不一样粒子地陶瓷镀层等高上材料，提防毁伤腐蚀。十八.机型材料：统统接碰物料地材料皆是进口耐酸钢，主腔跟管路内乃亮面抛光三百EMSH（卫生级），无死角。十九.密封好处：博格曼双机械密封，液压平稳系统（可以担当16atm重压），软密封。二十.搅动方式：可挑刮壁式/锚固式/融解式/叶面式。二十一.机型好处：机型采选上层同轴三重装搅动器，循环管路，出水阀。二十二.操控箱好处：不但可以操控电滚旋转，摄氏度降温升温（经历电能，热汽，油水循环，可以担当-40到250摄氏度），重压，PH度，粘性。且可以设定不一样效用模版，呈现相称地个个参数，可以线性扩大量产。?.可抉选：参观窗，硅氟酸玻璃参观，电导率计，二层绝缘保护，稳定夹，作业台，底盘，图案解析多功用显微硬度仪（测量界线1—4千维氏硬度），管路式测量电炉（测量界线zui高1350度），传送泵/转子泵/气动隔膜泵/锚杆泵/离心泵（产量850—4.3万升/H），反应翻搅单罐/多罐（500—3千升/H），反渗入/全自动纯净装备（0.5—3千升/H)，超氧产生器，过流式紫外光灭菌器等。?.别的特长：整体立方小，电耗低，分贝低，可每日不断出产。?.访客垂访：按照访客实况必要恰当抉选！别的可订制非标和生产线！假若是非常情况，比方超温，超压，易烧易炸，侵蚀性，可产品升级！?.物料测量：得到访客物料后当即投入测量，瞧可否到达要求&答复测量进程&成果。?.方案价格：断定好产品功用后当即策画方案，包含2D部署图，总安装出产线表示图，立体成果图，&呈上本该得价格单子！?.结语：我们是出产厂家，详尽信息可以企业查看，因此分外恭候访客去垂访&更深一步长谈！以上信息不容坊造，非常道谢！扩展内容可不看：纳米颗粒是指粒径在1-100nm之间的颗粒（纳米颗粒也称为超细颗粒）。 属于胶体粒径范畴。它们处于原子团与宏观物体之间、微观系统与宏观系统之间的过渡地带，是由少量原子或分子组成的群，既不是典型的微观系统，也不是典型的宏观系统。1959 年末，诺贝尔奖获得者 Richard Feynman 在一次演讲中提出了纳米的概念，但对纳米粒子真正有效的研究始于 1960 年代。 1963年Uyeda等人采用气体冷凝法制备金纳米粒子。1984年以来，德国科学家格莱特等人通过惰性气体冷凝法成功获得铁纳米粒子，标志着纳米科学技术的正式诞生。 近十年来，越来越多的科学家致力于纳米材料的相关研究，在制备、性能和应用等方面取得了丰硕的研究成果。可以预见，纳米粒子应该具有一些新颖的物理和化学性质。 纳米粒子与宏观物体的区别在于其表面积占很大比例，表面原子既没有长序也没有短序无定形层。可以认为，纳米粒子表面的原子状态更接近于气态，而粒子内部的原子可能呈有序排列。即便如此，由于粒径小，表面曲率大，内部会产生很高的Gilibs压力，这会导致内部结构发生一定的变形。 纳米粒子的这种结构特征使其具有以下四种作用：音量效果，表面效果，量子尺寸效应，宏观量子隧穿效应。

卓聚科技 压电直线纳米位移台MF30-20A，大行程直线位移台，不仅拥有紧凑的安装尺寸，同时还兼具低温真空等应用环境。 尺寸参数外形尺寸（长*宽*高）33.2*30*10.5mm台面平面度10 μm总重量33g材料机身铝合金/驱动PZT压电陶瓷/驱动机构铍青铜/导线屏蔽线，铜线/粗调模式运动范围±10mm运动步进50~2000nm速度上限3mm/s细调模式细调步进0.05nm细调范围3000nm闭环运动分辨率20nm负载垂直运动方向负载20N沿运动方向负载4N操作环境操作温度-20~80℃是否适用真空是/其它控制类型开环/闭环/运动分辨率0.05nm驱动电压上限125V以上就是东莞市卓聚科技有限公司提供的压电直线纳米位移台MF30-20A的介绍，了解更多直接咨询：原文：随着微电子、纳米科技和人工智能等领域的进一步发展，精密定位不仅在实验室用途广泛，工业界的应用也越来越多。该团队在以往研究基础上，发展出一系列具有自主知识产权的超精密定位产品，填补了国产空白。一个火柴盒大小、外壳包覆金属的小方块，通过电压控制能够实现纳米级别的精密位移，可以用于对精密度要求超.高的科学实验、精密制造和半导体工业等领域。日前，在松山湖材料实验室高.端科研设备产业化团队的实验室内，团队负责人许智展示了该团队拥有核心技术的压电驱动纳米位移台。

