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原子层蚀刻
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原子层蚀刻相关的方案
等离子体原子层刻蚀实现无损伤刻蚀
提供等离子体原子层刻蚀实现无损伤刻蚀。原子层蚀刻(ALE)是一种技术允许每次精确除去一个原子层,是使用常规刻蚀无法达到的控制水平。 牛津仪器的设备和工艺已通过充分验证,正常运转时间可达90%以上,一旦设备安装完毕,可立即投入使用。PlasmaPro 100系列市场应用广,包括但不限于: MEMS和传感器、光电子、分立元器件和纳米技术。它具有足够的灵活性,可用于研究和开发,通过打造质量满足生产需求。
利用扫描电镜观察氢氧化钾蚀刻制备的硅微观结构
氢氧化钾蚀刻 (KOH)是制造微型器件的一个重要工艺,用于从硅片上去除材料。选择性地蚀刻硅片的某些部分,用一层二氧化硅或掩膜来保护剩下的部分。然而,残留物的存在成为这种技术的一个缺点,因为它会对器件的制造过程产生负面影响。在这篇博客中,我们提出了一种利用蚀刻残留物的方法,将其作为后续蚀刻的掩膜,以制造两层微结构。我们还提供了如何有效地利用扫描电镜SEM对这些微结构进行成像的例子。
Hakuto 离子蚀刻机20IBE-J 用于陶瓷基片银薄膜减薄
某陶瓷基片制造商采用伯东 Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-J 应用于 5G 陶瓷基片银薄膜减薄, 通过蚀刻工艺把基片涂层银薄膜刻蚀减薄, 并降低工差, 提高薄膜均匀性.
等离子技术在蚀刻领域的应用
等离子技术蚀刻的应用范围-任何需要进行精确且高效修改的材料表面。 -用于蚀刻塑料、 半导体、玻璃
铝蚀刻液成分分析—磷酸、硝酸、醋酸有多少?
蚀刻是将材料使用化学反应或物理撞击作用而移除的技术。最早可用来制造铜版、锌版等印刷凹凸版,也广泛地被使用于仪器镶板,铭牌等的加工;经过不断改良和工艺设备发展,亦可以用于航空、机械、化学工业中电子薄片零件精密蚀刻产品的加工,特别在半导体制程上,蚀刻更是不可或缺的技术。
铝蚀刻液混酸(硝酸、磷酸、醋酸)的测定 应用资料
铝蚀刻液混酸(硝酸、磷酸、醋酸)的测定 应用资料在半导体制程上,铝蚀刻液主要成分是硝酸、磷酸、醋酸和水,其中硝酸、磷酸、醋酸和水的组成比例会影响到蚀刻的速率,故需要对这种混酸溶液的成分进行分析。在本应用说明中,描述了通过中和滴定法测定非水溶剂中的硝酸、磷酸和醋酸的浓度。每种酸在水中的强度不能单独检测,但是在有机溶液中,它可以单独检测到。采用该滴定法,同时检测到三个终点。
蚀刻剂中三氯化铁含量的测定 应用资料
蚀刻剂中三氯化铁含量的测定 应用资料测量蚀刻剂中三氯化铁浓度的方法如下所示。作为预处理,在锥形烧瓶中向精确称重的样品中加入盐酸、纯水和碘化钾,并用塞子密封。将烧瓶置于冷暗室中5分钟以上后,用0.1mol/L硫代硫酸钠滴定游离碘(I2),以测定三氯化铁浓度。
蚀刻剂中氯化亚铁含量的测定 应用资料
蚀刻剂中氯化亚铁含量的测定 应用资料(英文版)当蚀刻剂样品不含氯离子时,向样品中加入硫酸后,通过用0.01mol/L高锰酸钾溶液滴定来测量氯化亚铁浓度。在本应用中,由于样品含有氯离子,在滴定前加入硫酸锰以避免干扰反应。如果样品含有过多的氯离子,通过真空蒸发浓缩除去大部分氯化氢。
可睦电子(KEM):全自动滴定仪测定蚀刻剂中的铜离子含量
全自动滴定仪测定蚀刻剂中的铜离子含量使用日本京都电子公司(KEM)-自动电位滴定仪(AT-510),测定蚀刻剂中铜离子含量的应用资料。
蚀刻液中乙酸(冰醋酸)含量的测定 应用资料
蚀刻液中乙酸(冰醋酸)含量的测定 应用资料样品加入纯水后,用0.5mol/L氢氧化钠滴定溶液测定蚀刻剂中的乙酸(冰醋酸)含量。滴定上升到终点,即滴定曲线上的最大拐点。乙酸(冰醋酸)浓度由氢氧化钠的滴定体积计算。
