形貌特征

三维表面形貌仪配件是德国进口的高精度多功能表面轮廓测量仪器，也是一款光学表面形貌仪,非常适合对表面几何形状和表面纹理分析。 三维表面形貌仪配件根据国际标准计算2D和3D参数，使用最新的ISO 25178 标准表面纹理分析，依靠最新的 ISO 16610 滤除技术进行计算，从而保证了国际公信力，以标准方案或定制性方案对二维形貌或三维形貌表面形貌和表面纹理，微米和纳米形状，圆盘，圆度，球度，台阶高度，距离，面积，角度和体积进行多范围测量，创造性地采用接触式和非接触式测量合并技术，一套表面形貌仪可同时具有接触式和非接触式测量的选择。 三维形貌仪配件参数： 定位台行程范围：X: 200 mm Y: 200 mm Z: 200 mm (电动) 接触式测量范围： 范围0.1mm, 分辨率2nm, 速度 3mm/s 范围2.5mm 分辨率40nm, 速度3mm/s 非接触式测量范围： 范围：300um, 分辨率2nm, 速度30mm/s 范围：480um, 分辨率2nm, 速度30mm/s 范围：1mm, 分辨率5nm, 速度30mm/s 范围：3.9mm , 分辨率15nm, 速度30mm/s 表面形貌仪配件应用：测量轮廓，台阶高度，表面形貌，距离，面积，体积 分析形态，粗糙度，波纹度，平整度，颗粒度 摩擦学研究，光谱分析 磨料磨具，航天，汽车，化妆品，能源，医疗，微机电系统，冶金，造纸和塑料等领域。

表面形貌仪配件又称为光学形貌仪或三维形貌仪，它除了用于测量物件的表面形貌或表面轮廓外，具有测量晶圆翘曲度的功能,非常适合晶圆,太阳能电池和玻璃面板的翘曲度测量，应变测量以及表面形貌测量。 三维形貌仪主要配件应用 用于太阳能电池测量 用于半导体晶圆测量 用于镀膜玻璃的平整度（Flatness)测量 用于机械部件的计量 用于塑料,金属和其他复合型材料工件的测量 表面形貌仪配件特色 *除了表面形貌的测量，还可以测量张量和应力（简单）； *可测量晶圆的尺寸为0.5' ' 到12' ' , 最高可达45x45cm的尺寸，对于小于0.5' ' 的晶圆或样品，可配备微距镜头。 *测量晶圆或其他样品的表面形貌,粗糙度和翘曲度； *克服常见干涉仪在粗糙表面（油漆）表现不足的问题； *非接触式测量

模板◇在管路制造和阀切换图表时非常有用。◇ 用于两位阀的特征模板带4、6、8 和10 通带两个位置指示和各种流路标记。模板描述货号模板TEMPLATE1

Pelcotec&trade CDMS-XY 标样是一种用于扫描电镜、场发射扫描电镜、离子束雕刻、CD-SEM、激光扫描显微镜和原子力显微镜快速、精确校准的便捷工具。该标样提供了 X 和 Y 两个坐标轴的比例尺线，可在不旋转样品台的情况下轻松进行二维校准。Pelcotec&trade CDMS-XY 标样使用最新的半导体和微电子制造技术制成，具有卓越的线缘质量，可提供广泛的测量范围。该标样有两种特征尺寸范围可选，分别是 Pelcotec&trade CDMS-XY-1T 和 Pelcotec&trade CDMS-XY-0.1T ，每个尺寸范围都提供可追溯和认证标样，总共有四种：Pelcotec&trade CDMS-XY-1T ：特征尺寸范围为 2.0mm 到 1um，适用于放大倍率在 10x - 20,000x 之间的台式扫描电镜和低到中等放大应用。产品编号描述单位684-1Pelcotec&trade CDMS-XY-1T ，2mm - 1µ m，可追溯，没有样品座个Pelcotec&trade CDMS-XY-1C ：每个标样均根据 NIST 标准进行了单独认证，特征尺寸范围为 2.0mm 到 1µ m，适用于放大倍率在 10x - 20,000x 之间的台式扫描电镜和低到中等放大应用。产品编号描述单位689-1Pelcotec&trade CDMS-XY-1C ，2mm - 1µ m，已认证，没有样品座个 Pelcotec&trade CDMS-XY-0.1T ：特征尺寸范围为 2.0mm 到 100nm，适用于所有扫描电镜和大多数场发射扫描电镜应用，放大倍率可达 10 - 200,000x。产品编号描述单位685-1Pelcotec&trade CDMS-XY-0.1T ，2mm - 100nm，可溯源，没有样品座个 Pelcotec&trade CDMS-XY-0.1C ：每个标样均根据 NIST 标准进行了单独认证，特征尺寸范围为 2.0mm 到 100nm，适用于所有扫描电镜和大多数场发射扫描电镜应用，放大倍率可达 10 - 200,000x。产品编号描述单位690-01Pelcotec&trade CDMS-XY-0.1C ，2mm - 100nm，已认证，没有样品座个该标样的特征尺寸范围见下表：Pelcotec&trade CDMS-XY-1T 和 -1C 的特征尺寸为：2mm、1mm、0.5mm、0.1mm、50µ m、10µ m、5µ m、2µ m 和 1µ m。 Pelcotec&trade CDMS-XY-0.1T 和 0.1C 的特征尺寸为：2mm、1mm、0.5mm、0.1mm、50µ m、10µ m、5µ m、2µ m 和 1µ m、500nm、250nm 和 100nm。可选的预先安装在样品座上。Pelcotec&trade CDMS-XY-1Pelcotec&trade CDMS-XY-0.1基底尺寸：2.5×2.5mm&check &check 基底厚度：525±10μm&check &check 唯一序列识别号&check &check 2mm、1mm、0.5mm 的校准方块&check &check 垂直于 X 轴和 Y 轴的刻度线，间距为 10um、5μm、2μm 和 1μm&check &check 仅限高分辨率版本 - 垂直于 X 和 Y 轴的附加刻度线以 500、250 和 100 nm 节距标出—&check 特征材料：50nm Cr (2mm - 5µ m)&check &check 特征材料：20nm Cr/50nm Au（2μm 和 1μm）&check &check 特征材料：20nm Cr/50nm Au（500、250 和 100nm）—&check 可在晶圆级追溯到 NISTT 版本T 版本CDMS 标样直接获得 NIST 标准认证C版本C版本不含样品台&check &check 可安装于SEM样品台&check &check 精度优于0.3%&check &check

