纳米科学大型仪器区域中心

魔技纳米MJ-Works适用多种材料的超快激光微纳加工中心超快激光微纳加工中心，不仅拥有纳米级3D加工能力，还配备了双波长飞秒激光输出，可加工更广泛的材料。可对玻璃、光纤、晶体内部和表面进行改性或刻蚀，也可对金属、合金、陶瓷等硬质材料进行微米级精度的处理，包括打孔、表面结构处理、选择性激光消融、改性等多种功能。MJ-Works同样拥有高精度、超高速度的特点，并且可进行大幅面加工、全自动操控、长时稳定性、简单直观的软件操作以及适配多种材料的特点，适用于微纳光学、生物医学、半导体、光通信等行业的微纳加工领域。 如需了解更多产品信息，欢迎查询我司官网 魔技纳米科技或来电咨询。 [企业介绍]魔技纳米科技创立于2017年，是一家高精度微纳三维装备制造与服务提供商、国家高新技术企业、省专精特新企业。主要业务为高端激光微纳三维直写光刻设备的研发、生产、销售及技术服务等。研发团队拥有十余年微纳三维制造技术经验，在光学、电气、机械、软件、材料等方面，拥有完整的自主开发能力，可以为多行业应用场景提供专业的一体化解决方案。企业推出了高精度纳米级3D打印设备、超快激光加工中心、无掩膜直写光刻设备三大系列及多款光刻胶产品，其中自主研发的商用纳米级三维激光直写系统，可实现70纳米精度的三维结构加工。凭借高精度、高速度、大幅面和长时稳定性等技术优势，实现了科研探索到商业化应用的跨越，有力推动了微纳三维制造在生物医疗、光电通信、新材料、微纳器件、航空航天等领域的规模化工业生产。

魔技纳米PROME-Uni基于多光⼦ 聚合原理的超⾼ 速度一体化纳米级三维加⼯ 设备自研专利技术，大幅提高加工效率，突破多光子聚合速度限制，适应不同尺度的精密加工需求；拥有多项稳定系统，可长时无需维护，稳定工作；采用模块化的光机电设计，拥有极高的灵活性和可扩展性；为科研和工业领域提供全新的3D加工技术解决方案，适用于微光学器件、微流控芯片、微机械、超材料、微纳传感器件光子芯片集成等领域 主要特点： 如需了解更多产品信息，欢迎查询我司官网 魔技纳米科技或来电咨询。 企业介绍 魔技纳米科技创立于2017年，是一家高精度微纳三维装备制造与服务提供商、国家高新技术企业、省专精特新企业。主要业务为高端激光微纳三维直写光刻设备的研发、生产、销售及技术服务等。研发团队拥有十余年微纳三维制造技术经验，在光学、电气、机械、软件、材料等方面，拥有完整的自主开发能力，可以为多行业应用场景提供专业的一体化解决方案。企业推出了高精度纳米级3D打印设备、超快激光加工中心、无掩膜直写光刻设备三大系列及多款光刻胶产品，其中自主研发的商用纳米级三维激光直写系统，可实现70纳米精度的三维结构加工。凭借高精度、高速度、大幅面和长时稳定性等技术优势，实现了科研探索到商业化应用的跨越，有力推动了微纳三维制造在生物医疗、光电通信、新材料、微纳器件、航空航天等领域的规模化工业生产。

压电直线纳米位移台ML-92A 大行程直线位移台，不仅拥有紧凑的安装尺寸，同时还兼具低温真空等应用环境。是小空间内大行程高精度的定位的优先选择产品。 压电直线纳米位移台ML-92A尺寸参数外形尺寸（长*宽*高）123*28*15.5mm台面平面度10 μm总重量190g运动参数行程±46mm运动速度上限3mm/s材料机身铝合金/驱动PZT压电陶瓷/驱动机构铍青铜/导线屏蔽线，铜线/运动控制闭环位置传感器分辨率2nm开环运动分辨率0.05nm负载垂直运动方向负载20N沿运动方向负载4N操作环境操作温度0~60℃操作湿度温度达到40℃时，相对湿度95%。（非冷凝）/是否适用真空是其它控制类型开环/闭环/驱动电压上限125V以上就是东莞市卓聚科技有限公司提供的压电直线纳米位移台ML-92A的介绍，了解更多直接咨询：原文： 随着微电子、纳米科技和人工智能等领域的进一步发展，精密定位不仅在实验室用途广泛，工业界的应用也越来越多。该团队在以往研究基础上，发展出一系列具有自主知识产权的超精密定位产品，填补了国产空白。一个火柴盒大小、外壳包覆金属的小方块，通过电压控制能够实现纳米级别的精密位移，可以用于对精密度要求超.高的科学实验、精密制造和半导体工业等领域。日前，在松山湖材料实验室高.端科研设备产业化团队的实验室内，团队负责人许智展示了该团队拥有核心技术的压电驱动纳米位移台。安徽泽攸科技有限公司为您提供压电旋转纳米位移台RF-5950A的参数、价格、型号、原理等信息，压电旋转纳米位移台RF-5950A产地为安徽、品牌为泽攸科技，型号为旋转纳米位移台，价格为面议，更多相关信息可来电咨询，公司客服电话7*24小时为您服务

压电直线纳米位移台ML-23A，大行程直线位移台，不仅拥有紧凑的安装尺寸，同时还兼具低温真空等应用环境。是小空间内大行程高精度的定位的优先选择产品。 尺寸参数外形尺寸（长*宽*高）43.4*20.0*12.8mm台面平面度10 μm总重量42g材料机身铝合金/驱动PZT压电陶瓷/驱动机构铍青铜/导线屏蔽线，铜线/粗调模式运动范围±11.5mm运动步进50~2000nm速度上限3mm/s细调模式细调步进0.05nm细调范围3000nm闭环运动分辨率20nm负载垂直运动方向负载20N沿运动方向负载4N操作环境操作温度-20~80℃是否适用真空是/其它控制类型开环/闭环/运动分辨率0.05nm驱动电压上限125V以上就是东莞市卓聚科技有限公司提供的压电直线纳米位移台ML-23A的介绍，了解更多直接咨询：原文： 随着微电子、纳米科技和人工智能等领域的进一步发展，精密定位不仅在实验室用途广泛，工业界的应用也越来越多。该团队在以往研究基础上，发展出一系列具有自主知识产权的超精密定位产品，填补了国产空白。一个火柴盒大小、外壳包覆金属的小方块，通过电压控制能够实现纳米级别的精密位移，可以用于对精密度要求超.高的科学实验、精密制造和半导体工业等领域。日前，在松山湖材料实验室高.端科研设备产业化团队的实验室内，团队负责人许智展示了该团队拥有核心技术的压电驱动纳米位移台。 安徽泽攸科技有限公司为您提供压电旋转纳米位移台RF-5950A的参数、价格、型号、原理等信息，压电旋转纳米位移台RF-5950A产地为安徽、品牌为泽攸科技，型号为旋转纳米位移台，价格为面议，更多相关信息可来电咨询，公司客服电话7*24小时为您服务

厦门福流生物科技有限公司自主研发的纳米流式检测仪（Flow NanoAnalyzer）是一款真正具有单个纳米颗粒（100 nm）多参数综合表征能力的流式产品，是纳米尺度颗粒（7-1000 nm）的有效表征设备，可以在单颗粒水平对生物纳米颗粒的物理化学和生化性状进行快速的多参数综合表征，填补了国际空白，在核酸疫苗、外泌体、疫苗/病毒（慢病毒、腺病毒、腺相关病毒）、纳米药物、细菌、亚细胞器等生物医药领域均有成熟的解决方案，对生物医学和纳米科技的创新发展形成非常重要的助力。详细参数如下：1.前所未有的检测灵敏度和分辨率。2. 梯度稀释的线性相关性和重现性。福流生物的纳米流式检测仪（Flow NanoAnalyzer）可实现外泌体、亚细胞结构、细菌、病毒等天然生物纳米颗粒以及功能化纳米颗粒的表征，为流式分析技术打开了通往纳米世界的窗口。通过对单个7-1000 nm纳米颗粒的粒径、颗粒浓度以及生物化学性质(表面蛋白、核酸、磷脂等)的高分辨、高通量检测，纳米流式检测仪为生命科学和生物医学研究以及纳米科技的发展提供了一个强有力的表征手段。 纳米流式检测仪填补了国际空白，客户遍布全球顶级机构，全球用户接近200家，如美国安德森癌症中心、梅奥诊所、约翰霍普金斯大学、美国国立卫生研究院（NIH）、Codiak Biosciences、EVOX、帝国理工大学、悉尼大学、第一三共、葛兰素史克、赛诺菲、台湾大学、复旦大学等全球高水平研究机构和高科技公司，获得全球机构和科研院所的认可，欢迎电话咨询或留言进行了解！

