二次离子探针质谱

岛津原位探针离子化质谱仪DPiMS-2020 是基于岛津单四极质谱分析仪LCMS-2020同时配备探针电喷雾离子源为一体的新型质谱分析仪。该仪器通过精密的探针取样式设计在无需样品制备的情况下实现快速便捷的样品分析。技术基于探针电喷雾离子化技术及原理（PESI）适用于化工领域，食品和生物制品领域中样品无样品制备条件下的快速质谱分析。 该仪器具有多项应用优势：1) 样品直接质谱分析，简化样品制备过程；2)容易氧化或讲解的化合物快速分析，分时段实时样品成分含量监测；3) 微量样品离子化能力，有效避免高浓度样品对质谱的污染。

三重四极杆质谱仪可以用于不同领域，对于复杂基质中痕量分析物进行限定性确证和可重复性定量，如临床研究，法医毒理学，药代动力学，环境分析及食品和饮品检测等广泛领域。岛津LC-MS/MS结合了世界先进的岛津UHPLC系统的色谱分离能力，并应用岛津独有的超快速技术（UFMS技术），其中包括超快速MRM测定，MS/MS采集和超高速正负极切换，使LC-MS/MS能以超快速的性能获得大幅度的分析通量提高。在此基础上，岛津推出原位探针电喷雾离子源——PESI（Probe Electro Spray Ionization）1，可用于岛津LC-MS/MS，无需样品前处理即可实现简便、快捷的质谱分析。 PESI技术特点：1、高性能的样品原位质谱分析。2、无需直接加热，适用于热不稳定化合物分析。3、有效避免复杂基质对质谱仪的污染。 Fig. 1. PESI-MS操作流程 适用于各类样本的测定，如：1、体液，如血和尿液。2、组织切片，例如来自实验动物或食品的切片。3、植物样本，如蔬菜和水果。 应用案例：小鼠肝脏26种代谢产物（氨基酸/有机酸/糖）代谢组学分析2。在该例实验中，代谢产物（26种组分）如氨基酸，有机酸和糖的离子对参数用于小鼠肝脏的代谢组学分析。使用PESI-MS系统测定由四氯化碳诱导急性肝损伤模型组和对照组小鼠组织中的主要成分。基于牛磺酸对PCA载荷图中群组分离的显著贡献，在模型组和对照组之间观察到显著差异（Welch' t检验结果p0.001）。该差异在箱线图中得到了验证。通过本次研究发现，由CCl4诱导急性肝损伤，牛磺酸是模型组和对照组主要差异物质。 参考文献：1，Kenzo Hiraoka，Rapid Commun. Mass Spectrom. 2007 21: 3139–31442，Kei Zaitsu，Anal. Chem. 2016, 88, 3556?3561

仪器简介：EQS 是差式泵式二次离子质谱（SIMS-Secondary Ion Mass Spectrometer ‘Bolt-On’ probe），可分析来自固体样品的二次阴、阳离子和中性粒子。采用最新技术的SIMS 探针，便于连结到现有的UHV表面科学研究反应室。 技术参数：应用： 静态 /动态SIMS 一般目的的表面分析 整体的前端离子源，便于RGA和 SNMS 兼容的离子枪/ FAB 枪 成分/污染物分析 深度分析 泄漏检测 与Hiden SIMS 工作站兼容主要特点： 高灵敏度脉冲离子计数检测器，7个数量级的动态范围 SIMS 成像，分辨率在微米以下 光栅控制，增强深度分析能力 45°静电扇形分析器, 扫描能量增量 0.05 eV/ 0.25eV FWHM. 所有能量范围内，离子行程的最小扰动，及恒定离子传输 差式泵3级过滤四极杆，质量数范围至2500amu 灵敏度高 / 稳定的脉冲离子计数检测器 Penning规和互锁装置可提供过压保护 通过RS232、RS485或Ethernet LAN，软件 MASsoft控制

PHI nanoTOF3+ 特征先进的多功能TOF-SIMS具有更强大的微区分析能力，更加出色的分析精度 飞行时间二次离子质谱仪新一代 TRIFT 质量分析器，更好的质量分辨率 适用于绝缘材料的无人值守自动化多样品分析 独特的离子束技术 平行成像 MS/MS 功能，助力有机大分子结构分析 多功能选配附件TRIFT分析器适用于各种形状的样品 宽带通能量+宽立体接收角度宽带通能量、宽立体接受角-适用于各种形貌样品分析主离子束激发的二次离子会以不同角度和能量从样品表面飞 出，特别是对于有高度差异和形貌不规则的样品，即使相同 的二次离子在分析器中会存在飞行时间上的差异，因此导致 质量分辨率变差，并对谱峰形状和背景产生影响。 TRIFT质量分析器可以同时对二次离子发射角度和能量进行 校正， 保证相同二次离子的飞行时间一致， 所以TRIFT兼顾 了高质量分辨率和高检测灵敏度优势，而且对于不平整样品 的成像可以减少阴影效应。 实现高精度分析的一次离子设备先进的离子束技术实现更高质量分辨PHI nanoTOF3+ 能够提供高质量分辨和高空间分辨的TOF-SIMS分析:在高质量分辨模式下，其空间分辨率优于500nm 在高空间分辨模式下，其空间分辨模式优于50 nm。通过结合强度高离子源、高精度脉冲组件和高分辨率质量分析器，可以实现低噪声、高灵敏度和高质量分辨率的测量 在这两种模式下，只需几分钟的测试时间，均可完成采谱分析。前所未见的无人值守TOF-SIMS自动化多样品分析 -适用于绝缘材料PHI nanoTOF3+搭载全新开发的自动化多样品分析功能，程序可根据 样品导电性自动调整分析时所需的高度与样品台偏压， 可以对包括 绝缘材料在内的各类样品进行无人值守自动化TOF-SIMS分析。 整个分析过程非常简单， 只需三步即可对多个样品进行表面或深度 分析 ：①在进样室拍摄样品台照片 ；②在进样室拍摄的照片上指定 分析点 ；③按下分析键，设备自动开始分析。 过去，必须有熟练的操作人员专门操作仪器才能进行TOF-SIMS分析 ； 现在，无论操作人员是否熟练，都可以获得高质量的分析数据标配自动化传样系统PHI nanoTOF3+配置了在XPS上表现优异的全自动样品传送系 统 ：样品尺寸可达100mmx100 mm， 而且分析室标配内置 样品托停放装置 ；结合分析序列编辑器（Queue Editor），可以实现对大量样品的全自动连续测试。采用新开发的脉冲氲离子设备获得证书的自动荷电双束中和技术TOF-SIMS测试的大部分样品为绝缘样品，而绝缘样品表面 通常有荷电效应。PHI nanoTOF3+ 采用自动荷电双束中和 技术，通过同时发射低能量电子束和低能量氲离子束，可实现对任何类型和各种形貌的绝缘材料的真正自动荷电中和，无需额外的人为操作。 *需要选配Ar离子设备 远程访问实现远程控制仪器PHI nanoTOF3+允许通过局域网或互联网访问仪器。 只需将样品台放入进样室， 就可以对进样、换样、测试和分析等所有操作进行远程控制。我们的专业人员可以对仪器进行远程诊断。*如需远程诊断，请联系我们的客户服务人员。 从截面加工到截面分析： 只需一个离子源即可完成标配离子设备FIB(Focused lon Beam)功能在PHI nanoTOF3+中， 液态金属离子具设备备 FIB功能， 可以使用单个离子设备对样品进行 横截面加工和横截面TOF-SIMS分析。通过操 作计算机， 可以快速轻松地完成从FIB处理 到TOF-SIMS分析的全过程。此外，可在冷却 条件下进行FIB加工。 在选配Ga源进行FIB加工时，可以获得FIB加 工区域的3D影像 ；Ga源还可以作为第二分析 源进行TOF-SIMS分析。 通过平行成像MS/MS进行 分子结构分析[选配]MS/MS平行成像 同时采集MS1/MS2数据在TOF-SIMS测试中，MS1质量分析分析器接收从样品表面 产生的所有二次离子碎片，对于质量数接近的大分子离子， MS1谱图难以区分。通过安装串联质谱MS2，对于特定离子 进行碰撞诱导解离生产特征离子碎片，MS2谱图可以实现 对分子结构的进一步鉴定。PHI nanoTOF3+具备串联质谱MS/MS平行成像功能， 可以同时获取分析区域的MS1和MS2数据，为有机大分子结构解析提供了强有力的工具。 多样化配置充分发挥TOF-SIMS潜力可拆卸手套箱：可安装在样品导入室可以选配直接连接到样品进样室的可拆卸手套箱。 锂离子电池和有机 OLED等容易与大气发生反应的样品可以直接安装在样品台上。此外，在 冷却分析后更换样品时，可以防止样品表面结霜。 氩团簇离子源（Ar-GCIB）：有机材料深度剖析使用氩团簇离子源(Ar-GCIB)能够有效减少溅射过程中对有机材料的破坏，从而在刻蚀过程中保留有机大分子结构信息。Cs源和Ar/O2源：无机材料深度剖析可根据测试需求选择不同的离子源提高二次离子产额，使用Cs源可增强负离子产额 ；O2源可增强正 离子产额

