形成过程

Prima BT过程开发质谱仪a）工作原理：Prima BT是Prima PRO的小型化，其在基本原理和内部构造上基本与Prima PRO完全一致，是Prima PRO在小型试验装置或实验室开发过程应用的缩小版。它的分析性能指标几乎与Prima PRO完全一致，既可以作为实验室质谱仪使用，也可以作为小型在线分析仪使用。Prima BT过程开发质谱仪是非常强大的连续分析仪器，能够快速、准确灵活的分析多个流路、多个组分的气体。它采用磁扇扫描原理实现对多种气体浓度的检测，工作原理如下图： 质谱分析仪工作原理图 由RMS多流路快速进样系统导入气体分子样品；经过离子源将该样品转为离子态片段或气体离子，然后按照样品离子的质荷比不同，对经过磁扇区进行分离，分离过程遵循如下基本物理公式： ，其中：r为离子运动的轨道半径，M是粒子的质量，V是加速电压（1KV），β是磁场强度，e是离子的电子电荷。只有在一定的V及β的条件下，具有特定质荷比M/e的正离力才能通过运动半径为r的轨道进入检测器。当V，r固定，M/e与β2成正比，连续改变扫描磁场强度,就可使具有不同的M/e离子顺序到达离子检测器。 被选定的离子进入检测器后形成微弱的电流信号，检测器的输出信号经过板载微处理器转换，最终输出的信号表征样气中各个组分的浓度。在整个分析过程中，质谱仪工作在真空状态。该真空系统，由两部分组成：由选装机械泵提供的初级真空和由涡轮分子泵提供的高度真空。 b）产品用途：在线质谱仪可从容应对石油化工应用的众多挑战，其中包括：l 发酵研发 l 生物燃料研发 l 催化剂研发 l 热分析 l 人类热量研究 l 实验装置气体分析 l 析出气体分析 c) 特点：l 最好的在线测量精度 l 最号的测量稳定性 l 界面有好的软件能够灵活设定分析方法 l 容错设计能够确保达到99.9%的运行时间 l 延长的预防性维护时间间隔 l 高度简单化的维护步骤l 出色的“分析仪到分析仪”重复性d）技术指标：离子源 封闭式电子轰击源，双灯丝，带精密温度控制（120-200℃±0.1℃） 质量分析器 层叠式扫描电磁铁，150px半径，80°偏转 质量范围 1-150 amu 在1000 eV 离子能 (1-200 amu 在750 ev 离子能) 分辨率在两个分辨狭缝之间切换，分辨率60/20（标准）；可选140/85, 100/45 重量刻度稳定性 0.013 amu 在 28 amu 超过 24 hours 峰形 在分辨率60时，顶部宽度为底部宽度的一半 丰度灵敏度 250 ppm 以27/28为准检测器 法拉第检测器或法拉第和SEM双检测器（可选） 进样口16个，15个用于分析，另外1用于与标定口连接标定口6个，1/4”卡套进样类型 毛细管，带分子渗漏和旁路（标准） 真空系统 涡轮分子泵和旋转泵；可替换为涡轮分子泵和内部膜片泵 进样流量 数字测量和记录每一流路流量 精度 0.1% 相对 (典型, 依据应用) 线性 1%，样气浓度变化超过10倍 (典型, 依据应用) 动态范围 10 ppb – 100% (理论l, 依据应用，使用外部旋转泵）稳定性 1% 相对，超过1 周 (典型, 依据应用) 控制器内置工业CPU，独立的操作系统，不依赖外部电脑独立工作。与外部控制软件GasWork的通讯功能。电源230 VAC (± 10VAC)，50Hz通讯MODBUS RTU，以太网，OPC.安装方式桌面放置

产品亮点：伏安法(VA)和循环伏安溶出法分析(CVS)在工厂日常分析规程中起着重要的作用。2060 VA/CVS过程分析仪与瑞士万通884 专业伏安极谱仪理想集成，性能可靠。该过程分析仪安装在坚固的外壳中，确保所有组件都适合最苛刻的生产环境。此外，直观的设计易于操作和定制化。2060 VA过程分析仪是通过伏安法进行典型的痕量分析，2060 CVS过程分析仪专用于电镀槽液有机添加剂的定量分析。强大的专用viva软件结合多思单元，泵和液位传感技术定制化液体处理技术多达10个样品流路可扩展到在线VA/CVS分析自动预处理样品，包括pH值调整，消解和稀释灵活整合各种分析技术(如伏安法与光度法)在一个统一平台耐蚀组件和坚固机箱确保无污染痕量分析产品优势：Metrohm瑞士万通——-自动伏安分析法先驱伏安法是一种电化学方法，可以精确测定痕量和超痕量重金属和其它电化学活性物质的浓度。它通过改变电极电位，测量和分析由相关电化学反应中的电子转移产生的电流经过一个多世纪的研究和优化，结合各种电极，如瑞士万通的多模电极pro (MME)，2060 伏安极谱过程分析仪成为2060分析平台的组合，专门用于伏安分析。在线CVS分析电镀槽液铜的电沉积，在PCB生产是基本工艺，要求对槽液有机添加剂浓度精准的监测，以保持最佳的电镀条件循环伏安溶出(CVS)技术在电镀工业中广泛应用于有机添加剂的测定，如抑制剂、整平剂和光亮剂。2060 CVS过程分析仪提供实时监控，能够连续快速观察浴槽和检测参数变化。通过集成实时分析监控技术，过程分析仪可以连续观察电镀槽，保持主动干预和稳定的产品质量。2060平台提高自动化为了减少人工劳动，提高结果的准确性和重复性，您可以在2060 VA过程分析仪和2060 CVS过程分析仪中添加加液单元、泵和液位传感器。例如，集成蠕动泵自动冲洗功能的模块采样系统，实现样品预处理。此外，组合样品消解器(热消解或紫外消解)，可去掉如样品中有机物或不需要的电活性物质，完成复杂样品中痕量金属的分析。IMPACT 软件2060 VA/CVS 过程分析仪预装特有的在线过程控制伏安法分析软件。它旨在为工业应用高效编程和控制分析仪：过程分析仪执行程序以清晰的时间线图形显示可编程实现对分析仪当前运行状态的监控和警报满足各种过程通信协议（例如，Modbus 或离散 I/O）进行数据通信后台viva 软件控制分析数据简洁明了