多功能台式　微米和纳米加工制造仪 适合各式纳米材料及薄膜的表面粗糙度或表面形貌量测。● 无需抽真空及快速的量测取得量测图像。● 直觉性的操作接口。● 一键扫描的快速功能。ACST为科研人员和教育工作者带来了一种先进的、多功能的台式微米和纳米制造的仪器，可以作为研究和教育工具。不仅帮助科研人员拓展他们现有的工作向不同的领域发展，而且还可以帮助教育工作者打夯实基础，教育学生掌握工业用的微米和纳米加工制造技术。COSMOS nanoFAB是一个加工制造仪器，这对我们培养纳米科学家的教育计划至关重要，也为学生在日益增长的微制造和纳米技术领域提供丰富的就业机会。 COSMOS nanoFAB采用了一种非常成熟的设计，充分考虑到其性能、成本和多样性。模块化设计理念允许在不同的技术中使用通用型的机械元件/电子元件，从而保证了使用方便和成本低廉。该仪器完全有能力成为快速j加工或新研究的实验验证工具。在教育领域，COSMOS nanoFAB可应用于表面化学、材料科学、工业应用、电子元件和半导体器件制造、生物分子固化和生物传感应用等领域的教学和应用。可被应用于高解析影像和测量需求，特别是具备次奈米级的 Z 轴分辨率。其低噪声和开回路设计于一体的扫描仪可以快速地针对样本进行扫描。独特光像散式的光路模块提供业界最小的雷射光点，让用户可运用于更小且快速的AFM 探针，COSMOS nanoFAB提供了在纳米和微米加工制造技术方面的功能，这并且在业界得到了很好的认可： ★ 紫外线光刻: 通过一系列的实验，学生们学习了紫外线光刻技术的概念；半导体行业的基本技术★ 微接触印刷（μCP）： 学生们了解这一传统简易的技术，使用有机、无机和生物材料进行纳米/微米的图案加工。★ 纳米压印加工技术（NIL）： 学生操作和实践纳米压印加工技术。业内专家认为，作为半导体行业未来的市场需求，纳米 压印加工技术（NIL）是最具前景的一项技术。 总之，COSMOS nanoFAB可以应用的领域包括：● 表面化学● 材料科学● 工业应用● 半导体器件的电子元件制造● 生物固定和生物传感应用● 直觉式的数据撷取软件 PSX 可提供用户在最基本教育训练下，即可直接操作。值得一提的是，一键扫描功能可自动地设定参数与进行扫描，用户同样能够快速获得高质量的扫描结果。PSX 内建的扫描库管理功能有效地简化扫描数据的整理，以方便用户删除或输出扫描图文件。 ● 永效性的光路校准系统---雷射点实时维持在四象限二极管中心，不须另外校正。● 一键扫描- 藉由智能预测算法，即可轻松点击按键便可进行全自动扫频、下针、做力图曲线、以及扫描样品等相关流程。 应用案例和模块信息介绍-微接触印刷（μCP）: 描述：微接触印刷(μCP)是一种非光刻技术，也是“软刻蚀技术”的前身。μCP是一种常有吸引力的、可以应用于生物技术领域的、用于微米和纳米图案/结构制备的技术。它使用弹性印章，通过将各种分子（从有机分子到大的生物物质）点印到固体基底上，以生成二维的微米和纳米结构。这项技术包括两个主要步骤：印章的制作及印刷，如图所示。包被靶标分子的弹性印章通过预施加的控制来接触基底表面，从而将靶标分子转移到基底上。不同的大小和形状的几何图形可以生成各种各样的印章，例如可以使用大的平面印章或滚动印章(类似于油漆辊)在平面和非平面表面上点印，从而轻松地对很大的区域进行图案制备。印章是由弹性体聚合物制成，如聚二甲基硅氧烷(PDMS)，聚氨酯，聚酰亚胺和树脂等等。 应用：微接触印刷是一个从下而上的加工技术,由于简单方便，高通量和成本低廉，现广泛应用于多个领域，如光学、MEMS、高密度分子电路、微流体、微阵列和生物传感器点印寡核苷酸、固定细胞来研究细胞-细胞和细胞-基底表面的相互作用、生成肽阵列研究免疫实验和生物传感器实验的蛋白质和生物配体。 我们客户还可以探索如何在大尺寸和纳米尺度上点印计算机芯片或者如何制作生物传感器。例如，在实验室里，可以使用大尺寸和纳米尺度的印章，用光刻技术制作纳米印章模板和聚合物。印章将被包被有机小分子与黄金等贵金属，然后点印在黄金薄膜的基底上，随后的是金的湿蚀刻，没有被有机分子保护的区域将被蚀刻。在这样的一个实验中，印章上的结构将被复制到基底上。 应用案例和模块信息介绍-光刻技术: 光刻技术是当今世界上最成功的精密加工技术之一。自1959年发明以来，它就是最有价值和最有利润的行业，最初是开发出来用于微电子工业（集成电路平面技术），现在也被用来制造微型器件（硅晶体平面的三维结构材料刻蚀)。从那以后，这个行业一直在广泛需求中不断发展，包括单个电路元件和整合的半导体材料，基本上所有的集成电路是用光刻技术制造的。光刻工艺概述如图所示，预先设计的图案是从光掩模（例如用电子束光刻法）传送到靶标的硅基底。该程序包括以下常用的步骤: 1、在硅片层基底上包被一层薄薄的紫外线敏感的聚合物抗蚀剂（光刻胶）（图2a，图2b）。 2、随后紫外光透过有图案的印章（图2c）进行照射，只有部分抗蚀剂暴露在紫外线下，这引起了抗蚀溶解度的变化。然后将印章放置于离样品尽可能近的地方但是不接触，如图2c所示。由于光衍射，辐射面积会增大一些，大于印章对应的开口区域（这将导致分辨率降低）。这种光刻蚀程序只能用于创建尺寸小于辐射波长的图案和器件。因此，半导体工业也开始使用更短波长的光线来做辐射。 3、紫外线曝光后，将样品浸入显影剂中，以便从显影剂中除去光刻胶暴露在光线下的地方（图2d）。 4. 硅晶片上的抗蚀图案随后被用来从裸片上蚀刻材料（将硅晶片暴露于蚀刻剂）（图2e）或沉积电路设计需要的其他材料。最后光刻胶完全脱离硅晶片（图2）。 在这四个步骤之后，抗蚀剂（光刻胶）上的图案特征被转移到硅晶片的基底上（步骤f）。整个过程可以按电路设计要求重复多次。 用途：光刻蚀是一种从上而下的制作工艺，选择光刻蚀工艺是因为它可以产生小到几十纳米的图案，并提供精确的控制形状，大小，并且制备成本非常低。 光刻技术被广泛应用于从微电子到生命科学的各个行业，在可预见的未来，它还将是微处理器、存储器和其他微电子设备信息技术的基础。此外，它还用于许多设备的制造业和小型化，从而带来了高性能、可移植性、节约时间、节省成本、节省试剂、提高生产通量、改善功耗、提高检测限度以及新功能的开发。 应用案例和模块信息介绍-纳米压印加工技术（NIL）: 描述：纳米压印加工技术（NIL）是基于一种与传统微加工有着根本区别的原理，该技术具有高通量，小于10纳米分辨率和低成本的优点，是目前其他现有刻蚀方法无法达到的。在压印过程中，图案被热敏或紫外光复制到抗蚀剂中，然后被转移到下面的基底上。在热敏纳米压印加工技术（NIL）(T-NIL)工艺中，将表面具有纳米结构的模具压入基底上铸造的薄层抗蚀剂中。抗蚀剂是一种热敏塑料，由于粘度低，在玻璃化温度（Tg）以上时容易变形。当抗蚀剂冷却到Tg以下时，模具被移除，模具的图案被复制在抗蚀剂中。在光固化纳米压印加工技术（UV- NIL）中，将模具在室温下，压入顶层的UV光刻胶中，然后紫外照射交联抗蚀剂，最后模具复制品转移到底层的抗蚀剂和基底上。 在这两个过程中，模具表面都涂上了钝化层，以防止在分离过程中抗蚀剂粘在模具上。在图案转移过程中，利用反应离子刻蚀~RIE等各向异性刻蚀工艺去除压缩区域的残余抗蚀剂，将压印中产生的厚度对比图案转移到整个抗蚀剂中。 应用：为了加快纳米结构的研究和商业化，必须有一个高通量和低成本的纳米加工技术，来实现尺寸、形状和间距完全自由化的设计。这就是为什么纳米压印会快速发展，并且它已经扩展到许多学科，如微电子学、生物学、化学、医学和信息存储。还有希望应用于光学器件、磁存储器、微电子机械系统、生物技术、微波器件的三D打印、生物技术中使用的微流控通道、存储器VRAM的环形结构、无源光学元件等。

中图仪器W系列微纳米超精密3D光学形貌轮廓仪是一款用于对各种精密器件及材料表面进行亚纳米级测量的检测仪器。可广泛应用于半导体制造及封装工艺检测、3C电子玻璃屏及其精密配件、光学加工、微纳材料及制造、汽车零部件、MEMS器件等超精密加工行业及航空航天、科研院所等领域中。可测各类从超光滑到粗糙、低反射率到高反射率的物体表面，从纳米到微米级别工件的粗糙度、平整度、微观几何轮廓、曲率等。应用领域对各种产品、部件和材料表面的粗糙度、波纹度、面形轮廓、表面缺陷、磨损情况、腐蚀情况、孔隙间隙、台阶高度、弯曲变形情况、加工情况等表面形貌特征进行测量和分析。工作原理利用光学干涉原理，照明光束经半反半透分光镜分成两束光，分别投射到样品表面和参考镜表面。从两个表面反射的两束光再次通过分光镜后合成一束光，并由成像系统在CCD相机感光面形成两个叠加的像。由于两束光相互干涉，在CCD相机感光面会观察到明暗相间的干涉条纹。干涉条纹的亮度取决于两束光的光程差，根据白光干涉条纹明暗度以及干涉条文出现的位置解析出被测样品的相对高度。中图仪器W系列微纳米超精密3D光学形貌轮廓仪具有测量精度高、操作便捷、功能齐全、测量参数涵盖面广的优点，测量单个精细器件的过程用时短，确保了高款率检测。特殊光源模式可以广泛适用于从光滑到粗糙等各种精细器件表面的测量。产品功能1)样件测量能力：单一扫描模式即可满足从超光滑到粗糙、镜面到全透明或黑色材质等所有类型样件表面的测量；2)单区域自动测量：单片平面样品或批量样品切换测量点位时，可一键实现自动条纹搜索、扫描等功能；3)多区域自动测量：可设置方形或圆形的阵列形式的多区域测量点位，一键实现自动条纹搜索、扫描等功能；4)自动拼接测量；支持方形、圆形、环形和螺旋形式的自动拼接测量功能，配合影像导航功能，可自定义测量区域，支持数千张图像的无缝拼接测量；5)编程测量功能：支持测量和分析同界面操作的软件模块，可预先配置数据处理和分析步骤，结合自动单测量功能，实现一键测量；6)数据处理功能：提供位置调整、去噪、滤波、提取四大模块的数据处理功能；7)数据分析功能：提供粗糙度分析、几何轮廓分析、结构分析、频率分析、功能分析等五大分析功能。8)批量分析功能：可根据需求参数定制数据处理和分析模板，针对同类型参数实现一键批量分析；9)数据报表导出：支持word、excel、pdf格式的数据报表导出功能，支持图像、数值结果的导出；10)故障排查功能：配置诊断模块，可保存扫描过程中的干涉条纹图像；11)便捷操作功能：设备配备操纵杆，支持操纵杆进行所有位置轴的操作及速度调节、光源亮度调节、急停等；12)环境噪声评价：具备0.1nm分辨率的环境噪声评价功能，定量检测出仪器受到外界环境干扰的噪声振幅和频率，为设备调试和故障排查提供定量依据；13)气浮隔振功能：采用气浮式隔振底座，可有效隔离地面传导的振动噪声，确保测量数据的高精度；14)光源安全功能：光源设置无人值守下的自动熄灯功能，当检测到鼠标轨迹长时间未变动后会自主降低熄灭光源，防止光源高亮过热损坏，并有效延长光源使用寿命；15)镜头安全功能：双重防撞保护，软件ZSTOP防撞保护，设置后即以当前位置为位移下限位，不再下移且伴有报警声；设备配备压力传感器，并在镜头处进行了弹簧结构设计，确保当镜头碰撞后弹性回缩，进入急停状态，大幅减小碰撞冲击力，有效保护镜头和扫描轴，消除人为操作的安全风险。中图仪器W系列微纳米超精密3D光学形貌轮廓仪的复合型EPSI重建算法，解决了传统相移法PSI扫描范围小、垂直法VSI精度低的双重缺点。在自动拼接模块下，只需要确定起点和终点，即可自动扫描，重建其超光滑的表面区域，不见一丝重叠缝隙。部分技术指标型号W1光源白光LED影像系统1024×1024干涉物镜标配：10×选配：2.5× 5× 20× 50× 100×光学ZOOM标配：0.5×选配：0.375× 0.75× 1×物镜塔台标配：3孔手动选配：5孔电动XY位移平台尺寸320×200㎜移动范围140×100㎜负载10kg控制方式电动Z轴聚焦行程100㎜控制方式电动Z向扫描范围10 ㎜主机尺寸（长×宽×高）700×606×920㎜恳请注意：因市场发展和产品开发的需要，本产品资料中有关内容可能会根据实际情况随时更新或修改，恕不另行通知，不便之处敬请谅解。