全自动滴定仪测定蚀刻剂中的铜离子含量
全自动滴定仪测定蚀刻剂中的铜离子含量使用日本京都电子公司(KEM)-自动电位滴定仪(AT-510),测定蚀刻剂中铜离子含量的应用资料。
蚀刻剂中盐酸含量的测定 应用资料
蚀刻剂中盐酸含量的测定 应用资料稀释后的样品用1mol/L氢氧化钠进行滴定。终点是滴定曲线上的最大拐点。盐酸浓度由氢氧化钠溶液的滴定体积计算得出。
上海伯东 Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-J 用于陶瓷板 Pt、Au、Cr 薄膜刻蚀
深圳某电子公司采用Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-J 对陶瓷板的 Pt、Au、Cr 薄膜刻蚀, 高端印制电路板生产为主
MT-V6电位滴定仪测定蚀刻液混酸(盐酸/硫酸/氢氟酸/氟硅酸)浓度
本方案主要适用于蚀刻液混酸中各组分的测试,特别是四种混酸(盐酸/硫酸/氢氟酸/氟硅酸)的蚀刻液体系。本次实验通过MT-V6自动电位滴定分析仪来测定蚀刻液混酸各组分浓度,如有工业在线分析以及智能化工厂需求则可以通过ALT工业在线分析设备来实现本方案需求。
解决方案|离子色谱法测定蚀刻液中的氯离子、硝酸根离子和硫酸根离子
目前,测定溶液中的离子常用的方法为离子色谱法,本文作者根据以往经验通过对样品前处理及实验条件的摸索,建立了离子色谱法测定蚀刻液中氯离子、硝酸根离子和硫酸根离子方法,供相关人员参考。
Hakuto 离子蚀刻机 10IBE 用于制作闪耀罗兰光栅
长春某研究所在制作闪耀罗兰光栅的研究中采用伯东 Hakuto 离子蚀刻机 10IBE,制造出的闪耀罗兰光栅比其他工艺制造的光栅产品整体衍射效率高25%, 实现高衍射效率闪耀罗兰光栅制作, 且工艺可控、稳定, 所制作的闪耀罗兰光栅衍射效率高于市场同类产品.
COXEM台式电镜在金属材料领域应用(中文)
扫描电镜可用于观测金属及金属涂层的形貌特征。BSE 模式在这种情况下是非常有用的观测方式。下面的图像是涂有镍和金的铜质样品,由于镍和铜的原子序数相似,很难区分两者之间的边界。通过化学蚀刻,如右侧图像显示,刻蚀后两层可以很容易区分。但如果不能腐蚀,使用 BSE 模式观察,也可以区分不同的两层
粉末原子层沉积(PALD)技术与吸入式疫苗开发
有效的包衣涂层可以防止疫苗的活性成分受到环境因素影响,同时实现缓释功能,延长疫苗 的有效时间。制备涂层的方法有很多,但粉末原子层沉积技术(简称 PALD)作为一种精准 可控的纳米包覆技术,近年来被广泛用于新能源,催化,金属粉末的界面改性应用中,但鲜 有应用于药物粉末的研究。
原子层沉积(ALD)在半导体先进制程的应用
原子层沉积(ALD)是一种可以将物质以单原子膜的形式,一层一层镀在基底表面的先进沉积技术。一个ALD循环包括两个先后进行的半反应。在一定的真空环境下,前驱体和共反应物交替地通入反应腔体,饱和吸附并在衬底表面发生化学反应形成单原子层。每个半反应间通入惰性气体进行清洗,确保完全除去过量的反应物和生成的小分子副产物。理论上,经过一个循环工艺,基底表面便镀上了一层单原子膜。通过增加循环次数,原子层将依次沉积在表面上,形成薄膜。
粉末原子层沉积的应用
粉末技术经过多年的发展,已经形成多样化的制备及加工技术。其中,表面包覆技术作为提升粉末物理化学性能的重要手段,长期以来一直缺乏有效的精密手段。与传统的表面改性不同,粉末原子层沉积技术PALD 是真正可以实现原子级/分子层级控制精度的粉末涂层技术,并保持良好的共形性。
一文了解粉末专用的原子层沉积方案(粉末包覆、材料改性))
Forge Nano 利用粉末 / 颗粒原子层沉积(PALD)技术在粉末表面构筑涂层,所制备的涂层具有:共形,无针孔,均匀的特点。使用 PALD 方法可以制备金属单质,金属氧化物,氮化物,硫化物,磷酸盐,多元化合物以及有机聚合物等涂层。
原子层沉积技术——精准、逐层“3D打印”催化剂!
