直流电沉积镍纳米线

提出了一种在多孔阳极氧化铝PAA (porous anodic alumina)模板中直流电沉积镍纳米线的新方法。以PAA模板为阴极,在氯化钾溶液中通过电解腐蚀阻挡层,利用极化曲线研究了PAA模板中氢离子和镍离子的电化学行为。用扫描电镜表征了PAA、镍纳米线的形貌 用X射线衍射表征了纳米线的结构。结果表明,腐蚀阻挡层后的PAA伏安图上出现1个阳极氧化峰,镍离子在PAA模板中于- 110 V发生电沉积。扫描电镜显示镍纳米线直径为70～80 nm,与PAA的孔径相符。XRD表征证明了所制得的纳米线阵列为(111)取向的面心立方结构镍。通过电解腐蚀阻挡层后,能够直接在PAA中使用直流电沉积镍纳米材料。

采用电解法溶解多孔阳极氧化铝( PAA) 模板的阻挡层,用直流电沉积的方法在模板中组装了铜纳米线阵列。分别用扫描电镜和X 射线衍射表征铜纳米线阵列的形貌和晶体结构,用电化学法表征了铜纳米线阵列的电催化性能。结果表明,PAA 去阻挡层后,伏安图上出现一个阳极氧化峰。恒电位沉积的铜纳米线直径为22nm ,沿(111) 晶面择优取向。铜纳米线阵列电极能催化亚硝酸根的还原,其催化电流比本体铜电极上大2 倍,峰电位正移80mV 。纳米铜阵列电极可用于亚硝酸盐的电化学检测。

使用多孔阳极氧化铝模板, 电沉积制备了Ni2Mo 合金纳米线。用扫描电镜(SEM) 和表面能谱(XPS) 表征沉积物形貌和组成, 用伏安法研究了Ni2Mo 合金纳米线的沉积条件及催化性能。结果表明, Ni2Mo 合金纳米线的直径在20～30 nm 之间。Ni2Mo 共沉积的伏安图上在- 1. 4 V(vs AgPAgCl) 左右出现一个扩散电流平台。光电子能谱(XPS) 表明, Ni2Mo 合金纳米线的共沉积电位出现在- 1. 4 V 以后, 大于这个电位钼以低价氧化物存在。Mo2Ni 离子浓度比大于2 时扩散电流平台消失。柠檬酸盐浓度达到2～3 倍镍盐浓度时, 扩散电流平台趋于稳定。在较优条件下电沉积的Ni2Mo 合金纳米线显示较高的析氢催化活性。

采用氧化铝模版由交流电沉积法制备纯银纳米线，然后采用氧化还原法，在纳米线表面包裹金壳层，得到具有壳核结构的银金复合纳米线！ 只做学术交流，不做其他任何商业用途，版权归原作者所有！

涂层的机械稳定性对于医疗批准和临床应用至关重要。在这里，电泳沉积（EPD）是一种多用途的涂层技术，先前已显示其可显著降低脑刺激铂电极的术后阻抗。然而，前人很少系统地研究所得涂层的机械稳定性。在这项工作中，对Pt基底上由激光生成的铂纳米颗粒（PtNP）的脉冲直流电泳沉积，进行3D神经电极检测，并使用琼脂糖凝胶、胶带和基于超声的应力测试检查体外机械稳定性。EPD生成的涂层在琼脂糖凝胶测试以及体内刺激实验代表模拟大脑环境中高度的稳定。通过循环伏安法，对NP改性表面的电化学稳定性测试，多次扫描可以提高涂层稳定性，这可以通过高侵入性胶带应力测试后更高的信号稳定性来证明。通过激光剥蚀电感耦合等离子体质谱（LA-ICP-MS）分析大鼠神经刺激后的脑切片。测量显示，与未涂覆的对照相比，涂覆电极刺激区域附近的Pt水平更高。尽管植入电极附近的局部浓度升高，但发现的总铂质量低于系统毒理学相关浓度。大鼠脑内4周DBS后Pt的生物分布：a）用无涂层和PDC涂层电极刺激的脑切片的光学显微镜和LA-ICP-MS叠加图像；和b）注射Pt-NPs的脑切片的光学显微镜和LA-ICP-MS叠加图像。比例尺为2mm。在叠加图片中，红色信号表示磷的强度，绿色信号表示铂的浓度。

