现代镀膜

英国HHV Auto306 科研工作者和电子显微学家的多功能镀膜设备 HHV Auto306是一种多功能的紧凑型镀膜设备，设计用于满足科研工作者和电子显微学家的需求。Auto306可配备各种真空系统、真空腔室和标准化工艺附件，提供一系列实验技术以满足现代化实验室的需要。 Auto306可选择配置钟罩式玻璃腔室、圆柱形玻璃腔室，也可以配置通用的FL400前开门式不锈钢箱式腔室。FL400腔室具有额外的高度与宽度，适用于安装较多的工艺附件。 客户可选择的模块化工艺附件，包括热阻蒸发源及其控制电源、电子束蒸发源、遮挡板、基片夹具以及膜厚监控仪等。 真空系统由触屏PLC控制和监控，易于操作；高真空泵选择包括扩散泵、涡轮分子泵、冷凝泵，并使用油封或干式泵作为支持泵。集成的具有备用电池的高真空阀门可在意外情况时保护泵和样品。

产品详情英国HHV Auto306 科研工作者和电子显微学家的多功能镀膜设备 HHV Auto306是一种多功能的紧凑型镀膜设备，设计用于满足科研工作者和电子显微学家的需求。Auto306可配备各种真空系统、真空腔室和标准化工艺附件，提供一系列实验技术以满足现代化实验室的需要。 Auto306可选择配置钟罩式玻璃腔室、圆柱形玻璃腔室，也可以配置通用的FL400前开门式不锈钢箱式腔室。FL400腔室具有额外的高度与宽度，适用于安装较多的工艺附件。 客户可选择的模块化工艺附件，包括热阻蒸发源及其控制电源、电子束蒸发源、遮挡板、基片夹具以及膜厚监控仪等。 真空系统由触屏PLC控制和监控，易于操作；高真空泵选择包括扩散泵、涡轮分子泵、冷凝泵，并使用油封或干式泵作为支持泵。集成的具有备用电池的高真空阀门可在意外情况时保护泵和样品。

货号：208HR供应商：广州科适特科学仪器有限公司现货状态：一个月保修期：1年数量：不限规格：208HR208HR高分辨离子溅射仪为场发射扫描电镜应用中遇到的各种样品喷镀难题提供真正的解决方案。场发射扫描电镜观察时，样品需镀上极其薄、无细晶且均匀的膜层以消除电荷积累，并提高低密度材料的对比度。为了将细晶的尺寸减小到最小程度，208HR提供了一系列的镀膜材料，并对膜厚和溅射条件提供无可媲美的控制。208HR分子涡轮泵高真空系统提供宽范围的操作压力，可以对膜层的均匀性和一致性进行精确控制，并最大程度减小充电效应。高/低样品室的结构设计使靶材和样品之间的距离调节变得极为方便。MTM-20高分辨膜厚控制仪分辨率小于0.1nm，其作用是对所镀薄膜的厚度进行精确控制，它尤其适合场发射电镜对膜厚（0.5－3nm）的要求。 场发射扫描电镜镀膜推荐的靶材是：Pt/Pd：非导电样品镀膜的通用镀膜材料Cr：优良的半导体样品的镀膜材料Ir：优良的真正无细晶的镀膜材料208HR系统为得到最佳高分辨镀膜效果提供了多种配置选择，可配备标准的旋片泵或提供干净真空的无油涡旋式真空泵，标配的208HR包含Cr 和 Pt/Pd靶。一、主要特性 可选择多种镀膜材料 精确的膜厚控制 样品台控制灵活：可对样品台进行独立的旋转、行星式转动、倾斜控制，保证形貌差异大的样品也能得到最佳的镀膜效果。 多个样品座：提供4个样品座，每个样品座直径32mm，可装载多达6个小样品座。 样品室几何可变： 样品室几何用于调节镀膜的速率（1.0nm/s ～ 0.002nm/s） 宽范围的操作压力：独立的功率和压力调节，氩气的压力大小范围为0.2 - 0.005 mbar。 紧凑、现代的桌上型设计 操作容易二、技术参数溅射系统镀膜头低电压平面磁控管靶材更换快速环绕暗区护罩靶材调节遮挡靶材Cr, Pt/Pd (标配) Ta, Au, Au/Pd, Pt, W, Ir , Ti（选配）镀膜控制微处理器控制安全互锁电流控制与真空度无关数字化可选电流（20，40，60 和 80mA）样品室大小直径150mm 高度165 - 250mm样品台非重复的旋转、行星式转动，并可手动倾斜0-90° 转动速度可调 晶体头 4个样品台模拟计量真空 Atm - .001mb 电流 0-100mA 控制方法自动气体净化和泄气功能自动处理排序带有“暂停”功能的数字计时器自动放气膜厚控制MTM-20高分辨膜厚控制仪真空系统结构分子涡轮牵引泵和旋叶泵组合，代替旋叶泵的无油涡旋式真空泵（选配）抽真空速度0.1mb 下300 l/min抽真空时间1 mbar 至 1 x 10-3mbar极限真空1 x 10-5mbar桌上型系统旋叶泵置于抗震台上，全金属真空耦合系统膜厚测控仪MTM-20基于微处理器，4位数字显示，复位按钮， 6MHz晶体（具有寿命检查功能），5次/s的更新速率膜厚范围0.0 - 999.9nm分辨率优于 0.1nm密度范围0.50 - 30.00gm/cm3修正系数范围0.25 - 8.00镀膜终止范围膜厚0 - 999.9nm系统要求电气100-120 或 200-240VAC, 50/60Hz功率550VA（最大）氩气最小纯度99.995% 调节压力 5 - 6 psi (0.4 bar)6.0mm ID连接软管

