国际表面抛光研磨材料及设备展览会

产品名称：铜抛光液/合金铜抛光液/铜表面抛光液/金属研磨液/镜面抛光液合金铜CMP抛光液作用:吉致电子金属类抛光液适用于平面形态的铜、合金铜工件的镜面抛光，CMP抛光工序通过大量磨擦和化学反应作用，可以使铜金属表面得到加工和平整坦化。化学氧化铜金属后磨蚀性去除氧化物部分的机制可得到理想镜面效果，工件表面光滑平整具有易清洗、无残留等特点。吉致可提供铜/合金铜金属的镜面抛光液1、微米/纳米级抛光液，抛光后具有均匀镜面效果2、磨料颗粒呈悬浮状态，不易分散沉淀，提高CMP效率和稳定性3、铜专用抛光液磨料硬度高、稳定性好、化学惰性强*可以依客户不同工艺要求，提供定制化服务*提供全套解决方案，及免费安排工程师上门服务李女士17706168670

产品分类：吉致碳化硅研磨抛光半导体晶圆抛光产品名称：碳化硅研磨液/碳化硅抛光液/碳化硅sic研磨垫/sic精抛垫产品特点：吉致针对碳化硅sic抛光的4道工艺制程搭配不同型号研磨液、抛光液和抛光垫（粗磨垫/精磨垫/粗抛垫/精抛垫）。在研磨和抛光应用中提高碳化硅衬底表面质量，同时大大提高材料去除率。产品工艺及用途：适用于sic碳化硅衬底DMP和CMP工艺制程，有效提升效率以及良率，碳化硅抛光液/抛光垫实现国产化替代。吉致sic碳化硅抛光液储存方法：通风，阴凉，干燥的库房，本品需在5-35℃储存，防止阳光直射，零度以下因产生不可再分散结块而失效。吉致cmp抛光液/slurry抛光液价格：吉致的cmp金属抛光液生产技术是引进国外生产技术和设备，特殊化学配方制备而成。吉致抛光液品质可以替代进口同类产品。本土化生产的优势使吉致cmp抛光液产品交货周期快，抛光液价格实惠亲民。吉致cmp抛光耗材适用范围 吉致拥有成熟的加工工艺和生产设备，为不锈钢、铜、铝、陶瓷、导光板、五金产品、蓝宝石、光学玻璃等各类抛光加工服务。为您提供可靠有效的抛光解决方案！

无锡吉致电子25年研发生产——钨抛光液/W CMP Slurry/W 抛光液/半导体研磨液/CMP抛光液/化学机械抛光液/CMP化学机械抛光液slurry/CMP集成电路抛光液钨W抛光液作用: 吉致电子钨W抛光液适用于8-12吋氧化硅镀膜片的抛光。特选粒径均一的SiO2水溶胶为磨料，抛光清洗后晶圆表面粗糙度低、颗粒残留少。与国内外同类产品相比，具有易清洗、表面粗糙度低等特点.我司产品优点： 1.悬浮性好，不易沉淀，使用方便。2.颗粒分散均匀，不团聚，软硬度适中，有效避免抛光过程中由于颗粒团聚导致的工件表面划伤缺陷。3.运用抛光过程中的化学新作用，提高抛光速度，改善抛光表面的质量。4.分散性好、乳液均一，程度提升抛光速率的同时降低微划伤的概率，可以提高抛光精度。5.无粉尘产生，关注环保和人体健康安全。可定制化：我们的抛光液可以根据客户需求定制不同的PH、粒径、浓度、稳定离子等。包裝方式：25KG/桶(也可依客户需求)吉致电子CMP抛光液/Slurry抛光液价格：吉致电子的CMP金属抛光液生产技术是引进国外生产技术和设备，特殊化学配方制备而成。吉致电子抛光液品质可以媲美进口同类产品。本土化生产使吉致电子CMP抛光液产品交货周期快，品质好，抛光液价格实惠亲民。吉致电子CMP抛光耗材适用范围吉致电子科技有限公司拥有成熟的加工工艺，为不锈钢、铜、铝、陶瓷、导光板、五金产品、蓝宝石、光学玻璃等各类抛光加工服务。为您提供可靠有效抛光解决方案！

产品名称：钼抛光液/金属钼抛光/激光反射镜抛光液/CMP研磨液/镜面抛光液金属钼片抛光液作用:吉致电子金属类抛光液适用于平面形态的钼、钼合金工件的镜面抛光，CMP抛光工序通过大量磨擦和化学反应作用，可以使钼金属表面快速去粗和平整坦化。化学氧化腐蚀钼合金表面，研磨去除氧化物部分的机制可得到理想镜面效果，金属钼工件表面光滑平整具有易清洗、无残留等特点。吉致可提供钼片/金属钼的镜面抛光液1、微米/纳米级抛光液，抛光后具有均匀镜面效果2、磨料颗粒呈悬浮状态，不易分散沉淀，提高CMP效率和稳定性3、钼片专用抛光液磨料硬度高、稳定性好、化学惰性强，吉致电子金属钼抛光液可用于钢铁、化工、电子、航天、光学领域的钼片加工，达到优良的表面平坦度，抛光速率快、表面均一无缺陷。*可以依客户不同工艺要求，提供定制化服务*提供全套解决方案，及免费安排工程师上门服务

无锡吉致电子25年研发生产——蓝宝石研磨液/蓝宝石LED衬底抛光液/Sapphire Slurry/CMP化学机械抛光/液蓝宝石A向抛光液/蓝宝石C向抛光液/半导体抛光液/吉致蓝宝石抛光液/蓝宝石研磨液厂家/蓝宝石抛光液厂家/JEEZ蓝宝石抛光液/蓝宝石CMP集成电路抛光液/蓝宝石slurry/蓝宝石Lapping研磨抛光液产品简介：为半导体行业/光学行业调配的蓝宝石研磨液/蓝宝石LED衬底抛光液/Sapphire Slurry组合浆料，适用于蓝宝石基片、外延片、LED的平坦化加工。设计满足从研磨到CMP的衬底制造的各个工艺阶段的规范，在蓝宝石基片抛光应用中提供了可靠的解决方案。吉致电子蓝宝石LED抛光液/Sapphire Slurry抛光液储存方法：1.贮存时应避免曝晒，贮存温度为5-35℃2.低于0℃以上储存，防止结冰，在无度以下因产生不可再分散结块而失效。3.避免敞口长期与空气接触。吉致电子CMP抛光液/Slurry抛光液价格：吉致电子的CMP金属抛光液生产技术是引进国外生产技术和设备，特殊化学配方制备而成。吉致电子抛光液品质可以媲美进口同类产品。 本土化生产使得吉致电子CMP抛光液产品交货周期快，品质好，抛光液价格亲民。吉致电子CMP抛光耗材适用范围吉致电子科技有限公司拥有成熟的加工工艺，为不锈钢、铜、铝、塑胶、陶瓷、导光板、五金产品、蓝宝石、光学玻璃等各类抛光加工服务。为您提供可靠的抛光解决方案！

