消除方法

能消除随机误差的方法有哪些？

光谱干扰消除的方法有哪些，原理是什么？

干扰效应 [url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Wp][color=#3333ff]原子吸收光谱[/color][/url]分析中，干扰效应按其性质和产生的原因，可以分为四类：　　1、 物理干扰　　2、 化学干扰　　3、 电离干扰　　4、 光谱干扰　　 3.4.1.1 物理干扰　　物理干扰是指试样在转移、蒸发和原子化过程中，由于试样任何物理特性（如粘度、表面张力、密度等）的变化而引起的[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Wp][color=#3333ff]原子吸收[/color][/url]强度下降的效应。物理干扰是非选择性干扰，对试样各元素的影响基本是相似的。　　配制与被测试样相似组成的标准样品，是消除物理干扰最常用的方法。在不知道试样组成或无法匹配试样时，可采用标准加入法或稀释法来减小和消除物理干扰。　3.4.1.2 化学干扰　　化学干扰是由于液相或[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Mp]气相[/url]中被测元素的原子与干扰物质组分之间形成热力学更稳定的化合物，从而影响被测元素化合物的解离及其原子化。磷酸根对钙的干扰，硅、钛形成难解离的氧化物、钨、硼、希土元素等生成难解离的碳化物，从而使有关元素不能有效原子化，都是化学干扰的例子。化学干扰是一种选择性干扰。 　　消除化学干扰的方法有：化学分离；使用高温火焰；加入释放剂和保护剂；使用基体改进剂等。例如磷酸根在高温火焰中就不干扰钙的测定，加入锶、镧或EDTA等都可消除磷酸根对测定钙的干扰。在石墨炉[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Wp][color=#3333ff]原子吸收[/color][/url]法中，加入基体改进剂，提高被测物质的稳定性或降低被测元素的原子化温度以消除干扰。例如，汞极易挥发，加入硫化物生成稳定性较高的硫化汞，灰化温度可提高到300℃；测定海水中Cu、Fe、Mn、As，加入 NH4NO3，使NaCl转化为NH4Cl，在原子化之前低于500℃的灰化阶段除去。　3.4.1.3 电离干扰　　在高温下原子电离，使基态原子的浓度减少，引起[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Wp][color=#3333ff]原子吸收[/color][/url]信号降低，此种干扰称为电离干扰。电离效应随温度升高、电离平衡常数增大而增大，随被测元素浓度增高而减小。　　加入更易电离的碱金属元素，可以有效地消除电离干扰。　3.4.1.4 光谱干扰　　光谱干扰包括谱线重叠、光谱通带内存在非吸收线、原子化池内的直流发射、分子吸收、光散射等。当采用锐线光源和交流调制技术时，前三种因素一般可以不予考虑，主要考虑分子吸收和光散射的影响，它们是形成光谱背景的主要因素。　　分子吸收和光散射的影响　　分子吸收干扰是指在原子化过程中生成的气体分子、氧化物及盐类分子对辐射吸收而引起的干扰，图3.10示出了钠的卤化物分子的吸收谱带。光散射是指在原子化过程中产生的固体微粒对光产生散射，使被散射的光偏离光路而不为检 测器所检测，导致吸光度值偏高。 　　光谱背景除了波长特征之外，还有时间、空间分布特征。分子吸收通常先于[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Wp][color=#3333ff]原子吸收[/color][/url]信号之前产生，当有快速响应电路和记录装置时，可以从时间上分辨分子吸收和[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Wp][color=#3333ff]原子吸收[/color][/url]信号。样品蒸气在石墨炉内分布的不均匀性，导致了背景吸收空间分布的不均匀性。 　　提高温度使单位时间内蒸发出的背景物的浓度增加，同时也使分子解离增加。这两个因素共同制约着背景吸收。在恒温炉中，提高温度和升温速率，使分子吸收明显下降。　　在石墨炉[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Wp][color=#3333ff]原子吸收[/color][/url]法中，背景吸收的影响比火焰[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Wp][color=#3333ff]原子吸收[/color][/url]法严重，若不扣除背景，有时根本无法进行测定。

在实际应用中，有哪些方法可以消除或减少基质效应？

紫外和色谱分析法产生的干扰及其消除方法?

直流磁场干扰用什么方法消除比较好？

分光光度法显色反应中有哪些干扰及消除方法？

进行样品检测时为消除物理干扰，一般常采用哪些方法？

[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Wp][color=#3333ff]原子吸收[/color][/url]分析法在分析过程产生的干扰及其消除方法?