压电直线纳米位移台ML-15A，大行程直线位移台，不仅拥有紧凑的安装尺寸，同时还兼具低温真空等应用环境。 尺寸参数外形尺寸（长*宽*高）33.4*20*12.8mm台面平面度10 μm总重量30g材料机身铝合金/驱动PZT压电陶瓷/驱动机构铍青铜/导线屏蔽线，铜线/粗调模式运动范围±7.5mm运动步进50~2000nm速度上限3mm/s细调模式细调步进0.05nm细调范围3000nm闭环运动分辨率20nm负载垂直运动方向负载20N沿运动方向负载4N操作环境操作温度-20~80℃是否适用真空是/其它控制类型开环/闭环/运动分辨率0.05nm驱动电压上限125V 以上就是东莞市卓聚科技有限公司提供的压电直线纳米位移台ML-15A的介绍，了解更多直接咨询：原文： 随着微电子、纳米科技和人工智能等领域的进一步发展，精密定位不仅在实验室用途广泛，工业界的应用也越来越多。该团队在以往研究基础上，发展出一系列具有自主知识产权的超精密定位产品，填补了国产空白。一个火柴盒大小、外壳包覆金属的小方块，通过电压控制能够实现纳米级别的精密位移，可以用于对精密度要求超.高的科学实验、精密制造和半导体工业等领域。日前，在松山湖材料实验室高.端科研设备产业化团队的实验室内，团队负责人许智展示了该团队拥有核心技术的压电驱动纳米位移台。安徽泽攸科技有限公司为您提供压电旋转纳米位移台RF-5950A的参数、价格、型号、原理等信息，压电旋转纳米位移台RF-5950A产地为安徽、品牌为泽攸科技，型号为旋转纳米位移台，价格为面议，更多相关信息可来电咨询，公司客服电话7*24小时为您服务

魔技纳米DLW-Bio专为生物应用设计的加工检测一体纳米级三维激光直写设备DLW-Bio具备纳米级高精度3D加工能力，满足复杂生物结构的微纳制造需求，同时可兼有生物荧光显微功能。设备配备多种生物样品台，可根据具体需求灵活配置和定制，适应不同生物医学样品和微流控芯片等打印要求。该设备还特别配备多种生物相容性打印材料，包括无生物毒性且具备亚微米特征和高纵横比的光敏聚酯、水凝胶，均符合ISO-10993-5/USP87标准，可在生物医学领域安全应用。用户可以根据研究需要选择适合的材料，实现定制化的生物医学样品打印。从组织工程到微流控芯片，从药物递送系统到个性化医疗，DLW-RD-Bio为多样化的生物医学应用提供强大的材料支持。如需了解更多产品信息，欢迎查询我司官网 魔技纳米科技或来电咨询。 [企业介绍] 魔技纳米科技创立于2017年，是一家高精度微纳三维装备制造与服务提供商、国家高新技术企业、省专精特新企业。主要业务为高端激光微纳三维直写光刻设备的研发、生产、销售及技术服务等。研发团队拥有十余年微纳三维制造技术经验，在光学、电气、机械、软件、材料等方面，拥有完整的自主开发能力，可以为多行业应用场景提供专业的一体化解决方案。企业推出了高精度纳米级3D打印设备、超快激光加工中心、无掩膜直写光刻设备三大系列及多款光刻胶产品，其中自主研发的商用纳米级三维激光直写系统，可实现70纳米精度的三维结构加工。凭借高精度、高速度、大幅面和长时稳定性等技术优势，实现了科研探索到商业化应用的跨越，有力推动了微纳三维制造在生物医疗、光电通信、新材料、微纳器件、航空航天等领域的规模化工业生产。

魔技纳米MJ-Works-Fiber专为光纤应用设计的纳米级三维激光直写设备MJ-Works-Fiber是一款专为光纤传感与光通信应用而生的超高精度加工而设计的高性能3D激光直写设备，配有超清成像及纳米级定位对准系统，可实现在光纤纤芯或光芯片表面及内部进行纳米级3D加工。配备有专门的卷对卷光纤自动输送装置，并配有应力监测，纤芯自动识别、定位及对准，实现高通量精准快速生产。如需了解更多产品信息，欢迎查询我司官网 魔技纳米科技或来电咨询。【企业简介】魔技纳米科技创立于2017年，是一家高精度微纳三维装备制造与服务提供商、国家高新技术企业、省专精特新企业。主要业务为高端激光微纳三维直写光刻设备的研发、生产、销售及技术服务等。研发团队拥有十余年微纳三维制造技术经验，在光学、电气、机械、软件、材料等方面，拥有完整的自主开发能力，可以为多行业应用场景提供专业的一体化解决方案。企业推出了高精度纳米级3D打印设备、超快激光加工中心、无掩膜直写光刻设备三大系列及多款光刻胶产品，其中自主研发的商用纳米级三维激光直写系统，可实现70纳米精度的三维结构加工。凭借高精度、高速度、大幅面和长时稳定性等技术优势，实现了科研探索到商业化应用的跨越，有力推动了微纳三维制造在生物医疗、光电通信、新材料、微纳器件、航空航天等领域的规模化工业生产。

卓聚科技 压电直线纳米位移台MF30-20A，大行程直线位移台，不仅拥有紧凑的安装尺寸，同时还兼具低温真空等应用环境。 尺寸参数外形尺寸（长*宽*高）33.2*30*10.5mm台面平面度10 μm总重量33g材料机身铝合金/驱动PZT压电陶瓷/驱动机构铍青铜/导线屏蔽线，铜线/粗调模式运动范围±10mm运动步进50~2000nm速度上限3mm/s细调模式细调步进0.05nm细调范围3000nm闭环运动分辨率20nm负载垂直运动方向负载20N沿运动方向负载4N操作环境操作温度-20~80℃是否适用真空是/其它控制类型开环/闭环/运动分辨率0.05nm驱动电压上限125V以上就是东莞市卓聚科技有限公司提供的压电直线纳米位移台MF30-20A的介绍，了解更多直接咨询：原文：随着微电子、纳米科技和人工智能等领域的进一步发展，精密定位不仅在实验室用途广泛，工业界的应用也越来越多。该团队在以往研究基础上，发展出一系列具有自主知识产权的超精密定位产品，填补了国产空白。一个火柴盒大小、外壳包覆金属的小方块，通过电压控制能够实现纳米级别的精密位移，可以用于对精密度要求超.高的科学实验、精密制造和半导体工业等领域。日前，在松山湖材料实验室高.端科研设备产业化团队的实验室内，团队负责人许智展示了该团队拥有核心技术的压电驱动纳米位移台。

公司背景-Global Leader in Process Control since 1976KLA-Tencor 是全球半导体在线检测设备市场最大的供应商；KLA-Tencor2018 年 3 月从 Keysight Technologies 公司收购了行业的龙头产品-高精度原位微纳米力学测试系统-Nano Indenter G200 和高精度微纳米拉伸系统-UTM T150；该力学设备的工厂是全球最大的高精度力学测试系统的供应商，1983 年成功制造了世界上第一台商用Nano Indenter。该力学设备的工厂是业内唯一拥有超过 35 年的 Nano Indenter 生产和研究经验的供应商，成熟的工艺保证了新一代 Nano Indenter G200 具有最好的稳定性和可靠性。该力学设备的工厂拥有最广泛的顾客群，在高端力学测试系统领域内拥有最高的的市场占有率。 1． 产品技术水平KLA-Tencor 公司拥有最多的 Nano Indenter 的核心专利技术，包括已成为业界标准的连续刚度测量功能、接触刚度成像功能以及快速纳米压入测试技术等等；KLA-Tencor 公司的连续刚度测量功能已经成为薄膜、涂层、多相材料等样品检测最常用的的测试技术，并已经录入各种力学领域的国际标准和中国国家标准内。KLA-Tencor 拥有世界上最快压痕测试技术的专利，最快可达到 1 压痕点/秒。 2． 售后服务和技术支持KLA-Tencor 公司在中国有超过 600 名员工，在国内配备本土 Nano Indenter 方面的技术专家，在业内拥有最好的口碑。KLA-Tencor 公司在中国拥有自己的纳米科学示范实验室，并有专职的应用专家在实验室工作，负责用户的应用技术支持工作；KLA-Tencor 公司还定期地举办高级用户培训班，由公司的应用科学家为不同学科的用户进行各个领域应用的深层次培训。 特点和优势– 广受赞誉的高速测试选项可以和所有G200 型纳米压痕仪配合使用, 包括DCMII 和 XP 模块以及样品台– 快速进行面积函数和框架刚度校对– 精确和可重复的结果, 完全符合ISO14577 标准– 通过电磁驱动, 可在无与伦比的范围内连续调整加载力和位移– 结构优化, 适合传统测试或全新应用– 模块化选项, 适合划痕测试, 高温测试– 和动态测试– 强大的软件功能, 包括对试验进行实时控制, 简化了的特殊测试方法的开发 第五代原位纳米力学测试系统 Nano Indenter G200在微/纳尺度范围内的加载和位移构成精确的力学测试 应用– 半导体器件, 薄膜– 硬质涂层, DLC薄膜– 复合材料, 光纤, 聚合物材料– 金属材料, 陶瓷材料– 无铅焊料– 生物材料, 生物及仿生组织等等 先进的设计所有的纳米压痕试验都取决于精确的加载和位移数据，要求对加载到样品上的 载荷有精确的控制。KT最新的第五代 G200 型纳米压痕仪采用电磁驱动的载荷装置，从而保证测量的精确度，独特的设计避免了横向位移的影响。 KT最新的第五代 G200 型纳米压痕仪的杰出设计带来很多的便利性，包括方便的测试到整个样品台，精确的样品定位，方便的确定样品位置和测试区域，简 便的样品高度调整，以及快速的测试报告输出。模块化的控制器设计为今后的 升级带来极大的方便。 此外，最新的第五代 G200 型纳米压痕仪完全符合各种国际标准，保证了数据的完整性。客户可以通过每个力学传感器自主设计试验，在任何时候对其进行切换，同时整个设备占地面积小，适合各种实验室环境。2017年获得联合国教科文组织颁奖的纳米科技领域的创新技 NanoSuite的特点和优势 – 极其灵活、精确的数据采集和控制– 不断更新的测试方法– 最新的批处理测试功能– 新型的 2D 图形输出功能– 测试数据更有效的分析功能– PDF 测试数据的直接输出– 优越的自我定制测试模型的建立– 非常方便的个性化测试方法的建立– 功能齐全完善的图像处理功能– 用户可轻松的编辑自己的测试方法以满足特殊的应用与需求– 定制化的测试方法同样可满足 ISO14577 国际标准– 提供专业的建模和仿真软件, 帮助用户实现特殊的离线研究需要 KLA-Tencor技术顾问服务KT拥有一支经验丰富的技术支持和服务工程师团队，可针对客户的 特殊应用与测试需求提供定制化的技术顾问服务。 经过超过 35 年的发展，NanoSuite 已经成为业内公认的界面友好、操作简便、功能齐全的数据采集和处理软件包，NanoSuite 不仅可以自动测试，也可以使用户利用网络远程遥控进行实验控制，NanoSuite 不仅能够做到压入过程中硬度和弹性模量等力学性能的实时计算和显示，同时允许用户根据自 己的研究需求以及提出的新模型随时添加新的软件通道，此外，根据实验参 量的变化快慢能够自动调整数据的采集速率，实现了智能化的数据采集功 能，从而既获得您真正需要的数据，又可避免不必要的垃圾数据。 增强的载荷加载系统新一代 Nano Indenter G200 系列纳米压痕仪是具有从纳牛到牛顿最为完整的加载力范围，并且不同的加载装置可自动软件切换，整个测试流程都是全 自动的，极大的提高了测试数据的可靠性和可重复性，避免了可能的人为因 素的影响，确保每个测试都是合理、一致、精确。 标准的加载装置Nano Indenter G200 纳米压痕仪标准配置是 XP 加载系统 (最大为500mN)， 位移分辨率 0.01纳米，最大压入深度 500 微米,该装置可应用到所有的测试功能。压头更换轻松完成，非常好的机架刚度极大的减少了系统对测试的 影响。高精度加载装置DCM II 是高分辨的纳米纳牛力加载模块，它既可以单独工作，也可以作为一个附件与Nano Indenter G200 协同工作。由于其惯性质量很低，使得纳米压痕中的初始表面的选取更加灵敏、精确， DCM II 在超低载荷下的纳米压痕测试具有极高的精确度和可重复性，由于它自身的空载共振频率远高于一般建筑物的振动频率，这就使得一般的环境振动对它几乎没有影响，DCM II 具有很宽的动态频率范围 (0.1 Hz 到 300 Hz)，所有这些特点使得 DCM II 可以提供同类设备不可比拟的高信噪比和高可靠性的试验数据，例如右图所示的蓝宝石上三个纳米深度的压痕测试，在几个纳米的压痕深度范围内获得了非常可靠的弹性模量。大载荷加载装置Nano Indenter G200的大载荷加载选件，大大强化了 G200 系列纳米压痕仪的应用范围。这个选件可以用于标准的 XP 加载模块，将 G200 型纳米压痕仪的加载能力扩展至 10N，可对陶瓷、金属块材和复合材料进行力学表征。大载荷选件的巧妙设计，使得 G200 既避免了在低载荷的情况下牺牲仪器的载荷和位移精度，同时又保证了用户在需要大加载力的测试时，通过鼠标操作就可以在测试实验中进行无缝加载装置切换。

