金属配合物低维晶体

SKJ-M50-16金属晶体生长炉是用坩埚下降法生长金属晶体的设备，可在真空、大气、惰性气体或其他保护气氛下、在可控的局部压力状态下运行。根据金属的属性，本机可采用中频感应加热电源，以及石墨电阻加热两种加热方式；采用欧陆微处理器与热电偶闭环控制炉温，使结晶体按照一定的直径进行控制。 产品型号SKJ-M50-16金属晶体生长炉安装条件本设备要求在海拔1000m以下，温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。1、水：设备配有自循环冷却水机（加注纯净水或者去离子水）2、电：AC380V 50Hz（63A空气开关），必须有良好接地3、气：设备腔室内需充注氩气（纯度99.99%以上），需自备氩气气瓶（自带?6mm双卡套接头）4、工作台：尺寸1500mm×600mm×700mm，承重200kg以上5、通风装置：需要主要特点属于小型晶体生长炉，适合于大专院校、研究所使用。技术参数1、电源：208V-240V AC三相 50Hz/60Hz 15KW2、炉体容积：约100L3、炉管：石英管或刚玉管4、坩埚：高纯石墨坩埚5、加热元件：1800级硅钼棒6、温控系统：50段控温程序7、控温精度：±1℃8、工作温度：连续工作1600℃，短时间工作1700℃9、控温方式：自动程序控温10、生长方法：区熔法（样品固定不动，炉体向上移动）11、移动速度：1mm/h-10mm/h可调12、快速移动：手动13、结晶转速：1rpm-50rpm14、真空系统：机械泵和扩散泵15、极限真空度：10-5torr标准配件1、电源控制系统一套2、机械控制系统一套可选配件Kathnal Super-1800级硅钼棒

本公司研发团队开展石英晶体微天平化学生物传感分析研究已有三十余年，具有丰富的QCM应用研究经验，可根据客户需求提供个性化服务，解决客户QCM使用中出现的技术问题。该仪器融合多家著名高校相关领域研究成果，仪器模块化结构、便携式设计，可与电化学仪器光学仪器联用。仪器价格优惠、使用简单、性能稳定、检测结果可靠。石英晶体微天平（Quartz Crystal Microbalance，QCM）是一种非常灵敏的质量检测仪器。在一定条件下，石英晶体上沉积的质量变化和振动频率移动之间关系呈线性关系(Sauerbrey公式)，其测量灵敏度可达纳克级，可以测到单原子层的质量变化。本仪器采用10 MHz石英晶体，每Hz的频率变化相当于0.85 ng/cm2。石英晶体微天平作为纳克质量传感器具有结构简单、成本低、灵敏度高的优点，被广泛应用于化学、物理、生物、医学和表面科学等领域中，可实现电化学、光化学、光电化学的现场动态监测分析。可广泛用以进行气体、液体成分分析以及微质量的测量、薄膜厚度、液体粘度（血凝）检测等。例如：电活性聚合物表征、Li+ 嵌入材料、金属腐蚀、自组装单层、生物传感器、免疫检测、 蛋白质的相互作用 、膜表面的吸附/解析 、DNA的杂交 、 细胞吸附 、靶向药物筛选、高分子材料的生物相容性等。 仪器特点l 仪器接触溶液的激励电极做工作电极与电化学仪器联用可构成EQCM测量技术。 l 仪器便携式设计、操作简单、方法选择、操作过程、步步提示。l 锂离子电池可作为电源、抗干扰能力强。l 仪器智能化模块化设计、结构可靠，可适应现场使用。l SD卡储存数据，方便后续数据处理。l 数据同时通过蓝牙无线传输到手机，可在手机上同步进行显示和储存。l 仪器可与其他分析仪器联用，如电化学仪器、光学仪器联用实现现场多信息传感分析。根据科研需要可进一步开发应用。 技术参数 l 使用晶体频率范围5MHz-20MHz，本仪器使用商用镀金10MHz AT切石英晶体。l 频率稳定性，空气中+1Hz/小时，液相中精确控制实验条件可达到相近的信号稳定性。l 3.5英寸触屏彩色液晶显示。l 提供2G SD卡储存数据，每隔2秒储存一组实验数据。l 便携式QCM 配备直流供电电压范围9V-18V，建议使用12V，2A 直流稳压源。l 可配备12V 5400mAh 锂离子电池（12.6V，1A 充电器）。l 便携式仪器尺寸：150*97*40mm；仪器重量：500 g。

QCM-D石英晶体微天平 对AT切型剪切振动石英晶振进行快速阻抗频谱测量，频谱测量可获得诸多信息，可在响应幅值最大处获得谐振频率，峰高、半峰宽也可作为特征参数用来表征压电石英体表面粗糙度、膜粘弹性变化情况。本仪器通过快速频谱扫描技术，获得压电石英体的谐振频率（F） 和耗散因子 D （定义为石英晶体品质因子 Q的倒数，通过半高峰宽近似求得）。 JSK-T(I)型石英晶体微天平是本公司独自开发的多功能一体化QCM-D型质量传感检测仪器，工作频率可达200MHz，精确测量纳克级物质质量的传感技术。QCM仪器价格便宜，操作简单，可实现电化学、光化学、光电化学的现场联用动态监测分析。可广泛用于电活性聚合物表征、电池储能材料如Li+ 嵌入材料、金属腐蚀、自组装单层、光电材料、生物传感器、免疫检测、 蛋白质的相互作用 、膜表面的吸附/解析 、细胞黏附行为、靶向药物筛选、高分子材料的生物相容性等。仪器特点 QCM-D石英晶体微天平基于快速阻抗频率谱测定技术，能够测定谐振频率、振幅、相位等参数，可用于常见压电石英晶体，例如基频5MHz、6MHz、8MHz、10MHz的石英晶体； 可进行奇数倍频测量，频率上限最高可达200MHz,优于目前常见QCM设备。可实现频率、相移、耗散因子等参数测量。根据需要预设参数、个性化定制。仪器模块化结构、数据显示储存一体、无需外接电脑、抗干扰能力强。l 石英晶体基频 5MHz,6MHz，8MHz，10MHz，33MHz，100MHz可任选。可3、5、7、9、11倍频激励，扫频范围200MHz以内。l 提供两套检测池、满足不同实验需求。可配置注射泵或蠕动泵、PID自动控制温度。技术参数l 本仪器使用商用镀金8MHzAT切石英晶体，稳定状态下液相中频率测定相邻数值波动可控制在±0.1Hz。l 3.5英寸触屏彩色液晶显示，U盘储存数据，无需外接电脑。l 仪器常规石英晶片直径14 mm，能够非常灵敏地检测非常薄的吸附层的质量、耗散、分子的结构（构象）变化。并可计算其他参数，如：厚度、粘度、弹性模量，同时可以进行分子间反应的动力学分析。l 仪器检测的耗散灵敏度可达10-7, 质量灵敏度为4ng Hz-1 cm-2(基频10MHz) 0.4 pg Hz-1 mm-2(基频100MHz) 频率测定模式数据采集0.2s一组数据 ；（可定制相移角测定模式，数据采集速度可达10微秒，可用于快速瞬态测定）。

货期：30天 品牌：北斗仪器 型号：CA200P产地：广东东莞 名称：制药型光学接触角测量仪 接触角（Contact angle）是指在气、液、固三相交点处c作的气-液界面的切线，此切线在液体一方的与固-液交界线之间的夹角θ，是润湿程度的量度。是现今表面性能检测的主要方法。采用光学成像的原理-图像轮廓分析方式测量样品表面的接触角、润湿性能、表界面张力、前进后退角、表面能等。主要由光源、注射单元、样品台、采集系统、分析软件等组成。设备采用全自动进液装置，性价比高、拓展性强、功能全面、可满足各种常规测量需求，目前已经广泛使用在众多高校院所及企业。测量方法 接触角测量仪可以用来研究药物与不同材料表面之间的相互作用的接触，这对于药物的溶解性、吸附性以及药物管道等方面都具有重要的意义。可用于制药/仿制药/微针药物等行业的研究。1.药物溶解性测试：用来研究药物在固体载体上的溶解性和湿润性，这对于药物制剂的研发和优化非常重要。2.药物释放性能评估：制药过程中，药物需要从固体药物制剂中释放出来。帮助评估药物颗粒或载体材料的湿润性，从而影响药物释放的速率和方式。3.药物吸附性能研究：用于研究药物在固体表面的吸附行为，这对于药物传递、释放和稳定性的理解至关重要。4.药物晶体学研究：药物晶体的形态和结构与药物的性能和稳定性密切相关。可以帮助了解晶体表面的湿润性和晶体与溶液之间的相互作用。5.药物包覆和涂层研究：制药领域常常需要对药物颗粒进行包覆或涂层处理，以改善其生物利用度或稳定性。接触角测量可以用来评估涂层的湿润性和附着性能。设备整体参数型号CA200P名称制药型光学接触角测量仪类型制药型机身材质航空铝输入电源220V 50-60Hz功率10W仪器尺寸约655mm（W）*180mm(L)* 500mm(H)仪器重量约14KG样品平台系统左右X移动手动：行程30mm,精度0.1mm前后Y移动手动：行程50mm,精度0.1mm上下Z移动手动：行程30mm,精度0.1mm水平调整整机水平调整，摄像头水平调整（配送专业级XY水平仪）样品台尺寸130*150mm（可定制）可放置最大样品200（W）*∞(L)*30(H)mm样品台材质航空铝注射系统注液移动行程Y行程：40mm Z行程：35mm，精度0.1mm（针头对中及液滴转移）滴样控制移动行程：60mm,精度：0.01mm滴样方式自动滴样速度0.01-25ul/s滴液精度0.01ul加液方式自动（配送5ml玻璃烧杯加液）微量进样器容量：500ul（全自动液位实时检测）针头标配0.5mm不锈钢针头（可替换）10个、超疏水针头0.25mm（可替换）10个采集系统相机日本SONY原装进口高速工业级芯片(Onsemi行曝光)镜头0.7x-4.5x传感器类型1/2.7英寸全局扫描CMOS分辨率1280×1024焦距±2.5mm可调图像拍摄方法单张、间隔、连续拍摄间隔时间500-3600000ms视频录制方式录像、回播、合成清晰度测量全自动软件对焦最大拍摄速度400帧/s光源系统光源美国进口工业级蓝色冷光源（有效避免因光源散发热量蒸发液滴）组合方式采用日本进口石英扩散膜使得亮度更均匀，液滴轮廓更清晰使用寿命5万小时以上亮度调节PWM无极调节+软件调节亮度识别通过北斗独家算法自动识别亮度保证最佳亮度光源波长465nm功率1W接触角测量接触角测量方法悬滴法、座滴法等测量软件CA V2.0静/动态接触角测量软件+表面能测量软件软件操作系统要求windows 10(64位)接触角测量方式自动与手动接触角计算方法（static contact angle）自动拟合法（ms级别一键全自动拟合，不存在人工误差）、三点拟合、五点拟合、自动测量（包括圆拟合法/斜圆拟合法（Circle method/ Oblique Circle）、椭圆拟合法/斜椭圆拟合法(Ellipse method /Oblique Ellipse)、B-Snake拟合法、凹凸面测量等动态接触角测量（Dynamic contact angle）前进角（Advancing angle），后退角（receding angle），滞后角（hysteresis angle）(可批量拟合多张图片或视频连续拟合计算Video analysis)基线拟合自动与手动角度范围0°＜θ＜180°精度0.1°分辨率0.001°表面能表面能测量方法Fowks法，OWRK法，Zisman法，EOS法，Acid-Base Theory法,Wu harmonic mean法,Extended Fowkes法（软件中预装37种液体数据库，可自行建立液体性能参数）数据可直接调入用于表面能估算，液体库数据可自行添加、删除和修改。可分别得到固体表面能、色散力、极性力、氢键力、范德华分量、路易斯酸分量、路易斯碱分量等表面能单位mJ/m² 表界面张力测量方法自动拟合+手动拟合精度0.01 mN/m测量范围0.1mN/m-2000mN/m润湿性分析粘附功一键自动分析铺展系数一键自动分析粘附张力一键自动分析精度0.001 mN/m单位mN/m审计追踪修改与编辑禁止记录导出格式PDF溯源系统标配入口单独是否可关闭禁止权限分级角色试验员、技术员、管理员自定义定时登出可自定义时间权限编辑允许权限状态激活与冻结用户管理标配用户数量99个众所皆知，软件是一台仪器的灵魂所在，组成系统的硬件虽为测量提供了基础，但只有在软件的支持下，才能完美地实现硬件的功能，充分发挥其潜力，使系统的总体功能和性能如虎添翼。本公司研发定制的CA 2.0静/动态接触角测量软件+表面能测量软件专用测控软件自2010年开始就面向客户提供使用，经过多年来各行业客户的使用反馈、使用要求、国家标准和国外标准的融合，已经达到一个很成熟稳定的状态。拥有自主知识产权的软件控制系统（行业内极少），在对以后软件升级，新标准更换的时候起到一个很大的优势。软件著作权静动态接触角测量软件版权声明：广东北斗精密仪器有限公司拥有光学静动态接触角分析测量仪CA 2.0软件的所有知识产权，本计算机程序受版本法/著作权法和国际公约保护，未经书面授权擅自传播本程序部分或者全部可能遭受严厉的民事刑事制裁，并将在法律允许的范围内受到最大可能的起诉测试报告1.精细机械：系统的框架选用高质量的进口高强度氧化保护铝型材并烤漆处理，所有的其它主要组件也都是由铝合金，不锈钢和铜合金通过精密制作而成。保证仪器极强的稳定性。2.精密定位：系统所有的线性移动单元，包括三维样品台（xy-轴），(Z-轴)注射器/针头的移动调节，均是由直线铜齿条和精密燕尾槽驱动，确保传动平稳、轻松和精细。3.配置齐全的进样器与针头选择：提供数十种不同规格的进样器供使用者选择，如不同规格（25ul/50ul/100ul/250ul/500ul/1000ul….）,不同材质（气密玻璃进样器/塑料进样器），不同品牌（Hamilton/boli….）以满足不同客户需求。提供各种规格（10-34#）以及不同材质（不锈钢/聚四氟乙烯/pp挠性针头）以及特殊针头（弯曲针头），可用于常规接触角测量，也可用于超疏水、超亲水、高粘度等特殊液体的进样、液滴转移等。4.成像系统：采用了行曝光（Rolling Shutter）高分辨率CMOS图像传感器配合pomeas0.7-4.5远心轮廓镜头。保证最佳的成像效果。同时亮度连续数字可调的高强度背光冷光源为成像提供了均匀的背景照明。优质镜头和高分辨率相机能够以理想的尺寸和亮度在图像中显示出液滴，即使是非常小的液滴。5.领 先 的 软 件 平 台 ：软 件 是 整 个 测 量 系 统 的 灵 魂 和大 脑 。 CA 2.0软件 为用户 提 供 了 范 围 广 泛 的功 能 和 特 性 ，而 且 其 中 的 许 多 项目 在 这 一 领 域 均是 出类拔萃 。作 为 一 光 学 方 法 ，测 量 的 精 度 取 决于 成 像 的 质 量 和 后 着 的 处 理 、 分析 和 计 算 方 法 。 其 中 采 用 的 亚 像 素 （ sub-pixel） 液 滴 坐标 检 测 ，自 动 液 /固 /流 -三 相 接 触 线 识 别 ， 液 滴 全 轮 廓 分析 ，和 基 于 连 续 信 息 反 馈 的 液 滴 监 视 功能 等构成了 软 件 的 核 心 组 件 ， 而且 这 一 切 又 都 能 实 时 完成。具备双边接触角自动测量快速拟合功能，分析液体与固体的表面润湿性能、更准确的分析表面的实际润湿情况。6.软件自动生成报告，其中涵盖word、excel、PDF图文、谱图等多种数据报告。7.基线自动倾斜功能，可修正由于样品倾斜或机台倾斜时的差异。8.分级管理系统，权限管理。分实验员与管理员。避免人为数据的改动影响测试结果。9.具备双边接触角测量快速拟合功能，更全面量分析液体与固体的表面润湿性能、更准确的分析表面的实际润湿情况；10.动态拍摄、视频快速测试数据，可以连续性记录测试接触角的变化，再由软件自动批量拟合；11.具备历史数据库功能，记录每一次的测试结果，可追溯历史测试结果。1.usb2.0数字CCD摄像头 1个2.连续变倍光学系统 1个3.手动加样系统 1套4.手动CCD倾斜系统 1套5.表界面分析测量系统应用软件 1套6.说明书纸质一份及说明书电子版 1份7.保修卡及合格证1份8.亲水进样针10个，疏水进样针10个9.500ul进样器1个10.电源线及数据线1条11.XY专用水平仪1个配置清单物料名称数量规格描述主机框架1高强度进口欧标航空铝合金结构搭配模块化设计相机1USB2.0接口， SONY 1/1.8" MT9M001 Rolling shutter CMOS，分辨率H1280×V1024，帧率80fps镜头1对焦距离90mm光源1日本CCS工业级深度定制单波长LED轮廓冷光源，120个密集光源点，配合美国进口柔光板与均光板，亮度连续可调，12V安全电压支撑脚1铝合金+减震胶垫结构，配合减震系统，可调节机台水平与防震效果俯仰调整滑台1螺杆控制，调整范围±1°滴液驱动模块1电机驱动，超细牙丝杆转动，移动行程60mm，导程1mm，重复定位精度±0.01μl滴液升降模块1旋钮驱动，丝杆转动，重复定位精度±1mm样品台升降滑台1齿轮齿条控制，移动行程30mm，分辨率0.1mm样品台平移滑台1齿轮齿条控制，移动行程X30×Y50mm，分辨率0.1mm固定件和连接件1AL6061铝合金数控加工而成，表面烤漆处理控制器1微机控制系统，发送指令控制滴液系统电气控制单元1集成了包括电路、电位器、开关、电源等测量软件1包括接触角测量、表面张力测量、表面能估算和润湿性分析微量进样器1500uL，分辨率0.001ul耗材1亲水进样针，疏水进样针,500ul进样器电脑（选配）1如下配置物料名称品牌物料名称品牌CPU英特尔i3处理器鼠标键盘力拓主板英特尔H61主板机箱金和田内存华硕 8G DDR3 1600电源长城硬盘七彩虹 250G显示器HUYINIUDA 19寸(电脑为选配件 客户可以自配)