Pelcotec&trade CDMS 校准标样是一种独特的经济实惠、功能齐全、可追溯的校准标样，可用于快速精准的扫描电镜(SEM)、场发射扫描电镜(FESEM)、离子束刻蚀(FIB)、CD-SEM、LM和AFM放大倍数校准。这些标样采用最新的半导体和微机电系统(MEMS)制造技术制成，可以覆盖广泛的测量范围。Pelcotec&trade CDMS 校准标样有两种特征尺寸范围，分别是 Pelcotec&trade CDMS-1T 和 Pelcotec&trade CDMS-0.1T ，都提供可追溯和认证标样，共有4个种：Pelcotec&trade CDMS-1T : 可追溯，特征尺寸范围为2.0毫米到1微米，放大倍数范围为10倍到20,000倍，非常适合台式扫描电镜和低到中等放大应用。产品编号描述单位682-1Pelcotec&trade CDMS-1T ，2mm - 1µ m，可追溯，没有样品台个Pelcotec&trade CDMS-1C : 经过NIST标样认证的特征尺寸范围为2.0毫米到1微米，放大倍数范围为10倍到20,000倍，非常适合台式扫描电镜和低到中等放大应用。产品编号描述单位686-1Pelcotec&trade CDMS-1C ，2mm - 1µ m，经过认证，没有样品台个 Pelcotec&trade CDMS-0.1T : 可追溯，特征尺寸范围为2.0毫米到100纳米，放大倍数范围高达10倍到200,000倍，适用于所有扫描电镜和大多数场发射扫描电镜应用。产品编号描述单位683-01Pelcotec&trade CDMS-0.1T ，2mm - 100nm，可追溯，没有样品台个 Pelcotec&trade CDMS-0.1C : 经过NIST标样认证的特征尺寸范围为2.0毫米到100纳米，放大倍数范围高达10倍到200,000倍，适用于所有扫描电镜和大多数场发射扫描电镜应用。产品编号描述单位687-01Pelcotec&trade CDMS-0.1T ，2mm - 100nm，经认证，没有样品台个 Pelcotec&trade CDMS 标样的特征尺寸范围为2mm、1mm、0.5mm、0.25mm、10µ m、5µ m、2µ m和1µ m（适用于 Pelcotec&trade CDMS-1T ISO 和 Pelcotec&trade CDMS-1C ）。而Pelcotec&trade CDMS-0.1T 和 0.1C 的特征尺寸范围为2mm、1mm、0.5mm、0.25mm、10µ m、5µ m、2µ m、1µ m、500nm、250nm和100nm。 Pelcotec&trade CDMS 标样采用超平整的硅衬底制成，采用精密的50nm铬沉积技术制造特征尺寸小于5µ m的部分，而采用50nm金/20nm铬的组合制造2µ m到100nm的特征尺寸。铬和金/铬在硅基底上提供了卓越的SE和BSE成像模式对比度，比刻蚀硅标样更易于确定特征。由于硅衬底、铬和铬/金特征都具有导电性，因此该校准标样不存在充电问题。由于其坚固的结构，CDMS标样可使用等离子体清洗器进行清洁。较小的特征尺寸被嵌套在一起，以便于导航和快速校准。特征的精度为0.3%或更高。标样的实际尺寸为2.5 x 2.5mm，厚度为525µ m ±10µ m，在硅表面上没有涂层。每个Pelcotec&trade CDMS 校准标样都有一个独特的识别编号。Pelcotec&trade CDMS 校准标样可供选择不安装或安装在SEM样品台A-R上。对于AFM应用，Pelcotec&trade CDMS 安装在12mm的AFM圆片上，而对于LM应用，则安装在25 x 75mm的载玻片上。也可以制备在自定义的支架上。可选的样品座。Pelcotec&trade CDMS-1Pelcotec&trade CDMS-0.1基底：硅&check &check 基底尺寸：2.5×2.5mm&check &check 基底厚度：525±10μm&check &check 唯一序列识别号&check &check 2mm、1mm、0.5mm、0.25mm 的校准方块&check &check 垂直于 X 轴的刻度线，间距为 10μm、5μm、2μm 和 1μm&check &check 仅高分辨率版本 - 垂直于 X 轴的附加刻度线以 500、250 和 100 nm 节距标出—&check 特征材料：50nm Cr (2mm - 5µ m)&check &check 特征材料：20nm Cr/50nm Au（2μm 和 1μm）&check &check 特征材料：20nm Cr/50nm Au（500、250 和 100nm）—&check 可在晶圆级追溯到 NISTT 版本T 版本CDMS 标样直接获得NIST 标准认证C版本C版本不含样品台&check &check 可安装在 SEM样品台上&check &check 精度优于0.3%&check &check