MAXIM 二次离子溅射中性粒子质谱仪可分析二次阴、阳离子动态和中性粒子，所具备的的30°接受角可形成样品粒子平面，应用于SIMS和SNMS的光学采样。 光栅控制，增强深度分析能力 所有能量范围内，离子行程的最小扰动，及恒定离子传输 灵敏度高 / 稳定的脉冲离子计数检测器质量数范围： 300amu，500amu，1000amu 检测器： 离子计数探测器、正负离子探测器、107 cps 质量过滤器： 3F四级杆 杆直径： 9mm 最高加热： 250℃ 离子源： 电子轰击，可用于SNMS和RGA的单根灯丝

多功能SIMS工具：高分析效率和全自动化的基准检测灵敏度IMS 7f-Auto是我们获得成功的IMS xf二次离子质谱仪（SIMS）产品系列的新型号。该仪器旨在提高高精度元素和同位素分析的易用性和生产率，已针对玻璃、金属、陶瓷、硅基，III-V和II-VI族化合物器件、散装物料、薄膜等一系列颇具挑战性的应用进行改良，可充分满足行业对高效器件开发和过程控制的要求。用于解决多种分析问题的关键分析功能IMS 7f-Auto提供了具有高深度分辨率和高动态范围的深度剖析功能。高透射质谱仪与两种反应性高密度离子源（O2+和Cs+）相结合，从而提供高溅射速率和极低的检出限。独特的光学设计可实现直接离子显微镜和扫描探针成像。 提高自动化和作业效率IMS 7f-Auto配有重新设计的同轴一次离子枪筒，可以更轻松、更快速地进行一次离子束调谐，并优化一次离子束流稳定性。新的自动化程序减少了由操作员引起的偏差并提高了易用性。带有自动装载/卸载样品架的电动储存室通过分析链和远程操作提高分析效率。 在高分析效率下实现高再现性借助新型电动储存室和样品转移，IMS 7f-Auto能够分析链式或远程模式下的多个样品。测量可以完全无人值守和自动化，具有高通量和可再现性。可实现很高的可再现性（RSD0.5％）、很低的检出限、高测试效率和高生产率（工具可每天24小时使用，几乎无需操作员干预）。

Kore SurfaceSeer I是一款高灵敏度的TOF-SIMS飞行时间二次离子质谱仪，具有高通量分析功能，可用于绝缘、导电表面的成像分析与化学成分分析。SurfaceSeer I 是研究表面化学的理想选择，适用于研发和工业质量控制应用。TOF-SIMS飞行时间二次离子质谱仪主要通过离子源发射离子束溅射样品表面进行分析。离子束作为一次离子源，经过一次离子光学系统的聚焦和传输，到达样品表面。样品表面经过溅射，产生二次离子，系统将产生的二次离子提取和聚焦，并将二次离子送入离子飞行系统。在离子飞行系统中，不同种类的二次离子由于质荷比不同，飞行速度也不同，在飞行系统分离，通过检测这些离子进行相关分析。SurfaceSeer I 使用与 SurfaceSeeer S 相同的 TOF-MS 技术，但配备了高亮度、高空 间分辨率的 25kV 液态金属离子枪（LMIG）作为主要离子源。LMIG 的探头尺寸≤ 0.5µ m，可实现高分析空间分辨率。全自动计算机控制，允许在质谱采集期间扫描离子枪，从而可以收集到化学图像或图谱。另外还提供了一个二次电子探测器（SED），用 于调谐初级电子束和 SED 图像捕获。带有12.7µ m重复单元的铜格栅SurfaceSeer I 仪器特点：配备25KV液态金属离子枪（LMIG）作为主要离子源，检测能力更强，质量分辨率更高；具备表面成像和深度剖析功能；提供的SIMS材料谱库包含上千种材料的质谱数据，可识别未知的化合物和材料；可同时分析所有元素及有机物，可消除有机物和元素干扰，使谱图更清晰，检测限更低，能更有效地分析材料样品。专用数据处理软件允许分析数据和样品的化学构成信息进行全面的交互提取，其所有储存的数据都能用于溯源性分析。表面分析灵敏度高达 1x109 atoms/cm2SurfaceSeer I 应用领域:表面涂层和处理电子元件和半导体电极与传感器润滑剂催化剂粘合剂薄膜等包装材料腐蚀研究大学教学与科研

飞行时间二次离子质谱（TOF- SIMS）是一种表面敏感的技术，提供表面分子，元素及其同位素前几个原子层的组成图像。所有元素和同位素，包括氢气都可以用飞行时间二次离子质谱分析。在理论上，该仪器可以在一个无限大的质量范围内提供很高的质量分辨率（在实践中通常是大约 10000amu）。PHI TRIFT V nano飞行时间质谱仪（三次对焦飞行时间）是一种高传输、并行检测仪器，其目的是由主脉冲离子束轰击样品表面所产生的二次离子可以得到zui佳的收集状态，并可同时用于有机和无机表面特征分析。TRIFT分析仪的工作原理会把离子在光谱仪中不断的重新聚焦。使二次离子质谱允许更多重大的实验得以进行。主离子束zui先进的设计，允许经由计算机控制去同时达到高横向分辨率的成像和高质量的图谱分辨率。PHI TRIFT V nanoTOF是第五代SIMS仪器，该仪器具有独特的专利时间飞行（TOF）分析仪，它拥有市场上TOF-SIMS仪器中zui大的角度和能量接受标准，实现了高空间分辨率质量分辨率和使用具有优良离子传输能力的三重重点半球形静电分析器。PHI TRIFT V nanoTOF还具有很高的能力，可以图像具有非常复杂的几何形状的样本而没有阴影。

