原子层蚀刻

2012-2021年，光谱仪器及技术突飞猛进，相关的新产品、新技术层出不穷，拉曼、近红外、激光诱导击穿光谱、太赫兹、高光谱、超快光谱、光谱成像......不仅给科研注入了新的活力，更是给企业带来了客观的经济效益。光谱十年之际，仪器信息网特别策划《点亮光谱仪器 “高光”时刻》系列征文活动，以期盘点光谱仪器及相关技术的突出成果，展现光谱仪器及相关厂商的“高光”时刻。本期我们特别邀请了珀金埃尔默无机产品线经理朱敏为大家分享珀金埃尔默光谱仪器的“高光”时刻。珀金埃尔默无机产品线经理 朱敏 仪器信息网：过去十年间，哪些光谱技术的进步让您印象深刻？PerkinElmer：对于原子光谱技术，ICP-MS和LIBS方面令人印象深刻。特别地，ICP-MS技术，不仅应用越来越广泛、成熟，众多的国标方法也陆续推出，如环境、食品、医药等领域，更重要的是，ICP-MS在生命科学方面，如单细胞，元素标记，生物成像等研究与应用，拓宽和加深了原子光谱技术应用的发展，我们也更加欣喜的看到，ICP-MS已经走入了临床诊断，成为微量元素的测试工具，从一个工业品走入到和人类健康息息相关的医疗器械，也让更多的大众有机会了解原子光谱技术。仪器信息网：截至目前，贵公司有哪几款光谱仪器曾经获得“科学仪器优秀新品”奖？该仪器研发的背后有什么样特别的故事？ PerkinElmer：珀金埃尔默是全球最大的分析仪器提供商之一，始终致力于以创新的技术服务全球各地的实验室，助力其开展对前沿科技的探索。涵盖光谱、色谱、质谱、材料表征的全面的实验室分析解决方案，为环境、食品、制药、工业等不同应用领域的用户提供强大助力。光谱技术与产品是珀金埃尔默的传统优势领域，我们有很多的第一和优秀的产品，如第一台商用红外光谱仪（IR，1944年，Model 12），第一台原子吸收光谱仪（AAS,1961年，Model 214），第一台商用电感耦合等离子体质谱仪（ICP-MS，1983年，Elan 250），第一台全谱直读型电感耦合等离子体光谱仪（ICP-OES，1993年，Optima 3000）。当然，我们也有不少产品获得“科学仪器优秀新品”，如2016年推出的即开即用超高灵敏度强拓展性的Avio 200 ICP-OES，2017年推出的NexION 2000 ICP-MS。其中，NexION 2000的研发，代表了PerkinElmer以技术创新发展产品的思路，我们推出了革命性的新一代电感耦合等离子体（ICP）离子源技术，全新的RF频率匹配专利的LumiCoilTM工作线圈设计，将等离子体离子源推向新的高度，这是ICP-MS独有的创新，改变了过去多年ICP-MS在等离子体发生器发展不明显的现象，创新的技术帮助客户获得更加强健、高效、稳定同时维护更少的等离子体源。同时，该款产品在前代产品单颗粒ICP-MS技术的基础上，率先推出了单细胞ICP-MS分析技术，包括专有的细胞分析进样系统和单细胞分析数据采集、处理软件，为环境、生物等样本单细胞分析带来了更好的工具，也是ICP-MS发展的重要方向之一。基于单颗粒分析技术的单细胞分析，可以实现单个细胞纳米颗粒或金属含量分析，在细胞、医药、毒理等方面极具潜力。Avio 200 ICP-OESNexION 2000 ICP-MS仪器信息网：获奖产品的销售情况如何？解决了哪些关键问题？有哪些典型用户或典型的应用案例？行业影响力及用户的反馈情况如何？PerkinElmer：Avio 200 ICP-OES和NexION 2000 ICP-MS销售非常不错，获得了业内广泛认可。比如，NexION 2000,除了环境、食品、医药、工业等传统应用领域外，由于它是业内首款四极杆型电感耦合等离子体质谱，专注于促进ICP-MS应用领域从分子水平跨越到细胞水平，从而更好的实现无机质谱在生命科学领域应用的产品，使其也为广大老师、学者所接受和喜爱，在癌症和药物研究、环境毒理学、金属组学、生物技术以及细胞科学等方面帮助老师探索未知。单细胞ICP-MS为在单细胞水平研究金属相关的生物学过程提供了一个通用的策略，具有高灵敏度、宽线性范围、易于进样和定量，同时具有同位素分析能力等特点。该技术可提供细胞内源性的金属和外源性金属（如纳米颗粒，铂Pt）及人工金属标记的细胞分析,可以促进对细胞金属蛋白质，特别是金属酶，甚至是金属代谢物的生物功能进行理解，进而可能揭示出正常细胞和疾病细胞。目前国内有很多学校研究所都使用到了该技术，如中科院生态环境中心、中科院高能物理研究所、中科院植物与生态研究所、南京大学、厦门大学、四川大学、东北大学、中山大学、上海肺科医院等。仪器信息网：当前公司主推光谱产品是哪些？ 拥有哪些独具优势的技术？ PerkinElmer：在原子光谱线，我们产品包括PinAAcle 系列原子吸收（AAS）、Avio 系列电感耦合等离子体光谱仪（ICP-OES）和NexION 系列电感耦合等离子体质谱仪（ICP-MS）以及相应的前处理设备，如Titan 微波消解仪、SPB电热石墨消解器、FIAS/FIMS流动注射和测汞仪等等。这些产品都非常具有竞争力，创新技术与技术积淀，稳定可靠的质量，使他们得到了广大客户的青睐。比如PinAAcle 900原子吸收，传承珀金埃尔默横向加热专利纵向交流塞曼扣背景石墨炉技术，让其成为珀金埃尔默众多经典产品之一，服务于各类环境、食品、医药和工业客户。比如Avio 200/220 Max ICP-OES，其即开即用，高灵敏度及强的拓展能力，使其特别适合于中等通量的各大实验室，如政府、高校和企业实验室，而Avio 550/560 Max ICP-OES，其高性能、超快速的特点，使其在大通量实验室，如大通量第三方，地矿行业，以及需要高精度分析的领域，如锂电池三元正极材料配比分析、计量定值等方面都获得了认可。而NexION 系列ICP-MS,在近年来也是应用广泛，出色的干扰消除能力，稳定性，更少的维护以及简单方便的操作，帮助广大客户实现最大的价值。其中，最新的NexION 5000 化学高分辨多重四极杆ICP-MS，独有的四组四极杆平台结合碰撞反应池技术，提供超低的背景等效浓度和优异的检测极限，获得分析结果的高精度和可重现性，具有单四极杆、三重四极杆和多重四极杆能力，依据不同应用需求，简单、灵活进行选择，实现准确定量、干扰定性和分子离子反应机理研究等应用。仪器信息网：目前贵公司最具优势的应用领域有哪些？ PerkinElmer：国家对创新和高端制造的关注，让珀金埃尔默众多的光谱产品有着更好的发挥。比如之前提到的单细胞ICP-MS技术，依托珀金埃尔默对该技术的深刻理解，NexION 系列ICP-MS具有业界最快的瞬时采集速率（100,000点每秒）以及专利数据算法，使其在环境毒理、医药研发、生命科学等相关领域得到了很多的应用，比如Avio 550/560 Max具有的可达0.1% RSD的高精度分析能力，使其在锂电池材料分析中展现优势，比如不久前刚获得2021 R&D 100大奖的NexION 5000化学高分辨多重四极杆ICP-MS，对几乎所有元素具有ppt-ppq级的检出能力，特别适合不断追求极限能力的半导体领域应用，以及其他材料领域，同时也可以在单细胞水平运用在生命科学相关元素如硫，磷，砷，硒等分析，对于常规环境、食品和制药分析，也能利用其四组四极杆具有的干扰去除能力，让使用者对结果知其然，并知其所以然。仪器信息网：从行业发展角度来说，您认为目前光谱仪器整体技术水平怎么样？未来最具前景的光谱仪器或者技术是什么？最具前景的应用将体现在哪些方面？PerkinElmer：整体来看，原子光谱仪器发展相对比较成熟，技术上可能有两个大方向，一是更具工业化特质使用的仪器和应用方案，比如集成，智能，工业在线，IVD等方面，二是应用潜力的挖掘，比如提到的生命科学领域，生物分析等方面。

在半导体行业，晶圆是用光刻技术制造和操作的。蚀刻是这一过程的主要部分，在这一过程中，材料可以被分层到一个非常具体的厚度。当这些层在晶圆表面被蚀刻时，等离子体监测被用来跟踪晶圆层的蚀刻，并确定等离子体何时完全蚀刻了一个特定的层并到达下一个层。通过监测等离子体在蚀刻过程中产生的发射线，可以精确跟踪蚀刻过程。这种终点检测对于使用基于等离子体的蚀刻工艺的半导体材料生产至关重要。等离子体是一种被激发的、类似气体的状态，其中一部分原子已经被激发或电离，形成自由电子和离子。当被激发的中性原子的电子返回到基态时，等离子体中存在的原子就会发射特有波长的辐射光，其光谱图可用来确定等离子体的组成。等离子体是用一系列高能方法使原子电离而形成的，包括热、高能激光、微波、电和无线电频率。实时等离子体监测以改进工艺等离子体有一系列的应用，包括元素分析、薄膜沉积、等离子体蚀刻和表面清洁。通过对等离子体样品的发射光谱进行监测，可以为样品提供详细的元素分析，并能够确定控制基于等离子体的过程所需的关键等离子体参数。发射线的波长被用来识别等离子体中存在的元素，发射线的强度被用来实时量化粒子和电子密度，以便进行工艺控制。像气体混合物、等离子体温度和粒子密度等参数都是控制等离子体过程的关键。通过在等离子体室中引入各种气体或粒子来改变这些参数，会改变等离子体的特性，从而影响等离子体与衬底的相互作用。实时监测和控制等离子体的能力可以改进工艺和产品。一个基于Ocean Insight HR系列高分辨率光谱仪的模块化光谱装置用于监测等离子体室引入不同气体后，氩气等离子体发射的变化。测量是在一个封闭的反应室中进行的，光谱仪连接光纤和余弦校正器，通过室中的一个小窗口观察。这些测量证明了模块化光谱仪从等离子体室中实时获取等离子体发射光谱的可行性。从这些发射光谱中确定的等离子体特征可用于监测和控制基于等离子体的过程。等离子体监测可以通过灵活的模块化设置完成，使用高分辨率光谱仪，如Ocean Insight的HR或Maya2000 Pro系列（后者是检测UV气体的一个很好的选择）。对于模块化设置，HR光谱仪可以与抗曝光纤相结合，以获得在等离子体中形成的定性发射数据。从等离子体室中形成的等离子体中获取定性发射数据。如果需要定量测量，用户可以增加一个光谱库来比较数据，并快速识别未知的发射线、峰和波段。监测真空室中形成的等离子体时，一个重要的考虑因素是与采样室的接口。仪器部件可以被引入到真空室中，或者被设置成通过视窗来观察等离子体。真空通管为承受真空室中的恶劣条件而设计的定制光纤将部件耦合到等离子体室中。对于通过视口监测等离子体，可能需要一个采样附件，如余弦校正器或准直透镜，这取决于要测量的等离子体场的大小。在没有取样附件的情况下，从光纤到等离子体的距离将决定成像的区域。使用准直透镜可以获得更局部的收集区域，或者使用余弦校正器可以在180度的视野内收集光线。测量条件HR系列高分辨率光谱仪被用来测量当其他气体被引入等离子体室时氩等离子体的发射变化。光谱仪、光纤和余弦校正器通过室外的一个小窗口收集发射光谱，对封闭反应室中的等离子体进行光谱数据采集（图1）。图1：一个模块化的光谱仪设置可以被配置为真空室中的等离子体测量。一个HR2000+高分辨率光谱仪（~1.1nm FWHM光学分辨率）被配置为测量200-1100nm的发射（光栅HC-1，SLIT-25），使用抗曝光纤（QP400-1-SR-BX光纤）与一个余弦校正器（CC-3-UV）耦合。选择CC-3-UV余弦校正器采样附件来获取等离子体室的数据，以解决等离子体强度的差异和测量窗口的不均匀问题。其他采样选项包括准直透镜和真空透镜。结果图2显示了通过等离子体室窗口测量的氩等离子体的光谱。690-900纳米的强光谱线是中性氩（Ar I）的发射线，400-650纳米的低强度线是由单电离的氩原子（Ar II）产生的。图2所示的发射光谱是测量等离子体发射的丰富光谱数据的一个例子。这种光谱信息可用于确定一系列关键参数，以监测和控制半导体制造过程中基于等离子体的工艺。图2：通过真空室窗口测量氩气等离子体的发射。氢气是一种辅助气体，可以添加到氩气等离子体中以改变等离子体的特性。在图3中，随着氢气浓度的增加添加到氩气等离子体中的效果。氢气改变氩气等离子体特性的能力清楚地显示在700-900纳米之间的氩气线的强度下降，而氢气浓度的增加反映在350-450纳米之间的氢气线出现。这些光谱显示了实时测量等离子体发射的强度，以监测二次气体对等离子体特性的影响。观察到的光谱变化可用于确保向试验室添加最佳数量的二次气体，以达到预期的等离子体特性。图3：将氢气添加到氩等离子体中会改变其光谱特性。在图 4 和 5 中，显示了在将保护气添加到腔室之前和之后测量的等离子体的发射光谱。 保护气用于减少进样器和样品之间的接触，以减少由于样品沉积和残留引起的问题。 在图 4中，氩等离子体发射光谱显示在加入保护气之前，加入保护气后测得的发射光谱如图5所示。保护气的加入导致了氩气发射光谱的变化，从400纳米以下和~520纳米处的宽光谱线的消失可以看出。图4：加入保护气之前，在真空室中测量氩等离子体的发射。图5：加入保护气后，氩气发射特性在400纳米以下和~520纳米处有明显不同。结论紫外-可见-近红外光谱是测量等离子体发射的有力方法，以实现元素分析和基于等离子体过程的精确控制。这些数据说明了模块化光谱法对等离子体监测的能力。HR2000+高分辨率光谱仪和模块化光谱学方法在测量等离子体室条件改变时，通过等离子体室的窗口测量等离子体发射光谱，效果良好。还有其他的等离子体监测选项，包括Maya2000 Pro，它在紫外光下有很好的响应。另外，光谱仪和子系统可以被集成到其他设备中，并与机器学习工具相结合，以实现对等离子体室条件更复杂的控制。以上文章作者是海洋光学Yvette Mattley博士，爱蛙科技翻译整理。世界上第一台微型光谱仪的发明者海洋光学OceanInsight，30年来专注于光谱技术和设备的持续创新，在光谱仪这个细分市场精耕细作，打造了丰富而差异化的产品线，展现了光的多样性应用，坚持将紧凑、便携、高集成度以及高灵敏度、高分辨率、高速的不同设备带给客户。2019年，从Ocean Optics更名为Ocean Insight，也是海洋光学从光谱产品生产商转型为光谱解决方案提供商战略调整的开始。此后，海洋光学不仅继续丰富扩充光传感产品线，且增强支持和服务能力，为需要定制方案的客户提供量身定制的系统化解决方案和应用指导。作为海洋光学官方授权合作伙伴，爱蛙科技（iFrogTech）致力于与海洋光学携手共同帮助客户面对问题、探索未来课题，为打造量身定制的光谱解决方案而努力。如需了解更多详情或探讨创新应用，可拨打400-102-1226客服电话。关于海洋光学海洋光学作为世界领先的光学解决方案提供商，应用于半导体、照明及显示、工业控制、环境监测、生命科学生物、医药研究、教育等领域。其产品包括光谱仪、化学传感器、计量检测设备、光纤、透镜等。作为光纤光谱仪的发明者，如今海洋光学在全球已售出超过40万套的光纤光谱仪。关于爱蛙科技爱蛙科技（iFrogTech）是海洋光学官方授权合作伙伴，提供光谱分析仪器销售、租赁、维护，以及解决方案定制、软件开发在内的全链条一站式精准服务。

近日，光驰半导体技术（上海）有限公司投资建设的原子层镀膜与刻蚀设备项目顺利完成竣工验收。宝山高新区消息显示，原子层镀膜与刻蚀设备项目位于宝山高新区07-17地块，总投资5.48亿元，占地面积50亩，总建筑面积6.44万㎡，其中一期建筑面积约3.8万㎡，涵盖标准厂房、研发办公楼等。项目主要致力新型电子元器件及设备制造，利用全球泛半导体产业链的调整与相关前沿研发的投入与技术整合，实现电子专用设备制造产业化、规模化。光驰半导体技术（上海）有限公司，作为光驰科技（上海）有限公司全资子公司。光驰科技自2000年入驻宝山高新区南部园区。2022年，光驰科技将传统光学与半导体技术融合，于北部园区投资设立光驰半导体，进一步提升制造空间与产能，开辟光学元器件向半导体集成光学转变的新市场。项目预计达产后年产能将达到高精度原子层镀膜机120台和5台刻蚀机。2023年4月10日，光驰半导体技术（上海）有限公司半导体原子层镀膜与刻蚀镀膜项目一期正式封顶。

近日，光驰半导体技术（上海）有限公司（以下简称 “光驰半导体”）成功摘得宝山高新技术产业园区的BSPO-1801单元07-17标准地33357.6平方米（合计50亩）工业用地，并与上海市宝山区规划和自然资源局签订土地使用权出让合同，光驰半导体原子层镀膜与刻蚀镀膜项目在园区实质落地。图片来源：上海宝山据上海宝山消息，光驰半导体项目未来将以半导体前沿ALD（原子层镀膜）技术与刻蚀技术为依据，以持续技术创新和市场开拓为导向，在半导体制造与器件领域实现技术的应用与扩大销售。项目计划2022年8月开工，预计2023年10月竣工。光驰半导体是光驰科技（上海）有限公司的全资子公司，据该公司官网信息，光驰科技（上海）有限公司是株式会社光驰（OPTORUN CO.,LTD）投资成立，以高精度镀膜机的设计与制造为基础的外资独资型企业，生产用于光通信设备、导光系统中制备各种光学部件的增透膜；各类型滤光片的高精度镀膜设备；工艺的研究和开发；相关设备的维修及售后服务。