Q150R PLUS 系列全自动真空镀膜仪Q150R Plus适用于钨灯丝/LaB6/部分场发射和台式SEM。通过Q150R E＆ES Plus碳绳镀膜可用于元素分析，Q150R S＆ES Plus可用贵金属靶材溅射镀膜。推荐放大倍数：? Au、Au/Pd可达5万倍? Pt（可选）可达10万倍推荐应用：? 中低倍放大倍数观察? 增强二次电子信号（1nm或更小）? 台式SEM镀膜? 元素分析（EDS）? 敷铜层研究Q150R Plus 功能特点：1）全新升级的用户界面：? 电容式触摸屏，灵敏度高，更易触控使用? 用户界面软件全面更新，使用现代智能技术界面? 全面的文字帮助页面? USB接口可轻松进行软件更新和数据备份? log文件格式为.csv，内含日期、时间和工作参数，导出后可在Excel或类似软件中分析? 16GB的闪存可储存超过1000条镀膜方案? 双核ARM处理器，可实现快速响应的显示2）允许多用户输入和储存镀膜方案，并根据近期的使用来排列每个用户的方案。3）智能逻辑系统自动识别插入头，并显示相应的操作设置和控制。4）系统提示用户确认靶材，然后自动为该材料选择合适参数。5）直观方便的软件，即使新手也能快速输入和存储其处理参数，创建自己的镀膜程序，且系统已存储典型的溅射和镀碳程序可供直接调用。6）如果软件检测到在一段时间内无法达到设定真空度，系统会终止程序，以防真空泵过热。7）可互换的插入头：允许用户将系统配置为溅射镀膜仪、蒸镀仪或辉光放电系统 - 所有这些系统都可集成在一个设备中，节省空间。可选碳绳蒸发。可自动检测识别插入头类型。8）可拆卸腔室，设有防爆罩：可拆卸玻璃腔室，易清洁底座和顶板。如需要，用户可快速更换腔室以避免敏感样品交叉污染。高腔室选项可用于碳蒸发，避免样品过热；提高溅射的均匀性和承载较高尺寸的样品。9）多种样品台可选：Q150R Plus具有可满足大多数要求的样品台。所有样品台都是插入式（无螺丝），易于更换。10）安全性：Q150R Plus符合行业CE标准Q150R Plus系列镀膜仪具有三种型号：1）Q150R S Plus全自动溅射镀膜仪，可溅射不氧化金属。可溅射的靶材包括金、金/钯合金和铂。2）Q150R E Plus全自动碳绳蒸镀仪，适合SEM领域的EDS和WDS应用。3）Q150R ES Plus集成了离子溅射和碳蒸镀两种方式的全自动镀膜系统。镀膜头可在数秒内更换。Q150R Plus是Quorum Technologies出品的国际认可的Q系列镀膜仪的一部分，全球数千家客户使用此类镀膜仪。Q系列旨在为SEM、TEM和薄膜应用提供高质量的镀膜解决方案，Q系列功能多样、价格合理且易于使用。Q150R Plus主要操作参数：离子溅射：溅射电流范围宽，至预设厚度（需选用FTM）终止或定时终止。超长的可设溅射时间，无需破真空，自动内置冷却占空比。蒸镀：稳定的无杂波直流电源控制的脉冲蒸发，确保碳绳蒸镀的重复性。脉冲蒸发电流范围宽。可视化状态指示：大而多色的LED指示灯，使用户在一定距离就可轻松识别过程状态。指示灯可显示以下状态：◆ 初始化中 ◆ 程序运行◆ 空闲状态 ◆ 正在镀膜◆ 程序完成 ◆ 故障停机状态程序完成后音频声音提示覃思科技是英国QUORUM仪器中国区代理商和服务商，更多仪器信息请访问 精研覃思，无微不至，欢迎新老客户来电来函咨询选购！

产品简介： GSL-1800X-ZF2蒸发镀膜仪主要应用于大专院校、科研机构、企业实验室及进行微小产品真空镀膜工艺研究、样板试制、操作培训和生产的单位。镀膜仪在蒸发镀膜过程中样品台可以进行旋转，使蒸发的薄膜材料在样品表面均匀分布。配有两组蒸发单元，一个钨舟，一个钨丝篮；钨舟中可以放粉末状的薄膜材料，钨丝篮中可以放条状或块状薄膜材料。控制屏采用7英寸TFT显示屏显示操作界面，TFT式显示器具有高响应度、高亮度、高对比度等优点，触屏操作，实现全图形化界面，易用易懂。镀膜仪使高真空的蒸发镀膜设备，真空度可达3.0×10-4torr。 产品型号 GSL-1800X-ZF2蒸发镀膜仪安装条件本设备要求在海拔1000m以下，温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。1、电：AC220V 50Hz，必须有良好接地2、工作台：落地式，占地面积2m2以上3、通风装置：需要主要特点 1、采用桌面小型一体化结构，将真空腔体、镀膜电源及控制系统进行整合设计，体积与一台A3打印机相仿。 2、采用电阻式双蒸发源结构，可快速实现蒸发源的转换。蒸发单元中装有两组蒸发电极可安装不同的蒸发源，适应相应的镀膜材料。 3、配有0.1%精度蒸发电源，并具有恒流输出功能，对蒸发舟能起到很好的保护作用。 4、可选配石英晶体膜厚控制仪，在镀膜过程中对镀膜速率和膜层厚度进行控制。 5、可将采集到的镀膜数据保存到U盘，便于用户分析控制（选配）。 6、本机将所有功能设计成标准化模块，根据用户不同的需求对相应模块进行组合，以达到优化的镀膜环境，并便于用户维修与维护。 7、操作控制采用7英寸TFT显示屏显示操作界面，触屏操作，实现全图形化界面，易用易懂。技术参数 1、电源：AC220V 1500W 2、蒸发电源功率：1000W 5V 200A 3、蒸发电极有效距离：44mm 4、样品台：?120mm（可旋转） 5、膜厚测量精度：0.1?或0.01?（可选配高精度型） 6、外接真空机组：扩散泵机组（可选配国产110机组或进口机组）（不建议使用扩散泵） 7、极限真空度：3.0×10-3torr（扩散泵）、3.0×10-4torr（分子泵）（不建议使用扩散泵） 8、工作真空度：5.0×10-3torr 9、真空接口：KF40 10、使用环境：温度35℃，湿度75%（相对湿度）不结露，海拔1500m产品规格　尺寸：440mm×240mm×260mm（不包括真空机组）；重量：约47kg（不包括真空泵）

美国Denton金/碳镀膜机 丹顿真空公司位于美国费城，是世界著名真空镀膜设备制造商。从1964年成立至丹顿已为全球客户制造了数千台多种规格的蒸发设备、溅射和PECVD镀膜系统，用于大工业生产、科研开发和小规模制造。丹顿用于科研开发和小规模制造的中小型镀膜设备据美国市场占有率之首。Desk V HP 专用电子显微镜样品制备 – SEM TEM FE-SEM 金/碳镀膜机特点● 内置泵系统● 极短的沉积时间● 一致的沉积参数● 图形界面彩色触摸板● 薄膜厚度控制● 样品清洁的蚀刻模式● 多样靶材材料选择● 更多可选功能