ICP-OES的干扰消除方法有三种：一种是基体匹配，一种是加内标，一种是数学校正。大家在分析测试过程中往往只采用了其中的一种，但是个人通过实践发现，如果能将其中的两种联合使用效果会更好。大家是否有同感？

[img]http://www.instrument.com.cn/bbs/images/affix.gif[/img][url=http://www.instrument.com.cn/bbs/download.asp?ID=99727]消除拖尾[/url]消除色谱拖尾的方法，大家可以看看。。。

鸡体内氯霉素残留的检测方法及消除规律研究[img]http://www.instrument.com.cn/bbs/images/affix.gif[/img][url=http://www.instrument.com.cn/bbs/download.asp?ID=83715]鸡体内氯霉素残留的检测方法及消除规律研究[/url]

摘要：万能材料试验机广泛应用于社会各行业里面的不同材料的力学性能试验，试验机的示值误差是否保持在国家检定规程要求的范围内，对保证产品质量、工程质量有重要作用。本文结合多年的工作实践经验，浅析万能材料试验机误差的产生及相应的消除方法。　　万能材料试验机用于金属、非金属等各种材料试样的拉伸、压缩、弯曲、剪切等试验，广泛应用于企业生产、建筑工程、路桥建设等等，成为一种不可缺少的重要测量设备。在长期频繁的使用中，万能材料试验机产生示值误差超差，影响了使用。以下介绍我们在日常检定工作中遇到万能材料试验机示值超差时，误差产生的原因及相应的消除方法。　　1 万能材料试验机安装不水平　　1．1、主体机身安装不水平　　万能材料试验机主体机身安装不水平，导致上下夹头中心不对称，增加了缓冲器中活塞与油缸、上夹头与定向夹紧器等部件的摩擦。它造成示值误差为负。　　1.2、测力部分安装不水平　　测力部分前后安装不水平，使得摆轴轴承配合过紧，摩擦力过大；测力部分左右安装不水平，每次更换砝码铊时，指针零位变动较大。它造成的示值误差也为负。　　消除方法：改善地基条件，把框式水平仪放在横梁处，调整试验机主体和测力部分水平度，保证至0.3/1000。　　2、油缸与活塞摩擦　　2.1、工作油缸与活塞间摩擦　　油缸内有脏物、锈蚀，或液压油粘度过大，空载时，主动针随工作活塞上升而上升，停止而下降。它造成示值误差为正，相对误差在力值小时较大，随着负苛增大而减小。　　2.2、缓冲器油缸与活塞间摩擦　　油缸内有脏物、锈蚀或液压油粘度过大，检定和操作时会在空载情况下，指针摆动不灵活灵敏度差，指针指零呆滞。它造成示值误差为负，对小度盘前段示值影响尤为显著。　　消除方法：更换粘度合适的新液压油，开启液压泵，使油路系统内液压油循环流动，冲出脏杂物，重新更换干净油粘度的液压油，反复多次直至把油路系统内脏杂物清洗干净。若然此法不奏效，则需要拆开清洗油缸，锈蚀部位需用金相砂纸打磨。　　3、万能材料试验机其他部件摩擦　　3.1、从动针过紧　　从动针弹簧片弹力过大，用手拨动从动针时费力，感觉较紧。它造成示值误差为负，加载力值小时，相对误差较大，随着力值的增大，相对误差减小。　　消除方法：调整从动针压紧弹簧片至合适程度。　　3.2、度盘指针阻滞　　度盘指针轴承脏污、锈蚀，或者由于齿杆与指针轴齿轮间有脏杂物、锈蚀，啮合摩擦力过大。空载时，指针指零呆滞，灵敏度差。它造成示值误差为负。　　消除方法：取出指针轴承清洗，在小滚珠里加润滑油；清洗齿杆与指针轴齿轮脏杂物。　　3.3、齿杆的导向滚轮转动不灵活或卡死　　滚轮导轨内有脏杂物，滚轮内小轴承锈蚀、脏污，齿杆与滚轮导轨不平行，齿杆与上面的弹簧片碰擦、滚轮因安装不当被卡死。卸荷时会出现齿杆不动、不能自动复位及指针呆滞。它造成示值误差为负，在小度盘的前半段相对误差比较大。　　消除方法：清洗脏杂物；调整齿杆与导轨的平行度；调整弹簧片与齿杆距离合适。　　3.4、测力机构回转轴不转动　　电机带动测力机构回转轴的皮带老化、沾油打滑或皮带过松。加载时，试验机度盘指针不能够走到最大负载位置，力值达不到额定最大负荷，它造成示值误差为负。　　消除方法：更换或重新挂上松紧合适的皮带。　　4、测力机构参数改变　　一般万能材料试验机出厂设计α=23°30'（α为推板与竖直方向夹角），由于日常操作不正当，推板弯曲、位移，造成了α角度的改变，从而造成试验机示值超差。例如：在度盘满刻度80%处，α增加1°，示值误差增加0.35%；α减小1°，示值误差增加-0.29%。角度α变化而造成的示值误差的特征是：误差与所选用的度盘无关，当α增大时误差为正，且随α增大而增大；当α减小误差为负，且随α减小而增大。　　消除方法：　　4.1、示值正向超差　　将测力部分(读数机构)中的摆杆与推板连结轴套的紧固螺钉松开，将推板向内侧调整以减小夹角角度，固紧螺钉后，由小度盘逐级检定，反复数次，直至检定合格，如果小度盘合格，而大、中度盘仍超差时，应适当增加[font=Times New R

