研磨分散

碳纳米管浆料高剪切研磨分散机，超高速碳纳米管浆料高剪切研磨分散机设备厂家，碳纳米管浆料研磨分散机,锂电池浆料研磨分散机,导电浆料研磨分散机,锂电池研磨分散设备IKN研磨分散机,锂电池浆料分散难点,研磨分散机在锂电池浆料分散中的优势。 碳纳米管导电浆料主要由碳纳米管、其他导电填料、分散助剂、和溶剂组成其质量百分比组成为:碳纳米管:0.5-15%其他导电物质0.1-2%,分散剂:0.1-5%,其余为溶剂。 该碳纳米管导电浆料制备方法为:先将分散助剂溶解在溶剂中然后在搅拌条件下加入碳纳米管和其他导电填料,待碳纳米管和其他导电填料充分浸润后,采用IKN研磨分散机对浆料进行研磨分散几小时后即可得到稳定分散的碳纳米管导电浆料。本发明方法简单不破坏碳纳米管结构和导电性,所制得的碳纳米管导电浆料具有优良的导电性,且性质稳定均一,静置3个月后,浆料稳定性 90%。对于碳纳米管浆料以及其他锂电池浆料的研磨分散普遍存在着2个难以解决的问题:1、研磨的细度,传统的设备研磨设备是通过刀头去磨细，这样经常会破坏碳纳米管结构和导电性,使物料变性。而IKN研磨分散机.细化物料更多的是通过物料与物料直接的撞击来完成研磨细化的功能，不会破坏物料结构。2、容易形成二团聚体在碳纳米管粒径细化之后，由于分子之间的作用力，小的物料又会二次团聚从而影响zui终产品的物料粒径以及分散的效果。IKN研磨分散机很好的克服了二团聚的现象 IKN研磨分散机是研磨机和分散机-体化的设备,在碳纳米管浆料粒径细化后瞬间通过分散工作腔进行分散避免二次团聚的现象。 超高速碳纳米管浆料高剪切研磨分散机设备厂家CMD2000系列研磨分散设备是IKN(上海)公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品,该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。 我们将三高剪切均质乳化机进行改装我们将三变跟为一然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头,使物料可以先经过胶体磨细化物料,然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换(我们提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五种乳化头供客户选择)。 碳纳米管浆料研磨式分散机是由锥体磨,分散机组合而成的高科技产品。第1由具有精细度递升的三锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下凹槽在每都可以改变方向 第二由转定子组成， 分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。碳纳米管浆料研磨分散机的特点：①线速度很高剪切间隙非常小当物料经过的时候形成的摩擦力就比较剧烈结果就是通常所说的湿磨。②定转子被制成圆椎形具有精细度递升的三锯齿突起和凹槽。③定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离④在增强的流体湍流下凹槽在每都可以改变方向。⑤高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。碳纳米管浆料研磨分散机,锂电池浆料研磨分散机导电浆料研磨分散机,锂电池研磨分散设备锂电池浆料分散难点研磨分散机在锂电池浆料分散中的优势。

304不锈钢分散盘 分散机搅拌机配件由上海书培实验设备有限公司提供，从规格齐全，量多从优，304不锈钢分散盘 分散机搅拌机配件。产品介绍：产品名称：不锈钢分散盘材质：SUS304规格：请见下表用途：分散盘是指主要用于涂料、颜料、染料、油漆、油墨、食品、胶粘剂、医药、日化等液体、乳液及液—固等物料产品的粉碎、搅拌、研磨，是分散机、研磨机、粉碎机、搅拌机、乳化机等机械设备的常规配件产品相关规格表格：产品名称直径*孔径厚度产品单价品牌304不锈钢分散盘3cm*8mm1.5mm30元上海书培304不锈钢分散盘4cm*8mm1.5mm33元上海书培304不锈钢分散盘5cm*8mm1.5mm33元上海书培304不锈钢分散盘6cm*8mm1.5mm35元上海书培304不锈钢分散盘7cm*8mm1.5mm48元上海书培304不锈钢分散盘8cm*8mm2mm50元上海书培304不锈钢分散盘9cm*8mm2mm55元上海书培304不锈钢分散盘10cm*8mm2mm65元上海书培304不锈钢分散盘12cm*8mm2mm78元上海书培304不锈钢分散盘13cm*8mm2mm85元上海书培304不锈钢分散盘15cm*8mm2.5mm125元上海书培304不锈钢分散盘18cm*8mm2.5mm155元上海书培304不锈钢分散盘20cm*35mm定制185元上海书培304不锈钢分散盘22cm*35mm定制215元上海书培304不锈钢分散盘25cm*35mm定制235元上海书培304不锈钢分散盘28cm*35mm定制285元上海书培304不锈钢分散盘30cm*35mm定制325元上海书培304不锈钢分散盘35cm*35mm定制375元上海书培304不锈钢分散盘40cm*35mm定制485元上海书培304不锈钢分散盘45cm*35mm定制620元上海书培304不锈钢分散盘50cm*35mm定制785元上海书培产品名称杆长直径单价品牌304分散盘杆10cm8mm35上海书培304分散盘杆20cm8mm38上海书培304分散盘杆25cm8mm43上海书培 304分散盘杆30cm8mm50上海书培304分散盘杆35cm8mm57上海书培304分散盘杆40cm8mm63上海书培304分散盘杆45cm8mm70上海书培304分散盘杆50cm8mm80上海书培304分散盘杆60cm8mm90上海书培螺母8上海书培