仪器简介：QCM200是一种非常灵敏的质量检测仪器，其测量精度可达纳克级，比灵敏度在微克级的电子微天平高100倍，理论上可以测到的质量变化相当于单分子层或原子层的几分之一。主要特点：石英晶体微量天平QCM200系统主要由电子振荡电路、频率计数器和压电石英晶体3部分组成。 其工作原理是：利用了石英晶体谐振器的压电特性，将石英晶振电极表面质量变化转化为石英晶体振荡电路输出电信号的频率变化，进而通过计算机等其他辅助设备获得高精度的数据。QMC 所具有的高灵敏度和实时测量质量改变的特点使其在化学和生物医学研究领域的应用备受关注。QCM200是一种非常灵敏的质量检测仪器，其测量精度可达纳克级，比灵敏度在微克级的电子微天平高100倍，理论上可以测到的质量变化相当于单分子层或原子层的几分之一。系统主要由电子振荡电路、频率计数器和压电石英晶体3部分组成。 测量精度为±1.5ppm；最小测量为1ng；频率范围大于5MHz；RS232接口。利用了石英晶体谐振器的压电特性，将石英晶振电极表面质量变化转化为石英晶体振荡电路输出电信号的频率变化，进而通过计算机等其他辅助设备获得高精度的数据。QMC 所具有的高灵敏度和实时测量质量改变的特点使其在化学和生物医学研究领域的应用备受关注。应用选定的SRS QCM100/200文学引文免疫传感器吸附传感器水分测定仪颗粒显示器污染监测电价测量氢吸附在金属薄膜气泡的形成氧化还原和导电聚合物研究双层表征腐蚀研究表面氧化DNA和RNA杂交的研究抗原抗体反应蛋白质吸附检测病毒衣壳，细菌，哺乳动物细胞生物污染和防污生物膜和生物材料蛋白质相互作用自组装单分子膜（SAMs）的分子印迹聚合物（MIP）朗缪尔/ LB膜激光烧蚀，解吸和故障研究基于MEMS的纳米材料智能生物材料

3T简介：德国3T analytik公司，位于德国图特林根市。3T公司拥有在物理、化学、生物等领域高度专业的产品开发团队，常年致力于为监测表面相关现象、基因毒性检测、微细加工以及实验自动化等方面提供理想的技术解决方案。3T产品包括：耗散石英晶体微天平、全自动高通量DNA损伤检测仪、微流体片ZentriForm系列和高精度温控PelTherm系列等。3T团队以高度创新的理念和精益求精的匠人精神，不断地为我们开发和生产具有高质量、高可靠性、高灵敏度的创新性产品。3T公司主打产品之一耗散型石英晶体微天平QCM-D，采用实时表面传感技术，通过分析芯片表面频率与耗散双重参数变化，可获得吸附层相应的质量、吸附层厚度、粘弹性等多样信息。3T耗散型石英晶体微天平，是世界上少数掌握石英晶体实时能量耗散追踪技术的产品。拥有精确的温控系统和*的自控泵，可以满足一些苛刻的实验要求；*（US8230724B2）设计的石英晶体芯片使实验操作简易，同时保证了设备的高灵敏度和数据的高可靠性；配套的软件管理系统qGraph可控制实验和收集数据，用户可以无标记、实时监控整个实验过程。一、产品介绍：qCell μOpto是QCM-D仪器的一款产品。它专为结合3T先进的QCM-D技术和传感器表面高达600倍的显微镜观察而设计。将QCM-D与实时显微镜相结合，用户可以根据样品表面覆盖度和形态评估频率和阻尼。使用此组合分析样品表面覆盖率，并进一步了解样品的机械性能和表面耦合。qCell μOpto可单独操作或与qCell T系列仪器配合使用。二、产品详情QCM-D可和显微镜联用设计紧凑，与大多数显微镜载物台兼容全自动蠕动泵控制耗散/阻尼和频率监测可选的自动样品控制，单通道可支持8个独立样品Peltier驱动温度控制用户友好的软件界面易于处理三、应用领域胶体附着细菌粘附生物膜形成细胞粘附和扩散

碘化铯闪烁晶体可分为Tl激活、Na激活和纯碘化铯三种，其化学式分别为CsI(Tl) 、CsI(Na)和CsI，它们均为无色透明的立方晶体。CsI(Tl)晶体的光输出可达NaI(Tl)晶体的85%，发光主峰位在550nm，能与硅光电二极管很好地匹配，从而使读出系统大为简化。它的衰减时间与入射粒子的电离本领有关，特别适宜于在强g本底下探测重带电粒子。碘化铯晶体没有解理面、较软且有一定的可塑性，所以晶体可以制成各种各样形状的探测器，同时能够承受猛烈的冲击、震动以及大的温度梯度不损坏。CsI(Na)的发光效率与NaI(Tl) 接近，发射光谱的主峰位在420nm，更容易与光电倍增管配合；温度效应好。特别适合于在高温环境和空间科学研究中使用。它的缺点是在低能(20keV)下发光效率很快下降，潮解作用比CsI(Tl)厉害。纯CsI晶体的潮解性比CsI(Tl)弱得多。其发射光谱中含有一个波长在305nm的快分量(10ns) 和波长在350-600nm附近的慢分量(100-4000ns) 。通过对慢分量的抑制，快/慢分量比可以达到4倍，总的光输出可达NaI:Tl 的4-5%。该晶体的应用有利于获得比较好的时间分辨率。

CHI400C系列时间分辨电化学石英晶体微天平(EQCM)是CH Instruments与武汉大学合作的产品(武汉大学专利)。石英晶体微天平(QCM)可进行极灵敏的质量测量。在适当的条件下，石英晶体上沉积的质量变化和振动频率移动之间关系呈简单的线性关系(Sauerbrey公式)： Df = -2fo2 Dm / [A · sqrt(mr)] 式中是fo晶体的基本谐振频率，A是镀在晶体上金盘的面积，r是晶体的密度(=2.684g/cm3)，m是晶体切变系数(= 2.947´ 1011 g/cm· s2)。对于我们的晶体(fo = 7.995MHz, A = 0.196 cm2)，每赫兹的频率改变相当于1.34 ng。QCM和EQCM被广泛应用于金属沉积，高分子膜中离子传递，生物传感器，以及吸附解吸动力学的研究等等。 CHI400C系列电化学石英晶体微天平含石英晶体振荡器，频率计数器，快速数字信号发生器，高分辨高速数据采集系统，电位电流信号滤波器，信号增益，iR降补偿电路，以及恒电位仪／恒电流仪（440C）。电位范围为± 10V，电流范围为± 250mA。电流测量下限低于50pA。石英晶体微天平和恒电位仪/恒电流仪集成使得EQCM测量变得十分简单方便。CHI400C系列采用时间分辨的方式测量频率的改变。传统的方法是采用频率直接计数的方法，要得到1Hz的QCM分辨率，需要1秒的采样时间。要得到0.1Hz的QCM分辨率，需要10秒的采样时间。我们是将QCM的频率和一标准频率的差值作周期测量，从而大大缩短了采样时间，提高了时间分辨。我们可在毫秒级的时间里得到1Hz或0.1Hz或更好的频率分辨。当和循环伏安法结合时，可允许在0.5V/s的扫描速度下获得QCM的信号。这对需要较快速的测量(例如动力学测量)尤为重要。允许与QCM结合的电化学实验技术包括CV，LSV，CA，i-t，CP。 400C系列在测量QCM频率变化的同时，还能测量晶体谐振网络的电阻变化。 400C系列也是相当快速的仪器。信号发生器的更新速率为10MHz，数据采集速率为1MHz。循环伏安法的扫描速度为1000V/s时，电位增量仅0.1mV。又如交流伏安法的频率可达10KHz。仪器可工作于二，三，或四电极的方式。四电极对于大电流或低阻抗电解池（例如电池）十分重要，可消除由于电缆和接触电阻引起的测量误差。由于仪器集成了多种常用的电化学测量技术，使得仪器可用作通用电化学测量，也可单独用作石英晶体微天平的测量(不同时进行电化学测量)。 CHI400C系列EQCM还包括一个特殊设计的电解池，如图1(a)所示。电解池由三块圆形的聚四氟乙烯组成。直径为35mm，总高度为37mm。最上面的是盖子，用于安装参比电极和对极。中间的是用于放溶液的池体。石英晶体被固定于中间和底下的部件之间，通过橡胶圈密封，并用螺丝固定。石英晶体的直径为13.7mm，晶体两面的中间镀有5.1mm直径的金盘电极(其它电极材料需特殊定做)。新晶体的谐振频率是7.995 MHz。 硬件参数指标： 恒电位仪恒电流仪 (Model440C)电位范围: -10to10V电位上升时间: 2微秒槽压: ± 12V三电极或四电极设置电流范围: 250mA参比电极输入阻抗: 1´ 1012欧姆灵敏度: 1´ 10-12-0.1A/V共12档量程输入偏置电流: 50pA电流测量分辨率: 1pACV的最小电位增量: 0.1mV电位更新速率: 10MHz数据采集: 16位分辨@1MHz自动及手动iR降补偿 CV和LSV扫描速度: 0.000001-5000V/s电位扫描时电位增量: 0.1mV@1000V/sCA和CC脉冲宽度: 0.0001-1000secCA和CC阶跃次数: 320DPV和NPV脉冲宽度: 0.0001-10secSWV频率: 0.1-100kHzACV频率: 0.1-10kHzSHACV频率: 0.1-5kHz自动电位和电流零位调整电流测量低通滤波器,自动或手动设置，覆盖八个数量级的频率范围旋转电极控制输出: 0-10V(430C以上型号)电解池控制输出: 通氮，搅拌，敲击最大数据长度: 256K-1,384K点可选仪器尺寸: 37cm (宽) x 23cm (深) x 12cm (高)仪器重量: 3.3kg CHI400C系列仪器不同型号的比较： 功能400C410C420C430C440C循环伏安法（CV）lllll线性扫描伏安法（LSV）#lllll阶梯波伏安法（SCV）# llTafel图（TAFEL） ll计时电流法（CA）l lll计时电量法（CC）l lll差分脉冲伏安法（DPV）# llll常规脉冲伏安法（NPV）# llll差分常规脉冲伏安法（DNPV）# l方波伏安法（SWV）# lll交流（含相敏）伏安法（ACV）# ll二次谐波交流（相敏）伏安法（SHACV）# ll电流-时间曲线（i-t） ll差分脉冲电流检测（DPA） l双差分脉冲电流检测（DDPA） l三脉冲电流检测（TPA） l控制电位电解库仑法（BE）l lll流体力学调制伏安法（HMV） l扫描-阶跃混合方法（SSF） l多电位阶跃方法（STEP） l计时电位法（CP） l电流扫描计时电位法（CPCR） l多电流阶跃（ISTEP） l电位溶出分析（PSA） l开路电压-时间曲线（OCPT）lllll 恒电流仪 lRDE控制（0-10V输出） ll任意反应机理CV模拟器 ll预设反应机理CV模拟器lll 注： #：包括相应的极谱法和溶出伏安法．用于极谱法时需要特殊的静汞电极或敲击器． *：价格不包括计算机．仪器的保修期为一年．