Kore SurfaceSeer S在飞行时间二次离子质谱仪 （TOF-SIMS） 系列中，是一款高性价比且经久耐用的产品。它是研究样品表面化学成分的理想选择，适用于研发和工业质量控制应用。飞行时间二次离子质谱仪（TOF-SIMS）是非常灵敏的表面分析手段。其凭借质谱分析、二维成像分析、深度元素分析等功能，广泛应用于医学、细胞学、地质矿物学、半导体、微电子、物理学、材料化学、纳米科学、矿物学、生命科学等领域。Kore SurfaceSeer S型号的飞行时间二次离子质谱仪（TOF-SIMS）使用的是5keV Cs+离子束（可选惰 性气体Ar+），该离子束是脉冲式的，以限度地减少连续离子束可能造成的表面损伤。 在每100µ s TOF 循环中，该离子枪的脉冲时间仅为60ns，因此，主光束提供的电流比连续打开时少1000倍以上。典型的10s实验时间所产生的电流仅相当于几毫秒的连续光束电流。 要达到所谓的“静态SIMS”极限，需要在一个点上进行几分钟的分析，在这个点上，表面损伤在数据中变得清晰可见(取决于焦点和光 束电流)。尽管离子剂量较低，这款TOF分析仪还是非常高效的，这就说明了它具有较高的二次离子数据速率（即使在离子产率相对较低 的聚合物上，也通常为5000 c/s）。SurfaceSeer S 仪器特点：配备5keV Ar+/Cs+脉冲式离子束，以限度地减少连续离子束可能造成的表面损伤，实现样品“无损”分析；针对工业领域的低成本TOF-SIMS仪器；均适用于导电物体表面和绝缘物体表面的分析 ；可在1~2min内实现高速率的正负质谱分析；质量分辨率可达 2,500 m/δm (FWHM)；适用于导电物体表面和绝缘物体表面的分析。SurfaceSeerS应用领域:表面化学黏附力分层印刷适性表面改性等离子体处理痕量分析（表面ppm）催化剂同位素分析表面污染

TOF-SIMS是一种非常灵敏的表面分析技术，适用于许多工业和研究应用。该技术通过对一次离子束轰击样品表面产生的二次离子进行质量分析，并行探测所有元素和化合物，具有极高的传输率（可达到100%），只需要一次轰击就可以得到研究点的完整质量谱图，从而提供有关样品表面、薄层、界面的详细元素和分子信息，并能提供全面的三维分析。其用途广泛，包括半导体，聚合物，涂料，涂层，玻璃，纸张，金属，陶瓷，生物材料，药品和有机组织领域。全新 M6 — — 飞行时间二次离子质谱（TOF-SIMS）先进科技M6 是 IONTOF 在 TOFSIMS 5 基础上开发的新一代高端飞行时间二次离子质谱（TOF-SIMS）仪器，对一次离子源（LMIG）和质量分析器（TOF Analyser）进行了突破性的改进。此外，在硬件方面还增加了 MS/MS 功能选项，重新设计了加热和冷却系统；在软件方面新增了多元统计分析（MVSA）软件包。其设计保证了 SIMS 应用在所有领域的卓越性能。新的突破性离子束和质量分析器技术使 M6 成为二次离子质谱（SIMS）仪器中的耀眼光芒、工业和学术研究的理想工具。全新 M6 具有以下突出优势：1 新型 Nanoprobe 50 具有高横向分辨率 ( 50 nm)2 质量分辨率 30,0003 独特的延迟提取模式可同时实现高传输，高横向质量4 广域的动态范围和检测限5 用于阐明分子结构具有 CID 片段功能的 TOF MS/MS6 先进智能的 SurfaceLab 7 软件，包括完全集成的多元统计分析 (MVSA) 软件包7 新型灵活按钮式闭环样品加热和冷却系统，可长期无人值守运行

应用于地球科学的大尺寸几何结构离子探针IMS 1300-HR3是一款大尺寸几何结构离子探针，可为广泛的地球科学应用提供无与伦比的分析性能：使用稳定同位素追踪地质过程，矿物定年，以及确定痕量元素的存在和分布。其高灵敏度和高横向分辨率也使其成为搜索和测量铀颗粒以用于核防护目的的必要工具。高空间分辨率和高质量分辨率下的高再现性的独特组合借助新型IMS 1300-HR3，CAMECA极大地提高了已占据市场领导地位的大尺寸几何结构SIMS的性能，现可在高空间分辨率和高质量分辨率下为地球科学界提供高重现性的独特组合。该工具可充分满足高精度和高生产率的小尺度原位同位素测量的需求，并拓展了广泛的研究方向——从稳定同位素、地质年代学和痕量元素到小颗粒等等。秉承了IMS 1280-HR和之前型号的主要优点：大尺寸几何结构设计可在高质量分辨率下提供高灵敏度应用于高精度同位素测量的多功能多接收器系统用于分析正负二次离子的双一次离子源卓越的离子成像能力（探针和显微镜模式）增强型磁场控制系统实现了高质量分辨率下的高再现性远程操作、全自动化、功能强大的应用专用软件IMS 1300-HR3的改进及优点：新型射频等离子体氧源显著增加了电子束密度和电流稳定性，极大地提高了空间分辨率、数据再现性和通量。具有自动化样品高度（Z）调节功能的新型电动储存室可显著提高分析精度、易用性和生产率。用于改善光学图像分辨率的紫外光显微镜，搭配专用软件实现简单的样品导览1012 Ω电阻法拉第杯：用于测量低计数率的低噪声电测系统