揭示生物学样本和材料样本原本无法观察到的内部结构冷冻断裂是一种将冰冻样本劈裂以露出其内部结构的技术。冷冻蚀刻是指让样本表面的冰在真空中升华，以便露出原本无法观察到的断裂面细节。金属/碳复合镀膜能够实现样本在SEM（块面）或TEM（复型）中的成像，主要用于研究如细胞器、细胞膜，细胞层和乳胶。这项技术传统上用于生物学应用，但现在逐渐在物理学和材料科学中展现出重要意义。近年来，研究人员通过冷冻断裂电子显微镜，尤其是冷冻复型免疫标记（FRIL），对膜蛋白在动态细胞过程中所发挥的作用有了新的见解。作者：Gisela Höflinger图1：麦叶上的蚜虫适合于电子显微镜的环境电子显微镜的样品室通过抽真空处理降至极低压力。置于这种环境下的活细胞无法有效保全结构，因为细胞构成中的大部分水分会快速蒸发。生物样本的制备方法有很多种。样品材料被（固定）保存，这样后续脱水对原位结构的破坏最小，同时可以使用环境扫描电镜（SEM）或者将水冷冻。高压冷冻是观察自然状态下含水结构的唯一方法。高压冷冻所形成的冰不是六边形冰（从水变为六边形冰时体积会增加）而是无定形冰，因此体积保持不变。所以，对渗透和温度变化敏感的结构得以保留（见文章“高压冷冻基础介绍”）。要观察诸如细胞器、细胞膜、乳胶或液体的表面界面等结构，冷冻断裂是唯一的方法。通过刀片（或类似物）或释放弹簧负载的外力来破开冷冻样本，并沿着最小阻力线断裂样本。图2：冷冻断裂（来源：http://en.wikibooks.org/wiki/Structural_Biochemistry/Lipids/Membrane_Fluidity） 水的升华与凝结 – 冷冻蚀刻与污染要暴露冷冻断裂面，需要把冰去除。这就需要通过把断裂面的冰升华去除以保存样品的结构。升华的过程是冰不经过液态过程直接转化为气态。而液态过程会导致样品体积和结构的破坏。图3：ES，细胞外表面；PF，细胞膜冷冻断裂面；EF，细胞膜外层冷冻断裂面；FS，细胞膜内表面；Cyt，细胞质水的升华/冷凝过程取决于特定温度下的饱和压力，以及水或冰在室内的有效水分压。注意：良好的真空度会降低水分压。例如：温度为-120℃的冰或冰冻样本饱和压力约为10-7 mbar。如果样品室内达到这个压力，则冷凝和蒸发处于平衡状态。蒸发的分子数量等于冷凝的分子数量。在更高压力下，冷凝速度要快于升华速度 – 因此冰晶会在样本表面上生长。必须采取一切手段来避免这种情况。样本上方一个较冷（比样本更冷）的冷阱会降低局部压力，从而起到了冷凝阱的作用。从样本中带出的水分子优先附着在较冷的表面上。在低于饱和压力的压力下，更多的分子升华而不是冷凝，同时会发生冷冻蚀刻。执行冷冻蚀刻直到样本完全无冰，这一过程称为冷冻干燥。仅适用于合理时间内执行的小样本。该过程分为几个步骤，需要从大约-120℃加热到-60℃，同时在每个步骤上使温度保持一定时间。该过程需要几天的时间来完成。图4：饱和蒸汽压力（感谢Umrath 1982提供的图片）样本温度低于-120℃时，蚀刻速度非常慢，蚀刻持续时间会增加到不切实际的程度。如果真空室的压力固定，则可以通过提高样本温度来提高蚀刻速度。对于生物样本，要特别小心温度高于-90℃。蚀刻速度会大幅提高。另外，要注意玻璃态冰中形成六边形冰晶从而导致脱水伪像。纯水的理论升华速度会降低，因为：• 样本深处的水升华速度比表面的水更慢。• 盐和大分子溶剂会降低升华速度。• 生物样本中大量存在的结合水会降低升华速度。通过冷冻断裂生成图像冷冻断裂和冷冻蚀刻技术往往采用高真空精细镀膜技术，将超细腻重金属和碳薄膜沉积于断裂表面。冷冻断裂样本在一定角度下用金属覆盖，然后在碳背衬膜（徕卡EM ACE600冷冻断裂或徕卡EM ACE900与徕卡EM VCT500）上生成复型进行TEM成像或在SEM的试块面上进行成像。对于这两种方法，冷冻断裂表面经过一定的蚀刻时间后以相同的方式进行镀膜。首先在一定角度下进行一层薄的（2-7nm）重金属镀膜，以形成地形对比度（阴影）。其次再针对重金属薄膜，在90°下进行一层厚的碳层（15-20nm）镀膜，以稳定超薄电子束蒸发。此时的蚀刻处理会停止。要对极小的结构进行成像，需要在极低的角度（2–8°）镀膜重金属并在镀膜期间旋转样本。这样可增加细丝状及其它细小结构的对比度。此项技术又称为小角度旋转投影。蒸镀重金属薄膜需要采用电子束蒸发镀膜技术。这种镀膜技术可实现精细定向沉积。碳的支撑层稳定了未被金属覆盖的结构。随着温度的升高，这些结构会改变它们的轮廓，样本不会完全导电，复型也不会粘在一起。冷冻断裂酵母的单向投影图5：低温SEM，BSE（背散射电子）图像。Walther P, Wehrli E, Hermann R, Müller M.（1995）双层镀膜获取高分辨率低温SEM。J Microsc. 179, 229-237。图6：复型，TEM图像（感谢Electronmicroscopy ETH Zürich提供图片）。Walther P, Wehrli E, Hermann R, Müller M.（1995）双层镀膜获取高分辨率低温SEM。J Microsc. 179, 229-237。图7：徕卡高压冷冻，真空冷冻传输至冷冻断裂系统中，利用电子束发射枪和旋转样本底座来进行冷冻蚀刻和低温镀膜。徕卡真空冷冻传输至低温SEM。油/水基样品，–100℃（升华）3分钟暴露油脂结构。图8：徕卡高压冷冻，真空冷冻传输至冷冻断裂系统中，利用电子束发射枪和旋转样本底座来进行冷冻蚀刻和低温镀膜。徕卡真空冷冻传输至低温SEM。原生生物游仆虫混合培养的羽纹硅藻。感谢英国波特斯巴NIBSC的Roland Fleck博士提供图片图9：徕卡冷冻断裂系统及徕卡真空冷冻传输至低温SEM的HPF、冷冻断裂、冷冻蚀刻和低温镀膜。油/水基乳液破裂，露出洋葱状薄片结构，形成液滴。感谢汉堡拜尔斯多夫Stefan Wiesner博士提供的图片。图10：TEM中的酵母细胞复型。经徕卡高压冷冻和徕卡冷冻断裂复型制备。感谢Elektronenmikroskopie ETH Zürich提供的图片。图11：大麦叶上的真菌。安装于徕卡冷冻断裂仪样本台上，并通过冷却样本台在液氮下进行冷冻。徕卡冷冻断裂仪对样品进行部分冷冻干燥（在更高的样本温度下冷冻干燥）。使用钨镀膜。徕卡真空冷冻传输至低温FESEM 5keV。相关产品徕卡EM ACE900 高端EM样本制备冷冻断裂系统徕卡EM VCT500了解更多：徕卡官网

改进晶圆制造工艺，探索蚀刻终点的全光谱等离子监测解决方案满足当今技术创新的繁荣发展和复杂多变的产业环境，半导体代工厂需要定量、准确和高速的过程测量。海洋光学(Ocean Insight)与等离子蚀刻技术的领先创新者合作，探索适用于检测关键晶圆蚀刻终点的全光谱等离子监测解决方案。客户面临的挑战随着全球对半导体的需求迅速增长，该行业已做好投资于节约成本的工艺改进以及开发日益复杂的半导体设计和配方的准备。为了满足当今的技术繁荣并应对不断扩大的市场，半导体代工厂需要定量、准确和高速的过程测量。半导体和微机电系统 (MEMS) 正在达到设计极限，通过减小尺寸或提高速度来进一步改进几乎是不可能的。相反，制造商专注于晶圆质量、可重复性和整体良率，以及提高产能。目标是满足对智能电子产品不断增长的需求，同时保持生产成本和价格竞争力。我们的观点微弱等离子体或晶圆光谱的快速分析有助于完善蚀刻工艺参数，同时提高晶圆质量。基于光谱仪的等离子体测量与强大的软件相结合，可以说明等离子体、腔室和视口条件的变化状态，并对来自深蚀刻或薄设计特征的最微弱信号敏感。光谱有助于使终点检测更加精确，从而可以设计出更复杂的晶片形状和图案。由于制造商可以更准确地停止和启动生产过程，因此可以制造更小的特征，同时减少错误和减少晶圆上的不可用空间。另外，随着终点检测变得更加精确，可以使用更薄的不同材料层，即使它们产生微弱的、难以分辨的光谱特征和更紧密排列的峰值。解决方案海洋光学与半导体行业领先的设备供应商合作，共同推进终点检测技术。我们定制了光谱仪（Ocean SR2 和 Ocean HDX 是等离子监测应用的理想选择），以提供半导体制造所需的快速、高灵敏度、精确分辨率和多功能连接能力。借助海洋光学硬件和支持，设备供应商不断改进和完善其为半导体行业提供的蚀刻技术。其在等离子处理和先进封装解决方案方面的领先地位支持与无线设备、光子学、固态照明和 MEMS 设备相关的新兴技术。

前言：默克密理博(原密理博)自上世纪70年代涉足实验室纯水设备研发，如今已经成为实验室纯水领域的领导者，而Milli-Q系列实验室超纯水系统更是成为世界实验室纯水仪的金标准。 　　2012年2月27日，默克密理博中国首个实验室纯水工厂开幕 2012年3月15日，默克密理博针对中国市场的纯水仪产品“明澈”正式上市。一系列动作都表明2012年是默克密理博实验室纯水业务的“中国时刻”。 　　借参加默克密理博活动之机，仪器信息网编辑就首个实验室纯水工厂诞生始末、首款针对中国市场的“明澈”产品特点及优势等问题采访了默克密理博实验室纯水业务全球总裁Bernard Arend先生、实验室纯水业务欧洲/中国/印度销售总监Glenn Young先生、实验室纯水产品经理Stephane Dupont先生、实验室解决方案及生物科学事业部中国区总经理陈亮先生。 采访合影 (从左至右：Bernard Arend先生、仪器信息网编辑杨娟、Glenn Young先生、Stephane Dupont先生、陈亮先生) 　　历经8年运筹 中国首个实验室纯水工厂开幕 　　默克密理博中国首个实验室纯水工厂坐落在默克化工上海松江基地，该工厂是默克密理博全球第二个实验室纯水仪生产基地，另一个生产基地位于法国莫尔塞姆实验室纯水业务总部。据悉，该生产基地的诞生历经8年运筹，从密理博到默克密理博，为何一个生产基地的诞生会历经如此长的时间?而工厂诞生的背后有着怎样的故事? 　　默克密理博实验室纯水业务全球总裁Bernard Arend先生说，“其实早在2004年，我来到中国，当时制定了实验室纯水业务的第一个‘五年计划’，其中就涉及探索‘中国制造，服务于中国’的产品开发。这应该是我们计划中国本地化生产的开始。” 　　“2005年10月，我们启动打造国产化实验室纯水系统的‘龙之梦’计划，探索在国内寻找合作伙伴的机会。随后，‘龙之梦’计划历经三期，四年时间，终于在2009年锁定了合作伙伴，成立专职负责中国中端市场开发的团队，并且推出了针对中国中端市场的过渡产品Aquelix。” 　　2010年3月，默克宣布收购密理博。Bernard Arend先生说，“2010年7月，在两家公司整合完成后，公司管理层做出最终决定——在实验室纯水仪国产化项目上走‘独立自主、自力更生’的道路，该项目被命名为St. Georage项目，生产基地选在了默克化工上海松江基地，并新成立默克密理博实验室设备(上海)有限公司。” 　　在美、德、法、中四地密切合作下，工厂装修、组装及检测设备安装、人员培训等工作陆续展开，2012年2月27日，历经8年运筹的默克密理博中国首个实验室纯水工厂盛大开幕。据悉，该工厂目前只具有组装能力，所有的零配件均来自默克密理博实验室纯水业务总部生产基地法国。而产品也只有“明澈”产品一款，年产量在1500台左右。陈亮先生表示，“相信不久的将来，大家可以在上海生产基地看到‘中国设计、中国创新、中国制造’，供应全球发展中国家的纯水仪设备。” 　　四地联手打造针对中国市场的“明澈”纯水仪 　　“明澈”中文意思澄明、清澈，它是默克密理博赋予其实验室纯水中国工厂首款产品的中文品牌名。“明澈”产品融合了美、德、法、中四地的“基因”，专为满足中国客户的特殊需求而量身定制。那什么是中国客户的特殊需求?“明澈”产品又有哪些创新之处? 　　“明澈”产品之父、默克密理博实验室纯水产品经理Stephane Dupont先生说，“中国客户的特殊需求主要有三方面：其一，高的出水量 其二，合理的价格 其三，参与投标项目需要是中国制造的产品。” 　　“基于中国客户以上三点特殊需求，‘明澈’产品进行了部分革新。(1)在出水量方面，‘明澈’产品出水量是24L/h，而原产法国产品的出水量只有8L/h，并且独特的温度-压力反馈系统设计，能根据水温调节进水压力，从而保证无论水温如何变化，而产水流速稳定。(2)在循环水回收率方面，‘明澈’产品采用了默克密理博独特的反渗透弃水回收技术，将循环水回收率提高至66%，而目前市场上常规纯水仪的循环水回收率只有20%。(3)一机两水，‘明澈’产品除了可生产普通三级水即纯水外，还可以生产超纯水。超纯水是通过对已经产好的三级水提纯来生产的，我们原产品的提纯度一般是1-1.2L/min，而‘明澈’产品的提纯度上升到2L/min。这也是为中国客户特别定制的，满足中国实验室短时间需供应大量超纯水的需求。” 　　“此外，‘明澈’产品依然延续了默克密理博实验室纯水仪的优异创新技术，如专利的电去离子技术(EDI)、电阻率仪及TOC仪等在线监测技术、终端取水点革命技术等。” 　　默克密理博关注实验室纯水仪“一条龙”技术的创新 　　作为实验室纯水领域的领导者，默克密理博一直引领着实验室纯水技术的发展，如世界上首个实现EDI净水设备的商品化、独特在线监测技术及终端取水点革命等。默克密理博是如何看待实验室纯水技术的未来发展? 　　Bernard Arend先生表示，“我们知道实验室纯水制造并不仅仅是一项单一技术，而是多种技术的集合，默克密理博关注实验室纯水制造所涉及的所有技术的创新。我们关注提高纯净水质量的技术，如膜过滤技术、EDI技术 关注水质在线监测技术 ，如在线电阻率仪、TOC仪技术 关注实验室纯水仪使用便利的技术，如终端取水点革命技术。此外，对于实验室纯水仪提供数据的准确性、可靠性技术，默克密理博也很关注。” 　　“整体来说，如今客户的需求呈现多样性，涉及纯净水质、水量，甚至是纯净水中的杂质或污染成分，所以默克密理博会根据不同客户的需求，研发相关技术和产品。” 　　针对目前中国实验室使用瓶装水的现象，默克密理博实验室纯水业务欧洲/中国/印度销售总监Glenn Young先生说，“目前中国实验室使用的瓶装水是饮用水级纯净水，其生产的技术工艺与实验室级纯净水完全不同，并且该类型的瓶装水没有质量稳定的保障措施，从而影响到实验结果的稳定性。” 　　陈亮先生补充到，“中国有这么大的瓶装水市场就证明该市场有巨大的潜力。目前，默克密理博针对这类市场推出实验室级的瓶装纯净水产品，如果实验室真要选用瓶装水，则应选用默克密理博的产品。” 　　采访编辑：杨娟 　　附录： 默克密理博公司网站 　　http://www.merck-millipore.com 　　http://millipore.instrument.com.cn/

-----铝蚀刻液成分分析—磷酸、硝酸、醋酸有多少？一、背景介绍蚀刻是将材料使用化学反应或物理撞击作用而移除的技术。最早可用来制造铜版、锌版等印刷凹凸版，也广泛地被使用于仪器镶板，铭牌等的加工；经过不断改良和工艺设备发展，亦可以用于航空、机械、化学工业中电子薄片零件精密蚀刻产品的加工，特别在半导体制程上，蚀刻更是不可或缺的技术。铝是半导体工艺中最主要的导体材料。它具有低电阻、易于淀积和刻蚀等优点。铝蚀刻液主要成分是磷酸、硝酸、醋酸及水，其中磷酸、硝酸、醋酸及水的组成比例会影响到蚀刻的速率，故需要对这种混酸溶液的成分进行分析。 二、测试原理1、硝酸：在样品中加入适量乙醇做溶剂，用四丁基氢氧化铵（TBAOH）滴定至终点，即可计算硝酸的含量。TBAOH+HNO3 → NO3-+TBN++H2O2、醋酸和磷酸：在样品中加入适量饱和氯化钠溶液做溶剂，用氢氧化钠溶液做滴定剂，出现两个滴定终点。第|一个终点是H3PO4和HNO3被耗尽时的终点，第二个终点是H2PO4-和HAc被耗尽时的终点，根据已知的硝酸含量，即可计算出磷酸及醋酸的含量。H3PO4+HNO3+2OH- → NO3-+ H2PO4-+ 2H2OH2PO4-+HAc+2 OH- → Ac-+ HPO42-+ 2H2O 三、混酸分析方法（1）硝酸含量测试：在滴定杯内加入50mL无水乙醇，准确称取一定质量的样品置于滴定杯内，用 0.01mol/L TBAOH溶液做滴定剂进行电位滴定，终点电位突跃设置为20mV/mL。图1 硝酸含量滴定曲线图2 醋酸和磷酸含量滴定曲线 （2）醋酸和磷酸含量测试：在滴定杯内加入50mL饱和氯化钠溶液。准确称取一定质量的样品置于滴定杯内，用0.5mol/L氢氧化钠溶液做滴定剂进行电位滴定，终点电位突跃设置为100mV/mL。 四、注意事项1、TBAOH标定时需要使用纯水做邻苯二钾酸氢钾的溶剂，而使用TBAOH测定硝酸时必须使用无水乙醇做溶剂，不要在滴定杯内加入水，否则不会出现显著的滴定终点。2、使用氢氧化钠测定醋酸和磷酸时，需使用饱和氯化钠溶液做溶剂，若使用纯水做溶剂会出现假终点。 五、仪器推荐ZDJ-5B型自动滴定仪 ● 7寸彩色触摸电容屏，导航式操作● 支持电位滴定● 实时显示测试方法、滴定曲线和测量结果● 可定义计算公式，直接显示计算结果● 支持滴定剂管理功能● 支持pH的标定、测量功能● 支持USB、RS232连接PC，双向通讯● 可直接连接自动进样器实现批量样品的自动测量

半导体硅晶片生产行业过程中，蚀刻晶片需要用一定浓度的碱液（NaOH和KOH)。这个浓度需要精确的和可重复的蚀刻过程测量和控制。 德国的Rhotec传感器适用于 - 硅晶片生产电子芯片 - 测量NaOH和KOH在[w/w% ] - 蚀刻液浓度的Rhotec自动控制 测量原理 在线Rhotec-E密度传感器/传送器精确测量液体的密度，可以在极端工艺条件状态下使用。当样品经过U型管，振荡频率发生变化并测量相应的振荡频率，温度探头PT1000作温度补偿，测出的振荡频率转换为密度并显示w/w%，v/v%，Brix(白利糖度)，萃取率%或其他可测量介质的密度。使用此装置可记录分析液体的密度变化，尤其溶解性物质和非溶解性物质的混合物，如有机和无机混合物。 技术参数： 测量范围 0~3 g/cm3 过程连接 3/8&rdquo 螺纹 精度 ± 0.0001 g/cm3 传感器连接 现场总路线DP 重现性 ± 0.00001 g/cm3 输入 2*digital（24VDC） 响应时间 &le 1s 输出 3*digital（24VDC） 2*analog(4~20mA) 温度传感器 Pt1000 可选 现场总线DP 温度范围 -25~125℃ 外壳防护等级 IP65 压力 最大50bar 电源 24VDC 接触样品的材质 哈氏合金C276，蒙乃尔合金400， 耐热铬镍铁合金825， 不锈钢1.4571，钽等 爆炸防护（可选） Ex Ⅱ 2G Eex d ⅡC T6 更多信息请联系400-628-2898或电邮 redmatrix@126.com

Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-J 用于光学器件精密加工某光学器件制造商采用伯东 Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-J 应用于光学器件精密加工, 通过蚀刻工艺提高光学器件的聚酰亚胺薄膜的表面光洁度.Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-J 技术参数Φ4 inch X 12片基片尺寸Φ4 inch X 12片Φ5 inch X 10片Φ6 inch X 8片均匀性±5%硅片刻蚀率20 nm/min样品台直接冷却,水冷离子源Φ20cm 考夫曼离子源 Hakuto 离子刻蚀机 20IBE-J 的核心构件离子源采用的是伯东公司代理美国 考夫曼博士创立的 KRI考夫曼公司的射频离子源 RFICP220伯东 KRI 射频离子源 RFICP 220 技术参数:离子源型号RFICP 220DischargeRFICP 射频离子束流800 mA离子动能100-1200 V栅极直径20 cm Φ离子束聚焦, 平行, 散射流量10-40 sccm通气Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他典型压力中和器LFN 2000 采用伯东 Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-J 可以使 PV、RMS分别为1.347μm和340nm的粗糙表面, 通过蚀刻其粗糙度可降低至75nm和13nm PV、RMS分别为61nm和8nm的表面, 其粗糙度可降低至9nm和1nm. 该刻蚀工艺能有效提高光学器件聚酰亚胺薄膜的表面光洁度. 若您需要进一步的了解详细产品信息或讨论 , 请参考以下联络方式 :上海伯东 : 罗先生 台湾伯东 : 王女士T: +86-21-5046-1322 T: +886-3-567-9508 ext 161F: +86-21-5046-1490 F: +886-3-567-0049M: +86 152-0195-1076 M: +886-939-653-958ec@hakuto-vacuum.cn ec@hakuto.com.twwww.hakuto-china.cn www.hakuto-vacuum.com.tw伯东版权所有, 翻拷必究！

什么是原子层沉积技术原子层沉积技术（ALD）是一种一层一层原子级生长的薄膜制备技术。理想的 ALD 生长过程，通过选择性交替，把不同的前驱体暴露于基片的表面，在表面化学吸附并反应形成沉积薄膜。 20 世纪 60 年代，前苏联的科学家对多层 ALD 涂层工艺之前的技术（与单原子层或双原子层的气相生长和分析相关）进行了研究。后来，芬兰科学家独立开发出一种多循环涂层技术（1974年，由 Tuomo Suntola 教授申请专利）。在俄罗斯，它过去和现在都被称为分子层沉积，而在芬兰，它被称为原子层外延。后来更名为更通用的术语“原子层沉积”，而术语“原子层外延”现在保留用于（高温）外延 ALD。 Part 01.原子层沉积技术基本原理 一个完整的 ALD 生长循环可以分为四个步骤： 1.脉冲第一种前驱体暴露于基片表面，同时在基片表面对第一种前驱体进行化学吸附2.惰性载气吹走剩余的没有反应的前驱体3.脉冲第二种前驱体在表面进行化学反应，得到需要的薄膜材料4.惰性载气吹走剩余的前驱体与反应副产物 原子层沉积（ ALD ）原理图示 涂层的层数（厚度）可以简单地通过设置连续脉冲的数量来确定。蒸气不会在表面上凝结，因为多余的蒸气在前驱体脉冲之间使用氮气吹扫被排出。这意味着每次脉冲后的涂层会自我限制为一个单层，并且允许其以原子精度涂覆复杂的形状。如果是多孔材料，内部的涂层厚度将与其表面相同！因此，ALD 有着越来越广泛的应用。 Part 02. 原子层沉积技术案例展示 原子层沉积通常涉及 4 个步骤的循环，根据需要重复多次以达到所需的涂层厚度。在生长过程中，表面交替暴露于两种互补的化学前驱体。在这种情况下，将每种前驱体单独送入反应器中。 下文以包覆 Al2O3 为例，使用第一前驱体 Al(CH3)3（三甲基铝，TMA）和第二前驱体 H2O 或氧等离子体进行原子层沉积，详细过程如下：反应过程图示 在每个周期中，执行以下步骤： 01 第一前驱体 TMA 的流动，其吸附在表面上的 OH 基团上并与其反应。通过正确选择前驱体和参数，该反应是自限性的。 Al(CH3)3 + OH = O-Al-(CH3)2 + CH4 02使用 N2 吹扫去除剩余的 Al(CH3)3 和 CH4 03第二前驱体（水或氧气）的流动。H2O（热 ALD）或氧等离子体自由基（等离子体 ALD）的反应会氧化表面并去除表面配体。这种反应也是自限性的。 O-Al-(CH3)2 + H2O = O-Al-OH(2) + (O)2-Al-CH3 + CH4 04使用 N2 吹扫去除剩余的 H2O 和 CH4，继续步骤 1。 由于每个曝光步骤，表面位点饱和为一个单层。一旦表面饱和，由于前驱体化学和工艺条件，就不会发生进一步的反应。 为了防止前驱体在表面以外的任何地方发生反应，从而导致化学气相沉积（CVD），必须通过氮气吹扫将各个步骤分开。 Part 03. 原子层沉积技术的优点 由于原子层沉积技术，与表面形成共价键，有时甚至渗透（聚合物），因此具有出色的附着力，具有低缺陷密度，增强了安全性，易于操作且可扩展，无需超高真空等特点，具有以下优点： 厚度可控且均匀通过控制沉积循环次数，可以实现亚纳米级精度的薄膜厚度控制，具有优异的重复性。大面积厚度均匀，甚至超过米尺寸。 涂层表面光滑完美的 3D共形性和 100% 阶梯覆盖：在平坦、内部多孔和颗粒周围样品上形成均匀光滑的涂层，涂层的粗糙度非常低，并且完全遵循基材的曲率。该涂层甚至可以生长在基材上的灰尘颗粒下方，从而防止出现针孔。 ALD 涂层的完美台阶覆盖性 适用多类型材料所有类型的物体都可以进行涂层：晶圆、3D 零件、薄膜卷、多孔材料，甚至是从纳米到米尺寸的粉末。且适用于敏感基材的温和沉积工艺，通常不需要等离子体。 可定制材料特性适用于氧化物、氮化物、金属、半导体等的标准且易于复制的配方，可以通过三明治、异质结构、纳米层压材料、混合氧化物、梯度层和掺杂的数字控制来定制材料特性。 宽工艺窗口，且可批量生产对温度或前驱体剂量变化不敏感，易于批量扩展，可以一次性堆叠和涂覆许多基材，并具有完美的涂层厚度均匀性。

9月28日消息，国产半导体前道和先进晶圆级封装应用提供晶圆工艺解决方案的领先供应商——盛美半导体设备（上海）股份有限公司(以下简称“盛美上海”)今日宣布其对300mm Ultra Fn立式炉干法工艺平台进行了功能扩展，研发出新型Ultra Fn A立式炉设备。该设备的热原子层沉积（ALD）功能丰富了盛美上海立式炉系列设备的应用。公司还宣布，首台Ultra Fn A立式炉设备已于本月底运往中国一家先进的逻辑制造商，并计划于2023年底通过验证。盛美上海董事长王晖表示：“随着逻辑节点的不断缩小，越来越多的客户为满足其先进的工艺要求，努力寻找愿意合作的供应商共同开发。ALD是先进节点制造中增长最快的应用之一，是本公司立式炉管系列设备的关键性新性能。得益于对整个半导体制造工艺的深刻理解和创新能力，我们能够迅速开发全新的湿法和干法设备，以满足新兴市场的需求。全新ALD立式炉设备基于公司现有的立式炉设备平台，搭载差异化创新设计，软件算法优化等实现原子层吸附和均匀沉积。”盛美上海新型热ALD设备可沉积氮化硅（SiN）和碳氮化硅（SiCN）薄膜。出厂的首台Ultra Fn A设备将用于28纳米逻辑制造流程，以制造侧壁间隔层。此工艺要求刻蚀速率极低，且台阶覆盖率良好，与其他实现模式相比，Ultra Fn A立式炉设备在模拟中实现了均一性的改善。

• James Keerfot• Vladimir V Korolkov原子力显微镜（AFM）是一种测量探针和样品之间作用力的技术，它不仅可用于测量纳米级分辨率的表面形貌，还可用于绘制和操作可使用纳米级探针处理的一系列性能。在这里，我们只谈到了最先进的AFM在层状材料研究中的一些能力。我们希望探索的第一个例子是如何使用AFM来研究垂直异质结构中的层的注册表，这会产生许多有趣的现象[1，2]。根据层间和层内的结合、晶格周期和两个重叠薄片角度的对称性和失配，可以观察到单层石墨烯（SLG）和六方氮化硼（hBN）[3]之间的莫尔图案或扭曲控制的双层二硫化钼（2L-MoS2（0°））[4]中的原子重建等特征。在图1中，我们展示了我们的FX40自动AFM如何使用导电AFM（C-AFM）和侧向力显微镜（LFM）来测量这些特征。这两种技术都源于接触模式AFM，其中悬臂由于排斥力而产生的偏转用于通过反馈回路跟踪表面形貌。LFM测量探针在垂直于悬臂梁的方向上扫描时的横向偏转，而C-AFM绘制尖端样品结处恒定电压和力下的电流图。除了传统的形貌通道外，AFM还使用这些模式，为研究垂直异质结构中层间扭曲和应变影响的研究人员提供了“莫尔测量”。图1:Park Systems的FX40自动AFM（a）用于使用LFM（c）和c-AFM（d）测量hBN和单层石墨烯（b）之间的莫尔图案。对于具有边缘扭曲角和有利的层间结合的样品，可以测量原子重建，这是石墨上平行堆叠的双层MoS2的情况（e）。与莫尔图案一样，在这种情况下，由于重建，可以使用LFM（f）和C-AFM（g）测量不同配准的区域。除了探索层状材料的形态和注册，原子力显微镜还具有一系列功能模式，可以用纳米尺度的分辨率测量诸如功函数、压电性、铁电性和纳米机械性能等性能。在图2中，我们展示了如何使用单程边带开尔文探针力显微镜（SB-KPFM）[5]来同时绘制尖端和具有不同层厚度的MoS2薄片之间的形态和接触电势差（CPD）。MoS2薄片从聚二甲基硅氧烷（PDMS）转移到Si上，在MoS2和Si之间留下截留的界面污染气泡。通过比较形貌（见图2b）和CPD（见图2c），我们看到由于MoS2层厚度和截留的界面污染物气泡的大小，CPD发生了变化。通过从地形数据中提取相对应变的估计值，该估计值基于尖端水泡相对于平坦基底的行进距离，可以直接将CPD和一系列层厚度的应变关联起来[6]。图2:KPFM是用Multi75E探针和5V的电驱动（VAC）和5kHz的频率（fAC）在硅（天然氧化物）上的MoS2上进行的（a）。对于多层MoS2薄片，同时绘制了形貌图（b）和CPD（c），揭示了由于层厚度和捕获污染物的气泡的存在而导致的CPD对比度。通过从地形图像中提取相对应变的估计值，我们绘制了各种泡罩尺寸和MoS2厚度的相关应变和CPD（d），如图图例所示。在我们的最后一个例子中，我们将研究如何使用原子力显微镜来决定性地操纵层状材料。在图3 a-c中，我们比较了90 nm SiO2/Si中2-3层（L）石墨烯薄片在使用阳极氧化切割之前（见图3b）和之后（见图3c）的横向力显微镜图像，其中尖端使用接触模式保持接触，同时施加40 kHz的10 V AC偏压[7]。除了阳极氧化，原子力显微镜还能够对层状材料进行机械改性。图3d-f中给出了一个这样的例子，其中使用Olympus AC160探针（刚度~26N/m）将聚苯乙烯上的3L-MoS2薄片缩进不同的深度。如图3f的插图所示，压痕深度（使用非接触模式监测）与压痕力密切相关。以这种方式修改局部应变已被证明可以决定性地产生表现出单光子发射的位点[8]。图3：在接触模式（a）下，通过向探针施加AC偏压，对少层石墨烯进行阳极氧化。通过比较（b）之前和（c）之后的LFM图像来证明薄片的确定性切割。也可以在聚苯乙烯上进行几层MoS2的压痕，证明了机械操作（d）。通过非接触模式AFM监测的压痕深度显示，压痕力范围高达~7.2µN。总之，我们已经展示了AFM如何能够提供比表面形貌多得多的信息，并且可以执行的一套功能测量和样品操作过程为关联测量提供了新的机会。易于使用的功能以及使用最佳探针自动重新配置硬件进行功能测量的能力，使Park的FX40特别适合此类调查。References[1] R. Ribeiro-Palau et al. Science 361, 6403, 690 (2018).[2]Y. Cao et al. Nature 556, 80 (2018).[3] C. Woods et al. Nature Phys. 10, 451 (2014).[4]A. Weston et al. Nat. Nanotechnol. 15, 592 (2020).[5] A. Axt et al. Beilstein J. Nanotechnol. 9, 1809–1819 (2018)[6] E. Alexeev et al. ACS Nano 14, 9, 11110 (2020)[7] H. Li et al. Nano Lett., 18, 12, 8011 (2018)[8] M. R. Rosenberger et al. ACS Nano, 13, 1, 904–912 (2019)原文：Atomic force microscopy for layered materials，Wiley Analytical Science作者简介• 詹姆斯基尔福（James Keerfot）Park Systems UK Ltd, MediCity Nottingham, Nottingham, UK.弗拉基米尔科罗尔科夫（Vladimir V. Korolkov）Park Systems UK Ltd., MediCity Nottingham, UK.弗拉基米尔于2008年获得莫斯科大学化学博士学位。随后，他进入海德堡大学，专攻薄膜的X射线光电子能谱学，随后在诺丁汉大学任职，在那里他发现了自己对扫描探针显微镜（SPM）的热情，并成为SPM技术的坚定拥护者，以揭示纳米级的结构和性能。他率先使用标准悬臂的更高本征模来常规实现分辨率，而以前人们认为分辨率仅限于STM和UHV-STM。弗拉基米尔目前发表了40多篇科学论文，其中包括几篇在《自然》杂志上发表的论文。尽管截至2018年，他的专业知识为SPM技术的产业发展做出了贡献，但他的工作仍在激励和影响该领域的学术冒险。

此前，发表在《Cell》上的一项研究告诉我们，身体抵抗感染的能力会在一天中起起落落，在白天达到峰值，在夜晚落入低谷。因此，免疫系统并不是“时刻准备着”。这意味着，熬夜的你虽然看似精神抖擞，但你的免疫系统已变得“外强中干”，而在这种情况下，你会更容易受到感染。提到感染，不得不说说在免疫系统广泛分布的T细胞。生物教科书告诉我们，T细胞是免疫系统的卫士，时刻准备应对来自病原体或肿瘤的各种威胁。显然，上面的研究已经表明，免疫系统并非“时刻准备着”。不仅如此，2022年5月26日，发表在《Science》上的一项最新研究中，来自耶鲁大学著名免疫学家陈列平教授领导的研究团队揭示了免疫细胞与宿主一样需要转换状态：在没有得到休息并维护的情况下，T细胞会“不战而亡”，从而导致宿主更容易受到病原体或肿瘤细胞的攻击。该研究再次证实免疫系统并非“时刻准备着”。T细胞是获得性免疫系统重要的组成成分。从活化状态转换为休眠状态的T细胞对于维持针对来自病原体和肿瘤的大量不同抗原的广泛功能至关重要，就如同我们需要睡眠/唤醒一样，然而，维持T细胞休眠的潜在分子机制科学家们仍知之甚少。CD8+T细胞是免疫系统内用于清除感染和肿瘤细胞的主要效应细胞。除了作为T细胞谱系标志物外，CD8异二聚体还作为辅助受体，在抗原刺激后增强T细胞受体（TCR）信号。但CD8是否还发挥其他抗原非依赖性功能仍是未知的。在这项新研究中，研究人员发现，一种被称为CD8α的蛋白质存于CD8+T 细胞中，该蛋白在CD8+T细胞维持休眠状态中发挥关键作用。随后，研究人员建立了诱导性敲除CD8α的小鼠模型。他们发现，缺失CD8α的小鼠CD8+T细胞无法进入休眠状态，从而破坏了外周记忆和幼稚CD8+T细胞的稳态。而这对于动物的生存和基因多样性至关重要。此外，研究人员还发现了另一种名为PILRa的蛋白质，它为CD8a提供了一个生化信号。在没有抗原暴露的情况下，CD8α-PILRα相互作用积极维持外周T细胞库和CD8+T细胞的休眠状态。破坏CD8α-PILRα会导致以前曾暴露过病原体的幼稚和记忆CD8+T细胞丧失休眠能力，进而导致其死亡。总之，CD8α对于维持外周淋巴器官中的CD8+T细胞处于生理性休眠状态至关重要。在诱导性敲除CD8α后，幼稚和记忆CD8+T细胞会自发活化，随后在不接触特定抗原的情况下“不战而亡”。研究人员表示，PILRα在小鼠和人类中都被确定为CD8α的配体，破坏这两种蛋白的相互作用会打破CD8+T细胞的休眠状态。因此，在没有抗原暴露的情况下，外周T细胞池的丰度由CD8α-PILRα的相互作用维持。这意味着，休眠状态对维护T细胞的生存至关重要，它会直接影响免疫系统功能。陈列平指出，随着人们年龄的增长，幼稚和记忆性T细胞也会越来越少，这也是让老年人更容易受到感染的原因；而T细胞无法保持休眠状态有可能会加剧这种脆弱性，从而使人们更容易受到感染和癌症的影响。陈列平补充说：“基于这些发现，我们可能不得不修改生物学教科书中的关于T细胞生物学的部分。”论文链接：https://www.science.org/doi/10.1126/science.aaz8658https://doi.org/10.1016/j.cell.2021.07.001