多功能台式　微米和纳米加工制造仪 适合各式纳米材料及薄膜的表面粗糙度或表面形貌量测。● 无需抽真空及快速的量测取得量测图像。● 直觉性的操作接口。● 一键扫描的快速功能。ACST为科研人员和教育工作者带来了一种先进的、多功能的台式微米和纳米制造的仪器，可以作为研究和教育工具。不仅帮助科研人员拓展他们现有的工作向不同的领域发展，而且还可以帮助教育工作者打夯实基础，教育学生掌握工业用的微米和纳米加工制造技术。COSMOS nanoFAB是一个加工制造仪器，这对我们培养纳米科学家的教育计划至关重要，也为学生在日益增长的微制造和纳米技术领域提供丰富的就业机会。 COSMOS nanoFAB采用了一种非常成熟的设计，充分考虑到其性能、成本和多样性。模块化设计理念允许在不同的技术中使用通用型的机械元件/电子元件，从而保证了使用方便和成本低廉。该仪器完全有能力成为快速j加工或新研究的实验验证工具。在教育领域，COSMOS nanoFAB可应用于表面化学、材料科学、工业应用、电子元件和半导体器件制造、生物分子固化和生物传感应用等领域的教学和应用。可被应用于高解析影像和测量需求，特别是具备次奈米级的 Z 轴分辨率。其低噪声和开回路设计于一体的扫描仪可以快速地针对样本进行扫描。独特光像散式的光路模块提供业界最小的雷射光点，让用户可运用于更小且快速的AFM 探针，COSMOS nanoFAB提供了在纳米和微米加工制造技术方面的功能，这并且在业界得到了很好的认可： ★ 紫外线光刻: 通过一系列的实验，学生们学习了紫外线光刻技术的概念；半导体行业的基本技术★ 微接触印刷（μCP）： 学生们了解这一传统简易的技术，使用有机、无机和生物材料进行纳米/微米的图案加工。★ 纳米压印加工技术（NIL）： 学生操作和实践纳米压印加工技术。业内专家认为，作为半导体行业未来的市场需求，纳米 压印加工技术（NIL）是最具前景的一项技术。 总之，COSMOS nanoFAB可以应用的领域包括：● 表面化学● 材料科学● 工业应用● 半导体器件的电子元件制造● 生物固定和生物传感应用● 直觉式的数据撷取软件 PSX 可提供用户在最基本教育训练下，即可直接操作。值得一提的是，一键扫描功能可自动地设定参数与进行扫描，用户同样能够快速获得高质量的扫描结果。PSX 内建的扫描库管理功能有效地简化扫描数据的整理，以方便用户删除或输出扫描图文件。 ● 永效性的光路校准系统---雷射点实时维持在四象限二极管中心，不须另外校正。● 一键扫描- 藉由智能预测算法，即可轻松点击按键便可进行全自动扫频、下针、做力图曲线、以及扫描样品等相关流程。 应用案例和模块信息介绍-微接触印刷（μCP）: 描述：微接触印刷(μCP)是一种非光刻技术，也是“软刻蚀技术”的前身。μCP是一种常有吸引力的、可以应用于生物技术领域的、用于微米和纳米图案/结构制备的技术。它使用弹性印章，通过将各种分子（从有机分子到大的生物物质）点印到固体基底上，以生成二维的微米和纳米结构。这项技术包括两个主要步骤：印章的制作及印刷，如图所示。包被靶标分子的弹性印章通过预施加的控制来接触基底表面，从而将靶标分子转移到基底上。不同的大小和形状的几何图形可以生成各种各样的印章，例如可以使用大的平面印章或滚动印章(类似于油漆辊)在平面和非平面表面上点印，从而轻松地对很大的区域进行图案制备。印章是由弹性体聚合物制成，如聚二甲基硅氧烷(PDMS)，聚氨酯，聚酰亚胺和树脂等等。 