玛瑙研磨球 玛瑙球磨珠产品具体规格为：3-60mm之间，如需特殊规格可按照客户需求加工任意规格研磨球。玛瑙球：（agate　ball）是由进口玛瑙为原料制成的，不仅具有高强度和高韧性，而且兼备高耐磨性。可用于各种球磨机使用，寿命长且可降低成本、减少生产加工中的球的磨损，对环境的影响也小。采用纯天然的玛瑙石经切割、打磨和抛光等工艺制成。具有结构致密。色泽通透、高弹性模量和优异的耐磨型。适合球磨机对电子材料、陶瓷材料、油墨材料、化工材料、电池材料、稀土材料、等的粉体研磨产品。比重：2.65kg/L, 散重：1.58kg/L,莫氏硬度：7， 颜色：奶白或深蓝；粒径：7-30mm。 比重大、强度高、粉碎效率高、可缩短处理时间。真球度高、表面光滑、直径分布小、可进行高精度产品的破碎和分散。因使用高纯度原料，使其具有高耐磨性、可以最小限度地限制杂质的混入。耐磨性能好、寿命长、不需频繁的补充玛瑙研磨球，减少生产成本。对粘性和比重大的被粉碎物的湿式粉碎和分散、也可发挥较大的威力。使用在搅拌球磨机的粉碎过程中、不需担心球的生锈的腐蚀问题。用途：压电陶瓷、绝缘材料等电子材料、磁性材料的粉碎和分散颜料、油墨（墨水）、涂料等的粉碎和分散药品、食品的粉碎和分散精密陶瓷的粉碎和分散其他：化工、电子、陶瓷、油墨、涂料等多种研磨机械配套的理想研磨介质。

金刚石研磨纸利用国际上超精密涂布技术，将微米或纳米级研磨微粉（金刚石、碳化硅、氧化铝、氧化硅、氧化铈等）与新型高分子材料均匀分散后，涂覆于高强度薄膜表面而成。主要特点1、具有较好的强度和柔韧性，最大限度的提高研磨质量。2、耐用性良好，研磨效率高。技术参数1、目数/粒度：600#/30μm、800#/20μm、1000#/16μm、1200#/15μm、1500#/12μm、2000#/9μm、2500#/6μm、 3000#/5μm、4000#/3μm、6000#/2μm、7000#/1.5μm、8000#/1μm、10000#/0.5μm、15000#/0.3μm、 20000#/0.2μm、30000#/0.1μm2、直径：Φ203mm、Φ250mm、Φ300mm、Φ381mm

氧化铝刚玉陶瓷研磨球 氧化铝研磨球 陶瓷研磨球 高铝球5m-50mm各种规格齐全，外观为白色球状，滚轴球磨机 大小型球磨机 行星式球磨机配套用高强度氧化铝，陶瓷球，瓷球，研磨球，刚玉球，耐磨瓷球，高铝球，抛光球，陶瓷微球。用途：1.配套行星球磨机2.耐磨陶瓷微珠主要应用于非金属矿产品粉料（如硅酸锆、高岭土、重质碳酸钙等）及涂料、油漆、食品等行业的物料研磨与分散以及金属件的抛光使用，适用于各种球磨、研磨和抛光设备。也可以在浇筑时加在橡胶里增加耐磨系数。特点：（1）主要成分为氧化铝（≥92%）， 对被研磨物料的品质没有影响。（2）产品比重大（≥3.60g/cm3)，能大幅度提高研磨效率，降低研磨时间，节省能耗，降低成本；同时有效增加球磨机有效容积,从而增加研磨物料的加入量。 （3）产品硬度高，磨耗低，能大大延长研磨体的使用寿命。（4）产品白度高，不会对被研磨物料的颜色产生影响。氧化铝陶瓷球化学成分成分Al2O3Na2OMgOSiO2CaOOtherWt%94%210.51.51物理性质比重散重维氏硬度挤压强度软化点包装3.7kg/dm32.2kg/L1300kg/mm220000＞1400℃25kg/包

产品分类：吉致碳化硅研磨抛光半导体晶圆抛光产品名称：碳化硅研磨液/碳化硅抛光液/碳化硅sic研磨垫/sic精抛垫产品特点：吉致针对碳化硅sic抛光的4道工艺制程搭配不同型号研磨液、抛光液和抛光垫（粗磨垫/精磨垫/粗抛垫/精抛垫）。在研磨和抛光应用中提高碳化硅衬底表面质量，同时大大提高材料去除率。产品工艺及用途：适用于sic碳化硅衬底DMP和CMP工艺制程，有效提升效率以及良率，碳化硅抛光液/抛光垫实现国产化替代。吉致sic碳化硅抛光液储存方法：通风，阴凉，干燥的库房，本品需在5-35℃储存，防止阳光直射，零度以下因产生不可再分散结块而失效。吉致cmp抛光液/slurry抛光液价格：吉致的cmp金属抛光液生产技术是引进国外生产技术和设备，特殊化学配方制备而成。吉致抛光液品质可以替代进口同类产品。本土化生产的优势使吉致cmp抛光液产品交货周期快，抛光液价格实惠亲民。吉致cmp抛光耗材适用范围 吉致拥有成熟的加工工艺和生产设备，为不锈钢、铜、铝、陶瓷、导光板、五金产品、蓝宝石、光学玻璃等各类抛光加工服务。为您提供可靠有效的抛光解决方案！