美国omega光学公司自1969年成立至今，专业于光学滤光片的研发和生产，在该领域内已取得成就与声誉，Omega公司多年来的一直致力于对产品的丰富完善，可以满足客户对不同波长范围、不同带宽精度、不同规格尺寸、不同应用领域等等一系列的细节要求，成为许多高质量用户的主要选择。现推出超大尺寸镀膜！大尺寸镀膜难以做到镀膜的均衡，omega光学现推出大尺寸镀膜可满足您的定制需求

GVC-5000镀金镀碳一体机(多功能镀膜仪)-配备磁控溅射逐渐和热蒸发镀膜组件，即可实现磁控溅射各种金属膜，也可实现热蒸发度碳膜。双组件共存，工作时只需将样品放置与对应的组件下方即可，无需更换组件，操作非常方便。GVC-5000镀金镀碳一体机(多功能镀膜仪)全自主知识产权1、双组件设计配备磁控溅射逐渐和热蒸发镀膜组件，即可实现磁控溅射各种金属膜，也可实现热蒸发度碳膜。双组件共存，工作时只需将样品放置与对应的组件下方即可，无需更换组件，操作非常方便。2、防污染挡板设计全自动防污染挡板，在磁控溅射模块工作时自动切换到镀碳组件，防止蒸发源收到污染，反之亦然。3、一键切换两种工作模式一键切换，每次开机自动进入上次关机的工作模式。4、全自动操作

产品简介： GSL-1800X-ZF4蒸发镀膜仪是一款高真空的镀膜仪，特别适合蒸镀对氧较敏感的金属膜（如Ti、Al 、Au等）和小分子的有机物。本机设有4个蒸镀加热舟，每个加热舟都可独立进行蒸镀，加热舟上方有一个可旋转挡板，当其中一个加热舟进行蒸镀时挡板将其它三个钨舟遮住，以防蒸镀材料之间相互污染。若更改部分配置也可实现对有机材料的蒸发镀膜，可满足发光器件及有机太阳能电池方面的研究要求，是一款镀膜效果理想且性价比较高的实验设备。GSL-1800X-ZF4镀膜仪腔底部配有5个水冷电极，在工作过程中可有效保护电极温度不会因温度过高而熔化，进而损坏电极。该机采用金属腔室，具有极高的真空度，真空度可达到5.0×10-7torr，样品台可对样品进行加热，加热温度为室温-500℃，是进行高真空蒸发镀膜的设备。产品名称GSL-1800X-ZF4蒸发镀膜仪产品型号GSL-1800X-ZF4安装条件本设备要求在海拔1000m以下，温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。1、水：设备配有自循环冷却水机（加注纯净水或者去离子水）2、电：AC220V 50Hz，必须有良好接地3、工作台：落地式，占地面积2m2以上。4、通风装置：需要主要特点1、真空控制单元全部集合在一个控制盒内。2、采用独立的蒸镀电流控制器，操作方便快捷。3、真空腔体设有1个KF40旁抽阀（直接与前级机械泵相连，提高效率）、1个CF150闸板阀（直接与分子泵相连）、1个KF16法兰（安装电阻规）、6个CF35法兰（1个安装电离规，1个安装2芯电极，1个安装膜厚仪）3个备用。4、在腔体底部配有5个水冷电极，可支持4个蒸镀加热舟。5、样品台安装在腔体的顶部。6、腔内可装高分辨率的薄膜测厚仪，膜厚测量分辨率（铝）为0.1?。7、可使用循环水冷机。技术参数1、输入：单相AC220V，50Hz/60Hz，功率2.16KW（不含真空泵）2、蒸发输出：电压AC 0-8V连续可调，极限蒸发电流200A，极限蒸发功率1.6KW3、真空腔：?300mm（内径）×400mm，不锈钢，内壁经电抛光处理4、观察窗：?100mm，采用密封圈密封5、真空泵：高抽速涡轮分子泵，抽速600L/s6、真空度：8.0x10-4Pa7、极限真空8.0x10-5Pa8、漏率：6.7×10-8PaL/S9、样品台：φ12010、蒸发舟与样品台间距：150-210mm11、冷却水需量：15L/min产品规格尺寸：900mm×1100mm×1800mm；重量：230kg

溅射镀膜设备SMD系列（立式）SMD 系列是镀金属膜、ITO、IGZO、诱电体膜等的枚叶式溅射镀膜设备。仅SMD系列就有超过1000台的丰富的采用实绩，在各种各样的生产环境下运转。及时反映从生产现场听取的意见，进一步提高设备的可靠性。产品特性 / Product characteristics&bull 仅基板搬送和侧面镀膜的方式，低particle&bull 节约空间的设计&bull 可以轻松的完成单独基板管理，如成膜条件&bull 根据镀膜物不同选择不同的阴排列&bull 丰富的经验和数据支持，广泛的镀膜工艺对应产品应用 / Product application&bull Display（TFT、智能手机、平板电视（2K、4K）、OLED）产品参数 / Product parameters1、公司介绍深圳市矢量科学仪器有限公司成立于 2020年，由武汉大学团队孵化，致力泛半导体实验线、中试线、生产线装备及工艺和厂务技术服务于一体的国家高新技术企业、创新型中小企业、科技型中小企业。公司主要业务如下:装备销售:半导体道制程工艺装备、后道封装装备、半导体分析测试装备、半导体光电测试仪表。设备服务:驻场或者 oncall，装备维护、保养、售后技术支持。厂务服务:驻场或者 oncall，人力服务及厂务二次配工程。经历五年高速发展，2023 年营业额达 3.2 亿，连年复合增长率达 300%，现处于稳定扩张期。2、成长历程&bull 2020年（公司成立年）&bull 2300万订单额2021年 7000万订单额2022年 2.5亿订单额2023年3.2亿订单额