应用：微接触印刷是一个从下而上的加工技术,由于简单方便，高通量和成本低廉，现广泛应用于多个领域，如光学、MEMS、高密度分子电路、微流体、微阵列和生物传感器点印寡核苷酸、固定细胞来研究细胞-细胞和细胞-基底表面的相互作用、生成肽阵列研究免疫实验和生物传感器实验的蛋白质和生物配体。 我们客户还可以探索如何在大尺寸和纳米尺度上点印计算机芯片或者如何制作生物传感器。例如，在实验室里，可以使用大尺寸和纳米尺度的印章，用光刻技术制作纳米印章模板和聚合物。印章将被包被有机小分子与黄金等贵金属，然后点印在黄金薄膜的基底上，随后的是金的湿蚀刻，没有被有机分子保护的区域将被蚀刻。在这样的一个实验中，印章上的结构将被复制到基底上。 应用案例和模块信息介绍-光刻技术: 光刻技术是当今世界上最成功的精密加工技术之一。自1959年发明以来，它就是最有价值和最有利润的行业，最初是开发出来用于微电子工业（集成电路平面技术），现在也被用来制造微型器件（硅晶体平面的三维结构材料刻蚀)。从那以后，这个行业一直在广泛需求中不断发展，包括单个电路元件和整合的半导体材料，基本上所有的集成电路是用光刻技术制造的。光刻工艺概述如图所示，预先设计的图案是从光掩模（例如用电子束光刻法）传送到靶标的硅基底。该程序包括以下常用的步骤: 1、在硅片层基底上包被一层薄薄的紫外线敏感的聚合物抗蚀剂（光刻胶）（图2a，图2b）。 2、随后紫外光透过有图案的印章（图2c）进行照射，只有部分抗蚀剂暴露在紫外线下，这引起了抗蚀溶解度的变化。然后将印章放置于离样品尽可能近的地方但是不接触，如图2c所示。由于光衍射，辐射面积会增大一些，大于印章对应的开口区域（这将导致分辨率降低）。这种光刻蚀程序只能用于创建尺寸小于辐射波长的图案和器件。因此，半导体工业也开始使用更短波长的光线来做辐射。 3、紫外线曝光后，将样品浸入显影剂中，以便从显影剂中除去光刻胶暴露在光线下的地方（图2d）。 4. 硅晶片上的抗蚀图案随后被用来从裸片上蚀刻材料（将硅晶片暴露于蚀刻剂）（图2e）或沉积电路设计需要的其他材料。最后光刻胶完全脱离硅晶片（图2）。 在这四个步骤之后，抗蚀剂（光刻胶）上的图案特征被转移到硅晶片的基底上（步骤f）。整个过程可以按电路设计要求重复多次。 用途：光刻蚀是一种从上而下的制作工艺，选择光刻蚀工艺是因为它可以产生小到几十纳米的图案，并提供精确的控制形状，大小，并且制备成本非常低。 光刻技术被广泛应用于从微电子到生命科学的各个行业，在可预见的未来，它还将是微处理器、存储器和其他微电子设备信息技术的基础。此外，它还用于许多设备的制造业和小型化，从而带来了高性能、可移植性、节约时间、节省成本、节省试剂、提高生产通量、改善功耗、提高检测限度以及新功能的开发。 应用案例和模块信息介绍-纳米压印加工技术（NIL）: 描述：纳米压印加工技术（NIL）是基于一种与传统微加工有着根本区别的原理，该技术具有高通量，小于10纳米分辨率和低成本的优点，是目前其他现有刻蚀方法无法达到的。在压印过程中，图案被热敏或紫外光复制到抗蚀剂中，然后被转移到下面的基底上。在热敏纳米压印加工技术（NIL）(T-NIL)工艺中，将表面具有纳米结构的模具压入基底上铸造的薄层抗蚀剂中。抗蚀剂是一种热敏塑料，由于粘度低，在玻璃化温度（Tg）以上时容易变形。当抗蚀剂冷却到Tg以下时，模具被移除，模具的图案被复制在抗蚀剂中。在光固化纳米压印加工技术（UV- NIL）中，将模具在室温下，压入顶层的UV光刻胶中，然后紫外照射交联抗蚀剂，最后模具复制品转移到底层的抗蚀剂和基底上。 在这两个过程中，模具表面都涂上了钝化层，以防止在分离过程中抗蚀剂粘在模具上。在图案转移过程中，利用反应离子刻蚀~RIE等各向异性刻蚀工艺去除压缩区域的残余抗蚀剂，将压印中产生的厚度对比图案转移到整个抗蚀剂中。 应用：为了加快纳米结构的研究和商业化，必须有一个高通量和低成本的纳米加工技术，来实现尺寸、形状和间距完全自由化的设计。这就是为什么纳米压印会快速发展，并且它已经扩展到许多学科，如微电子学、生物学、化学、医学和信息存储。还有希望应用于光学器件、磁存储器、微电子机械系统、生物技术、微波器件的三D打印、生物技术中使用的微流控通道、存储器VRAM的环形结构、无源光学元件等。