我们的标准型QCM机台，AFFINIX QN，具有单信号信道道单元，有利于生产优质数据。从生物科技领域到材料相关领域，AFFINIX QN灵活的测量平台与友善的使用接口，利于各种创新研究的需要。特点： 采用振荡法 (QCM法) 机台小巧轻便，测量室可客制化从1信道扩充到4信道 (同时共同测量) 使用玻璃细胞容器，溶剂耐受性高 性能优异，高灵敏度和低噪声 可进行亲和力，结合常数测量、动力学分析 比色皿批次测定自由度高 开放式设计易于注入样品并测量 搭配温度控制器可加热与冷却 暖机迅速，开机后即可开始分析 维护容易 可更换AFFINIX QNμ（微）测量单元 (缓冲液量：400-550μl，杯类型的丙烯酸传感器单元) 操作简单容易上手应用领域：分子相互作用分析（生物技术，材料相关） 无须标定，可用于实时监测分子辨识或分子间反应监控 比较性试验 (特异性或非特异性配体、分析物浓度、缓冲液条件、温度等试验) 试验条件的初步研究与建立 分子间交互作用亲和力分析、动力学常数分析 (Kd, Ka, Kon, Koff) 聚合反应监控 聚合物、薄膜、奈米颗粒、奈米管或其他奈米材料的评估 蛋白质–蛋白质交互作用，抗原–抗体反应测定，β-淀粉蛋白的自我聚集DNA杂交试验，错配的碱基对检测，RNA-DNA, RNA-Protein，醣–蛋白交互作用，多糖水解反应测试，醣基转移酶之聚合反应，研究脂蛋白– 抗菌胜肽的交互作用，脂质体的结合作用，脂双层分子的支持作用DNase水解酶反应研究 ， Trypsin胰蛋白酶蛋白质降解，聚合酶延伸反应蛋白质小分子相互作用，抑制剂的评估 ，药理结合之评估，Ligand – 受体交互作用，毒素评估研究薄膜合成研究，聚合材料与生物分子的交互作用，聚合物的分解，生物兼容性聚合物之评估，胶体粒子的吸附奈米碳管的吸附，金属解离分析，原油溶液评估，清洁剂有效性的评估细胞表面黏附研究，细胞的药物反应AFFINIX QN传感器：AFFINIX QN所使用的长条形传感器，是由陶瓷载体与27 MHz的石英晶体所组成。一般来说，样品的固定化需使用到有机溶剂，而AFFINIX QN感应对有机溶剂有高度耐受性。传感器表面使用标准金元素，适用于多种生物化分子的固定化作用。对于实验的操作，目前已建立许多生物分子的固定化实验操作流程，以及非特异性结合的阻断操作流程。根据不同试验的需求，传感器表面可客制化不同涂层，如SiO2, TiO2表面涂层。 使用高灵敏度的27 MHz频率（基本共振频率） 陶瓷载体和石英晶体组成的长条形传感器 AFFINIX QN传感器表面使用标准金元素 金属氧化物表面涂层的传感器（如二氧化硅，二氧化钛） 石英晶体微天平（QCM）：当分子结合上正在震荡的石英晶体表面，石英晶体震荡频率会随着分子结合量的增加而减少，利用Sauebrey方程式可计算频率改变与结合量变化之间的关系，从而得知晶体表面重量的变化。根据Sauebrey方程式，1 Hz的频率变化相当于0.62 ng/cm2表面结合量。27 MHz的石英晶体具有高共振基频，可提供更大的频率变化，侦测灵敏度是传统5 MHz的石英晶体微天平的30倍。AFFINIX系列选择指南： AFFINIX Q8AFFINIX QNμAFFINIX QN需分析简单分子间交互作用○◎◎需测定结合常数与速率常数◎○○分析样品量少◎○△大量样品分析◎○○分析溶液中需混有机溶剂△△○固定化需使用有机溶剂○○◎黏弹性物质的测定───溶剂的黏性测试──◎◎非常适合 ○适合 △较不适用 ─不适用 规格：名称AFFINIX QN模型QCM2008-STKIT测量原理及测量方法晶体振荡方法 (QCM)测量频率和灵敏度27MHz的（基本）30pg /赫兹 (620 pg/cm2?Hz)检测重量范围每个传感器为100pg - 10μg（2 ng/cm2 – 200 μg/cm2）振荡稳定度液体相位噪声宽度等于或低于1 Hz（在稳定25℃蒸馏水环境下）平均频率偏移1Hz /分钟或更小（在稳定25℃蒸馏水环境下）注射方法手动方法，可多分析物连续注入（顺序加入）分析最小注入量0.1μL测量的通道数1 (最多可扩充到4个通道)容量玻璃细胞容器 (5?11毫升)，亦有小细胞容器 (1.6mL)也可，属消耗品传感器陶瓷传感器芯片搅拌系统磁力搅拌器温度控制机制珀尔帖组件测量温度范围10?50.0℃（设定值0.1℃单位）系统软件专用测量分析（包括PC许可认证） ※将预装出货。我们提供的CD-ROM安装免费测量数据浏览器软件。数据处理单元格式Windows的笔记本计算机尺寸140 (W) x 350 (D) x 220 (H)（mm）重量7.7公斤电源供应AC 100?240V，1A数据通信系统以太网络选项专用分析软件AFFINIX Q用户观（AQUA）安装光盘使用环境温度20?30℃（建议）标准配件装置主体（1），通信和测定试剂盒（1）通信和测量套件 （型号：QCMSTKIT）PC体（1）计算机配件（全套）LAN电缆（1）玻璃池（1） 搅拌器（1）USB存储器（1）传感器芯片（1）操作说明（1） 测量数据浏览器软件CD-ROM（1）PC体通信测量控制软件，嵌入式PC耗材传感器芯片、玻璃细胞搅拌器的小细胞阻断剂

紫外空心光子晶体光纤 —— 可传输266-355nm紫外皮秒激光脉冲上海昊量光电设备有限公司推出一系列Kagome型中空光子晶体光纤，Kagome光纤是一种不依赖带隙导光的新型空心微结构光纤。UV波段空心光子晶体光纤（无暗化）结构设计灵活、损伤阈值高、损耗低（高透区损耗可低至~40dB/km）、支持宽带传输（100-500nm）。UV波段空心光子晶体光纤（无暗化）可通过改变纤芯所充气体及调节气压实现对光纤色散、非线性效应的有效调制，在强场物理、超强激光技术等领域研究中优势突出。我们的中空光子晶体光纤工作波段包含266nm-3μm范围内的大部分常见波长，主要包括266-355nm、405-450nm、515-532nm、780-800nm、1030-1064 nm、1550nm、2μm波段，具有近单模传输、低色散低损耗、承受功率高（可承受50W或者500μJ&百fs激光脉冲），宽波段传输等特点。主要应用包括激光微加工、激光脉宽压缩、激光频率转换等应用。关键词：紫外光子晶体光纤,UV 光子晶体光纤,Kagome 光子晶体光纤,Kagome光子晶体光纤,Kagome,反谐振,空心光子晶体光纤,空心光纤除了裸纤维，同时我们提供针对该系列空心光子晶体光纤的充气阀门，简化了相关用户的实验方案，如下图所示：下表为传输损耗和光纤色散优化在266nm-355nm波段的空心光子晶体光纤参数，如您需要其他波段，请联系上海昊量光电！PMC-C-UV Hollow-core Fiber optimized for 266-405nm rangePhysical PropertiesCore ContourHypocycloidInner core diameter25μm±1 or 40μm±1Output fiber diameter200μm or 230μm±1%Fiber coating diameter400μm ±30μmOptical Propertiescenter wavelength355nmAttenuation @355nm150dB/kmAttenuation @343nm150dB/kmDISPersion @343nm-355nm-5 5ps/nm.km 关于昊量光电：上海昊量光电设备有限公司是光电产品专业代理商，产品包括各类激光器、光电调制器、光学测量设备、光学元件等，涉及应用涵盖了材料加工、光通讯、生物医疗、科学研究、国防、量子光学、生物显微、物联传感、激光制造等；可为客户提供完整的设备安装，培训，硬件开发，软件开发，系统集成等服务。

一 仪器概述实时跟踪分子变化. 我们的QCM-D系统是建立在一个行之有效的技术之上,它具备许多科学依据.其技术基础是在 接通恒频电源的情况下,通过石英晶体振荡频率来进行测试,由于石英晶体上的质量变化而导致 振荡频率也变化.在测试过程中,其质量微小的变化可通过纳克灵敏度来测量. 独特的Q-Sense设备分散测量法可提供有关薄片结构及粘弹性特性的信息.它还能提供反应前 后诸如吸附膜的分子结构，厚度和含水量以及对基板表面的独特见解等相关信息。耗散因子的 测量是通过断开电源后石英振荡频率渐渐减慢过程中得出的。 QCM-D可测量任何能被加工成薄膜状的表面，比如聚合体，金属或化学生成的表面。此系统 还能实时进行分析且每秒可提供高达200个数据点。二 仪器特点l 实时追踪表面通过可达到纳克级别的灵敏度来测量物体质量变化,结构特征 及粘弹性特性.可辨别两个相似的物体或观测约束层中的相位 变化和结构变形.l 实时分析Q-Sense系统每秒可高达200个数据点可使您一步一步有序 地完成分子间相互作用力的测试.l 灵活选择测试面可测试多种物质表面及涂料层包括金属，金属氧化物，聚合 物，油脂和反应表面l 系统Q-sense提供 系统. E1系统包括指导,软件,电脑和安装. Q-sense还会提供培训和技术支持.l 单个传感器系统紧凑,易于使用,免标定的单个传感器式设计使得此系统在 进行测量时可靠,稳定并有优良的重复性.l 可供选择模块附件模块,可选择电化学和窗口模块等,

高纯锗晶体（12N,13N） 1、晶体习性与几何描述： 该晶体使用直拉法在晶体（100）方向延伸。圆柱形表面（表面光洁度小于2.5 μm RMS）。经红外成像法检测晶体结构稳定可靠。晶体几个结构由直径和长度决定。当一个晶体属于原生态晶体时，其当量直径为： D ----外形尺寸当量直径 W----锗晶体重量 L-----晶体长度 测量值是四舍五入最小可达到毫米级别。为了便于订单出货，我们会依据晶体的体积、直径和长度进行分类。同时我们可以满足客户的特殊需求，提供定制服务。 2、纯度：残留载荷 最大允许净载流子杂质浓度与探头二极管的几个构造有关，请参照如列公式。其纯度依据据霍尔效应测量和计算。 同轴探测器：同轴探测器适用于下列公式： Nmax = 每立方厘米最大杂质含量 VD = 耗尽层电压 = 5000 V εo = 介电常数 = 8,85 10-14 F/cm εr = 相对介电常数(Ge) = 16 q = 电子电荷1,6 10-19C (elementary charge) r1 = 探测器内孔半径 r2 = 探测器外孔半径 3、纯度 ： 假如晶体表面半径减少2mm,由于锂的漫射和刻蚀，内径8毫米的内孔半径， 适用公式变为： D = 晶体外表面 平面探测器：平面探测器（厚度小于2厘米）适用于以下公式： d=探测器外观尺寸厚度 径向分散载荷子（绝对值） 迁移：霍尔迁移 性能： P 型晶体 μH ≥ 10000 cm2/V.s N 型晶体 μH ≥ 10000 cm2/V.s 能级： P 型晶体 通过深能瞬态测量，Cutot ≤ 4.5*109 cm-3 N 型晶体 通过深能瞬态测量点缺陷 5*108 cm-3 晶体主要指标： P 型晶体 N 型晶体 错位密度 ≤ 10000 ≤ 5000 星型结构 ≤ 3 ≤ 3 镶嵌结构 ≤ 5 ≤ 5 4、高纯度高纯锗HPGe晶体说明： 高纯锗晶体产地法国物理性质颜色银灰色属性半导体材料密度5.32g/cm3熔点937.2℃沸点2830℃ 技术指标材料均匀度特级光洁度特优纯度99.99999%-99.99999999999%（7N-13N)制备方式锗单晶是以区熔锗锭为原料，用直拉法（CZ）法或者垂直梯度法（VGF法）等方法制备的锗单晶体。产品规格P、N型按客户要求定制产品用途超高纯度，红外器件、γ辐射探测器P型N型高纯锗在高纯金属锗中掺入三价元素如铟、镓、硼等，得到p型锗；在高纯金属锗中掺入五价元素如锑、砷、磷等，得到n型锗。交货期90天