三靶等离子溅射镀膜仪是我公司自主研发的一款高性价比等离子溅射镀膜设备，等离子溅射靶为2英寸的标准尺寸，客户可以根据需要选择1~3个靶的不同配置，以满足镀单层膜或者多种材料多层膜的不同实验需求。仪器所配电源为150W直流高压电源，可用于金属溅射镀膜，尤其适合金银铜等贵金属的镀膜。镀膜仪配有通气接口，可以通入保护性气体。仪器采用触摸屏控制，简单直观易于上手，能够一键实现镀膜启停、切换靶位、挡板旋转等操作，十分适合实验室选购。本镀膜仪标配为双极旋片真空泵，其具有体积小，抽真空快，操作简单的优势，若客户有进一步提升真空度的需要，可以联系技术人员选配分子泵组组成高真空系统。三靶等离子溅射镀膜仪适用范围： 可用于金属溅射镀膜，尤其适合金银铜等金属的镀膜。三靶等离子溅射镀膜仪技术参数：三靶等离子溅射镀膜仪样品台尺寸φ138mm控温精度±1℃加热温度*高500℃转速1-20rpm可调直流溅射头数量2"×1 （1~3个靶可选）真空腔体腔体尺寸φ180mm × 150mm观察窗口全向透明腔体材料高纯石英开启方式顶盖上翻式真空系统机械泵旋片泵抽气接口KF16真空测量电阻规排气接口KF16极限真空1.0E-1Pa供电电源AC 220V 50/60Hz抽气速率旋片泵：1.1L/S电源配置数量直流电源 x1*大输出功率150W其他供电电压AC220V,50Hz整机尺寸360mm × 300mm × 470mm整机功率800W整机重量40kg

单靶等离子溅射镀膜仪是我公司自主研发的一款高性价比等离子溅射镀膜设备，具有结构紧凑，简单易用，集成度高，设计感强的优势。等离子溅射靶为2英寸的标准尺寸，客户可以根据需要选择1~3个靶的不同配置，以满足镀单层膜或者多种材料多层膜的不同实验需求。仪器所配电源为150W直流高压电源，可用于金属溅射镀膜，尤其适合金银铜等贵金属的镀膜。镀膜仪配有通气接口，可以通入保护性气体，若客户需要通入混合气体，可以联系工作人员自行配置高精度质量流量计以满足实验需要。 单靶等离子溅射镀膜仪适用范围：可用于金属溅射镀膜，尤其适合金银铜等金属的镀膜。主要技术参数样品台尺寸Φ138mm加热温度最高500℃控温精度±1℃转速1-20rpm可调等离子溅射头1支2寸等离子靶真空腔体腔体尺寸Φ180mm×150mm 腔体材料高纯石英观察窗口全向透明开启方式顶盖拆卸式前极泵VRD-4抽气速率旋片泵：1.1L/S 极限真空1.0E-1Pa抽气接口KF16排气接口KF16真空测量数字真空计其他供电电压AC220V,50Hz整机功率800W溅射真空20Pa整机尺寸长360mm宽300mm高470mm整机重量30Kg

Q300T T Plus–三靶溅射镀膜仪，适用于200mm直径的试样 Q300T T Plus是一种大腔室涡轮泵溅射镀膜系统，非常适合溅射单个直径高达8〃/200mm的大直径试样或多个直径相似的较小试样。非常适合薄膜应用和SEM/FE-SEM应用。它配备了三个溅射头，以确保单个大样本或多个样本的均匀镀膜。

真空镀膜厚度仪金属镀层测厚仪是一种用于精确测量金属镀层厚度的仪器，它对于镀铝膜、真空镀膜、镀铝纸等材料的质量控制具有重要意义。该仪器采用电阻法作为检测原理，通过测量电阻值的变化来推算金属镀层的厚度。 金属镀层测厚仪主要由测量探头、测量电路和数据处理系统三部分组成。测量探头通过与被测样品表面接触来获取电阻值，其内部结构通常包括一对电极和测量线路，用于测量样品的电阻值。测量电路则将探头测得的电阻值转化为可读的数据，并将其传输到数据处理系统进行处理。 在测量镀铝膜、真空镀膜和镀铝纸等材料时，金属镀层测厚仪能够对其表面和底层的电阻值进行精确测量。由于不同金属材料的电阻率不同，因此可以通过测量电阻值的变化来推算金属镀层的厚度。具体来说，金属镀层测厚仪会根据样品的电阻值变化来计算出金属镀层的厚度，并将结果以数字或图表的形式显示出来。 金属镀层测厚仪具有高精度、高分辨率和高灵敏度的优点，能够准确地测量出金属镀层的厚度，从而为生产厂家提供可靠的质量保证。同时，该仪器还具有操作简单、使用方便的特点，能够满足工业生产中对快速、简便测量的需求。 金属镀层测厚仪的优点还包括其非破坏性测量方式，即不会对被测样品造成损害。这使得生产厂家可以在生产过程中进行在线测量，及时发现并解决问题，大大提高了生产效率和产品质量。此外，金属镀层测厚仪还可以通过计算机接口实现数据共享和远程控制，提高了测量的自动化程度和便捷性。 金属镀层测厚仪是一种高精度、高分辨率、高灵敏度的仪器，采用电阻法检测原理，能够准确地测量出镀铝膜、真空镀膜、镀铝纸等材料金属镀层的厚度。它具有操作简单、使用方便和非破坏性测量等优点，适用于工业生产中的在线测量，能够提高生产效率和产品质量。 技术参数 厚度测量范围 厚度50-570&angst 方块电阻测量范围 0.5-5Ω 方块电阻测量误差 ±1% 样品尺寸 100×100mm 夹样精度 ±0.1mm 测温范围 0～50℃，精度±1℃ 外形尺寸 370mm×330mm×450mm （长宽高） 重 量 19kg 工作温度 23℃±2℃ 相对湿度 80%,无凝露 工作电源 220V 50Hz 真空镀膜厚度仪此为广告