原子层沉积技术(ALD),亦称原子层外延技术(ALE),是一种基于有序、表面自饱和反应的化学气相薄膜沉积技术。由于ALD沉积的绝大多数金属和氧化物材料本身就是某些反应中的催化剂,因此ALD在催化领域的应用也很早就引起了人们的关注。此外,作为一种自下而上的新方法,ALD独有的三维共形性、高均匀性、原子级精准控制和低生长温度等特点,如同“3D”打印一般实现了高均一性催化剂的精细可控合成。
半导体制造解决方案
高性能电动汽车等高新技术领域对高效动力转换的需求与日俱增,在这些领域高效动力转换必不可少。SiC 和 GaN 材料的使用降低了能耗。牛津仪器通过原子层沉积(ALD)技术、等离子体辅助蚀刻和沉积技术优化了工艺,提高了器件的能效。
且谈石墨负极沥青包覆的替代技术 —— 原子层沉积
Forge Nano 以其专有的原子层沉积技术实现基底表面可控的涂层材料原位生长。而如何对大规模的粉末材料进行 ALD 包覆,则是行业内的难题。Forge Nano 通过多年的技术积累,是目前掌握解决方案的企业。
粉末工程的革命—粉末型原子层沉积(PALD)设备选型
原子层沉积技术(ALD)是一种自限制性的化学气相沉积手段,通过将目标反应拆解为若干个半反应,实现表面涂层的原子层级厚度控制。利用该技术制备的涂层具有:共形,无针孔,均匀的特点,对于复杂的表面界面以及高纵深比样品有较好的沉积效果。
涂魔师ATO无损涂层测厚技术---达克罗涂层测厚实例
目前,涂魔师测量系统能直接投入到实际生产线中测量零部件涂层厚度,例如达克罗涂层。涂魔师 Flex可以在1秒内快速精准测量涂层厚度。如果测量未固化涂层,它能实时得出固化后的干膜厚度。
Hakuto IBE离子刻蚀机运用于 PDMS 软刻蚀用母模板研究
随着微纳制造技术的发展,软刻蚀技术因其在微流体、组织工程和生物医学等领域的广泛应用而受到重视。PDMS(聚二甲基硅氧烷)作为一种常用的软刻蚀材料,其母模板的制备质量直接影响到最终产品的性能。Hakuto 7.5IBE 离子刻蚀机以其高效、简便的操作特点,为软刻蚀母模板的制备提供了新的选择。西南某高校在 PDMS 软刻蚀用母模板研究中有采用到伯东 Hakuto 离子蚀刻机 7.5IBE .
COXEM台式电镜在金属材料领域应用(中文)
扫描电镜可用于观测金属及金属涂层的形貌特征。BSE 模式在这种情况下是非常有用的观测方式。金属化学蚀刻、金属表面、背散射电子(BSE)、合成金属纤维等的检测。
生物大分子相互作用分析仪SPR表征大面积的原子层石墨烯膜
芬兰BioNavis生物大分子相互作用分析仪又叫所参数表面等离子体共振分析仪,BioNavis的SPR是在传统领域的基础上将应用扩展到材料科学和生命科学等领域。本篇文章主要介绍的就是利用BioNavis MP-SPR表征大面积的原子层石墨烯膜。
原子层沉积在微电子方面的应用
自摩尔定律问世以来,微电子器件的特征尺寸一直在不断缩小,以提高集成电路的集成度和性能。由于短沟道效应的限制,鳍式场效应晶体管和环栅场效应晶体管等非平面型器件已逐渐被半导体行业所采用。为了满足制造具有这些复杂结构的芯片的要求,ALD因其可以在三维结构上生长高度均匀的保形薄膜的特点,已被广泛用于集成电路先进制程中的关键步骤。ALD技术在很大程度上依赖于所涉及的表面化学,它可以显著影响沉积膜的特性,如膜厚、形貌、组分和保形性。此外,ALD前驱体对薄膜沉积也起着至关重要的作用。ALD前驱体通常为金属有机化合物,前驱体的挥发性、热稳定性和自限制反应性会显著影响薄膜的ALD生长行为。因此,全面了解ALD的表面化学机制和前驱体化学结构设计是进一步开发和利用ALD技术的关键。在本文中,作者等人对原子层沉积的最新进展进行了详细介绍。
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