产品简介普识纳米SR532科研型成像显微拉曼光谱仪（带制冷台）是一款带制冷型532nm拉曼，制冷最低可到-50℃，可配置显微镜使用，对比常规便携式拉曼光谱，通过智能的化学成像和数据采集方法，通过快速探查整个样品区域，准确找到需要找寻的目标，简便地呈现直观信息并获取高质量的化学成像，加速推进新老用户的科学研究。 PERS-SR320R系列科研型拉曼光谱仪制冷型拉曼是针对科研应用开发的高分辨率实验室分析级拉曼光谱仪，主要适用于高校、科研单位、企业拉曼研发等场景 。不同的性能配置，模块化的定制型设计，方便客户根据需要自由选择和迭代升级。 除满足高性能的常规拉曼分析外，PERS-SR系列配套使用厦门大学研发的超高灵敏度的增强试剂，还可用于痕量甚至超痕量级拉曼增强（SERS）技术的开发和应用研究，拓宽拉曼光谱技术在实验检测中的应用。产品优势532nm制冷型拉曼光谱，可拥有更加优异的信噪比。配合独创壳层隔绝表面增强技术，信号放大至百万倍级别。外观简单，轻松便携： 整机一体化设计，美观、耐用，轻便、小巧，方便携带，适用于实验室，现场等多种场合。宽光谱范围： 光谱范围最高可覆盖至8000cm-1（模块化的光谱范围）。光纤耦合，采样更方便： 灵活的光纤探头可在不同位置进行测量。制冷CCD，信噪比更佳： 高品质制冷CCD，灵敏度高，提供了系统所需的高信噪比。建模简单： 只需按照软件的日式逐步操作即可。PERS-SR530R技术参数探头光纤配置 光谱范围 200cm-1-8000cm-1制冷载物台：可至-30℃波长分辨率 3.4-16cm-1 波长稳定性 0.1nm/℃(标准)激发波长 532±0.5nm，线宽＜0.08nm激光功率稳定性 ≤3% P-P(@2hrs)激光器使用寿命 10000.00hrs 或1年电源电压 100-240VAC@50/60Hz输出功率 0~500mW可调积分时间 4ms-20S工作/储存温度 0-45℃工作/储存湿度 5%-80%

压电直线纳米位移台MF30-40A，大行程直线位移台，不仅拥有紧凑的安装尺寸，同时还兼具低温真空等应用环境。 尺寸参数外形尺寸（长*宽*高）53.2*30*10.5mm台面平面度10 μm总重量60g材料机身铝合金/驱动PZT压电陶瓷/驱动机构铍青铜/导线屏蔽线，铜线/粗调模式运动范围±20mm运动步进50~2000nm速度上限3mm/s细调模式细调步进0.05nm细调范围3000nm闭环运动分辨率20nm负载垂直运动方向负载20N沿运动方向负载4N操作环境操作温度-20~80℃是否适用真空是/其它控制类型开环/闭环/运动分辨率0.05nm驱动电压上限125V以上就是东莞市卓聚科技有限公司提供的压电直线纳米位移台MF30-40A的介绍，了解更多直接咨询：原文： 随着微电子、纳米科技和人工智能等领域的进一步发展，精密定位不仅在实验室用途广泛，工业界的应用也越来越多。该团队在以往研究基础上，发展出一系列具有自主知识产权的超精密定位产品，填补了国产空白。 一个火柴盒大小、外壳包覆金属的小方块，通过电压控制能够实现纳米级别的精密位移，可以用于对精密度要求超.高的科学实验、精密制造和半导体工业等领域。日前，在松山湖材料实验室高.端科研设备产业化团队的实验室内，团队负责人许智展示了该团队拥有核心技术的压电驱动纳米位移台。安徽泽攸科技有限公司为您提供压电旋转纳米位移台RF-5950A的参数、价格、型号、原理等信息，压电旋转纳米位移台RF-5950A产地为安徽、品牌为泽攸科技，型号为旋转纳米位移台，价格为面议，更多相关信息可来电咨询，公司客服电话7*24小时为您服务

压电直线纳米位移台MF30-30A，大行程直线位移台，不仅拥有紧凑的安装尺寸，同时还兼具低温真空等应用环境。 尺寸参数外形尺寸（长*宽*高）43.2*30.0*10.5mm台面平面度10 μm总重量45g材料机身铝合金/驱动PZT压电陶瓷/驱动机构铍青铜/导线屏蔽线，铜线/粗调模式运动范围±15mm运动步进50~2000nm速度上限3mm/s细调模式细调步进0.05nm细调范围3000nm闭环运动分辨率20nm负载垂直运动方向负载20N沿运动方向负载4N操作环境操作温度-20~80℃是否适用真空是/其它控制类型开环/闭环/运动分辨率0.05nm驱动电压上限125V以上就是东莞市卓聚科技有限公司提供的压电直线纳米位移台MF30-30A的介绍，了解更多直接咨询：原文： 随着微电子、纳米科技和人工智能等领域的进一步发展，精密定位不仅在实验室用途广泛，工业界的应用也越来越多。该团队在以往研究基础上，发展出一系列具有自主知识产权的超精密定位产品，填补了国产空白。一个火柴盒大小、外壳包覆金属的小方块，通过电压控制能够实现纳米级别的精密位移，可以用于对精密度要求超.高的科学实验、精密制造和半导体工业等领域。日前，在松山湖材料实验室高.端科研设备产业化团队的实验室内，团队负责人许智展示了该团队拥有核心技术的压电驱动纳米位移台。安徽泽攸科技有限公司为您提供压电旋转纳米位移台RF-5950A的参数、价格、型号、原理等信息，压电旋转纳米位移台RF-5950A产地为安徽、品牌为泽攸科技，型号为旋转纳米位移台，价格为面议，更多相关信息可来电咨询，公司客服电话7*24小时为您服务