Hummink是高精度毛细管打印(High Precision Capillary Printing)领域的独家开发者，HPCAP是针对于显示和半导体行业的一项全新的技术。Hummink公司从法国国家科学研究中心（CNRS）分离出来的研究成果， 目前Hummink已经完成了研发设备的完全，并正在与一级设备制造商进行深入讨论，以扩大技术规模，并即将达到大规模生产的能力。Hummink作为目前全球最高精度的打印工艺，主要是基于原子力显微镜（AFM）的技术原理，使用特定的微笔来替代AFM中的探针，然后通过控制频率来达到极其细微的出液，实现了高精度打印。在这种连续的震荡出液的情况下，微笔部分的毛细血管可以实现微米以内，接近百纳米级别的精度，一般在不需要额外能源供给的情况下，一些粘度大于100,000CPs的材料都可以实现沉积，该设备在基底表面具有一定的微起伏的情况下也可以实现沉积。Hummink的HPCAP（超高精度毛细打印）专利技术，同时突破了高粘度和高精度两个领域的限制，最优可以做到100纳米的精度打印，打印材料的粘度可以突破100,000CP的范围，真正意义上做到了可以打印任何场景的材料。对比于传统的喷墨打印或是其他方式的高精度打印，HPCAP的专利打印技术可以做到完全没有卫星点，HPCAP打印技术会让微笔保持在非常低的高度下，这种震荡出液的过程中不会产生额外的卫星点溅射。HPCAP技术在打印颗粒型的金属材料的情况下，通过精准地控制震荡频率来达到液滴的释放。在一些图形线路直接打印的场景、线路修补场景都可以有非常好的作用效果，直接满足按需打印的应用场景，包括多层的对位堆叠等技术。HPCAP打印技术可以轻松实现100-500纳米间距的图形打印，完成超高精度的场景应用需求。Hummink通过毛细作用打印的方式完成点经1.5um的量子点材料打印Hummink完成微结构3D打印工作，实现30微米直径的圆柱型的图形打印。

压电二维纳米位移台，XYMF-133-100A平移台实现了在XY二维空间上的准确定位，具有分辨率高，行程大（XY轴行程±50mm），带有高精度及高分辨率的位置反馈。操作简单，定位准确，能在真空下使用等优点，可应用于需要纳米精度运动操作及定位的各个领域。压电二维纳米位移台使用压电陶瓷驱动，运动无需润滑，百分百真空兼容，并可在很广的温度范围内工作。运动分辨率达到亚纳米级。步进和扫描双模式工作，并且在宏观行程范围内同样达到亚纳米分辨率的定位。支持开环闭环控制。 尺寸参数外形尺寸（长*宽*高）133.0*133.0*26.1mm台面平面度10 μm总重量653.8g运动参数X轴±50mmY轴±50mm运动速度上限3mm/s材料机身铝合金/驱动PZT压电陶瓷/驱动机构铍青铜/导线屏蔽线，铜线/运动控制闭环位置传感器分辨率2nm开环运动分辨率0.05nm负载垂直运动方向负载20N沿运动方向负载4N操作环境操作温度0~60℃操作湿度温度达到40℃时，相对湿度95%。（非冷凝）/是否适用真空是其它控制类型开环/闭环/驱动电压上限125V 以上就是东莞市卓聚科技有限公司提供的压电二维纳米位移台 XYMF-133-100A平移台的介绍，了解更多直接咨询：原文： 随着微电子、纳米科技和人工智能等领域的进一步发展，精密定位不仅在实验室用途广泛，工业界的应用也越来越多。该团队在以往研究基础上，发展出一系列具有自主知识产权的超精密定位产品，填补了国产空白。