镍（II）氧化物的化学式为NiO 。它是镍唯一的氧化物形式。矿物形式的NiO，绿镍矿，是非常罕见的，被归类为碱性金属氧化物。每年几百万公斤的产量，它主要用于制造镍合金的中间产物。镍（II）氧化物是在陶瓷工业中用于制造玻璃质、亚铁盐和陶瓷玻璃。它也可以作为镍铁电池的组件，称为爱迪生电池。镍盐可作为特种化学品和催化剂的前体。最近，NiO用于制造镍镉充电电池，用于许多电子设备上，直到被锂离子电池代替。熔融的氧化物被用于生产镍钢合金。本文的数据能证明Teledyne Leeman Labs Prodigy直流电弧光谱仪对于高纯氧化镍中痕量元素的分析能力。

纳米线广泛应用于电子领域。通常用于晶体管，并在效率方面有巨大优势，因为它们的高纵横比可以很好地控制通道电流。纳米线在用作蛋白质和化学传感器时也被广泛研究。通过改进和开发新的制造方法，研究人员正在探索更新更高效的基于纳米线的气体传感器。在这篇博客中，讨论扫描电镜如何帮助表征纳米线和了解其气体感知行为。

本文检测样品中的铝、硼、钙、铬、铜、铁、锰、镍、磷、钛和钒等，证明Teledyne Leeman Labs Prodigy直流电弧光谱仪测定高纯硅中痕量元素的能力。

通过s-SNOM红外近场光学显微镜展示了在InAs纳米线中等离激元的真实空间成像。作者的进一步研究表明其等离激元的波长以及它的阻尼都可以通过改变InAs纳米线的尺寸和选择不同基底来调控。研究显示半导体的InAs纳米线具有应用于小型光学电路和集成设备的巨大潜力。

近年来，对电化学过程的理解如电沉积（也称电镀）在各种科学技术中的作用变得非常凸显，包括括微电子、纳米生物系统、太阳能电池、化学等其他广泛应用。〔1，2〕电沉积是一种传统方法，利用电流通过一种称为电解质的溶液来改变表面特性，无论是化学的还是物理的，使得材料可适合于某些应用。基于电解原理，它是将直流电流施加到电解质溶液中，用来减少所需材料的阳离子，并将颗粒沉积到材料的导电衬底表面上的过程[3 ]。此项技术会普遍增强导电性，提高耐腐蚀性和耐热性，使产品更美观。良好的沉积主要取决于衬底表面形貌〔4〕。因此，一项可以在纳米等级上测量，表征和监测电沉积过程的技术是非常必要的。有几种方法被应用到了这种表面表征。例如像扫描电子显微镜（SEM）和扫描隧道显微镜（STM）。这些技术可以进行纳米级结构的测量，但是，其中一些为非实时下的，一些通常需要高真空，而另一些则由于其耗时的图像采集而不适用于监测不断变化的过程。[2，5] 为了克服这些缺点，电化学结合原子力显微镜（通常称为EC-AFM）被引入进来。 这种技术允许用户进行实时成像和样品表面形貌变化的观测，并可以在纳米级的特定的电化学环境下实现。[ 6 ]在此次研究中，成功地验证了铜颗粒在金表面的沉积和溶解。利用Park NX10 AFM在反应过程中观察铜颗粒的形态变化，并在实验过程中使用恒电位仪同时获得电流-电压（CV）曲线。