CHI400C系列电化学石英晶体微天平 CHI400C系列时间分辨电化学石英晶体微天平(EQCM)是CH Instruments与武汉大学合作的产品(武汉大学专利)。石英晶体微天平(QCM)可进行极灵敏的质量测量。在适当的条件下，石英晶体上沉积的质量变化和振动频率移动之间关系呈简单的线性关系(Sauerbrey公式)： Df = -2fo2 Dm / [A sqrt(mr)] 式中是fo晶体的基本谐振频率，A是镀在晶体上金盘的面积，r是晶体的密度(=2.684g/cm3)，m是晶体切变系数(= 2.947′1011 g/cms2)。对于我们的晶体(fo = 7.995MHz, A = 0.196 cm2)，每赫兹的频率改变相当于1.34 ng。QCM和EQCM被广泛应用于金属沉积，高分子膜中离子传递，生物传感器，以及吸附解吸动力学的研究等等。CHI400C系列电化学石英晶体微天平含石英晶体振荡器，频率计数器，快速数字信号发生器，高分辨高速数据采集系统，电位电流信号滤波器，信号增益，iR降补偿电路，以及恒电位仪／恒电流仪（440C）。电位范围为±10V，电流范围为±250mA。电流测量下限低于50pA。石英晶体微天平和恒电位仪/恒电流仪集成使得EQCM测量变得十分简单方便。CHI400C系列采用时间分辨的方式测量频率的改变。传统的方法是采用频率直接计数的方法，要得到1Hz的QCM分辨率，需要1秒的采样时间。要得到0.1Hz的QCM分辨率，需要10秒的采样时间。我们是将QCM的频率和一标准频率的差值作周期测量，从而大大缩短了采样时间，提高了时间分辨。我们可在毫秒级的时间里得到1Hz或0.1Hz或更好的频率分辨。当和循环伏安法结合时，可允许在0.5V/s的扫描速度下获得QCM的信号。这对需要较快速的测量(例如动力学测量)尤为重要。允许与QCM结合的电化学实验技术包括CV，LSV，CA，i-t，CP。400C系列在测量QCM频率变化的同时，还能测量晶体谐振网络的电阻变化。400C系列也是相当快速的仪器。信号发生器的更新速率为10MHz，数据采集速率为1MHz。循环伏安法的扫描速度为1000V/s时，电位增量仅0.1mV。又如交流伏安法的频率可达10KHz。仪器可工作于二，三，或四电极的方式。四电极对于大电流或低阻抗电解池（例如电池）十分重要，可消除由于电缆和接触电阻引起的测量误差。由于仪器集成了多种常用的电化学测量技术，使得仪器可用作通用电化学测量，也可单独用作石英晶体微天平的测量(不同时进行电化学测量)。CHI400C系列EQCM还包括一个特殊设计的电解池，如图1(a)所示。电解池由三块圆形的聚四氟乙烯组成。直径为35mm，总高度为37mm。最上面的是盖子，用于安装参比电极和对极。中间的是用于放溶液的池体。石英晶体被固定于中间和底下的部件之间，通过橡胶圈密封，并用螺丝固定。石英晶体的直径为13.7mm，晶体两面的中间镀有5.1mm直径的金盘电极(其它电极材料需特殊定做)。新晶体的谐振频率是7.995 MHz。硬件参数指标 恒电位仪恒电流仪 (Model440C)电位范围: -10to10V电位上升时间: 2微秒槽压: ±12V三电极或四电极设置电流范围: 250mA参比电极输入阻抗: 1′1012欧姆灵敏度: 1′10-12-0.1A/V共12档量程输入偏置电流: 50pA电流测量分辨率: 1pACV的最小电位增量: 0.1mV电位更新速率: 10MHz数据采集: 16位分辨@1MHz自动及手动iR降补偿 CV和LSV扫描速度: 0.000001-5000V/s电位扫描时电位增量: 0.1mV@1000V/sCA和CC脉冲宽度: 0.0001-1000secCA和CC阶跃次数: 320DPV和NPV脉冲宽度: 0.0001-10secSWV频率: 0.1-100kHzACV频率: 0.1-10kHzSHACV频率: 0.1-5kHz自动电位和电流零位调整电流测量低通滤波器,自动或手动设置，覆盖八个数量级的频率范围旋转电极控制输出: 0-10V(430C以上型号)电解池控制输出: 通氮，搅拌，敲击最大数据长度: 256K-1,384K点可选仪器尺寸: 37cm (宽) x 23cm (深) x 12cm (高)仪器重量: 3.3kg CHI400C系列仪器不同型号的比较 功能400C410C420C430C440C循环伏安法（CV）lllll线性扫描伏安法（LSV）#lllll阶梯波伏安法（SCV）# llTafel图（TAFEL） ll计时电流法（CA）l lll计时电量法（CC）l lll差分脉冲伏安法（DPV）# llll常规脉冲伏安法（NPV）# llll差分常规脉冲伏安法（DNPV）# l方波伏安法（SWV）# lll交流（含相敏）伏安法（ACV）# ll二次谐波交流（相敏）伏安法（SHACV）# ll电流-时间曲线（i-t） ll差分脉冲电流检测（DPA） l双差分脉冲电流检测（DDPA） l三脉冲电流检测（TPA） l控制电位电解库仑法（BE）l lll流体力学调制伏安法（HMV） l扫描-阶跃混合方法（SSF） l多电位阶跃方法（STEP） l计时电位法（CP） l电流扫描计时电位法（CPCR） l多电流阶跃（ISTEP） l电位溶出分析（PSA） l开路电压-时间曲线（OCPT）lllll 恒电流仪 lRDE控制（0-10V输出） ll任意反应机理CV模拟器 ll预设反应机理CV模拟器lll 注： #：包括相应的极谱法和溶出伏安法．用于极谱法时需要特殊的静汞电极或敲击器． *：价格不包括计算机．仪器的保修期为一年．

QSense Omni 耗散型石英晶体微天平——高效无忧的QCM-D技术 创新引领未来QCM-D技术的开创者瑞典百欧林科技有限公司与查尔姆斯理工大学是QCM-D技术的开创者，QSense为纳米级表界面相互作用跟踪和表征提供全球领先的、高端的耗散型石英晶体微天平。QSense 耗散型石英晶体微天平通量高、易于使用，可以为您提供独特的、可重复的和有深度的数据。这有助于您了解反应的基本原理过程、提前预测真实结果以及优化产品和流程，以适应真实的反应条件。拥有一台QSense耗散型石英晶体微天平，可以使您和您的团队一直处于科学进步和技术创新的最前沿。QSense Omni是我们最新一代QCM-D耗散型石英晶体微天平，现有的技术加上几十年对表界面相互作用的深度理解，QSense Omni可以为您提供更清晰的结果和更顺畅的实验过程。QSense Omni可以更快展示您独到的见解，并基于高度可控的测量结果做出更可靠的结论。QSense Omni 适用场景：您需要简单易用 &bull 开箱即用的解决方案&bull 开启工作所需的一切皆已包含您需要灵活性 &bull 自由构建满足您现在和将来需求的系统您需要自动化 &bull 最大限度地减少操作时间&bull 最大限度地提高可重复性您重视数据质量 &bull 从全新一代高端QCM-D仪器中获取值得信任的结果QSense Omni 技术特点： &bull 自动样品切换&bull 自动运行QC程序 &bull 直接注入液体 &bull 快速液体交换 &bull 芯片自动锁紧 &bull 集成样品加热舱 &bull 各通道流速独立调节 &bull 实时编辑程序三个选用QSense Omni的原因： 数据解析更容易一流的信号处理和快速可重复的液体交换，QSense Omni为您提供清晰、简洁的数据。数据解析和分析更为轻松自信。实验过程更顺畅得益于直观的设计、智能的工作流程和灵巧的自动化，成功进行QCM-D实验并获取可信和可重复的结果变得史无前例地轻松简单。生产力大幅提高，工作更有效率。与研究共同成长设计卓越、功能智能，QSense Omni为科学进步和未来创新量身定制。升级到更多通道或增加QSense Orbit来构建更多元化的实验设置和补充测量，您可以轻松跨越入门级门槛，让QSense Omni与您的研究共同成长。QSense芯片——多种芯片表面可选：QSense芯片是QCM-D测量的核心。芯片涂层的选择对于您的实验至关重要。百欧林科技可提供超过我们提供50种标准芯片涂层和200多种定制芯片，涵盖各种材料，包括金属、氧化物、碳化物、聚合物、功能化涂层和标准化土壤。您可以从种类繁多的芯片中找出哪种芯片材料和涂层最适合您的研究。也可以根据您的需求让百欧林为您量身定制，我们可以让您尽可能接近真实的反应条件。百欧林科技开发和生产的芯片，经过严格的验证。QSense芯片将为您的QSense系统提供稳定、可靠和可重复的数据。芯片建议一次性使用。 QSoft Omni 软件：一同领略 QSoft Omni 软件的风采吧！一个全新的、用户友好的软件，旨在帮助您完成实验设置并成功获得实验数据。当您在准备实验时，QSoft Omni 软件会在后台进行QC程序，确保测量条件最佳。QSoft Omni帮您采集数据，而Dfind使您的数据分析更轻松。图片 2：QSoft Omni 软件QSoft Omni 软件主要特点：&bull 引导式工作流程带领您完成实验设置&bull 后台自动运行QC程序，确保实验结果最佳&bull 拖放界面和实时编辑使程序开发变得更为轻松&bull 事件日志自动记录自动操作和用户注释QSense Omni模块及配件——探索更多：浏览以下可选配模块，扩展您的实验设置和可能性。QSense湿度模块用于测量芯片上涂覆的薄膜对蒸气的吸收和释放。QSense窗口模块该系统可以在芯片表面上同时进行QCM-D测量和显微镜观察。您还可以进行对光或辐射敏感的实验。QSense 电化学模块想在同一表面上同时进行QCM-D和电化学测量？该模块支持多种电化学方法，如循环伏安法和电化学阻抗测量，可探索如聚合物的界面行为、静电相互作用、腐蚀性能等。QSense电化学窗口模块该模块可在芯片表面上同时进行QCM-D测量和光学、电化学测试，该模块通常用于光伏等应用。QSense开放模块开放模块无需管路，样品需求量低。您可以直接移液少量液体确保覆盖芯片即可。该模块可进行样品挥发性、外部触发反应（如光诱导反应和化学触发反应）等研究。QSense湿度模块用于测量芯片上涂覆的薄膜对蒸气的吸收和释放。QSense ALD（原子层沉积）样品架适用于真空或气相环境测量。QSense PTFE流动模块适用于对钛材料敏感的测量体系。类似于标准流动模块(QFM 401)，但流路部分的钛被PTFE替换。客户谏言：BASF试用QSense Omni后的第一印象“我观察到QSense Omni减少了交叉污染，这对于获取准确的数据至关重要。我认识到这在我们未来的研究中极具潜力和价值。”- Peter Stengel“从我进行实验的初步经验来看，很明显QSense Omni是为易于使用而设计的，多个用户可同时开展实验。”- Franziska TauberQSense Omni技术参数：让我们深入了解下QSense Omni的技术性能，您还可以将这些参数与其他QSense仪器进行比较。测量范围和能力通道数1 - 4工作温度4 到 70 °C芯片基频5 MHz 频率范围1-72 MHz倍频数量7, 均可用于粘弹性建模样品和流速芯片上方体积~ 20 μl最小样品体积（流动模式）~ 90 μl流速范围1-200 µ l/min测量特性最大时间分辨率每秒300个数据点 (每个数据点一个f 值和D值 )最小噪音a频率: 0.005 Hz耗散因子: 1∙ 10-9温度：0.0005 &ring C质量: 0.08 ng/cm2不同模式下的性能请参阅样本第7页长期稳定性 b C频率: 0.25 Hz/耗散因子: 0.04.10-6 /h温度: 0.003 &ring C/hSoftware软件QSoft OmniDfind分析软件数据输出7个倍频下的频率和耗散因子厚度（或质量）、粘度、剪切模量以及粘度和剪切模量的频率依赖性、动力学、斜率、上升时间等电脑配置USB 2.0或更高版本Type C接口Intel i5处理器（或同等处理器）内存不小于8GB屏幕分辨率不小于1920 x 108064位处理器屏幕分辨率不小于1366×768内存不小于4 GB操作系统Windows 10或更新版本（Windows早期版本可能无法正常运行）数据输入/输出SQLitepdf, rtf, png, svg, gif, csv, xls, ogw电源仪器输入24 V DC, 10 A外部电源输入100-240 V AC, 50-60 Hz, 12.5 A尺寸和重量高(cm)宽(cm)深(cm)重量(kg) d单通道32223614双通道32293622三通道32363629四通道32433637所有规格可能会在未经通知的情况下更改b. 温度稳定性取决于外部环境对样品舱的加热或者制冷。如果由于气流或热源等原因，室温变化超过±1℃，可能无法达到指定的温度稳定性。c. 数据测试条件如下：QSX 303 SiO2芯片在25℃的去离子水中测量，流速为20µ l/min，数据采集速率为每秒1个数据点，测量时长1小时。用于分析的数据间隔为2分钟。等待超过1小时可以获得更好的稳定性。d. 重量不包括外部电源。QSense Omni实际性能：更高的采样速率不可避免地会产生更高的噪音和提高检出限。通过明显降低噪音水平，QSense Omni极大地降低了检出限。下面的图表描述了QSense Omni在三种不同采样间隔下的检测限，可以看出在高采样频率下检出限也可以做到非常低。下面的图表列出了每种采集模式下的采集速度和检出限（LOD）。表1 a：性能特征数据采集设置采集7个倍频数据需要的时间(s)f/n-噪音 (Hz)检测限(ng/cm² )耗散因子D噪音(∙ 10-6) 低噪音9.680.0050.2390.001正常1.060.0090.4960.003快速0.090.0291.5130.011图2a：每种采集模式下的采集速度和检出限（LOD）。不同的采样间隔下的理论检测限（LOD）。检测限设定为频率噪音水平的3倍。a 实验条件如下：QSX 303 SiO2芯片在20°C温度下、流量15μL/min的去离子水中使用一个测量通道进行测量。每种测量模式测量5分钟，根据1分钟时间范围内采集数据点的标准偏差，统计确定噪音数据。