Global Leader in Process Control since 1976KLA-Tencor 是全球半导体在线检测设备市场最大的供应商；KLA-Tencor2018 年 3 月从 Keysight Technologies 公司收购了行业的龙头产品-高精度原位微纳米力学测试系统-Nano Indenter G200 和高精度微纳米拉伸系统-UTM T150；该力学设备的工厂是全球最大的高精度力学测试系统的供应商，1983 年成功制造了世界上第一台商用Nano Indenter。该力学设备的工厂是业内唯一拥有超过 35 年的 Nano Indenter 生产和研究经验的供应商，成熟的工艺保证了新一代 Nano Indenter G200 具有最好的稳定性和可靠性。该力学设备的工厂拥有最广泛的顾客群，在高端力学测试系统领域内拥有最高的的市场占有率。 1． 产品技术水平KLA-Tencor 公司拥有最多的 Nano Indenter 的核心专利技术，包括已成为业界标准的连续刚度测量功能、接触刚度成像功能以及快速纳米压入测试技术等等；KLA-Tencor 公司的连续刚度测量功能已经成为薄膜、涂层、多相材料等样品检测最常用的的测试技术，并已经录入各种力学领域的国际标准和中国国家标准内。KLA-Tencor 拥有世界上最快压痕测试技术的专利，最快可达到 1 压痕点/秒。 2． 售后服务和技术支持KLA-Tencor 公司在中国有超过 600 名员工，在国内配备本土 Nano Indenter 方面的技术专家，在业内拥有最好的口碑。KLA-Tencor 公司在中国拥有自己的纳米科学示范实验室，并有专职的应用专家在实验室工作，负责用户的应用技术支持工作；KLA-Tencor 公司还定期地举办高级用户培训班，由公司的应用科学家为不同学科的用户进行各个领域应用的深层次培训。 特点和优势– 广受赞誉的高速测试选项可以和所有G200 型纳米压痕仪配合使用, 包括DCMII 和 XP 模块以及样品台– 快速进行面积函数和框架刚度校对– 精确和可重复的结果, 完全符合ISO14577 标准– 通过电磁驱动, 可在无与伦比的范围内连续调整加载力和位移– 结构优化, 适合传统测试或全新应用– 模块化选项, 适合划痕测试, 高温测试– 和动态测试– 强大的软件功能, 包括对试验进行实时控制, 简化了的特殊测试方法的开发Nano Indenter G200在微/纳尺度范围内的加载和位移构成精确的力学测试 应用– 半导体器件, 薄膜– 硬质涂层, DLC薄膜– 复合材料, 光纤, 聚合物材料– 金属材料, 陶瓷材料– 无铅焊料– 生物材料, 生物及仿生组织等等先进的设计所有的纳米压痕试验都取决于精确的加载和位移数据，要求对加载到样品上的 载荷有精确的控制。KT最新的第五代 G200 型纳米压痕仪采用电磁驱动的载荷装置，从而保证测量的精确度，独特的设计避免了横向位移的影响。 KT最新的第五代 G200 型纳米压痕仪的杰出设计带来很多的便利性，包括方便的测试到整个样品台，精确的样品定位，方便的确定样品位置和测试区域，简 便的样品高度调整，以及快速的测试报告输出。模块化的控制器设计为今后的 升级带来极大的方便。 此外，最新的第五代 G200 型纳米压痕仪完全符合各种国际标准，保证了数据的完整性。客户可以通过每个力学传感器自主设计试验，在任何时候对其进行切换，同时整个设备占地面积小，适合各种实验室环境。KLA-Tencor技术顾问服务KT拥有一支经验丰富的技术支持和服务工程师团队，可针对客户的 特殊应用与测试需求提供定制化的技术顾问服务。 经过超过 35 年的发展，NanoSuite 已经成为业内公认的界面友好、操作简便、功能齐全的数据采集和处理软件包，NanoSuite 不仅可以自动测试，也可以使用户利用网络远程遥控进行实验控制，NanoSuite 不仅能够做到压入过程中硬度和弹性模量等力学性能的实时计算和显示，同时允许用户根据自 己的研究需求以及提出的新模型随时添加新的软件通道，此外，根据实验参 量的变化快慢能够自动调整数据的采集速率，实现了智能化的数据采集功 能，从而既获得您真正需要的数据，又可避免不必要的垃圾数据。增强的载荷加载系统新一代 Nano Indenter G200 系列纳米压痕仪是具有从纳牛到牛顿最为完整的加载力范围，并且不同的加载装置可自动软件切换，整个测试流程都是全 自动的，极大的提高了测试数据的可靠性和可重复性，避免了可能的人为因 素的影响，确保每个测试都是合理、一致、精确。标准的加载装置Nano Indenter G200 纳米压痕仪标准配置是 XP 加载系统 (最大为500mN)， 位移分辨率 0.01纳米，最大压入深度 500 微米,该装置可应用到所有的测试功能。压头更换轻松完成，非常好的机架刚度极大的减少了系统对测试的影响。高精度加载装置DCM II 是高分辨的纳米纳牛力加载模块，它既可以单独工作，也可以作为一个附件与Nano Indenter G200 协同工作。由于其惯性质量很低，使得纳米压痕中的初始表面的选取更加灵敏、精确， DCM II 在超低载荷下的纳米压痕测试具有极高的精确度和可重复性，由于它自身的空载共振频率远高于一般建筑物的振动频率，这就使得一般的环境振动对它几乎没有影响，DCM II 具有很宽的动态频率范围 (0.1 Hz 到 300 Hz)，所有这些特点使得 DCM II 可以提供同类设备不可比拟的高信噪比和高可靠性的试验数据，例如右图所示的蓝宝石上三个纳米深度的压痕测试，在几个纳米的压痕深度范围内获得了非常可靠的弹性模量。大载荷加载装置Nano Indenter G200的大载荷加载选件，大大强化了 G200 系列纳米压痕仪的应用范围。这个选件可以用于标准的 XP 加载模块，将 G200 型纳米压痕仪的加载能力扩展至 10N，可对陶瓷、金属块材和复合材料进行力学表征。大载荷选件的巧妙设计，使得 G200 既避免了在低载荷的情况下牺牲仪器的载荷和位移精度，同时又保证了用户在需要大加载力的测试时，通过鼠标操作就可以在测试实验中进行无缝加载装置切换。

洞察纳米世界的利器 ：纳米级光学成像 + 高光谱扫描您手边纳米研究神器：无标记识别 + 纳米表征 + 映射产品介绍 Cytoviva超分辨率荧光显微成像系统技术最初源于美国国防部和美国宇航局共同开发空中成像技术。Cytoviva已经发展成为一个专有技术，并将其专利整合到的显微成像系统中，可以在纳米尺度进行材料的光谱定量分析和活细胞的观察。并在2006和2007连续两年获得著名的R＆D 100奖的获奖荣誉，2007获得了Nano50TM奖，源于它对纳米科学研究的杰出的贡献。 2005年进入市场以来，Cytoviva在全球范围内已有几百台的装机，包括美洲、亚洲到欧洲国家重点实验室、学术科研机构和独立的工业实验室。 Cytoviva超光谱成像系统配合cytoviva显微镜系统，可以广泛应用于量化细胞和组织中的纳米材料。该系统捕获扫描范围内近红外（400-1000nm）内每个像素的光谱信号。先进的分析软件可以提供的扫描材料的详细光谱信息。 CytoVivac超光谱成像系统配合CytoViva纳米显微镜可以同时提供材料及生物样品的光谱分析和图像数据。该系统在可见-近红外光谱范围内（VNIR）进行数据采集。Cytoviva HSI有着广泛的应用研究范围：纳米药物递送、纳米毒理学、纳米材料、细胞生物学、病理学、病毒学、植物学等等。光谱分析方法支持非荧光、荧光标记的成分在活细胞、组织和纳米材料等不同样本中的观察分析。 Cytoviva技术正迅速成为纳米材料和生命科学研究的实验室标准。Cytoviva能提供您所需要的实验结果。为客户采集到真实，定量的研究数据提供了一套无缝的解决方案。 产品特点● 无需荧光标记● 纳米尺度样品光学图像表征（20-50nm）● 纳米高光谱表征● 映射多种环境中纳米尺度样品应用方向● 药物递送，纳米药物研发及临床试验● 外泌体研究，肿瘤早期诊断、研究及治疗● 食品及组织中细菌检测● 脑疾病研究：Alzheimer’s Disease,AD ；帕金森● 纳米乳剂● Liposomes● 免疫组化，组织切片直接观察，纳米级表征● 病毒、病原体检测与表征● 高分子材料检测与表征● 小分子材料检测与表征● MOF 材料检测与表征● 纳米尺寸材料检测与表征● 表面等离激元（单分子发光）● 环境污染治理● 稀土材料、上转换纳米材料表征● 复合纳米材料研究● 生物燃料研发组合光谱成像技术 多功能集成显微镜系统可同时提供宽场成像模式（反射，透射，明场，暗场，偏振光和荧光），以及高光谱显微成像模式（拉曼，荧光，光致发光，透射和反射）；又保证了无论在哪种成像模式之间切换都不需要移动样品，确保呈现同一区域的所有多模态图像信息。 拉曼系统内置四个光栅，用于优化光谱分辨率，可配备最多 3 个激光器（从蓝色到 NIR+），用于实现 Raman，PL 以及 FL 高光谱成像。检测器从普通 CCD 到 EMCCD 根据不同需求可供选择。

魔技纳米UV-Smart桌面级无掩膜直写光刻设备专为实验室科研需求和小批量生产设计。其小巧紧凑的设计使其适用于实验室环境，并具有高直写速度、高分辨率和高对准精度等特点。采用集成化设计和全自动控制，操作简便，适合快速加工、建模或小批量生产。广泛应用于微流控、半导体、生物技术和微电子等领域。如需了解更多产品信息，欢迎查询我司官网 魔技纳米科技或来电咨询。 [企业介绍]魔技纳米科技创立于2017年，是一家高精度微纳三维装备制造与服务提供商、国家高新技术企业、省专精特新企业。主要业务为高端激光微纳三维直写光刻设备的研发、生产、销售及技术服务等。研发团队拥有十余年微纳三维制造技术经验，在光学、电气、机械、软件、材料等方面，拥有完整的自主开发能力，可以为多行业应用场景提供专业的一体化解决方案。企业推出了高精度纳米级3D打印设备、超快激光加工中心、无掩膜直写光刻设备三大系列及多款光刻胶产品，其中自主研发的商用纳米级三维激光直写系统，可实现70纳米精度的三维结构加工。凭借高精度、高速度、大幅面和长时稳定性等技术优势，实现了科研探索到商业化应用的跨越，有力推动了微纳三维制造在生物医疗、光电通信、新材料、微纳器件、航空航天等领域的规模化工业生产。

小型科研型便携式显微拉曼光谱仪产品介绍　　PERS-SR532Pro小型便携科研型拉曼光谱仪是为满足现场快速检测科研检测需求，仪器结合显微镜，具备对微小区域实时成像和采集该区域物体拉曼光谱的能力，配备可视化十寸大屏幕，具有简单、精准、高效、便携特点，可第一时间携至现场保障检测需求。仪器内置可充电锂电池，无需外接电源，可连续在现场续航八小时以上。应用深制冷的检测仪（可至-60℃），保证了超强的灵敏度。在Du品、刑侦痕量、文物修复、食药分析、材料、医疗癌症等领域广泛应用。小型科研型便携式显微拉曼光谱仪产品特点★ 用一体式设计，使现场检测具备实验室级别运用★ 深制冷可至-60℃★ 一键采集、快速无损检测，无需直接接触样品，可透过玻璃、塑封袋、饮料瓶等透明、半透明容器检测；★ 10寸大屏幕，可视化现场分析；★ 分辨率高，重现率高，更容易提取特征峰；★ 多种测量模式，自动模式和专家模式等；★ 内置锂电池，使运用场合更加灵活；★ 标配显微镜，满足微小物体拉曼定位检测；★ 配合自主研发多种规格增强试剂，可满足不同结构物质检测。小型科研型便携式显微拉曼光谱仪产品参数　　　　厦门市普识纳米科技有限公司是由国家科技部投资、厦门市政府及厦门大学国际领先的拉曼光谱研究团队创立的国家高新技术企业，是十二五国家重大科学仪器开发专项“等离激元增强拉曼光谱仪器研发与应用（Pers）”技术的唯一产业化单位。　　☆ 荣获国家科学技术奖　　☆ 国家《拉曼光谱仪》标准起草单位——唯一企业单位　　☆ 中科院院士,国家杰青,长江学者领衔研发团队