符合ISO 17025:2017标准的CDMS产品。NIST标准的可追溯性或单独认证有证书。Pelcotec CDMS ISO校准标样是一种独特的经济实惠、功能齐全、可追溯的校准标样，可用于快速精准的扫描电镜(SEM)、场发射扫描电镜(FESEM)、离子束刻蚀(FIB)、CD-SEM、LM和AFM放大倍数校准。这些标样采用蚀刻制造技术制成，可以覆盖广泛的测量范围。Pelcotec CDMS ISO校准标样有两种特征尺寸范围，分别是 Pelcotec CDMS-1T ISO和 Pelcotec CDMS-0.1T ISO，都提供可追溯和认证标样，共有4个种：Pelcotec CDMS-1T ISO: 可追溯，特征尺寸范围为2.0毫米到1微米，放大倍数范围为10倍到20,000倍，非常适合台式扫描电镜和低到中等放大应用。产品编号描述单位701-1Pelcotec CDMS-1T ISO，2mm - 1um，可追溯，没有样品台，蚀刻线个699-1Pelcotec CDMS-1T，2mm - 1um，可追溯，没有样品台，蚀刻线个Pelcotec CDMS-1C ISO: 经过NIST标样认证的特征尺寸范围为2.0毫米到1微米，放大倍数范围为10倍到20,000倍，非常适合台式扫描电镜和低到中等放大应用。产品编号描述单位711-1Pelcotec CDMS-1C ISO，2mm - 1um，经过认证，没有样品台，蚀刻线个703-1Pelcotec CDMS-1C，2mm - 1um，经过认证，没有样品台，蚀刻线个Pelcotec CDMS-0.1T ISO: 可追溯，特征尺寸范围为2.0毫米到100纳米，放大倍数范围高达10倍到200,000倍，适用于所有扫描电镜和大多数场发射扫描电镜应用。产品编号描述单位708-01Pelcotec CDMS-0.1T ISO，2mm - 100nm，可追溯，没有样品台，蚀刻线个700-01Pelcotec CDMS-0.1T，2mm - 100nm，可追溯，没有样品台，蚀刻线个 Pelcotec CDMS-0.1C ISO: 经过NIST标样认证的特征尺寸范围为2.0毫米到100纳米，放大倍数范围高达10倍到200,000倍，适用于所有扫描电镜和大多数场发射扫描电镜应用。产品编号描述单位712-01Pelcotec CDMS-0.1T ISO，2mm - 100nm，经认证，没有样品台，蚀刻线个704-01Pelcotec CDMS-0.1T ，2mm - 100nm，经认证，没有样品台，蚀刻线个 Pelcotec CDMS ISO标样的特征尺寸范围为2mm、1mm、0.5mm、0.25mm、10um、5um、2um和1um（适用于 Pelcotec CDMS-1T ISO 和 Pelcotec CDMS-1C ISO）。而Pelcotec CDMS-0.1T ISO 和 0.1C ISO 的特征尺寸范围为2mm、1mm、0.5mm、0.25mm、10um、5um、2um、1um、500nm、250nm和100nm。较小的特征尺寸被嵌套在一起，以便于导航和快速校准。特征的精度为0.3%或更高。标样的实际尺寸为2.5 x 2.5mm，厚度为525um ±10um，在硅表面上没有涂层。每个Pelcotec CDMS ISO校准标样都有一个独特的识别编号。Pelcotec CDMS ISO校准标样可供选择不安装或安装在SEM样品台A-R上。对于AFM应用，Pelcotec CDMS ISO安装在12mm的AFM圆片上，而对于LM应用，则安装在25 x 75mm的载玻片上。也可以制备在自定义的支架上。可选的样品座。Pelcotec CDMS-1-ISOPelcotec CDMS-0.1-ISO基底：硅是是基底尺寸：2.5×2.5mm是是基底厚度：525±10μm是是唯一序列识别号是是2mm、1mm、0.5mm、0.25mm 的校准方块是是垂直于 X 轴的刻度线，间距为 10μm、5μm、2μm 和 1μm是是仅高分辨率版本 - 垂直于 X 轴的附加刻度线以 500、250 和 100 nm 节距标出—是可在晶圆级追溯到 NIST（ISO 17025:2017 认证标准）T 版本T 版本CDMS 标样直接获得 NIST 标准认证（ISO 17025:2017 认证标准）C版本C版本不装在样品台上可用是是可安装在 SEM样品台上是是精度优于0.3%是是线边缘粗糙度为每 1um 线边缘长度 +/- 0.3nm是是测量报告的不确定性 (k=2)* 为 ±0.012μm是是

符合ISO 17025:2017标准的CDMS产品。NIST标准的可追溯性或单独认证有证书。Pelcotec&trade CDMS ISO校准标样是一种独特的经济实惠、功能齐全、可追溯的校准标样，可用于快速精准的扫描电镜(SEM)、场发射扫描电镜(FESEM)、离子束刻蚀(FIB)、CD-SEM、LM和AFM放大倍数校准。这些标样采用最新的半导体和微机电系统(MEMS)制造技术制成，可以覆盖广泛的测量范围。Pelcotec&trade CDMS ISO校准标样有两种特征尺寸范围，分别是 Pelcotec&trade CDMS-1T ISO和 Pelcotec&trade CDMS-0.1T ISO，都提供可追溯和认证标样，共有4个种：Pelcotec&trade CDMS-1T ISO: 可追溯，特征尺寸范围为2.0毫米到1微米，放大倍数范围为10倍到20,000倍，非常适合台式扫描电镜和低到中等放大应用。产品编号描述单位691-1Pelcotec&trade CDMS-1T ISO，2mm - 1µ m，可追溯，没有样品台个Pelcotec&trade CDMS-1C ISO: 经过NIST标样认证的特征尺寸范围为2.0毫米到1微米，放大倍数范围为10倍到20,000倍，非常适合台式扫描电镜和低到中等放大应用。产品编号描述单位695-1Pelcotec&trade CDMS-1C ISO，2mm - 1µ m，经过认证，没有样品台个Pelcotec&trade CDMS-0.1T ISO: 可追溯，特征尺寸范围为2.0毫米到100纳米，放大倍数范围高达10倍到200,000倍，适用于所有扫描电镜和大多数场发射扫描电镜应用。产品编号描述单位692-01Pelcotec&trade CDMS-0.1T ISO，2mm - 100nm，可追溯，没有样品台个 Pelcotec&trade CDMS-0.1C ISO: 经过NIST标样认证的特征尺寸范围为2.0毫米到100纳米，放大倍数范围高达10倍到200,000倍，适用于所有扫描电镜和大多数场发射扫描电镜应用。产品编号描述单位696-01Pelcotec&trade CDMS-0.1T ISO，2mm - 100nm，经认证，没有样品台个 Pelcotec&trade CDMS ISO标样的特征尺寸范围为2mm、1mm、0.5mm、0.25mm、10µ m、5µ m、2µ m和1µ m（适用于Pelcotec&trade CDMS-1T ISO 和 Pelcotec&trade CDMS-1C ISO）。而Pelcotec&trade CDMS-0.1T ISO 和 0.1C ISO 的特征尺寸范围为2mm、1mm、0.5mm、0.25mm、10µ m、5µ m、2µ m、1µ m、500nm、250nm和100nm。Pelcotec&trade CDMS ISO标样采用超平整的硅衬底制成，采用精密的50nm铬沉积技术制造特征尺寸小于5µ m的部分，而采用50nm金/20nm铬的组合制造2µ m到100nm的特征尺寸。铬和金/铬在硅基底上提供了卓越的SE和BSE成像模式对比度，比刻蚀硅标样更易于确定特征。由于硅衬底、铬和铬/金特征都具有导电性，因此该校准标样不存在充电问题。由于其坚固的结构，CDMS标样可使用等离子体清洗器进行清洁。较小的特征尺寸被嵌套在一起，以便于导航和快速校准。特征的精度为0.3%或更高。标样的实际尺寸为2.5 x 2.5mm，厚度为525µ m ±10µ m，在硅表面上没有涂层。每个Pelcotec&trade CDMS ISO校准标样都有一个独特的识别编号。Pelcotec&trade CDMS ISO校准标样可供选择不安装或安装在SEM样品台A-R上。对于AFM应用，Pelcotec&trade CDMS ISO安装在12mm的AFM圆片上，而对于LM应用，则安装在25 x 75mm的载玻片上。也可以制备在自定义的支架上。可选的样品座。Pelcotec&trade CDMS-1-ISOPelcotec&trade CDMS-0.1-ISO基底：硅&check &check 基底尺寸：2.5×2.5mm&check &check 基底厚度：525±10μm&check &check 唯一序列识别号&check &check 2mm、1mm、0.5mm、0.25mm 的校准方块&check &check 垂直于 X 轴的刻度线，间距为 10μm、5μm、2μm 和 1μm&check &check 仅高分辨率版本 - 垂直于 X 轴的附加刻度线以 500、250 和 100 nm 节距标出—&check 特征材料：50nm Cr (2mm - 5µ m)&check &check 特征材料：20nm Cr/50nm Au（2μm 和 1μm）&check &check 特征材料：20nm Cr/50nm Au（500、250 和 100nm）—&check 可在晶圆级追溯到 NIST（ISO 17025:2017 认证标准）T 版本T 版本CDMS 标样直接获得 NIST 标准认证（ISO 17025:2017 认证标准）C版本C版本不含样品台&check &check 可安装在 SEM样品台上&check &check 精度优于0.3%&check &check