压力试验机是建筑工程材料检验的主要设备，由于建筑行业的特点，试验机经常随工程进行搬迁，其使用环境也相对较差，故容易产生误差和故障。因此，试验机除了每次搬迁后进行计量检定外，还必须按周期检定。当在检定过程中发现误差和使用过程中出现故障，一定要逐步查找原因、消除误差、排除故障。 　　一、常见误差产生的原因及消除方法 　　1试验机安装不正确产生的误差 　　试验机安装不水平，会增加各活动部件之间的摩擦力，影响垂直安装，从而给试验机带来误差。 　　(1)主机部分安装不水平 　　工作活塞和工作油缸之间将会产生摩擦力，试验机工作平台与一侧立柱之间的导轮也会产生摩擦力，从而产生误差，一般表现为正差，且误差随着载荷的增大而减小。 　　(2)测力计部分安装不水平 　　若测力计前后安装不水平，将会使摆轴轴承之间产生摩擦力，其误差一般表现为负差。 　　综合以上两种因素产生误差的特点都是对小负荷影响大，对大负荷影响小。 　　2摩擦阻力产生的误差 　　(1)主机部分摩擦阻力 　　液压试验机的摩擦阻力主要发生在工作油缸和工作活塞之间。除安装不水平因素外，油缸内有脏物，油的粘度过大，也会造成摩擦阻力加大。另外，工作平台导轮位置不合适也会造成与一侧立柱的摩擦力增大。 　　(2)测力计部分摩擦阻力 　　测力计产生摩擦阻力的原因较多，如测力油缸与测力活塞之间有脏物，油的粘度过大，指示装置上的从动针摩擦力大，齿轮齿杆上有油污、脏物或齿杆上限位片压得过紧，测力活塞皮带磨损断裂等。 　　3消除方法 　　对于以上误差的出现，应首先检查试验机安装是否水平，对主机用框式水平尺在工作油缸外圈相互垂直的两个方向找平。对测力计在摆杆正面调整测力计前后水平，将摆杆边缘与内侧刻线对齐固定，用水平尺靠在摆杆侧面调整机体左右水平。对油缸内脏物可放油清洗并更换粘度适宜的机油。测力计指示装置从动针摩擦力过大，齿轮齿杆过脏，可用汽油清洗并调整压紧螺丝及齿杆上限位片，更换测力活塞上的皮带，这些都可以达到消除误差的目的，使试验机达到合格使用状态

对CODCr测定中干扰因素及其消除方法的探讨郭玉文环境工程2007年06期

[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/yp][color=#3333ff]ICP-MS[/color][/url]测食品中的Hg有什么好的方法消除记性效应？哪位大神有好的方法

火焰[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Wp][color=#3333ff]原子吸收光谱[/color][/url]法主要用哪些方法消除化学干扰