Thermo Scientific Prima BT致力于实验室过程实验装置或小型过程的在线监测，能够对浓度在20ppm-100%范围内的气体进行精确测量。同时，可选的微通道板倍增检测器可用于检测低于ppm级的气体浓度。Prima PRO 是一款专门用于在线分析的质谱仪，几乎可以配置在任何种类的工业环境中，并都能可靠的运行。Prima BT使用了与Prima PRO完全一样的质谱分析技术，但是它被定义应用于小型工业环境和一般环境（环境温度得到控制），并且能够提供最好的分析性能。如果您为大型的工业在线检测寻求分析仪，Prima PRO能够提供最好的应用测量品质。相对而言，如果您需要分析最多不超过15个监测点，且需要同样的性能，但是应用于您的过程开发实验室或是一般环境下的小型工业装置检测，Prima BT同样能够提供完美的分析方案。工作原理磁扇质谱仪是根据离子化的样品分子（离子）和磁场之间的相互作用，实现了对组成样品的各个独立质量组份的分离和测量。在离子化腔，离子由一束具有一定能量的电子与中性气态样气分子相互作用而形成。新生成的离子立即被电场加速，使其向着垂直于磁场方向运动。每一个带电粒子在磁场内受到一个横向力，该力的大小正比于磁场的强度、粒子的速度和它所携带的电荷大小。根据磁场强度预设值来确定选择需要分析的离子，每一个适合的离子被依次选中后通过前方的接收狭峰到达检测器。在这里，检测器测量到的信号正比于被选中的样气分子的浓度。通过测量这些预先定了的离子数量，一个完整组份分析得以呈现。样品导入Prima BT采用著名的快速多流路进样器（RMS）将样气导入分析仪。这种高可靠性的设备能够实现样气流路的切换同时不影响分析仪内部样气的品质。RMS具有长期的优良使用记录，其坚如磐石的可靠性，每年执行多达六百万次的流路切换，而只需很少甚至根本不需要维护的能力已经被实践检验过。它确保Prima BT能够监测多达15个流路。步进电机驱动的快速多流路进样器在一定的时间依次切换至每个流路，将样品导入质谱仪并且记录每一个流路的流量。该快速多流路进样器能够被加热到80℃，它能够确保对诸如甲醇、乙醇和氨等极性分子的快速响应。注意：由于RMS不是旋转阀，而是一个样品连续流动的进样选择器，因此，我们必须为标气设置控制阀，它们位于快速多流路进样器的下方。Prima BT的进样流量通常为大气压下0.1-1升/分钟， 标准的流量为0.2升/分钟，该流量值可以通过转子流量计来调节。所需要的样品压力与排放总管有关，该压力应能确保一定流量的样气通过快速多流路进样器（RMS）,并克服 RMS 管路内径和长度相关的管道压降，通常该值小于100毫巴(1.5psi)。当样品进样量为0.1升/分钟时，RMS压降为1.5毫巴(0.2psi)。RMS管道产生的压降可以用下面的公式表示：C = 0.006D4P/L， 这里 C是样品的流速，单位升/分钟；D是样品管道的内径 单位毫米；P是样品管道内的压降，单位毫巴；L是样品管道的长度，单位米； 例如： D = 3 毫米 L = 10 米,当流量为0.2 升/分钟,差压 P 为4 毫巴。 分析仪控制架构分析仪的控制架构由高度集成的电路板与内部链接网线组成。基于RS-485通讯标准，它提供了安全、准确的控制和分析仪所有功能的监测，并且允许不需要切断整个分析仪的电源，就可以更换单独的系统模块。VGiNet是Prima PRO内部的网络通讯协议，它具备分布式控制引擎的协助能力。该内部协议增强了内外部通讯的速度和安全性。最先进的即插即用的电子部件、卓越的分析功能和工业级标准的通讯工具的集合，提供了灵活的平台，能够适用于非常宽泛的气体分析应用。计算机控制作为控制电路核心的是基于Freescale的控制器，它通过快速逻辑运行工业级实时操作系统（RTOS）。拥有超过十亿的应用，RTOS被证明是最可靠的。该控制器是赛默飞世尔科技设计的，拥有数以万计的使用量和牢靠的可靠性记录。处理器的母板是专为Prima BT而特殊设计的，它提供了一系列灵活的通讯选项。三个串口中的一个被保留与远程安装有GasWorks的PC进行通讯，该PC用于分析仪组态和数据显示（当需要时）。处理器的独立设计确保了当PC被锁定或崩溃时不会对分析仪的性能产生冲击，该分析仪的数据通过其他两个串口直接传输至LIMS，DCS，SCAD， PLC总线或上位主机。这些接口可以单独按照各种通讯协议配置。这些协议包括标准的配置Modbus和OPC。该模板同时提供15针的插头，用于连接一定数量的数字输入和输出信号，该信号可根据多种不同应用被组态。历史数据存贮分析仪本地的历史数据存贮器首先用于记录分析仪整个生命周期内的诊断信息。这里被采集的数据被设计成用以提供系统全面的健康状况。它为维护工程师提供了识别导致故障发生根本原因的最大可能性。如果需要，该存储器也可以用于分析数据的存储。系统维护标准的服务组件。这是一个可选项。一旦客户购买，可以随Prima BT一起运输。该组件包括了完成固定维护的所有的部件和工具。该组件能够最大限度方便客户，简化维护步骤。例如：客户如今仅需简单的更换整个离子源，而不是更换灯丝或是清洗离子源,经过测试的部件完全可以替代。对于真空计也是一样，不需要拆解清洗真空计，使用服务组件中的备件方便的替换该真空计。一旦服务结束，简单的将替换下来的部件寄给最近的服务中心做清洗。由于精心设计，“百宝箱”将服务间隔扩展至3年。仅有的必要性预防维护是对处于机箱外部的二级真空泵的固定维护。该维护间隔与具体的应用有关，而维护步骤仅需要花费很少的几分钟。世界级的服务与支持我们提供的服务和支持确保了仪表运行的优化，并能减小其停运的时间。由于每个客户和每个仪表的需求不同，我们将根据他们独特的需求提供与之一致的服务服务合同备件技术支持现场安装与服务产品培训技术规格表离子源封闭型，电子轰击式，双灯丝，温度控制（可在120-200。C范围内设定，精度为±0.1。C）。分析原理层叠式扫描磁扇，半径6cm，80度偏转角。质量范围可调整。离子加速电压为1000V时，质量范围1-150amu（标准）；离子加速电压为750V时，质量范围1-200amu。分辨率可通过两个收集解析狭缝进行切换，标准配置为60/20，1mm狭缝为60，4mm狭缝为20；也可以选择其他组合，140/81(0.36mm/0.69mm),100/45(0.56mm/1.45mm),140/45(0.36mm/1.45mm)。质量稳定性质量数为28时，0.013amu，24小时测量。峰形平顶峰，分辨率为60时，峰顶（99%峰高处的宽度）与峰底（5%峰高处的宽度）的比值为0.5。丰度灵敏度250ppm, 27/28检测器法拉第检测器。可选法拉第检测器/微通道板倍增检测器进样类型带分子渗漏和旁路（标准配置)的毛细管真空系统涡轮分子泵和外部旋转机械泵，可选涡轮分子泵和内部膜片泵样品流速对每个流路进行数字测量并记录精度0.1%，相对精度（典型值，根据实际应用）线性度1%相对精度，浓度变化超过10%动态范围10 ppb–100%（理论值，根据实际应用）稳定性1%相对值，超过一周，（典型值，根据实际应用）

范围广泛的在线、非接触式厚度测量和镀层重量测量方法，适用于钢铁,铝业等行业的板带测量应用中。我们的分析技术能提供坚实、精确和可重复的测量，有助于您延长设备的正常运行时间，提高产品质量以及改善产品质量并将原材料损耗减小到最低。产品范围：镀层/涂层测厚仪金属在线测厚仪非金属在线测厚仪在线测厚仪X射线荧光测厚仪其它工业过程控制了解详情：赛默飞世尔科技过程仪表原料与材料的展台，展位号：SH100930。或使用简易域名登陆：http://mm.instrument.com.cn。

产品主要包括：污染源烟气连续自动监测（CEMS）气体颗粒物连续监测仪及采样器（PM2.5/PM10/PM1/TSP)室内气体颗粒物监测和工地扬尘监测泄露检测与修复（LDAR）各类气体分析仪及环境空气质量监测系统过程仪器仪表更多信息：请访问赛默飞世尔科技环境与过程仪器的展台，展位号：SH102130。或直接点击地址登陆：http://www.instrument.com.cn/netshow/SH102130。

瑞士万通2060 XRF过程分析仪可信赖的X射线荧光过程分析仪产品亮点瑞士万通过程分析2060 XRF过程分析仪在能量色散X射线荧光家族中独树一帜。其设计着重于质量和过程控制并考虑到多个采样点和用户友好操作。多达10个在线XRF分析采样点快速分析- 60秒可获得分析结果无损分析从镁到铀（z=12至92）之间的液体样品可集成多种分析技术（XRF与滴定、光度法）在一个分析平台产品优势简单、无损XRF分析仪X射线荧光（X-ray fluorescence）是一种非破坏性，可应用于各种样品元素的定性和定量分析方法。XRF是如何工作的呢? 当样品在高能X射线照射时，会导致原子内层电子跃迁并产生暂时的空位，同时处于不稳定态的原子捕获外层电子迅速填充这些空位。在此过程中，由跃迁释放的能量以荧光X射线的形式放出，荧光 X 射线能量特征则与样品中存在的每个元素相关，2060 XRF 过程分析仪可通过捕获这些被释放的X射线，确定样品中特定感兴趣元素的浓度。2060 XRF 过程分析仪的设计易于使用,即使是技术新人也能操作自如并获取可靠结果。使用我们的XRF分析仪,您可以在无损样品的情况下获得样品准确的成分数据。一机实现理想分析2060 XRF Process Analyzer集成了高分辨率硅漂移探测器（SDD）和Axon&trade 技术。凭借其特殊的超低电子噪声，提升了每秒X射线计数（cps），从而带来更快、更精确的结果。多路同时分析，加快投资回报另一个显著优点是它能够使用单一仪器对多个样品进行并行分析。在电镀行业，2060 XRF 过程分析仪可以同时分析不同电镀槽液中的多个组件，削减分析耗时，提高生产力。简化的工作流程为公司带来更快的结果和更快的投资回报率。不错过任何变化——全天候操作在工厂，过程分析仪在全面监测和控制方面发挥着关键作用,它能有效地降低未察觉问题发生的风险。用手动方法监测异常值（例如,通过实验室XRF分析仪），由于环境变化影响样品特性或样品分析延迟等因素会面临挑战性。不过，随着2060 XRF 过程分析仪等在线分析仪的投入使用，在生产过程中能实时连续采集数据，监测生产过程状况准确又即时。这种持续监测不仅消除了样品因环境因素而被改变的可能性，而且能够对过程参数的任何偏离快速检测和即时响应。因此，在线过程分析仪是保持生产效率和减少过程控制中出现错误或疏忽风险的不可或缺的工具。