M.Eisele等人结合Neaspec公司的散射式近场光学成像技术（NeaSNOM)与超快太赫兹光源研究了光致激发的单根砷化铟纳米线表面的受到时间影响的介电函数性质。该实验的太赫兹光谱同时达到了10纳米的空间分辨率与10飞秒的时间分辨率。纳米线随着泵浦延迟与电光采样延迟的电场强度被具体表征。实验结果可以与德鲁特模型模拟结果合理吻合。因此，作者揭示了纳米线中耗尽层的超快（小于50飞秒）形成机制。作者预见这种纳米超快傅里叶变换太赫兹光谱方法可以能够应用于物理、化学和生物变化过程中的超快机制的研究。

由于ZnO具有宽的直接带隙(3,37 eV)、大的激子结合能(60 meV)以及优异的光学、压电和光电性能等特性，越来越多的应用领域认识到这种材料所带来的好处，特别是在涉及半导体、压电、光电和微纳米级高柔性机械性能的应用中，ZnO微/纳米线通常是许多领域的首选材料。

直流电弧光谱技术在众多固体材料的检测中具有许多其他技术难以企及的优势。最早的一些依靠照相版检测技术的仪器甚至沿用至今。这些仪器永久地记录了样品的谱图照片，但信息的处理同样是繁琐和令人望而生畏的。其后，这些照相板检测器逐渐被光电倍增管(PMTs)所取代，从而极大地提高了样品检测效率。然而，光电倍增管技术同样存在缺陷，它既不能同步获取背景校正信息，也无法记录样品的全谱信息。 固态检测器阵列的引入极大地冲击了传统的基于PMT 检测器的直流电弧光谱系统，因为固态检测器技术具有更快的分析能力，并且可以永久地记录样品的全谱信息。本文所涉及的Prodigy 直流电弧光谱仪采用最新的大面积程序化L-PAD 检测器，具有全谱覆盖能力，同时还具有实时背景校正，单元素多谱线可选，时序分析等功能。地质样品存在导电性差、基体复杂、容易飞溅，样品含量较低等特点，导致给这类样品分析方法制定带来了很多困难；如果采用常规的消解方式进行分析存在着较大挑战性。首先消解过程非常复杂，需要较长的时间，另外还可能在消解过程中带入污染。更为重要的是，在消解过程中，稀释过程使得部分元素的含量远低于仪器的检出限。给结果带来了很多的不确定因素。 本试验主要根据地质系统专家组意见，由湖南地质所提供标样和地质样，株硬集团分测中心（利曼合作实验室）提供技术支持，共同对地质样品进行分析，主要探讨了Prodigy 直流电弧光谱仪对于地质矿样的分析能力。实验证明，通过最佳波长和背景校正点的选择，Prodigy 对于地矿样品中的难分析Ag、Sn、B等杂质元素有极佳的分析灵敏度及准确度。

直流电火花检测仪是一种常用的检测设备，可以用于检测金属防腐涂层是否存在气泡。

考虑使用纳米微球光刻技术的人都会很快注意到制备胶体掩膜的一些问题。乍一看，似乎在固体基底上获得纳米颗粒只是将固体浸入到纳米粒子溶液中。对于某些应用来说，这种做法可能是正确的，但对于纳米微球的光刻技术来说，这几乎是不可能成功的。如果要想形成均匀的单层纳米颗粒，则需要一个可控性更好的制备技术。LB膜沉积技术则是首选的方法。