标定AgNO3溶液可用银量法中的任一方法，但最好选用与测定样品相同的方法，可消除方法的系统误差？

石墨炉[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Wp][color=#3333ff]原子吸收[/color][/url]分析中降低和消除背景干扰的方法：石墨炉[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Wp][color=#3333ff]原子吸收[/color][/url]分析中存在的背景吸收要比火焰[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Wp][color=#3333ff]原子吸收[/color][/url]分析严重得多。尽管已经有许多背景校正技术，然而在实际分析中，分子吸收还会引起多种非光谱干扰，即[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Mp]气相[/url]干扰。分子吸收大部分属于光解离。高浓度分子蒸气影响原子化器中的解离平衡，减少或降低了待测元素原子蒸气浓度核形成速率，抑制了[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Wp][color=#3333ff]原子吸收[/color][/url]信号或使其产生畸变，另外还会影响测定精度。因此，采用一些方法来降低或消除背景吸收干扰是非常重要的。目前，在石墨炉[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Wp][color=#3333ff]原子吸收[/color][/url]法中常采用消除背景吸收干扰的方法主要有：背景校正方法，即采用一定的装置来校正背景；经典方法，即萃取或共沉淀一类分离和预富集技术，但这种方法耗时并易受污染；选择蒸发；化学处理；电沉积；提高原子化温度等。 1、选择蒸发在使用石墨炉时，在原子化阶段前常利用选择蒸发过程，即灰化阶段，其是在原子化阶段前的预加热阶段，排除共存有机物和低沸点有机物，并使待测元素的原子尽量以单一组成形态进入原子化阶段。所以，可以通过选择合理的灰化温度和时间来降低或消除背景吸收的干扰。2、机体改进技术石墨炉[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Wp][color=#3333ff]原子吸收光谱[/color][/url]分析中，样品待测成分和背景干扰成分的挥发性质相接近时，要消除背景吸收必须采用化学处理的方法。在这些方法中，大部分是在样品中加入化学试剂，称为基体改进技术；而另一部分则是对石墨管进行处理或者在加热过程中将活性气体通入石墨炉或掺入石墨炉的保护气中。前者经常采用，后者很少采用。 关于基体改进剂的机理， 一般认为，基体改进剂是通过下面七条途径来降低干扰的。（1）使基体形成易挥发化合物来降低干扰；（2）使基体形成难解离的化合物，避免分析元素形成易挥发难解离的卤化物，降低灰化损失和[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Mp]气相[/url]干扰；（3）使分析元素形成较易解离的化合物，避免形成热稳定的碳化物，降低凝相干扰；（4）使分析元素形成热稳定的化合物，降低分析元素的挥发性防止灰化损失；（5）形成稳定的热合，降低分析元素的挥发性防止灰化损失；（6）形成强还原气氛，改善原子化过程；（7）改善机体的物理特性，防止分析元素被基体包藏，降低凝相干扰和[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Mp]气相[/url]干扰。3、石墨炉改进技术石墨管内表面的物理化学特性是影响灵敏度和精密度的重要因素，用适当方法改善石墨管的表面特性从而改善分析性能，这种技术称为石墨管改进技术，目前报道的石墨管改进技术包括石墨涂层管、难熔碳化物涂层管、玻璃状碳管、衬钽管石墨管和钨钽管热解石墨管以及金属原子化器等，其中较常用的是热解石墨涂层管和难熔碳化物涂层管两种。热解涂层石墨管是通过将有机物的热解产物热解石墨沉积在普通石墨管内表面制作而成的。其具有更高的升华点（3700℃）；抗氧化能力比普通石墨管提高数十倍；寿命更长；透气率低，试液不宜渗入，容易原子化，可减少蒸汽扩散，改善分析灵敏度和精密度。难熔化合物涂层管是应用易形成碳化物的元素的溶液处理石墨管表面，使之生成更难溶的碳化物，经过这样处理的石墨管可以提高一些元素的灵敏度和延长管的寿命。在普通石墨管和热解涂层石墨管上可以涂复V、Nb、Ta、Zr、Hf、W、Mo、La、Y的碳化物，由于改善了石墨管表面的物理化学特性，可是许多元素分析灵敏度得到改善。4、石墨平台取样技术其是在石墨管中央放置一个石墨平台，将样品放在平台上而不是放在管壁上。当石墨炉升温时，首先管壁加热，随后管壁的热辐射再将平台加热，样品接受平台上的热量后发生干燥、灰化和原子化。平台升温滞后于关闭升温使平台炉的基本特征，当石墨炉管壁升温达到原子化温度时，而平台的温度还未达到，继续升温，平台达到原子化温度时，试样元素开始原子化，此时管中气氛（温度）已处于稳定不变的状态，其效果是将原子化延迟到“炉内环境”已达到稳定不变的高温时刻才发生，以接近和达到等文原子化。采用石墨平台取样技术有利于减轻或消除基体引起的背景吸收和化学干扰以及物理干扰。这种方法在实际工作常被采用。5、萃取分离技术萃取是广为人知的分析技术。在石墨炉[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Wp][color=#3333ff]原子吸收[/color][/url]分析中，使用最多的是有机萃取。通过萃取使共存元素同待测元素分离，因而对复杂基体也能起到减小和避免背景吸收干扰的作用。另外还可以通过调整样品和有机试剂的体积比富集待测元素。6、背景校正技术（1）双波长背景校正法（很少采用）（2）连续光源背景校正法（3）塞曼效应背景校正法（4）自吸效应背景校正法（5）连续光源中阶梯单色器波长扫描背景校正法（CEWM）（尚无商品仪器）