丙酸倍氯米松混悬液分散机，倍氯米松分散机，丙酸氟替卡松雾化吸入用混悬液分散机，进口丙酸倍氯米松混悬液分散机，上海丙酸倍氯米松混悬液分散机生产厂家 混悬液 分散是至少两种互不相溶或者难以相溶且不发生化学反应的物质的混合过程。工业分散的目标是在连续相中实现“令人满意的”精细分布。 当固体颗粒分散到一种液体中时，形成一种悬浮液。当一种液体分散到另一种液体中时，形成一种乳浊液。在一种乳浊液的两个液相间的界面处，表面张力开始发生作用。新表面的产生需要能量。在没有外部影响的情况下，每个液相体系均企图以较少的能量达到乳浊液状态。因此，总是会有产生较小界面的倾向，这阻碍任何乳浊液的形成。 为了实现互不相溶相的分散，必须强力粉碎并混合其粒子。粉碎意味着必须克服表面张力的阻力来形成新表面。分散过程传递所需的能量，并保证两相均质混合。分散的长期稳定性会受到确切粒度分布及乳化剂和稳定剂使用的影响。 现在分散机的应用不仅仅局限于“分散”，由于其独特的剪切作用，对粉粒体在液体中的粉碎撞击终细化到理想的粒径，从而使固体质充分掺混到液体中并形成相对稳定的悬浮液，这种过程也就是“分散”。当然与乳化剂一样，添加了分散剂后，悬浮液的稳定性就能得到增强。当某种固体物质通过一定时间与液体的接触能够被液体彻底溶解，那么经剪切撞击而形成的小颗料将更快地被液体所溶解，因为其比表面积增大了好多倍了。从设备角度分析影响分散乳化效果的因素：1、分散机的结构。分散机一般分为间歇式分散机和管线式分散机，管线式分散机分散效果更好，物料可以充分分散乳化，效率高。IKN高剪切分散机采用的是管线式的分散乳化方式。2、分散机的剪切速率。分散设备核心参数就是剪切速率，一般情况下，剪切速率越高，分散乳化效果越好，当然也需要根据具体物料工艺来定；IKN分散机通过皮带加速，转速达9000rpm，是普通分散机转速的3倍，高转速可达21,000rpm。3、处理时间。物料在腔体里面停留时间越长，相对应的分散乳化效果越好，处理次数越多，一般来说分散乳化效果越好。IKN分散机结构设计采用的是立式分体结构，运行时间短。 4、分散头的加工精度。传统分散乳化机采用单层分散乳化头，加工粗糙，而IKN纳米分散乳化机采用三分散乳化头，间隙更小，精密程度更高，分散乳化效果也会更好。设备的选型要点：1、明确使用设备所需达到的效果和目的2、详细了解并掌握研究物料的性质（包括物理、化学性质）3、根据物料对设备的搅拌机进行选型4、再次确定设备的操作参数及结构设计5、综合考虑设备的成本 上海依肯自主研发生产的分体式三分散乳化机，具有高转速、低能耗、低噪音、高寿命等优势，市场上正常用的分散乳化机由于定转子精度以及机械密封的原因，转速高只能达到2910转，而如此低转速以及跟不上市场上对物料分散乳化均质效果 的高要求。IKN特别研立式分体式分散乳化机解决了此难题，将转速提高到了9000转，外加变频器，高可21000rpm，成功解决了市场需求...更多详情请致电上海依肯机械设备有限公司 销售工程师 徐工 182-0189-1183，公司有样机可以免费实验。丙酸倍氯米松混悬液分散机，倍氯米松分散机，丙酸氟替卡松雾化吸入用混悬液分散机，进口丙酸倍氯米松混悬液分散机，上海丙酸倍氯米松混悬液分散机生产厂家

HyperSep 分散基质 SPE（分散包装）QuEChERS 试剂以独立金属袋装包装。各包装中含 50 袋，附有 50 个带密封帽的空离心管。订货信息：HyperSep 分散基质 SPE（分散包装）描述部件号数量4000mg 无水硫酸镁，1000mg 氯化钠60105-33250 支/包4000mg 无水硫酸镁，1000mg 氯化钠，500mg 柠檬酸二钠盐，1000mg 柠檬酸三钠60105-33350 支/包4000mg 无水硫酸镁，1000mg 醋酸钠60105-33450 支/包6000mg 无水硫酸镁，1500mg 醋酸钠60105-33550 支/包6000mg 无水硫酸镁，1500mg 氯化钠60105-33650 支/包6000mg 无水硫酸镁，1500mg 硫酸镁，1500mg 二水柠檬酸钠，750mg 柠檬酸二钠盐60105-33750 支/包8000mg 无水硫酸镁，2000mg 氯化钠60105-33850 支/包8000mg 无水硫酸镁，3500mg 氯化钠60105-33950 支/包