本文使用Teledyne Leeman Labs Prodigy直流电弧光谱仪检测样品中的硼和磷元素，确立了最佳检测条件。

本文采用TELEDYNE LEEMAN LABS Prodigy直流电弧光谱仪作为实验设备；仪器具有800mm 焦距光学系统和百万像素大面积程序化固态检测器（L-PAD），该检测器有效面积为28×28 mm；波长范围达到175—1100nm的连续覆盖，仪器在一次激发过程中可同时进行信号采集和背景校正，从而极大地减少了电极的消耗和样品分析时间。除此之外，检测器还具有防溢出功能并且可以进行随机读取和非破坏性数据读取，具有10个数量级以上的动态范围。电弧激发台所带的斯托勒-沃德气室可采用各种质子流量计控制的气体来降低CN键所造成的干扰，并且提高样品激发速率。斯托伍德气室的气体流量同样通过微处理器来控制，在单次激发过程中可采用多种不同气体，并且每种气体单独控制。在进行高纯氧化钨样品中Al、As、Bi、Ca、Cd、Co、Cr、Cu、Fe、Mg、Mn、Mo、Ni、Pb、Sb、Si、Sn、Ti、V等元素分析时，基于样品组成的特殊性和复杂性，给样品前处理环节带来一定的困难，由于直流电弧光谱仪无需样品制备、直接固体分析、灵敏度、分析速度快、准确度高等优势而成为难溶粉末、高纯金属等材料分析的首选仪器。

在微纳集成器件进一步微型化和集成化的发展趋势下，现有器件特征尺寸已缩小至深亚微米和纳米量级，以突破常规尺寸的极限实现超微型化和高功能密度化，成为近些年来的热点研究领域。微纳结构器件不仅对功能薄膜本身的厚度和质量要求严格，而且对功能薄膜/基底之间的界面质量也十分敏感，尤其是随着复杂高深宽比和多孔纳米结构在微纳器件中的应用，传统的薄膜制备工艺越来越难以满足其发展需求。ALD 技术沉积参数高度可控，可在各种尺寸的复杂三维微纳结构基底上，实现原子级精度的薄膜形成和生长，可制备出高均匀性、高精度、高保形的纳米级薄膜。

铌五氧化物分子式Nb2O5。它是一种无色的不溶性固体，是相当不活跃的。它是所有含铌的材料的前体。它的主要应用是制造合金，还有其他一些特殊应用，包括，电容器，铌酸锂和光学玻璃。 这篇文章的数据是为了证明Teledyne Leeman Labs Prodigy直流电弧光谱仪测定高纯氧化铌中的痕量元素的能力。

硅合金是一种高光泽和高熔点的蓝色金属，其熔点为1414℃。硅是地壳中第二常见的元素，但自由态的硅元素很少在自然界中找到。由于其电阻性和相对高的热传导性能，硅被广泛应用。高纯硅被广泛应用于太阳能工业，例如被制成硅晶片，太阳能电池和硅基半导体。作为合金，硅铁合金占世界上硅制品的绝大多数，被用于钢铁工业。硅同样用于改善铝的硬度和抗磨性，使其可用于钢铁生产。 这篇文章的数据是为了证明Teledyne Leeman Labs Prodigy直流电弧光谱仪测定高纯硅合金中的痕量元素的能力。

三氧化钨在日常生活中广泛应用。它广泛应用于钨酸盐工业生产上，作为X射线屏幕荧光粉，防火织物，气体感应器等的原料。 近年来，三氧化钨应用于电致变色窗和智能窗的生产。这些窗是由电转换玻璃组成，电转换玻璃会根据特定电压改变光的性质。这让用户通过改变热和光，从而给窗户着色。 这篇文章的数据是为了证明Teledyne Leeman Labs Prodigy直流电弧光谱仪测定高纯三氧化钨中的痕量元素的能力。

近日，德国Technische Universitat Braunschweig相关课题组通过低温刻蚀法制备了具有高深宽比的纳米线阵列并对其进行了系统性的研究。该研究针对刻蚀气氛，刻蚀时间，刻蚀功率和刻蚀温度等条件对最终制备的纳米结构的形貌进行了深入研究。文中使用先进的AFM/SEM二合一显微镜-FusionScope对不同刻蚀结果的高度、形貌、均匀性和粗糙度等方面进行了细致的分析和总结。