美国QMAXIS研磨抛光片原装进口美国QMAXIS研磨抛光片，是将微米级、纳米级的金刚石、或氧化铝、或碳化硅微粉，用高分子粘合体系均匀地涂布在高强度的Mylar片（麦拉片）表面，具有出色的平整度、边缘保持和共面性。研磨抛光片适用于玻璃、陶瓷、硬质金属、复合材料、光纤、光学元件、半导体、芯片、电路板以及用于SEM和TEM分析的微电子元器件的研磨、减薄和抛光。适合手动研磨抛光，干法、湿法均可。订货信息：DiaFilm 金刚石研磨抛光片 包装规格：5片/包颜色粒径8in [203mm] 带背胶8in [203mm] 不带背胶绿色30µmGFD-08-30GFDX-08-30橙色15µmGFD-08-15GFDX-08-15蓝色9µmGFD-08-9GFDX-08-9棕色6µmGFD-08-6GFDX-08-6粉红色3µmGFD-08-3GFDX-08-3淡紫色1µmGFD-08-1GFDX-08-1灰白色0.5µmGFD-08-05GFDX-08-05浅灰色0.1µmGFD-08-01GFDX-08-01订货信息：AlumiFilm 氧化铝研磨抛光片 包装规格：100片/包颜色粒径4in [102mm] 带背胶8in [203mm] 带背胶绿色30µmGFA-04-30GFA-08-30黄色12µmGFA-04-12GFA-08-12蓝色9µmGFA-04-9GFA-08-9粉红色3µmGFA-04-3GFA-08-3淡绿色1µmGFA-04-1GFA-08-1白色0.3µmGFA-04-03GFA-08-03订货信息：CarbiFilm 碳化硅研磨抛光片 包装规格：100片/包粒径4in [102mm]带背胶5in [127mm]带背胶8in [203mm]带背胶30µmGFC-04-30GFC-05-30GFC-08-3012µmGFC-04-12GFC-05-12GFC-08-129µmGFC-04-9GFC-05-9GFC-08-93µmGFC-04-3GFC-05-3GFC-08-31µmGFC-04-1GFC-05-1GFC-08-1

Allied研磨抛光系统 MetPrepTM和DualPrepTM 系列研磨抛光机适用于手工样品制备和半自动样品制备，可配置PH系列研磨头。不同的组合提供理想的解决方案，适应任何应用程序、实验室或材料。它的微处理器能够编程控制25个菜单程序，包括研磨盘的转速、方向，时间，样品的转速，研磨样品的力度（开/关，%），液体配送和喷淋控制。强力的传动电动机能够保证充足的扭矩，可以满足各种应用需求。研磨盘可以自由选择顺时针或逆时针旋转的速度。在工作启动前，独特的研磨盘轻推设计可以控制研磨剂和添加剂。采用一个电子螺线管供应冷却剂，并用一个控制阀轻易的实现流控制。 本机附带所有常用研磨头，用户可以根据需要自由更换。可选设备AD-5的自动液体配送功能,用于在无人操作条件下自动完成预置的工作。特点： 采用触摸按键控制所有功能。研磨盘可随意的顺/逆时针旋转。背射光 LCD 显示。坚固的铝/钢机身结构。新式研磨盘设计，阳极电镀处理，耐磨损耐腐蚀。保护罩抗腐蚀抗冲击。研磨盘速度范围：10-400RPM。轻推速度范围：10-150RPM。 电子冷却采用阀门调节控制。密码保护功能。15"宽× 27"深× 23"高（381 × 686 × 584毫米）。重量：136lb.（62kg）。美国设计制造。规格： PH系列研磨头规格：AD-5液体自动配送器提供自动的，无人值守的应用于研磨抛光悬浮液或润滑剂。它的功能可以应用于ALLIED的MetPrep3、MetPrep 4和DualPrep3研磨/抛光机，或者可以作为一个独立的系统，使用于任何品牌的抛光机。定时、量控、可变频率分配可以消除操作者之间的不一致，提供良好重复性的结果，这增加了在实验室的生产率和效率，同时降低耗材使用。直观的菜单导航和简单的逻辑编程，使自动配送器很方便的被使用。AD-5有5个定位配送装置，其中两个包含一个冲洗周期，以防止使用胶体悬浮液时堵塞。蠕动泵技术使得抛光表面不会产生雾气水滴。

美国QMAXIS金相研磨抛光专用金刚石抛光膏原装进口美国QMAXIS金刚石抛光膏，含有高浓度的金刚石，与水基、或酒精基、或油基的抛光冷却润滑液配合使用。广泛用于不规则样品的手动研磨抛光，尤其适合易被金刚石颗粒嵌入的和对水敏感的材料的研磨和抛光。PolyPaste 多晶金刚石抛光膏MonoPaste 单晶金刚石抛光膏订货信息：PolyPaste 多晶金刚石抛光膏颜色粒径10g/支白色0.25µmPPP-025-10灰色1µmPPP-1-10黄色3µmPPP-3-10橙色6µmPPP-6-10绿色9µmPPP-9-10蓝色15µmPPP-15-10订货信息：MonoPaste 单晶金刚石抛光膏颜色粒径5g/支20g/支白色0.25µmPMP-025-5PMP-025-20灰色1µmPMP-1-5PMP-1-20黄色3µmPMP-3-5PMP-3-20橙色6µmPMP-6-5PMP-6-20绿色9µmPMP-9-5PMP-9-20蓝色15µmPMP-15-5PMP-15-20

高效金刚石金相抛光剂采用优质的金刚石微粉，以独特的介质与助剂，融物理与化学作用于一体研制而成；粒度分布均匀，颗粒形貌呈球形八面体，故研磨效果好、不易产生划痕；硬度极高，刃口尖锐锋利，对硬软材料都有良好的研磨作用，只产生研磨作用而无滚压，不产生扰乱层； 主要用于机械研磨、抛光硬质合金、合金钢、高碳钢等高硬材料制件以及金相和岩相试样的精研等。使用方法01. 使用前抛光织物需用清水湿透，避免磨擦热。 02. 启动抛光盘后将抛光剂轻摇后倒置喷出。 03. 喷撒抛光剂时，应以抛光盘中心为圆心，沿半径方向喷出3--5s即可。 04. 新织物喷撒时间相应延长，以使织物的磨削能力更完美。粒度：W0.25、W0.5、W1、W1.5、W2.5、W3.5、W5、W7、W10、W14、W20、 W28、W40包装：每罐250克、350毫升。附注：W为微米μm，国际通用标准。