二维过渡金属碳化物和氮化物（MXenes）在层间距扩展、表面终止改性和成分结构构建方面的持续和大量探索引起了储能领域的极大兴趣。然而，由于对MXenes的配位化学缺乏基本的理解，它们的使用仍然受到严重阻碍。近日，山东大学冯金奎教授通过一种新的单点蚀刻策略，制备了具有可调控配位化学的分级多孔N-掺杂碳包覆的无氟Ti3C2Tx。通过高角度环形暗场扫描透射电子显微镜和X射线光电子能谱，作者确定了通过相位重建操纵的与N配位的Ti。此外，此外，明显观察到分级多孔氮掺杂碳（HPNC），其导致材料表面积的成倍增加，这源于微孔和中孔的显著增加。结果，Ti与N配合的结构协同效应和HPNC提高了结合能，减少了加速氧化还原动力学的能量障碍，并促进了多硫化锂的物理固定化。上述MXenes改性的隔膜赋予锂硫电池0.5 A g-1下889.5 mA h g-1的可逆容量，循环100次后容量保持率为79.5%。总的来说，这项工作提供了一种新的和通用的蚀刻策略，即直接合成具有可调谐配位化学的无氟MXene，以探索结构和电化学特性之间的相关性。文章要点：1. 这项工作通过基于新型室温熔融盐（1-Butyl-3-methyl-1H-imidazol-3-ium tetrachloroferrate (III), RTMS）的一锅蚀刻策略，操纵了具有可调谐配位化学的分级多孔N型碳包覆的Ti3C2TxMXene（Ti-N-Ti3C2Cl-C）。2. 通过粉末X射线衍射（PXRD）、高角度环形暗场扫描透射电子显微镜（HAADF-STEM）和X射线光电子能谱（XPS）鉴定了这种通过相位重构实现的Ti和N之间的独特协调结构。同时，在其表面明显观察到层次分明的多孔氮掺杂碳（HPNC），由于微孔和中孔的大量增加，使材料表面积增加了数倍。3. 通过实验和密度泛函理论（DFT）验证，Ti与N的配位结构提高了结合能并降低了能垒，加速了多硫化锂（LiPSs）的氧化还原动力学，而HPNC以及柔性屏蔽不仅缓解了Ti3C2TxMXene层的重新堆积，还提高了LiPSs的物理固定性。4. 此外，Ti-N-Ti3C2Cl-C修饰的隔膜使锂硫电池（LSBs）实现了优异的电化学性能，这确保了这种有前景的材料在能源转换和存储领域的应用。图1 材料制备示意图2 材料表征图3 对多硫化物的吸附与催化图4 锂硫电池性能

p 　　很多涉及原子层沉积技术(ALD)的人都知道，选择性原子层沉积是当今热议的话题。各类论文、研讨会和博文层出不穷，详尽地解释了各种可以达到选择性生长目的的新方法。从某种意义上说，选择性ALD运用了长期困扰ALD使用者的效应，即由于ALD的化学反应特性，薄膜生长的成核现象取决于基底表面。通常来说，在ALD领域人们已经在研究如何尽可能减小这种影响。例如，等离子体ALD一般会有可忽略不计的延迟，但对于选择性ALD来说，成核延迟现象却被放大了。 /p p style=" text-align: center" img style=" width: 450px height: 234px " src=" http://img1.17img.cn/17img/images/201806/insimg/bcc86ec1-e447-400c-8d88-439d8b625aec.jpg" title=" 02.jpg" height=" 234" hspace=" 0" border=" 0" vspace=" 0" width=" 450" / /p p 　　有意思的是，虽然等离子体ALD一般没有成核延迟现象，但它仍然可被用于选择性ALD。我在埃因霍温的大学同事已登载了相关发现(http://pubs.acs.org/doi/10.1021/acsnano.7b04701)。它的要点是在等离子体曝光之后再次重复应用抑制剂，这个过程可用视频中所示的三步ABC ALD方法操作。 /p p 　　 strong 以下视频中解释了选择性等离子体ALD技术的全新概念： /strong /p script src=" https://p.bokecc.com/player?vid=65C25DD24223E8749C33DC5901307461& siteid=D9180EE599D5BD46& autoStart=false& width=600& height=490& playerid=2BE2CA2D6C183770& playertype=1" type=" text/javascript" /script p 　　那么问题来了，人们会选择哪种ALD设备来研究选择性ALD呢。 strong 我相信我们系统中的一些功能会很有用，例如： /strong /p p & nbsp & nbsp & nbsp ◆ 可应用多种化学前驱物。气箱可容纳多路气体并由MFC进行流量控制 /p p & nbsp & nbsp & nbsp ◆ 可应用抑制剂分子(如在前驱物注入过程中通入NH3或CO) /p p & nbsp & nbsp & nbsp ◆ 将氢基作为抑制剂：在前驱物注入前使用氢等离子体(或其他等离子体)来抑制特定表面的生长 /p p & nbsp & nbsp & nbsp ◆& nbsp 氟化物等离子体：将CFX或F作为抑制剂，在前驱物注入前使用此等离子体，或进行选择性ALD生长时，即每隔几个生长周期就在同一个腔体内进行一次刻蚀的步骤(注意O2等离子体可刻蚀Ru，H2等离子体可刻蚀ZnO)。 /p p & nbsp & nbsp & nbsp ◆ 用于抑制生长的自组装单分子膜(SAMS)注入 /p p & nbsp & nbsp & nbsp ◆ 多腔体集成系统，比如与感应耦合等离子体-化学气相沉积(ICP-CVD)腔室(生长非晶硅)、溅射(sputter)腔室或原子层刻蚀(ALE)腔室结合使用 /p p & nbsp & nbsp & nbsp ◆ 用于原表面改性或刻蚀的基底偏压 /p p 　　 strong 牛津仪器的设备可实现优异的控制效果，包括： /strong /p p & nbsp & nbsp & nbsp ◆ 通过MFC，快速ALD阀门和快速自动压力控制，可获得精准可调的前驱物/气体注入，以实现一面成核另一面不成核的现象。 /p p & nbsp & nbsp & nbsp ◆ 使用预真空室和涡轮增压分子泵保持系统的的高真空度，以使抑制现象长时间不受影响。 /p p & nbsp & nbsp & nbsp ◆ 使用等离子体可清洁腔体和恢复腔体氛围。 /p p & nbsp & nbsp & nbsp ◆ 带实时诊断功能的生长监控设备：椭圆偏正光谱测量、质谱分析法及发射光谱法 /p p 　　基于选择性ALD提出的与刻蚀相结合的方法再次让我想到原子尺度工艺处理的问题，我在之前发表的一篇博文中对此进行了讨论。可以想象，通过结合选择性ALD及其他工艺，可以生长出新的超材料(特异材料)和独特结构。例如，通过在选择性曝光的铜中生长石墨烯，或通过周期性刻蚀同一平面的沉积(例如局部选择性ALD)，可有效地仅在结构侧边生长材料。因此不论是在普通等离子刻蚀机或带基底偏压特性的FlexAL，结合带导向的离子曝光法也许会是个优势。总得来说，我很期待能有令人惊喜的新发现，新结构和新材料能在可控的方式下诞生。 /p

据广州南沙发布消息，6月28日，广州市南沙区在明珠湾大桥桥面举办重大项目集中签约动工竣工（投产）暨明珠湾大桥通车活动。76个项目于当天集中签约、动工竣工（投产），涵盖新能源汽车、芯片等先进制造产业。在当天的签约仪式上，10个重点项目分两批进行现场签约，总投资额160亿元，达产产值796亿元，其中包括湾区半导体高端设备智造基地。据介绍，湾区半导体高端设备智造基地是先导集团拟在南沙投资建现代化的半导体设备产业园，项目建成后拥有生产各类镀膜沉积设备、磁控溅射设备、离子蚀刻设备及交钥匙工程的综合生产能力。先导集团目前已掌握核心专利和工艺技术，项目产品将拥有100%自主产权，满足半导体产业链国产化替代的需求。广州南沙发布消息指出，目前，南沙正积极促进第三代半导体与新能源汽车产业的融合创新，成立第三代半导体创新中心，形成以晶科电子、芯粤能、爱思威为代表，以联晶智能、芯聚能为龙头的从晶圆生产到芯片设计、封装及应用的第三代半导体全产业链，为将来三千亿级新能源汽车产业集群发展提供“芯”能量。

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更新时间： 2022-11-23 招标文件: 附件1 北京大学原子层沉积系统采购项目 项目编号：BMCC-ZC22-0678 发布日期：2022-11-23 16:39 下载 北京大学原子层沉积系统采购项目招标公告 项目概况 北京大学原子层沉积系统采购招标项目的潜在投标人应在线上邮箱报名（具体方式详见“其他补充事宜”）获取招标文件，并于2022年12月14日09点00分（北京时间）前递交投标文件。 一、项目基本情况 项目编号：BMCC-ZC22-0678 项目名称：北京大学原子层沉积系统采购项目 预算金额：130万元 最高限价（如有）：130万元 采购需求： 包号 名称 数量 预算金额 是否接受进口产品 01 原子层沉积系统 1套 130万元 是 注：1.交货时间：签订合同后12个月内交货并安装完毕。2.交货地点：北京大学校园内指定地点。3.简要技术需求及用途：北京大学拟采购原子层沉积系统，用于实现直径为100-200 mm基质的上的保形、均匀的薄膜沉积。可沉积高质量的氧化物、多元氧化物、氮化物、金属及自组装单分子层。 合同履行期限：按招标文件要求。 本项目不接受联合体投标。 二、申请人的资格要求： 1.满足《中华人民共和国政府采购法》第二十二条规定； 2.落实政府采购政策需满足的资格要求：无。 3.本项目的特定资格要求：遵守国家有关法律、法规、规章； 单位负责人为同一人或者存在直接控股、管理关系的不同供应商，不得同时参加本项目的投标。为本项目采购需求提供整体设计、规范编制或者项目管理、监理、检测等服务的供应商，不得再参加本项目的投标。通过“信用中国”网站（www.creditchina.gov.cn）和中国政府采购网（www.ccgp.gov.cn）查询信用记录（截止时点为投标截止时间），对列入失信被执行人、重大税收违法案件当事人、政府采购严重违法失信行为记录名单的供应商，没有资格参加本次采购活动。投标人必须购买招标文件并登记备案。 三、获取招标文件 时间：2022年11月23日至 2022年11月30日，每天上午9:00至11:30，下午13:00至16:30（北京时间，法定节假日除外）地点：线上邮箱报名（具体方式详见“其他补充事宜”） 方式：只接受电汇或网银购买 售价：本项目招标文件按本出售, 每本售价500元（含电子文档）；招标文件售后不退。 四、提交投标文件截止时间、开标时间和地点 时间：2022年12月14日上午09点00分（北京时间） 地点：北京市海淀区学院路30号科大天工大厦A座5层第三会议室。 五、公告期限 自本公告发布之日起5个工作日。 六、其他补充事宜 （1）详细报名及获取招标（采购）文件方式，请完整阅读以下全部内容： 1）填写下表，连同电汇底单（网银转账页面或银行回单）扫描件发送至bjmdzx@vip.163.com。邮件主题请务必为“购买标书登记+项目编号（BMCC开头）+项目名称”。报名后我司将回复邮件告知报名结果，请关注邮件及相关附件。 请注意：电汇或网银必须于标书销售截止日下午16:30前到账。 项目编号 BMCC-ZC22-0678 报名包号 汇款金额 公司名称 统一社会信用代码 公司通讯地址 项目联系人 联系电话 联系邮箱 需要快递纸质版文件 是(须加收快递费100元） √否 汇款/转账凭证 （汇款或转账的底单扫描件或截图） 2）银行账户信息，电汇购买招标文件、投标保证金及中标服务费收取的唯一账户： 汇款或转账时请务必附言“项目编号+用途”，例如：ZC22-0678标书款或保证金。 公司名称：北京明德致信咨询有限公司 开 户 行：中国工商银行股份有限公司北京东升路支行 账 号：0200 0062 1920 0492 968 3）招标文件的获取： 电子版招标文件免费下载地址：明德致信公司网站“招标（采购）公告”频道：http://www.zbbmcc.com/node/119。无需注册，按项目名称或编号查找对应项目，点击标题下红色“下载”按钮即可。 （2）问题咨询联系方式的说明： 1）有关招标文件购买、中标通知书领取及服务费发票、保证金交纳及退还事宜的联系电话：（010）8237 0045； 2）有关招标文件技术部分的问题咨询：请拨打公告“项目联系方式”中项目联系人的手机号码。 （3）本项目的公告发布媒介：仅在中国政府采购网发布。对其他网站转发本公告可能引起的信息误导、造成供应商的经济或其他损失的，采购人及采购代理不负任何责任。 （4）针对本项目的其他特别说明： 1）需要落实的政府采购政策：促进中小企业、监狱企业、残疾人福利性单位发展，优先采购节能产品、环境标志产品、鼓励开展信用担保等。 2）投标文件请于开标当日（投标截止时间之前）递交至开标地点，逾期递交文件恕不接受。 3）届时请投标人派代表参加开标仪式。 4）如本公告内容和招标文件内容不一致，以招标文件为准。 七、对本次招标提出询问，请按以下方式联系。 1.采购人信息 名称：北京大学 地址：北京市海淀区颐和园路5号 联系方式：吴老师，010-62758587 2.采购代理机构信息 名 称：北京明德致信咨询有限公司 地 址：北京市海淀区学院路30号科大天工大厦B座17层09室（邮编：100083） 联系方式：孙经理、刘亚运、吕家乐、王爽、吕绍山，010-8237 0045、15801412428、15910847865 3.项目联系方式 项目联系人：孙经理、刘亚运、吕家乐、王爽、吕绍山 电 话：010-8237 0045、15801412428、15910847865 北京明德致信咨询有限公司 2022年11月23日 × 扫码打开掌上仪信通App 查看联系方式 $('.clickModel').click(function () { $('.modelDiv').show() }) $('.closeModel').click(function () { $('.modelDiv').hide() }) 基本信息 关键内容：原子层沉积 开标时间：2022-12-14 09:00 预算金额：130.00万元 采购单位：北京大学 采购联系人：点击查看 采购联系方式：点击查看 招标代理机构：北京明德致信咨询有限公司 代理联系人：点击查看 代理联系方式：点击查看 详细信息 北京大学原子层沉积系统采购项目 北京市-海淀区 状态：公告 更新时间： 2022-11-23 招标文件: 附件1 北京大学原子层沉积系统采购项目 项目编号：BMCC-ZC22-0678 发布日期：2022-11-23 16:39 下载 北京大学原子层沉积系统采购项目招标公告 项目概况 北京大学原子层沉积系统采购招标项目的潜在投标人应在线上邮箱报名（具体方式详见“其他补充事宜”）获取招标文件，并于2022年12月14日09点00分（北京时间）前递交投标文件。 一、项目基本情况 项目编号：BMCC-ZC22-0678 项目名称：北京大学原子层沉积系统采购项目 预算金额：130万元 最高限价（如有）：130万元 采购需求： 包号 名称 数量 预算金额 是否接受进口产品 01 原子层沉积系统 1套 130万元 是 注：1.交货时间：签订合同后12个月内交货并安装完毕。2.交货地点：北京大学校园内指定地点。3.简要技术需求及用途：北京大学拟采购原子层沉积系统，用于实现直径为100-200 mm基质的上的保形、均匀的薄膜沉积。可沉积高质量的氧化物、多元氧化物、氮化物、金属及自组装单分子层。 合同履行期限：按招标文件要求。 本项目不接受联合体投标。 二、申请人的资格要求： 1.满足《中华人民共和国政府采购法》第二十二条规定； 2.落实政府采购政策需满足的资格要求：无。 3.本项目的特定资格要求：遵守国家有关法律、法规、规章； 单位负责人为同一人或者存在直接控股、管理关系的不同供应商，不得同时参加本项目的投标。为本项目采购需求提供整体设计、规范编制或者项目管理、监理、检测等服务的供应商，不得再参加本项目的投标。通过“信用中国”网站（www.creditchina.gov.cn）和中国政府采购网（www.ccgp.gov.cn）查询信用记录（截止时点为投标截止时间），对列入失信被执行人、重大税收违法案件当事人、政府采购严重违法失信行为记录名单的供应商，没有资格参加本次采购活动。投标人必须购买招标文件并登记备案。 三、获取招标文件 时间：2022年11月23日至 2022年11月30日，每天上午9:00至11:30，下午13:00至16:30（北京时间，法定节假日除外） 地点：线上邮箱报名（具体方式详见“其他补充事宜”） 方式：只接受电汇或网银购买 售价：本项目招标文件按本出售, 每本售价500元（含电子文档）；招标文件售后不退。 四、提交投标文件截止时间、开标时间和地点 时间：2022年12月14日上午09点00分（北京时间） 地点：北京市海淀区学院路30号科大天工大厦A座5层第三会议室。 五、公告期限 自本公告发布之日起5个工作日。 六、其他补充事宜 （1）详细报名及获取招标（采购）文件方式，请完整阅读以下全部内容： 1）填写下表，连同电汇底单（网银转账页面或银行回单）扫描件发送至bjmdzx@vip.163.com。邮件主题请务必为“购买标书登记+项目编号（BMCC开头）+项目名称”。报名后我司将回复邮件告知报名结果，请关注邮件及相关附件。 请注意：电汇或网银必须于标书销售截止日下午16:30前到账。 项目编号 BMCC-ZC22-0678 报名包号 汇款金额 公司名称 统一社会信用代码 公司通讯地址 项目联系人 联系电话 联系邮箱 需要快递纸质版文件 是(须加收快递费100元） √否 汇款/转账凭证 （汇款或转账的底单扫描件或截图） 2）银行账户信息，电汇购买招标文件、投标保证金及中标服务费收取的唯一账户： 汇款或转账时请务必附言“项目编号+用途”，例如：ZC22-0678标书款或保证金。 公司名称：北京明德致信咨询有限公司 开 户 行：中国工商银行股份有限公司北京东升路支行 账 号：0200 0062 1920 0492 968 3）招标文件的获取： 电子版招标文件免费下载地址：明德致信公司网站“招标（采购）公告”频道：http://www.zbbmcc.com/node/119。无需注册，按项目名称或编号查找对应项目，点击标题下红色“下载”按钮即可。 （2）问题咨询联系方式的说明： 1）有关招标文件购买、中标通知书领取及服务费发票、保证金交纳及退还事宜的联系电话：（010）8237 0045； 2）有关招标文件技术部分的问题咨询：请拨打公告“项目联系方式”中项目联系人的手机号码。 （3）本项目的公告发布媒介：仅在中国政府采购网发布。对其他网站转发本公告可能引起的信息误导、造成供应商的经济或其他损失的，采购人及采购代理不负任何责任。 （4）针对本项目的其他特别说明： 1）需要落实的政府采购政策：促进中小企业、监狱企业、残疾人福利性单位发展，优先采购节能产品、环境标志产品、鼓励开展信用担保等。 2）投标文件请于开标当日（投标截止时间之前）递交至开标地点，逾期递交文件恕不接受。 3）届时请投标人派代表参加开标仪式。 4）如本公告内容和招标文件内容不一致，以招标文件为准。 七、对本次招标提出询问，请按以下方式联系。 1.采购人信息 名称：北京大学 地址：北京市海淀区颐和园路5号 联系方式：吴老师，010-62758587 2.采购代理机构信息 名 称：北京明德致信咨询有限公司 地 址：北京市海淀区学院路30号科大天工大厦B座17层09室（邮编：100083） 联系方式：孙经理、刘亚运、吕家乐、王爽、吕绍山，010-8237 0045、15801412428、15910847865 3.项目联系方式 项目联系人：孙经理、刘亚运、吕家乐、王爽、吕绍山 电 话：010-8237 0045、15801412428、15910847865 北京明德致信咨询有限公司 2022年11月23日

table border=" 1" cellspacing=" 0" cellpadding=" 0" width=" 600" tbody tr td width=" 122" p style=" line-height: 1.75em " 成果名称 /p /td td width=" 526" colspan=" 3" p style=" line-height: 1.75em " 原子层沉积系统 /p /td /tr tr td width=" 122" p style=" line-height: 1.75em " 单位名称 /p /td td width=" 526" colspan=" 3" p style=" line-height: 1.75em " 中科院物理研究所 /p /td /tr tr td width=" 122" p style=" line-height: 1.75em " 联系人 /p /td td width=" 175" p style=" line-height: 1.75em " 郇庆 /p /td td width=" 159" p style=" line-height: 1.75em " 联系邮箱 /p /td td width=" 192" p style=" line-height: 1.75em " qhuan_uci@yahoo.com /p /td /tr tr td width=" 122" p style=" line-height: 1.75em " 成果成熟度 /p /td td width=" 526" colspan=" 3" p style=" line-height: 1.75em " □正在研发 √已有样机 & nbsp □通过小试 & nbsp □通过中试 □可以量产 /p /td /tr tr td width=" 122" p style=" line-height: 1.75em " 合作方式 /p /td td width=" 526" colspan=" 3" p style=" line-height: 1.75em " √技术转让 & nbsp √技术入股 & nbsp □合作开发& nbsp √其他 /p /td /tr tr td width=" 648" colspan=" 4" p style=" line-height: 1.75em " strong 成果简介： /strong br/ & nbsp & nbsp /p p style=" text-align:center" img src=" http://img1.17img.cn/17img/images/201603/insimg/1d453046-e68e-4e65-ab38-25f533935dee.jpg" title=" ALD.jpg" width=" 350" height=" 261" border=" 0" hspace=" 0" vspace=" 0" style=" width: 350px height: 261px " / /p p style=" line-height: 1.75em " & nbsp br/ /p p style=" line-height: 1.75em " & nbsp & nbsp 原子层沉积（ALD）技术，由于采取自限性的生长模式，因此可以在原子尺度上调控沉积薄膜的厚度，从而形成具有优异的台阶覆盖性和平整性，并可用于制备高深宽比材料和对多孔纳米材料进行修饰。我们自行研制的ALD系统与市场上现有商业化产品相比，具有如下特点：1）复杂完善的管路气路，在自制控制器和软件的配合下，可高度自动化完成生长过程；2）全金属密封，适于各种类型反应；3）圆筒型反应腔体，最高烘烤温度达到350℃，前驱体及载气利用率高；4）特殊设计的样品台，适用于包括粉末样品在内的各类基底；5）可选配四极质谱和石英膜厚检测仪，对反应过程实时监控。 /p /td /tr tr td width=" 648" colspan=" 4" p style=" line-height: 1.75em " strong 应用前景： /strong br/ & nbsp & nbsp & nbsp ALD是一项简单和实用的技术，在微电子、太阳能电池、光子晶体以及催化等许多领域都有广泛的应用前景。我们目前研发的系统主要针对科研应用，国内每年需求量在数十台至上百台。 /p /td /tr /tbody /table p br/ /p