PHI nanoTOF3+特征先进的多功能TOF-SIMS具有更强大的微区分析能力，更加出色的分析精度飞行时间二次离子质谱仪最新一代 TRIFT 质量分析器，更好的质量分辨率 适用于绝缘材料的无人值守自动化多样品分析 独特的离子束技术 平行成像 MS/MS 功能，助力有机大分子结构分析 多功能选配附件TRIFT分析器适用于各种形状的样品 宽带通能量+宽立体接收角度宽带通能量、宽立体接受角-适用于各种形貌样品分析主离子束激发的二次离子会以不同角度和能量从样品表面飞 出，特别是对于有高度差异和形貌不规则的样品，即使相同 的二次离子在分析器中会存在飞行时间上的差异，因此导致 质量分辨率变差，并对谱峰形状和背景产生影响。 TRIFT质量分析器可以同时对二次离子发射角度和能量进行 校正， 保证相同二次离子的飞行时间一致， 所以TRIFT兼顾 了高质量分辨率和高检测灵敏度优势，而且对于不平整样品 的成像可以减少阴影效应。 实现高精度分析的一次离子枪先进的离子束技术实现更高质量分辨PHI nanoTOF3+ 能够提供高质量分辨和高空间分辨的TOF-SIMS分析:在高质量分辨模式下，其空间分辨率优于500nm 在高空间分辨模式下，其空间分辨模式优于50 nm。通过结合高强度离子源、高精度脉冲组件和高分辨率质量分析器，可以实现低噪声、高灵敏度和高质量分辨率的测量 在这两种模式下，只需几分钟的测试时间，均可完成采谱分析。前所未见的无人值守TOF-SIMS自动化多样品分析 -适用于绝缘材料PHI nanoTOF3+搭载全新开发的自动化多样品分析功能，程序可根据 样品导电性自动调整分析时所需的高度与样品台偏压， 可以对包括 绝缘材料在内的各类样品进行无人值守自动化TOF-SIMS分析。 整个分析过程非常简单， 只需三步即可对多个样品进行表面或深度 分析 ：①在进样室拍摄样品台照片 ；②在进样室拍摄的照片上指定 分析点 ；③按下分析键，设备自动开始分析。 过去，必须有熟练的操作人员专门操作仪器才能进行TOF-SIMS分析 ； 现在，无论操作人员是否熟练，都可以获得高质量的分析数据标配自动化传样系统PHI nanoTOF3+配置了在XPS上表现优异的全自动样品传送系 统 ：最大样品尺寸可达100mmx100 mm， 而且分析室标配内置 样品托停放装置 ；结合分析序列编辑器（Queue Editor），可以实现对大量样品的全自动连续测试。采用新开发的脉冲氲离子枪获得专利的自动荷电双束中和技术TOF-SIMS测试的大部分样品为绝缘样品，而绝缘样品表面 通常有荷电效应。PHI nanoTOF3+ 采用自动荷电双束中和 技术，通过同时发射低能量电子束和低能量氲离子束，可实现对任何类型和各种形貌的绝缘材料的真正自动荷电中和，无需额外的人为操作。 *需要选配Ar离子枪 远程访问实现远程控制仪器PHI nanoTOF3+允许通过局域网或互联网访问仪器。 只需将样品台放入进样室， 就可以对进样、换样、测试和分析等所有操作进行远程控制。我们的专业人员可以对仪器进行远程诊断。*如需远程诊断，请联系我们的客户服务人员。 从截面加工到截面分析： 只需一个离子源即可完成标配离子枪FIB(Focused lon Beam)功能在PHI nanoTOF3+中， 液态金属离子枪具备 FIB功能， 可以使用单个离子枪对样品进行 横截面加工和横截面TOF-SIMS分析。通过操 作计算机， 可以快速轻松地完成从FIB处理 到TOF-SIMS分析的全过程。此外，可在冷却 条件下进行FIB加工。 在选配Ga源进行FIB加工时，可以获得FIB加 工区域的3D影像 ；Ga源还可以作为第二分析 源进行TOF-SIMS分析。 通过平行成像MS/MS进行 分子结构分析[选配]MS/MS平行成像 同时采集MS1/MS2数据（专利）在TOF-SIMS测试中，MS1质量分析分析器接收从样品表面 产生的所有二次离子碎片，对于质量数接近的大分子离子， MS1谱图难以区分。通过安装串联质谱MS2，对于特定离子 进行碰撞诱导解离生产特征离子碎片，MS2谱图可以实现 对分子结构的进一步鉴定。PHI nanoTOF3+具备串联质谱MS/MS平行成像功能， 可以同时获取分析区域的MS1和MS2数据，为有机大分子结构解析提供了强有力的工具。 多样化配置充分发挥TOF-SIMS潜力可拆卸手套箱：可安装在样品导入室可以选配直接连接到样品进样室的可拆卸手套箱。 锂离子电池和有机 OLED等容易与大气发生反应的样品可以直接安装在样品台上。此外，在 冷却分析后更换样品时，可以防止样品表面结霜。 氩团簇离子源（Ar-GCIB）：有机材料深度剖析使用氩团簇离子源(Ar-GCIB)能够有效减少溅射过程中对有机材料的破坏，从而在刻蚀过程中保留有机大分子结构信息。Cs源和Ar/O2源：无机材料深度剖析可根据测试需求选择不同的离子源提高二次离子产额，使用Cs源可增强负离子产额 ；O2源可增强正 离子产额

仪器简介：1. 适合做多层薄膜的深度分析。2. 很好的、耐用的、普通目的的二次离子质谱仪。3. 方便使用。4. 样品可以手动转换，由于分析速度快所以每天可以分析一定数量的样品。5. 我们的系统可配置快速原子枪，使我们可以轻松处理绝缘的样品。6. 我们还可以做元素成像（就象化学地图）和混合模式扫描，自动测量正、负和中性粒子。7. 我们的系统是典型的超高真空工作台，很容易满足很多其它分析的使用。结构紧凑，但不损失性能。真正的高性价比。技术参数：质量数范围：300，510或1000amu分辨率：5%的谷，两个相连的等高峰。检测器：离子计数检测器，正、负离子检测检测限：1:10E7质量过滤器：三级过滤四极杆（9mm杆）主离子枪： A，氧离子或其它气体，能量到5KeV B，Ga离子枪，能量25KeV（选配）空间分辨率：A：100～150um B: 50nm取样深度：2个单分子层（静态） 不受限制（动态）主要特点：? 高灵敏度脉冲离子计数检测器，7个数量级的动态范围 ? SIMS 成像，分辨率在微米以下 ? 光栅控制，增强深度分析能力 ? 所有能量范围内，离子行程的最小扰动，及恒定离子传输 ? 差式泵3级过滤四极杆，质量数范围至1000amu ? 灵敏度高 / 稳定的脉冲离子计数检测器 ? Penning规和互锁装置可提供过压保护 ? 通过RS232、RS485或Ethernet LAN，软件 MASsoft控制

应用于高空间分辨率下同位素和痕量元素分析的SIMSNanoSIMS 50L是一款独特的离子探针，在高横向分辨率下优化了SIMS分析性能。该仪器的开发借鉴了一次离子束和二次离子提取的同轴光学设计以及具有多接收功能的原始扇形磁质量分析仪。NanoSIMS 50L能同时提供关键性能，而使用任何其他已知的仪器或技术只能部分提供这些性能： 高分析空间分辨率（低至50纳米） 高灵敏度（元素成像中的ppm） 高质量分辨率（M/dM） 并行采集七种不同质荷比离子 快速采集（直流模式，不发生脉冲） 能够分析电绝缘样品 经改良，现在可实现千分之十几的同位素比值再现性。 应用领域:微生物学： NanoSIMS 50L为环境中混合微生物群落研究中的单细胞系统发育特征（使用FISH或El-FISH）和代谢功能（使用稳定同位素标记）的结合开辟了新的可能性。 细胞生物学： NanoSIMS 50L具备50纳米分辨率和测定同位素比值功能，可实现对细胞内带有稳定同位素标记的分子的积累和传输的测量。 地质学和空间科学： NanoSIMS 50L可以对行星际尘埃颗粒、陨石和矿物部分的亚微米区域、晶粒或包裹体进行精确的同位素和元素测量。该仪器在多个法拉第杯配置下工作，并具有几微米的光斑尺寸，可以提供同位素比值测量，具有极高精确度以及低至千分之十几的的外部再现性。 材料研究： 凭借高质量分辨率下的高灵敏度（无质量干扰），即使在电绝缘材料中，NanoSIMS 50L也可以在50纳米SIMS横向分辨率下进行痕量元素（掺杂物）成像和定量分析。除稀有气体以外的所有元素（从氢到钚）均可测量。 NanoSIMS 最初由法国巴黎第十一大学的G. Slodzian教授设计。

Alpha-Step D-500探针式轮廓仪支持台阶高度、粗糙度、翘曲度和应力的2D测量。 创新的光学杠杆传感器技术提供高分辨率测量，大垂直范围和低触力测量功能。探针测量技术的一个优点是它是一种直接测量，与材料特性无关。 可调节的触力以及探针的选择都使其可以对各种结构和材料进行精确测量。 通过测量粗糙度和应力，可以对工艺进行量化，确定添加或去除的材料量，以及结构的任何变化。主要功能 台阶高度：几纳米至1200μm 低触力：0.03至15mg 视频：500万像素高分辨率彩色摄像头 梯形失真校正：消除侧视光学系统引起的失真 圆弧校正：消除由于探针的弧形运动引起的误差 紧凑尺寸：最小占地面积的台式探针式轮廓仪 软件：用户友好的软件界面主要应用 台阶高度：2D台阶高度 纹理：2D粗糙度和波纹度 形式：2D翘曲和形状 应力：2D薄膜应力工业应用 大学，研究实验室和研究所 半导体和复合半导体 SIMS：二次离子质谱 LED：发光二极管 太阳能 MEMS：微电子机械系统 汽车 医疗设备 还有更多：请与我们联系并探讨您的要求