影响医药中间体胶体磨研磨效果的因素其实很简单，医药中间体高速胶体磨，医药中间体湿法超微粉碎机，医药中间体湿磨机，医药高速纳米研磨机 ，化工原料高剪切胶体磨，原料药高速纳米胶体磨，头孢类抗生素纳米胶体磨 所谓医药中间体，实际上是一些用于药品合成工艺过程中的一些化工原料或化工产品。这种化工产品，不需要药品的生产许可证，在普通的化工厂即可生产，只要达到一些的别，即可用于药品的合成。 我国每年约需与化工配套的原料和中间体2000多种，需求量达250万吨以上。经过30多年的发展，我国医药生产所需的化工原料和中间体基本能够配套，只有少部分需要进口。而且由于我国资源比较丰富，原材料价格较低，有许多中间体实现了大量出口。那么，我国医药中间体域面临哪些发展机遇呢？我国β－内酰胺类抗生素经过近50年的发展，已经形成了完整的生产体系。2012年几乎所有的β－内酰胺类抗生素（除利期内的品种外）我国都能生产，而且成本很低，青霉素产量居位，大量出口供应国际市场；头孢类抗生素基本能够自给自足，还能争取一部分出口。2012年，与β－内酰胺类抗生素配套的中间体我国全部能够自己生产，除了半合成抗生素的母核7－ACA和7－ADCA需要部分进口外，所有的侧链中间体均可生产，而且大量出口。 以β－内酰胺类抗生素的主要配套中间体苯乙酸为例，我国现有苯乙酸生产厂家近30家，总年产能力约2万吨。但多数企业规模偏小，大的年产2000吨，其他大多年产数百吨。2003年国内苯乙酸总需求量约1.4万吨，消费结构为：青霉素G占85%，其他医药占4%，香料占7%，农药及其他域占4%。随着国内香料、医药、农药等行业的发展，苯乙酸需求量将进一步增加。预计到2005年，我国医药工业将消耗苯乙酸约1.4万吨，农药行业将消费500吨，香料行业约消费2000吨。再加上其他域的消费量，预计2005年国内苯乙酸总需求量将达1.8万吨。 所以上海依肯机械设备有限公司根据日益增长的市场需求结合多年来积累的丰富的行业经验以及成功案例特别推出医药中间体CMD2000系列胶体磨突破传统意义上的粉碎机，是技术上的进一步革新。好的粉碎效果源自硬质刀具的表面结构，三组分散刀头，表面含有不同粒度大小的金属颗粒，这保证了物料在通过各刀头后达到理想的细化效果。该锥体磨独特的锥形设计，增大了冷却表面积，更利于长时间工作。 产品说明：锥体磨CMD2000是CM2000的更进一步。通过减少颗粒粒度和湿磨，可获得更细悬浮液，技术更创新。这是通过将锥形刀具间的间隙调节至小来完成的。间隙可进行无调节。好的粉碎效果亦源于硬质刀具的表面结构。刀具表面含高质材料。 第1由具有精细度递升的三锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每都可以改变方向。 第2由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子（乳化头）和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为在对输送性的要求方面，特别要引起注意的是：在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是转子齿的排列，还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例，依据以的经验特制工作头来满足一个具体的应用。医药中间体CMD2000系列胶体磨（研磨分散机）的特点：① 线速度很高，剪切间隙非常小，当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨② 定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三锯齿突起和凹槽。③ 定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离④ 在增强的流体湍流下，凹槽在每都可以改变方向。⑤ 高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。医药中间体CMD2000系列胶体磨设备参数选型表高速胶体磨流量*输出线速度功率入口/出口连接类型l/hrpmm/skWCMD 2000/470014000404DN25/DN15CMD 2000/55,00010,5004011DN40/DN32CMD 2000/1010,0007,3004022DN50/DN50CMD 2000/2030,0004,9004045DN80/DN65CMD 2000/3060,0002,8504075DN150/DN125CMD 2000/501000002,00040160DN200/DN150*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，同时流量可以被调节到大允许量的10%。影响医药中间体胶体磨研磨效果的因素其实很简单，医药中间体高速胶体磨，医药中间体湿法超微粉碎机，医药中间体湿磨机，医药高速纳米研磨机 ，化工原料高剪切胶体磨，原料药高速纳米胶体磨，头孢类抗生素纳米胶体磨

产品特点：HyperSep 分散型 SPE（分散包装）QuEChERS 试剂以独立金属袋装包装。各包装中含 50 袋，附有 50 个带密封帽的空离心管。 订货信息：HyperSep 分散基质 SPE（分散包装）描述　　　部件号数量4000mg 无水硫酸镁，1000mg 氯化钠　　60105-33250 支/包4000mg 无水硫酸镁，1000mg 氯化钠，500mg 柠檬酸二钠盐，1000mg 柠檬酸三钠60105-33350 支/包4000mg 无水硫酸镁，1000mg 醋酸钠　　60105-33450 支/包6000mg 无水硫酸镁，1500mg 醋酸钠　　60105-33550 支/包6000mg 无水硫酸镁，1500mg 氯化钠　　60105-33650 支/包6000mg 无水硫酸镁，1500mg 硫酸镁，1500mg 二水柠檬酸钠，750mg 柠檬酸二钠盐60105-33750 支/包8000mg 无水硫酸镁，2000mg 氯化钠　　60105-33850 支/包8000mg 无水硫酸镁，3500mg 氯化钠　　60105-33950 支/包

