先进半导体应用的原位过程控制上海伯东日本 Atonarp Aston™ Impact 和 Aston™ Plasma 是超紧凑型质谱仪, 适用于先进半导体工艺(如沉积和蚀刻)所需的定量气体分析.分子测量快速,灵敏度达到十亿分之一 检测残留气体 / 冷凝物污染.提高产量提供化学特定的可操作见解, 尽可能地提高产量提高安全性监测爆炸性气体. 检查排放和减排效果.Aston™ 质谱仪解决了关键的原位计量问题• 提高吞吐量: 端点检测而不是基于时间的流程• 提高产量: 以十亿分之一的灵敏度测量沉积和蚀刻工艺期间的工艺气体 / 副产物Aston™ 质谱仪先进工艺的优势ppb 级灵敏度的高速采样非常适合高纵横比的 3D 结构耐腐蚀性气体坚固紧凑易于集成到工具平台中沉积应用中: 实时过程气体监控,以驱动自动化工具调整以实现过程控制, 沉积步骤之间的终点检测, 实现层的化学计量工程蚀刻应用中: 以 ppb 为单位测量的工艺气体和副产品, 启用端点腔室清洁Atonarp Aston™ 技术参数类型Impact-300Impact-300DPPlasma-200Plasma-200DPPlasma-300Plasma-300DP型号AST3007AST3006AST3005AST3004AST3003AST3002质量分离四级杆真空系统分子泵分子泵隔膜泵分子泵分子泵隔膜泵分子泵分子泵隔膜泵检测器FC /SEM质量范围2-2852-2202-285分辨率0.8±0.2检测限0.1 PPM工作温度15-35“℃功率350 W重量15 kg尺寸299 x 218 x 331 LxWxH(mm)400 x 240 x 325 LxWxH(mm) Aston™ 质谱仪半导体制造应用先进的工艺原子层沉积 (ALD)化学气相沉积 (CVD)原子层蚀刻 (ALE)腔室管理干净的终点检测指纹识别和匹配 Sub-fab 安全性, 可持续性和节省优化过程安全监控干泵保护减排管理沉积化学气相沉积钨TEOS蚀刻介电,导电,金属高纵横比 1% 开放区域检测EUV/光刻SnH4 蚀刻光掩模蚀刻自主过程控制模型驱动的实时过程监控若您需要进一步的了解 Atonarp Aston™ 在线质谱分析仪详细信息或讨论, 请参考以下联络方式:上海伯东: 罗先生
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