符合ISO 17025:2017标准的CDMS产品。NIST标准的可追溯性或单独认证有证书。Pelcotec CDMS-XY ISO标样是一种用于扫描电镜、场发射扫描电镜、离子束雕刻、CD-SEM、激光扫描显微镜和原子力显微镜快速、精确校准的便捷工具。该标样提供了 X 和 Y 两个坐标轴的比例尺线，可在不旋转样品台的情况下轻松进行二维校准。Pelcotec CDMS-XY ISO蚀刻线标样使用蚀刻技术制成，具有卓越的线缘质量，可提供广泛的测量范围。该标样有两种特征尺寸范围可选，分别是 Pelcotec CDMS-XY-1T ISO和 Pelcotec CDMS-XY-0.1T ISO，每个尺寸范围都提供可追溯和认证标样，总共有四种：Pelcotec CDMS-XY-1T ISO：特征尺寸范围为 2.0mm 到 1um，适用于放大倍率在 10x - 20,000x 之间的台式扫描电镜和低到中等放大应用。 2mm、1mm、0.5mm、0.1mm、50um、10um、5um、2um 和 1um。Pelcotec CDMS-XY-0.1T ISO 和 0.1C ISO 的特征尺寸为：2mm、1mm、0.5mm、0.1mm、50um、10um、5um、2um 和 1um、500nm、250nm 和 100nm。可选的预先安装在样品座上。Pelcotec CDMS-XY-1-ISOPelcotec CDMS-XY-0.1-ISO基底：硅是是基底尺寸：2.5×2.5mm是是基底厚度：525±10μm是是唯一序列识别号是是 产品编号描述单位709-1Pelcotec CDMS-XY-1T ISO，2mm - 1um，可追溯，没有样品座，蚀刻线个701-1Pelcotec CDMS-XY-1T ，2mm - 1um，可追溯，没有样品座，蚀刻线个Pelcotec CDMS-XY-1C ISO：每个标样均根据 NIST 标准进行了单独认证，特征尺寸范围为 2.0mm 到 1um，适用于放大倍率在 10x - 20,000x 之间的台式扫描电镜和低到中等放大应用。产品编号描述单位713-1Pelcotec CDMS-XY-1C ISO，2mm - 1um，已认证，没有样品座，蚀刻线个705-1Pelcotec CDMS-XY-1C ，2mm - 1um，已认证，没有样品座，蚀刻线个Pelcotec CDMS-XY-0.1T ISO：特征尺寸范围为 2.0mm 到 100nm，适用于所有扫描电镜和大多数场发射扫描电镜应用，放大倍率可达 10 - 200,000x。 产品编号描述单位710-1Pelcotec CDMS-XY-0.1T ISO，2mm - 100nm，可溯源，没有样品座，蚀刻线个702-1Pelcotec CDMS-XY-0.1T ，2mm - 100nm，可溯源，没有样品座，蚀刻线个 Pelcotec CDMS-XY-0.1C ISO：每个标样均根据 NIST 标准进行了单独认证，特征尺寸范围为 2.0mm 到 100nm，适用于所有扫描电镜和大多数场发射扫描电镜应用，放大倍率可达 10 - 200,000x。 产品编号描述单位714-01Pelcotec CDMS-XY-0.1C ISO，2mm - 100nm，已认证，没有样品座，蚀刻线个706-01Pelcotec CDMS-XY-0.1C ，2mm - 100nm，已认证，没有样品座，蚀刻线个该标样的特征尺寸范围见下表：Pelcotec CDMS-XY-1T ISO 和 -1C ISO 的特征尺寸为： 2mm、1mm、0.5mm、0.25mm 的校准方块是是垂直于 X 轴和 Y 轴的刻度线，间距为 10um、5μm、2μm 和 1μm是是 仅限高分辨率版本 - 垂直于 X 和 Y 轴的附加刻度线以 500、250 和 100 nm 节距标出—是可在晶圆级追溯到 NIST（ISO 17025:2017 认证标准）T 版本T 版本CDMS 标样直接获得 NIST 标准认证（ISO 17025:2017 认证标准）C版本C版本不装在样品台上可用 是是可安装在 SEM样品台上是是精度优于0.3%是是线边缘粗糙度为每 1um 线边缘长度 +/- 0.3nm是是测量报告的不确定性 (k=2)* 为 ±0.012μm是是