在封电极时，有什么好的方法尽量消除电极材料与封装材料的微缝隙

1. ICP-OES的干扰消除方法有三种：一种是基体匹配，一种是加内标，一种是数学校正。大家在分析测试过程中往往只采用了其中的一种，但是个人通过实践发现，如果能将其中的两种联合使用效果会更好。2. 1、基体匹配操作容易，但有些特殊样品，很难进行基体匹配，这是困扰所在。2、加内标，可以有效控制仪器的漂移与一定的干扰。但现在的仪器漂移都很小，内表起到的作用不知道有多大。3、标准加入法可以起到一定作用，但操作过于麻烦，对于每天有很多试样测定的人来说，无疑十不可行的。4、数学校正方法很多，有的是利用分峰，有的是利用最小二乘法等。达到的效果也是不同的。对待一些数据的处理有很多种方法，算起来有12种之多，不知道把这些算法应用到原子光谱中，会怎样。用于icp中，可能cid监测器的仪器比较容易实现。3. 在原子发射光谱法中一般将干扰分为光谱干扰和非光谱干扰两种，光谱干扰指的是那些分析线没有被完全分开时所产生的干扰，其中包括背景干扰；非光谱干扰指的是那些已经被完全分开的谱线受基体组分的影响而使其强度增强或减弱效应。采用内标法补偿的是非光谱干扰，采用基体匹配的主要目的也是消除非光谱干扰，而采用数学处理的方法大多数主要是为了克服光谱干扰的影响。理论上讲要做到真正的完全基体匹配是很困难的和很麻烦的，除非样品组成非常简单。加标法可以看成是另一种形式的基体匹配法。对于内标法，如果使用的仪器具有此项功能，则使用起来就非常方便，但这种方法的效果与内标线的选择有很大关系，有的时候可能会因条件所限找不到特别理想的内标。对于数学处理，通常是仪器具有哪些方法我们就只能选择那些方法，如果自己去处理的话，除非你有这方面的软件，否则就非常的麻烦。

原子荧光光谱测定土壤和水系沉积物中硒的干扰来源及消除方法

[img]http://www.instrument.com.cn/bbs/images/affix.gif[/img][url=http://www.instrument.com.cn/bbs/download.asp?ID=101656]火焰[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Wp][color=#3333ff]原子吸收[/color][/url]法中同时消除背景和物理干扰的方法[/url]

上接第一篇 电感耦合等离子体质谱仪器进展电感耦合等离子体质谱法的技术进展，干扰及消除方法本文主要概述了最近关于电感耦合等离子体质谱仪器在进样系统、雾化器、等离子进样过程、等离子体电离过程和检测器方面的一些最新的研究动态。介绍了其中各个方面所取得的成果。论述了分析过程中可能存在的各种干扰产生的原因和消除干扰的各种方法以及方法的优缺点。1前言经过近三十年的发展，电感耦合等离子体质谱（ICPMS）技术已经取得了极大的发展。该技术提供了极低的检测限、极宽的动态线性范围,谱线简单、干扰少、分析精密度高,可进行多元素同时快速分析,可使用同位素稀释法与多种分离技术及进样方法相结合,能适应于复杂体系的痕量或超痕量元素分析。目前，在电感耦合等离子体质谱技术上面的突破性技术已经越来越少，但在ICPMS应用方面却在不断的扩大，因此有许多人认为ICPMS技术已经成熟了。ICPMS仪器大部分都是四级杆的分析器，其中四级杆分析器的质谱仪占了市场的95%左右，其它主要是扇形磁场和少量飞行时间分析器的质谱仪。在电感耦合等离子体质谱技术上最新的进展是2010年PITTION峰会推出的NexION 300和SPECTRO MS。目前每年发表的有关于ICPMS的文献已经超过1000篇了，但是其中绝大部分是关于应用的文献，其中具体对ICPMS仪器研究的比较少。ICPMS和其它技术的联用也是当今最为关注的话题，尤其是和激光、色谱、电泳和颗粒分析等技术的联用，而关于电感耦合等离子体质谱质谱仪器本身的一些技术研究较少。2 电感耦合等离子体质谱仪器进展2.1直接进样系统2.1.1 单限流器进样使用特氟龙的管连接单限流器将样品引入炬管后使用ICPMS直接测量气体中的碳同位素，这样不需要使用质量流量控制器从而避免因其产生的同位素分馏。2.1.2 气体转化器进样有一种新的廉价气体转化器用来实时测量大气颗粒物（APM），它对环境大气颗粒物动力学学研究十分重要。这个装置由两个同心炬管组成：一个能使空气样品流动的多孔硅管，另一个供载气流动的硼硅酸盐玻璃管引入氩气。因为两个炬管的分压不一样，在空气中气体分子与氩气进行交换，然后大气颗粒物就在氩气的载带下进入等离子体中。为了提高气体交换效率，三个气体交换器并行使用，以保证650mL/min的空气引入速率和7 L/min吹扫氩气速率，各种大小的大气颗粒物能够被直接引入ICP火炬管中。不过，这种方法是将颗粒物转化成噪声信号，如果该信号有许多尖形峰，那么说明有许多粗糙的颗粒物进入了等离子气体中。如果能够采用粒度控制仪来控