科研实验室型高剪切乳化机，高校科研型高速分散乳化机，高校实验室高速乳化机，实验室高速均质乳化机，科研型高速乳化机 管线式高剪切乳化机就是高效、快速、均匀地将一个相或多个相（液体、固体、气体）进入到另一互不相溶的连续相（通常液体）的过程。而在通常情 况下各个相是互不相溶的。当外部能量输入时，两种物料重组成为均一相。由于转子高速旋转所产生的高切线速度和高频机械效应带来的强劲动能，使物料在定、转子狭窄的间隙中受到强烈的机械及液力剪切、离心挤压、液层摩擦、撞击撕裂和湍流等综合作用，形成悬浮液（固/液），乳液（液体/液体）和泡沫（气体/液体）。从而使不相溶的固相、液相、气相在相应成熟工艺和适量添加剂的共同作用下，瞬间均匀精细的分散乳化，经过高频的循环往复，终得到稳定的高品质产品。 高剪切乳化机，主要应用于处理大量乳液和生成超细悬乳液。由于同时用三个工作头（转子和定子）进行处理，可获得很窄的粒径分布,获得更小的液滴和颗粒，因而生成的混合液的稳定性更好。分散头容易更换,适合于各种不同的应用。不同的机器都有相同的转速和剪切率，这样便于规模扩产。符合CIP和SIP的清洁标准,因此特别适合于食和药品生产。 ER2000系列管线式高剪切分散乳化机具有非常高的剪切速度和剪切力，粒径约为0.2-2微米可以确保高速分散乳化的稳定性。该设备可以适用于各种分散乳化工艺，也可用于生产包括对乳状液,悬浮液和胶体的均质混合。高剪切分散乳化机由定/转子系统生的剪切力使得溶质转移速度增加，从而使单一分子和宏观分子媒介的分解加速。 科研实验室型高剪切乳化机，高校科研型高速分散乳化机，高校实验室高速乳化机，实验室高速均质乳化机，科研型高速乳化机高剪切乳化机设备等：化工、卫生I、卫生II、无菌电机形式：普通马达、变频调速马达、防爆马达电源选择： 380V/50HZ、440V/50HZ乳化机材质：SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti乳化机表面处理：抛光、耐磨处理进出口联结形式：法兰、螺口、夹箍乳化机选配容器：本设备适合于各种不同大小的容器 高剪切乳化机主要应用域:奶油化妆品牙膏果汁洗涤剂浆糊纳米材料聚合物乳化液农药（除草剂 杀虫剂）疫苗脂肪乳药乳液药膏药物包衣血清抗生素乳化柴油乳化重油乳化硅油研磨白炭黑REACTOR标准流量输出转速标准线速度马达功率进出口尺寸高剪切乳化机型号l/hrpmm/skWER 2000/4300-1,0009,000232.2DN25 / DN15ER 2000/53,0006,000237.5DN40 / DN32ER 2000/108,0004,2002315DN50 /DN 50ER 2000/2020,0003,0002331DN80 /DN 65ER 2000/3040,0001,5002355DN150 /DN 125ER 2000/4070,0001,5002395DN150 / DN125ER 2000/50125,0001,10023160DN200 / DN150 科研实验室型高剪切乳化机，高校科研型高速分散乳化机，高校实验室高速乳化机，实验室高速均质乳化机，科研型高速乳化机

FLUKO FA25高剪切分散乳化机18F分散刀头适用于中等以下粘度的固液混合、油水乳化、膏霜制备、乳化聚合、硅油乳化、匀浆等。分散刀头技术参数：规 格18F订货号032处理量范围50-1500ml粘度2000CP线速度19m/s工作头长度255温度120℃是否耐压否接触物料材质SS316L、PTFE

无锡吉致电子25年研发生产——蓝宝石研磨液/蓝宝石LED衬底抛光液/Sapphire Slurry/CMP化学机械抛光/液蓝宝石A向抛光液/蓝宝石C向抛光液/半导体抛光液/吉致蓝宝石抛光液/蓝宝石研磨液厂家/蓝宝石抛光液厂家/JEEZ蓝宝石抛光液/蓝宝石CMP集成电路抛光液/蓝宝石slurry/蓝宝石Lapping研磨抛光液产品简介：为半导体行业/光学行业调配的蓝宝石研磨液/蓝宝石LED衬底抛光液/Sapphire Slurry组合浆料，适用于蓝宝石基片、外延片、LED的平坦化加工。设计满足从研磨到CMP的衬底制造的各个工艺阶段的规范，在蓝宝石基片抛光应用中提供了可靠的解决方案。吉致电子蓝宝石LED抛光液/Sapphire Slurry抛光液储存方法：1.贮存时应避免曝晒，贮存温度为5-35℃2.低于0℃以上储存，防止结冰，在无度以下因产生不可再分散结块而失效。3.避免敞口长期与空气接触。吉致电子CMP抛光液/Slurry抛光液价格：吉致电子的CMP金属抛光液生产技术是引进国外生产技术和设备，特殊化学配方制备而成。吉致电子抛光液品质可以媲美进口同类产品。 本土化生产使得吉致电子CMP抛光液产品交货周期快，品质好，抛光液价格亲民。吉致电子CMP抛光耗材适用范围吉致电子科技有限公司拥有成熟的加工工艺，为不锈钢、铜、铝、塑胶、陶瓷、导光板、五金产品、蓝宝石、光学玻璃等各类抛光加工服务。为您提供可靠的抛光解决方案！

FLUKO FA25高剪切分散乳化机25G分散刀头产品简介：适用于中等以上粘度的固液混合、油水乳化、膏霜制备、乳化聚合、硅油乳化、匀浆等。技术参数：规 格25G订货号051处理量范围50-5000ml粘度5000CP线速度27m/s工作头长度258温度120℃是否耐压否接触物料材质SS316L、PTFE