双靶磁控溅射镀膜仪双靶磁控溅射镀膜仪为我公司研发的配有两个靶位的小型实验室用镀膜仪，可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜等。磁控溅射相较于普通的等离子溅射拥有能量高速度快的优点，镀膜速率高，样品温升低，是典型的高速低温溅射。磁控靶配有水冷夹层，水冷机能够有效的带走热量，避免热量在靶面聚集，使磁控镀膜能长时间稳定工作。与同类设备相比，这款双靶磁控溅射镀膜仪不仅应用广泛，且体积小便于操作，是一款实验室制备薄膜的理想设备。技术参数：项目明细供电电压AC220V，50Hz整机功率3KW极限真空度10-6torr载样台参数尺寸φ140mm加热温度最高500℃控温精度±1℃转速技术参数： 1-20rpm可调磁控溅射头参数数量2个2”磁控溅射头冷却方式水冷，所需流速10L/min水冷机规格16L/min流速的循环水冷机真空腔体腔体尺寸φ300mm X 300mm H腔体材料不锈钢观察窗口φ100mm开启方式上顶开式，便于更换靶材气体流量控制器4路分别通N2，Ar，O2，空气； 量程均为0-500sccm真空泵配有一套分子泵系统，抽速600L/S膜厚仪石英振动薄膜测厚仪一台，分辨率0.10 ?溅射电源直流电源一台，500W，适用于制备金属膜射频电源一台，300W，适用于非金属镀膜操作方式面板按钮操作整机尺寸1400mm X 750mm X 1300mm整机重量300kg

Zygo光学元件光学镀膜ZYGO世界一流的镀膜设计工程师和技术人员与我们的计量和光学制造团队紧密合作，为我们的客户提供“一站式购物”体验。这简化了您的供应链，降低了项目风险和整体时间。如果您的基材在镀膜后必须满足所有要求，请选择一个单一的垂直整合制造商。反射涂层保护性和增强金属（金、银、铝）铬镍铁合金、镍、铬和钛多层定制电介质设计减反射涂层UV到MWIR光谱范围（248nm到5μm）宽带（BBAR），单频或双频，还提供定制设计EMI网格上的减反射涂层特殊涂层高LIDT，包括飞秒激光应用滤波器分光镜ZYGO的优势工程设计、制造、计量、镀膜一应俱全直径达45英寸[1145mm]和重量达300磅[136kg]的大型基板在各种材料上沉积定制镀膜设计根据标准MIL、ISO规格在内部进行环境和耐久性测试成熟的涂层应力补偿技术ZYGO业界领先的计量系统会在镀膜后对所有规格进行认证我们还提供涂层翻新服务

GVC-5000T镀金镀碳一体机(高真空多功能镀膜仪)双组件设计、防污挡板设计、一键切换工作模式、镀膜效率高、颗粒度小、可镀所有金属膜和ITO导电膜。镀金镀碳一体机(高真空多功能镀膜仪)全自主知识产权1、双组件设计2、防污挡板设计3、一键切换工作模式4、镀膜效率高、颗粒度小5、可镀所有金属膜和ITO导电膜6、工作过程全自动7、软硬件互锁，安全可靠 靶材-ITO 靶材-镍 靶材-铜 靶材-银 靶材-钛 靶材-钼 靶材-钨 靶材-铬

产品简介：钙钛矿镀膜机主要由有机/金属源蒸发沉积室、真空排气系统、真空测量系统、蒸发源、样品加热控温、电控系统、配气系统等部分组成。适用于制备金属单质薄膜、半导体薄膜、氧化物薄膜、有机薄膜等，可用于科研单位进行新材料、新工艺薄膜研究工作，也可用于大批量生产前的试验工作，广泛应用于有机、无机、钙钛矿薄膜太阳能电池、OLED等研究领域。 产品型号钙钛矿镀膜机主要特点1、样品位于真空室上方，蒸发源位于真空室下方，向上蒸发镀膜，且蒸发源带有挡板装置。2、设有烘烤加热功能，可在镀膜过程中加热样品，最高烘烤加热温度为180℃。3、设有断水、断电连锁保护报警装置及防误操作保护报警装置。技术参数1、镀膜室：不锈钢材料，采用方形前后开门结构，内带有防污板，腔室尺寸约为600mm×450mm×450mm2、真空排气系统：采用分子泵+机械泵系统3、真空度：镀膜室极限真空≤6×10-4Pa4、系统漏率：≤1×10-7Pa5、蒸发源：安装在真空室的下底上；有机蒸发源4个、容积5ml，2台蒸发电源，可测温、控温，加热温度 400℃，功率0.5KW；无机蒸发源4套、容积5ml，2台蒸发电源，加热电流300A，功率3.2KW； 蒸发源挡板采用自动磁力控制方式控制其开启6、样品架：安装在真空室的上盖上，可放置?120mm的样品、载玻片，旋转速度0-30rpm7、加热温度：RT-180℃，测温、控温8、膜厚控制仪：石英晶振膜厚控制仪，膜厚测量范围0-999999?

Q150T Plus系列产品经过系统优化，内置涡轮分子泵，其真空度可降至5 x 10-5mbar。Q150T Plus系列镀膜仪有三款型号：适用金属靶材镀膜（Q150T S Plus）适用镀碳（Q150T E Plus）选配金属蒸发功能同时适用金属镀膜及镀碳（Q150T ES Plus）

钙钛矿镀膜机主要由有机/金属源蒸发沉积室、真空排气系统、真空测量系统、蒸发源、样品加热控温、电控系统、配气系统等部分组成。适用于制备金属单质薄膜、半导体薄膜、氧化物薄膜、有机薄膜等，可用于科研单位进行新材料、新工艺薄膜研究工作，也可用于大批量生产前的试验工作，广泛应用于有机、无机、钙钛矿薄膜太阳能电池、OLED等研究领域。主要特点1、样品位于真空室上方，蒸发源位于真空室下方，向上蒸发镀膜，且蒸发源带有挡板装置。2、设有烘烤加热功能，可在镀膜过程中加热样品，最高烘烤加热温度为180℃。3、设有断水、断电连锁保护报警装置及防误操作保护报警装置。技术参数1、镀膜室：不锈钢材料，采用方形前后开门结构，内带有防污板，腔室尺寸约为600mm×450mm×450mm2、真空排气系统：采用分子泵+机械泵系统3、真空度：镀膜室极限真空≤6×10-4Pa4、系统漏率：≤1×10-7Pa5、蒸发源：安装在真空室的下底上；有机蒸发源4个、容积5ml，2台蒸发电源，可测温、控温，加热温度 400℃，功率0.5KW；无机蒸发源4套、容积5ml，2台蒸发电源，加热电流300A，功率3.2KW；蒸　　　　　 发源挡板采用自动磁力控制方式控制其开启6、样品架：安装在真空室的上盖上，可放置?120mm的样品、载玻片，旋转速度0-30rpm7、加热温度：RT-180℃，测温、控温8、膜厚控制仪：石英晶振膜厚控制仪，膜厚测量范围0-999999A