MicroVacuum是源于匈牙利的品牌。工作原理： 　　仪器的核心组件为具有功能表面的石英芯片，通过石英晶体的压电效应来实时监控表面反应。 　　当物质在石英晶体表面发生吸脱附反应或者石英晶体表面的液体性质发生变化时，都会引起频率的变化和振荡损耗(耗散)的变化。芯片共振频率的变化，与芯片表面吸附的物质的质量相关。而振荡能量损耗的强度与吸附物质本身的粘弹性及结构相关。QCM-I系列均可以高精度实时的监控这些变化。 　　通过分析频率变化与耗散变化，可以获得吸附层相应的质量、吸附层厚度、粘弹性(剪切模量)等信息。应用领域： 　　分子相互作用动力学研究(结合/解离常数)细胞吸附、迁移与变化药物作用与药物筛选生物材料相容性研究聚电解质膜的层层组装血凝检测及分析酶降解研究生物传感器平台高分子溶胀、结构变化原油富集及储运研究材料腐蚀与防污水处理及环境污染物消除矿物浮选纳米颗粒分散性流体粘弹性新能源行业细菌生物膜研究

**********仪器简介**********QCM-D技术的核心是石英晶体传感器，它由石英晶体夹在两片电极中间形成三明治结构。在电极两端加入一个交流电压，在传感器的共振频率处引发一个小的剪切振动，当交流电压关闭后，振动呈指数衰减，这个衰减被记录下来，得到共振频率(f)和耗散因子(D)两个参数。 对于薄层硬质薄膜，可以使用Sauerbrey关系和公式，根据传感器振动计算吸附层的质量。当沉积的薄膜松散和粘性时，能量通过薄膜上的摩擦被消耗，传感器的振动发生衰减，耗散因子提供了传感器上吸附的薄膜的结构信息。通过使用多个频率和耗散因子数据，使用粘弹性模型而非Sauerbrey关系，我们可以计算得到质量（mass）、厚度（thickness）、粘度（viscosity）和弹性（elasticity）。越来越多发表的科学文献证明了QCM-D系统的技术可靠性。该技术的核心是石英晶体在负载电压下以一个特定频率振荡。当晶体上的质量改变时，振荡的共振频率也会随之变化。通过这种方法，可以在纳克级灵敏度上测定质量变化。这种独特的QSense专利设计可以同时测量耗散因子，从而提供薄膜的结构和粘弹性信息。它可以提供诸如吸附膜的分子结构、厚度、水含量的信息。此外还可以检测反应前、进行中和结束后的表面吸附层的变化。耗散因子是指当电路断开后震荡的晶体频率降低到0的时间快慢。任何可在芯片上形成薄膜的物质都可以进行免标记测试，这些物质包括聚合物、金属和化学改性表面。实时测试系统每秒可提供高达200个数据点。 **********产品优势**********● 追踪表/界面变化凭借着纳克级的灵敏度，石英晶体微天平QSense Explorer可以精确测量吸附层的质量变化，结构和粘弹性质。石英晶体微天平QSense Explorer可以区分两个相似吸附层，或者观测相转变或吸附层的结构变化。不仅如此，两种类型相似层的吸附，吸附层相转变或者结构变化，都可以通过石英晶体微天平（QCM-D）检测出来。 ● 实时分析每秒记录高达200个数据点，QSense系统可以让您实时、完整地跟踪分子的相互作用。 ● 自由的表面选择金属，聚合物，化学改性表面，只要是能在芯片表面上铺展成薄膜的材料，都可以成为我们的定制芯片涂层。 ● 整体解决方案QSense提供易于上手的整体解决方案。 QSense Explorer系统包括仪器、软件、电脑和安装教程。QSense也提供技术培训和应用支持。 ● 单通道传感器系统紧凑、易用、免标记的单通道传感器设计保证您进行可靠稳定的QCM-D测试，同时具有极佳的可重复性。● 可选模块可提供如电化学和窗口模块等附件模块。**********仪器原理**********石英晶体微天平QSense Explorer是一种检测吸附在表面上的分子反应机制的实时分析仪器。当分子层在传感器表面质量发生变化或者结构发生改变时，石英晶体微天平QSense Explorer可以测量分子层的变化。在材料、蛋白质和表面活性剂等领域的研究中，石英晶体微天平QSense Explorer设备起到了关键作用。 从快速仪器入门使用，到高质量数据分析，石英晶体微天平QSense Explorer提供了一套完整的解决方案。仪器为单通道测试模块，并且该系统提供可选的窗口模块，可以进行芯片表面即时光学观测。石英晶体微天平QSense Explorer系统的紧凑设计同样可以对芯片上的反应进行光谱研究,如光催化反应（紫外修复）和即时显微研究（细胞在表面吸附）。我们的产品提供包括硬件、软件、技术支持和让您可以快速开始研究所需的介绍、培训以及实验结果解析。石英晶体微天平QSense Explorer设备基于极其灵敏和快捷的技术，带耗散因子检测的石英晶体微天平(QCM-D)。石英晶体微天平的核心是传感器在加载电压的作用下以特定频率下振荡。当传感器上的质量发生变化时，其振荡频率会随之变化(1)。断开电路会导致振荡衰减。衰减速率或者耗散因子与传感器上的分子层粘弹性有关(2)。通过测定频率和耗散，耗散型石英晶体微天平QCM-D可以分析吸附在传感器表面的分子层状态，包括质量、厚度和结构性质(粘弹性)。**********使用方法********************技术参数**********传感器数量1个传感器上方体积~40 μL最小样品体积~300 μL工作温度15-65 °C，由软件控制，精确度±0.02 °C，可提供高温模块，量程4~150°C常规流速0-1 mL/min清洗所有与液体接触元件均可拆卸，并可在超声波浴中清洗传感器晶体5 MHz，直径14 mm，抛光，AT切割，金电极频率范围1-70 MHz (对于5 MHz晶片，从7个频率到13个泛频，最高至65 MHz)最大时间分辨率，1个频率最高达每秒200个数据点液相中常规质量精度与最大质量精度~ 1.8 ng/cm2（18 pg/mm），~ 0.5 ng/cm2（5 pg/mm）液相中常规耗散因子精度与最大耗散因子精度~0.1*10-6，~0.04*10-6液相典型峰间噪音（RMS）~ 0.16 Hz (0.04 Hz)**********具体应用领域如下********** ● 生物材料表面分析 ● 生物传感器的研究 ● 蛋白质的相互作用 ● 膜表面的吸附/解析 ● 生物膜表面DNA的杂交 ● 酶的降解 ● 聚电解质单/多层膜的研究 ● 细胞在不同表面的吸附 ● 靶向药物的研究 ● 催化、腐蚀等研究 ● 高分子溶涨、结构改变、等特性的研究 ● 高分子材料的生物相容性等

QSense High Pressure高压石英晶体微天平可以实时了解真实高温高压条件下，体系的组成成分、添加剂相关化学物质之间的界面相互作用，为您的研究提供了一整套的解决方案。即使是微小的改变，也能对您的工作产生极大的影响，而将您的决定建立在分析科学的基础上，则会增加成功的机会。借助QSense High Pressure高压模块，我们希望能充分激发您的想象力，通过实验测试、分析讨论和方法优化以得到更好的结果。QSense High Pressure高压石英晶体微天平是一款可模拟现实高压反应条件的石英晶体微天平分析设备。压力设置高至200Bar,温度设置高至150℃。您也可以对仪器参数进行个性化定制，以满足特定的实验需求。高压石英晶体微天平由高温样品台、高压流动池、高压泵、液体处理单元和电子单元组成 QSense High Pressure高压石英晶体微天平——专家之选您比我们更了解您的研究领域。然而，无论是努力提高石油产量，防止食品加工设备与管道的污染，还是体系反渗透膜的脱盐效率，充分地了解反应过程都极具价值。通过提高对油岩界面相互作用的理解，您或许能在未来做出更明智的决定。QSense High Pressure高压石英晶体微天平——强有力的研究工具QCM-D是耗散型石英晶体微天平的简称。该技术可记录石英晶体芯片的振荡频率和耗散的变化，为在纳米尺度上研究分子与表面的相互作用提供了新的视角。使用QSense 耗散型石英晶体微天平分析仪，您可以实时跟踪表面上发生的质量、厚度和结构物理特性等变化。QSense 检测得到的质量吸附/脱附量以及反应速率 模拟现实高压反应条件不同的反应条件下进行的测试可能得到完全不同的结果，而这就是我们开发QSense 高压石英晶体微天平的驱动力。我们可提供芯片表面定制，以满足您的不同实验需求。基于QCM-D的检测结果，您可实时根据界面反应得出结论，并对反应流程进行优化。1. 在高压和高温的条件下进行QCM-D实验2. 根据您的特定需求选择芯片的材质和涂层3. 使用不同的有机溶剂和样品，筛选实验方案选择QSense High Pressure高压石英晶体微天平的三个理由:1. 基于对结果至关重要的表面相互作用过程信息做出更明智的决定2. 从表面材料、化学反应、压力和温度等方面模拟真实的反应条件3. 为您的实验室装备一套高灵敏度的科学分析工具QSense High Pressure高压石英晶体微天平的典型应用领域：石油开采从地下油藏或沥青砂中提取石油需要仔细考虑工艺条件。通过运用科学的分析可找到最为优化的方法。提高原油采收率聚合物和表面活性剂的使用可以改变注入水的粘度和岩石的润湿性，从而更好地溶解矿物中的石油。测量矿物芯片表面上聚合物或表面活性剂的吸附和释放的原油，可以优化采收液组成并提高原油采收率。使用较少的表面活性剂可以提供更环保的解决方案并降低成本。燃料和润滑油润滑油被广泛用于控制摩擦和增加运动部件的使用寿命。润滑油溶液由各种具有表面活性的化学物质组成。 优化发动机润滑油了解表面活性化学物质的吸附性质是找到平衡润滑剂的关键。利用不锈钢芯片研究燃料和润滑油添加剂对发动机性能的影响。实时观察吸附情况，寻找化学物质间的微妙平衡，从而优化润滑油的性能。 沥青提取从油砂中提取沥青非常困难。可以使用涂有沥青的二氧化硅芯片模拟油砂并对沥青的释放过程进行分析。通过研究沥青的脱附情况，找出适宜的pH和温度条件，进而提高采收率。 食品加工食品加工设备经过使用后，通常残留的污垢中含有丰富的营养成分，成为微生物生长繁殖的培养基。只有彻底地清除污垢，才能保障加工后的食品处于卫生的环境中。防止污垢沉积检测污垢形成的过程，寻找方法或添加剂以减少污垢沉积。使用不锈钢芯片模拟在设备和管道表面，体系的组成成分和加工温度对结垢的影响，进而找出适宜的化学成分、表面材料、压力和温度，用于预测在高温高压条件下，工业食品加工中不锈钢设备的结垢/清洗行为。管道流动保障管道污染和堵塞是一个代价高昂的问题。通常通过添加化学物质对管道流动进行保障。 RO反渗透膜RO反渗透膜通过对高浓度的一侧施加压力进行逆渗透，工作压力设置不当，会影响产水通量、脱盐率以及RO膜元件的使用寿命。工作压力优化通过调节进水的压力，研究影响反渗透膜的产水通量和脱盐率的因素，使用QSense系统模拟真实世界中高温高压条件的海水淡化设施中可能遇到的传输现象。QSense High Pressure高压石英晶体微天平的技术参数：芯片和样品处理系统工作温度a4 – 150 °C, 由软件控制，精度为 ± 0.02 °C工作压力90 – 200 bar (与交替蠕动泵联用，也可在常压下工作)芯片数量1芯片表面超过50种标准材料，包括金属、氧化物、碳化物和聚合物例如：金、二氧化硅、不锈钢SS2343 & SS2348、氧化铁、高岭石等其他材料如钢和矿物，可根据客户要求定制测量特性时间分辨率，1个频率 100 个数据点/秒液相质量灵敏度b 1 ng/cm2 (10 pg/mm2)液相耗散灵敏度b 0.08 x 10-6电子单元参数电源和频率100 / 115-120 / 220 / 230-240 V AC, 50-60 Hz电源应正确接地软件和电脑要求数据采集软件 (QSoft)USB 2.0, Windows XP 或更高版本数据分析软件(QSense Dfind)操作系统：64位Windows 7 SP1, 8, 8.1, 10或更高版本显示器分辨率： 1366×768像素内存：4 GB数据输入/输出格式Excel, BMP, JPG, WMF, GIF, PCX, PNG, TXT尺寸和重量高 (cm)宽 (cm)长 (cm)重量 (kg)电子单元1836219样品池89112高压阀门和控制面板685050ca 30HPLC 泵14264210 a 温度的稳定性取决于环境变化对样品池升温或冷却的影响。如果附近有气流或热源使室温变化超过±1℃，则可能无法达到系统设定的温度稳定性。b 通过标准的QSense 流动模块采集数据 (单频模式下每5秒采集一个数据点，假定Sauerbrey关系是有效的)。当QSense高压系统芯片背面存在液体时，灵敏度会降低。以上技术参数仅对此配置有效。所有技术指标如有更改，恕不另行通知。