FLUKO FA25高剪切分散乳化机25F分散刀头用途：适用于中等以下粘度的固液混合、油水乳化、膏霜制备、乳化聚合、硅油乳化、匀浆等。技术参数：规 格25F订货号052处理量范围50-5000ml粘度3500CP线速度27m/s工作头长度258温度120℃是否耐压否接触物料材质SS316L、PTFE

Rheodyne 8125 低分散微量进样器设计用于 1mm 和 2mm 内径的 HPLC 色谱柱。可使用部分注入以实现样本零浪费或完整注入以获得更好的可重现性。位置感应开关提供可重现的开始信号。适用于 5μL 到 50μL 样品定量环。订货信息：Rheodyne 8125 低分散微量进样器型号模式特点目录编号数量8125双进样器连续流8125单件装

FLUKO弗鲁克FA25剪切分散乳化机18G分散刀头FA25高剪切分散乳化机18G分散刀头用途：适用于中等以上粘度的固液混合、油水乳化、膏霜制备、乳化聚合、硅油乳化、匀浆等。技术参数：规 格18G订货号031处理量范围50-1500ml粘度3000CP线速度19m/s工作头长度255温度120℃是否耐压否接触物料材质SS316L、PTFE

分散SPE（dSPE），通常用于Quechers方法，是一种快速（Quick）、容易（Easy）、经济（Cheap）、有效（Effective）、稳定（Rugged）和安全（Safe）的样品前处理方法。该方法使用散装固定萃取吸附剂提取和净化食品、农产品等样品用于农药残留分析，由于其操作简便正日趋普及。 在分散SPE（dSPE）中，首先将样品和农产品样品加入到提取管中，提取管中装有预先精确称量的高含量盐（如氯化钠和硫酸镁）和缓冲试剂（如柠檬酸盐），盐和缓冲试剂可以促进两相分离和稳定住遇酸碱容易变化的农药，然后再提取管中加入水溶性溶剂（如乙腈）进行提取。将提取管进行震荡和离心后取出部分有机相层加到分散SPE（dSPE）净化管中进一步处理。分散SPE净化管不同于传统的SPE小柱，它是将精确称量好的 SPE填料如Supelclean PSA，ENVI-Carb，Discovery DSC-18和Supel Que Z-sep混合在一起的离心管，在净化管中加入提取液，样品在提取液和散装SPE填料之间进行分配或吸附，从而实现对基质样品的净化。这种方法简便快速。净化后的样品经过震荡离心后，上清液可直接或经过简单处理后进入到下一步分析中。 Supelco除了提供一系列预填装好的填料的分散SPE提取管和净化管用于欧盟EN 15662和美国AOAC 2007.01方法，还可以根据用户的实际需求定制不同规格的分散SPE产品。

产品特点： Supra - d QuEChERS 基质分散SPE我们的Supra - d 基质分散SPE 提取净化套件是根据您的样品制备需求定制，它们用于QuEChERS 方法的每一步操作。每一个套件包括预组装好的填料，以简化您的样品前处理流程。每个套件都附有一份质量证书，来确保您的应用成功。结合我们的基质分散QuEChERS 方法包，您会找到所需要的产品。将我们的Supra - d 基质分散SPE 加入到您的样品制备大家族中。 特点和优势● 对于更精确的分析可以获得高回收率● 比传统方法可以快速4 倍● 降低溶剂消耗和废液的产生珀金埃尔默的Supra - d QuEChERS 基质分散SPE 将您的样品制备过程转变为简单的两个步骤。QuEChERS( 快速，方便，廉价，有效，耐用，安全分散SPE)，基质分散SPE 是第一个使用的农药残留分析中的样品制备方法。基质分散SPE消除了复杂的液体提取方法，并扩大了杀虫剂的检测范围。QueEChERS 带来了快速和便捷，改善了实验室的效率并降低失误的发生。QUECHERS 简单的两步流程：步骤1：提取样品匀浆，取10 g 样品到50 mL的管子 → 加入10 mL 乙腈并混合均匀 → 加入内标(s) → 将制备好的样品加入到提取管中 → 摇匀 → 离心步骤2：净化吸取上层澄清液到净化管中 → 摇匀 → 离心 → 直接用GC，GC/MS，LC 和LC/MS 测试上清液 Supra - d QuEChERS 用于多种杀虫剂残留的分析PerkinElmer 提供用于QuEChERS 方法学最齐全的产品，提供所有三种标准QuEChERS 方法：原创QuEChERS 方法，美国AOAC 标准( 官方方法2007.01) QuEChERS 方法和欧洲标准(EN15662) QuEChERS 方法。订货信息：