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广州竞赢离子溅射仪全国诚招代理广州竞赢成立于2007一直以来专业从事代理和销售国内外品牌的各类电镜耗材及电镜附属设备，客户涉及高校、科研院所、企业、政府部门等多个领域。凭借着优异的产品和服务为广州市公安局、广东医附院、复旦大学、华南理工大学、中山大学、电子五所、哈尔滨工业大学、贵州大学等等国内各地域客户建立起良好的供销关系。JY-S100磁控离子溅射仪是一款结构紧凑的桌面小型镀膜系统，特别适用于扫描电镜成像中非导电样品高质量镀膜。在扫描电子显微镜（SEM）样品制备中，JY-S100磁控离子溅射仪在不同类型的样品，如生物标本和材料样品制备中发挥着至关重要的作用。对于生物标本，JY-S100磁控离子溅射仪有助于在样品表面形成一层导电层，防止荷电效应并减少电子束对样品表面的损伤。这种导电层使得在不影响其完整性的情况下更好地成像细胞、组织和纤维等微妙的生物结构。高质量的镀膜还能增强二次电子信号，从而提高图像分辨率和对比度。对于材料样品，JY-S100磁控离子溅射仪在给样品镀上均匀且薄的导电层方面至关重要，使得样品的表面形貌和成分能够进行高分辨率成像。这对于非导电材料（如陶瓷、聚合物和复合材料）尤为重要，因为荷电效应可能导致成像伪像和失真。JY-S100提供的精确且一致的镀膜确保了SEM图像准确地反映了样品的表面特征，使研究人员能够深入了解材料的性能和性能。主要特性通过高效低压直流磁控头进行冷态精细的喷镀过程，避免样品表面受损。操作容易快捷，控制的参数包括放气以及氩气换气控制。数字化的喷镀电流控制不受样品室内气压影响，可得到一致的镀膜速率和高质量的镀膜效果。可使用多种金属靶材：Au， Au/Pd,，Pt,，Pt/Pd（Au靶为标配），靶材更换快速方便。技术参数溅射系统靶材Au 靶为标配，可选 Pt，直径 57mm x 0.1mm 厚标准样品台可以装载 12 个 SEM 样品座，高度可调范围为 60mm※旋转倾斜样品台（选配）旋转速度：0~60rpm 连续可调，倾斜角度：-90°~ 90°连续可调；不锈钢腔体：直径 120mm X 高 75mm；观察窗：直径 120mm X 高 45mm；标配旋转台直径 40mm，可放 4 个标准样品台，其它规格可订做；具有双重锁紧装置，可确保样品在旋转倾斜时不会松动脱落。溅射电流微处理器控制，安全互锁，可调，电流 5~30mA，程序化数字控制计量表真空： Atm - 1*10-3mbar，电流：0~99mA控制方法带有“开始”“暂停”按钮的微处理控制器（1－999s），自动抽气、溅射、关机后自动放气。真空系统抽气速率133L/MIN极限真空10-4 mbar 级噪音56dB

金属镀膜设备是实验室常用的镀膜设备，是一种溅射工艺.AJA成立后2年内，AJA就研发出了的ATC系列溅射系统，共焦溅射设备，带旋转基片和原位偏转磁控溅射靶源。技术突破实现了薄膜均匀性，并且可以控制单层、多层以及合金薄膜沉积。AJA专注磁控镀膜及PVD领域长达30多年，在各类别细分领域应用方面从研发到兼顾批产有着稳定的经验。AJA不仅提供成熟的研发和批量工艺，并且在的研究和应用领域，比如：声学膜、光学膜、磁学电学复合或多层多类别单膜、金属膜及合金薄膜等方面均有好的应用。其磁控核心部件如靶枪等更是广为使用。在集成化，多腔室应用方面，AJA也足具经验，从实验室到新兴材料电子行业都在积极吸收和采纳AJA的解决方案。AJA进入中国市场首先以客户（科研院所和企业）为主要应用，其中有接近一半是用户慕名主动采购。

英国真空镀膜公司(Vac Coat)是欧洲高品质薄膜沉积技术的设计者和制造商, 其技术研发团队来自剑桥大学和牛津大学的科学家和工程师, 凭借超过30年以上的物理气相沉积PVD设备的制造经验, 且在多项技术和设计等优势的加持下, Vac Coat产品已获得真空薄膜沉积领域的专家学者高度认可, 尤其DSR/DST溅射镀膜系列, DCR/DCT热蒸发镀碳系列, 可获得晶粒尺寸很细及无颗粒的高质量均匀薄膜, 十分适用于高分辨率和高质量SEM/TEM/EBSD/EDS样品的制备表征, 已遍布欧洲各大科研院所实验室和产业线.

MiniQS 作为一款高性价比离子溅射镀膜仪，能够提供可重复且操作简单的镀膜效果，其采用一个磁控溅射头及圆形靶材设计。

基本介绍产品描述 手套箱蒸镀一体机 工作原理 本系统由真空镀膜系统和手套箱系统集成而成，可在高真空蒸镀腔室中完成薄膜蒸镀，并在手套箱高纯惰性气体氛围下进行样品的存放、制备以及蒸镀后样品的检测。性能特点蒸发镀膜与手套箱组合，实现蒸镀、封装、测试等工艺全封闭制作，使整个薄膜生长和器件制备过程高度集成在一个完整的可控环境氛围的系统中，消除有机大面积电路制备过程中大气环境中不稳定因素影响，保障了高性能、大面积有机光电器件和电路的制备。技术参数材料：304不锈钢，厚度3mm 外表面：304不锈钢 内表面：油膜拉丝面使用说明设备用途 主要用于太阳能电池钙钛矿、OLED和PLED、半导体制备等实验研究与应用。 采购须知面议