游离 RNA（cell-free RNA）是指存在于生物体内的细胞外 RNA 分子，包括 mRNA、miRNA、tRNA 等等。近年来，随着分子生物学技术和液体活检的发展，游离RNA 在疾病诊断、生物标志物研究、个体化治疗等领域的所发挥的作用越来越大。因此，如何在准确、快速地提取游离RNA后进行保存、运输，对于后续研究的准确性和可靠性具有重要意义。那么，好的游离RNA 保存管需要具备哪些特征呢？一、好的游离RNA保存管应该具有高效的RNA保护作用。游离RNA 在生物体内很容易被降解。因此保存管需要能够有效地固定和保护游离RNA，防止其降解和污染。常见的保护剂有聚乙烯醇（PEG）、核酸酶抑制剂等，它们可以结合游离 RNA，形成稳定的复合物，保护 RNA 免受降解。第二、好的游离RNA保存管应该具有良好的兼容性。兼容性是指保存管在与其他试剂或样本混合时，能够保持游离 RNA 的稳定性和完整性。好的游离RNA保存管应该能够与常见的RNA提取试剂盒、RNA酶抑制剂、DNA酶抑制剂等兼容，确保RNA 提取和保存过程的顺利进行。第三、好的游离RNA保存管应该具有易于操作的特点。好的游离RNA保存管应该设计简洁、操作方便，使实验人员能够在短时间内完成RNA的提取和保存。此外，保存管应该具有良好的密封性，防止液体泄漏，导致污染和损失。第四、好的游离RNA保存管应该具有稳定的保存效果。游离 RNA 在常温下容易降解，因此，好的游离 RNA 保存管应该能够在常温下长时间保存游离 RNA，确保其在后续的检测和分析中具有较高的稳定性和活性。 国盛医学所研发生产的游离RNA保存管，不仅能稳定血细胞并防止血液凝固，防止血液中有核细胞中基因组DNA和RNA的释放，还能有效抑制血浆中的核酸酶，防止游离RNA降解。此外，该保存管在常温贮存及转运，储存样本5天以上可稳定血浆中的游离RNA并防止血细胞释放非靶标背景RNA，下游可从全血中分离并纯化RNA进行RT-PCR、转录组分析等分子生物学实验及检测。

符合ISO 17025:2017标准的CDMS产品。NIST标准的可追溯性或单独认证有证书。Pelcotec&trade CDMS-XY ISO标样是一种用于扫描电镜、场发射扫描电镜、离子束雕刻、CD-SEM、激光扫描显微镜和原子力显微镜快速、精确校准的便捷工具。该标样提供了 X 和 Y 两个坐标轴的比例尺线，可在不旋转样品台的情况下轻松进行二维校准。Pelcotec&trade CDMS-XY ISO标样使用最新的半导体和微电子制造技术制成，具有卓越的线缘质量，可提供广泛的测量范围。该标样有两种特征尺寸范围可选，分别是 Pelcotec&trade CDMS-XY-1T ISO和 Pelcotec&trade CDMS-XY-0.1T ISO，每个尺寸范围都提供可追溯和认证标样，总共有四种：Pelcotec&trade CDMS-XY-1T ISO：特征尺寸范围为 2.0mm 到 1um，适用于放大倍率在 10x - 20,000x 之间的台式扫描电镜和低到中等放大应用。产品编号描述单位693-1Pelcotec&trade CDMS-XY-1T ISO，2mm - 1µ m，可追溯，没有样品座个Pelcotec&trade CDMS-XY-1C ISO：每个标样均根据 NIST 标准进行了单独认证，特征尺寸范围为 2.0mm 到 1µ m，适用于放大倍率在 10x - 20,000x 之间的台式扫描电镜和低到中等放大应用。产品编号描述单位697-1Pelcotec&trade CDMS-XY-1C ISO，2mm - 1µ m，已认证，没有样品座个Pelcotec&trade CDMS-XY-0.1T ISO：特征尺寸范围为 2.0mm 到 100nm，适用于所有扫描电镜和大多数场发射扫描电镜应用，放大倍率可达 10 - 200,000x。产品编号描述单位694-1Pelcotec&trade CDMS-XY-0.1T ISO，2mm - 100nm，可溯源，没有样品座个 Pelcotec&trade CDMS-XY-0.1C ISO：每个标样均根据 NIST 标准进行了单独认证，特征尺寸范围为 2.0mm 到 100nm，适用于所有扫描电镜和大多数场发射扫描电镜应用，放大倍率可达 10 - 200,000x。产品编号描述单位698-01Pelcotec&trade CDMS-XY-0.1C ISO，2mm - 100nm，已认证，没有样品座个该标样的特征尺寸范围见下表： Pelcotec&trade CDMS-XY-1T ISO 和 -1C ISO 的特征尺寸为：2mm、1mm、0.5mm、0.1mm、50µ m、10µ m、5µ m、2µ m 和 1µ m。Pelcotec&trade CDMS-XY-0.1T ISO 和 0.1C ISO 的特征尺寸为：2mm、1mm、0.5mm、0.1mm、50µ m、10µ m、5µ m、2µ m 和 1µ m、500nm、250nm 和 100nm。可选的预先安装在样品座上。Pelcotec&trade CDMS-XY-1-ISOPelcotec&trade CDMS-XY-0.1-ISO基底尺寸：2.5×2.5mm&check &check 基底厚度：525±10μm&check &check 唯一序列识别号&check &check 2mm、1mm、0.5mm 的校准方块&check &check 垂直于 X 轴和 Y 轴的刻度线，间距为 10um、5μm、2μm 和 1μm&check &check 仅限高分辨率版本 - 垂直于 X 和 Y 轴的附加刻度线以 500、250 和 100 nm 节距标出—&check 特征材料：50nm Cr (2mm - 5µ m)&check &check 特征材料：20nm Cr/50nm Au（2μm 和 1μm）&check &check 特征材料：20nm Cr/50nm Au（500、250 和 100nm）—&check 可在晶圆级追溯到 NIST（ISO 17025:2017 认证标准）T 版本T 版本CDMS 标样直接获得 NIST 标准认证（ISO 17025:2017 认证标准）C版本C版本不含样品座&check &check 可安装于SEM样品台&check &check 精度优于0.3%&check &check

场发射电子源921 5736 ，这个型号的场发射灯丝，适用于原厂H机型。场发射扫描电子显微镜其实它是电子显微镜的一种，扫描电镜是介于透射电镜和光学显微镜之间的一种微观形貌观察手段，可直接利用样品表面材料的物质性能进行微观成像。广泛用于生物学、医学、金属材料、高分子材料、化工原料、地质矿物、商品检验、产品生产质量控制、宝石鉴定、考古和文物鉴定及公安刑侦物证分析。可以观察和检测非均相有机材料、无机材料及在上述微米、纳米级样品的表面特征。优点：1、有较高的放大倍数，20-30万倍之间连续可调；2、有很大的景深，视野大，成像富有立体感，可直接观察各种试样凹凸不平表面的细微结构；3、试样制备简单，目前的扫描电镜都配有X射线能谱仪（EDS）装置，这样可以同时进行显微组织形貌的观察和微区成分分析。大束科技是一家以自主技术驱动的电子显微镜系列核心配件研发制造的供应商和技术服务商。目前公司主要生产电子显微镜的核心配件离子源、电子源以及配套耗材抑制极、拔出极、光阑等销往国内外市场，此外，还为用户提供定制化电子显微镜以及电子枪系统等的维修服务，以及其他技术服务和产品升级等一站式、全方位的支持。在场发射电子源（电子显微镜灯丝）、离子源以及电镜上的高低压电源、电镜控制系统研发制造等领域等均具有优势。