无锡吉致电子25年研发生产——钨抛光液/W CMP Slurry/W 抛光液/半导体研磨液/CMP抛光液/化学机械抛光液/CMP化学机械抛光液slurry/CMP集成电路抛光液钨W抛光液作用: 吉致电子钨W抛光液适用于8-12吋氧化硅镀膜片的抛光。特选粒径均一的SiO2水溶胶为磨料，抛光清洗后晶圆表面粗糙度低、颗粒残留少。与国内外同类产品相比，具有易清洗、表面粗糙度低等特点.我司产品优点： 1.悬浮性好，不易沉淀，使用方便。2.颗粒分散均匀，不团聚，软硬度适中，有效避免抛光过程中由于颗粒团聚导致的工件表面划伤缺陷。3.运用抛光过程中的化学新作用，提高抛光速度，改善抛光表面的质量。4.分散性好、乳液均一，程度提升抛光速率的同时降低微划伤的概率，可以提高抛光精度。5.无粉尘产生，关注环保和人体健康安全。可定制化：我们的抛光液可以根据客户需求定制不同的PH、粒径、浓度、稳定离子等。包裝方式：25KG/桶(也可依客户需求)吉致电子CMP抛光液/Slurry抛光液价格：吉致电子的CMP金属抛光液生产技术是引进国外生产技术和设备，特殊化学配方制备而成。吉致电子抛光液品质可以媲美进口同类产品。本土化生产使吉致电子CMP抛光液产品交货周期快，品质好，抛光液价格实惠亲民。吉致电子CMP抛光耗材适用范围吉致电子科技有限公司拥有成熟的加工工艺，为不锈钢、铜、铝、陶瓷、导光板、五金产品、蓝宝石、光学玻璃等各类抛光加工服务。为您提供可靠有效抛光解决方案！

产品介绍东丽氧化锆珠是由钇稳定氧化锆（ZrO2）超细粉末制成的精细陶瓷珠子，具有高韧性、高比重、耐磨性好、耐高温耐腐蚀、硬度高、电绝缘、抗冲击等特点，被广泛应用于研磨介质领域。近年来，由于其化学稳定性好且机械强度高，现已发展成为一种新型无机基质材料，可应用于各类领域，如制造汽车变阻器、锂离子电池电极材料、航空器件等；也可以用于制备高频电器件、陶瓷电容器等电子元器件；此外在医药、食品、化妆品、电子等领域都有广泛的应用。产品规格&尺寸产品直径最小为 0.03mm，最大为 5mm，且几乎所有尺寸都具有 HIP 级别的（压实化），用于研磨高硬质材料。产品技术参数产品特性高纯度：被杂质污染的可能性极低高强度：具有稳定四角晶体的锆陶瓷强度极高，断裂或破裂的风险极低 高精度：掺杂变形珠粒的程度极低，提高了研磨效率高密度：是陶瓷的最高比重，非常适用于研磨和分散无污染：不易腐蚀，因此可将研磨材料的污染度降至最低高韧性：具有业界最高的韧性，断裂韧性超过氧化铝的两倍强抗腐蚀性：表面光滑，具有极强的惰性和耐腐蚀性，可保证生产的稳定性和效率产品优势l φ0.1mm以下的珠子在粒度分布和表面平滑度方面质量较高，平滑度是其他品牌的1.2~1.8倍，能有效提高粉碎效果l 耐磨性高，能有效提高研磨质量、降低运行成本和延长珠子使用寿命l 适用于各种型号的粉碎机和搅拌机设备，支持干磨湿磨应用领域l 涂料油墨如：各种打印油墨、印刷油墨、各种涂料、油漆、清漆、汽车漆等l 色料如：颜料、染料及各种着色材料、涂改液等l 锂电池 如：碳纳米管、磷酸铁锂、正极、负极、隔膜等各种新能源导电材料l 生物医药如：人工关节、牙科种植体、听力助听器、生物传感器、药物缓释系统、细胞培养和分离、农药、纳米材料等l 化妆品如：各种雪花膏、口红、胭脂、眼影、睑黛等l 汽车行业如：各种发动机、传感器、制动器、减震器、汽车喷涂l 食品工业如：制作巧克力、调味品等l 半导体电容器如：晶体管、光电二极管、电子陶瓷等l 航空航天领域如：涡轮叶片、发动机喷嘴、航天器零部件等l 化工领域如：催化剂、防腐涂料、油井封堵材料等l 造纸工业如：作为纸浆添加剂，可以增强纸张强度、提高纸张光泽、调整纸张表面粗糙度等l 陶瓷工业 如：用于细磨和抛光工序，改善陶瓷制品的表面光洁度代理商名称：河北山启新材料科技有限公司日本东丽授权指定且唯一代理商公司官网：www.hbthanky.com欢迎您的来电咨询！

FLUKO弗鲁克FA25高剪切分散乳化机8G分散刀头配件介绍：适用于动植物组织的分散、破碎、匀浆。配件参数：规 格8G订货号011处理量范围1-60ml粘度100CP线速度8m/s工作头长度150温度120℃是否耐压否接触物料材质SS316L、PTFE

产品名称：钼抛光液/金属钼抛光/激光反射镜抛光液/CMP研磨液/镜面抛光液金属钼片抛光液作用:吉致电子金属类抛光液适用于平面形态的钼、钼合金工件的镜面抛光，CMP抛光工序通过大量磨擦和化学反应作用，可以使钼金属表面快速去粗和平整坦化。化学氧化腐蚀钼合金表面，研磨去除氧化物部分的机制可得到理想镜面效果，金属钼工件表面光滑平整具有易清洗、无残留等特点。吉致可提供钼片/金属钼的镜面抛光液1、微米/纳米级抛光液，抛光后具有均匀镜面效果2、磨料颗粒呈悬浮状态，不易分散沉淀，提高CMP效率和稳定性3、钼片专用抛光液磨料硬度高、稳定性好、化学惰性强，吉致电子金属钼抛光液可用于钢铁、化工、电子、航天、光学领域的钼片加工，达到优良的表面平坦度，抛光速率快、表面均一无缺陷。*可以依客户不同工艺要求，提供定制化服务*提供全套解决方案，及免费安排工程师上门服务