压电直线纳米位移台 Z轴扫描台,得益于特殊的结构设计，卓聚科技的Z轴扫描台，提供约等于5nm的粗调步进。产品支持真空，低温等应用。Z轴扫描台尺寸参数中间位置外形尺寸（长*宽*高）45.6*44.0*24.6mm样品台面平面度5 μm总重量78g运动参数Z轴行程±1.0mm粗调步进5~200nm细调行程300nm细调步进（理论值）0.005nm闭环运动分辨率2nm负载竖直方向负载10N操作环境闭环（开环）操作温度-20~80（-269~80）℃是否适用真空是/以上就是东莞市卓聚科技有限公司提供的压电直线纳米位移台 Z轴扫描台的介绍，了解更多直接咨询：原文： 随着微电子、纳米科技和人工智能等领域的进一步发展，精密定位不仅在实验室用途广泛，工业界的应用也越来越多。该团队在以往研究基础上，发展出一系列具有自主知识产权的超精密定位产品，填补了国产空白。一个火柴盒大小、外壳包覆金属的小方块，通过电压控制能够实现纳米级别的精密位移，可以用于对精密度要求超.高的科学实验、精密制造和半导体工业等领域。日前，在松山湖材料实验室高.端科研设备产业化团队的实验室内，团队负责人许智展示了该团队拥有核心技术的压电驱动纳米位移台。 安徽泽攸科技有限公司为您提供压电旋转纳米位移台RF-5950A的参数、价格、型号、原理等信息，压电旋转纳米位移台RF-5950A产地为安徽、品牌为泽攸科技，型号为旋转纳米位移台，价格为面议，更多相关信息可来电咨询，公司客服电话7*24小时为您服务

室温纳米精度位移台-attoECS 德国attocube公司是上著名的端环境纳米精度位移器制造商，其生产的位移器以稳定而优异的性能，原子定位精度，纳米位移步长和厘米位移范围受到科学家的肯定和赞誉。attoECS系列纳米位移台在提供高精度位移控制的同时，保证了优异而高的稳定性能，适用于室温、大气到超高真空环境中，负载可达几公斤，行程达到50mm，小步长50nm，配备的光学位移传感器可将位移精度控制到10nm，提供多维度位移功能。attoECS位移台应用领域加速器及同步辐射计量测量学半导体空间科学attoECS位移台特点+ 在厘米的行程范围内，达到纳米高精度位移控制+ 高的机械稳定性+ 位移驱动电压45V，无需高压屏蔽+ 10nm位移精度，+/-200nm位移重复性，0.01% 精度+ 特殊材质，兼容各种光学实验环境和超高真空环境+ 快速样品更换装置设备型号ECS系列纳米位移台ECS系列线性位移器采用闭环（/NUM光栅式反馈）或开环控制，典型单步位移步长为： 50nm。位移范围大为：50mm。位移器尺寸小为：30X30 mm。负载大24Kg。 线性纳米精度位移台型号尺寸mm3(长宽高)步长行程(mm)载重(N)ECSx303030x30 9.550nm2090ECSx3030/NUMECSx304030x40 9.550nm25120ECSx3040/NUMECSx305030x50 9.550nm30150ECSx3050/NUMECSx306030x60 9.550nm35180ECSx3060/NUMECSx307030x70 9.550nm40210ECSx3070/NUMECSx308030x80 9.550nm50240ECSx3080/NUMECSx505050x50 9.550nm30150ECSx5050/NUMECSxy505050x50 16.450nm25x25150ECSxy5050/NUMECSz505050x50 3230nm88ECSz5050/NUMECR系列旋转台ECR系列旋转台技术参数表ECR系列旋转器采用闭环（/NUM光栅式反馈）或开环控制，典型步长为： 0.4m°。可360度连续旋转。旋转台尺寸小为：30 mm × 30 mm。负载大2Kg。 高精度旋转台型号尺寸mm3(长宽高)步长行程 载重(N)ECR3030 30x30 13.50.4m°360度（连续旋转）20ECR3030/NUMECR4040 40x40 14.50.2m°360度（连续旋转）20ECR4040/NUMECR5050hs 50x50 13.50.2m°360度（连续旋转）20ECR5050hs/NUM ECG系列倾角台ECG系列倾角台技术参数表ECG系列倾角台采用闭环（/NUM光栅式反馈）或开环控制，典型步长为： 0.4m°。倾角范围：10°。倾角台尺寸为：50 mm × 50 mm。负载大1000g。 高精度倾角台型号尺寸mm3(长宽高)步长行程载重(N)ECGt505050x50 170.1m°10°10ECGt5050/NUMECGp505050x50 170.1m°10°10ECGp5050/NUM应用案例■ attocube纳米位移台在大尺寸昆虫自然色三维高分辨率成像的应用 关键词：高分辨三维成像； 纳米精度位移台； C-SIM高分辨率三维成像技术在生物领域已经有非常多的应用。然而，当研究大型标本时，如厘米大小的昆虫，现有的三维成像工具往往非常耗时。此外，大多数3D成像系统无法得到标本的自然颜色信息。为了突破现有3D成像的局限性，中国科学院西安光学精密机械研究所瞬态光学与光子技术重点实验室姚保利课题组出了一种基于结构照明的方法，能够提供大的视场三维图像方法。采用这种方法，获得了580nm横向分辨率的自然彩色全尺寸昆虫的三维图像和三维形态数据。这种方法提供了一种很有前景的方法，可以用在不同类型的昆虫学研究，包括分类学、进化学、仿生学，发育生物学、功能形态学、古生物学、林业等。实验采用全新设计的彩色结构化照明显微镜（C-SIM），C-SIM中集成了德国attocube 的纳米精度位移台ECS3040（行程为25mm，分辨率1nm，精度50nm），这也是能够得到纳米分辨率的三维全彩图像的关键。 两种中华虎的三维成像结果 参考文献Vol. 27, No. 4 | 18 Feb 2019 | OPTICS EXPRESS 4845用户单位attocube公司产品以其稳定的性能、高的精度和良好的用户体验得到了国内外众多科学家的认可和肯定，在全球范围内有超过了130多位低温强磁场显微镜用户。attocube公司的产品在国内也得到了低温、超导、真空等研究领域著名科学家和研究组的欢迎......国内部分用户北京大学中国科技大学中科院物理所中科院武汉数学物理所中科院上海应用技术物理研究所复旦大学清华大学南京大学中科院半导体所上海同步辐射中心北京理工大学哈尔滨工业大学中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所… … 国外部分用户