EQCM-D石英晶体微天平JSK-T(II)型石英晶体微天平是本公司独自开发的多功能一体化电化学联用QCM-D型质量传感检测仪器，工作频率可达200MHz，精确测量纳克级甚至皮克级物质质量的传感技术。EQCM仪器价格便宜，操作简单，可实现电化学、光化学、光电化学的现场联用动态监测分析。可广泛用于聚合物表征、Li+ 嵌入材料、金属腐蚀。对AT切型剪切振动石英晶振进行快速阻抗频谱测量，频谱测量可获得诸多信息，可在响应幅值最大处获得谐振频率，峰高、半峰宽也可作为特征参数用来表征压电石英体表面粗糙度、膜粘弹性变化情况。本仪器通过快速频谱扫描技术，获得压电石英体的谐振频率（F） 和耗散因子 D （定义为石英晶体品质因子Q的倒数，通过半高峰宽近似求得）。仪器特点l QCM-D石英晶体微天平基于快速阻抗频率谱测定技术，能够测定谐振频率、振幅、相位等参数，可用于常见压电石英晶体，例如基频5MHz、6MHz、8MHz、10MHz的石英晶体； 可进行奇数倍频测量，频率上限最高可达200MHz,优于目前常见QCM设备。可实现频率、相移、耗散因子等参数测量。根据需要预设参数、个性化定制。 l 仪器带有基本电化学分析模块（含三种常见电分析技术，其他电化学模块可根据要求定制），同步记录石英晶体微天平数据和电化学数据。l 仪器模块化结构、数据显示储存一体、抗干扰能力强。l 石英晶体基频 5MHz,6MHz，8MHz，10MHz，33MHz，100MHz可任选。可3、5、7、9、11倍频激励，扫频范围200MHz以内。l 提供两套检测池、满足不同实验需求。可配置注射泵或蠕动泵、PID自动控制温度。技术参数l 本仪器使用商用镀金8MHzAT切石英晶体，稳定状态下液相中频率测定相邻数值波动可控制在±0.1Hz。l 3.5英寸触屏彩色液晶显示。l 仪器常规石英晶片直径14 mm，能够非常灵敏地检测吸附层的质量、耗散、分子的结构（构象）变化。并可计算其他参数，如：厚度、粘度、弹性模量，同时可以进行分子间反应的动力学分析。l 仪器检测的耗散灵敏度可达10-7, 质量灵敏度为4ng Hz-1 cm-2(基频10MHz) 0.4 pg Hz-1 mm-2(基频100MHz) 频率测定模式数据采集0.2s一组数据 ；（可定制相移角测定模式，数据采集速度可达10微秒，可用于快速瞬态测定）。l 电化学分析模块参数：电压范围-5V—+5V，扫描速度0.001V—10V/s，电流下限0.1nA。电化学分析技术：线性伏安法、循环伏安法、电位阶跃法。可定制其他特殊电化学模块。

产品信息⽯ 英晶体微天平通过石英晶体谐振器的频率变化来测量其单位⾯ 积的质量变化。基于压电效应，经由分⼦ 吸附和分⼦ 相互作用而引起的表面质量变化和能量耗散，石英晶体微天平可以对水性样品中的⽬ 标物进行实时、灵敏以及无标记检测。与表⾯ 等离⼦ 共振（SPR）和荧光检测仪相似，石英晶体微天平可以作为科学研究和产品研发的传感分析检测平台。MIPS公司的便携式⽯ 英晶体微天平拥有⾼ 灵敏度和良好的抗干扰能力， 更集微型泵、多合⼀ 分析室和应用软件于⼀ 身，方便用户使用。 石晶体微天平的应⽤ 范围覆盖化学、生物、医药、环境、农业和材料分析等多个领域。技术指标主要包含了⼀ 个电⼦ 系统、⼀ 个或多个可配镀⾦ ⽯ 英芯⽚ 的微流量模组，集成测试室，以及⼀ 个或多个微型泵。 可以根据要求提供单通道、双通道和多通道石英晶体微天平。应用领域

耗散型石英晶体微天平分析仪QSense Initiator是一款继上代产品之后强化了其核心功能的QCM-D仪器。Initiator简化流动模块设计，使得芯片安装，仪器操作更为简便。更加直观简便的软件操作，省略了一些复杂繁琐的软件设置步骤，使得初学者容易上手。实验数据简明扼要，分析结果一目了然，简化了倍频分析，更加突出石英晶体微天平定性分析的重要功能。QSense Initiator是检测吸附在表面上的分子反应机制的分析仪器。当分子层在芯片表面质量或者结构发生改变时，Initiator可以测量其变化。在材料、蛋白质和表面活性剂等领域研究中，QSense Initiator设备起到了关键作用。从快速入门使用到高质量数据分析，QSense Initiator提供了一套完整的解决方案。我们的产品提供包括硬件、软件、技术支持和让您可以快速开始研究所需的介绍、培训以及实验结果分析。QSense Initiator设备基于极其灵敏和快捷的带耗散因子检测技术。该设备的核心是芯片在加载电压的作用下以特定频率振荡。当芯片上质量发生变化时，振荡频率会随之变化(1)。断开电路会导致振荡衰减(2)。衰减速率或耗散因子与传感器上的分子层粘弹性有关。QCM-D可借此分析吸附在传感器表面的分子层状态，包括质量、厚度和结构性质(粘弹性)。产品优势：● 实时追踪分子运动:QSense Initiator可以实时追踪在芯片表面的分子运动。● 测量分子层的质量和厚度:凭借着纳克级的精度，检测芯片表面分子层的形成过程变成了可能。● 自由的表面选择:金属、聚合物、化学改性表面，只要能铺展成薄膜的材料，都可以成为我们的定制芯片涂层。● 整体解决方案: QSense Initiator提供易于上手的整体解决方案。QSense Initiator系统包括仪器、软件和安装教程。QSense Initiator也提供技术培训和应用支持。● 单通道传感器系统:专为液相流动实验设计！单通道试验模块配有精确的温控单元作为辅助。● 无需标记，原位测试:从生物医药科学探索，到工业级的环境监测，再到清洁用品的研发，QSense Initiator 都提供了广泛有效的应用空间。● 超高的精度：凭借着纳克级的检测精度，它可以实时追踪表面分子质量、厚度变化以及分子间的相互作用。它同时可以检测分子结构和溶剂组分的改变。结果精确，重复性高。● 无限的可能：对于液体或气体环境中各种样品，QSense技术提供了广泛有效的应用空间，最大程度满足您的需求。● 高效简便的数据分析：通过整套QSense设备，直观的分析软件和其他配件的联用，可以获得全面的数据分析。技术参数：传感器数量 1个传感器上方体积和最小样品体积 ~40 μL, ~200μL工作温度 20至45°C, 通过软件控制,稳定性±0.02 °C。常规流速 50-200 μL/min，最大可达1000μL/min液相中常规质量精度与最大质量精度 ~ 1.8 ng/cm2（18 pg/mm），~ 0.5 ng/cm2（5 pg/mm）液相中常规耗散因子精度与最大耗散因子精度 ~0.1*10-6，~0.04*10-6

JSK-T（III）型 多通道石英晶体微天平传感仪JSK-T(III)型石英晶体微天平是本公司独自开发的多功能一体化多通道QCM-D型质量传感检测仪器，工作频率可达200MHz，精确测量纳克级物质质量的传感技术。仪器价格便宜、操作简单，可广泛用于聚合物表征、电池储能材料如Li+ 嵌入材料、金属腐蚀、自组装单层、生物传感器、免疫检测、 蛋白质的相互作用 、膜表面的吸附/解析 、细胞黏附行为、靶向药物筛选、高分子材料的生物相容性等研究领域。仪器原理： 对AT切型剪切振动石英晶振进行快速阻抗频谱测量，频谱测量可获得诸多信息，可在响应幅值最大处获得谐振频率，峰高、半峰宽也可作为特征参数用来表征压电石英体表面粗糙度、膜粘弹性变化情况。本仪器通过快速频谱扫描技术，获得压电石英体的谐振频率（F） 和耗散因子 D （定义为石英晶体品质因子 Q的倒数，通过半高峰宽近似求得）。 仪器特点l QCM-D石英晶体微天平基于快速阻抗频率谱测定技术，能够测定谐振频率、振幅、相位等参数，可用于常见压电石英晶体，例如基频5MHz、6MHz、8MHz、10MHz的石英晶体； 可进行奇数倍频测量，频率上限最高可达200MHz。可实现频率、相移、耗散因子等参数测量。根据需要预设参数、个性化定制。 l 1-8通道任意定制，仪器模块化结构、数据显示储存一体、抗干扰能力强。l 石英晶体基频 5MHz,6MHz，8MHz，10MHz，33MHz，100MHz可任选。可3、5、7、9、11、13倍频激励，扫频范围200MHz以内。l 提供两套检测池、满足不同实验需求。可配置注射泵或蠕动泵、PID自动控制温度。液相多倍频测试结果：

一仪器概述 QCM-D技术的核心是石英晶体传感器，它由石英晶体夹在两片电极中间形成三明治结构。在电极两端加入一个交流电压，在传感器的共振频率处引发一个小的剪切振动，当交流电压关闭后，振动呈指数衰减，这个衰减被记录下来，得到共振频率(f)和耗散因子(D)两个参数。 对于薄层硬质薄膜，可以使用Sauerbrey关系和公式，根据传感器振动计算吸附层的质量。当沉积的薄膜松散和粘性时，能量通过薄膜上的摩擦被消耗，传感器的振动发生衰减，耗散因子提供了传感器上吸附的薄膜的结构信息。通过使用多个频率和耗散因子数据，使用粘弹性模型而非Sauerbrey关系，我们可以计算得到质量、厚度、粘度和弹性。二 技术指标传感器和样品处理系统的技术参数如下： 1、传感器晶体: 5MHz，直径14mm，抛光，金电极 2、传感器数量: 4个，也可使用1、2或3个 3、传感器上方体积: 40ul，采用5MHz晶体，Q-Sense流动模块 4、最小样品体积: 200ul 5、工作温度: 15-65°C(可选项:4-150°C)，由软件控制 控温精度为：0.02°C 6、流动速率: 0-1 ml/min 7、清洁处理: 所有与液体接触元件均可拆卸，并可在超声波浴中清洗 三 主要特点 E4作为Q-Sense公司具有耗散因子检测功能的第二代石英晶体微量天平，可以对多种不同类型表面的分子相互作用和分子吸附进行研究，应用范围包括蛋白质、脂质、聚电解质、高分子和细胞/细菌等与表面或与已吸附分子层之间的相互作用。 E4可以测定非常薄层的吸附层的质量，并同步提供如粘弹性等结构信息。它基于QCM-D专利技术，非常灵敏和快速，可提供多个频率和耗散因子数据，用于充分了解在传感器表面吸附的分子的状态。 *****************测试范围及优势**************** 1、质量测定：测试表面形成的分子层的质量，精度达到毫微克。例如，可检测到1%或更低浓度蛋白质单分子层的结构变化 2、结构变化：同步测试结构变化，因此可以区分两个相似的键合反应或观察到吸附层上发生的相转变 3、实时分析：可以进行实时记录和动力学评估 4、无须标记：无须对分子做标记，仪器测定的是分子本身 5、柔性的表面选择：适用于任何能形成薄膜的表面如金属、高分子、化学改性表面等 6、流量测试：特别设计的样品池可以在控温环境下进行流量测定 四 应用领域l 生物材料表面分析 l 生物传感器的研究 l 蛋白质的相互作用 l 膜表面的吸附/解析 l 生物膜表面DNA的杂交 l 酶的降解 l 聚电解质单/多层膜的研究 l 细胞在不同表面的吸附 l 靶向药物的研究 l 催化、腐蚀等研究 l 高分子溶涨、结构改变、等特性的研究 l 高分子材料的生物相容性等