场发射电子源9213915/9217251，这两个灯丝的外形一样，适用的扫描电镜型号不同，需要了解扫描电镜的具体型号。场发射扫描电子显微镜其实它是电子显微镜的一种，扫描电镜是介于透射电镜和光学显微镜之间的一种微观形貌观察手段，可直接利用样品表面材料的物质性能进行微观成像。广泛用于生物学、医学、金属材料、高分子材料、化工原料、地质矿物、商品检验、产品生产质量控制、宝石鉴定、考古和文物鉴定及公安刑侦物证分析。可以观察和检测非均相有机材料、无机材料及在上述微米、纳米级样品的表面特征。优点：1、有较高的放大倍数，20-30万倍之间连续可调；2、有很大的景深，视野大，成像富有立体感，可直接观察各种试样凹凸不平表面的细微结构；3、试样制备简单，目前的扫描电镜都配有X射线能谱仪（EDS）装置，这样可以同时进行显微组织形貌的观察和微区成分分析。大束科技是一家以自主技术驱动的电子显微镜系列核心配件研发制造的供应商和技术服务商。目前公司主要生产电子显微镜的核心配件离子源、电子源以及配套耗材抑制极、拔出极、光阑等销往国内外市场，此外，还为用户提供定制化电子显微镜以及电子枪系统等的维修服务，以及其他技术服务和产品升级等一站式、全方位的支持。在场发射电子源（电子显微镜灯丝）、离子源以及电镜上的高低压电源、电镜控制系统研发制造等领域等均具有优势。

泰州石墨烯研究检测平台是泰州市政府与泰州巨纳新能源有限公司共同成立的国内 石墨烯性能测试与结构表征的综合性研究及检测机构。平台目前建有近千平方米的检测洁净室，拥有高分辨拉曼光谱仪、原子力显微镜、三维共聚焦显微镜、电子束曝光系统、近场光学显微镜等国际先进的新材料性能检测及结构表征设备。平台致力于在石墨烯等高新碳材料以及新型低维材料（如各类二维材料、量子点）等领域提供全面专业的检测及表征服务。泰州石墨烯研究检测平台相关检测服务：微区形貌表征：表面洁净度、平整性、层数或厚度判定、均匀性分析等原子结构表征：原子缺陷、层间堆垛方式、电子能带结构等光学性能表征：紫外到红外波段透射、反射、吸收性能等成分检测及分析：元素含量与比率、官能团分析等电学、力学、热学、电化学性能表征等各种定制研究检测服务（如二维材料的光电响应测试）等 检测项目检测内容描述二维材料光电响应测试二维材料的光电响应测试定制化分析实验方案协助制定、数据分析整体解决方案原子力显微镜（AFM）检测石墨烯层数/厚度，尺寸，AFM图像光学显微分析石墨烯层数/厚度，尺寸，对比度分析，光学显微图片荧光显微分析发光样品显微图片3D显微分析石墨烯均匀性，表面起伏度，表面残余物检测拉曼（Raman）光谱分析（单谱） 石墨烯洁净度，层数，掺杂浓度，缺陷含量等拉曼（Raman）光谱分析 （单谱+成像）石墨烯洁净度，层数，掺杂浓度，缺陷含量等扫描电子显微镜（SEM）检测样品微观形貌（分辨率10nm）超高分辨场发射扫描电镜检测获取显微形貌、元素组成及分布信息生物型透射电镜获取显微形貌，适合对分辨率不高但是衬度要求高的高分子、生物型样品透射电子显微镜（TEM）检测获取显微形貌截面离子束抛光用离子束抛光，去除表面应力层，适合复杂样品的EBSD的采集，以及截面样品的SEM观察离子束平面研磨高分辨透射电子显微镜（TEM）检测样品高分辨形貌（分辨率1nm）,衍射图（结晶度，晶格取向等）低真空场超高分辨场发射扫描电镜检测获取显微形貌、元素组成及分布信息 变温光学显微镜获取样品的显微形貌，具有明场、暗场、偏光、微分干涉等模式电子背散射衍射—STEM检测获取微观取向信息，可用于晶粒度、晶界、织构、应力等分析X射线光电子能谱（XPS）表面元素含量及化学价态(氧含量分析，成键态),结晶性能等紫外可见吸收光谱分析200-3300nm薄膜、溶液的透射率，吸收率等红外光谱分析（FTIR）红外波段透射（350-7800cm-1），有机物官能团分析等X射线荧光光谱分析元素的定量和半定量分析直读光谱分析获取样品的成分灰分测试获取样品的灰分能谱仪分析获取样品的元素成分和分布，微区域元素的定性和半定量分析等离子体发射光谱元素分析分析样品中无机元素的准确成分及定量辉光放电质谱分析H以外的所有元素，包括常用分析方法难以测定的C，N，O，P，S等轻元素超低检测限，大多数元素的检测限为0.1～0.001ug/G碳硫元素分析C 和 S 的比例元素分析C H O N S 的比例元素分析同位素质谱元素分析：C、N、S 百分含量 同位素质谱：13C、15N含量离子色谱-阴离子阴离子含量分析电感耦合等离子体质谱痕迹量元素测定电子探针 元素定性分析、定量分析X射线衍射分析结晶度、晶粒大小、层间距等显微红外分析微区样品红外光谱采集液相色谱分析样品有机物质的含量圆二色光谱分析液相色谱质谱联用分析 样品有机物质的含量及具体成分气相色谱易挥发的有机物质的含量气相色谱-质谱联用易挥发的有机物质的具体成分核磁共振分析氢谱、碳谱石墨烯薄膜热传导性能测试石墨烯热导率热重分析测试材料的质量随温度的变化，可用于分析构成的比例热差分析测定样品在程序控制温度下产生的热效应，可分析融点、成分构成、热性能、相转变、结晶动力学等信息同步热分析测量样品的热流、转变温度和重量变化三种信息力学性能测试 （氧化石墨烯纸/薄膜等）拉伸应力、拉伸强度、扯断强度、剪切剥离力、杨氏模量等电阻测试（薄膜样品）薄膜面电阻等比表面积测试(BET)测试样品比表面积椭圆偏振分析平板材料或者薄膜的折射率、反射率、膜厚、吸收系数测定电学性能测试（Transport）迁移率，掺杂浓度等纳米粒度分析纳米粒径的分布微米粒度分析微米粒度的分布PH值测试测量PH值