ARM100 区域辐射监测仪ARM100 Area MonitorARM100区域辐射监测仪主要用于区域γ、中子剂量率的连续监测，可以连接多个监测探头对特定区域内的辐射进行监测，给出各探头处的剂量率数据并在超过报警阈值时发出声光报警信号。主要用途q 用于工作场所辐射监测q 实时数据分析，自动污染报警，保护人员安全q 数据联网，实时上传，为事故分析、发布应急方案提供支持功能特点q 宽量程、宽能响、高灵敏度探头设计q 一台监测仪可外接多个探头，方便多点区域监测q 报警阈值连续可设，超阈值或超量程声、光警报q 探头内置数据处理单元，测量结果通过RS-485接口传送到监测仪，也可直接链接远程计算机监控系统q 监测仪具有RS-232通讯接口，用于就地操控仪表q 监测仪具有RS-485通讯接口（光纤、CAN等可选），用于将测量结果发送到远程计算机监控系统。q 专用控制软件，记录测量和报警数据信息，提供查询和转存功能q 大尺寸点阵液晶，全中文显示系统，界面友好q 特殊的抗水防潮设计，坚固耐用，维护简单物理性能q 测量类型：周围剂量当量率H*(10)q 探 测 器：能响补偿GM计数管，塑料闪烁体，3He正比计数管q 测量范围： 常规型(AGP10)： 0.1 mSv/h ~ 10 mSv/h宽量程(AGP20)： 0.1 mSv/h ~ 10 Sv/h环境型(AGP30)：0.01 mSv/h ~ 200 mSv/h中 子(ANP10)： 1 mSv/h ~ 10 mSv/hq 固有误差： ≤ ±20% （137Cs）q 能量响应：γ 50 keV~3 MeV；热中子~14 MeV机械特性q 主机：300 mm × 200 mm × 155 mm（高×宽×厚），5 kgq 探头：?45 mm × 300 mm，1.5 kg q 中子：?170 mm × 234 mm，5.1 kg电气特性q 供电电源： AC 220 V ±10%，50 Hz ±10%， ≤ 36 W环境特性q 工作环境： 温度：-10 ~ 50 ℃ 相对湿度： 40% ~ 95%（35 ℃）q 防护等级： IP65 TJ–Ⅲ 固定式X、γ剂量率报警仪 TJ–Ⅲ型X、γ剂量率报警仪是一种高精度、宽量程的放射性剂量率报警仪，主要用来对X、γ射线进行测量并报警。广泛应用于工业无损探伤、医院γ刀治疗、洗煤厂、水泥厂、同位素应用、γ辐照、医院X射线诊断、钴治疗、核电站等放射性场所。执行标准是JJG393-2003辐射防护用X，γ辐射剂量当量（率）仪和监测仪。 技术参数q 探测器：GM计数管q 测量范围：0.1μSv/h –1μSv/hq 测量误差：相对固有误差≤±20%q 报警阈值：连续可调q 电源：AC～220V 50Hzq 主机尺寸：长250mm 宽240mm 厚度145mmq 探头尺寸：直径35mm 高160mmq 重量：主机4Kg，探头0.3Kg性能特点q 主机可同时配接多路探测器，实现了多点同时监测q 数字化探测器，信号传输距离最远可达800米q 该仪器操作简单，使用方便应用领域广泛应用于医院X射线光机、钴治疗、加速器等医疗放射性装置，洗煤厂、水泥厂等同位素应用、γ射线无损探伤、γ辐照、放射源库等放射性场所的剂量监测并报警。 TJ–Ⅳ 区域γ监测仪 TJ–Ⅳ区域γ监测仪主要用于区域γ剂量率的连续监测，可以连接多个区域γ监测探头对特定区域内的辐射进行监测，给出各探头所在位置的剂 量率数据并按预定的报警阈值发出声光报警信号。该产品相比具有测量量程宽、传输距离远、外接探头多、远程管理等的优点。执行标准是“JJG393-2003辐射防护用X,γ辐射剂量当量（率）仪和监测仪”。技术参数q 被测射线类型：X，γ射线q 探测器：GM计数管q 显示单位：μSv/h、mSv/hq 测量范围：1μSv/h -1Sv/hq 能量响应：50 keV - 3 MeVq 参考能量：661.6 keV（137Cs）q 过载：大于10倍测量上限q 报警阈值：在整个测量范围内连续可调q 变异系数：＜10%q 指示值稳定性：500小时内漂移小于指示值的10%q 供电电源：AC 220Vq 主机尺寸：长410mm 宽230mm 厚度133mmq 探头尺寸：直径70mm 高285mmq 重量：主机6Kg，探头0.6Kg性能特点q 监测仪与探头均为就地墙挂式q 一台监测仪可同时外接多个探头，方便多点区域监测q 数字化探头,通过RS-485接口传送到监测仪q 可与屏蔽门等装置联锁q 超过预设报警值，探头和监测仪都可发出声光警报q 具有RS-485或网络通讯接口，可连接远程计算机系统q 设计合理，结构坚固美观，易于操作q 可选择碘化钠探测器（适合极低放射线测量）应用领域该设备可用于核设施、核电站、放射源、射线装置、加速器等辐射区内人行通道、操作场所及部分设备间等放射性控制场所的区域γ剂量率进行连续监测和报警联锁。 ANM100区域中子连续监测仪 ANM100区域中子连续监测仪采用三氟化硼正比计数管，用于中子剂量率区域监测，就地显示单元可实时显示测量数据，可同时配有多个探头，满足不同区域同时监测测量的要求。仪器带有声光报警、连动控制等功能，确保场所安全。仪器可通过RS485总线组成网络监测系统，各主机和探头可独立运行、监测。执行标准是“JJG393-2003辐射防护用X，γ辐射剂量当量（率）仪和监测仪”。技术参数q 探测器：正比计数管Φ50mm×350mmq 量程范围：1μGy/h到100mGy/hq 固有误差：≤±25％（镅铍中子源）q 环境温度：-10℃到+50℃q 环境湿度：95%RH（35℃）q 能量响应：热中子到14MeVq 供电电源：+12V直流电源，或220V /12V电源适配器q 通信接口：RS485q 主机重量：1.5kg，探头 2kgq 主机体积：220 mm 90mm230mm（宽×高×深）q 报警阈值：任意设置q 主机尺寸：长410mm 宽230mm 厚度133mmq 探头尺寸：长310mm 宽210mm 高465mmq 重量：主机4Kg，探头17Kg性能特点q 监测仪与探头均为就地墙挂式q 一台监测仪可同时外接多个探头，方便多点区域监测q 探头内置数据处理单元，测量结果通过RS-485接口传送到监测仪q 超过预设报警值或超量程时，监测仪可发出声、光警报q 监测仪具有RS-485通讯接口，用于将测量结果发送到远程计算机监控系统，仪器可选配计算机管理系统。q 设计合理，结构坚固美观，易于操作应用领域 区域中子连续监测仪主要适用于加速器、反应堆工程、核燃料生产厂、医学辐照场所、中子辐照装置等场所的辐射中子剂量率的连续监测。 ANG100集成中子伽马监测仪 ANG100集成中子伽马监测仪是专门用于γ射线、中子混合辐射场的监测的一款设备，设备可同时监测γ射线和中子辐射场，γ射线采用了GM计数管测量，中子测量采用正比计数管中子探测器，该测量仪将γ射线和中子测量集成测量，不仅有效节省了体积和成本，简化了安装调试的方式，并且提升了混合辐射场测量的一致性，该设备特别适合于如石油测井等具有伽马和中子混合放射源的行业应用，设备设计有室内和户外两种型号，可适合不同环境使用。 技术参数q 声光报警、报警阈值连续可调q 被测射线类型：X，γ，中子射线q 探测器：GM计数管、正比计数管q 显示单位：μSv/h、mSv/hq 环境温度：-10℃到+50℃q 环境湿度：95%RH（35℃）q 测量范围：伽马0.1μSv/h -1Sv/h、 中子1μGy/h到100mGy/hq 能量响应：伽马50 keV - 3 MeV、中子热中子到14MeVq 过载：大于10倍测量上限q 报警阈值：在整个测量范围内连续可调q 测量精度：＜±15%q 响应时间：＜ 1 sq 变异系数：＜10%q 指示值稳定性：500小时内漂移小于指示值的10%q 供电电源：AC 220Vq 机身尺寸：长400mm 宽350mm 高度1050mmq 重量：45kg RSM1000 放射源监测系统Radioactive Source Monitoring SystemRSM1000放射源监测系统主要用于放射源的安全监测，可实时提供放射源移动失位、放射性泄漏、剂量超标等多种报警信息，保护人员、设施和环境安全，适用于工矿企业的浓度计、密度计、料位计等放射性物位计和医用放射治疗机、医用同位素等的放射源安全监测。主要用途q 放射源容器表面的g剂量率监测q 实时数据分析，自动报警，保护人员安全q 数据联网，实时上传，为事故分析、发布应急方案提供支持功能特点q 探头防潮、防震和小型化设计，可与各种放射源容器组合安装q 监测网络由一台网关机和19套就地机及监测探头构成q 无线传输方式，自组网功能，安装、维护便捷q 提供放射源移动失位、放射源暴露、掉电、通讯中断、探头故障等多种报警状态q 专用控制软件，可远程操控仪表或传输数据q 大尺寸彩色液晶，模拟指针和数字同步显示，阅读直观、醒目q 标准Modbus/RTU协议，适用于各种工业应用物理性能q 测量类型： γ射线q 探 测 器： GM计数管q 测量范围： 0.1 μGy/h ~ 10 mGy/hq 固有误差： ≤ ±20% （137Cs）q 能量响应： 48 keV~3 MeVq 过 载： ≥100 mGy/h机械特性q 主机尺寸： 380 mm × 250 mm × 120 mm（高×宽×厚）q 主机重量： 7 kg q 探头尺寸： 90 mm × 70 mm × 38 mm（长×宽×厚） q 探头重量： 0.3 kg电气特性q 供电电源： AC 220 V ±10%，50 Hz ±10%q 功 耗： ≤ 30 W环境特性q 工作环境： 温度：-10 ~ 50 ℃ 相对湿度： 40% ~ 95%（35 ℃）q 防护等级： IP65

卓聚科技 什么是压电多轴纳米位移台？压电多轴纳米位移台是多个纳米位移平台组合而成的多轴运动和定位产品，包括2轴，3轴，4轴，5轴等，形式多样，可根据需要定制。 压电多轴纳米位移台适用于物理科学，工业，半导体等领域，多轴纳米位移台，分辨率高，行程大，操作简单，定位准确，能在真空下使用等优点。 点击图片了解压电纳米位移台 随着微电子、纳米科技和人工智能等领域的进一步发展，精密定位不仅在实验室用途广泛，工业界的应用也越来越多。卓聚科技在以往研究基础上，发展出一系列具有自主知识产权的超精密定位产品，填补了国产空白。 如果您的实验对精密位移要求高，可以联系卓聚科技定制高精密压电纳米位移台，欢迎您咨询。原文： 一个火柴盒大小、外壳包覆金属的小方块，通过电压控制能够实现纳米级别的精密位移，可以用于对精密度要求超.高的科学实验、精密制造和半导体工业等领域。日前，在松山湖材料实验室高.端科研设备产业化团队的实验室内，团队负责人许智展示了该团队拥有核心技术的压电驱动纳米位移台。

星石科技致力于微纳米力学检测和设备服务，2017 年成立至今已与多个科研院所，知名企业以及高校进行过合作。 业界独家：可根据需求独立定制金刚石 进行微纳米力学测试服务。 目前的能力所及 ◆ 载荷-位移曲线，摩擦力、声信号 ◆ 可提供最小20微牛到最大200牛的载荷 ◆ 材料的弹性，弹塑性和粘塑性力学表征及梯度分析 ◆ 各式金刚石压头定制 可检测材料范围 ◆ 金属，陶瓷，高聚物，复合材料及接缝点 ◆ 大体积材料，涂层，多相材料，纤维 ◆ 颗粒，胶囊及其他微观结构 检测结果的用途 ◆ 项目研发 ◆ 质量管理 ◆ 失效分析 ◆ 科学研究 ◆ 有限元建模验证 常规测试 ◆ 硬度 ◆ 杨氏模量 ◆ 硬度及模量分布图 ◆ 断裂韧性 ◆ 蠕变和应力松弛 动态测试 ◆ 连续刚度测试 ◆ 冲击测试 ◆ 储存/损耗模量 特殊测试 ◆ 微柱压缩测试 ◆ 屈服应力/应变 ◆ 生物软材料测试 ◆ 高粘性表面测试 ◆ 纳米压痕+AFM成像 ◆ 颗粒强度测试 ◆ 薄膜抗穿刺测试 划痕与摩擦测试 ◆ 摩擦系数 ◆ 抗磨测试 ◆ 涂层结合力 ◆ 疲劳测试 ◆ 内聚力失效测试 1. 锂电池颗粒的压缩试验；（通过测试得到颗粒 收到载荷挤压之后的载荷和变形的关系， 来获得各种颗粒的强度） 2. 小尺度区域粘结剂的模量测试；（通过特殊针尖设计，来获得高分子粘结剂 um 尺度范 围内的存储、损坏模量等信息） 3. 极片截面的纳米力学测试（测试表面微米级别的模量的分布，反应涂布之后的均匀性）； 4. 隔离膜纳米力学分析 （通过特殊设计的结构来进行微观针刺试验，从微米和纳米尺度来 测试和评估隔离膜的耐刺穿能力） 5.薄膜及涂层的纳米力学测试（测试多层/复合结构的不同深度的硬度、模量） 样品示意图：样品尺寸要求：直径小于 30mm，高小于 20mm 特别注意： 1.制备试样时，尽量制作便于夹具夹住的试样形状，任何微小的移动是不允许的。 2. 压痕测试的时候压痕深度大于 20 Ra(表面粗糙度)

魔技纳米UV-Ultra高性能无掩膜直写光刻设备UV-Ultra是一款专为高端和工业级应用而设计的高性能无掩膜直写光刻设备。它采用先进的超高速加工方式，采用自研算法和高性能硬件，实现更高的对准、拼接和套刻精度。具备高直写速度和高分辨率，适用于快速、精准的加工需求。MN-UV-Ultra采用集成化设计和全自动控制，操作简便，适用于高达12英寸的基材。广泛应用于微流控、半导体、生物技术和微电子等领域。如需了解更多产品信息，欢迎查询我司官网 魔技纳米科技或来电咨询。 企业介绍 魔技纳米科技创立于2017年，是一家高精度微纳三维装备制造与服务提供商、国家高新技术企业、省专精特新企业。主要业务为高端激光微纳三维直写光刻设备的研发、生产、销售及技术服务等。研发团队拥有十余年微纳三维制造技术经验，在光学、电气、机械、软件、材料等方面，拥有完整的自主开发能力，可以为多行业应用场景提供专业的一体化解决方案。企业推出了高精度纳米级3D打印设备、超快激光加工中心、无掩膜直写光刻设备三大系列及多款光刻胶产品，其中自主研发的商用纳米级三维激光直写系统，可实现70纳米精度的三维结构加工。凭借高精度、高速度、大幅面和长时稳定性等技术优势，实现了科研探索到商业化应用的跨越，有力推动了微纳三维制造在生物医疗、光电通信、新材料、微纳器件、航空航天等领域的规模化工业生产。