Alpha-Step D-600探针式轮廓仪支持台阶高度和粗糙度的2D及3D测量，以及翘曲度和应力的2D测量。 创新的光学杠杆传感器技术提供高分辨率测量，大垂直范围和低触力测量功能。探针测量技术的一个优点是它是一种直接测量，与材料特性无关。 可调节的触力以及探针的选择都使其可以对各种结构和材料进行精确测量。 通过测量粗糙度和应力，可以对工艺进行量化，确定添加或去除的材料量，以及结构的任何变化。主要功能 台阶高度：几纳米至1200μm 低触力：0.03至15mg 视频：500万像素高分辨率彩色摄像头 梯形失真校正：消除侧视光学系统引起的失真 圆弧校正：消除由于探针的弧形运动引起的误差 紧凑尺寸：最小占地面积的台式探针式轮廓仪 软件：用户友好的软件界面主要应用 台阶高度：2D台阶高度和3D台阶高度 纹理：2D粗糙度和波纹度 形式：2D翘曲和形状 应力：2D薄膜应力工业应用 大学，研究实验室和研究所 半导体和复合半导体 SIMS：二次离子质谱 LED：发光二极管 太阳能 MEMS：微电子机械系统 汽车 医疗设备 还有更多：请与我们联系并探讨您的要求

质谱分析TOF-SIMS 中，根据分子结构反映的质谱，能更详细的对化学结构进行分析。影像分析影像的分辨率，测量时有种可供选择: 256 x 256 ,512x512, 1024x1024 ，每个像素点都存贮着质谱的信息。测量之后，任伺区域的质谱都可以在後数据处理时提取出来。深度剖析TOF-SIMS 中，经过反复测量和溅射，得到深层的结构。这段期间内，所有的质谱都会被保存，完成测量后，任意深度的质谱都可以在後数据处理时提取出来。三维剖析深度概况的数据源于在深度改变时样品结构的变化，在进行完深度分析後不仅可以拥有内部的信息，三维构筑的信息也可以得到。多功能样品处理样晶托提供了两种类型的标准样晶托，有直径25mm ，样晶在样晶托背面安装并固定( Back-mount) ，能放个样品的样品托，方便对准样晶高度。也有直接在样晶托正面安装样晶，可放置和样晶托一般大小的样晶 (100mm ，方便制样。加热冷却样品托用液氮冷却和用加热器加热样晶台，在-150t 200t 之间可控。样晶托上配有温度感应装置，当样晶在进样室开始，软件即马上显示实时温度回读。另外也可以选配比较高可达600t只做加热的样晶托。

Alpha-Step D-300 探针式轮廓仪支持台阶高度、粗糙度、翘曲度和应力的2D 测量。光学杠杆传感器技术提供高分辨率测量，大垂直范围和低触力测量功能。 探针测量技术的一个优点是它是一种直接测量，与材料特性无关。可调节的触力以及探针的选择都使其可以对各种结构和材料进行测量。通过测量粗糙度和应力，可以对工艺进行量化，确定添加或去除的材料量，以及结构的任何变化。 二、 功能 设备特点台阶高度：几纳米至1000μm低触力：0.5至15mg视频：500万像素率彩色摄像头梯形失真校正：消除侧视光学系统引起的失真圆弧校正：消除由于探针的弧形运动引起的误差紧凑尺寸：小占地面积的台式探针式轮廓仪 主要应用台阶高度：2D台阶高度纹理：2D粗糙度和波纹度形式：2D翘曲和形状应力：2D薄膜应力 应用领域半导体和复合半导体SIMS：二次离子质谱LED：发光二极管太阳能MEMS：微电子机械系统汽车医疗设备 三、应用案例 台阶高度 Alpha-Step D-300 探针式轮廓仪能够测量从几个纳米到1000μm的2D台阶高度。 这使其可以量化在蚀刻、溅射、SIMS、沉积、旋涂、CMP 和其他工艺期间沉积或去除的材料。 Alpha-Step系列具有低触力功能，可以测量如光刻胶的软性材料。 纹理：粗糙度和波纹度 Alpha-Step D-300 测量 2D 纹理，量化样品的粗糙度和波纹度。 软件过滤功能将测量值分离为粗糙度和波纹度的部分，并计算诸如均方根（RMS）粗糙度之类的参数。 外形：翘曲和形状 Alpha-Step D-300 可以测量表面的2D形状或翘曲。 这包括对晶圆翘曲的测量，例如在半导体或化合物半导体器件生产过程中，多层沉积层结构中层间不匹配是导致这类翘曲产生的原因。Alpha-Step 还可以量化包括透镜在内的结构高度和曲率半径。 应力：2D薄膜应力 Alpha-Step D-300 能够测量在生产包含多个工艺层的半导体或化合物半导体器件期间所产生的应力。 使用应力卡盘将样品支撑在中性位置测量样品翘曲。 然后通过应用Stoney方程，利用诸如薄膜沉积工艺的形状变化来计算应力。

仪器简介：全球最先进的动态TOF-SIMS系统，它使用直流主束的飞行时间分析仪，创建了成像质谱的新范式。直流一次离子束的使用允许快速成像和连续数据采集（即没有单独的蚀刻周期），同时提供高空间和质量分辨率。 独有的特点：离子束带来高分子量分析和高空间分辨率四种离子束可选择用气体团簇离子束SIMS，可以分析高达3000Da的分子量无“仅蚀刻”循环的深度剖面。快速、连续采集冷样品处理气敏和冷冻样品,可配置手套箱高级数据查看功能技术参数：腔室上最多可包括3种离子束。选择包括金，C60，气体团簇，和等离子体-每一个适合特定的样品类型或实验，如下所示。离子束能量束斑大小金25kV150nm最高的空间分辨率，导致明显的碎片。是硬质材料的理想选择。碳60 (C60)40kV300nm在任何材料上均匀溅射，碎裂度低，理想值可达1kDa。气体团簇（Ar/CO2/H2O）40kV, 70kV1um有机物的高溅射率，任何束流的最低碎片，是生物成像的理想选择。双等离子体发射源 (Ar/O2/N2/Cs)30kV300nm高亮度光源，是无机材料的理想选择。氧束提高正离子产率，Cs提高负离子产率。主要特点：深度剖面该 SIMS非常适合于样品的深度剖面分析。使用直流离子束进行分析的一个重要方面是，不需要将蚀刻离子束与分析离子束交错。为了能够在合理的时间尺度上生成3D图像，并去除受损的亚表面层，传统的TOF实验使用了交错成像和蚀刻循环，这些循环浪费了宝贵的样品。在使用C60+或（CO2）n/Arn+等连续分析离子束，分析和低损伤刻蚀是连续和并行的，因此没有数据丢失，所有材料都被采样，使我们 SIMS成为一个非常精确的深度剖面分析工具。温度和大气控制的多功能样品处理该 SIMS上的多功能样品处理系统可以分析多种样品类型。仪器配备液氮冷却装置，以便对挥发性样品进行分析——冷却装置适用于主样品阶段和样品插入锁。相反，样品台也可以加热到600 K。仪器配有手套箱，用于在干燥气体下制备和插入空气/水敏感样品，并防止冷却过程中结冰。由于小容量负载锁定和高泵送速度，样品插入很快。 半导体半导体分析的范围可以从浅结深度剖面到高分辨率3D成像。有五种不同的主离子束可供选择，可以针对不同的材料或实验类型进行定制。从 40kV C60 光束中进行选择，即使在混合材料上也能提供高分辨率成像和均匀的溅射率，是平面设备的理想选择。或 FLIG 5，超低能耗 O2/Cs 光束，具有无与伦比的电流密度，是浅结深度剖析的最佳选择。特征：IOG C60-40， FLIG 5， 深度剖析， 3D 成像 聚合物液态金属离子束会导致高水平的碎裂和对表面的损坏，然后必须通过GCIB将其去除。这会降低深度分辨率，并增加实验不必要的复杂性。GCIB是主光束，因此可确保低分段，不需要仅蚀刻循环，并保证高深度分辨率。GCIB SM 是市场上能量最高的 GCIB，能够以前所未有的速度和最小的损坏蚀刻聚合物等软质材料，从而实现比以往更大的 3D 分析量。特征：GCIB SM， 深度剖析， 3D 成像