优中心样品杯 六马达轴轻松、安全地实现优中心运动 优中心倾斜和优中心旋转倾斜角度最大可达90° 装样及成像时间1分钟一体化的安全防撞结构实时、可视的样品3D模型安全可靠、经济实惠 可视化的3D模型能够实时观察样品及其位置。倾斜样品在飞纳XL电镜中的操作界面视图。所有保存图片的元数据包含相关倾斜和旋转角度。在许多电镜应用中，如果样品可以倾斜、旋转，用户就可以得到更丰富的形貌特征。飞纳XL电镜的优中心样品杯就是基于这一目的来研发的，样品杯包含了一个子样品台，使用户可以轻松、安全地从各个角度观察样品。样品可以根据需要被升降，倾斜，旋转和平移，同时又不会丢失细节视野。

AFM配件，原子力探针，AFM探针，原子力探针针尖，显微镜探针针尖，原子力针尖，原子力显微镜探针针尖，接触探针，纳米压痕探针，氮化硅探针，硅探针，热探针，超尖探针，电子探针，显微镜针尖，原子力显微镜针尖，轻巧模式探针，AFM针尖，接触式探针，磁性探针，导电探针，显微镜探针，探针，布鲁克探针，原子力探针，BRUKER PROBE，AFM PROBE，BRUKER探针，原子力显微镜探针，AFM探针，VEECO探针作为一家能够提供AFM/SPM仪器和AFM/SPM探针的企业，布鲁克公司深刻理解每个单独的组件对于一整套性能AFM系统的价值。布鲁克公司以的生产工艺，专业的AFM领域背景，得天独厚的生产装备，赋予探针制造众多的优势，确保在应用领域中提供完整的AFM解决方案。布鲁克AFM探针制造优势：*Class100级别的无尘室*的设计、制造工序及制造工具*探针设计团队与AFM设备研发团队通力合作，配合紧密*训练有素的生产团队，制造出各种型号的探针*的质量管理体系，确保探针性能行业在实验中，用户所得到的数据取决于探针的质量及探针的重复性。布鲁克的探针具有严格的纳米加工控制，的质量测试，和AFM领域的专业背景。所以用户尽可放心，我们的探针不仅为您当前的应用提供所需的结果，同时也能为将来的研究提供参考数据。

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安捷伦早期脱活分流衬管安捷伦的单锥形分流衬管按照严格的尺寸指标制造，以优化进样口性能，特征是具有最严格的外径、内径、锥形和玻璃毛放置位置的允许误差。为了使用方便和提高重现性，某些衬管有一个定位收口，以限定玻璃毛的位置, 特点是始终能够自定位到推荐的高度。衬管还采用了安捷伦早期的专利脱活技术。

2.5X Nikon CF IC Epi Plan TI Interferometry Objective2.5倍 尼康白光干涉镜头类型 Michelson放大率 2.5X数字孔径 NA 0.075工作距离 (mm) 10.3焦距 FL (mm) 80.0分辨能力 (μm) 3.7焦深(μm) 48.6视场，25直径视场目镜 (mm) 10视场，20直径视场目镜 (mm) 8视场, 2/3" 传感器 3.52 x 2.64mm视场, 1/2" 传感器 2.56 x 1.92mm支架 C-Mount安装螺纹 M27 x 0.75重量 (g) 440生产商 NikonRoHS 豁免 用于三维表面形貌仪，表面轮廓仪，白光干涉显微镜等测量设备的镜头。适用型号：MicroXAM系列，Newview7000系列，Newview8000系列，Wyko各型号，Contour Elite系列，ContourGT系列，Talysurf系列，SMARTWLI系列等几乎所有的白光干涉原理非接触式表面三维形貌测量仪。如果您购买设备后，发现市场不够大，或者发现放大倍数不够用，都可以联系我们，以远低于厂商售价的优惠价格拿到此类镜头产品。根据不完全统计，市场上在售的白光干涉型非接触形貌/轮廓测量设备，90%使用的是nikon原装干涉物镜。全球市场的几大重要厂家K公司，B公司，Z公司都是采用Nikon镜头。价格随时有波动，欢迎来电咨询。

50X Nikon CF IC Epi Plan DI Interferometry Objective50倍 尼康干涉物镜镜头类型 Mirau放大率 50X数字孔径 NA 0.55工作距离 (mm) 3.4焦距 FL (mm) 4.0分辨能力 (μm) 0.5焦深(μm) 0.9视场，25直径视场目镜 (mm) 0.5视场，20直径视场目镜 (mm) 0.22视场, 2/3" 传感器 0.18 x 0.13mm视场, 1/2" 传感器 0.13 x 0.10mm支架 C-Mount安装螺纹 RMS重量 (g) 150生产商 NikonRoHS 豁免用于三维表面形貌仪，表面轮廓仪，白光干涉显微镜等测量设备的镜头。适用型号：MicroXAM系列，Newview7000系列，Newview8000系列，Wyko各型号，Contour Elite系列，ContourGT系列，Talysurf系列，SMARTWLI系列等几乎所有的白光干涉原理非接触式表面三维形貌测量仪。如果您购买设备后，发现市场不够大，或者发现放大倍数不够用，都可以联系我们，以远低于厂商售价的优惠价格拿到此类镜头产品。根据不完全统计，市场上在售的白光干涉型非接触形貌/轮廓测量设备，90%使用的是nikon原装干涉物镜。全球市场的几大重要厂家K公司，B公司，Z公司都是采用Nikon镜头。价格会有所波动，欢迎来电咨询。

控温样品杯应用低真空技术，在控温的同时将样品周围相对湿度控制在高水平，显著降低样品中水分的蒸发、升华，延长敏感样品的观测窗口时间。控温样品杯可以对样品进行冷冻或加热，改变样品周围湿度、气压。同时利用低真空技术，减小电子束轰击造成的荷电效应和样品损伤。优点：阻止样品中水分的丧失，避免因脱水而造成的样品形变；保持样品原始形貌 ； 可以长时间观测生物、有机样品 ；降低电子束损伤。样品尺寸：直径25mm；高5mm控温范围：- 25℃ ～ + 50℃　降温速率：20℃/min