1. 金刚石抛光膜DIAMOND LAPPING FILM钻石颗粒，背衬是3mil厚度的涤纶。大小8英寸和12英寸两种可选，粒度大小可选，背衬有粘附（PSA）和不粘附（PB）两种，单张起售。货号产品名称规格50350-01Diamond Lapping Film， P/B, 0.1um8英寸50350-03Diamond Lapping Film， P/B, 0.25um8英寸50350-05Diamond Lapping Film， P/B, 0.5um8英寸50350-10Diamond Lapping Film， P/B, 1um8英寸50350-15Diamond Lapping Film， P/B, 3um8英寸50351-01Diamond Lapping Film， PSA, 0.1um8英寸50351-02Diamond Lapping Film， PSA, 0.25um8英寸50351-03Diamond Lapping Film， PSA, 0.5um8英寸50351-04Diamond Lapping Film， PSA, 1um8英寸50351-05Diamond Lapping Film， PSA, 3um8英寸 2. 研磨纸1um的金刚石抛光膜抛光后紧接着用到的“蓝研磨纸”和“绿研磨纸”。样品最终观察前的最后抛光程序用到。可以呈现一个完美平整无痕的观测平面。只有8英寸一个规格，背衬有粘附(PSA)和不粘附（PB）之分。单张起售。 货号产品名称规格50336-PBTrue Blue Film 蓝研磨纸8英寸（20.3cm）50338-PBFinal Green Film 绿研磨纸8英寸（20.3cm）50336-PSATrue Blue Film8英寸（20.3cm）50338-PSAFinal Green Film8英寸（20.3cm）

无锡吉致电子25年研发生产——氧化层抛光液 /Oxide slurry/CMP抛光液/氧化物CMP研磨液/氧化物化学机械抛光液/半导体CMP抛光液/氧化层lapping研磨抛光液/氧化层slurry/氧化层抛光液抛光浆料/氧化层集成电路抛光液/氧化层CMP化学机械抛光液slurry/氧化层抛光液slurry 磨料类型：半导体cmp抛光液slurry磨料粒径：纳米级SiO2产品特点：纳米级SiO2磨料，粒径均一稳定，去除速率稳定，金属离子含量低，通过CMP工艺可有效去除表面氧化层，达到理想平坦度。吉致电子Oxide Slurry与国内外同类产品相比，具有易清洗、表面粗糙度低等特点。吉致电子氧化层抛光液/OxideSlurry抛光液储存方法：通风，阴凉，干燥的库房，本品需在5-35℃储存，防止阳光直射及冻结，零度以下因产生不可再分散结块而失效。 吉致电子CMP抛光液/Slurry抛光液价格：吉致电子的CMP金属抛光液生产技术是引进国外生产技术和设备，特殊化学配方制备而成。吉致电子抛光液品质可以媲美进口同类产品。本土化生产使得吉致电子CMP抛光液产品交货周期快，品质好，抛光液价格亲民。吉致电子CMP抛光耗材适用范围吉致电子科技有限公司拥有成熟的加工工艺，为不锈钢、铜、铝、陶瓷、导光板、五金产品、蓝宝石、光学玻璃等各类抛光加工服务。为您提供可靠抛光解决方案！

MetaDi钻石悬浮液和浆料是高质量的单晶和多晶金刚石抛光产品，可提供可重复的性能并提供出色的样品质量。 严格控制Buehler的MetaDi钻石悬浮抛光剂和糊剂产品，以防止粒径或浓度出现任何偏差。 这样可确保每个样品的抛光结果均具有可重现性，并具有高质量的表面光洁度。 基于微米尺寸的颜色编码的钻石悬浮液和糊剂有助于防止抛光表面上的交叉污染。 由于对水的敏感性或钻石的嵌入，某些材料与传统的水基悬浮液不兼容。 与水敏感的材料一起使用时，油基MetaDi单晶金刚石悬浮液以及MetaDi金刚石浆料提供了多种选择。最终抛光悬浮液旨在去除表面变形的最后一层，并准备样品进行分析。 肉眼可能看不到变形，但是对于某些标本分析技术，必须将其消除。金刚石抛光金刚石悬浮液及研磨膏 规格产品金刚石类型材料去除表面变形应用MetaDi Supreme 多晶金刚石悬浮液多晶最佳极小最快的材料去除和最小的表面变形MetaDi Supreme 无色多晶金刚石悬浮液多晶最佳极小适用于容易被染色且会影响图像分析的材料MetaDi 单晶金刚石悬浮液单晶较好小对于大多数材料来所去除效果较好MetaDi 油基单晶金刚石悬浮液单晶较好小适用于水敏感的材料MetaDi Suspension 稀释单晶金刚石悬浮液单晶较好小与自动化系统一起使用时，悬浮液和增量液组合可保持一致性MetaDi 超多晶研磨膏多晶较好极小适用于需要高效去除且容易嵌入金刚石颗粒的软材料MetaDi 单晶研磨膏 (天然)单晶好小高浓度的金刚石研磨膏适用于容易嵌入金刚石颗粒的材料MetaDi II 单晶研磨膏 (合成)单晶好小中等高浓度的金刚石研磨膏适用于非常容易嵌入金刚石颗粒的材料最终抛光产品类型范围应用MasterPrep 氧化铝氧化铝终抛液0.05µ m~8.5pH较适合铸铁、钢、不锈钢、铜、聚合物、矿物质、微电子、贵金属MasterMet 硅胶硅胶终抛液0.06µ m~10pH化学-机械的抛光方法，较适合铝、难熔金属、微电子中的硅、陶瓷MasterMet 2 非结晶硅胶非结晶硅胶终抛液适用于抛光液配送系统0.02µ m~10.5pH化学-机械的抛光方法，较适合铝、难熔金属、微电子中的硅、陶瓷MasterPolish 终抛混合高浓度氧化硅和硅胶的终抛液0.05µ m~9pH含有极少量水分，适用于水敏感材料，适用于大多数镁合金、钴合金、大多数铁合金、镍和金属基复合材料MasterPolish 2 终抛氧化铁抛光液0.06µ m~10pH化学-机械的抛光方法，适用于蓝宝石、玻璃、氧化铝、氮化硅和金属/陶瓷复合材料MicroPolish Alumina 氧化铝团聚氧化铝终抛液与相同颗粒尺寸的其他氧化铝终抛液相比，具有更高的去除率颗粒尺寸可选： 0.05µ m、0.3µ m、 1µ m适用于镁、铅及其合金，提供抛光液和抛光粉两种选择MicroPolish II Alumina 氧化铝高质量的非团聚氧化铝终抛液比结晶氧化铝终抛液可得到更高质量的表面颗粒尺寸可选：0.3µ m、 1µ m适用于大多数矿物和金属，提供抛光液和抛光粉两种选择