岛津原位探针离子化质谱仪DPiMS-2020 是基于岛津单四极质谱分析仪LCMS-2020同时配备探针电喷雾离子源为一体的新型质谱分析仪。该仪器通过精密的探针取样式设计在无需样品制备的情况下实现快速便捷的样品分析。技术基于探针电喷雾离子化技术及原理（PESI）适用于化工领域，食品和生物制品领域中样品无样品制备条件下的快速质谱分析。 该仪器具有多项应用优势：1) 样品直接质谱分析，简化样品制备过程；2)容易氧化或讲解的化合物快速分析，分时段实时样品成分含量监测；3) 微量样品离子化能力，有效避免高浓度样品对质谱的污染。岛津DPiMS-2020原位探针离子化质谱仪信息由岛津企业管理（中国）有限公司/岛津（香港）有限公司为您提供，如您想了解更多关于岛津DPiMS-2020原位探针离子化质谱仪报价、型号、参数等信息，欢迎来电或留言咨询。

SIMS 工作站(SIMS Workstation－a complete SIMS Analysis Facility) ，综合UHV / SIMS 设备，进行高级的表面分析。可靠的、普遍适用的SIMS分析工作站。整合的离子源，便于RGA和SNMS 各类型样品的快速转向 阴、阳离子、中性粒子、自由基的质量、能量分析仪 整合的离子枪光栅控制和信号选通，进行深度分析 绝缘体研究中的电子流枪用于电荷中和 液氮冷井和真空室烘烤加热器 自动的SIMS 离子光学透镜调谐和质量数列表，使SIMS性能最佳 Hiden EQS SIMS 分析仪，运行于 MASsoft O/S 之下，检测限至ppb级 基本的激发源选择： 带差式泵的Hiden IG20 Ion，IFG200 FAB或高性能液态镓枪 快速样品传递，样品固定，负载锁定的操纵器 4 轴：X, Y, Z, θ UHV 操纵器，以最佳定位样品 加上ESM LabVIEW和SIMS 成像程序，进行SIMS元素成像 静态SIMS谱图库可用

探针式轮廓仪/台阶仪/Alpha-Step D-600 Stylus ProfilerAlpha-Step D-600探针式轮廓仪也叫台阶仪，能够测量从几纳米到1200微米的台阶高度测量，可选配三维测量功能。D-600型台阶仪还可以在研发与生产环境中支持粗糙度、翘曲度与薄膜应力的测量，配置200mm自动移动样品台与先进的弧形矫正的辅助光学系统。 产品描述Alpha-Step D-600探针式轮廓仪支持台阶高度和粗糙度的二维与三维测量，以及翘曲度和薄膜应力的测量。创新的光学杠杆传感器技术提供高分辨率测量，大范围测量与超微力测量于一体的功能。探针测量技术的一个优点是它是一种直接测量，与材料特性无关。可调节的探针压力以及探针的选择都使其可以对各种结构和材料进行精确测量。通过测量粗糙度和应力，可以对工艺进行量化，确定添加或去除的材料量，以及结构的任何变化。主要功能 台阶高度：几纳米至1200μm 低触力：0.03至15mg 视频：500万像素高分辨率彩色摄像头 梯形失真校正：消除侧视光学系统引起的失真 圆弧校正：消除由于探针的弧形运动引起的误差 紧凑尺寸：占地面积小 软件：用户友好的软件界面主要应用 台阶高度：2D台阶高度与3D台阶高度 纹理：2D粗糙度和波纹度 形式：2D翘曲和形状 应力：2D薄膜应力工业应用 大学，研究实验室和研究所 半导体和复合半导体 SIMS：二次离子质谱 LED：发光二极管 太阳能 MEMS：微电子机械系统 汽车 医疗设备 更多应用：请与我们联系并探讨您的需求

探针式轮廓仪/台阶仪/Alpha-Step D-500 Stylus ProfilerAlpha-Step D-500探针式轮廓仪能够测量从几纳米到1200微米的2D台阶高度。 D-500还可以在研发和生产环境中支持粗糙度、翘曲度和应力的2D测量。 D-500包括一个手动140毫米平台和先进的光学系统以及加强视频控制。产品描述Alpha-Step D-500探针式轮廓仪支持台阶高度、粗糙度、翘曲度和应力的2D测量。 创新的光学杠杆传感器技术提供高分辨率测量，大垂直范围和低触力测量功能。探针测量技术的一个优点是它是一种直接测量，与材料特性无关。 可调节的触力以及探针的选择都使其可以对各种结构和材料进行精确测量。 通过测量粗糙度和应力，可以对工艺进行量化，确定添加或去除的材料量，以及结构的任何变化。产品主要特点台阶高度：几纳米至1200μm低触力：0.03至15mg视频：500万像素高分辨率彩色摄像头梯形失真校正：消除侧视光学系统引起的失真圆弧校正：消除由于探针的弧形运动引起的误差紧凑尺寸：占地面积小的台式探针轮廓仪/台阶仪主要应用 台阶高度：2D台阶高度 纹理：2D粗糙度和波纹度 形式：2D翘曲和形状 应力：2D薄膜应力工业应用 大学，研究实验室和研究所 半导体和复合半导体 SIMS：二次离子质谱 LED：发光二极管 太阳能 MEMS：微电子机械系统 汽车 医疗设备 还有更多：请与我们联系并探讨您的要求

Alpha-Step D-600 Stylus Profiler Alpha-Step D-600探针式轮廓仪能够测量从几纳米到1200微米的2D和3D台阶高度。 D-600还可以在研发和生产环境中支持粗糙度、翘曲度和应力的2D和3D测量。 D-600包括一个电动200毫米样品卡盘和先进的光学系统以及加强视频控制。产品描述 Alpha-Step D-600探针式轮廓仪支持台阶高度和粗糙度的2D及3D测量，以及翘曲度和应力的2D测量。 创新的光学杠杆传感器技术提供高分辨率测量，大垂直范围和低触力测量功能。探针测量技术的一个优点是它是一种直接测量，与材料特性无关。 可调节的触力以及探针的选择都使其可以对各种结构和材料进行精确测量。 通过测量粗糙度和应力，可以对工艺进行量化，确定添加或去除的材料量，以及结构的任何变化。主要功能 台阶高度：几纳米至1200μm 低触力：0.03至15mg 视频：500万像素高分辨率彩色摄像头 梯形失真校正：消除侧视光学系统引起的失真 圆弧校正：消除由于探针的弧形运动引起的误差 紧凑尺寸：最小占地面积的台式探针式轮廓仪 软件：用户友好的软件界面主要应用 台阶高度：2D台阶高度和3D台阶高度 纹理：2D粗糙度和波纹度 形式：2D翘曲和形状 应力：2D薄膜应力工业应用 大学，研究实验室和研究所 半导体和复合半导体 SIMS：二次离子质谱 LED：发光二极管 太阳能 MEMS：微电子机械系统 汽车 医疗设备 还有更多：请与我们联系并探讨您的要求