双碳背景下的过程分析技术，助力钢铁厂安全运用及效率提升。

2060 过程分析仪可定制化地实现多参数、多流路工业过程的在线监控。2060 过程分析仪是瑞士万通过程分析仪产品系列当中的全能型产品。基于多种技术手段，2060 过程分析仪可实现工业过程和废水当中关键化学参数的全天候在线监控.主要特点模块化灵活性，最多可容纳四个机柜实施多种分析技术以涵盖绝大部分应用IP66 / NEMA 4外壳，适用于恶劣环境可视化软件，旨在通过各种分析应用程序（例如tiamo等）有效地对分析仪进行编程和控制 ▼ 无限灵活成就无限组合 全新的灵活布局可容纳不同分析模块的多种组合，以达到对于多流路中多参数的测量。瑞士万通过程分析仪因其模块化的设计理念而闻名于世，如今，我们在灵活性设计的理念上又向前迈出了划时代的一步。瑞士万通2060过程分析仪不仅能够提供单个湿化学箱体中的模块化组合，更能将至多4个湿化学箱体整合到单个分析平台上。多箱体的配置使得我们的在线分析仪具备了无限的灵活性，从而使我们能够解决各种来自复杂过程监控的挑战，并为工厂的精细自动化控制做出卓越的贡献。 ▼ 软件灵活，操控简单为高效编程并有效管理分析仪而设计瑞士万通2060过程分析仪采用全新的时间编程表的形式显示分析仪的程序执行状况，所谓时间编程表即是以图形化的时间轴的形式显示当前的进程。分析仪允许设定报警信息，用于监控分析仪以及过程的运行状况，并且，这些报警信息可通过Modbus或离散I/O的形式进行通讯。 ▼ 定制化地满足您的需求（所得即所求）瑞士万通过程分析部门能够为样品预处理过程设计并提供几乎所有的“单元操作”，这使得我们具备了为大多数工业过程提供一整套完整解决方案的能力。在线分析仪和线旁分析仪能否成功且稳定运行的决定因素不仅仅在于化学分析，还包括样品的制备及预处理、分析仪的位置。我们可以为几乎所有的应用提供一整套的解决方案：小到一台仅带有样品制备的分析仪，大到一个包含了分析小屋、管道、线路和接口的“交钥匙”工艺包。这使得我们能够实现分析仪的就地无缝启动和集成。 ▼ 涵盖所有重要行业的解决方案许多全球领先的企业均依赖于我们所生产的高品质过程分析仪，这些企业涵盖了当今社会的多个行业。从大量应用案例中所积累的丰富经验使得我们的2060过程分析仪能够为解决那些非常具代表性和挑战性的应用提供非常好的方案：&bull 石化&bull 化工&bull 半导体&bull 采矿

产品亮点：2035工业过程分析仪是一种多功能线上湿化学分析仪，有三种基本配置，用于电位滴定、光度滴定和温度滴定。 2035工业在线及过程分析仪是一种综合的线上监测解决方案，它适用于7x24小时全天候工业过程和废水的线上监测。湿化学部件模块化设计，意味着更强的应用灵活性可集成多种测量技术（如PH,电导率等）IP66/NEMA 4防护等级能满足苛刻的工业环境不同安全等级下用户自定义的友好操作界面 温度滴定适合复杂有侵蚀性的样品基于网络远程控制的结果评估和故障诊断功能产品优势：避免生产过程参数超标2035工业过程分析仪具有自动校准和逻辑稀释功能，如果样品浓度超出了线性范围，它会自动将样品稀释相应的倍数后重新分析。自动校准—针对您的分析参数—保证结果的准确性。 有三个基本配置分别用于电位滴定，光度滴定和温度滴定的测量。所有配置都可以整合其他的测量技术，如pH和/或电导测量。 优化过程效率。借助超灵活的分析平台提升工厂自动化确保工厂自动化智能控制系统能高频率的获取过程参数数据是迈向工业4.0的重要一环。 瑞士万通过程分析仪因其灵活的模块化设计理念而闻名于世，如今，我们在灵活化的设计理念上又向前迈出了划时代的一步。无论是在生产过程中监控单个或多个流路中的化学参数，瑞士万通2060过程分析仪都能成为您工厂自动化控制系统的一部分。多种样品预处理系统瑞士万通设计提供多种样品预处理单元装置，为众多工业过程提供成套的解决方案。除了分析本身，样品准备、前处理，以及分析仪的安装位置都是在线分析是否能够稳定运行的关键影响因素。我们几乎可以为所有的应用提供整套方案，包括分析仪以及与之配套的样品前处理系统，我们甚至还可以提供分析小屋，配管配线和通讯工作，让分析仪与现场集成无缝连接。

导管抽吸过程中空气进入座装配处负压测试仪一，生产厂家：采用7寸威纶通液晶触控显示屏，中文菜单显示。公称规格、设定载荷、打印设定、测试、上行、下行、时间、标定。由键盘与触摸控制液晶显示屏上的菜单，机载打印测试结果。二，标准：完全符合YY0285.1标准中相关条款设计制造。3， 技术指标水浴槽：水浴锅0-99度将聚氨酯手术膜:1卷力传感器：0- 20kpa 传感器可客户任意选择配置：10ML注射器及导管设定时间:1s～60min, 客户任意设置 精度：0.2S净重：20kg 外形尺寸：440×300×260（mm）闭合夹子1只测试软件：PLC触摸屏：7寸彩色触摸屏威纶通夹具：一套仪器终身免费依标准：规定升级服务。设备免费保修期为1年。四，试验步骤步骤按制造商的使用说明书装配分离的座，将供试座连接到注射器上 ，形成防泄漏连接。密 封所有可能在抽吸过程中打开的阀。 通过试样与标准锥头向注射器内抽入（2 2士5) 度的水 ，超过注射器公称刻度容量的 2 5 % 。不要弄湿座与标准锥头的连接处。 排出仪器内的气体(小气泡除外），调节注射器内水的体积至标称刻度容量的2 5 % ，离座尽可能近地闭合(D.3.2 )试样。 将注射器的锥头向下，抽芯杆至最大公称刻度容量处，保持一定时间直至没有气泡形成，然后再 等 待 10s 以确认样品无泄漏。对于水合血管内导管，应考虑水合前和水合后的状态，重复步骤。注 ：可以使用其他方式形成抽吸压力。在这种情况下,设置绝对压力2.67 kPa为抽吸压力。