真空镀膜降温制冷设备 真空镀膜降温制冷设备适用范围：广泛应用于各种工业生产（塑胶工业、电子工业、电镀工业、食品工业、医药工业、印刷工业、汽车工业、航天工业等等）。详细介绍真空镀膜降温制冷设备简单介绍：从事制冷行业及塑机自动化多年，主要研发制造，水冷式水循环工业制冷机系列、冷风机系列、空调系列、冷油机系列、恒温恒湿机等温（湿）度控制设备系列解决方案。水冷式水循环工业制冷机是现代工业先进的制冷设备，是现代工业发展的一款重要的辅助制冷设备，是一门科学的物理设备。是宝驰源公司根据各厂家的需要诚意推出的一系列崭新设计的产品其规格有几十种，制冷范围从1315大卡到1892000大卡，冷冻出水温度范围3℃—30℃。配置说明：主机采用欧美日进口品牌压缩机，运行可靠，效率高，噪音低。意大利进口水泵，压力大，稳定性高，恒久耐用；台湾邦普电脑板控制器，精度高，使用范围广；完善的电气保护系统，具有缺相、相序保护、电流过载保护、高低压保护等，确保机组的正常运行。产品出厂时已调试好，用户只需按使用说明书进行电气线路和冷却水冷冻水管路连接，即可投入使用。运用范围：广泛应用于各种工业生产（塑胶工业、电子工业、电镀工业、食品工业、医药工业、印刷工业、汽车工业、航天工业等等）。 1，UV固化机：　 特点：无级调光+水冷却+金属卤素灯=节能+低温+高效，灯室内采用水冷+风冷式排热，灯管下方加装隔热石英玻璃，有效降低被照物表面温度，保护干燥物品不会受热变形，延长灯管使用寿命；CJW水冷系列 适合：胶印机、凹印机、柔印机、上光涂布机等国内外印刷设备。胶印机如：德国曼罗兰、海德堡、高宝、日本小森、良明、三菱、樱井、北人等。凹印机如：瑞士博斯特、意大利赛鲁迪、西安黑牛、中山松德 2、超声波清洗机：　 经研究证明：超声波作用于液体中时，液体中每个气泡的破裂会产生能量极大的冲击波，相当于瞬间产生几十度的高温和高达上千个大气压，这种现象被称之为“空化作用”，超声波清洗正是用液体中气泡破裂所产生的冲击波来达到清洗和冲刷工件内外表面的作用。超声波在液体中传播，使液体，与清洗槽在超声波频率下一起振动，液体与清洗槽振动时有自己固有频率，这种振动频率是声波频率，所以人们就听到嗡嗡声。　 水清洗液最适宜的清洗温度为40-60℃，尤其在天冷时若清洗液温度低，空化效应差，清洗效果也差。因此有部分清洗机在清洗缸外边绕上加热电热丝进行温度控制，当温度升高后空化易发生，所以清洗效果较好。当温度继续升高以后，空泡内气体压力增加，引起冲击声压下降，反应出这两因素的相乘作用。　　综合经上因素，宝驰源牌工业制冷机降低清洗剂温度，冷凝气态清洗剂，有效防止清洗剂的挥发 3，塑胶业注塑、 挤塑、 吹瓶、 压塑、 吹膜压延膜 ，标准型工业均能适用于上述行业。A，注塑 模具冷却　 塑胶粒经加热溶化后注入模具中，凝结后，开模顶出成型塑胶工件，在连续生产过程中有需用对模具进行冷却，以缩短塑胶凝结时间，提高工件尺寸精度，成型质量、表面质量。冻水温度要求：6～18℃冻水温差要求：±2K 或 ±0.5K机组制冷能力与注塑机注塑量（通常称“安士”）相关，注塑量越大，所需制冷能力亦大。注塑机通常以锁模力标称，这就需要将吨数转换成安士，但吨数与安士并非一一对应，下面的对照表仅为一般情况的下的转换关系，并有一定的上下偏差。 ４．激光 制冷系统元件均采用国际品牌元件,无盘管纯不锈钢材料水箱,具有持久稳定的制冷效果,温度控制精度为±1℃ 带超高、低温度显示及信号输出保护,配置常开和常闭输出以供选择 冷冻水循环系统采用不锈钢多级泵及不锈钢泵,PVC材料连接,无锈蚀之忧,可直接使用纯净水或去离子水 在激光（镭射）系统中的激光发生源、光束控制器和电控柜都可能需要额外冷却。对冻水温度要求通常在15… 22℃之间，对冻水精度要求通常为±1K 或 ±2K。部分设备可能要求±0.5K，另外部分设备对冻水电导率，耐腐蚀等有一定的要求。因此对水质要求非常高，管材采用不锈钢或PVC管。对于激光系统中的特殊应用，都能专门设计工业以满足不同的要求，激光冷冻机主要应用于激光打标机，激光雕刻机，激光焊接机，激光喷码机，激光切割机等等激光加工设备，它能精确控制激光设备所要求的温度，从而保证了激光设备的正常工作。产品特点:采用进口品牌日本松下压缩机，内置安全保护，噪音低，省电耐用，以增加设备的使用寿命。采用高效翅片式冷凝器，具有换热效率高, 外加高效外转子风机，无需接驳冷却塔系统等优点。采用工业纯钛和敞开式不锈钢水箱蒸发器，内置水位保护等装置，以方便客户加水和清洗维护。采用不锈钢多级泵和水路管道，能防止纯水在输送过程中产生固体和其它金属杂质。采用液晶显示微电脑控制器，能精确控制水温，中文界面，操作简单方便, 控制功能齐全。采用德国施耐德电气产品，具有完善的电气保护系统。采有静电喷涂外壳，美观大方，外表板采用快速安装形式，方便使用和维修保养。５．电镀工业-氧化工业 电镀工业产品特点：宝驰源公司生产工业，为满足电镀,氧化,电泳行业对腐蚀的要求，特别设计采用钛材料做的热交换器，可安全有效的在生产中提供高效的辅助！在电镀业氧化、电泳行业，有助把金属与非金属离子稳定下来，使金属离子迅速附上电镀件，氧化件,电泳件,不但增加密度及平滑，并可减少电镀次数，提高生产率。 ６．反应釜工业 反应釜专用工业产品特点：采用欧洲原装进口中低温压缩机，全自动电脑控制器，高效能换热器，还采用国际知名品牌附件，温度控制范围为-40℃～－80℃，广泛应用于精细化工、食品添加剂、玉米深加工(淀粉)、 制药、医药储存等。 ７．水冷螺杆式工业 水冷螺杆式产品特点： （1），高效的半封闭式压缩机，机组的心脏—进口优质螺杆压缩机，其5 :6超高效螺旋转子压缩机，比一般压缩机能效高20-30%.运行可靠效率高、维护容易、精确的容量控制、应用范围广。 非对称转子齿形. 四段或无段式容量控制系统. 内建压差式供油润滑系统. 低振动、低噪音. （2），微机准确控制温度，机组微电脑控制器采用超大萤幕点阵液晶显示，具有良好的全中文人机对话介面实现全功能自动化控制.液晶显示幕即时显示机器工作状况，精确监控组运行在更佳状态，其轻触面板密封好，防水，防尘，抗腐蚀，按键寿命长。分级与无极能量控制，用于一般的空调系统，装备有百分%、75%、50%、25%分级能量控制系统.此确保机组在部分负荷时发挥节能效果.但如需精确控制水温，可按用户要求，所有机型均可装配无级能量控制. （3）运行效率高，换热器采用了高效波纹管，外加高效的螺杆式压缩机，保证了机组的高效率运行.可靠的保护和辅助部件. （4）组具有下列部件以防止任何运转故障：压缩机保护设计时器、过电流继电器、压缩机电机温感器、防冻结温控器、视液镜、油加热器、压缩机逆相保护继电器，高、低压保护，排气高温保护，安全阀，易溶塞. ８，镀膜机专用工业中频真空镀膜机一般要配一台作为镀膜机（主要是圆柱靶）的冷却设备中频设备必须加冷却水，原因是它的频率高电流大。电流在导体流动时有一个集肤效应，电荷会聚集在电导有表面积，这样使电导发热所以采用中孔管做导体中间加水冷却。 ９．低温型工业（零下5- 零下40度）制冷量大，采用世界品牌进口压缩机，低温性能卓越，可靠耐用，产品根据工业应用特点设计，内置低温循环水泵及不锈钢冷冻水箱，使用极为方便，所有与水接触的材料均采用防腐蚀材料，有效防止生锈，腐蚀；微电脑LED数显控制器，具备温度显示，设定温度，自动调节冻水温度及压缩机延时保护功能，选用品牌接触器，继电器等电器元件，配备完善的指示灯，开关，操作一目了然，内置电子水位指示及报警，操作人员通过控制面板就能掌握冻水箱的水位情况，及时补水，独有的模块式设计，每台压缩机的系统安全独位，既使一个系统出现问题，亦不会影响其它系统的正常工作。应用范围广，具体咨询我司销售人员{维护与保养} 1、清洗水塔 使用水冷式必需注重冷却水源的清洁，当冷却水很脏或杂物太多，冷却水流经冷凝器时杂质会附着在铜管内壁，时间一长，铜管内壁会产生很多水垢，这样冷却水与制冷剂之间的热交换明显下降，冷却水从制冷剂带走的热量减少，这就造成散热不良，影响制冷效果。 因此，必须定期清洗冷却水塔，一般至少1周清洗1次冷却水塔（具体情况视环境而定），当出现清洗冷却水塔还会出现高压故障时,那就要考虑清洗冷凝器，才能保证制冷效果。 2、压缩机压缩机运转累计1000小时以后，要对其检查：压缩机冷冻油是否正常压缩机运转时电流是否正常压缩机运转时是否有异常声音 3、其它机器使用一定时间后，由于各方面因素，有必要进行如下事项：对压力开关进行性测试，是否可高低压力报警。对电控箱，要定期把里面灰尘吹干净，同时查看螺丝是否松动，避免机器损坏，以防事故发生。以上如有异常，请尽快通知公司派维修人员处理。售后服务承诺1，本公司维修服务提供全天候服务，即本公司所出售之设备质保期内如出现故障，我公司在接到用户通知后，派出技术及维修人员到场予以处理，保证用户正常工作，至设备故障完全排除为止。2，全天24小时服务咨询