[img]http://www.instrument.com.cn/bbs/images/affix.gif[/img][url=http://www.instrument.com.cn/bbs/download.asp?ID=101658][url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Wp][color=#3333ff]原子吸收[/color][/url]分光光度法在样品分析中的干扰及消除方法[/url]

一、怎样用洗涤法消除恶臭?臭气由多种可溶于液体的成分组成，可用洗涤法除去。洗涤法就是用水或别的洗液把恶臭成分洗涤除去的方法。其中，因氨类、胺类、低脂肪酸类等恶臭成分在水中溶解度较大，用水洗涤法净化效果很好。有时为了进一步提高净化效率，向水中加入不同的洗涤液，可收到更理想的结果。含有多种恶臭物质的混合气体，可用酸碱脱臭装置进行处理。该装置包括三个洗涤塔，即一个水洗塔、一个酸洗塔和一个碱洗塔。恶臭气体经三段洗涤，可使不同的恶臭物质均得到净化，干净气体排入大气。水槽、酸憎、碱槽的洗涤液吸收的恶臭物质达到一定浓度后，分别由水泵打入中和槽进行中和，废液一般不再进行处理，直接排入下水道。在此流程中可选用多种塔型，如填充塔、泡沫塔等。只要洗液能与气体充分混合，并保持足够大的接触面积，就能获得较高的洗净效率。恶臭物质不一定都是气态，有时也会含有一定粉尘、烟雾等物质。此时，在脱除恶臭过程中可用除尘、除雾的办法把这些固态、液态物质一并除去。

在使用原子吸收光谱仪分析时，虽然干扰很少，但也会因各种原因出现。 物理干扰就是原子吸收光谱仪分析时产生的干扰的一种，物理干扰是指试样在专一、蒸发和原子化过程中，由于试样物理性质变化而因为的原子吸收信号强度变化的效应，属于非选择性干扰。 物理干扰产生的原因： 在火焰原子吸收中，试样溶液的性质发生任何变化，都直接或间接影响原子化各级效率。如试样的黏度发生变化，则影响吸喷速率进而影响雾量和雾化效率。若标样的黏度比试样小，分析结果误差是负的。 当试样中存在大量基体元素时，在蒸发解离过程中饭不仅消耗大量热量，还可能包裹待测元素，延缓待测元素的蒸发，影响原子化效率。 消除物理干扰的方法： 最常用的方法是配制与待测试液基体相一致的标准溶液；当以上方法有困难时，可采用标准加入法；当被测元素在试液中浓度较高时，可将溶液稀释；在试液中加入有机溶剂，改变试液的黏度和表面张力，提高分析灵敏度。同时，加入有机溶剂会增加火焰的还原性，从而使得难挥发，难熔化合物解离为基态原子。多数情况下，使用酮类或者酯类效果较好。

标准加入法可以消除基体的干扰，不能消除背景干扰，怎样才能同时消除背景干扰呢？资料上说用双波长法可以消除背景干扰，怎样才能在一个方法中联合使用呢？另外双波长法是否一定要使用双通道的机器？一般的可以不？