铌五氧化物分子式Nb2O5。它是一种无色的不溶性固体，是相当不活跃的。它是所有含铌的材料的前体。它的主要应用是制造合金，还有其他一些特殊应用，包括，电容器，铌酸锂和光学玻璃。 这篇文章的数据是为了证明Teledyne Leeman Labs Prodigy直流电弧光谱仪测定高纯氧化铌中的痕量元素的能力。

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铁(III)氧化物或三价铁氧化物是一种无机化合物，分子式为Fe2O3 。它是铁3种氧化物之一。另外两种分别是铁(II)氧化物（FeO，罕有）和铁(II，III)氧化物（Fe3O4） 。铁(II，III)氧化物多出现在磁铁矿中。铁(III)氧化物，被称为赤铁矿，为暗红色铁磁性矿物质，容易被酸侵蚀。通常被归类为铁锈，在钢铁工业中，铁(III)氧化物是主要的铁资源。 这篇文章的数据是为了证明Teledyne Leeman Labs Prodigy直流电弧光谱仪测定高纯Fe2O3中的痕量元素的能力。

氧化铝是两性氧化物，分子式Al2O3。一般被称为氧化铝（α-氧化铝），或者结晶状金刚砂，或其他一些名称，反映出它在自然界和工业领域的广泛出现。它的最重要应用是生产铝合金；因为硬度强，它也被用作磨料；它也被用作耐火材料，因其具有高熔点。 这篇文章的数据是为了证明Teledyne Leeman Labs Prodigy直流电弧光谱仪测定高纯Al2O3中的痕量元素的能力。

已经使用晶片级铝纳米线栅图案化能力开发了适用于中波红外（MWIR）和长波红外（LWIR）应用的硅上的高对比度线栅偏振器。144nm间距的MWIR偏振器通常从3.5-5.5微米透射优于95%的通过偏振态，同时保持优于37dB的对比度。在7微米和15微米之间，宽带LWIR偏振器通常透射通过状态的55%和90%，并且具有优于40dB的对比度。窄带10.6微偏振器在通过状态下显示出约85%的透射率和45dB的对比度。使用各种FTIR光谱仪进行透射和反射测量，并将其与抗反射涂层晶片上的线栅偏振器（WGP）性能的RCWA建模进行比较。激光损伤阈值（LDT）测试是使用连续波CO2激光器对宽带LWIR产品进行的，并且在阻断状态下显示110kW/cm2的损伤阈值，在通过状态下显示10kW/cm2的损伤阈值。MWIR LDT测试使用具有7ns脉冲的在4微米下操作的OPO，并且显示在阻断状态下LDT为650W/cm2并且在通过状态下优于14kW/cm2。

硅合金是一种高光泽和高熔点的蓝色金属，其熔点为1414℃。硅是地壳中第二常见的元素，但自由态的硅元素很少在自然界中找到。由于其电阻性和相对高的热传导性能，硅被广泛应用。高纯硅被广泛应用于太阳能工业，例如被制成硅晶片，太阳能电池和硅基半导体。作为合金，硅铁合金占世界上硅制品的绝大多数，被用于钢铁工业。硅同样用于改善铝的硬度和抗磨性，使其可用于钢铁生产。 这篇文章的数据是为了证明Teledyne Leeman Labs Prodigy直流电弧光谱仪测定高纯硅合金中的痕量元素的能力。

硅合金是一种高光泽和高熔点的蓝色金属，其熔点为1414℃。硅是地壳中第二常见的元素，但自由态的硅元素很少在自然界中找到。由于其电阻性和相对高的热传导性能，硅被广泛应用。高纯硅被广泛应用于太阳能工业，例如被制成硅晶片，太阳能电池和硅基半导体。作为合金，硅铁合金占世界上硅制品的绝大多数，被用于钢铁工业。硅同样用于改善铝的硬度和抗磨性，使其可用于钢铁生产。 这篇文章的数据是为了证明Teledyne Leeman Labs Prodigy直流电弧光谱仪测定高纯硅合金中的痕量元素的能力。