产品型号：ei-501 本设备是用于在半导体或特种材料基板上进行金属、ITO等材料蒸镀的批处理式高真空蒸发镀膜设备。可通过触摸屏进行集中操作控制，自动完成从真空排气至镀膜的所有过程。适用于半导体、LED、电力电子等行业芯片的科研及小批量生产。 ※产品优点 ※产品用途◆占地面积小 ◆Power device ◆易操作&易管理 ◆LED，LD行业◆高生产量 ◆研究开发◆设备构造简洁，便于安装维护 ◆电力电子行业 ※产品特征 ◆可以搭载多种蒸发源(EB，RH、EB+RH等) ◆可以搭载多种夹具，对应不同工艺(lift-off, planetary,satellite 等). ◆可以搭载多种基板 基板尺寸从2寸到6寸，基板材料为硅，玻璃 ◆等可以通过LCD 触摸屏进行操作 ◆PC控制系统以及各种功能(工艺参数，记录数据，维护保养) ※内部结构 ※产品配置

派瑞林镀膜的方式为气相沉积CVD，其防护性能明显优于喷漆、环氧、电镀等传统三防工艺，广泛应用于电路板PCBA、线圈马达、硅橡胶制品、磁性材料、LED/OLED、传感器、电池、医疗产品等，上述产品经parylene镀膜后可起到防水、耐腐蚀、耐高压、耐盐雾的作用，可大大提高产品性能，延长使用寿命。 此设备适用于磁性材料、橡胶件、金属件、电池等产品的滚动涂敷，以达到防霉菌、防潮湿、防盐雾的三防效果，并且对于电池等产品也有较好的耐压功能，延长产品的寿命，提高产品可靠性。

派瑞林镀膜的方式为气相沉积CVD，其防护性能明显优于喷漆、环氧、电镀等传统三防工艺，广泛应用于电路板PCBA、线圈马达、硅橡胶制品、磁性材料、LED/OLED、传感器、电池、医疗产品等，上述产品经parylene镀膜后可起到防水、耐腐蚀、耐高压、耐盐雾的作用，可大大提高产品性能，延长使用寿命。 此设备适用于磁性材料、橡胶件、金属件、电路板、医疗器械等产品的立式固定涂敷，以达到防霉菌、防潮湿、防盐雾的三防效果，并且对于磁性材料、电路板等产品也有较理想的耐压功能，延长产品的寿命，提高产品可靠性