为消除变形并获得高反射表面，需要具有不同弹力的不同磨料和抛光布。使用与设备配套的 Struers 耗材是确保优异抛光性能的理想方式。这是因为每种机器和耗材被设计成适于配合使用，以控制抛光过程的所有参数，从而帮助您充分利用您的投资。 抛光布、金刚砂粒度和润滑剂的选择取决于要抛光的材料。无论您对氧化物抛光还是金刚砂抛光感兴趣，Struers始终能够满足您的需求。 DiaPro是专为实现超高性能和效率而开发的一系列金刚石悬浮液，可将制备时间平均缩短30%。每种DiaPro悬浮液针对特定表面开发并且经过优化，可提供出色的平整度、边缘保护和再现性。 只有Struers耗材才能充分发挥Struers设备的优势。

产品分类：吉致电子抛光垫产品名称：阻尼布抛光垫/碳化硅SIC精抛垫/Politex抛光垫FUJIBO抛光垫替代产品特点：吉致电子抛光垫满足低、中及高硬度材料抛光需求，针对碳化硅SIC抛光的4道工艺制程搭配不同型号抛光垫（粗磨垫/精磨垫/粗抛垫/精抛垫）具有高移除率、高平坦性、低缺陷和高性价比等优势。产品工艺及用途：柔软表面与特殊微孔洞结构，适用于碳化硅SIC衬底、各类晶圆、IC制造等CMP工艺高精细、高平坦化的制程。具有缓冲与晶背保护的效果。吉致电子碳化硅抛光垫价格：吉致电子抛光垫生产引进国外技术，可以媲美进口抛光垫PAD/阻尼布抛光垫产品（Politex/Fujiba/SUBA/环球等国产替代）品质稳定。选择吉致电子抛光垫产品，价格美丽，比进口抛光垫/精抛垫便宜，交货期稳定，性价比更高！

美国QMAXIS金相研磨抛光专用金刚石抛光液原装进口美国QMAXIS金刚石抛光液，金刚石浓度高，纯度高，微粉粒径一致，分散均匀，性能稳定，且无害环保。金刚石抛光悬浮液磨削能力强，抛光表面效果好，满足各种材料的金相研磨、抛光需求。PolyDia 水基多晶金刚石抛光液MonoDia 水基单晶金刚石抛光液ComboDia 水基单晶金刚石混合抛光液OilDia 油基单晶金刚石抛光液PolyDia 多晶金刚石抛光液 水基订货信息：颜色粒径8oz [240ml]32oz [950ml]1gal [3.8L]黑色0.05µmPP-005-008PP-005-032-灰色0.25µmPP-025-008PP-025-032-蓝色1µmPP-1-008PP-1-032PP-1-128绿色3µmPP-3-008PP-3-032PP-3-128黄色6µmPP-6-008PP-6-032PP-6-128红色9µmPP-9-008PP-9-032PP-9-128褐色15µmPP-15-008PP-15-032PP-15-128MonoDia 单晶金刚石抛光液 水基订货信息：颜色粒径16oz [470ml]32oz [950ml]1gal [3.8L]木炭色0.1µmPM-01-016PM-01-032-灰色0.25µmPM-025-016PM-025-032-白色1µmPM-1-016PM-1-032PM-1-128黄色3µmPM-3-016PM-3-032PM-3-128红色6µmPM-6-016PM-6-032PM-6-128绿色9µmPM-9-016PM-9-032PM-9-128蓝色15µmPM-15-016PM-15-032PM-15-128ComboDia 单晶金刚石抛光液 + 润滑剂订货信息：颜色粒径32oz [950ml]1gal [3.8L]白色1µmPE-1-032PE-1-128黄色3µmPE-3-032PE-3-128红色6µmPE-6-032PE-6-128绿色9µmPE-9-032PE-9-128OilDia 单晶金刚石抛光液 油基订货信息：颜色粒径16oz [470ml]灰色0.25µmPO-025-016灰色1µmPO-1-016黄色3µmPO-3-016橙色6µmPO-6-016绿色9µmPO-9-016

ALLIED抛光布（Polishing cloths） 美国Allied High Tech公司生产的系列抛光布分为三种类型，分别为编织布、无纺布和植绒抛光布，可用于所有材料的精细或粗研磨、半成品和成品的抛光。提供标准研磨盘上使用粘性背胶抛光布。1.编织抛光布（woven polishing cloths）:具有低应压力的特点，施加有效的压力即可达到最大化的材料去除率和平面度。交叉式的编织方法是精细或粗研磨、半成品抛光的理想选择.常用到的是Nylon编织抛光布，与15-3um金刚石配合使用，对于大部分材料抛光都能够达到良好的平整度和边缘保持性。2.无纺抛光布（non-woven polishing cloths）:对于柔软的表面也具有低应压力的特点，更适合软的非金属、铁合金和高分子材料/塑胶的半成品和成品抛光。常用到的是Kempad无纺抛光布，与9-1微米的金刚石配合使用，提供良好的去除率和平整度。3.植绒抛光布（napped (flocked) polishing cloths）:用不同长度的纤维和刚性布料制作而成，像植绒的“刷子”一样对成品进行抛光清理以及对半成品和粗抛样品的划痕进行清除抛光。Glenco植绒抛光布，硬绒合成人造纤维，与3-1微米金刚石或氧化铝配合，可以提供卓越的中间或最终抛光效果，尤其用于抛光软性金属和材料。Spec-Cloth植绒抛光布，柔软的中绒合成纤维，与1-0.25微米的金刚石或氧化铝配合使用，可用于各种材料的普通抛光。Final B植绒抛光布，柔软的低绒人造纤维，与3-0.25微米的金刚石或氧化铝配合使用，提供卓越的完成度和平整度，尤其是坚硬材料、含铁材料和玻璃货号产品名称规格50314-05Nylon编织抛光布，无孔，8英寸，PSA5张50310-05Kempad无纺抛光布，无孔，8英寸，PSA5张50318-05Glenco植绒抛光布，无孔，8英寸，PSA5张50320-05Spec-Cloth植绒抛光布，无孔，8英寸，PSA5张50344-05Final B植绒抛光布，无孔，8英寸，PSA5张 价格仅供参考，详情请致电010-52571502