结晶石英波片- Altechna S波片材料：结晶石英表面质量：S-D : 10-5透射波前失真，P-V：λ/ 10 @ 632.8 nm延迟公差@ 20°C:： ±λ/ 300光圈清晰: ?5 - 76.2毫米增透膜:每个表面的Ravg 0.2％LIDT: 10 J /cm?@ 1064 nm，10 ns，10 Hz安装: 黑色或者白色阳极氧化金属支架深圳因诺尔科技有限公司代理的Altechna S波片由具有双折射的材料制成。通过双折射材料的非常和普通光线的速度与它们的折射率成反比。当两个光束重新组合时，这种速度差异产生相位差。在任何特定波长下，相位差由延迟器（波片）的厚度决定。半（λ/ 2）波片。入射在半波晶体石英波片上的线性偏振光束作为线性偏振光束出现，但是旋转使得它与光轴的角度是入射光束的两倍。因此，半波片可用作连续可调的偏振旋转器。这种波片用于旋转偏振面，以及用于电光调制，并且当与偏振立方体结合使用时用作可变比率分束器。四分之一（λ/ 4）波片 - 薄膜补偿器。如果线性偏振入射光束的电场矢量与四分之一波片的延迟器主平面之间的角度是45°，则出射光束是圆偏振的。当四分之一波片被双重通过时，例如通过镜面反射，它起到半波片的作用并将偏振面旋转到一定角度。四分之一波片用于从线性极化产生圆形，反之亦然，以及椭圆光度法，光泵浦，抑制不需要的反射和光学隔离。零级波片通常是优选的，因为它们对波长，入射角和温度的变化***不敏感。标准波片基于空气间隔结构，可用于高功率应用。对于10ns脉冲10ns，损伤阈值大于20J / cm 2。Altechna波片由优质激光级晶体石英材料制成。深圳因诺尔科技有限公司另提供Altechna 高能波片（High Energy Waveplates）,消色差波片（Achromatic Waveplates）,中红外波片（Mid-IR Waveplates）, Dieletric涂层光学器件, 金属涂层光学元件, 镜头, 棱镜, 过滤器, 旋转三棱镜, 偏振光学, 波片, 薄膜偏振器, 格兰型偏振器, 偏光立方体, 激光晶体, 非线性晶体, 无源Q开关晶体, 光折变晶体, 激光配件, 扩束器, 电动衰减器, 手动衰减器, 大孔径衰减器

eQCM 10M石英晶体微天平特征： 0.02赫兹的频率分辨率 阻抗扫描给予晶体震动的全谱 无需手动补偿并联电容 USB接口 集成的QCM和恒电位仪的数据采集 数据分析采用Gamry的灵活软件或者广泛使用的Echem Analyst™ 软件包。 包括电解池和五个晶片 eQCM 10M石英晶体微天平应用： 聚合物吸附/脱附 电活性聚合物 锂离子的嵌入 离子和溶剂的传输 腐蚀研究 镀研究 欠电位沉积 抗体抗原相互作用 表面活性剂的吸附 自组装膜 纳米粒子吸附 表面涂层 快速数据采集及拟合非常高的数据采集速率。和更昂贵的其他分析仪比较，eQCM 10M 是更为经济的选择。 例如，可以在20毫秒以内获取20 kHz的晶片频谱。与其他一些QCM仪器相比，它不依赖于锁相振荡器，所以它不需要手动取消并联电容。 晶片的频谱是建立在一个有规律函数的线性拟合，Pade近似方程，并且分别提供一系列的串联共振频率和并联共振频率，fs和fp。凭借这两个参数，除了质量变化信息，还可以获得膜的粘弹性质的变化。同时也可以使用这两个参数来获得衰减因素，Qr，其可以很好的定义膜的特性，从一个僵化的膜到粘性膜的变化信息。eQCM 10M石英晶体微天平软件GAMRY的谐振器软件控制QCM和Gamry电化学仪器。谐振器软件配备了全套物理电化学技术。 电化学技术 循环伏安 线性扫描伏安法 计时电流 计时电位 计时电量 控制电位库仑 重复计时电流 重复计时电位 多步骤的计时电流 频率数据和电位数据同时显示在数据采集图中。下面是在金电极上的铜膜的循环伏安中的QCM和电化学数据。采用GAMRY Echem analyst 的数据分析当你采用10 M Gamry的eQCM和Reference 600 TM的结合，就可以建成目前最好的电化学石英晶体微天平。数据可以通过Gamry 的强大Echem 电化学分析软件提供一个直观的感受，包括分析和报告文稿。显示标准的电流/电压曲线，频率数据图。其他绘图格式例如?m对电荷（库仑或摩尔）或Qr随时间变化的曲线也可以自由选择。线性拟合的?m与进入或进出膜的物质摩尔质量的变化曲线。在Echem电化学分析软件中，电流/电压数据覆盖高频数据作为标准数据分析的一部分。我们给予您可以灵活安排任何方式的图表。 此外，采用Visual Basic® 编写的 Echem电化学分析应用程序，大幅度提高修改数据处理的能力。例如，如果你想计算聚合物薄膜中发生氧化还原反应的溶剂通量，你可以写一个自定义的脚本来计算显示通量与电位，时间，或充电的关系曲线。 谐振器甚至有能力记录晶体的整个相对阻抗谱到数据库，包括每个数据点（或每隔n个点）。这激动人心的功能，让你调查实验现象的更多细节。Echem电化学分析软件或任何其他光谱绘图或分析程序（如Mathcad或MATLAB）都可以打开结果而建立模型。 单机使用eQCM 10M系统也可以被用来作为一个独立的仪器来使用。如果你有兴趣研究质量的变化过程，如形成的自组装单层，细胞吸附，或蛋白质结合过程，你会发现eQCM 10M是一个方便的选择。数据分析可以通过GAMRY的强大和灵活的Echem电化学分析软件包完成。 腐蚀工程师对腐蚀过程中的质量的变化也会感兴趣和感觉该技术特别有用，因为金属晶片相关频率的变化可以直接获得物质增重或损失。你甚至可以自定义的数据分析脚本软件，根据质量损失随时间变化率的基础上自动计算出腐蚀速率。 eQCM 10M石英晶体微天平系统信息eQCM 10M与Gamry谐振器软件，Gamry Echem分析师软件，快速启动指南，硬件操作手册（光盘版），软件操作手册（CD），一个eQCM电解池，AC电源适配器，一个USB接口电缆，一个BNC电缆, 一个恒电位仪接口电缆，5 个涂金层的石英晶片。 eQCM 10M提供为期两年的工厂保修服务。eQCM 10M通过连接到一台计算机与一个Gamry恒电位仪，至少含有PHE200™ 许可证的软件完成测量，然后通过Echem结合的QCM和电化学数据分析软件包完成数据的分析。这个 Gamry恒电位仪可以是型号Reference 3000™ ，Reference 600™ , Reference G750™ ，或者G 300™ 。分析软件与微软的Windows XP，Windows Vista® 或 7是兼容的。 eQCM 10M石英晶体微天平相关配件 eQCM 电解池 5兆赫，直径为1.37厘米AT切的涂金层的晶片 5兆赫，直径为1.37厘米AT切的碳包覆晶片系统频率范围1-10 MHz频率分辨率0.02 Hz界面USB操作温度范围0 - 45 oC相对湿度最大90%,非凝结重量1 Kg尺寸75×115×80 mmAC 电源适配器100-264 V AC, 47-63 Hz石英晶体微天平12 V DC, 25 W

NSK-T(II)型高频石英晶体微天平分析仪是本公司独自开发的多功能一体化QCM-D型质量传感检测仪器，工作频率可达200MHz，精确测量纳克级甚至皮克级物质质量的传感技术。仪器通过快速频谱扫描技术，获得压电石英体的谐振频率（F） 和耗散因子 D （定义为石英晶体品质因子 Q的倒数，通过半高峰宽近似求得）。仪器融合相关领域最新技术，仪器模块化结构、仪器价格优惠、使用简单、抗电磁干扰能力强、性能稳定、检测结果可靠。根据客户需要可定制高达32通道多阵列“一键式”检测系统。可实现现场传感表面微小质量变化，可广泛地应用于化学、材料、生物领域研究。仪器特点l 高频石英晶体微天平（QCM-D）能够测定谐振频率、振幅、相位等参数，可用于常见压电石英晶体，例如基频4,5,6,7,8,9,10,11,12MHz的石英晶体； 可进行奇数倍频测量，频率上限最高可达200MHz,优于目前常见QCM设备。可实现频率、相移、耗散因子等参数测量。根据需要预设参数、个性化定制.l 仪器模块化结构、数据显示储存一体、抗干扰能力强、U盘储存数据无需外配电脑。可配蓝牙传输、4G物联网传输。l 仪器智能化软件设计、操作简单、性能稳定、电脑串口通讯可实现8通道同时传递，方便后续数据处理。l 石英晶体基频自动测定。可3、5、7、9、11倍频激励，扫频范围200MHz以内。l 提供两套检测池、带有石英窗的检测池，便于观察晶体表面状况，可进行电化学、光电化学研究。技术参数l 本仪器使用商用镀金5MHz AT切石英晶体，稳定状态下液相中频率测定相邻数值波动可控制在0.05Hz以下。l 本仪器使用商用镀金10MHzAT切石英晶体，稳定状态下液相中频率测定相邻数值波动可控制在0.1Hz以下。l 3.5英寸触屏彩色液晶显示。l 仪器可使用的石英晶片直径范围为：14 mm、8mm、3mm，晶片上测量池容积最小可达15 μL， 能够非常灵敏地检测非常薄的吸附层的质量、耗散、分子的结构（构象）变化。并可计算其他参数，如：厚度、粘度、弹性模量，同时可以进行分子间反应的动力学分析。l U盘储存数据，每隔2秒储存一组实验数据，无需配置电脑。l 可流动注射进样系统，检测池液体体积最小可达20微升。l 可提供QCM恒温检测池，温度控制范围25度到50度之间，PID 智能控温时时显示，温度波动在 + 0.05 度。l 仪器检测的耗散灵敏度可达10-7, 质量灵敏度最高可达0.4 x 10 -12 g Hz-1 mm-2(基频100MHz) 频率测定模式数据采集速度2个/s ；相移测定模式数据采集速度可达10微秒，可用于快速瞬态测定。

电化学石英晶体微天平EQCM是一款通过测量石英晶体的频率变化实现质量检测的高灵敏度设备。电化学石英晶体微天平EQCM作为高灵敏度的测试仪器， 它可以测量在传感器表面或附近吸附层ng级的“湿质量”。该设备的测量原理是基于石英晶体的阻抗分析，测量谐振频率和谐振电导曲线的峰宽。谐振电导曲线的峰宽或半峰宽与耗散因子（Q）直接相关。可以对多种不同类型表面的分子相互作用和分子吸附进行研究，应用范围包括蛋白质、脂质、聚电解质、高分子和细胞/细菌等与表面或与已吸附分子层之间的相互作用；可提供多个频率和耗散因子数据， 用于充分了解在传感器表面吸附的分子的状态。应用领域? 传感器开发? 蛋白质凝聚研究? 生物膜表面污垢表征? 细胞学表征? 双脂质层表征? 电池材料研发? 电聚合? 各类工业条件（真空、滴铸、油墨喷印）下的覆膜监控? 手套箱环境? ALD逐层沉积仪器参数频率测试范围1-61 MHz (基频为5 MHz时，可测试13级倍频)基频为3MHz时，可测试17阶倍频基频为5MHz时，可测试12阶倍频基频为10MHz时，可测试5阶倍频液体中倍频灵敏度1 Hz液体中耗散灵敏度～1x10-6质量灵敏度5ng cm-2每个倍频下测试参数倍频曲线、频率、频率变化、半峰宽、半峰宽变化、耗散因子、耗散因子变化、温度