Alpha-Step D-500 Stylus Profiler Alpha-Step D-500探针式轮廓仪能够测量从几纳米到1200微米的2D台阶高度。 D-500还可以在研发和生产环境中支持粗糙度、翘曲度和应力的2D测量。 D-500包括一个手动140毫米平台和先进的光学系统以及加强视频控制。产品描述Alpha-Step D-500探针式轮廓仪支持台阶高度、粗糙度、翘曲度和应力的2D测量。 创新的光学杠杆传感器技术提供高分辨率测量，大垂直范围和低触力测量功能。探针测量技术的一个优点是它是一种直接测量，与材料特性无关。 可调节的触力以及探针的选择都使其可以对各种结构和材料进行精确测量。 通过测量粗糙度和应力，可以对工艺进行量化，确定添加或去除的材料量，以及结构的任何变化。主要功能 台阶高度：几纳米至1200μm 低触力：0.03至15mg 视频：500万像素高分辨率彩色摄像头 梯形失真校正：消除侧视光学系统引起的失真 圆弧校正：消除由于探针的弧形运动引起的误差 紧凑尺寸：最小占地面积的台式探针式轮廓仪 软件：用户友好的软件界面主要应用 台阶高度：2D台阶高度 纹理：2D粗糙度和波纹度 形式：2D翘曲和形状 应力：2D薄膜应力工业应用 大学，研究实验室和研究所 半导体和复合半导体 SIMS：二次离子质谱 LED：发光二极管 太阳能 MEMS：微电子机械系统 汽车 医疗设备

Tencor P-7探针式轮廓仪产品描述Tencor P-7探针式轮廓仪以成功领先市场的Tencor P-17台式探针式轮廓仪系统为基础。它涵盖了P-17的卓越测量性能，为台式探针式轮廓仪提供了出色的性价比。Tencor P-7探针式轮廓仪支持对台阶高度、粗糙度、翘曲度和应力进行2D和3D测量，扫描范围可达150mm，无需拼接。特征台阶高度：纳米级到1000微米恒定力控制：0.03至15mg样品的全直径扫描，无需拼接视频：5MP高分辨率彩色相机弧形校正：可消除探针的弧形运动引起的误差软件：简单易用的软件界面生产能力：全自动测量，具有测序、图形识别和SECS/GEM功能应用台阶高度：2D和3D台阶高度纹理：2D和3D粗糙度和波纹度形状：2D和3D翘曲、形状应力：2D和3D薄膜应力缺陷检测：2D和3D缺陷表面形貌工业高校、实验室和研究所半导体和化合物半导体LED：发光二极管太阳能MEMS：微机电系统数据存储汽车医疗器械更多内容：请联系我们并告诉我们您的需求主要应用台阶高度Tencor P-7能够测量从纳米到1000µ m的二维(2D)和三维(3D)台阶高度。这能够对蚀刻、溅射、二次离子质谱、沉积、旋涂、化学机械研磨和其他工艺中沉积或去除的材料厚度进行量化。Tencor P-7具有恒定的力控制，可以不管台阶高度如何，动态调整以在样品表面施加相同的力。这能够保持良好的测量稳定性，能够精确测量软材料，例如光刻胶。纹理：粗糙度和波纹度Tencor P-7测量二维(2D)和三维(3D)纹理、量化样品的粗糙度和波纹度。软件过滤器将测量结果分为粗糙度和波纹度两部分，并计算出均方根、粗糙度等参数。形状：翘曲和形状Tencor P-7可以测量2D形状或表面的翘曲度。这包括元件制造过程中不同工艺层材料不匹配导致的晶圆翘曲的测量，例如半导体或化合物半导体器件生产中的多层沉积。Tencor P-7还可以测量弯曲结构（例如透镜）的高度和曲率半径。应力：二维(2D)和三维(3D)薄膜应力Tencor P-7能够测量在制造具有多个工艺层的器件（例如半导体或化合物半导体器件）期间产生的应力。使用应力载台将样品支撑在中间位置以精确测量表面的翘曲度。应力的计算是通过诸如薄膜沉积等工艺的形貌变化然后运用Stoney公式来得到的。2D应力是通过对样品直径进行单次扫描来测量的，样品直径可达150mm，无需拼接。3D应力是使用2D扫描的组合来实现的，其中样品台在多次扫描之间旋转以测量整个样品表面。缺陷检测缺陷检测可用于测量缺陷的表面形貌，例如划痕深度。缺陷检测工具可识别缺陷，并将位置坐标写到KLARF文件中。缺陷检测功能读取KLARF文件，对齐样本，并允许用户选择缺陷进行2D或3D测量。

半导体中的四极杆SIMS掺杂物深度剖析和薄层分析CAMECA SIMS 4550为光学器件中的硅、高k、硅锗以及III-V族化合物等复合材料的薄层提供超浅深度剖析、痕量元素和组分测量等一系列扩展功能。高深度分辨率和高通量随着器件尺寸不断缩小，当今半导体的注入物剖面和层厚度通常在1-10纳米的范围内。SIMS 4550通过提供碰撞能量可从5keV降至低于150eV的氧和铯高密度一次离子束进行优化，充分满足上述应用领域的需求。灵活性CAMECA的SIMS 4550是一款动态SIMS工具，可在溅射条件（碰撞角度、能量、物种）方面提供全面的灵活性。在样品溅射过程中，通过电荷补偿（电子枪、激光）专用选项可以轻松分析绝缘材料。SIMS 4550可测量层厚度、对准度、陡度、完整性、均匀性和化学计量。样品架可容纳多种样品：几毫米的薄片至直径100毫米的样品。高精度和自动化先进的四极杆分析仪的光路、峰噪比等都是降低痕量元素检出限的关键因素。凭借先进的特高真空设计以及低至E-10mbar（E-8Pa）范围内的主室压力，SIMS 4550可为氢、碳、氮和氧提供出色的灵敏度。超稳定的离子源和电子设备确保达到较高精度以及RSD小于0.2％的测量重复性。通过易于使用的软件、预定义方案、远程操作以及故障排除，充分考虑了人为因素对精度的影响。每次测量的所有仪器参数设置都存储在数据库中。因此重复测量只需点击几下鼠标即可完成。其他自动化功能

PHI简介ULVAC-PHI为全球超高真空表面分析仪器供应商的ling导者，ULVAC-PHI创新的X射线光电子能谱技术（xps）、俄歇电子能谱技术（AES）、二次离子质谱技术等为客户在材料分析方面提供全面且du一无二的解决方案。所提供的仪器：X射线光电子能谱仪、俄歇电子能谱仪、动态二次离子质谱仪和飞行时间二次离子质谱仪，可解决客户端广泛的表面分析问题。主要应用在纳米技术、微机电、存储介质、生化材料、药物化学、家属、高分子、有机电子等领域。X射线光电子能谱分析（XPS）是用X射线照射固体表面，测定表面深约10nm激发的光电子能谱图，来获取表面组成及化学结合状态的分析方法。PHI X-tool产品特点：卓越的操作性并支持多国语言的分析软件： PHI X-tool软件支持简单直观的触摸屏操作，及全部的XPS测定操作； 用户可从手动操作到自动操作（自动定性、定量、分析及完成报告）； 操作性强，无论是否有经验，均可完成测定 另，采用平板电脑，实现了智能的操作环境自动测试及自动报告： 具备分析点的Auto-Z自动对中功能（高速自动的高度调整），绝缘样品的全自动中和功能 实现测定位置的设定，未知样品的测定及分析PHI独有的zui先进的硬件配置 独有的扫描微聚焦X射线源（专利），分析面积在20μm~1.4mm 采用低能电子和Ar离子同时作用绝缘体表面，实现自动电荷中和（专利） 高性能的浮动Ar离子枪实现了高速度低损伤的深度分析