产品简介：磁性树脂金刚石研磨抛光盘适用于UNIPOL系列研磨抛光机。 产品型号磁性树脂金刚石研磨抛光盘技术参数1、粒度：80#、120#、150#、180#、240#、320#、400#、500#、600#、800#、1200#、1500#、1800#、2000#2、直径：Φ200mm、Φ300mm、Φ381mm如有特殊要求请与我司销售人员联系！

S-22表面粗糙度比较仪S-22 Microfinish Comparator S-22表面粗糙度比较仪　本产品可用于五金机械，家电设备，产线建设等相关行业　　品 牌：GAR　　型 号：S-22(多款型号供选)　　比较仪质量 比较仪尺寸 比较仪价格 基本描述　　GAR S-22 22型表面粗糙度比较仪（符合AS9000标准） 　　GAR22样品2至500微英寸范围表面粗糙度计 　　本项目规范 　　零件号S-22 　　品牌名称GAR 　　不锈钢材质 　　项目数量1 　　UNSPSC代码41110000。　　S-22传统加工MICROFINISH比较器的形状为矩形（2“x53/8”），是实际加工表面的耐腐蚀电铸镍复合物。 　　共有二十二个复制的机加工表面光洁度样品，其中包括六种不同的加工工艺：研磨，研磨，布兰德尔地面，形状翻转，铣削和成型-范围从2到500微英寸。 　　S-22MICROFINISHCOMPARATOR采用人造革外壳，提供工程数据和说明。 　　S-22也有公制，带有千分尺。　　比较仪质量 比较仪尺寸 比较仪价格 术语　　类型： 　　标本是原始edm' ed表面的电铸复制品。 　　材料： 　　这种微细比较器表面粗糙度标尺由镍制成。它不会腐蚀。 　　外观： 　　每个样品都具有转向金属材料的表面粗糙度特征。 　　表面粗糙度：表示 　　由工具边缘的切割作用，机床的进给和磨粒产生的细微间隔的表面不规则性。 　　统一性和准确性： 　　原始母版和电铸复制品制作母版均匀分布检查。进行足够的测量以确定代表性的平均值。列出的评级是这些读数的平均值。 　　LAY： 　　这是指定主要表面不规则方向的术语。 　　FLAWS： 　　这些是不规则的，可能会频繁出现。它们不是典型的转弯表面。 22个复制的机加工表面光洁度试样，包括六种不同的机加工工艺示例：搭接、研磨、硬研磨、成形车削、铣削和成型-范围为2至500微英寸。S-22微精比较仪表面粗糙度标尺由双电铸工艺制成，其中镍电沉积以提供复杂细节的**再现。GAR电铸公司可提供用于产生表面粗糙度标尺的相同电铸工艺，以满足您的产品需求。 该比例中使用的表面是**加工表面的复制品，测量单位为微英寸（百万英寸-0.000001”）。刻在每个表面旁边的数字是与平均表面的平均偏差，以微英寸表示。 将MICROFINISH比较仪表面粗糙度标尺放在工件旁边。滑动标尺，使具有所需表面粗糙度的矩形与正在检查的工件相邻。通过在每个表面上以与工具标记成直角绘制指甲尖进行比较。如果饰面相同，则指甲接触的感觉必须相同。 S-22微精比较仪表面粗糙度量表为工业界提供了已建立的平面粗糙度样本，用于视觉和触觉比较。当需要具有典型机加工表面外观的产品时，它用于指定和控制表面粗糙度。 S-22微精比较仪表面粗糙度标尺提供了一种经济的工具，允许在与线性测量相同的基础上指定粗糙度。呈现的表面是多年研究和工程的结果。有关该主题的详细信息现已发布在美国国家标准协会（ANSI）规范中，标题为：“表面纹理、表面粗糙度、波纹度和铺层”。ANSI/ASME B46.1 S-22常规加工微精比较仪为矩形（2“x 5 3/8”），是实际加工表面的耐腐蚀电铸镍复制品。 共有22个复制的加工表面光洁度试样，包括六种不同的加工工艺：研磨、研磨、硬研磨、成形车削、铣削和成型，范围为2至500微英寸。 S-22微精比较仪装在人造革箱中，附有工程数据和说明。 S-22也有公制和千分尺名称。 类型： 试样是原始电火花加工表面的电铸复制品。 材料： 该微精比较仪表面粗糙度标尺由镍制成。它不会腐蚀。 外观： 每个试样具有车削金属材料的表面粗糙度特征。 表面粗糙度： 指由刀具边缘的切削作用、机床进给和磨粒产生的精细间隔表面不规则。 一致性和准确性： 已按均匀分布的间隔检查原始母版和电铸副本生产母版。进行了充分的测量以确定代表性平均值。列出的额定值是这些读数的平均值。 铺设： 这是指主要表面不规则的方向。 缺陷： 这些是可能频繁出现的不规则情况。它们不是典型的回转面。 SCRATA粗糙度样块,SCRATA Comparators对比板铸钢表面SCRATA图谱SCRATA粗糙度对比试块ASTM A802粗糙度对比试块SCRATA比较器目视比较仪检测表面粗糙度SCRATA比较仪铸体表面粗糙度对比试块CTI粗糙度对比板钢和铁铸件表面质量检测仪铸造表面粗糙度对比板砂型铸件铸造表面对比板 Comparators for the definition of surface quality of steel castings 英国铸钢研究及贸易协会(STEEL CASTINGS RESEARCH AND TRADE ASSOCIATION 缩写为：SCRATA)更名为英国CTI铸造协会(CTI，Castings Technology Intemational) 一个铸件的粗糙度程度取决于制造工序（铸造、打磨、精加工等）。所用的铸造材料（型砂、涂料等）、铸造设备和浇铸合金。铸件表面如无加工表面均匀的环状，就很难用机械仪器、光学仪器或传统的气动仪器来评估它的粗糙度，因而在这种情况下，采用显示比较器是合适的选择。 但考虑到铸造或其它精加工方法做出的毛坯表面的不均匀性，比较器的规格应相对增大（等于或大于15000mm2），以便检验更可靠，给出重复而适当的结果。 Steel Castings Research and Trade Association(48片）：SCRATA比较器（1988年出版），用于确定铸钢件的表面质量，SCRATA显示比较器的规格为100mm×150mm （其比较面积大致为15000mm2~15500mm2）。 SCRATA样板 ASTM A802 粗糙度对比试块 SCRATA图谱 适用于ASTM A802/A802M – 95 (2006)钢铸件表面目测验收标准规程的31个样块如下： Surface Roughness (A) 表面粗糙度(A) Surface Inclusions (B) 表面夹杂(B) Gas Porosity (C) 气孔(C) Laps and Cold Shuts (D) 皱褶和冷隔(D) Scabs (E) 铸疤(E) Chaplets (F) 型芯撑(F) Surface Finish – Thermal Dressing (G) 表面处理 - 热抛光(G) Surface Finish – Mechanical Dressing (H) 表面处理 - 机械抛光(H) Welds (J) 焊缝(J) Hot Tears 热裂纹 Mechanical Dressing - Chipping 机械抛光 - 切削样块数量样板分类 ABCDEFGHJ热裂纹切削ASTM A802311-41,2,4,51-41,2,53,51,31,2,3,51,3,4,51,2,3,5--48个的样板集适用于 ISO 11971:2008 钢和铁铸件 – 表面质量的外观检验；BS EN 1370:1997 铸造 – 目视比较仪检查表面粗糙度； BS EN 12454:1998 砂型铸件铸造表面缺陷的目视检查。（如果已有ASTM A802样块集，可以购买17块的升级样块集）样块数量样块分类ABCDEFGHJ热裂纹切削全套481-51-51-51-51-51-51-51-51-51-21升级样块集175353,41,2,42,4,54241-21第3组有14个样块，基于BS 7900:1998 精密钢铸件表面特征的检验规范，适用于采用精密铸造工艺制造的铸钢件采购 Resin Shell Process (V) 树脂壳法(V) Lost Polystyrene Process (W) 聚苯乙烯消失模铸造(W) Shaw Process (X) 萧氏精密造模法(X) Lost Wax Process (Y) 失蜡法(Y) Fettled Surfaces (Z) 修整铸件(Z) 样块数量样板分类VWXYZ精密铸造样块集141-31-31-31-21-3 1. Full Set (48 comparators + A4 book) (咨询价格021-51082920) 全套 (48个样块)2. ASTM A802 set (31 comparators + A5book) ASTM A802样块集 (31个样块)3. Upgrade set (17 comparators + A4book) 升级样块集’ (17个样块)4. Precision castings (14 comparators and a copy of BS 7900:1998) 精密铸造’ (14个样块和BS 7900:标准文本一份)