三维表面轮廓仪配件是德国进口的高精度多功能表面轮廓测量仪器，也是一款光学轮廓仪,非常适合对表面几何形状和表面纹理分析。 三维表面轮廓仪配件根据国际标准计算2D和3D参数，使用最新的ISO 25178 标准表面纹理分析，依靠最新的 ISO 16610 滤除技术进行计算，从而保证了国际公信力，以标准方案或定制性方案对2D轮廓或三维轮廓表面形貌和表面纹理，微米和纳米形状，圆盘，圆度，球度，台阶高度，距离，面积，角度和体积进行多范围测量，创造性地采用接触式和非接触式测量合并技术，一套表面轮廓仪可同时具有接触式和非接触式测量的选择。 三维轮廓仪配件参数： 定位台行程范围：X: 200 mm Y: 200 mm Z: 200 mm (电动) 接触式测量范围： 范围0.1mm, 分辨率2nm, 速度 3mm/s 范围：2.5mm 分辨率40nm, 速度3mm/s 非接触式测量范围： 范围：300um, 分辨率2nm, 速度30mm/s 范围：480um, 分辨率2nm, 速度30mm/s 范围：1mm, 分辨率5nm, 速度30mm/s 范围：3.9mm , 分辨率15nm, 速度30mm/s 表面轮廓仪配件应用：测量轮廓，台阶高度，表面形貌，距离，面积，体积分析形态，粗糙度，波纹度，平整度，颗粒度 摩擦学研究，光谱分析磨料磨具，航天，汽车，化妆品，能源，医疗，微机电系统，冶金，造纸和塑料等领域。

多功能翘曲度测量仪配件是孚光精仪公司进口的全球领先的翘曲度检测仪器，一套翘曲度测试仪器可以测量：热沉,晶圆(wafer),太阳能电池和硅片翘曲度,应力以及表面形貌。多功能翘曲度测量仪配件是特别为半导体晶圆（wafer)和太阳能电池（solar cell)的翘曲度（warp) 和弯曲度(bow)以及表面形貌(topography)的测量而设计，可以测量晶圆翘曲度（wafer warpage) 和晶圆表面形貌, 晶圆应力,硅片张力,太阳能电池量子效率，既适合科研单位使用，也适合工业客户大产品、高效率的晶圆翘曲度和表面形貌的检测的需要。 我们还根据不同晶圆类型提供如下两种硅片翘曲度测量仪： 1. 非反射型：适合晶圆表面覆盖晶圆保护膜/胶带（wafer tape)，图案化晶圆 /图样化晶圆（patterned wafer)，粗糙的晶圆的应用； 2. 高反射型： 适合晶圆表面光滑 / 镜反射的应用。 多功能翘曲度测量仪配件特点： × 适合不同尺寸的晶圆检测，从0.5’‘到12' ' 的直径； * 标准检测能力为： 每小时可检测2000个晶圆或更多太阳能电池； × 同时测量多个晶圆或太阳能电池； × 测量镀膜后的晶圆或solar cell * 分析太阳能电池或晶圆应力和张力； * 对晶圆表面进行图像分析； * 测量图案化晶圆或非图案化的晶圆； * 具有太阳能电池的量子效率测量选项供选择 多功能翘曲度测量仪配件参数： × 翘曲度测量范围：1-20微米； * 重复精度： 百分之0.5 （1 sigma) * 给出结果：曲率半径,晶圆弯曲高度，翘曲度，测量日期和时间； * RMS粗糙度mapping: 0.5-20A （可选项）； * 光源：根据用户的应用而配备不同光源； * 探测器：高分辨率探测器阵列并配备亚像素软件；

10X Nikon CF IC Epi Plan DI Interferometry Objective10倍 尼康干涉镜头 CF IC Epi Plan类型 Mirau放大率 10X数字孔径 NA 0.30工作距离 (mm) 7.4焦距 FL (mm) 20.0分辨能力 (μm) 0.92焦深(μm) 3.04视场，25直径视场目镜 (mm) 2.5视场，20直径视场目镜 (mm) 2视场, 2/3" 传感器 0.88 x 0.66mm视场, 1/2" 传感器 0.64 x 0.48mm支架 C-Mount安装螺纹 RMS重量 (g) 125生产商 NikonRoHS 符合标准用于三维表面形貌仪，表面轮廓仪，白光干涉显微镜等测量设备的镜头。适用型号：MicroXAM系列，Newview7000系列，Newview8000系列，Wyko各型号，Contour Elite系列，ContourGT系列，Talysurf系列，SMARTWLI系列等几乎所有的白光干涉原理非接触式表面三维形貌测量仪。如果您购买设备后，发现市场不够大，或者发现放大倍数不够用，都可以联系我们，以远低于厂商售价的优惠价格拿到此类镜头产品。根据不完全统计，市场上在售的白光干涉型非接触形貌/轮廓测量设备，90%使用的是nikon原装干涉物镜。全球市场的几大重要厂家K公司，B公司，Z公司都是采用Nikon镜头。欢迎来电咨询。

安捷伦早期脱活分流衬管安捷伦的单锥形分流衬管按照严格的尺寸指标制造，以优化进样口性能，特征是具有最严格的外径、内径、锥形和玻璃毛放置位置的允许误差。为了使用方便和提高重现性，某些衬管有一个定位收口，以限定玻璃毛的位置, 特点是始终能够自定位到推荐的高度。衬管还采用了安捷伦早期的专利脱活技术。

安捷伦早期脱活分流衬管安捷伦的单锥形分流衬管按照严格的尺寸指标制造，以优化进样口性能，特征是具有最严格的外径、内径、锥形和玻璃毛放置位置的允许误差。为了使用方便和提高重现性，某些衬管有一个定位收口，以限定玻璃毛的位置, 特点是始终能够自定位到推荐的高度。衬管还采用了安捷伦早期的专利脱活技术。

毛细管柱 HP-INNOWaxAgilent J&W HP-INNOWax 柱以聚乙二醇 (PEG) 为固定相，其特征是具有强极性和高的使用温度上限。与 USP 固定相 G16 基本相近，也以食品、风味剂和香料为应用对象。

透射电镜底片显影装置主要用于TEM底片冲洗，随时观察每一张冲洗效果。批量冲洗底片互不粘连。形貌像和电子衍射像可以同时显影

枝状结构的各种空隙可用于间距的测试，而其表面形貌则可应用在灰度水平测试。标样不具磁性、在真空及电子束作用下稳定，勿需表面镀膜。最适宜在探针大小为25－75nm时使用。

枝状结构的各种空隙可用于间距的测试，而其表面形貌则可应用在灰度水平测试。标样不具磁性、在真空及电子束作用下稳定，勿需表面镀膜。最适宜在探针大小为25－75nm时使用。