Tencor P-7探针式轮廓仪为生产和研发环节提供了从几纳米到一毫米的台阶高度测量功能。该系统支持对台阶高度、粗糙度、翘曲度和应力进行二维（2D）和三维（3D）测量，扫描范围可达150毫米，无需拼接。产品描述Tencor P-7探针式轮廓仪建立在成功领先市场的Tencor P-17台式探针轮廓测量系统基础之上。它保持了Tencor P-17的卓越测量性能，并为台式探针轮廓仪提供了出色的性价比。Tencor P-7支持对台阶高度、粗糙度、翘曲度和应力进行2D和3D测量，其扫描可达150mm而无需图像拼接。主要功能● 台阶高度：纳米级至1000μm● 微力恒力控制：0.03至50mg● 样品的全直径扫描，无需图像拼接● 视频：500万像素高分辨率彩色相机● 圆弧校正：可消除由于探针的弧形运动引起的误差● 软件：简单易用的软件界面● 生产能力：全自动测量，具有测序，图形识别和SECS / GEM功能主要应用● 台阶高度：2D和3D台阶高度● 纹理：2D和3D粗糙度和波纹度● 形状：2D和3D翘曲和形状● 应力：2D和3D薄膜应力● 缺陷复检：2D和3D缺陷表面形貌台阶高度Tencor P-7能够测量从纳米到1000µ m的2D和3D台阶高度。这能够对蚀刻、溅射、二次离子质谱、沉积、旋涂、化学机械研磨和其他工艺中沉积或去除的材料厚度进行量化。Tencor P-7具有恒定的力控制，可以不管台阶高度如何，动态调整以在样品表面施加相同的力。这能够保持良好的测量稳定性，能够精确测量软材料，例如光刻胶。纹理：粗糙度和波纹度Tencor P-7测量2D和3D纹理、量化样品的粗糙度和波纹度。软件过滤器将测量结果分为粗糙度和波纹度两部分，并计算出均方根、粗糙度等参数。形状：翘曲和形状Tencor P-7可以测量2D形状或表面的翘曲度。这包括元件制造过程中不同工艺层材料不匹配导致的晶圆翘曲的测量，例如半导体或化合物半导体器件生产中的多层沉积。Tencor P-7还可以测量弯曲结构（例如透镜）的高度和曲率半径。应力：2D和3D薄膜应力Tencor P-7能够测量在制造具有多个工艺层的器件（例如半导体或化合物半导体器件）期间产生的应力。使用应力载台将样品支撑在中间位置以精确测量表面的翘曲度。应力的计算是通过诸如薄膜沉积等工艺的形貌变化然后运用Stoney公式来得到的。2D应力是通过对样品直径进行单次扫描来测量的，样品直径可达150mm，无需拼接。3D应力是使用2D扫描的组合来实现的，其中样品台在多次扫描之间旋转以测量整个样品表面。缺陷检测缺陷检测可用于测量缺陷的表面形貌，例如划痕深度。缺陷检测工具可识别缺陷，并将位置坐标写到KLARF文件中。缺陷检测功能读取KLARF文件，对齐样本，并允许用户选择缺陷进行2D或3D测量。适用行业● 大学、实验室和研究所● 半导体和化合物半导体● LED：发光二极管● 太阳能● MEMS：微机电系统● 数据存储● 汽车● 医疗设备● 还有更多：请与我们联系以满足您的要求选配件探针选项Tencor P-7提供多种探针用于测量台阶高度、台阶高宽比、粗糙度、样品翘曲量和应力。探针针尖的半径从100纳米到50微米不等，这决定了测量的横向分辨率。探针角度从20到100度不等，这决定了所测量特征的最大高宽比。所有探针都采用金刚石制造，以减少磨损并增加其使用寿命。样品载台Tencor P-7拥有各种可用于支持应用需求的载台。标准配置是一个带有定位销的通用真空载台，可以用于50毫米至150毫米样品的精确定位。通用载台支持翘曲度和应力测量，通过3点定位器进行将样品保持在中间位置，以进行精确的翘曲度测量。可提供更多针对太阳能板样品和200毫米通用载台选项。防震台Tencor P-7提供桌面式防震台和独立防震台选项。GraniteIsolator&trade 系列提供将花岗岩和高品质硅胶垫结合在一起的桌面式系统来提供被动防震。Onyx系列桌面防震系统使用气动式防震台来提供被动防震。TMC 63-500系列隔离台是一种使用气动式防震台来提供被动防震的独立钢架台。台阶高度标准片Tencor P-7使用VLSI提供的NIST可追踪的薄膜和厚膜台阶高度标准片。该标准片的特征图案是在石英台上制造了一个氧化物台阶，或是覆盖了铬涂层的蚀刻石英台阶。可提供8纳米至250微米的台阶高度。Apex分析软件Apex分析软件通过一套配带平整、过滤、台阶高度、粗糙度和表面形貌分析技术的扩展组件增强了Tencor P-7的标准数据分析能力。Apex支持ISO粗糙度计算方法以及当地标准，例如ASME。Apex还可以作为报告编写平台，能够添加文本、说明和通过/失败标准。Apex支持11种语言。离线分析软件Tencor P-7离线软件具有与该机台相同的数据分析和程式创建功能。这使用户能够创建程式和分析数据，而不占用机时。图形识别图形识别使用预先学习的模式来自动对齐样本。这能够进行全自动测量，通过减少操作员误操作的影响来提高测量稳定性。图形识别与高级校准相结合，可减少样品台定位误差，并实现系统之间程式的无缝传输。SECS/GEM和HSMSSECS/GEM和HSMS通信支持工厂自动化系统并实现对Tencor P-7的远程控制。测量结果以及警报和关键校准/配置数据会自动报告给主机SPC系统。Tencor P-7符合SEMI标准E4、E5、E30和E37。相关产品

仪器简介：IMP离子蚀刻探针（Ion Milling Probe）,自带差式泵，坚固的二次离子质谱仪，适于分析离子蚀刻过程中的二次离子和中性粒子.独有的专业终点检测（End Point Detection）仪器，用于离子蚀刻控制以及过程质量最优化监测.技术参数：应用： • 终点检测（End Point Detection） • 靶的纯度鉴定 • 质量控制/ SPC. • 残余气体分析 • 泄漏监测主要特点：特点： • 高灵敏度的 SIMS/MS，带脉冲离子计数检测器 • 三级过滤四极杆，标准配置质量数为300 amu • 差式泵歧管，经连接法兰，接到过程室 • 离子光学器件，带能量分析器和内置离子源 • Penning规和互锁装置，以提供过压保护 • 数据系统与过程控制工具整合 • 稳定性(24h以上，峰高变化小于 ±0.5%) • 通过 RS232、RS485或以太网， 软件MASsoft控制 • 程控DDE, 平行数字式I/O, RS232通讯