Akasel是一家丹麦公司，专门从事开发、生产和销售高质量的金相耗材以及最佳的金相制备方法。 凭借创始人Morten Damgaard在金相学方面的专业知识和实践经验，再加上对可持续性创新解决方案的不懈追求，不断努力，推进金相耗材的开发，提高金相样品制备的效果，创造易于执行的制备方法。经过多年的发展，这个在车库里迈出第一步的公司现在已经成功地将高品质的金相耗材以及高效的制备方法传播到全世界。 如果您为目前样品制备过程的繁琐所累，请联系我们，我们的技术专家将免费为您进行制备流程优化。抛光布Akasel的抛光布适用于金属和其他材料的抛光，是我司在丹麦的工厂专门开发和生产的，因此，我们可以保证每块抛光布的均匀性和质量。这也意味着，除了标准尺寸外，我们还可以根据要求提供任何尺寸或直径的Aka抛光布，最大可达1250 mm。Akasel的抛光布（Aka-）具有以下优点：布纤维与一种耐水、乙醇和油的聚合物阻隔层层压在一起，可保护布料免于磨损，并确保金刚石与样品表面保持良好接触，从而以最低的成本完成快速制备。低粘性的胶将抛光布牢牢地保持在盘上，同时易于清除，且不会在制备盘上留下任何残留物用于磁性支持盘的Mag磁性抛光布与上述抛光布相同，但层压在钢盘上。这些钢制圆盘配有3个卡口，便于拆卸。我们的抛光布种类繁多，涵盖金刚石抛光、最终金刚石抛光和氧化物抛光，可为所有材料实现出色的制备效果。Plaran是一种编织尼龙cloth，可用于软质材料的精细研磨和硬质材料的抛光。建议与15-3 μm的金刚石悬浮液一起使用。Paran-S是一种无纺涤纶cloth，可用于软质材料的精细研磨和抛光硬质材料。建议与15 – 1 μm的金刚石悬浮液一起使用。丝绸是一种100%编织的丝绸抛光布，可用于黑色金属的精细研磨以及抛光，包括对较硬材料和涂层的最终抛光和氧化物抛光。建议与9 – 0.25 μm的金刚石悬浮液一起使用。Ramda是一种醋酸编织cloth，可用于所有材料的抛光。它比Daran硬。建议与3 – 1 μm的金刚石悬浮液一起使用。 Daran是一种醋酸编织cloth，可用于所有材料的抛光。它比Ramda柔软，也可用于氧化物抛光。建议与6 – 0.25 μm的金刚石悬浮液一起使用。Moran-U是一种100%羊毛编织布，可用于有色金属和黑色金属的抛光和最终抛光。建议与6 – 1 μm的金刚石悬浮液一起使用。Moran是一种100%羊毛编织布，可用于有色金属和黑色金属的抛光。建议与6 – 3 μm的金刚石悬浮液一起使用。 Plural是一种植绒粘布，可快速地一步抛光钢铁、烧结碳化物和其他硬质材料。它还可以用于抛光未经镶嵌的样品。建议与3 – 1 μm的金刚石悬浮液一起使用。Napal是一种植绒粘布，可对所有材料进行最终抛光，包括氧化物抛光。建议与1 – 0.025 μm的金刚石悬浮液一起使用。 Chemal是一种合成泡沫布，与氧化物悬浮液一起，用于对所有材料进行化学/机械最终抛光。 常见问题解答：如何清除制备盘上抛光布的胶水残留物？我们的Aka-polishing cloths配有低粘性胶水，不会在制备盘上留下任何残留物如果抛光布脏了，可以清洗吗？如果您在抛光后遇到划痕，而这在实际的步骤中并不常见，那么这可能是抛光布被某些外来颗粒或较早之前的步骤中遗留的磨料颗粒污染的迹象。对于非常细的颗粒（1 μm或更细），清洗抛光cloth几乎是不可能的，但是对于较粗的颗粒（3 μm），则应该是可行的。您可以利用指甲刷或类似工具，在流动的温水下仔细刷洗抛光布，将所有碎屑清除掉。清洗后，利用机器旋转甩干抛光cloth。当抛光cloth完全干燥后，您可以再次使用它，将它视为新布，并进行所有的涂底处理。如果污染物来自较早的制备步骤，则必须确保样品在从一个步骤到下一个步骤时是绝对干净的。您还需要确保样品已正确镶嵌（使用冷镶嵌环氧树脂），以免碎屑夹在树脂和样品之间的镶嵌间隙中。