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四氟分散盘（搅拌桨）四氟分散盘（搅拌桨）：内有不锈钢棒，外有四氟套管，以及双向可活动的四氟搅拌叶片。它具有搅拌力大、耐高温、抗腐蚀的特点。主要被使用于搅拌烧瓶中的溶液。一般烧瓶的口都比较的小,搅拌棒放进烧瓶口时,要将叶片合并后放进去，然后在烧瓶里轻轻的压一下,将叶片分开，使用起来非常的方便。特别提醒！搅拌时应调节好位置，将其置于烧瓶中心位置，以免在搅拌机高速搅拌时，叶片将烧瓶打坏。四氟乙烯分散盘特点： 具有耐高温，防各种腐蚀，不变形密封性能好的特点。 双叶片活动自如,不用手来控制双叶片就能非常自如的打开与关闭，实验操作更方便，更安全。产品特性： 1. 外观纯白色 2. 耐高温：使用温度-200～+250℃；电热板上短期可耐 300℃,明火加热需在石棉网上使用.3. 耐低温：-196℃可保持5%； 4. 耐腐蚀：具有化学耐受性，几乎可耐受所有的化学溶剂（耐强酸、强碱、王水和各种有机溶剂）； 5. 耐绝缘：介电性能与温度、频率无关； 6. 高润滑：固体材料中摩擦系数（0.04）底； 7. 不粘附：不粘附任何物质；8. 防污染：金属元素值低，铅含量小于10-11 g/ml，铀含量小于10-12 g/ml；品名称规格杆长叶片直径杆直径适用搅拌容量F4搅拌桨25cm250mm43mm7mm100ml30cm300mm65mm7mm250ml35cm350mm70mm7mm500ml40cm400mm85mm7mm1000ml45cm450mm90mm7mm2000ml50cm500mm100mm7mm5000ml55cm550mm100mm7mm5000ml60cm600mm120mm7mm10000ml南京滨正红仪器有限公司

“QuEChERS”基质分散样品制备方法是一种简单直接的样品制备技术，其中QuEChERS来源于“Quick, Easy, Cheap, Effective, Rugged and Safe”的第一个字母的组合。它于各种食品和农产品中多种农药残留的分析。一般称为“QuEChERS”的基质分散固相萃取（SPE）方法是一种简单直接的样品制备技术，适用于各种食品和农产品中多残留农药的分析。沃特世DisQuE基质分散样品制备试剂盒包含2组简易包装的离心管，里面有预先称好的吸附剂和缓冲剂，专门针对AOAC官方分析方法的使用而设计。DisQuE 基质分散样品制备试剂盒包括:DisQuE 提取 (试管 1): 50 mL离心管中预装入 1.5 g无水醋酸钠和 6 g无水硫酸镁DisQuE 净化 (试管 2): 2 mL离心管中预装入150 mg无水硫酸镁和50 mg of PSA填料多种农药残留筛选和分析最新解决方案 DisQue 基质分散样品制备试剂盒和固相提取小柱净化方法不同，“QuEChERS”方法非常简单，通过将乙腈提取液与分散的SPE填料（PSA）、缓冲盐（无水乙酸钠和无水硫酸镁）混合，然后经振动和离心，得到的上清液就可直接用于LC/MS分析。沃特世新推出的DisQuE基质分散样品制备产品适合用于蔬菜/水果等农产品中多种农药残留的净化，且满足高通量的要求。简单的试剂盒设计方便用户使用，且产品包装内附带了样品制备的方法和使用流程。注意：本页面内容仅供参考，所有资料请以沃特世官方网站为准。

分散SPE（dSPE），通常用于Quechers方法，是一种快速（Quick）、容易（Easy）、经济（Cheap）、有效（Effective）、稳定（Rugged）和安全（Safe）的样品前处理方法。该方法使用散装固定萃取吸附剂提取和净化食品、农产品等样品用于农药残留分析，由于其操作简便正日趋普及。 在分散SPE（dSPE）中，首先将样品和农产品样品加入到提取管中，提取管中装有预先精确称量的高含量盐（如氯化钠和硫酸镁）和缓冲试剂（如柠檬酸盐），盐和缓冲试剂可以促进两相分离和稳定住遇酸碱容易变化的农药，然后再提取管中加入水溶性溶剂（如乙腈）进行提取。将提取管进行震荡和离心后取出部分有机相层加到分散SPE（dSPE）净化管中进一步处理。分散SPE净化管不同于传统的SPE小柱，它是将精确称量好的 SPE填料如Supelclean PSA，ENVI-Carb，Discovery DSC-18和Supel Que Z-sep混合在一起的离心管，在净化管中加入提取液，样品在提取液和散装SPE填料之间进行分配或吸附，从而实现对基质样品的净化。这种方法简便快速。净化后的样品经过震荡离心后，上清液可直接或经过简单处理后进入到下一步分析中。 Supelco除了提供一系列预填装好的填料的分散SPE提取管和净化管用于欧盟EN 15662和美国AOAC 2007.01方法，还可以根据用户的实际需求定制不同规格的分散SPE产品。

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单分散星状介孔二氧化硅纳米球 Monodisperse Mesoporous Silica Nanosphere Stellate MSN制备方法：软化学单分散星状的介孔二氧化硅纳米球的的MSN平均尺寸：80 nm比表面积（BET）：大于500平方米/克。总体积：~ 1.4毫升/克孔径（MSN星状圆锥孔）：2.9 nm 孔径（MSN之间颗粒空隙填充）：50 nm