2019年对科学仪器行业来说是纷繁复杂的一年，也是充满挑战的一年。在这样的背景下，海光公司持续加大研发投入，加强联系合作，加快走出去步伐，2019年依然是海光公司丰收的一年。 回顾2019，我们创造出很多美好回忆 一起来重温海光十大高光时刻 01 02 03 4 5 6 7 8 9 10

html, body { -webkit-user-select: text } * { padding: 0 margin: 0 } .web-box { width: 100% text-align: center } .wenshang { margin: 0 auto width: 80% text-align: center padding: 20px 10px 0 10px } .wenshang h2 { display: block color: #900 text-align: center padding-bottom: 10px border-bottom: 1px dashed #ccc font-size: 16px } .site a { text-decoration: none } .content-box { text-align: left margin: 0 auto width: 80% margin-top: 25px text-indent: 2em font-size: 14px line-height: 25px } .biaoge { margin: 0 auto /* width: 643px */ width: 100% margin-top: 25px } .table_content { border-top: 1px solid #e0e0e0 border-left: 1px solid #e0e0e0 font-family: Arial /* width: 643px */ width: 100% margin-top: 10px margin-left: 15px } .table_content tr td { line-height: 29px } .table_content .bg { background-color: #f6f6f6 } .table_content tr td { border-right: 1px solid #e0e0e0 border-bottom: 1px solid #e0e0e0 } .table-left { text-align: left padding-left: 20px } 详细信息 北京大学8英寸多腔原子层沉积系统采购项目公开招标公告 北京市-海淀区 状态：公告 更新时间： 2022-06-17 招标文件: 附件1 北京大学8英寸多腔原子层沉积系统采购项目公开招标公告 项目概况 北京大学8英寸多腔原子层沉积系统采购项目 招标项目的潜在投标人应在线上邮箱报名（具体方式详见“其他补充事宜”）获取招标文件，并于2022年07月08日 09点00分（北京时间）前递交投标文件。 一、项目基本情况 项目编号：BMCC-ZC22-0164 项目名称：北京大学8英寸多腔原子层沉积系统采购项目 预算金额：1000.0000000 万元（人民币） 最高限价（如有）：1000.0000000 万元（人民币） 采购需求： 包号 名称 数量 预算金额 是否接受进口产品 01 8英寸多腔原子层沉积系统 1套 1000万元 是 注：1.交货时间：合同签订后240日内交货并安装完毕。 2.交货地点：北京大学用户指定地点。 3.简要技术需求及用途：栅叠层结构是影响碳CMOS器件性能的重要因素，为提高碳基器件的性能，通过多腔体互连实现连续真空环境下栅介质与栅金属材料的沉积，从而改善碳基CMOS的性能与可靠性，因此采购8英寸多腔原子层沉积系统是项目完成所必须。 合同履行期限：按招标文件要求。 本项目( 不接受 )联合体投标。 二、申请人的资格要求： 1.满足《中华人民共和国政府采购法》第二十二条规定； 2.落实政府采购政策需满足的资格要求： 无 3.本项目的特定资格要求：遵守国家有关法律、法规、规章；单位负责人为同一人或者存在直接控股、管理关系的不同供应商，不得同时参加本项目的投标。为本项目采购需求提供整体设计、规范编制或者项目管理、监理、检测等服务的供应商，不得再参加本项目的投标。通过“信用中国”网站（www.creditchina.gov.cn）和中国政府采购网（www.ccgp.gov.cn）查询信用记录（截止时点为投标截止时间），对列入失信被执行人、重大税收违法案件当事人、政府采购严重违法失信行为记录名单的供应商，没有资格参加本次采购活动。投标人必须购买招标文件并登记备案。 三、获取招标文件 时间：2022年06月17日 至 2022年06月24日，每天上午9:00至11:30，下午13:00至16:30。（北京时间，法定节假日除外） 地点：线上邮箱报名（具体方式详见“其他补充事宜”） 方式：只接受电汇或网银购买 售价：￥500.0 元，本公告包含的招标文件售价总和 四、提交投标文件截止时间、开标时间和地点 提交投标文件截止时间：2022年07月08日 09点00分（北京时间） 开标时间：2022年07月08日 09点00分（北京时间） 地点：北京市海淀区学院路30号科大天工大厦A座5层第二会议室。 五、公告期限 自本公告发布之日起5个工作日。 六、其他补充事宜 （1）详细报名及获取招标（采购）文件方式，请完整阅读以下全部内容： 1）填写下表，连同电汇底单（网银转账页面或银行回单）扫描件发送至bjmdzx@vip.163.com。邮件主题请务必为“购买标书登记+项目编号（BMCC开头）+项目名称”。报名后我司将回复邮件告知报名结果，请关注邮件及相关附件。 请注意：电汇或网银必须于标书销售截止日下午16:30前到账。 项目编号 BMCC-ZC22-0164 报名包号 汇款金额 公司名称 统一社会信用代码 公司通讯地址 项目联系人 联系电话 联系邮箱 需要快递纸质版文件 是(须加收快递费100元） √否 汇款/转账凭证 （汇款或转账的底单扫描件或截图） 2）银行账户信息，电汇购买招标文件、投标保证金及中标服务费收取的唯一账户： 汇款或转账时请务必附言“项目编号+用途”，例如：ZC22-0164标书款或保证金。 公司名称：北京明德致信咨询有限公司 开 户 行：中国工商银行股份有限公司北京东升路支行 账 号：0200 0062 1920 0492 968 3）招标文件的获取： 电子版：报名成功后电子版招标文件将于每工作日下午16:30以后以邮件形式发送至报名登记邮箱； （2）问题咨询联系方式的说明： 1）有关招标文件购买、中标通知书领取及服务费发票、保证金交纳及退还事宜的联系电话：（010）8237 0045； 2）有关招标文件技术部分的问题咨询：请拨打公告“项目联系方式”中项目联系人的手机号码。 （3）本项目的公告发布媒介：仅在中国政府采购网发布。对其他网站转发本公告可能引起的信息误导、造成供应商的经济或其他损失的，采购人及采购代理不负任何责任。 （4）针对本项目的其他特别说明： 1）需要落实的政府采购政策：促进中小企业、监狱企业、残疾人福利性单位发展，优先采购节能产品、环境标志产品等。 2）投标文件请于开标当日（投标截止时间之前）递交至开标地点，逾期递交文件恕不接受。 3）届时请投标人派代表参加开标仪式。 4）如本公告内容和招标文件内容不一致，以招标文件为准。 其他详见附件下载 七、对本次招标提出询问，请按以下方式联系。 1.采购人信息 名 称：北京大学 地址：北京市海淀区颐和园路5号 联系方式：吴老师，010-62758587 2.采购代理机构信息 名 称：北京明德致信咨询有限公司 地 址：北京市海淀区学院路30号科大天工大厦A座六层16室（邮编：100083） 联系方式：孙经理、刘亚运、吕家乐、王爽、吕绍山 010-8237 0045、15801412428、15910847865 3.项目联系方式 项目联系人：孙经理、刘亚运、吕家乐、王爽、吕绍山 电 话： 010-8237 0045、15801412428、15910847865 （定稿）ZC22-0164北京大学8英寸多腔原子层沉积系统项目招标公告.docx × 扫码打开掌上仪信通App 查看联系方式 $('.clickModel').click(function () { $('.modelDiv').show() }) $('.closeModel').click(function () { $('.modelDiv').hide() }) 基本信息 关键内容：原子层沉积 开标时间：2022-07-08 09:00 预算金额：1000.00万元 采购单位：北京大学 采购联系人：点击查看 采购联系方式：点击查看 招标代理机构：北京明德致信咨询有限公司 代理联系人：点击查看 代理联系方式：点击查看 详细信息 北京大学8英寸多腔原子层沉积系统采购项目公开招标公告 北京市-海淀区 状态：公告 更新时间： 2022-06-17 招标文件: 附件1 北京大学8英寸多腔原子层沉积系统采购项目公开招标公告 项目概况 北京大学8英寸多腔原子层沉积系统采购项目 招标项目的潜在投标人应在线上邮箱报名（具体方式详见“其他补充事宜”）获取招标文件，并于2022年07月08日 09点00分（北京时间）前递交投标文件。 一、项目基本情况 项目编号：BMCC-ZC22-0164 项目名称：北京大学8英寸多腔原子层沉积系统采购项目 预算金额：1000.0000000 万元（人民币） 最高限价（如有）：1000.0000000 万元（人民币） 采购需求： 包号 名称 数量 预算金额 是否接受进口产品 01 8英寸多腔原子层沉积系统 1套 1000万元 是 注：1.交货时间：合同签订后240日内交货并安装完毕。 2.交货地点：北京大学用户指定地点。 3.简要技术需求及用途：栅叠层结构是影响碳CMOS器件性能的重要因素，为提高碳基器件的性能，通过多腔体互连实现连续真空环境下栅介质与栅金属材料的沉积，从而改善碳基CMOS的性能与可靠性，因此采购8英寸多腔原子层沉积系统是项目完成所必须。 合同履行期限：按招标文件要求。 本项目( 不接受 )联合体投标。 二、申请人的资格要求： 1.满足《中华人民共和国政府采购法》第二十二条规定； 2.落实政府采购政策需满足的资格要求： 无 3.本项目的特定资格要求：遵守国家有关法律、法规、规章；单位负责人为同一人或者存在直接控股、管理关系的不同供应商，不得同时参加本项目的投标。为本项目采购需求提供整体设计、规范编制或者项目管理、监理、检测等服务的供应商，不得再参加本项目的投标。通过“信用中国”网站（www.creditchina.gov.cn）和中国政府采购网（www.ccgp.gov.cn）查询信用记录（截止时点为投标截止时间），对列入失信被执行人、重大税收违法案件当事人、政府采购严重违法失信行为记录名单的供应商，没有资格参加本次采购活动。投标人必须购买招标文件并登记备案。 三、获取招标文件 时间：2022年06月17日 至 2022年06月24日，每天上午9:00至11:30，下午13:00至16:30。（北京时间，法定节假日除外） 地点：线上邮箱报名（具体方式详见“其他补充事宜”） 方式：只接受电汇或网银购买 售价：￥500.0 元，本公告包含的招标文件售价总和 四、提交投标文件截止时间、开标时间和地点 提交投标文件截止时间：2022年07月08日 09点00分（北京时间） 开标时间：2022年07月08日 09点00分（北京时间） 地点：北京市海淀区学院路30号科大天工大厦A座5层第二会议室。 五、公告期限 自本公告发布之日起5个工作日。 六、其他补充事宜 （1）详细报名及获取招标（采购）文件方式，请完整阅读以下全部内容： 1）填写下表，连同电汇底单（网银转账页面或银行回单）扫描件发送至bjmdzx@vip.163.com。邮件主题请务必为“购买标书登记+项目编号（BMCC开头）+项目名称”。报名后我司将回复邮件告知报名结果，请关注邮件及相关附件。 请注意：电汇或网银必须于标书销售截止日下午16:30前到账。 项目编号 BMCC-ZC22-0164 报名包号 汇款金额 公司名称 统一社会信用代码 公司通讯地址 项目联系人 联系电话 联系邮箱 需要快递纸质版文件 是(须加收快递费100元） √否 汇款/转账凭证（汇款或转账的底单扫描件或截图） 2）银行账户信息，电汇购买招标文件、投标保证金及中标服务费收取的唯一账户： 汇款或转账时请务必附言“项目编号+用途”，例如：ZC22-0164标书款或保证金。 公司名称：北京明德致信咨询有限公司 开 户 行：中国工商银行股份有限公司北京东升路支行 账 号：0200 0062 1920 0492 968 3）招标文件的获取： 电子版：报名成功后电子版招标文件将于每工作日下午16:30以后以邮件形式发送至报名登记邮箱； （2）问题咨询联系方式的说明： 1）有关招标文件购买、中标通知书领取及服务费发票、保证金交纳及退还事宜的联系电话：（010）8237 0045；2）有关招标文件技术部分的问题咨询：请拨打公告“项目联系方式”中项目联系人的手机号码。 （3）本项目的公告发布媒介：仅在中国政府采购网发布。对其他网站转发本公告可能引起的信息误导、造成供应商的经济或其他损失的，采购人及采购代理不负任何责任。 （4）针对本项目的其他特别说明： 1）需要落实的政府采购政策：促进中小企业、监狱企业、残疾人福利性单位发展，优先采购节能产品、环境标志产品等。 2）投标文件请于开标当日（投标截止时间之前）递交至开标地点，逾期递交文件恕不接受。 3）届时请投标人派代表参加开标仪式。 4）如本公告内容和招标文件内容不一致，以招标文件为准。 其他详见附件下载 七、对本次招标提出询问，请按以下方式联系。 1.采购人信息 名 称：北京大学 地址：北京市海淀区颐和园路5号 联系方式：吴老师，010-62758587 2.采购代理机构信息 名 称：北京明德致信咨询有限公司 地 址：北京市海淀区学院路30号科大天工大厦A座六层16室（邮编：100083） 联系方式：孙经理、刘亚运、吕家乐、王爽、吕绍山 010-8237 0045、15801412428、15910847865 3.项目联系方式 项目联系人：孙经理、刘亚运、吕家乐、王爽、吕绍山 电 话： 010-8237 0045、15801412428、15910847865 （定稿）ZC22-0164北京大学8英寸多腔原子层沉积系统项目招标公告.docx