使用Specac窗片抛光工具包让您的窗片保持最佳状态！ 窗片抛光工具包包含了所有清理和抛光红外传输窗片必不可少的工具和材料。 简单的抛光既有效又经济。 包括完整说明和所有易损件的更换。 订购信息 04000：窗片抛光工具套件 窗片抛光工具包括下面列出的项目（每个项目可单独订购） 04030：光学平台(玻璃平板) 04070：玻璃抛光圈抛光绒布 04010：抛光绒布（5片） 04020：平滑圈研磨纸 04090：备用研磨纸（平滑圈用） 04040：聚乙烯瓶（2支） 04050：清洁海绵 04060：红铁粉（75g） 04080：非粘性绒布平条（2片） 04095：毛刷（2把）

磁性树脂金刚石研磨抛光盘适用于UNIPOL系列研磨抛光机。技术参数1、粒度：80#、120#、150#、180#、240#、320#、400#、500#、600#、800#、1200#、1500#、1800#、2000#2、直径：Φ150mm、Φ200mm、Φ250mm、Φ300mm、Φ320mm、Φ381mm

Pikal已有近100年生产历史了，在清洁抛光方面负有盛名，应用包括：机械零件抛光、表面修整、精抛光等制造领域,电镜、真空设备等清洁 精密机械抛光 薄膜沉积及薄膜研究基底的抛光与清洁 医疗设备表面清洁

*产品名称*品牌*产品规格*产品价格用量计量型抛光膏德国古莎6MMe 10g/支900用量计量型抛光膏德国古莎3MMe 10g/支800用量计量型抛光膏德国古莎3MMe 10g/支700用量计量型抛光膏德国古莎1/4MMe 10g/支600 对于水敏感材质的高效抛光，抛光膏是一个常见选择，根据对水接触的控制要求可以使用702型或者704型润滑冷却剂配套使用。 122型抛光膏可适配全品类预抛光盘和抛光布，磨料含量高，亦分散，好计量，易清洗。 M型用量计量型抛光膏规格颜色粒度原料：单晶高效型金刚石磨料9-122型红色膏体9μm适合高硬度和超高硬度样品材质的试样的预抛光和初抛6-122型黄色膏体6μm适合硬度高难平整或者有韧性特点的样品材质试样的预抛光和初抛3-122型绿色膏体3μm适合需要完美保边和保存夹杂物的制样要求，达成优秀的平整表面的初抛1-122型蓝色膏体1μm适合硬度高难平整或者有韧性特点的样品材质试样的最终抛光0.25-122型灰色膏体0.25μm适用于中硬度的最终抛光

Pikal已有近100年生产历史了，在清洁抛光方面负有盛名，应用包括：机械零件抛光、表面修整、精抛光等制造领域,电镜、真空设备等清洁 精密机械抛光 薄膜沉积及薄膜研究基底的抛光与清洁 医疗设备表面清洁

Radian™ 系统能够以用户可选择的可变角度抛光光纤。可互换适配器适用于各种直径和材料类型的光纤。高速加工可对裸光纤、玻璃棒或光纤束进行抛光。旋转台可与各种工件夹具互换，用于抛光光纤连接器。 Radian™ 是实验室、研发和小批量制造应用的理想选择。将 Radian' s™ 的多功能性扩展到裸光纤处理之外。适配器可用于抛光各种行业标准和定制连接器/套圈类型，以及杆/透镜。将组件抛光成平面、UPC 和有角度的几何形状。 技术参数研磨光纤参数角度范围0度至45度角度重复性± 0.5度研磨速度可用户调节 研磨片尺寸4”备注：Radian™ 研磨机的精密转动平台可以连续调节以实现大范围光纤尖部角度研磨 研磨角度可调可支持连接头研磨 示例图相关问答总结1、你好，60°可以抛光吗？也许使用更长的光纤支架？是的。 Radian 和 NOVA 均提供适配器，可将抛光角度扩展至 60 度。我们将直接通过电子邮件发送两个系统的报价单。2、Radian 和 NOVA 裸纤抛光机有什么区别？ 基本上，NOVA 具有 Radian 的所有功能，并增加了 1) 视频检测 2) 自动化和可编程 3) 多光纤支持，4) 连接器支持等等。3、抛光速度是否可调？是的，压板旋转速度可由用户控制。产品特点● 角度可以调节（0-45deg）● 可付费升级更换成裸芯片研磨机● 精度高● 抛光速度可调产品应用光纤激光器半导体加工