Omni - 箱内明场/荧光多孔板活细胞工作站 - 克隆形成实验/单克隆源性验证通过自动高质量地捕获样本在明场/荧光下的图像，Axion Omni能够在培养箱环境中连续地对多孔板中的活细胞进行成像。这将赋予您了解细胞动态生理、追踪其活力以及功能的全新技能。Omni的灵活性很高，可以快速扫描所有类型的培养瓶、微孔板甚至是定制的微流控芯片，同时能通过功能强大而直观的软件迅速提供可靠的分析结果。 克隆测试模块能长时间地定量克隆形成过程，掌握了它们的在数量、大小和圆度方面的动态变化，克隆形成实验还不简单吗？该软件界面简洁，功能直观。配合Omni平台使用，可以对多孔板中每个样本开展快速分析。克隆形成的活细胞成像分析 活细胞成像技术克服了传统克隆实验方案的缺点，突破了只能在单一时间点采样的限制，使科学家们能够长时间连续监测克隆的生长。 活细胞成像为克隆形成实验带来的变革： 丰富单一处理条件影响细胞存活的信息 实时观察细胞分裂和克隆形成 在更早的细胞发育阶段检测到克隆的形成，从而比传统方法更快得出结论 省却终点固定和染色步骤，有效节省了时间和实验材料 集成的图像分析软件能自动检测新形成的克隆，并评估其大小和圆度。所以数据分析更快，也减少了主观性和数据诠释偏差对结果的影响 ◆ ◆ ◆ ◆应用案例◆ ◆ ◆ ◆ 在如下的案例中，我们使用了一系列浓度的doxorubicin来处理CHO-K1细胞，并在37 C°的标准CO2培养箱中使用Axion Omni系统对24孔板里的样本做全景扫描成像，一共持续了7天。随后，Axion克隆检测算法能自动统计并显示每个时间点单孔中的克隆数量（图1A），并以橙色轮廓线指示其形态和位置的变化（图1B）。这样，您就能在整个培养周期中对细胞的增殖及克隆形成（图2B）进行不间断的观察和定量分析，再也不用担心错失任何关键时间点了。该算法软件还能自动追踪样本在克隆大小（图2C）和圆度（图2D）方面的变化。我们可以从这些数据中推断：药物对于CHO-K1细胞克隆的圆度影响不大，但是1.0μM及以上浓度的药物会明显影响细胞增殖和克隆形成以及克隆大小在培养中后期的增加。图1 | 对照组CHO-K1细胞在7天内的克隆形成能力分析。(A)单孔中克隆数量随时间的变化。(B) 在任意选中的孔内，用橙色轮廓线突出标识单个细胞克隆以便放大观察。 图2 - Doxorubicin抑制CHO-K1细胞的增殖和克隆形成实验。 (A) 24孔板药物处理展示图。包含5个浓度梯度的药物处理组和单独的对照组。每组4重复。使用上文中提到的算法软件，自动计算出每组的平均克隆数量（B，即存活曲线）、平均克隆大小(C)及圆度(D)在7天内的变化折线图。FAQOmni 是如何工作的？ LED光源位于样本上方，数据采集由样本台下方的可移动镜头完成。在明场通道下，您可以设定让镜头对整个台面依次开展连续成像，最终将生成约7850张快照图片。随后，通过软件的自动拼接，您就能得到一张尺寸为86 mm × 124 mm 的“全景”照片了。当在做荧光实验时，用户则可以精确定义系统对单个孔内某一位置拍照的次数。不管是哪种情况，照片都将被上传到云端服务器。在那里，数据分析将通过我们的图像算法或者是第三方软件去完成。我可以使用什么类型的图像分析模块？ 您可以选择购买如下的算法模块：明场/荧光细胞汇合分析、类器官分析、干细胞分析、划痕实验（比如研究细胞的群体迁移）分析、克隆形成分析和荧光计数。当然，您也可以随时下载原始数据然后在第三方软件上做一些特殊的分析。 Omni 平台可以在细胞培养箱内使用吗？ 可以。它的设计就是依照箱内使用的要求来开展的。所有的硬件和电子器件都能在5-40°C及 20-95% 的湿度环境下运行。该系统可以兼容哪些细胞培养容器？ 任何高度小于 55 mm（样本台到光源下沿的距离）的透明培养容器均可兼容。比如说 6-384孔多孔培养板、培养皿、T25 -T225培养瓶等等。重要的是，您要记得Omni的扫描区域尺寸是86 mm × 124 mm哦，这才是真正有效的成像范围。 PART III 相关应用肿瘤球 复杂实体瘤的体外建模及相应新型治疗方案的效力评估。 细胞增殖 追踪细胞生长，洞悉细胞的健康状况及行为变化。克隆形成实验全板克隆计数及生长追踪。细胞毒性定量细胞死亡程度并实时描绘药物的细胞毒特性。肿瘤免疫测定CAR-T细胞和其他免疫疗法的效力。 划痕及细胞迁移实验用于转移潜力或伤口愈合能力评估。细胞转染与转导了解细胞的转染或转导效率并追踪相关蛋白的表达。 Axion BioSystems ImagineExploreDiscover

保形成像能够将声压、声强、质点速度等物理量映射到被测物体的真实表面，采用保形成像能够有效降低数据误读的风险。几何模型可通过导入现有的CAD/CAE模型获得，亦可采用对实际对象进行离散化测量获得。声全息、波束形成和球面波束形成等所有基于阵列的声源识别技术均支持保形成像选项。 产品货源Bruel & Kjaer的所有产品均为丹麦原产产品报价本商铺不提供网上报价，如需产品报价，请直接联系Bruel & Kjaer中国

中山医用超纯水机,中山医用超纯水机设备　　关于纯水机设备的保养以及操作过程中所应该留意的要害点。今日水思源为大家讲一讲纯水设备在运用过程中所应该留意的要害点。 纯水机设备的保养以及在运用过程中需要注意哪些问题，如何减设备故障发生，纯水机的安全运行，不只关乎着纯水设备的产水水质 ，而且还能延长纯水设备的运用寿命。　　　　当纯水机设备进口和出口的压差超过设备出厂标准时，阐明反渗透膜面已受污染，假如经流量调整还不能解决压差问题的话，那就阐明操作人员应该对膜面进行清洗了，牢记过量的给水流量也会导致膜组件损伤，因此进水流量不能超过纯水机规定的进水标准值。　　此外进水的流量应尽量避免小于设计标准值，在进水流量过小的条件下运转，会使纯水机设备的压力容器内发作不均匀的流动及过火浓缩而在膜组件上形成污垢，严重时还会导致设备无法运行，纯水机设备的高压泵即便有极短的时刻中止运转都可能使设备发作故障。　　水思源多年以来专注纯水设备的设计及环保设备的生产研发，可为用户提供技术咨询、产品设计、设备的安装和调试、售后服务等“水源于纯净，思人类健康”是水思源整体员工的一致寻求，愿与您真诚协作，共同为环保事业做出贡献! 中山医用超纯水机,中山医用超纯水机设备　　水思源纯水设备是集实验室水处理设备研发、生产、销售和维修服务为一体的专业化公司，为客户提供：纯水机、超纯水机、实验室超纯水机、医用超纯水机、生化超纯水机 在国内水思源拥有15000套设备安装运作经验，15大技术服务中心，24小时为客户提供产品咨询及技术指导服务。

上海伯东日本 Atonarp Aston™ 过程质谱仪应用于半导体光刻技术 EUV 极紫外光源卤化锡原位定量EUV 极紫外光刻技术越来越多地用于支持 10nm 工艺技术的关键尺寸图案形成. 管理这些价值超过 2亿美元光刻机的正常运行时间和生产量对晶圆 Fab 厂的经济至关重要. 上海伯东日本 Atonarp Aston™ 过程质谱分析仪通过快速, 可操作, 高灵敏度的分子诊断数据实现了更佳的反射板镀锡层清洁, 并且 Aston™ 过程质谱的实时氢气 H2 监测也降低了每个 EUV 工具的氢气消耗.随着工艺几何尺寸的不断缩小, 半导体工艺制造商面临着新的挑战. 在先进的极紫外 EUV 光刻技术中, 13.5nm 波长的光源是通过二氧化碳 CO2 激光器蒸发熔融锡 Sn 液滴, 从而产生等离子体. 大批量生产的关键挑战包括控制蒸发锡再沉积引起的光学污染所造成的缺陷.光源产生的一个副产品是 EUV 光源反射光学元件上的锡 Sn 碎片, 该反射光学元件聚焦等离子体发出的 EUV光. 收集镜涂层表面上的锡沉积导致 EUV 镜的反射率降低. 沉积锡厚度约为 1nm（只有几个原子层）会使收集镜反射率降低多达10%, 通常被视为收集镜寿命规范. 这种污染增加了提供足够的 EUV 功率以形成晶圆所需的时间, 因此降低了光刻产量, 并可能影响光刻图案的定义. 解决措施包括使用氢等离子体 (结合磁场) 以锡烷气体 SnH4 的形式化学去除锡, 然后从真空室排气, 并防止锡进一步再沉积.上海伯东 Aston™ 过程质谱 EUV 极紫外光源卤化锡原位定量解决方案在反射板清洁期间, 需要实现现场测量, 快速, 准确地测量锡 SnH4 端点, 确保以省时的方式清除锡沉积物, 通过使用 Aston™ 过程质谱仪可以测量 H2 大气中 0.01-1 ppm 浓度下的微量 SnH4. 此外, Aston™ 还可以监测 EUV 工具前端的气体成分.Aston™ 过程质谱价值在于通过监测从 EUV 腔室中抽空所有锡原子的效率和优化氢气 H2 流量, 实现终点检测. 通过尽可能地减少气体流量, 可以降低每分钟 100 标准升的高纯度氢气消耗量.若您需要进一步的了解 Atonarp Aston™ 在线质谱分析仪详细信息或讨论, 请参考以下联络方式：上海伯东: 罗先生