**********仪器简介**********耗散型石英晶体微天平（QCM-D）技术的核心是石英晶体传感器，它由石英晶体夹在两片电极中间形成三明治结构。在电极两端加入一个交流电压，在传感器的共振频率处引发一个小的剪切振动，当交流电压关闭后，耗散型石英晶体微天平（QCM-D）振动呈指数衰减，这个衰减被记录下来，得到共振频率(f)和耗散因子(D)两个参数。 耗散型石英晶体微天平（QCM-D）对于薄层硬质薄膜，可以使用Sauerbrey关系和公式，根据耗散型石英晶体微天平（QCM-D）传感器振动计算吸附层的质量。当沉积的薄膜松散和粘性时，能量通过薄膜上的摩擦被消耗，耗散型石英晶体微天平（QCM-D）传感器的振动发生衰减，耗散因子提供了传感器上吸附的薄膜的结构信息。通过使用耗散型石英晶体微天平（QCM-D）多个频率和耗散因子数据，使用粘弹性模型而非Sauerbrey关系，我们可以计算得到质量（mass）、厚度（thickness）、粘度（viscosity）和弹性（elasticity）。耗散型石英晶体微天平（QCM-D）QSense Analyzer作为具有耗散因子检测功能的第二代石英晶体微量天平，可以对多种不同类型表面的分子相互作用和分子吸附进行研究，耗散型石英晶体微天平（QCM-D）应用范围包括蛋白质、脂质、聚电解质、高分子和细胞/细菌等与表面或与已吸附分子层之间的相互作用。 耗散型石英晶体微天平（QCM-D）QSense Analyzer可以测定非常薄的吸附层的质量，并同步提供如粘弹性等吸附层结构信息。它基于耗散型石英晶体微天平（QCM-D）专利技术，非常灵敏和快速，可提供多个频率和耗散因子数据，用于充分了解在传感器表面吸附的分子的状态。 **********耗散型石英晶体微天平（QCM-D）的产品优势**********●实时追踪分子运动QSense Analyzer可以实时追踪在芯片表面上发生的分子运动。●测量分子层的质量和厚度凭借着纳克级的精度，检测芯片表面分子层的形成过程变成了可能。 ●分析分子层的结构性质检测分子层的刚性和柔性变化。量化表面吸附薄层的粘弹性，剪切模量，粘度和密度。 ●自由的表面选择金属，聚合物，化学改性表面，只要是能在表面铺展成薄膜的材料，都可以成为我们的定制表面。 ●QCM-D联用测试QCM-D仪器提供标准流动池来进行液相实验。此外电化学样品池、光学样品池、湿度样品池、开放样品池、椭偏样品池、高温样品池、ALD样品架等用来进行不同的实验。这些不同的样品池同样可以和其他分析仪器联用，用以提供更丰富、有效的数据。 ●四通道传感器系统专为液相流动实验设计！四通道联装平行试验模块并配有精确温控单元作为辅助。 ●整体的解决方案， 更易使用完整的系统包括硬件，软件，动手培训和技术支持。我们还提供数据分析指导的网络讲座、研讨会。 ●无须标记，原位测试从生物医药科学探索，到工业级环境监测，再到清洁用品研发， QCM-D都提供了广泛有效的应用空间。**********耗散型石英晶体微天平（QCM-D）的仪器原理**********耗散型石英晶体微天平（QCM-D）QSense Analyzer是一种检测吸附在表面上的分子反应机制的实时分析仪器。当分子层在传感器表面质量发生变化或者结构发生改变时， Analyzer可以测量分子层的变化。在材料、蛋白质和表面活性剂等领域的研究中，QSense Analyzer设备起到了关键作用。 从快速仪器入门使用，到高质量数据分析，QSense Analyzer提供了一套完整的解决方案。仪器有四个流动模块，每一个模块都配备一个传感器，可以进行四个平行测试。多种可选模块，例如电化学QCM-D，可以进行联用测试。我们的产品提供包括硬件、软件、技术支持和让您可以快速开始研究所需的介绍、培训以及实验结果解析。 耗散型石英晶体微天平（QCM-D）QSense Analyzer设备基于极其灵敏和快捷的技术，带耗散因子检测的石英晶体微天平(QCM-D)。该设备的核心是传感器在加载电压的作用下以特定频率下振荡。当传感器上的质量发生变化时，其振荡频率会随之变化(1)。断开电路会导致振荡衰减。衰减速率或者耗散因子与传感器上的分子层粘弹性有关(2)。通过测定频率和耗散，QCM-D可以分析吸附在传感器表面的分子层状态，包括质量、厚度和结构性质(粘弹性)。**********耗散型石英晶体微天平（QCM-D）的使用方法********************耗散型石英晶体微天平（QCM-D）QSense Analyzer的技术参数**********传感器数量4个传感器上方体积~40 μL最小样品体积~300 μL工作温度15-65 °C，由软件控制，精确度±0.02 °C，可提供高温模块，量程4~150°C常规流速50-200 μL/min (Analyzer)；清洗所有与液体接触元件均可拆卸，并可在超声波浴中清洗传感器晶体5 MHz，直径14 mm，抛光，AT切割，金电极频率范围1-70 MHz (对于5 MHz晶片，从7个频率到13个泛频，最高至65 MHz)最大时间分辨率，1个频率最高达每秒200个数据点液相中常规质量精度与最大质量精度~ 1.8 ng/cm2（18 pg/mm），~ 0.5 ng/cm2（5 pg/mm）液相中常规耗散因子精度与最大耗散因子精度~0.1*10-6，~0.04*10-6液相典型峰间噪音（RMS）~ 0.16 Hz (0.04 Hz)**********耗散型石英晶体微天平（QCM-D）具体应用领域如下********** ● 生物材料表面分析 ● 生物传感器的研究 ● 蛋白质的相互作用 ● 膜表面的吸附/解析 ● 生物膜表面DNA的杂交 ● 酶的降解 ● 聚电解质单/多层膜的研究 ● 细胞在不同表面的吸附 ● 靶向药物的研究 ● 催化、腐蚀等研究 ● 高分子溶涨、结构改变、等特性的研究 ● 高分子材料的生物相容性等

AWSensor石英晶体微天平QCM-D西班牙AWSensors研发的石英晶体微天平（QCM），基于其高灵敏QCM-D专利技术，可精确检测频率与耗散，表征亚分子薄膜性质，有效分析物质表面吸附的分子层状态、质量、厚度和粘弹性等性质，可检测气体、液体，并在检测过程中无须对检测分子进行标记，适用于任何能形成薄膜的表面，如金属、高分子、化学改性表面等。石英晶体微天平广泛应用于生物、医学和表面科学等研究领域。此设备采用模块化轻量设计，有1通道和4通道可供选择，可集成温度控制模块和流量控制模块（通道均单独控制），具体配置可根据您的具体需求和预算来搭配。功能图解QCM传感器（Sensors）石英采用AT-cut切割工艺，电极材料多采用铬（Cr）、金（Au）、钛（Ti）等材质，与单元（Cell）之间采用专利快锁结构，结构简单但很皮实，便捷操作同时也保证了检测可重复性，它们的适配一览表如下，详细参数请参阅附件。产品特色高灵敏度——高频 QCM 传感器多种材质实时、无标记检测固-液、固-气界面材料分析多通道系统并行控制。模块化轻量设计，可定制，适应各种预算和不同用户需求系统操作界面友好，可集成温控、流量控制和恒电位仪控制 关于定制：如果您有特殊需求，例如极端温度控制、气氛控制、机器人进样或有限元分析模拟等，欢迎来电咨询合作。应用系统生物医学分析化学生物分析化学生物物理化学界面化学储能器（Energy Storage）电池研究与催化软物质物理等下为案例：使用HFF-QCM传感器（100MHz）进行甲萘威（carbaryl）检测的免疫测定循环。规格参数：AWSensors石英晶体微天平，其组成有：传感器（Sensors）、传感器锁定单元（Cell），控制主机（Base Control Unit，分1通道和4通道）、温度控制单元（可选）和流量控制单元（可选），并集成软件和稳压控制（用于电化学测量）。下图为该设备1通道的4种配置概览。 核心技术参数：流量控制参数此外，AWSensors研发了用于定量注入的两位六通阀，并集成脱泡装置，属于流量控制的Pro版本，更多信息，欢迎来电咨询。Q&A：Cell是怎么密封的？答：FFKM全氟橡胶O形圈或PDMS垫圈最少需要多少液体才能测？答：不同芯片不一样，例如QCM 14MM需要44uL，HFF-QCM芯片需要5.5uL。Batch和Flow的区别？答：Batch 都是静止测量，Flow都是流体测量

特征： 0.02赫兹的频率分辨率 阻抗扫描给予晶体震动的全谱 无需手动补偿并联电容 USB接口 集成的QCM和恒电位仪的数据采集 数据分析采用Gamry的灵活软件或者广泛使用的Echem Analyst™ 软件包。 包括电解池和五个晶片 应用： 聚合物吸附/脱附 电活性聚合物 锂离子的嵌入 离子和溶剂的传输 腐蚀研究 镀研究 欠电位沉积 抗体抗原相互作用 表面活性剂的吸附 自组装膜 纳米粒子吸附 表面涂层 快速数据采集及拟和非常高的数据采集速率。和更昂贵的其他分析仪比较，eQCM 10M 是更为经济的选择。 例如，可以在20毫秒以内获取20 kHz的晶片频谱。与其他一些QCM仪器 相比，它不依赖于锁相振荡器，所以它不需要手动取消并联电容。 晶片的频谱是建立在一个有规律函数的线性拟合， Pade近似方程，并且分别提供一系列的窜联共振频率和并联共振频率，fs和fp。凭借这两个参数，除了质量变化信息，还可以获得膜的粘弹性质的变化。同时也可以使用这两个参数来获得衰减因素，Qr，其可以很好的定义膜的特性，从一个僵化的膜到粘性膜的变化信息。软件GAMRY的谐振器软件控制QCM和Gamry电化学仪器。谐振器软件配备了全套物理电化学技术。 电化学技术 循环伏安 线性扫描伏安法 计时电流 计时电位 计时电量 控制电位库仑 重复计时电流 重复计时电位 多步骤的计时电流 频率数据和电位数据同时显示在数据采集图中。下面是在金电极上的铜膜的循环伏安中的QCM和电化学数据。采用GAMRY Echem analyst 的数据分析当你采用10 M Gamry的eQCM和Reference 600 TM的结合，就可以建成目前先进的电化学石英晶体微天平。数据可以通过Gamry 的强大Echem 电化学分析软件提供一个直观的感受，包括分析和报告文稿。显示标准的电流/电压曲线，频率数据图。其他绘图格式例如?m对电荷（库仑或摩尔）或Qr随时间变化的曲线也可以自由选择。线性拟合的?m与进入或进出膜的物质摩尔质量的变化曲线。 在Echem电化学分析软件中，电流/电压数据覆盖高频数据作为标准数据分析的一部分。我们给予您可以灵活安排任何方式的图表。 此外，采用Visual Basic® 编写的 Echem电化学分析应用程序，大幅度提高修改数据处理的能力。例如，如果你想计算聚合物薄膜中发生氧化还原反应的溶剂通量，你可以写一个自定义的脚本来计算显示通量与电位，时间，或充电的关系曲线。 谐振器甚至有能力记录晶体的整个相对阻抗谱到数据库，包括每个数据点（或每隔n个点）。这激动人心的功能，让你调查实验现象的更多细节。Echem电化学分析软件或任何其他光谱绘图或分析程序（如Mathcad或MATLAB）都可以打开结果而建立模型。 单机使用eQCM 10M系统也可以被用来作为一个独立的仪器来使用。如果你有兴趣研究质量的变化过程，如形成的自组装单层，细胞吸附，或蛋白质结合过程，你会发现eQCM 10M是一个方便的选择。数据分析可以通过GAMRY的强大和灵活的Echem电化学分析软件包完成。 腐蚀工程师对腐蚀过程中的质量的变化也会感兴趣和感觉该技术特别有用，因为金属晶片相关频率的变化可以直接获得物质增重或损失。你甚至可以自定义的数据分析脚本软件，根据质量损失随时间变化率的基础上自动计算出腐蚀速率。 系统信息eQCM 10M与Gamry谐振器软件，Gamry Echem分析师软件，快速启动指南，硬件操作手册（光盘版），软件操作手册（CD），一个eQCM电解池，AC电源适配器，一个USB接口电缆，一个BNC电缆, 一个恒电位仪接口电缆，5 个涂金层的石英晶片。 eQCM 10M提供为期两年的工厂保修服务。eQCM 10M通过连接到一台计算机与一个Gamry恒电位仪，至少含有PHE200™ 许可证的软件完成测量，然后通过Echem结合的QCM和电化学数据分析软件包完成数据的分析。这个 Gamry恒电位仪可以是型号Reference 3000™ ，Reference 600™ , Reference G750™ ，或者G 300™ 。分析软件与微软的Windows XP，Windows Vista® 或 7是兼容的。 相关配件 eQCM 电解池 5兆赫，直径为1.37厘米AT切的涂金层的晶片 5兆赫，直径为1.37厘米AT切的碳包覆晶片系统频率范围1-10 MHz频率分辨率0.02 Hz界面USB操作温度范围0 - 45 oC相对湿度最大90%,非凝结重量1 Kg尺寸75×115×80 mmAC 电源适配器100-264 V AC, 47-63 Hz石英晶体微天平12 V DC, 25 W

高纯锗晶体（12N,13N） 1、晶体习性与几何描述： 该晶体使用直拉法在晶体（100）方向延伸。圆柱形表面（表面光洁度小于2.5 μm RMS）。经红外成像法检测晶体结构稳定可靠。晶体几个结构由直径和长度决定。当一个晶体属于原生态晶体时，其当量直径为： D ----外形尺寸当量直径 W----锗晶体重量 L-----晶体长度 测量值是四舍五入最小可达到毫米级别。为了便于订单出货，我们会依据晶体的体积、直径和长度进行分类。同时我们可以满足客户的特殊需求，提供定制服务。 2、纯度：残留载荷 最大允许净载流子杂质浓度与探头二极管的几个构造有关，请参照如列公式。其纯度依据据霍尔效应测量和计算。 同轴探测器：同轴探测器适用于下列公式： Nmax = 每立方厘米最大杂质含量 VD = 耗尽层电压 = 5000 V εo = 介电常数 = 8,85 10-14 F/cm εr = 相对介电常数(Ge) = 16 q = 电子电荷1,6 10-19C (elementary charge) r1 = 探测器内孔半径 r2 = 探测器外孔半径 3、纯度 ： 假如晶体表面半径减少2mm,由于锂的漫射和刻蚀，内径8毫米的内孔半径， 适用公式变为： D = 晶体外表面 平面探测器：平面探测器（厚度小于2厘米）适用于以下公式： d=探测器外观尺寸厚度 径向分散载荷子（绝对值） 迁移：霍尔迁移 性能： P 型晶体 μH ≥ 10000 cm2/V.s N 型晶体 μH ≥ 10000 cm2/V.s 能级： P 型晶体 通过深能瞬态测量，Cutot ≤ 4.5*109 cm-3 N 型晶体 通过深能瞬态测量点缺陷 5*108 cm-3 晶体主要指标： P 型晶体 N 型晶体 错位密度 ≤ 10000 ≤ 5000 星型结构 ≤ 3 ≤ 3 镶嵌结构 ≤ 5 ≤ 5 4、高纯度高纯锗HPGe晶体说明： 高纯锗晶体产地法国物理性质颜色银灰色属性半导体材料密度5.32g/cm3熔点937.2℃沸点2830℃ 技术指标材料均匀度特级光洁度特优纯度99.99999%-99.99999999999%（7N-13N)制备方式锗单晶是以区熔锗锭为原料，用直拉法（CZ）法或者垂直梯度法（VGF法）等方法制备的锗单晶体。产品规格P、N型按客户要求定制产品用途超高纯度，红外器件、γ辐射探测器P型N型高纯锗在高纯金属锗中掺入三价元素如铟、镓、硼等，得到p型锗；在高纯金属锗中掺入五价元素如锑、砷、磷等，得到n型锗。交货期90天