金相制样中试样磨抛工作的目的是去除变形层（深干扰层）露出真实样品并达到光滑平整的观测表面。去除变形层后获得平整光滑无划痕的样品表面叫做样品抛光，通常使用抛光布盘+抛光液/膏/粉来实现。 抛光布轮也是依据样品硬度来选择的，选择适合的抛光布是用来提高抛光效率，节约制样时间的。（不合适的抛光布也可以最终完成抛光，但是会增加抛光的时间和操作的难度。） 产品材质*产品规格*产品价格浸渍增强无纺布抛光布2FC1型,自粘型，200mm 5片/盒7002FC1型,自粘型，250mm 5片/盒9002FC1型,自粘型，300mm 5片/盒1100合成纤维塔夫绸抛光布2TT1型，自粘型，200mm 5片/盒7002TT1型，自粘型，250mm 5片/盒9002TT1型，自粘型，300mm 5片/盒1100超细天然纤维缎编织抛光布2TS3型,自粘型，200mm 5片/盒6002TS3型,自粘型，230mm 5片/盒7002TS3型,自粘型，250mm 5片/盒8002TS3型,自粘型，300mm 5片/盒900超细天然纤维绸编织抛光布2TS4型,自粘型，200mm 5片/盒6002TS4型,自粘型，250mm 5片/盒8002TS4型,自粘型，300mm 5片/盒900高性能金相专用抛光布盘（背胶型）高性能金相专用抛光布盘（背胶型）高性能金相专用抛光布盘（背胶型）3SE2型，自粘型，200mm 5片/盒6003SE2型，自粘型，250mm 5片/盒8003SE2型，自粘型，300mm 5片/盒900高耐磨羊毛编织抛光布3TL1型,自粘型，200mm 5片/盒 7003TL1型,自粘型，250mm 5片/盒 9003TL1型,自粘型，300mm 5片/盒 1100短植绒抛光布3FV1型,自粘型，200mm 5片/盒5003FV1型,自粘型，250mm 5片/盒7003FV1型,自粘型，300mm 5片/盒800长植绒抛光布4FV1型,自粘型，200mm 5片/盒5004FV1型,自粘型，230mm 5片/盒6004FV1型,自粘型，250mm 5片/盒7004FV1型,自粘型，300mm 5片/盒800高性能金相专用抛光布盘（背胶型）高性能金相专用抛光布盘（背胶型）高性能金相专用抛光布盘（背胶型）高性能金相专用抛光布盘（背胶型）4MP1型,自粘型，200mm 5片/盒11004MP1型,自粘型，230mm 5片/盒14004MP1型,自粘型，250mm 5片/盒16004MP1型,自粘型，300mm 5片/盒1900 金相制样中试样磨抛工作的目的是去除变形层（深干扰层）露出真实样品并达到光滑平整的观测表面。去除变形层后获得平整光滑无划痕的样品表面叫做样品抛光，通常使用抛光布盘+抛光液/膏/粉来实现。 抛光布轮也是依据样品硬度来选择的，选择适合的抛光布是用来提高抛光效率，节约制样时间的。（不合适的抛光布也可以最终完成抛光，但是会增加抛光的时间和操作的难度。）抛光过程可以分为初抛和终抛两个过程，初抛会使用浅层强支撑织物来去除去薄或者预抛过程中产生的较深划痕，获取平整的样品表面，终抛会使用深层软支撑来去除剩下的较浅的细微划痕，达成完美光滑观测面。预抛时底部由硬质磨盘支撑，金刚石悬浮液只能磨薄表面接触损伤层并且会产生新的变形层（深干扰层）预抛时底部由软质织物支撑，金刚石悬浮液在消除表面接触损伤层和变形层时不会产生新的变形层（深干扰层）1.抛光布一旦和磨料配伍是很难清洗干净的，如需更换磨料只能向上匹配，如用过3um可使用6um的磨料，但不能在使用1um的磨料.2.抛光布在使用磨料前需要充分润湿，以便磨料颗粒的分散和与纤维空间的结合。a.使用悬浮液的可以用水充分润湿后，甩去浮水开始滴加悬浮液。b.使用抛光膏和抛光喷雾的可以使用具备乳化和悬浮活性的专用润滑稀释液702型（水敏感的使用704型）来润湿，先喷抛光喷雾或者涂抛光膏再喷稀释液润湿。3.抛光布是可以短期内重复使用的，在二次使用前，使用专用润滑稀释液来润湿，可以有效唤醒织物中沉积的磨料重新发挥作用。4.抛光布经过多次使用后会有样品碎屑残留，是需要清洗的，清洗的方法是使用通用复合清洁剂742型或者使用的悬浮液布面用清水，使用抛光膏的用酒精，低转速配合塑料刮片由中心向边缘清洁。

OptiPrepTM光学元件抛光系统—OptiPrepTMOptical element Polishing SystemOptiPrepTM抛光系统设计用于多种光学部件的抛光，包括：1) 套圈（Ferrules）：陶瓷、玻璃、不锈钢、塑料2) 连接器（Connectors）：MT/MT-RJ，ST，SC/FC（APC）3) 波导（Waveguides）4) 硅V形槽（Silicon V-groove）5) 光学芯片（Optical chip）6) 毛细管/玻璃镜片（Capillary/Glass Lenses）7) 光纤束（Fiber Bundles）8) 带状光纤（Ribbon Fiber） 9) 裸光纤（Bare Fiber）双测微计（俯仰和侧滚）设计允许精密样品相对于抛光平面进行倾斜调整。刚性的Z向主轴确保预置的几何角度在整个研磨或抛光工艺过程都保持稳定。数字指示器设计使得量化材料去除量成为可能，一方面可以实时监测，另一方面可以在无人值守时进行预置。可变的转动和摆动速度，可以最大限度地利用整个研磨抛光盘，减少人为痕迹。可调负载控制扩展了设备性能，既可以处理精密的小样品，也可以处理大样品。特点：1) 可变转速：5-350 RPM，增量5 RPM；2) 触控开关控制所有功能；3) 1/4 HP（190W）电机，具持久减速齿轮箱，提供高扭矩输出；4) 数字计时器和转速表；5) 为OptiPrep?定位装置的操作集成控制；6) 研磨盘可以顺/逆时针旋转；7) 快速更换研磨盘设计，阳极氧化抗磨损和腐蚀；8) 耐腐蚀/冲击表面；9) 碗型冲洗防止碎片堆积；10) 带有调节阀的电子冷却控制装置；11) 前置数字指示器显示实时材料去除量（样品行程）；12) 后置数字指示器显示垂直定位（静态），具有调零功能，分辨率1μm；13) 精密主轴设计确保样品垂直于研磨盘，并可以同时旋转；14) 6倍速样品自动摆动，可调节；15) 8倍速样品自动/半自动旋转；16) 凸轮紧锁系统，无需工具，可以精确定位夹具；17) 尺寸：15" W x 26" D x 20" H (381 x 660 x 508 mm)；18) 重量：95 lb. (43 kg)；19) 装运尺寸：33" W x 31" D x 15" H (838 x 787 x 381 mm)；20) 装运重量：125 lb. (57 kg)；21) 符合CE标准；22) 美国Allied公司设计制造。产品附件：

总览Cila 2.0 连接器和电缆组件光纤抛光和检查系统可以利用精密机器设计、专业开发的抛光菜单和在线明场检查来抛光和检查所有商业和军用风格的光纤电缆组件。自动化、耐用、低运营成本和人体工程学是 Cila 的主要优势。 技术参数产品特点坚固耐用、符合人体工程学的设计和构造自动化，按钮操作自动气磨功能取代了大多数其他机器的手动去毛刺操作通用、UPC型工件夹具将容纳所有商用光纤连接器，包括FC、ST、SC、LC、MU、SMA型，以及所有圆形、环保、公母MIL型连接器专用于FC/APC、SC/APC、LC/APC和MIL型斜角终端的工作支架抛光端面的明视场视频检测高产能工艺的一致性–通常是45秒的产能/UPC连接器符合行业公认的端面公差，常见一次通过率为98%下面的图表详细说明了在Cila 2.0上抛光的二十个SC连接器，然后对其进行干涉检查。左:MIL样式 右:LC/UPC、SC/UPC、FC/APC、SMA气隙

磨光用抛光布：与金刚石悬浮液配合使用、材料去除率高、边缘保护好。 抛光用抛光布：与氧化物悬浮液配合使用，无材料去除、表面应力划痕去除。

UNIPOL-1200M自动压力研磨抛光机载样盘同时可装卡6个镶嵌样品。技术参数1、载样盘直径：Φ150mm2、载样孔直径：Φ22mm、Φ25mm、Φ30mm、Φ45mm