济南祥控自动化有限公司研制的此款行程传感器（产品型号：XKCON-TSD-200）采用高精度增量式光电编码器，通过行程轮跟随作业设备在轨道表面行走，实时获取、计算和传输作业装备的行驶距离。一、具备的主要技术参数一、回程传感器XKCON-RSD-200的性能优势 行程轮采用滚花防滑结构，具有宽阔的接触面，适用多种轨道宽度的行程测量； 能够测量作业装备的正负行程； 支持RS485、RS422、CAN、LAN等多种通信方式； 设备默认测量范围为±1000 m，其它行程测量范围能够定制； 安装方便，无机械损耗，只要安装位置准确，具有较长的使用寿命； 采用光电编码器相对较高检测精度，IP65超高防护等级，在户外及恶劣环境下都可使用； 为满足不同场所中的作业装备的行程测量，更多功能支持定制可详询。二、设备主要应用 XKCON祥控回程传感器XKCON-RSD-200具有原理构造简单、抗干扰能力强、高可靠性、长寿命等性能优势特点，是工业中常用的定位设备，常见的有在斗轮堆取料机、起重机、塔吊等大型作业装备中进行行程监测。

波束形成技术（Beamforming）和光学照相技术原理类似，适合对被测对象进行中远距离的快速声源识别。技术基于延时求和算法，采用传声器阵列捕捉声场信息，采用非平面阵列还可有效抑制阵列后方的背景噪声。波束形成声源识别方法特别适用于汽车、火车和飞机等对象的外部噪声以及在风洞中对被测对象或者其缩尺模型进行声源识别。当被识别声源可以认为是由若干个不相干声源构成时，采用基于非负最小二乘（NNLS）和反卷积（DAMAS2）的波束形成清晰化方法（BZ-5639：Refined Beamforming）能够有效提高空间分辨率3倍以上。采用运动声源的波束形成技术（BZ-5943：汽车通过噪声声源识别；BZ-5939：轨道车辆通过噪声声源识别），可以针对诸如汽车、高速列车的通过噪声或者飞机的飞行噪声进行声源识别。 产品货源Bruel & Kjaer的所有产品均为丹麦原产产品报价本商铺不提供网上报价，如需产品报价，请直接联系Bruel & Kjaer中国

KANOMAX风速传感器6332D多台仪器级联形成多通道风速测试系统10种互换探头可供选择，满足不同测试需求探头互换兼容6332D自带LCD显示屏，实时显示测试数据具有模拟输出功能（0~5V或4~20mA)多台仪器级联形成多通道风速测试系统KANOMAX风速仪风速变送器6332D可将0～50m／s范围内的风速转换为相应的电压或电流信号进行输出．通过内部开关转换实现不同信号的输出(DC 0～5v.DC 0～1v；4～20mA) 可将0～50m／s范围内的风速转换为相应的电压或电流信号进行输出．通过内部开关转换实现不同信号的输出(DC 0～5v.DC 0～1v；4～20mA)名称Kanomax风速变送器型 号63326332D显 示-可显示风速范围取决于探头，请参考探头规格参数精度模拟输出4~20mA或0~5V电 源DC 12V±2V外形尺寸128x78x30mm重 量320g加野KANOMAX风速传感器6332D实时显示测试数据KANOMAX风速传感器6332D多台仪器级联形成多通道风速测试系统

产品亮点：伏安法(VA)和循环伏安溶出法分析(CVS)在工厂日常分析规程中起着重要的作用。2060 VA/CVS过程分析仪与瑞士万通884 专业伏安极谱仪理想集成，性能可靠。该过程分析仪安装在坚固的外壳中，确保所有组件都适合最苛刻的生产环境。此外，直观的设计易于操作和定制化。2060 VA过程分析仪是通过伏安法进行典型的痕量分析，2060 CVS过程分析仪专用于电镀槽液有机添加剂的定量分析。强大的专用viva软件结合多思单元，泵和液位传感技术定制化液体处理技术多达10个样品流路可扩展到在线VA/CVS分析自动预处理样品，包括pH值调整，消解和稀释灵活整合各种分析技术(如伏安法与光度法)在一个统一平台耐蚀组件和坚固机箱确保无污染痕量分析产品优势：Metrohm瑞士万通——-自动伏安分析法先驱伏安法是一种电化学方法，可以精确测定痕量和超痕量重金属和其它电化学活性物质的浓度。它通过改变电极电位，测量和分析由相关电化学反应中的电子转移产生的电流经过一个多世纪的研究和优化，结合各种电极，如瑞士万通的多模电极pro (MME)，2060 伏安极谱过程分析仪成为2060分析平台的组合，专门用于伏安分析。在线CVS分析电镀槽液铜的电沉积，在PCB生产是基本工艺，要求对槽液有机添加剂浓度精准的监测，以保持最佳的电镀条件循环伏安溶出(CVS)技术在电镀工业中广泛应用于有机添加剂的测定，如抑制剂、整平剂和光亮剂。2060 CVS过程分析仪提供实时监控，能够连续快速观察浴槽和检测参数变化。通过集成实时分析监控技术，过程分析仪可以连续观察电镀槽，保持主动干预和稳定的产品质量。2060平台提高自动化为了减少人工劳动，提高结果的准确性和重复性，您可以在2060 VA过程分析仪和2060 CVS过程分析仪中添加加液单元、泵和液位传感器。例如，集成蠕动泵自动冲洗功能的模块采样系统，实现样品预处理。此外，组合样品消解器(热消解或紫外消解)，可去掉如样品中有机物或不需要的电活性物质，完成复杂样品中痕量金属的分析。IMPACT 软件2060 VA/CVS 过程分析仪预装特有的在线过程控制伏安法分析软件。它旨在为工业应用高效编程和控制分析仪：过程分析仪执行程序以清晰的时间线图形显示可编程实现对分析仪当前运行状态的监控和警报满足各种过程通信协议（例如，Modbus 或离散 I/O）进行数据通信后台viva 软件控制分析数据简洁明了