纳米颗粒制备 我司提供专业的纳米颗粒制备仪，可以满足用户不同需求的应用。100克至几批的纳米颗粒批次每年可以用ParteQ的FSP生产系统。这些单元可以连续运行，允许甚至可以生产24/7纳米粉。此外，通过ParteQ获得的结果。实验室规模的系统可以转移到更大的生产单位。例如，纳米材料用ParteQ NPS-20台式机开发系统或类似的实验室反应堆可以是用我们的公斤数量制造连续的FSP工厂。 ParteQ提供三条不同尺寸的线用于纳米粒子生产：建议将S系列用于几百克M系列是最适用于500 g至50 kg的数量。L系列针对想要的客户连续生产纳米粒子每小时几公斤，目标是超过50公斤每年最多。 ParteQ S系列，M系列和L系列为一站式服务包含用于前体和模块的系统气体输送，纳米颗粒生成和产品集合。各个模块可以为顾客量身定制。 S系列：50克/小时S系列基于实验室规模的Flame喷雾热解反应器也是NPS-20台式系统。而NPS-20旨在产品开发，提供每批次纳米克量的S系列可以制造几百克相同的纳米材料。例如，当连续生产约50克/小时，可以将300克纳米颗粒。在一天之内轻松获得。ParteQ FSP S系列：连续纳米粉。实验室规模的合成。最适合生产纳米颗粒的批量可达?500 g。 S系列是完全封闭的独立式系统。移动钻机基于铝大型检修门的型材。所有FSP必需的组件已集成进入钻机：火焰喷雾热解反应器流量控制器，前驱泵，颗粒集尘袋式过滤器，离心风机以及入口和出口安全过滤器。 M系列：500克/小时，如果千克数量的纳米颗粒是需要，中型M系列是系统选择。生产能力从约100克/小时，可达2千克/小时，取决于产品材料和操作条件。该系统由PLC，甚至允许使用24/7纳米粉生产。 实际上，M系列已经是一个很小的过程固定的脚印的工厂大约4 m x 6 m。房间高度应在至少5 m。 L系列：5,000克/小时L系列是真正的纳米粉产品，可以连续运行的工厂，每周7天24小时。操作范围开始大约每小时1公斤，可能会超过5公斤/小时，取决于产品材料和条件。 L系列的设计类似于较小的M系列，但使用的组件更大的尺寸。例如，搅拌250或500 L建议使用前驱箱涵盖一天的原料供应。喜欢M系列，该系统是全自动的并由PLC控制。与M系列一样，所有L系列工厂为客户量身定做。

卓聚科技 压电旋转纳米位移台RF-33A 专为紧凑安装空间而设计的小型转台。其可应用与真空和低温的特性，有效的保证了更多的应用场景。360°无死角行程，及高分辨率和精调步进是该旋转台的核心竞争力。压电旋转纳米位移台RF-33A 尺寸参数外形尺寸Φ33.0*14.2mm台面平面度10 μm总重量30g材料机身铝合金/驱动PZT压电陶瓷/驱动机构铍青铜/导线屏蔽线，铜线/粗调模式行程360°无限制°回转直径33mm运动步进0.33~23m°速度上限0.419（24）rad/s（°/s）细调模式细调步进0.52μ°细调范围34m°闭环运动分辨率0.33m°负载垂直运动方向负载10N负载扭矩50N/mm操作环境闭环（开环）操作温度-20~80（-269~80）℃是否适用真空是/其它控制类型开环/闭环/运动分辨率0.52μ°驱动电压上限125V以上就是东莞市卓聚科技有限公司提供的压电旋转纳米位移台RF-33A的介绍，了解更多直接咨询：原文： 随着微电子、纳米科技和人工智能等领域的进一步发展，精密定位不仅在实验室用途广泛，工业界的应用也越来越多。该团队在以往研究基础上，发展出一系列具有自主知识产权的超精密定位产品，填补了国产空白。一个火柴盒大小、外壳包覆金属的小方块，通过电压控制能够实现纳米级别的精密位移，可以用于对精密度要求超.高的科学实验、精密制造和半导体工业等领域。日前，在松山湖材料实验室高.端科研设备产业化团队的实验室内，团队负责人许智展示了该团队拥有核心技术的压电驱动纳米位移台。

卓聚科技 压电旋转纳米位移台RF-5950A 可在-269℃的低温下进行开环使用。设备具备合适的安装尺寸。得益于更跟均衡的尺寸设计，设备具有更大的负载能力。设备支持真空环境。并且支持定制化的开孔位置，满足不同的安装场景。压电陶瓷的驱动模块使用，使设备具有360°全行程的高精度定位及高分辨率。 压电旋转纳米位移台RF-5950A尺寸参数外形尺寸59.0*59.0*21.5mm台面平面度10 μm总重量190g材料机身铝合金/驱动PZT压电陶瓷/驱动机构铍青铜/导线屏蔽线，铜线/粗调模式行程360°无限制°回转直径50mm运动步进0.1~7.21m°速度上限0.132rad/s细调模式细调步进0.16μ°细调范围10.8m°闭环运动分辨率0.33m°负载垂直运动方向负载10N负载扭矩160N/mm操作环境闭环（开环）操作温度-20~80（-269~80）℃是否适用真空是/其它控制类型开环/闭环/运动分辨率0.16μ°驱动电压上限125V以上就是东莞市卓聚科技有限公司提供的压电旋转纳米位移台RF-5950A的介绍，了解更多直接咨询：原文： 随着微电子、纳米科技和人工智能等领域的进一步发展，精密定位不仅在实验室用途广泛，工业界的应用也越来越多。该团队在以往研究基础上，发展出一系列具有自主知识产权的超精密定位产品，填补了国产空白。一个火柴盒大小、外壳包覆金属的小方块，通过电压控制能够实现纳米级别的精密位移，可以用于对精密度要求超.高的科学实验、精密制造和半导体工业等领域。日前，在松山湖材料实验室高.端科研设备产业化团队的实验室内，团队负责人许智展示了该团队拥有核心技术的压电驱动纳米位移台。

PDMS系列压电摩擦纳米发电机测试机 方案简介：王中林院士在纳米科学与能源技术领域有着高深的造诣，其所提出的纳米发电机方向，为不少高校材料学院的研究方向之一。但是由于此类材料，多为高阻材料，其对测试的仪器仪表有了更高的要求。6514和6517B以其高达200TΩ的源内阻，以及pA至mA级别的高精度电流量程，成为了纳米发电机电压，电流测试的不二之选。 材料介绍：纳米发电机，是基于规则的氧化锌纳米线，在纳米范围内将机械能转换成电能，是较小的发电机。目前纳米发电机分为三类：压电纳米发电机；摩擦纳米发电机；热释电纳米发电机，一般应用于生物医学，无线通信，无线传感等领域。PDMS系列压电摩擦纳米发电机测试机主要技术参数1.采集软件功能:软件可快速采集电流、电压、电阻、电荷随时间变化曲线,V-T, I-T,R-T,Q-T曲线。软件可设置静电计的量程范围、对静电计进行零点校正、设置静电计NPLC采样速度。可连续可调设置采集卡的采集速度,最大可达50k/s，可设置记录时间,在测试的过程中实时绘制数据曲线，数据自动保存、数据可用Excel、记事本、Origin打开并分析。包含采集卡1个、转接头适配器1个及USB通信电缆1条，RS232通信电缆1条、低噪声3同轴测试电缆1条2.静电计技术参数： 2.1输入阻抗：200TΩ 2.2电压量程：10µ V-200V 2.3电流量程：50pA-20mA2.4电阻量程：10mΩ-200GΩ 2.5电荷量程：20nC-20µ C 3.直线电机技术参数3.1有效行程：360mm 3.2最佳行程：280mm 3.3峰值推力：163N 3.4持续推力：29N3.5持续推力（风冷）：54N 3.6力常数：20.4N/A3.7最大电流@72VDC：8A 3.8最大电流@48VDC：6.3A 3.9最大速度@72VDC：3.2m/s 3.10最大速度@48VDC：2.2m/s3.11配置驱动软件1套3.12光学面包板1套 3.13控电柜1个3.14剪式升降台2个3.15 TENG 直角架与转接板1板 4.测力计技术参数4.1拉压力测量:501bF/800ozF/25kgF/25000gF/250N4.2精度：±0.1%FS4.3分辨率：0.00lbF/0.2ozF/0.005kgF/5gF/0.05N 4.4测量单位：lbF ozF kgF gF N4.5输出：RS232 digiatic USB analogue4.6可存储测量值：1000 个

压电二维纳米位移台，XYMF-133-100A平移台实现了在XY二维空间上的准确定位，具有分辨率高，行程大（XY轴行程±50mm），带有高精度及高分辨率的位置反馈。操作简单，定位准确，能在真空下使用等优点，可应用于需要纳米精度运动操作及定位的各个领域。压电二维纳米位移台使用压电陶瓷驱动，运动无需润滑，百分百真空兼容，并可在很广的温度范围内工作。运动分辨率达到亚纳米级。步进和扫描双模式工作，并且在宏观行程范围内同样达到亚纳米分辨率的定位。支持开环闭环控制。 尺寸参数外形尺寸（长*宽*高）133.0*133.0*26.1mm台面平面度10 μm总重量653.8g运动参数X轴±50mmY轴±50mm运动速度上限3mm/s材料机身铝合金/驱动PZT压电陶瓷/驱动机构铍青铜/导线屏蔽线，铜线/运动控制闭环位置传感器分辨率2nm开环运动分辨率0.05nm负载垂直运动方向负载20N沿运动方向负载4N操作环境操作温度0~60℃操作湿度温度达到40℃时，相对湿度95%。（非冷凝）/是否适用真空是其它控制类型开环/闭环/驱动电压上限125V 以上就是东莞市卓聚科技有限公司提供的压电二维纳米位移台 XYMF-133-100A平移台的介绍，了解更多直接咨询：原文： 随着微电子、纳米科技和人工智能等领域的进一步发展，精密定位不仅在实验室用途广泛，工业界的应用也越来越多。该团队在以往研究基础上，发展出一系列具有自主知识产权的超精密定位产品，填补了国产空白。一个火柴盒大小、外壳包覆金属的小方块，通过电压控制能够实现纳米级别的精密位移，可以用于对精密度要求超.高的科学实验、精密制造和半导体工业等领域。日前，在松山湖材料实验室高.端科研设备产业化团队的实验室内，团队负责人许智展示了该团队拥有核心技术的压电驱动纳米位移台。 安徽泽攸科技有限公司为您提供压电旋转纳米位移台RF-5950A的参数、价格、型号、原理等信息，压电旋转纳米位移台RF-5950A产地为安徽、品牌为泽攸科技，型号为旋转纳米位移台，价格为面议，更多相关信息可来电咨询，公司客服电话7*24小时为您服务