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09:00 采购金额： 300.00万元 采购单位： 北京大学 采购联系人： 吴老师 采购联系方式： 立即查看 招标代理机构： 北京明德致信咨询有限公司 代理联系人： 孙经理 代理联系方式： 立即查看 详细信息 北京大学原子层沉积系统采购项目公开招标公告 北京市-海淀区 状态：公告 更新时间： 2022-04-08 北京大学原子层沉积系统采购项目公开招标公告 发布日期：2022-04-08 项目概况 北京大学原子层沉积系统采购项目 招标项目的潜在投标人应在线上邮箱报名（具体方式详见“其他补充事宜”）获取招标文件，并于2022年04月29日 09点00分（北京时间）前递交投标文件。 一、项目基本情况 项目编号：BMCC-ZC22-0079 项目名称：北京大学原子层沉积系统采购项目 预算金额：300.0000000 万元（人民币） 最高限价（如有）：300.0000000 万元（人民币） 采购需求： 包号 名称 数量 预算金额 是否接受进口产品 01 原子层沉积系统 1套 300万元 是 注：1.交货时间：自合同生效之日起6个月内到货并安装调试完毕。 2.交货地点：北京大学微纳电子大厦。 3.简要技术需求及用途：北京大学拟采购原子层沉积系统，实现沉积高均一性、高质量、厚度原子级可控、保形性优异的介电薄膜，用于制备先进技术微电子器件、新能源器件等。 合同履行期限：按招标文件要求。 本项目( 不接受 )联合体投标。 二、申请人的资格要求： 1.满足《中华人民共和国政府采购法》第二十二条规定； 2.落实政府采购政策需满足的资格要求： 无 3.本项目的特定资格要求：遵守国家有关法律、法规、规章；单位负责人为同一人或者存在直接控股、管理关系的不同供应商，不得同时参加本项目的投标。为本项目采购需求提供整体设计、规范编制或者项目管理、监理、检测等服务的供应商，不得再参加本项目的投标。通过“信用中国”网站（www.creditchina.gov.cn）和中国政府采购网（www.ccgp.gov.cn）查询信用记录（截止时点为投标截止时间），对列入失信被执行人、重大税收违法案件当事人、政府采购严重违法失信行为记录名单的供应商，没有资格参加本次采购活动。投标人必须购买招标文件并登记备案。 三、获取招标文件 时间：2022年04月08日 至 2022年04月15日，每天上午9:00至11:30，下午13:00至16:30。（北京时间，法定节假日除外） 地点：线上邮箱报名（具体方式详见“其他补充事宜”） 方式：本项目只接受电汇或网银购买。（具体方式详见“其他补充事宜”） 售价：￥500.0 元，本公告包含的招标文件售价总和 四、提交投标文件截止时间、开标时间和地点 提交投标文件截止时间：2022年04月29日 09点00分（北京时间） 开标时间：2022年04月29日 09点00分（北京时间） 地点：北京市海淀区学院路30号科大天工大厦A座5层第三会议室。 五、公告期限 自本公告发布之日起5个工作日。 六、其他补充事宜 （1）详细报名及获取招标（采购）文件方式，请完整阅读以下全部内容： 1）填写下表，连同电汇底单（网银转账页面或银行回单）扫描件发送至bjmdzx@vip.163.com。邮件主题请务必为 购买标书登记+项目编号（BMCC开头）+项目名称 。报名后我司将回复邮件告知报名结果，请关注邮件及相关附件。 请注意：电汇或网银必须于标书销售截止日下午4:30前到账。 项目编号 BMCC-ZC22-0079 报名包号 汇款金额 公司名称 统一社会信用代码 公司通讯地址 项目联系人 联系电话 联系邮箱 需要快递纸质版文件 是(须加收快递费100元） 否 汇款/转账凭证 （汇款或转账的底单扫描件或截图） 2）银行账户信息，电汇购买招标文件、投标保证金及中标服务费收取的唯一账户： 汇款或转账时请务必附言 项目编号+用途 ，例如：ZC22-0079标书款或保证金。 公司名称：北京明德致信咨询有限公司 开 户 行：中国工商银行股份有限公司北京东升路支行 账 号：0200 0062 1920 0492 968 3）招标文件的获取： 电子版：报名成功后电子版招标文件将于每工作日下午4:30以后以邮件形式发送至报名登记邮箱； （2）问题咨询联系方式的说明： 1）有关招标文件购买、中标通知书领取及服务费发票、保证金交纳及退还事宜的联系电话：（010）8237 0045； 2）有关招标文件技术部分的问题咨询：请拨打公告 项目联系方式 中项目负责人的手机号码。 （3）本项目的公告发布媒介：仅在中国政府采购网发布。对其他网站转发本公告可能引起的信息误导、造成供应商的经济或其他损失的，采购人及采购代理不负任何责任。 （4）针对本项目的其他特别说明： 1）需要落实的政府采购政策：促进中小企业、监狱企业、残疾人福利性单位发展，优先采购节能产品、环境标志产品等。 2）投标文件请于开标当日（投标截止时间之前）递交至开标地点，逾期递交文件恕不接受。 3）届时请投标人派代表参加开标仪式。 4）如本公告内容和招标文件内容不一致，以招标文件为准。 详见附件下载 七、对本次招标提出询问，请按以下方式联系。 1.采购人信息 名 称：北京大学 地址：北京市海淀区颐和园路5号 联系方式：吴老师，010-62758587 2.采购代理机构信息 名 称：北京明德致信咨询有限公司 地 址：北京市海淀区学院路30号科大天工大厦A座六层16室（邮编：100083） 联系方式：孙经理、刘亚运、吕家乐、王爽、吕绍山，010-8237 0045、15801412428、15910847865 3.项目联系方式 项目联系人：孙经理、刘亚运、吕家乐、王爽、吕绍山 电 话： 010-8237 0045、15801412428、15910847865 × 扫码打开掌上仪信通App 查看联系方式 $('.clickModel').click(function () { $('.modelDiv').show() }) $('.closeModel').click(function () { $('.modelDiv').hide() }) 基本信息 关键内容：原子层沉积 开标时间：2022-04-29 09:00 预算金额：300.00万元 采购单位：北京大学 采购联系人：点击查看 采购联系方式：点击查看 招标代理机构：北京明德致信咨询有限公司 代理联系人：点击查看 代理联系方式：点击查看 详细信息 北京大学原子层沉积系统采购项目公开招标公告 北京市-海淀区 状态：公告 更新时间： 2022-04-08 北京大学原子层沉积系统采购项目公开招标公告 发布日期：2022-04-08 项目概况 北京大学原子层沉积系统采购项目 招标项目的潜在投标人应在线上邮箱报名（具体方式详见“其他补充事宜”）获取招标文件，并于2022年04月29日 09点00分（北京时间）前递交投标文件。 一、项目基本情况 项目编号：BMCC-ZC22-0079 项目名称：北京大学原子层沉积系统采购项目 预算金额：300.0000000 万元（人民币） 最高限价（如有）：300.0000000 万元（人民币） 采购需求： 包号 名称 数量 预算金额 是否接受进口产品 01 原子层沉积系统 1套 300万元 是 注：1.交货时间：自合同生效之日起6个月内到货并安装调试完毕。 2.交货地点：北京大学微纳电子大厦。 3.简要技术需求及用途：北京大学拟采购原子层沉积系统，实现沉积高均一性、高质量、厚度原子级可控、保形性优异的介电薄膜，用于制备先进技术微电子器件、新能源器件等。 合同履行期限：按招标文件要求。 本项目( 不接受 )联合体投标。 二、申请人的资格要求： 1.满足《中华人民共和国政府采购法》第二十二条规定； 2.落实政府采购政策需满足的资格要求： 无 3.本项目的特定资格要求：遵守国家有关法律、法规、规章；单位负责人为同一人或者存在直接控股、管理关系的不同供应商，不得同时参加本项目的投标。为本项目采购需求提供整体设计、规范编制或者项目管理、监理、检测等服务的供应商，不得再参加本项目的投标。通过“信用中国”网站（www.creditchina.gov.cn）和中国政府采购网（www.ccgp.gov.cn）查询信用记录（截止时点为投标截止时间），对列入失信被执行人、重大税收违法案件当事人、政府采购严重违法失信行为记录名单的供应商，没有资格参加本次采购活动。投标人必须购买招标文件并登记备案。 三、获取招标文件 时间：2022年04月08日 至 2022年04月15日，每天上午9:00至11:30，下午13:00至16:30。（北京时间，法定节假日除外） 地点：线上邮箱报名（具体方式详见“其他补充事宜”） 方式：本项目只接受电汇或网银购买。（具体方式详见“其他补充事宜”） 售价：￥500.0 元，本公告包含的招标文件售价总和 四、提交投标文件截止时间、开标时间和地点 提交投标文件截止时间：2022年04月29日 09点00分（北京时间） 开标时间：2022年04月29日 09点00分（北京时间） 地点：北京市海淀区学院路30号科大天工大厦A座5层第三会议室。 五、公告期限 自本公告发布之日起5个工作日。 六、其他补充事宜 （1）详细报名及获取招标（采购）文件方式，请完整阅读以下全部内容： 1）填写下表，连同电汇底单（网银转账页面或银行回单）扫描件发送至bjmdzx@vip.163.com。邮件主题请务必为 购买标书登记+项目编号（BMCC开头）+项目名称 。报名后我司将回复邮件告知报名结果，请关注邮件及相关附件。 请注意：电汇或网银必须于标书销售截止日下午4:30前到账。 项目编号 BMCC-ZC22-0079 报名包号汇款金额 公司名称 统一社会信用代码 公司通讯地址 项目联系人 联系电话 联系邮箱 需要快递纸质版文件 是(须加收快递费100元） 否 汇款/转账凭证 （汇款或转账的底单扫描件或截图） 2）银行账户信息，电汇购买招标文件、投标保证金及中标服务费收取的唯一账户： 汇款或转账时请务必附言 项目编号+用途 ，例如：ZC22-0079标书款或保证金。 公司名称：北京明德致信咨询有限公司 开 户 行：中国工商银行股份有限公司北京东升路支行 账 号：0200 0062 1920 0492 968 3）招标文件的获取： 电子版：报名成功后电子版招标文件将于每工作日下午4:30以后以邮件形式发送至报名登记邮箱； （2）问题咨询联系方式的说明： 1）有关招标文件购买、中标通知书领取及服务费发票、保证金交纳及退还事宜的联系电话：（010）8237 0045； 2）有关招标文件技术部分的问题咨询：请拨打公告 项目联系方式 中项目负责人的手机号码。 （3）本项目的公告发布媒介：仅在中国政府采购网发布。对其他网站转发本公告可能引起的信息误导、造成供应商的经济或其他损失的，采购人及采购代理不负任何责任。 （4）针对本项目的其他特别说明： 1）需要落实的政府采购政策：促进中小企业、监狱企业、残疾人福利性单位发展，优先采购节能产品、环境标志产品等。 2）投标文件请于开标当日（投标截止时间之前）递交至开标地点，逾期递交文件恕不接受。 3）届时请投标人派代表参加开标仪式。 4）如本公告内容和招标文件内容不一致，以招标文件为准。 详见附件下载 七、对本次招标提出询问，请按以下方式联系。 1.采购人信息 名 称：北京大学 地址：北京市海淀区颐和园路5号 联系方式：吴老师，010-62758587 2.采购代理机构信息 名 称：北京明德致信咨询有限公司 地 址：北京市海淀区学院路30号科大天工大厦A座六层16室（邮编：100083） 联系方式：孙经理、刘亚运、吕家乐、王爽、吕绍山，010-8237 0045、15801412428、15910847865 3.项目联系方式 项目联系人：孙经理、刘亚运、吕家乐、王爽、吕绍山 电 话： 010-8237 0045、15801412428、15910847865

引言 异质催化剂的合成通常借助于传统的湿法化学法，包括浸渍法、离子交换和沉积-沉淀法等。然而，这些方法合成的催化材料往往具有非常复杂的结构和活性位点分布不均匀等问题，这些问题会显著降低催化剂的催化性能，特别是在选择性上，阻碍了科学家们在原子水平上理解催化剂的结构-活性关系。此外，在苛刻的反应条件下通过烧结或浸出造成的活性组分的损失会导致催化剂的大面积失活。因此，亟待发展一种简便的方法来调控催化剂的活性位结构和其在原子水平上的局部化学环境，从而促进对反应机理的理解和高稳定性催化剂的合理设计。 原子层沉积(ALD, Atomic layer deposition)是一种用于薄膜生长的气相催化剂合成技术，目前已成为一种异质催化剂合成的替代方法。和化学气相沉积(CVD, Chemical vapor deposition)一样，其原理是基于两种前驱体蒸汽交替进样，并在载体表面上发生分子层面上的“自限制”反应，实现目标材料在载体表面上的沉积。通过改变沉积周期数、次序和种类等方法可以实现对催化剂活性位结构的原子精细控制，进而为研究者提供了一种 “自下而上”可控合成催化剂的新策略。 美国Arradiance公司的GEMStar系列台式原子层沉积系统(如图1所示)，在小巧的机身（78 * 56 * 28 cm）中集成了原子层沉积所需的所有功能，可多容纳9片8英寸基片同时沉积。全系配备热壁，结合前驱体瓶加热，管路加热，横向喷头等设计，使温度均匀性高达99.9%，气流对温度影响减少到0.03%以下。高温度稳定度的设计不仅可在8英寸基体上实现厚度均匀的膜沉积（其厚度均匀性高于99%），而且适合对具有超高长径比孔径的3D结构进行均匀薄膜覆盖，在高达1500：1长径比微纳深孔内部也可均匀沉积。图1. 美国Arradiance公司生产的GEMStar系列台式三维原子层沉积系统 在本篇文章中，我们将介绍利用ALD方法在负载型单金属 和双金属催化剂精细设计方面的进展和ALD方法在设计高效催化剂方面的特点与优势。同时，我们也整理了利用ALD技术制备单原子和双原子结构金属催化剂的方法与策略以及利用氧化物可控沉积调控金属催化活性中心周围的微环境，从而实现提升催化剂活性、选择性和稳定性的方法。后我们也将展望ALD技术在催化剂制备领 域中应用的潜力。ALD合成负载型催化剂 近年来，研究者对各种氧化物和碳基材料基底上的金属ALD催化剂进行了广泛研究。由于高温下ALD生长的金属原子在氧化物和碳基基底上的高迁移率，沉积物通常以金属纳米粒子形式存在，而不是二维金属薄膜。如图2a所示，金属纳米颗粒的尺寸大小和负载量可以通过调整ALD循环次数和沉积温度变化来进行调控，且金属颗粒的尺寸分布通常非常狭窄。近期，中国科学技术大学的路军岭课题组使用ALD技术发展了一种双金属纳米粒子的合成新策略，即使用较低的沉积温度和合适的反应物，在负载的单金属纳米粒子表面增加二金属组分，获得原子可控的双金属纳米粒子（如图2b, PtPd双金属纳米粒子）。研究发现，在较低的温度下，金属基底会促进金属前驱体在其上的成核和ALD生长，而金属氧化物通常是惰性的，因此不能在低温下与金属前驱体反应和开始成核。图2. ALD合成（a）单金属Pt纳米粒子，（b） 双金属PtPd纳米粒子，（c）Pt 单原子催化剂在N掺杂的石墨烯上，（d）Pd单原子催化剂在g-C3N4上，（e）二聚的Pt2/石墨烯催化剂。 原子分散的金属催化剂，由于其特的催化性能和大的原子利用效率，越来越受人们的关注。使用ALD技术从气相中获得单原子催化剂具有很大的挑战性，因为ALD生长通常在高温下进行，金属的聚集会显著加剧，但考虑到ALD的自限特性，仍是有可能的。加拿大西安大略大学孙学良教授团队从事了先驱性的工作，在250℃下，对N掺杂的石墨烯表面进行五十次Pt ALD循环合成了Pt单原子催化剂（如图2c）。DFT计算表面，Pt单原子与N原子成键，其HER活性相对于商业Pt/C显著增强(~37倍)。类似的，路军岭团队通过调控石墨烯上的含氧官能团种类和数量，在150℃下对石墨烯表面进行一次Pd ALD循环（Pd(hfac)2-HCHO），合成了原子分散的Pd单原子催化剂（如图2d），没有观察到Pd团簇和纳米粒子的形成。除此之外，使用ALD技术还可以合成原子的超细金属团簇，如二聚物等。如图2d所示，路军岭团队报道了Pt2二聚体可以通过ALD技术在石墨烯载体上创建适当的成核位点 “自下而上”制备获得，即Pt1单原子沉积，并在起始位点上进行Pt原子的选择性二次组装。氧化物包覆实现金属催化剂的纳米尺度编辑 对于负载型金属催化剂来讲，其载体不仅仅是作为基底，也会通过电子转移或金属—氧化物相互作用，显著的调制金属纳米颗粒的电子性质。当氧化物层包覆在金属纳米颗粒上时，会形成新的金属-氧化物界面(如图3a)，可以进一步改变金属纳米颗粒的电子性能和形貌，有望进一步提升其催化性能（如图3b）。金属纳米颗粒通常含有低配位位点（lcs）和高配位的台阶(HCSs)，通过氧化物ALD沉积的选择性阻挡某些活性位点，局部改变其几何形态，影响催化过程中的化学键断裂和生成，导致不同的反应途径（如图3c）。另外，物理氧化包覆层还可以提高纳米颗粒的稳定性，在恶劣的反应条件下防止金属组分的烧结和浸出(如图3d)。在原子层面上控制氧化膜厚度，从而在高比表面材料上实现高的均匀性，使得ALD成为在纳米尺度上提高纳米金属催化剂催化性能的理想工具，且不会产生质量迁移的问题。图3. （a）ALD氧化物包覆负载型纳米离子生成新的金属——氧化物界面ALD合成,（b）ZnO包覆Pt纳米粒子催化剂显著提高催化活性，（c）ALD氧化铝包覆Pd/Al2O3显著提高催化选择性，（d）TiO2包覆层显著提高Co@TiO2催化剂催化稳定性。 总结和展望 催化剂的原子合成，是阐明催化作用的关键机制和设计先进高性能催化剂的关键。ALD特的自限制特性可实现催化材料在高比表面材料上的均匀和可控沉积，实现一步步和“自底向上”的方式在原子层面上构建复杂结构的异质催化剂材料。这些ALD催化剂具有较高的均匀性，使其相对于传统方法制备的催化剂，拥有更好的或可观的催化性能，并可作为模型催化剂有助于阐明催化剂的结构-性能关系。 参考文献：[1] Lu J. et.al, Acta Phys. -Chim. Sin. 2018, 34 (12), 1334–1357.[2] F. H. et al. J. Phys. Chem. C 2010, 114, 9758.[3] Elam, J. W. Nat. Commun. 2014, 5, 3264.[4] Liu, L. M. et al. Nat. Commun. 2016, 7, 13638.[5] You, R. et al. Nano Res. 2017, 10, 1302.[6] Huang, X. H. et al. Nat. Commun. 2017,8, 1070.[7] Elam, J. W. ACS Catal. 2016, 6, 3457.[8] Lu, J. ACS Catal. 2015,5, 2735.[9] Huber, G. W. Energy Environ. Sci. 2014, 7, 1657.