Thermo Scientific Prima BT致力于实验室过程实验装置或小型过程的在线监测，能够对浓度在20ppm-100%范围内的气体进行精确测量。同时，可选的微通道板倍增检测器可用于检测低于ppm级的气体浓度。Prima PRO 是一款专门用于在线分析的质谱仪，几乎可以配置在任何种类的工业环境中，并都能可靠的运行。Prima BT使用了与Prima PRO完全一样的质谱分析技术，但是它被定义应用于小型工业环境和一般环境（环境温度得到控制），并且能够提供最好的分析性能。如果您为大型的工业在线检测寻求分析仪，Prima PRO能够提供最好的应用测量品质。相对而言，如果您需要分析最多不超过15个监测点，且需要同样的性能，但是应用于您的过程开发实验室或是一般环境下的小型工业装置检测，Prima BT同样能够提供完美的分析方案。工作原理磁扇质谱仪是根据离子化的样品分子（离子）和磁场之间的相互作用，实现了对组成样品的各个独立质量组份的分离和测量。在离子化腔，离子由一束具有一定能量的电子与中性气态样气分子相互作用而形成。新生成的离子立即被电场加速，使其向着垂直于磁场方向运动。每一个带电粒子在磁场内受到一个横向力，该力的大小正比于磁场的强度、粒子的速度和它所携带的电荷大小。根据磁场强度预设值来确定选择需要分析的离子，每一个适合的离子被依次选中后通过前方的接收狭峰到达检测器。在这里，检测器测量到的信号正比于被选中的样气分子的浓度。通过测量这些预先定了的离子数量，一个完整组份分析得以呈现。样品导入Prima BT采用著名的快速多流路进样器（RMS）将样气导入分析仪。这种高可靠性的设备能够实现样气流路的切换同时不影响分析仪内部样气的品质。RMS具有长期的优良使用记录，其坚如磐石的可靠性，每年执行多达六百万次的流路切换，而只需很少甚至根本不需要维护的能力已经被实践检验过。它确保Prima BT能够监测多达15个流路。步进电机驱动的快速多流路进样器在一定的时间依次切换至每个流路，将样品导入质谱仪并且记录每一个流路的流量。该快速多流路进样器能够被加热到80℃，它能够确保对诸如甲醇、乙醇和氨等极性分子的快速响应。注意：由于RMS不是旋转阀，而是一个样品连续流动的进样选择器，因此，我们必须为标气设置控制阀，它们位于快速多流路进样器的下方。Prima BT的进样流量通常为大气压下0.1-1升/分钟， 标准的流量为0.2升/分钟，该流量值可以通过转子流量计来调节。所需要的样品压力与排放总管有关，该压力应能确保一定流量的样气通过快速多流路进样器（RMS）,并克服 RMS 管路内径和长度相关的管道压降，通常该值小于100毫巴(1.5psi)。当样品进样量为0.1升/分钟时，RMS压降为1.5毫巴(0.2psi)。RMS管道产生的压降可以用下面的公式表示：C = 0.006D4P/L， 这里 C是样品的流速，单位升/分钟；D是样品管道的内径 单位毫米；P是样品管道内的压降，单位毫巴；L是样品管道的长度，单位米； 例如： D = 3 毫米 L = 10 米,当流量为0.2 升/分钟,差压 P 为4 毫巴。 分析仪控制架构分析仪的控制架构由高度集成的电路板与内部链接网线组成。基于RS-485通讯标准，它提供了安全、准确的控制和分析仪所有功能的监测，并且允许不需要切断整个分析仪的电源，就可以更换单独的系统模块。VGiNet是Prima PRO内部的网络通讯协议，它具备分布式控制引擎的协助能力。该内部协议增强了内外部通讯的速度和安全性。最先进的即插即用的电子部件、卓越的分析功能和工业级标准的通讯工具的集合，提供了灵活的平台，能够适用于非常宽泛的气体分析应用。计算机控制作为控制电路核心的是基于Freescale的控制器，它通过快速逻辑运行工业级实时操作系统（RTOS）。拥有超过十亿的应用，RTOS被证明是最可靠的。该控制器是赛默飞世尔科技设计的，拥有数以万计的使用量和牢靠的可靠性记录。处理器的母板是专为Prima BT而特殊设计的，它提供了一系列灵活的通讯选项。三个串口中的一个被保留与远程安装有GasWorks的PC进行通讯，该PC用于分析仪组态和数据显示（当需要时）。处理器的独立设计确保了当PC被锁定或崩溃时不会对分析仪的性能产生冲击，该分析仪的数据通过其他两个串口直接传输至LIMS，DCS，SCAD， PLC总线或上位主机。这些接口可以单独按照各种通讯协议配置。这些协议包括标准的配置Modbus和OPC。该模板同时提供15针的插头，用于连接一定数量的数字输入和输出信号，该信号可根据多种不同应用被组态。历史数据存贮分析仪本地的历史数据存贮器首先用于记录分析仪整个生命周期内的诊断信息。这里被采集的数据被设计成用以提供系统全面的健康状况。它为维护工程师提供了识别导致故障发生根本原因的最大可能性。如果需要，该存储器也可以用于分析数据的存储。系统维护标准的服务组件。这是一个可选项。一旦客户购买，可以随Prima BT一起运输。该组件包括了完成固定维护的所有的部件和工具。该组件能够最大限度方便客户，简化维护步骤。例如：客户如今仅需简单的更换整个离子源，而不是更换灯丝或是清洗离子源,经过测试的部件完全可以替代。对于真空计也是一样，不需要拆解清洗真空计，使用服务组件中的备件方便的替换该真空计。一旦服务结束，简单的将替换下来的部件寄给最近的服务中心做清洗。由于精心设计，“百宝箱”将服务间隔扩展至3年。仅有的必要性预防维护是对处于机箱外部的二级真空泵的固定维护。该维护间隔与具体的应用有关，而维护步骤仅需要花费很少的几分钟。世界级的服务与支持我们提供的服务和支持确保了仪表运行的优化，并能减小其停运的时间。由于每个客户和每个仪表的需求不同，我们将根据他们独特的需求提供与之一致的服务服务合同备件技术支持现场安装与服务产品培训技术规格表离子源封闭型，电子轰击式，双灯丝，温度控制（可在120-200。C范围内设定，精度为±0.1。C）。分析原理层叠式扫描磁扇，半径6cm，80度偏转角。质量范围可调整。离子加速电压为1000V时，质量范围1-150amu（标准）；离子加速电压为750V时，质量范围1-200amu。分辨率可通过两个收集解析狭缝进行切换，标准配置为60/20，1mm狭缝为60，4mm狭缝为20；也可以选择其他组合，140/81(0.36mm/0.69mm),100/45(0.56mm/1.45mm),140/45(0.36mm/1.45mm)。质量稳定性质量数为28时，0.013amu，24小时测量。峰形平顶峰，分辨率为60时，峰顶（99%峰高处的宽度）与峰底（5%峰高处的宽度）的比值为0.5。丰度灵敏度250ppm, 27/28检测器法拉第检测器。可选法拉第检测器/微通道板倍增检测器进样类型带分子渗漏和旁路（标准配置)的毛细管真空系统涡轮分子泵和外部旋转机械泵，可选涡轮分子泵和内部膜片泵样品流速对每个流路进行数字测量并记录精度0.1%，相对精度（典型值，根据实际应用）线性度1%相对精度，浓度变化超过10%动态范围10 ppb–100%（理论值，根据实际应用）稳定性1%相对值，超过一周，（典型值，根据实际应用）