一个火柴盒大小、外壳包覆金属的小方块，通过电压控制能够实现纳米级别的精密位移，可以用于对精密度要求超.高的科学实验、精密制造和半导体工业等领域。日前，在松山湖材料实验室高.端科研设备产业化团队的实验室内，团队负责人许智展示了该团队拥有核心技术的压电驱动纳米位移台。 安徽泽攸科技有限公司为您提供压电旋转纳米位移台RF-5950A的参数、价格、型号、原理等信息，压电旋转纳米位移台RF-5950A产地为安徽、品牌为泽攸科技，型号为旋转纳米位移台，价格为面议，更多相关信息可来电咨询，公司客服电话7*24小时为您服务

压电直线纳米位移台MF30-30A，大行程直线位移台，不仅拥有紧凑的安装尺寸，同时还兼具低温真空等应用环境。 尺寸参数外形尺寸（长*宽*高）43.2*30.0*10.5mm台面平面度10 μm总重量45g材料机身铝合金/驱动PZT压电陶瓷/驱动机构铍青铜/导线屏蔽线，铜线/粗调模式运动范围±15mm运动步进50~2000nm速度上限3mm/s细调模式细调步进0.05nm细调范围3000nm闭环运动分辨率20nm负载垂直运动方向负载20N沿运动方向负载4N操作环境操作温度-20~80℃是否适用真空是/其它控制类型开环/闭环/运动分辨率0.05nm驱动电压上限125V以上就是东莞市卓聚科技有限公司提供的压电直线纳米位移台MF30-30A的介绍，了解更多直接咨询：原文： 随着微电子、纳米科技和人工智能等领域的进一步发展，精密定位不仅在实验室用途广泛，工业界的应用也越来越多。该团队在以往研究基础上，发展出一系列具有自主知识产权的超精密定位产品，填补了国产空白。一个火柴盒大小、外壳包覆金属的小方块，通过电压控制能够实现纳米级别的精密位移，可以用于对精密度要求超.高的科学实验、精密制造和半导体工业等领域。日前，在松山湖材料实验室高.端科研设备产业化团队的实验室内，团队负责人许智展示了该团队拥有核心技术的压电驱动纳米位移台。安徽泽攸科技有限公司为您提供压电旋转纳米位移台RF-5950A的参数、价格、型号、原理等信息，压电旋转纳米位移台RF-5950A产地为安徽、品牌为泽攸科技，型号为旋转纳米位移台，价格为面议，更多相关信息可来电咨询，公司客服电话7*24小时为您服务

压电直线纳米位移台MF30-40A，大行程直线位移台，不仅拥有紧凑的安装尺寸，同时还兼具低温真空等应用环境。 尺寸参数外形尺寸（长*宽*高）53.2*30*10.5mm台面平面度10 μm总重量60g材料机身铝合金/驱动PZT压电陶瓷/驱动机构铍青铜/导线屏蔽线，铜线/粗调模式运动范围±20mm运动步进50~2000nm速度上限3mm/s细调模式细调步进0.05nm细调范围3000nm闭环运动分辨率20nm负载垂直运动方向负载20N沿运动方向负载4N操作环境操作温度-20~80℃是否适用真空是/其它控制类型开环/闭环/运动分辨率0.05nm驱动电压上限125V以上就是东莞市卓聚科技有限公司提供的压电直线纳米位移台MF30-40A的介绍，了解更多直接咨询：原文： 随着微电子、纳米科技和人工智能等领域的进一步发展，精密定位不仅在实验室用途广泛，工业界的应用也越来越多。该团队在以往研究基础上，发展出一系列具有自主知识产权的超精密定位产品，填补了国产空白。 一个火柴盒大小、外壳包覆金属的小方块，通过电压控制能够实现纳米级别的精密位移，可以用于对精密度要求超.高的科学实验、精密制造和半导体工业等领域。日前，在松山湖材料实验室高.端科研设备产业化团队的实验室内，团队负责人许智展示了该团队拥有核心技术的压电驱动纳米位移台。安徽泽攸科技有限公司为您提供压电旋转纳米位移台RF-5950A的参数、价格、型号、原理等信息，压电旋转纳米位移台RF-5950A产地为安徽、品牌为泽攸科技，型号为旋转纳米位移台，价格为面议，更多相关信息可来电咨询，公司客服电话7*24小时为您服务