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09:00 采购金额： 135.00万元 采购单位： 中山大学 采购联系人： 郑老师 采购联系方式： 立即查看 招标代理机构： 采联国际招标采购集团有限公司 代理联系人： 林先生 代理联系方式： 立即查看 详细信息 广东省中山大学材料学院等离子增强原子层沉积系统采购项目公开招标公告 广东省-中山市 状态：公告 更新时间：2021-10-09 广东省中山大学材料学院等离子增强原子层沉积系统采购项目公开招标公告 广东省中山大学材料学院等离子增强原子层沉积系统采购项目公开招标公告 发布日期：2021年10月8日 项目概况 中山大学材料学院等离子增强原子层沉积系统采购项目 招标项目的潜在投标人应在高校电子招投标平台（http://www. szbidding.com）获取招标文件，并于2021年10月28日 09点00分（北京时间）前递交投标文件。 一、项目基本情况 项目编号：中大招（货）2021 907号/CLF0121GZ09ZC90 项目名称：中山大学材料学院等离子增强原子层沉积系统采购项目 预算金额：135.0000000 万元（人民币） 采购需求： 中山大学根据国家招投标法律法规和学校管理要求,拟以公开招标方式采购下列货物及其相关服务。欢迎符合资格条件的供应商投标。 1、招标采购项目内容及数量：等离子增强原子层沉积系统， 1套（本项目允许产自中华人民共和国关境外的进口货物投标；本项目不属于专门面向中小企业采购项目。本项目所属行业属于工业。具体内容及要求详见公告附件招标文件）。 2、项目预算及经费来源： 项目预算135万元人民币。经费来源为财政性资金。 合同履行期限：交货时间：收到发货通知 150个日历天以内。交货地点：中山大学深圳校区。 本项目( 不接受 )联合体投标。 二、申请人的资格要求： 1.满足《中华人民共和国政府采购法》第二十二条规定； 2.落实政府采购政策需满足的资格要求： 无。 3.本项目的特定资格要求：（1）具备投标条件的中华人民共和国的法人或其它组织或者自然人；（2）符合《中华人民共和国政府采购法》第二十二条相关规定；（3）必须具有制造标的物或合法的供货和相关项目及安装售后服务的能力（4）投标人未被列入“信用中国”网站（www.creditchina.gov.cn）“失信被执行人”、“重大税收违法案件当事人名单”、“政府采购严重违法失信名单”；不处于中国政府采购网（www.ccgp.gov.cn）“政府采购严重违法失信行为信息记录”中的禁止参加政府采购活动期间；（以代理机构于评标当天在“信用中国”网站（www.creditchina.gov.cn）及中国政府采购网(www.ccgp.gov.cn)查询结果为准，同时对信用信息查询记录进行存档。如相关失信记录已失效或查询不到，则必须出具其信用良好的承诺书原件扫描件）（5）本项目不允许联合体投标。不接受中标备选方案。 三、获取招标文件 时间：2021年10月01日 至 2021年10月13日，每天上午9:00至12:00，下午12:00至17:00。（北京时间，法定节假日除外） 地点：高校电子招投标平台（http://www. szbidding.com） 方式：详见“其他补充事宜”。 售价：￥400.0 元，本公告包含的招标文件售价总和 四、提交投标文件截止时间、开标时间和地点 提交投标文件截止时间：2021年10月28日 09点00分（北京时间） 开标时间：2021年10月28日 09点00分（北京时间） 地点：广州市新港西路135号中山大学西南区415号生物楼中山大学政府采购与招投标管理中心会议室 五、公告期限 自本公告发布之日起5个工作日。 六、其他补充事宜 1、招标文件获取方式：本项目以电子招投标形式进行，投标人可于中国政府采购网（http://www.ccgp.gov.cn）、高校电子招投标平台（http://www. szbidding.com）或采联国际招标采购集团有限公司（http://www.chinapsp.cn/）浏览招标公告，确认参与项目的合格投标人应使用企业数字证书（CA）登录高校电子招投标平台，缴纳平台服务费400元/标段（分项）后下载电子招标文件（格式为*.HZBJ）。高校电子招投标平台是获取电子招标文件的唯一途径。 2、报名方式及时间：2021年10月1日9:00至2021年10月13日17:00；登录高校电子招投标平台，凭企业数字证书（CA）在网上报名及获取招标文件及资料，否则不能参与本项目的投标。无高校电子招投标平台企业数字证书（CA）的投标商需按该平台电子认证的要求，提前办理企业数字证书（CA）。办理方式详见网址：http://ca.zhulong.com.cn/ 。本项目不需要现场报名确认，若报名期限届满后，获取招标文件的潜在投标人不足三家的，采购人将可能顺延报名期限并予公告。请各投标人留意网上公告，采购人不再另行通知。 3、电子投标文件的递交：投标人须在提交投标文件截止时间前完成电子投标文件（格式为*.HTBJ）的上传，网上确认电子签名，并打印“上传投标文件回执”，递交网址：http://www.szbidding.com。如果投标文件于递交投标文件截止时间未能上传完毕，该投标文件将视为无效投标文件。投标截止时间前未完成投标文件传输的，视为撤回投标文件。在递交投标文件截止时间前，投标人可以替换投标文件。 注：因合同签订和项目归档要求，中标人需在中标结果公告发布后的两个工作日内补交一正两副三套纸质版本投标文件至招标代理机构。 4、开标时间（投标截止时间）及地点：2021年10月28日9:00（具体时间按招标文件要求）于广州市新港西路135号中山大学西南区415号生物楼中山大学政府采购与招投标管理中心会议室，参加开标的投标授权代表需持有效身份证件。（学校停车场地有限，不对外提供停车场地） 5、评标时间及地点：2021年10月28日上午于中山大学政府采购与招投标管理中心（投标人不参加）。 6、本项目的发布、修改、澄清和补充通知将在中国政府采购网（http://www.ccgp.gov.cn）、高校电子招投标平台（http://www.szbidding.com/）及采联国际招标采购集团有限公司（http://www.chinapsp.cn/）发布，敬请各投标人留意，采购人不再另行通知。 七、对本次招标提出询问，请按以下方式联系。 1.采购人信息 名称：中山大学 地址：广州市新港西路135号 联系方式：郑老师 020-84115084转810 2.采购代理机构信息 名 称：采联国际招标采购集团有限公司 地 址：广州市越秀区环市东路472号粤海大厦7、23楼 联系方式：林先生 020-87651688-344 3.项目联系方式 项目联系人：林先生 电 话： 020-87651688-344 附件： （货2021-907，发售稿)中山大学材料学院等离子增强原子层沉积系统采购项目.pdf × 扫码打开掌上仪信通App 查看联系方式 $('.clickModel').click(function () { $('.modelDiv').show() }) $('.closeModel').click(function () { $('.modelDiv').hide() }) 基本信息 关键内容：原子层沉积 开标时间：2021-10-28 09:00 预算金额：135.00万元 采购单位：中山大学 采购联系人：点击查看 采购联系方式：点击查看 招标代理机构：采联国际招标采购集团有限公司 代理联系人：点击查看 代理联系方式：点击查看 详细信息 广东省中山大学材料学院等离子增强原子层沉积系统采购项目公开招标公告 广东省-中山市 状态：公告 更新时间： 2021-10-09 广东省中山大学材料学院等离子增强原子层沉积系统采购项目公开招标公告 广东省中山大学材料学院等离子增强原子层沉积系统采购项目公开招标公告 发布日期：2021年10月8日 项目概况 中山大学材料学院等离子增强原子层沉积系统采购项目 招标项目的潜在投标人应在高校电子招投标平台（http://www. szbidding.com）获取招标文件，并于2021年10月28日 09点00分（北京时间）前递交投标文件。 一、项目基本情况 项目编号：中大招（货）2021 907号/CLF0121GZ09ZC90 项目名称：中山大学材料学院等离子增强原子层沉积系统采购项目 预算金额：135.0000000 万元（人民币） 采购需求： 中山大学根据国家招投标法律法规和学校管理要求,拟以公开招标方式采购下列货物及其相关服务。欢迎符合资格条件的供应商投标。 1、招标采购项目内容及数量：等离子增强原子层沉积系统， 1套（本项目允许产自中华人民共和国关境外的进口货物投标；本项目不属于专门面向中小企业采购项目。本项目所属行业属于工业。具体内容及要求详见公告附件招标文件）。 2、项目预算及经费来源： 项目预算135万元人民币。经费来源为财政性资金。 合同履行期限：交货时间：收到发货通知 150个日历天以内。交货地点：中山大学深圳校区。 本项目( 不接受 )联合体投标。 二、申请人的资格要求： 1.满足《中华人民共和国政府采购法》第二十二条规定； 2.落实政府采购政策需满足的资格要求： 无。 3.本项目的特定资格要求：（1）具备投标条件的中华人民共和国的法人或其它组织或者自然人；（2）符合《中华人民共和国政府采购法》第二十二条相关规定；（3）必须具有制造标的物或合法的供货和相关项目及安装售后服务的能力（4）投标人未被列入“信用中国”网站（www.creditchina.gov.cn）“失信被执行人”、“重大税收违法案件当事人名单”、“政府采购严重违法失信名单”；不处于中国政府采购网（www.ccgp.gov.cn）“政府采购严重违法失信行为信息记录”中的禁止参加政府采购活动期间；（以代理机构于评标当天在“信用中国”网站（www.creditchina.gov.cn）及中国政府采购网(www.ccgp.gov.cn)查询结果为准，同时对信用信息查询记录进行存档。如相关失信记录已失效或查询不到，则必须出具其信用良好的承诺书原件扫描件）（5）本项目不允许联合体投标。不接受中标备选方案。 三、获取招标文件 时间：2021年10月01日 至 2021年10月13日，每天上午9:00至12:00，下午12:00至17:00。（北京时间，法定节假日除外） 地点：高校电子招投标平台（http://www. szbidding.com） 方式：详见“其他补充事宜”。 售价：￥400.0 元，本公告包含的招标文件售价总和 四、提交投标文件截止时间、开标时间和地点 提交投标文件截止时间：2021年10月28日 09点00分（北京时间） 开标时间：2021年10月28日 09点00分（北京时间） 地点：广州市新港西路135号中山大学西南区415号生物楼中山大学政府采购与招投标管理中心会议室 五、公告期限 自本公告发布之日起5个工作日。 六、其他补充事宜 1、招标文件获取方式：本项目以电子招投标形式进行，投标人可于中国政府采购网（http://www.ccgp.gov.cn）、高校电子招投标平台（http://www. szbidding.com）或采联国际招标采购集团有限公司（http://www.chinapsp.cn/）浏览招标公告，确认参与项目的合格投标人应使用企业数字证书（CA）登录高校电子招投标平台，缴纳平台服务费400元/标段（分项）后下载电子招标文件（格式为*.HZBJ）。高校电子招投标平台是获取电子招标文件的唯一途径。 2、报名方式及时间：2021年10月1日9:00至2021年10月13日17:00；登录高校电子招投标平台，凭企业数字证书（CA）在网上报名及获取招标文件及资料，否则不能参与本项目的投标。无高校电子招投标平台企业数字证书（CA）的投标商需按该平台电子认证的要求，提前办理企业数字证书（CA）。办理方式详见网址：http://ca.zhulong.com.cn/ 。本项目不需要现场报名确认，若报名期限届满后，获取招标文件的潜在投标人不足三家的，采购人将可能顺延报名期限并予公告。请各投标人留意网上公告，采购人不再另行通知。 3、电子投标文件的递交：投标人须在提交投标文件截止时间前完成电子投标文件（格式为*.HTBJ）的上传，网上确认电子签名，并打印“上传投标文件回执”，递交网址：http://www.szbidding.com。如果投标文件于递交投标文件截止时间未能上传完毕，该投标文件将视为无效投标文件。投标截止时间前未完成投标文件传输的，视为撤回投标文件。在递交投标文件截止时间前，投标人可以替换投标文件。 注：因合同签订和项目归档要求，中标人需在中标结果公告发布后的两个工作日内补交一正两副三套纸质版本投标文件至招标代理机构。 4、开标时间（投标截止时间）及地点：2021年10月28日9:00（具体时间按招标文件要求）于广州市新港西路135号中山大学西南区415号生物楼中山大学政府采购与招投标管理中心会议室，参加开标的投标授权代表需持有效身份证件。（学校停车场地有限，不对外提供停车场地） 5、评标时间及地点：2021年10月28日上午于中山大学政府采购与招投标管理中心（投标人不参加）。 6、本项目的发布、修改、澄清和补充通知将在中国政府采购网（http://www.ccgp.gov.cn）、高校电子招投标平台（http://www.szbidding.com/）及采联国际招标采购集团有限公司（http://www.chinapsp.cn/）发布，敬请各投标人留意，采购人不再另行通知。 七、对本次招标提出询问，请按以下方式联系。 1.采购人信息 名 称：中山大学 地址：广州市新港西路135号 联系方式：郑老师 020-84115084转810 2.采购代理机构信息 名 称：采联国际招标采购集团有限公司 地 址：广州市越秀区环市东路472号粤海大厦7、23楼 联系方式：林先生 020-87651688-344 3.项目联系方式 项目联系人：林先生 电 话： 020-87651688-344 附件： （货2021-907，发售稿)中山大学材料学院等离子增强原子层沉积系统采购项目.pdf

详细信息 原子层沉积叠层电池中间层优化设计与制备（二次） 陕西省-西安市 状态：公告 更新时间： 2024-02-21 原子层沉积叠层电池中间层优化设计与制备（二次） 发布时间:2024-02-21 16:43:42 项目编号：ZY23-XA405-FW1387（二次） 开标时间：2024-03-14 08:30:00 标段编号：ZY23-XA405-FW1387（二次） 标段名称：原子层沉积叠层电池中间层优化设计与制备（二次） 招标代理机构：中国石油招标中心西北分中心 公告详情 原子层沉积叠层电池中间层优化设计与制备（二次）招标公告 招标编号：ZY23-XA405-FW1387（二次） （重要提示：投标人务必认真填写招标文件附件《投标信息表》中的 服务 、 业绩发票 等表格，并在递交投标文件时，将已填写的《投标信息表》（EXCEL版）上传至中国石油电子招标投标交易平台 递交投标文件 的 价格文件 处。《投标信息表》（EXCEL版）填写的信息须与投标文件内容保持一致，若因填写信息错误或与投标文件内容不一致而导致对评审结果和合同签订的不利后果，由投标人自行承担。） 1. 招标条件 本招标项目原子层沉积叠层电池中间层优化设计与制备（二次）已由中国石油集团工程材料研究院有限公司批准，资金来自企业自筹（资金来源），出资比例为100%，招标人为中国石油集团工程材料研究院有限公司。项目已具备招标条件，现对该项目的服务进行公开招标。 2. 项目概况与招标范围 2.1项目概况 高质量的中间隧穿层对叠层电池的光电性能有着至关重要的影响。针对叠层太阳能电池中间连接层的专门研究技术难度较大，采用原子层沉积有望解决这一难题，拟选择优势技术单位，开展联合研究攻关或项目协作。 2.2招标范围：（1）完成基于原子层沉积工艺开发叠层电池中间层； （2）开发具有低吸收、高载流子复合特性的中间层材料，并获得中间层制备工艺。本项目预计金额113.42万元（含税），需要1家服务商。 2.3服务期限：自合同签订之日起一个月内。 2.4 标段划分：本项目不划分标段。 3. 投标人资格要求 3.1 投标人须是依照中华人民共和国法律在国内注册的法人或其他组织（含分公司），具备有效的营业执照（或事业单位法人证书）。 3.2 人员要求：项目负责人具有博士学位或副高级及以上职称（提供身份证、毕业证（2001年以后毕业的须同时提供学信网截图）或职称证明）。 3.3 信誉要求：①未被工商行政管理机关在全国企业信用信息公示系统（www.gsxt.gov.cn）中列入严重违法失信企业名单；②未被最高人民法院在 信用中国 网站（www.creditchina.gov.cn）中列入失信被执行人名单；③投标人或其法定代表人、拟委任的项目负责人无行贿犯罪。 3.4 本次招标不接受联合体投标。 3.5 被中国石油天然气集团有限公司或中国石油集团工程材料研究院有限公司纳入 黑名单 或限制投标的潜在投标人，其投标将会被否决。 4．招标文件获取 4.1凡有意参加投标的潜在投标人，请于北京时间2024年02月22日至2024年02月28日内完成以下两个步骤： ①登录中国石油电子招标投标交易平台（网址：http://ebidmanage.cnpcbidding.com/bidder/ebid/base/login.html在线报名（如未在中国石油电子招标投标交易平台上注册过的潜在投标人需要先注册并通过平台审核，审核通过后登录平台在可报名项目中可找到该项目并完成在线报名，具体操作请参考中国石油招标投标网操作指南中 投标人用户手册 相关章节，有关注册、报名等有关交易平台的操作问题请咨询技术支持团队相关人员，咨询电话:4008800114 语音导航转 电子招标平台）； ②投标人购买招标文件地址：http://www2.cnpcbidding.com，登录账号和招标投标交易平台一致，首次登录通过手机验证码登录，登录后设置密码。如有问题，致电400-8800-114转电子招标平台。 4.2招标文件每套（共1包）售价为200元人民币，请有意参加投标的潜在投标人确认自身资格条件是否满足要求，售后不退，应自负其责。 4.3本次招标文件采取线上发售的方式。潜在投标人在4.1规定的时间内完成4.1规定的2项工作（在线报名和自助购买文件）后，潜在投标人可在中国石油电子招标投标交易平台下载招标文件。 4.4投标人支付标书费后，在商城个人中心进入订单列表，点击已缴纳的标书费订单，点击订单详情，可以自行下载电子版普通发票。 4.5此次采购招标项目为全流程网上操作，需要使用U-key完成投标工作，所有首次参与中国石油招标项目投标人必须办理U-key。具体办理通知公告及操作手册下载方法如下： 登录中国石油招标投标网首页：https://www.cnpcbidding.com 通知公告栏目 的 操作指南 中 电子招投标平台Ukey办理通知公告及操作手册 ，即可下载 Ukey办理通知公告及操作手册.zip 。 5．投标文件递交 5.1 投标文件递交的截止时间（投标截止时间及开标时间，下同）为2024年03月14日08时30分，投标人应在截止时间前通过 中国石油电子招标投标交易平台 递交电子投标文件。 （为避免受网速及网站技术支持时间的影响，建议于投标截止时间24小时之前完成网上电子投标文件的递交。） 5.2投标截止时间未成功传送的电子投标文件将不被系统接受，视为主动撤回投标文件。 5.3投标保证金20000元人民币，投标保证金有效期与投标有效期一致，投标保证金可以采用保证保险或电汇或银行保函形式递交，具体递交方式详见招标文件。 5.4开标地点（网上开标）：中国石油电子招标投标平台（所有投标人可登录中国石油电子招标投标平台在线参加开标仪式）。 潜在投标人对招标文件有疑问请咨询招标机构联系人；对系统操作有疑问请咨询技术支持团队：中油物采信息技术有限公司，咨询电话:4008800114 ，请在工作时间咨询。 招标公告中未尽事宜或与招标文件不符之处，以招标文件为准。 6．发布公告的媒介 本次招标公告同时在中国招标投标公共服务平台（www.cebpubservice.com），中国石油招标投标网（www.cnpcbidding.com）上发布。 联系方式 招 标 人：中国石油集团工程材料研究院有限公司 单位地址：陕西省西安市高新区锦业二路89号 联 系 人：杨元博 联系电话：029-81887582 招标代理机构：中国石油物资有限公司西安分公司 单位地址：陕西省西安市凤城五路与明光路十字路口天朗经开中心二层 联 系 人：程晓艳 游涛 联系电话：029-68934554 电子邮箱：921187403@qq.com 招标机构：中国石油物资有限公司西安分公司 2024年01月16日 × 扫码打开掌上仪信通App 查看联系方式 基本信息 关键内容：原子层沉积 开标时间：2024-03-14 08:30 预算金额：113.42万元 采购单位：中国石油集团工程材料研究院有限公司 采购联系人：点击查看 采购联系方式：点击查看 招标代理机构：中国石油招标中心西北分中心 代理联系人：点击查看 代理联系方式：点击查看 详细信息 原子层沉积叠层电池中间层优化设计与制备（二次） 陕西省-西安市 状态：公告 更新时间： 2024-02-21 原子层沉积叠层电池中间层优化设计与制备（二次） 发布时间:2024-02-21 16:43:42 项目编号：ZY23-XA405-FW1387（二次） 开标时间：2024-03-14 08:30:00 标段编号：ZY23-XA405-FW1387（二次） 标段名称：原子层沉积叠层电池中间层优化设计与制备（二次） 招标代理机构：中国石油招标中心西北分中心 公告详情 原子层沉积叠层电池中间层优化设计与制备（二次）招标公告 招标编号：ZY23-XA405-FW1387（二次） （重要提示：投标人务必认真填写招标文件附件《投标信息表》中的 服务 、 业绩发票 等表格，并在递交投标文件时，将已填写的《投标信息表》（EXCEL版）上传至中国石油电子招标投标交易平台 递交投标文件 的 价格文件 处。《投标信息表》（EXCEL版）填写的信息须与投标文件内容保持一致，若因填写信息错误或与投标文件内容不一致而导致对评审结果和合同签订的不利后果，由投标人自行承担。） 1. 招标条件 本招标项目原子层沉积叠层电池中间层优化设计与制备（二次）已由中国石油集团工程材料研究院有限公司批准，资金来自企业自筹（资金来源），出资比例为100%，招标人为中国石油集团工程材料研究院有限公司。项目已具备招标条件，现对该项目的服务进行公开招标。 2. 项目概况与招标范围 2.1项目概况 高质量的中间隧穿层对叠层电池的光电性能有着至关重要的影响。针对叠层太阳能电池中间连接层的专门研究技术难度较大，采用原子层沉积有望解决这一难题，拟选择优势技术单位，开展联合研究攻关或项目协作。 2.2招标范围：（1）完成基于原子层沉积工艺开发叠层电池中间层； （2）开发具有低吸收、高载流子复合特性的中间层材料，并获得中间层制备工艺。本项目预计金额113.42万元（含税），需要1家服务商。 2.3服务期限：自合同签订之日起一个月内。 2.4 标段划分：本项目不划分标段。 3. 投标人资格要求 3.1 投标人须是依照中华人民共和国法律在国内注册的法人或其他组织（含分公司），具备有效的营业执照（或事业单位法人证书）。 3.2 人员要求：项目负责人具有博士学位或副高级及以上职称（提供身份证、毕业证（2001年以后毕业的须同时提供学信网截图）或职称证明）。 3.3 信誉要求：①未被工商行政管理机关在全国企业信用信息公示系统（www.gsxt.gov.cn）中列入严重违法失信企业名单；②未被最高人民法院在 信用中国 网站（www.creditchina.gov.cn）中列入失信被执行人名单；③投标人或其法定代表人、拟委任的项目负责人无行贿犯罪。 3.4 本次招标不接受联合体投标。 3.5 被中国石油天然气集团有限公司或中国石油集团工程材料研究院有限公司纳入 黑名单 或限制投标的潜在投标人，其投标将会被否决。 4．招标文件获取 4.1凡有意参加投标的潜在投标人，请于北京时间2024年02月22日至2024年02月28日内完成以下两个步骤： ①登录中国石油电子招标投标交易平台（网址：http://ebidmanage.cnpcbidding.com/bidder/ebid/base/login.html在线报名（如未在中国石油电子招标投标交易平台上注册过的潜在投标人需要先注册并通过平台审核，审核通过后登录平台在可报名项目中可找到该项目并完成在线报名，具体操作请参考中国石油招标投标网操作指南中 投标人用户手册 相关章节，有关注册、报名等有关交易平台的操作问题请咨询技术支持团队相关人员，咨询电话:4008800114 语音导航转 电子招标平台）； ②投标人购买招标文件地址：http://www2.cnpcbidding.com，登录账号和招标投标交易平台一致，首次登录通过手机验证码登录，登录后设置密码。如有问题，致电400-8800-114转电子招标平台。 4.2招标文件每套（共1包）售价为200元人民币，请有意参加投标的潜在投标人确认自身资格条件是否满足要求，售后不退，应自负其责。 4.3本次招标文件采取线上发售的方式。潜在投标人在4.1规定的时间内完成4.1规定的2项工作（在线报名和自助购买文件）后，潜在投标人可在中国石油电子招标投标交易平台下载招标文件。 4.4投标人支付标书费后，在商城个人中心进入订单列表，点击已缴纳的标书费订单，点击订单详情，可以自行下载电子版普通发票。 4.5此次采购招标项目为全流程网上操作，需要使用U-key完成投标工作，所有首次参与中国石油招标项目投标人必须办理U-key。具体办理通知公告及操作手册下载方法如下： 登录中国石油招标投标网首页：https://www.cnpcbidding.com 通知公告栏目 的 操作指南 中 电子招投标平台Ukey办理通知公告及操作手册 ，即可下载 Ukey办理通知公告及操作手册.zip 。 5．投标文件递交 5.1 投标文件递交的截止时间（投标截止时间及开标时间，下同）为2024年03月14日08时30分，投标人应在截止时间前通过 中国石油电子招标投标交易平台 递交电子投标文件。 （为避免受网速及网站技术支持时间的影响，建议于投标截止时间24小时之前完成网上电子投标文件的递交。） 5.2投标截止时间未成功传送的电子投标文件将不被系统接受，视为主动撤回投标文件。 5.3投标保证金20000元人民币，投标保证金有效期与投标有效期一致，投标保证金可以采用保证保险或电汇或银行保函形式递交，具体递交方式详见招标文件。 5.4开标地点（网上开标）：中国石油电子招标投标平台（所有投标人可登录中国石油电子招标投标平台在线参加开标仪式）。 潜在投标人对招标文件有疑问请咨询招标机构联系人；对系统操作有疑问请咨询技术支持团队：中油物采信息技术有限公司，咨询电话:4008800114 ，请在工作时间咨询。 招标公告中未尽事宜或与招标文件不符之处，以招标文件为准。 6．发布公告的媒介 本次招标公告同时在中国招标投标公共服务平台（www.cebpubservice.com），中国石油招标投标网（www.cnpcbidding.com）上发布。 联系方式 招 标 人：中国石油集团工程材料研究院有限公司 单位地址：陕西省西安市高新区锦业二路89号 联 系 人：杨元博 联系电话：029-81887582 招标代理机构：中国石油物资有限公司西安分公司 单位地址：陕西省西安市凤城五路与明光路十字路口天朗经开中心二层 联 系 人：程晓艳 游涛 联系电话：029-68934554 电子邮箱：921187403@qq.com 招标机构：中国石油物资有限公司西安分公司 2024年01月16日