仪器简介：N目前的市场上，用户通常将所有反应物加入釜内，再通过循环油浴或电加热加温，同时搅拌，实现反应过程。 但是在实验室合成过程中，经常出现需要在反应过程中加料。有些是添加催化剂、单体，有些是为了在一个釜中实现类似多釜连用，有的则是选择合适的反应条件等待。所以反应过程加料成为一个重要的过程。 Hitec zang GmbH作为一个有30年经验的合成设备的专家，推出了适合常压及高压条件下采用质量法和体积法参考计量的多种进料方式，给用户参考。采用的方式包括： - 独家的GraviDos质量法进料系统，玻璃进料系统适合一般常压及负压反应条件 ，不锈钢进料装置压力可达345bar - SodiDos适合片状、粉末等估计进料，可实现常压 及低压进料 - LabDos泵进料，压力可达6bar，适合实验室液体进料，可配合天平，采用质量法计量或者独自体积计量 - 多头注射泵进料，适合低压及常压条件下多路液体进料，体积计量 - 隔膜泵及注射泵进料，压力可到400bar，实现超高压进料。可联合天平，实现质量法计量 各种进料均可以通过电脑控制，实现全自动过程。 进料量可达kg级，控制进度可达0.01g技术参数： 目前的市场上，用户通常将所有反应物加入釜内，再通过循环油浴或电加热加温，同时搅拌，实现反应过程。 但是在实验室合成过程中，经常出现需要在反应过程中加料。有些是添加催化剂、单体，有些是为了在一个釜中实现类似多釜连用，有的则是选择合适的反应条件等待。所以反应过程加料成为一个重要的过程。 Hitec zang GmbH作为一个有30年经验的合成设备的专家，推出了适合常压及高压条件下采用质量法和体积法参考计量的多种进料方式，给用户参考。采用的方式包括： - 独家的GraviDos质量法进料系统，玻璃进料系统适合一般常压及负压反应条件，不锈钢进料装置压力可达345bar - SodiDos适合片状、粉末等估计进料，可实现常压 及低压进料。 - LabDos泵进料，压力可达6bar，适合实验室液体进料，可配合天平，采用质量法计量或者独自体积计量 - 多头注射泵进料，适合低压及常压条件下多路液体进料，体积计量 - 隔膜泵及注射泵进料，压力可到400bar，实现超高压进料。可联合天平，实现质量法计量 各种进料均可以通过电脑控制，实现全自动过程。 进料量可达kg级，控制进度可达0.01g 主要特点： 目前的市场上，用户通常将所有反应物加入釜内，再通过循环油浴或电加热加温，同时搅拌，实现反应过程。 但是在实验室合成过程中，经常出现需要在反应过程中加料。有些是添加催化剂、单体，有些是为了在一个釜中实现类似多釜连用，有的则是选择合适的反应条件等待。所以反应过程加料成为一个重要的过程。 Hitec zang GmbH作为一个有30年经验的合成设备的专家，推出了适合常压及高压条件下采用质量法和体积法参考计量的多种进料方式，给用户参考。采用的方式包括： - 独家的GraviDos质量法进料系统，玻璃进料系统适合一般常压及负压反应条件 ，不锈钢进料装置压力可达345bar - SodiDos适合片状、粉末等估计进料，可实现常压及低压进料 - LabDos泵进料，压力可达6bar，适合实验室液体进料，可配合天平，采用质量法计量或者独自体积计量 - 多头注射泵进料，适合低压及常压条件下多路液体进料，体积计量 - 隔膜泵及注射泵进料，压力可到400bar，实现超高压进料。可联合天平，实现质量法计量 各种进料均可以通过电脑控制，实现全自动过程。 进料量可达kg级，控制进度可达0.01g

范围广泛的在线、非接触式厚度测量和镀层重量测量方法，适用于钢铁,铝业等行业的板带测量应用中。我们的分析技术能提供坚实、精确和可重复的测量，有助于您延长设备的正常运行时间，提高产品质量以及改善产品质量并将原材料损耗减小到最低。产品范围：镀层/涂层测厚仪金属在线测厚仪非金属在线测厚仪在线测厚仪X射线荧光测厚仪其它工业过程控制了解详情：赛默飞世尔科技过程仪表原料与材料的展台，展位号：SH100930。或使用简易域名登陆：http://mm.instrument.com.cn。

红外线气体分析仪是利用红外线进行分析。它基于待分析组分的浓度不同，吸收的辐射能不同.剩下的辐射能使得检测器里的温度升高不同，动片薄膜两边所受的压力不同，从而产生一个电容检测器的电信号。这样，就可间接测量出待分析组分的浓度。 1.比尔定律红外线气体分析仪是根据比尔定律制成的。假定被测气体为一个无限薄的平面.强度为k的红外线垂直穿透它，则能量衰减的量为：I=I0e-KCL(比尔定律)式中：I--被介质吸收的辐射强度 I0--红外线通过介质前的辐射强度 K--待分析组分对辐射波段的吸收系数 C--待分析组分的气体浓度 L--气室长度(赦测气体层的厚度)对于一台制造好了的红外线气体分析仪，其测量组分已定，即待分析组分对辐射波段的吸收系数k一定 红外光源已定，即红外线通过介质前的辐射强度I0一定 气室长度L一定。从比尔定律可以看出：通过测量辐射能量的衰减I，就可确定待分析组分的浓度C了。2.分析检测原理红外线气体分析仪由两个独立的光源分别产生两束红外线 该射线束分别经过调制器，成为5Hz的射线。根据实际需要，射线可通过一滤光镜减少背景气体中其它吸收红外线的气体组分的干扰。红外线通过两个气室，一个是充以不断流过的被测气体的测量室，另一个是充以无吸收性质的背景气体的参比室。工作时，当测量室内被测气体浓度变化时，吸收的红外线光量发生相应的变化，而基准光束(参比室光束)的光量不发生变化。从二室出来的光量差通过检测器，使检测器产生压力差，并变成电容检测器的电信号。此信号经信号调节电路放大处理后，送往显示器以及总控的CRT显示。该输 出信号的大小与被渊组分浓度成比例。接收室内充以样气中的待渊组分，两个接收室中间用一个薄的金属膜隔开，在两测压力不同时膜片可以变形产生位移，膜片的一侧放一个固定的圆盘型电极。可动膜片与固定电极构成了一个电容变进器的两极。整个结构保持严格的密封，两接收气室内的气体为动片薄膜隔开，但在结构上安置一个大小为百分之几毫米的小孔，以使两边的气体静态平衡。辐射光束通过参比室、测量室后，进入检测器的接收室。被接收室里的气体吸收，气体温度升高，气体分子的热运动加强，产生的热膨胀形成的压力增大。当测量室内通入零点气(N2)时，来自两气室的光能平衡，两边的压力相等，动片薄膜维持在平衡位置，检测器输出为零。当测量室内通入样气时，测量边进入接收室的光能低于参比边的，使测量边的压力减小，于是薄膜发生位移，故改变了两极板问的距离，也改变了电容量C。红外线气体分析仪可以用来分析各种多原子气体,如:C2H2、C2H4、C2H5OH、C3H6、C2H6、C3H8、NH3、CO2、CO、CH4、SO2等。不能用来分析同一种原子构成的多原子气体以及惰性气体，如：N2、Cl2、H2、O2以及He、Ne、Ar等。

高速长行程位移台基于音圈电机驱动和高精度导向模组实现纳米级超高分辨力的定位/扫描直线运动，内置光栅位移传感器，结构紧凑，通过自主研发的高性能纳米伺服系统获得优异的闭环控制效果，具有纳米级运动分辨率和运动精度，同时兼具高速、高动态位移定位和扫描功能。 支持面向不同应用和需求的产品开发与定制。 技术特点：音圈电机直驱式精密设计嵌入式纳米位移传感器系统超高指向精度、高动态、低噪声无摩擦、零间隙、免装配多运动模式：定位/扫描超长行程应用领域：扫描电镜（SEM）样品操纵主动光学超分辨成像样品移动大范围电子束直写（EBL）微纳装备及制造集成电路制造与检测高真空样品精度对准及调姿纳米聚焦与扫描显微及纳米CT规格参数： 型号 NP-VCM-X-100A 主动轴 X 传感器类型 光栅传感器 驱动类型 音圈电机 行程( mm)100 最大负载( Kg) 1 分辨率（nm） 1.22 重复定位精度（nm）20 尺寸（mm）160x220x82.5 工作温度（℃）10-50 材料 铝合金/钛合金 推荐控制器/驱动器 NPC-032纳米定位平台 纳米位移台 柔性铰链平台 电控位移台 高精度电控位移台 精密滑台 压电平台 压电纳米台 纳米压电平台 纳米定位台 压电柔性铰链平台 压电扫描台 压电定位台 压电纳米定位台

产品主要包括：污染源烟气连续自动监测（CEMS）气体颗粒物连续监测仪及采样器（PM2.5/PM10/PM1/TSP)室内气体颗粒物监测和工地扬尘监测泄露检测与修复（LDAR）各类气体分析仪及环境空气质量监测系统过程仪器仪表更多信息：请访问赛默飞世尔科技环境与过程仪器的展台，展位号：SH102130。或直接点击地址登陆：http://www.instrument.com.cn/netshow/SH102130。

我司自主研发的NK-805型tian然气化工过程在线分析系统，解决了生产运输中过程检测应用、过程控制等方面的重大问题。NK-805型tian然气化工过程在线分析系统，具有安全可靠、抗腐蚀、无堵塞、取样真实、响应快分析精度高等特点，能有效地指导生产工艺控制。产品特点：1、系统具有安全可靠、取样真实、响应快、分析精度高、配置和选型佳等诸多特色，拥有完善、性能可靠的分析系统设计，在先进性、适用性、可靠性、安全性等方面达到了国内外同类装置先进水平。2、采用借鉴技术特制的不锈钢纤维烧结微孔式取样过滤器，取代传统的陶瓷、碳化硅过滤器，再生能力强，过滤效率高的特点，现场维护周期长。3、采用进口原装PLC,具备自动反吹故障识别、超限报警、与生产过程联锁控制、安全联锁等控制功能。所有输入输出开关量控制信号和报警信号均为无源触电信号。4、本装置预处理采用特殊设计，采用分级过滤除尘，粗过滤与细过滤相结合的净化方式，经现场长期运行表明，有效地解决了高粉尘，高湿度工况下，维护量大，在线连续运行率低的难题，延长了系统运行的时间。5、 针对tian然气气体混合物中气相、冰相、烃液相及固态水合物相等多相并存，并具有一定粘度和腐蚀性的气体特性，我们针对性设计了分析及取样预处理系统，来确保分析系统的长期可靠免维护运行。售后服务：1、为用户提供售前、售中及售后服务及说明书。2、免费为用户提供全面、系统的培训，使用户的操作维护人员在较短的时间内全面掌握仪器的使用和维护。3、一旦仪器发生突发性故障，如须远程指导解决的立即解决；如须解决的24 小时内到达。4、仪器终身维护，质保期一年，一年内免费维修及更换仪器零部件。5、以优惠的价格提供终身配件。6、提供终身服务，免费系统升级。

单微孔板控温块带短边流体接口 美国MéCour公司于1999年成立，自成立伊始便全新研发了实验过程精确温控系统，凭借其精确、均匀和稳定的优秀特性，很大程度上取代了传统的以电控为基础的温控方式，现在已经成为实验过程精确温控系统的全球知名品牌，供应生物和制药行业，客户包括诸多业内知名机构。MéCour公司温控系统高效、精确、可靠，适合各种应用条件，用于生物样品试剂盒、药物筛选、基因组/蛋白组和复合存储管理，可与大多数仪器配合使用，帮助实验室提高产出，避免浪费。产品设备型号多样，可放多种形状的容器，如板状和管状容器，也可放各种试剂罐或试剂瓶，可定制，使用方便。 应用领域MéCour实验过程精确温控系统可应用在许多领域，如化学、免疫和生物试剂盒，可转接的设计使其同时适合独立的桌面型应用或配合其他自动化体系使用。 需要精确温控的试剂盒都可统一用MéCour实验过程精确温控系统控制，这样就无需单独控制各个试剂板、管或瓶。敏感试剂可保存在某特定温度，试剂罐也可放在平常的地方，方便操作。 主要特点 与诸多知名品牌设备兼容,包括Beckman Coulter, Agilent, Thermo, Perkin Elmer等可单独使用,也可与现有的进样器和自动化设备整合使用另有特制的控温单元可用于进样阀、进样针、色谱柱和多孔板等连接方便，密封性好 技术参数控温范围 -100-300℃温度精度 ±0.1℃

二维电控平移台（载物台）上海昊量光电推出的二维电控平移台是一款体积紧凑的大行程位移平台。该平移台采用精密的交叉滚子轴承和主轴，并进行了优化设计使平移台拥有良好的线性度和平整度。且在提供大行程的同时分辨率可达到亚微米，并且该平台拥有优异的可重复性。此二维平移台有两种不同的配置，一种是封闭框架平台，一种是中空的开放式的平台。产品特点：l 优异的重复精度l 超大行程l 体积紧凑l 可选配直线电机和步进电机l 可按客户要求进行定制 主要应用：l 显微镜平台l 圆形测量对准部件产品参数： UnitsCT250B closed frame CT250B open framemax. loadKg5050max. travelmm6060min. incr. motionmm0.10.1repeatability2 encoder increments2 encoder incrementsmaterialcoated aluminiumcoated aluminium

LS-1740产品描述 LS-1740的尺寸为40 x 17 x 8.5mm，行程范围为26mm。概观运动行程[mm]26尺寸[mm]40 x 17 x 8.5重量[g]26力特性最大推力[N]2.5最大负载[N]20最大升力[N]1定位性能最大速度[mm/s]5开环定位分辨率[nm]1选配材质标配为铝底座；可选配钢座（-ST）、钛基（-TI）；均黑色阳极氧化（-BK）真空兼容 (1E-6 mbar)-HV高真空兼容 (1E-11 mbar)可根据要求定制无磁可根据要求定制* 所有技术规格参数均为近似值，由于产品持续研发，我们保留更改技术规格的权利，恕不另行通知。Nators是一家高性能纳米定位平台及解决方案的专业提供商，可满足各种对精密运动定位要求严苛的应用场合，如光学、显微、精密组装以及纳米级表征分析等，同时提供 纳米定位，压电纳米定位，纳米定位平台，压电纳米定位平台，大行程压电纳米定位平台，多轴定位平台，压电陶瓷，压电控制器，压电陶瓷控制器，压电惯性运动定位器，预装配叠堆运动平台

瑞士万通2060 XRF过程分析仪可信赖的X射线荧光过程分析仪产品亮点瑞士万通过程分析2060 XRF过程分析仪在能量色散X射线荧光家族中独树一帜。其设计着重于质量和过程控制并考虑到多个采样点和用户友好操作。多达10个在线XRF分析采样点快速分析- 60秒可获得分析结果无损分析从镁到铀（z=12至92）之间的液体样品可集成多种分析技术（XRF与滴定、光度法）在一个分析平台产品优势简单、无损XRF分析仪X射线荧光（X-ray fluorescence）是一种非破坏性，可应用于各种样品元素的定性和定量分析方法。XRF是如何工作的呢? 当样品在高能X射线照射时，会导致原子内层电子跃迁并产生暂时的空位，同时处于不稳定态的原子捕获外层电子迅速填充这些空位。在此过程中，由跃迁释放的能量以荧光X射线的形式放出，荧光 X 射线能量特征则与样品中存在的每个元素相关，2060 XRF 过程分析仪可通过捕获这些被释放的X射线，确定样品中特定感兴趣元素的浓度。2060 XRF 过程分析仪的设计易于使用,即使是技术新人也能操作自如并获取可靠结果。使用我们的XRF分析仪,您可以在无损样品的情况下获得样品准确的成分数据。一机实现理想分析2060 XRF Process Analyzer集成了高分辨率硅漂移探测器（SDD）和Axon&trade 技术。凭借其特殊的超低电子噪声，提升了每秒X射线计数（cps），从而带来更快、更精确的结果。多路同时分析，加快投资回报另一个显著优点是它能够使用单一仪器对多个样品进行并行分析。在电镀行业，2060 XRF 过程分析仪可以同时分析不同电镀槽液中的多个组件，削减分析耗时，提高生产力。简化的工作流程为公司带来更快的结果和更快的投资回报率。不错过任何变化——全天候操作在工厂，过程分析仪在全面监测和控制方面发挥着关键作用,它能有效地降低未察觉问题发生的风险。用手动方法监测异常值（例如,通过实验室XRF分析仪），由于环境变化影响样品特性或样品分析延迟等因素会面临挑战性。不过，随着2060 XRF 过程分析仪等在线分析仪的投入使用，在生产过程中能实时连续采集数据，监测生产过程状况准确又即时。这种持续监测不仅消除了样品因环境因素而被改变的可能性，而且能够对过程参数的任何偏离快速检测和即时响应。因此，在线过程分析仪是保持生产效率和减少过程控制中出现错误或疏忽风险的不可或缺的工具。

多波段光度计ABB过程多波段光度计（PIR3502、PFO3372和PIR3502）可连续在线测定简单或复杂样品流中的气体或液体组分，实现过程控制、产品质量保证、安全监控、催化剂保护和区域监测等目的。这些光度计的光谱范围包括红外（IR）、近红外（NIR）、紫外（UV）及可见光（VIS）。滤光式光度计最多可达8种波长，增加了测量应用的数量。由于采用了多波长技术，该光度计可对多类干扰进行补偿，适合多组份应用。该过程光度计与VN2300 分析仪网络相连，PFO3372使用光纤采样附件，进一步扩大了测量能力。该系列产品包括：PIR3502过程红外光度计、PUV3402过程紫外光度计和PFO3372过程光纤光度计。特点连续测量可测量多组分样品可测量气汽或液体样品红外、近红外、紫外及可见光波段补偿众多干扰