如何让您的锂电池发挥更大效能？试试先进原子层沉积(ALD)技术！当今世界正处于转变期，全力迈向电动社会——一个节能减排、实现气候目标并抵御严峻气候变化的社会。为了实现这一转变，我们需要新的材料和技术，而锂已成为这一转变的标志性元素。 可持续、可预测的锂供应链对于电动汽车（EV）、储能和电力网络的重要性日益明显。据国际能源协会 (IEA) 称，到 2040 年，锂将成为需求量zui大的矿物质。并且到 2030 年，对锂的需求量预计将达到 200 万吨，才能满足quan球 2000 GWh 的能源需求。这在十年内增长了 4 倍，而电动汽车的快速普及甚至可能使实际的需求量超过这一预测。 图 1. 与 2020 年相比，2040 年清洁能源技术对特定电池相关矿物的需求增长。STEPS 和 SDS 代表与气候政策相关的两种不同情景，用于估算需求，其中 STEPS 是国际能源机构提出的有可能的情景。指数单位是任意的，以显示增长。 01/地球上有多少锂？ 据美国地质调查局估计，地壳蕴含约 880 亿吨锂，其中约四分之一（220 亿吨）可开采，即储量。根据每辆电动汽车需要 8 千克锂的数量估计，我们可以生产近 30 亿辆电动汽车，这约为目前道路上汽车数量的两倍。 这样的锂储量可以支撑到本世纪中叶。值得庆幸的是，随着我们发明出更好的开采方法，锂储量也会随着时间的推移而增加。 从供应角度来看，这或许是个好消息，但利润率远低于应有的水平。尽管目前的锂储量可能满足当前的电动转型需求，但主要问题之一是锂的生产能力。 未来十年必须扩大锂产量，以满足增长四倍的需求。因此，即使有足够的锂，如果生产速度和工厂产量无法满足需求，人为短缺和供应链问题将会一直存在。 02/能否缓解这种关键材料短缺的情况？ 也许你还记得电影《无限》中，布莱德利库珀服用了一颗药丸，让他能够充分发挥大脑的潜力。那么，如果我们能用锂做同样的事情呢？ 我们可能会错误地认为电池在工作时会耗尽其全部电量。然而，由于界面不稳定性以及与电解质的寄生反应，大多数先进的锂离子电池正极只能在电压小于等于 4.2V 时工作。因此，为了避免活性材料的大量损失和晶体结构的重新排列，正极只能使用约 50% 的板载锂含量。 目前研究人员一直在努力制造稳定的高电压正极、稳定的负极和互补电解质，但已出现的少数材料仍然存在库仑效率低和结构退化的问题。如果不能保持较高的可逆容量，那么它们在较高电压下工作也是徒劳的。 值得注意的是，以 Wh 为单位测量的能量容量等于电池的标称容量（以安培小时 (Ah) 为单位）乘以电压 (V)。在较小的电压下运行，我们只能使用电池潜在能量容量的一小部分。 但如果像《无限》中那样，我们能设计出一种获得更多电池能量的方案吗？也许解决方法只是几纳米的材料。 03/ 使用Forge Nano ALD 原子层沉积技术提升电池效能 Forge Nano 推出了一种名为 Atomic Armor&trade 的解决方案，以解决电极结构不稳定的问题并从电池中释放更多容量。 该方法采用原子层沉积(ALD) 技术，在电池电极材料表面包覆薄膜，可实现厚度可控、均匀致密的纳米涂层。该技术可保护活性材料免受与电解质的寄生反应的影响，当电池在更高的电压和温度下工作时，电解质的化学性质会变得不稳定。 但更重要的是，Forge Nano 的 原子层沉积（ALD）工艺还可以防止过度反应。 图 2.电化学循环前未包覆的 NCA (a) 和 Al2O3 包覆的 NCA (b) 的 TEM 图像，以及在 3-4.8 V 电压下（1C/1C 充放电率）循环 100 次后分别从电池中提取的相同正极（c,d）的 TEM 图像。 图 2 很好地展示了 ALD 涂层在高电压下保持正极颗粒结构完整性的能力。TEM 图像显示，在 3.0 – 4.8V 的电压窗口下循环 100 次 1C/1C 循环后，未进行包覆的 NCA 颗粒出现了明显的裂纹和晶体结构退化。然而， Al2O3 ALD 涂层不仅防止了晶格的重大变化，还阻止了表面裂纹向颗粒内部的扩展。 事实上，通过防止这些失效机制，ALD 可以大幅提高电池的di一周期库仑效率，使电池可以在更高的电压下工作。这不仅意味着初始容量更高，而且可逆容量也更高，从而使相同的电池能够提供比以前更多的能量。 让我们来看看使用 Forge Nano 的 Atomic Armor&trade 技术升级电极材料的一些测试数据。 图 3. 使用原始石墨负极和涂有 Atomic Armor&trade 涂层的石墨负极的电池在 4.2V 电压下循环的相对容量。 图 3 比较了在 4.2V 电压下未包覆涂层的石墨负极的电池和使用 Forge Nano ALD技术包覆涂层的负极的电池的相对容量。通过使用该技术保护电极，我们的可逆容量增加了 11%，甚至无需在更高电压下循环。由于电极表面的反应不会损失锂，我们可以来回移动的锂量大大增加，从而从电池中获得更多能量。 图4 .未包覆涂层的 LCO 电池在 4.4V 电压下工作时的放电容量，耐久性循环为 0.5C/1C，而使用相同配方进行涂层包覆的电池在 4.5V 电压下运行时的放电容量。 图 4 则进一步提高了这一性能。图 4 显示了未进行涂层包覆的电池在 4.4V 电压下循环时的放电容量，以及使用 Forge Nano ALD 技术进行电极涂层包覆的电池在 4.5V 电压下循环时的放电容量。更高的电压运行与受保护的电极相结合，电池的初始放电容量提高了 18%。此外，更高的工作电压不会影响电池的使用寿命，这意味着使用原子盔甲技术，可以从电池中获得更多能量，而不会牺牲电池的使用寿命。 图 4 中的电池是可用于消费电子应用的电池示例，其目标循环次数为 200 次。如果这是一部手机，较高的放电容量意味着一次充电可以使用两天，而不是一天。 04/减少锂需求 虽然我们不一定能改变未来对锂的需求，但我们肯定能更有效地利用锂，从而较大限度地减轻锂的开采负担。随着电池能够在更高电压下工作，可逆容量增加 10-18% 不等，我们在不改变电池中锂含量的情况下输出更多的能量。 例如，北美电池制造生态系统计划到 2030 年输出 1000 GWh 的容量。如果每块电池的容量只提高 10%，那么现在这 1000 GWh 的工厂产出额定值为 1100 GWh，这将减少对多个新千兆工厂的需求，并每年节省 10 万吨加工锂的原料需求，相当于每年节省 100 万吨矿石开采过程中开采出的地下材料。这也相当于每年节省 110 万至 370 万吨二氧化碳排放量和 180 万至 800 万立方米用水量。 事实上，根据麦肯锡公司对锂供应的研究，虽然我们可以在短期内满足锂的需求，但预计到 2030 年，锂的供应将出现约 40 万吨的缺口。图 5 显示了目前到 2030 年的能源和锂需求预测。如果所有电池都使用 Forge Nano 的 ALD 技术包覆涂层，容量的提高将减少锂的需求量，以目前已知的供应量，足以满足到 2030 年的所有能源需求。在zui好的情况下，即所有电池都使用 Forge Nano ALD 技术提升电池容量，到 2030 年，锂可能仍然过剩。 图 5. 到 2030 年的锂和能源需求以及已知的锂供应量。Atomic Armor&trade 基础方案显示了千兆工厂产量增加 10% 后的锂需求。Atomic Armor&trade 高方案显示了产量增加 18% 后的锂需求。 通过使用 Forge Nano 的 Atomic Armor&trade 技术可以有效地利用锂，大大减轻锂生产的负担。使得公司可以安全地提供更高的产能产出，而不必担心供应链短缺；作为消费者，我们也不必担心锂供应短缺时会支付天价。 让 Forge Nano 的 Atomic Armor&trade 技术成为锂电池发挥更大效能的良药！

MoS2(二硫化钼)，由于其优异的带隙结构(直接带隙为1.8 eV)，高表面体积比和的场效应晶体管(FET，field effect transistor)性能，已成为具代表性的二维过渡金属硫族化合物（TMDC, transition-metal dichalcogenide）。使用纳米晶（Nano-Crystal，NC）修饰MoS2，即可以保持每个组成部分的立特性，同时又提供了复合材料产生的协同特性，大的扩展了MoS2材料的应用领域。控制纳米晶（NC）在 MoS2基底上的形貌，包括浓度，尺寸大小和表面体积比，对电子器件的整体性能影响是至关重要的。原子层沉积技术（ALD，Atomic layer deposition）是基于自限制的表面化学反应，对缺乏表面活化学反应基团的二维材料可实现选择性表面纳米晶修饰，其中NC大小可以通过循环次数来控制。美国斯坦福大学化学工程学院的Stacey F. Bent教授，通过使用台式三维原子层沉积系统-ALD发现了一种合成ZnO修饰MoS2基杂化纳米结构（纳米片或纳米线）的新方法。ZnO纳米晶的特性，包括浓度、大小和表面体积比，可以通过控制ZnO循环次数以及ALD磺化处理得到的MoS2衬底的性能来进行系统的合成和调控。通过材料化学成分（XPS以及 Raman），显微镜观察(TEM, SEM)和同步加速器X射线技术(GIWAXS) 分析ZnO与ALD沉积次数的相互关系，并结合量子化学计算的结果，作者阐明了ZnO在MoS2衬底上的生长机理及其与MoS2衬底性能的关系。MoS2纳米片的缺陷密度和晶粒尺寸可以由MoO3的硫化温度进行控制，ZnO纳米晶会选择性地在MoS2表面的缺陷位置处成核，且尺寸随着ALD循环次数的增加而增大。ALD循环次数越高，ZnO纳米晶的聚结作用越强，使得ZnO在MoS2衬底表面的覆盖和自身尺寸大幅增长。此外，复合结构的几何形貌可以通过改变MoS2衬底的取向进行调控，即采用MoS2的垂直纳米线（NWs，nanowires）作为ALD ZnO NCs的衬底，可以大幅改善复合结构的表面体积比。该类材料有望用于一些新拓展的领域，尤其是依赖过渡金属卤化物和NCs相互耦合结构的，如基于p−n异质结的传感器或光电器件。该工作发表在2020年的国际知名期刊ACS Nano (2020, 14, 1757−1769)上。图1. （a）ZnO@MoS2复合纳米结构示意图；（b）800°C-MoS2表面的HR-STEM图像；（c）两步合成二硫化钼的工艺，即在三个不同的退火温度下（600,800,和1000°C）下使用H2S硫化ALD 合成的MoO3；（d）600 °C-, 800 °C-, 和1000 °C-MoS2的Raman光谱图,（e）Zn 2p XPS谱图（循环次数为50次）,（f）相对原子比 Zn/(Zn + Mo),（g）TEM图像，（h）表面覆盖度，（i）MoS2表面ZnO颗粒的数密度及（g）GIWAXS（grazing incidence wide-angle X-ray scattering，掠入射小角X射线散射） 图样（不同沉积次数下）；（k）800 °C-MoS2 纳米线的SEM，TEM和HR-TEM图像；（l）DEZ（diethylzinc，二乙基锌）反应的量子化学计算结果,在MoS2的边缘位和基面上进行DFT分析,黄色和绿色原子分别表示S和Mo。 上述工作中作者团队采用的原子层沉积设备来自于美国ARRADIANCE公司的GEMStar系列台式三维原子层沉积系统-ALD(如图2所示)，其在小巧的机身（78 * 56 * 28 cm）中集成了原子层沉积所需的所有功能，可多容纳9片8英寸基片同时沉积。全系配备热壁，结合前驱体瓶加热，管路加热，横向喷头等设计，使温度均匀性高达99.9%，气流对温度影响减少到0.03%以下。高温度稳定度的设计不仅实现在8英寸基体上膜厚的不均匀性小于99%，而且更适合对超高长径比的孔径3D结构等实现均匀薄膜覆盖，对高达1500：1长径比的微纳深孔内部也可实现均匀沉积。GEMStar系列ALD系统广泛应用于高深宽比结构沉积，半导体微纳结构制备，微纳粉末包覆等，服务于锂离子电池，超电容器，超电容器，LED等研究领域。图2. 美国ARRADIANCE公司生产的GEM-tar系列台式三维原子层沉积系统 参考文献：[1]. Il-Kwon, et al., Synthesis of a Hybrid Nanostructure of ZnO-Decorated MoS2 by Atomic Layer Deposition., ACS nano., 2020,14(2), 1757-1769.

项目编号：HBT-13210048-225732项目名称：武汉大学原子层薄膜沉积仪、三维激光扫描测振仪、原位光电热催化真空红外分析平台采购项目预算金额：1950.0000000 万元（人民币）最高限价（如有）：1950.0000000 万元（人民币）采购需求：本项目为3个项目包，接受同一供应商多包投标与中标。具体内容见下表。主要技术及服务要求等详见第三章货物需求及采购要求。包号序号货物名称是否接受进口产品单位数量是否为核心产品项目包预算（万元）011原子层薄膜沉积仪是台1是350021三维激光扫描测振仪是台1是500031原位光电热催化真空红外分析平台是台1是1100 合同履行期限：交货期：01包合同签订后 270 日内；02包合同签订后 180 日内；03包合同签订后 240 日内。本项目( 不接受 )联合体投标。

2012-05-08 W.S. TYLER® 非常高兴地宣布他们将在2012年6月1号开始生产带有激光蚀刻识别铭牌的试验筛。 刻蚀的信息要求符合工业标准并永久性地刻蚀到筛网的金属框架上。筛网的铭牌区域比传统的要大，让使用者有更大的能见度，另外，永久性的标记避免了因机械紧固失效导致的金属铭牌丢失，仪器的筛网功能和测试能力不会受到任何影响。 产品将在6月1号或前后逐步开始采用，并且所有的筛网产品将在年底之前完成由金属铭牌向激光刻蚀铭牌的改变。 W.S. Tyler 在2011年庆祝试验筛网产品100周年，作为全球范围的组织领导者，Tyler将继续提供市场上质量和服务*的产品，为我们的客户创造价值。 了解更多信息，请联上海凯来实验设备有限公司。 联系人：杨先生 电话：021-58955731 邮箱：webmaster@chemlabcorp.com

采用原子层沉积（ALD）技术的下一代储存技术 随着人工智能(AI), 深度学习,大数据, game 及 5G移动技术快速发展，导致数据储存量上升，半导体内存被要求低耗化。为解决这个问题目前商用化的有 Dram，Flash Memory(NAND) 等储存技术变更到新一代储存技术为一大难题。为了每秒以千兆，无延迟处理高容量数据以目前的技术很难实现。新一代技术需要像DRAM速度要快，兼具flash memory的关闭电源数据也会保存等特性，还需低耗。目前超越基准储存的新概念半导体储存有 Ferroelectric RAM(FRAM 或 FeRAM), magnetic RMA( MRAM), phase-charge ram(PRAM 或 PCRAM)和 resistive RAM(RRAM) 等都在研发阶段，而且受到关注度也比较高。这些储存技术特点是关闭电源数据也不会丢失的非挥发性(Nonvolitile), 很快的进行switching信息储存。 但因为不能进行长时间switching，内部构造粗糙，不足的高集成度,费用也比较高等原因，仅在特定领域使用。为改善这些，全世界都在用核心的ALD工程来进行研究。采用新一代储存的原子沉积(ALD) 技术fram是储存强诱电体的电极数据，一边储存是0，另外一边储存1为基本构造，和dram相似，但有非挥发性的特点。很长时间pzt材料用于强诱电体，缺点为当厚度变薄的时电极无法维持的问题。最近受到关注的有使用ALD技术，厚度为数nm沉积的 Metal Oxide-doped HFO2， 适用与28nm node的高集成密度。MRAM是自主阻抗储存,根据外部磁气场,磁性层的磁化方向，利用自主阻抗变化显示数据的1, 0。即，磁气场方向一样时表示为 0，不同时表示为1。无高速低电压动作及特性热化，而且集成度也很高。多数研究中用tunnel oxide 适用ALD技术沉积的MgO或 ZnO等。PRAM是利用物质相(phase)变化的非挥发性储存，相从非晶致状态变化到结晶致状态时储存数据。相转移物质使用GST germanium-antimony-tellurium (gst) ，使用ALD技术 step coverage制作了优Xiu的 PRAM储存。rram是绝缘体或半导体的阻抗变化储存。通过氧气空缺，从绝缘物质做成阻抗变化识别0, 1来使用。绝缘物质为通过原子层沉积的SiO2, HFO2,HfAlO, Ta2O5等。许多高校及研究所还在使用原子沉积技术（ Lucida Series ALD）进行新一代储存研究得到hen好的结果。原子沉积(ALD)技术大部分用在新一代储存，优点为原子单位厚度调节及均匀性， 步进覆盖好，对于未来新一代储存商用化做到很大贡献。