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显影液

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显影液相关的耗材

  • 冠乾科技 纳米压印胶 正性光刻胶 负性光刻胶 显影液 去胶液
    Negative PhotoresistsPositive PhotoresistsResist RemoversResist DevelopersEdge Bead RemoversPlanarizing, Protective and Adhesive CoatingsSpin-On Glass CoatingsSpin-On Dopants曝光应用特性对生产量的影响i线曝光用粘度增强负胶系列在设计制造中替代基于聚异戊二烯双叠氮(Polyioprene-Bisazide)的负胶。在湿刻和电镀应用时超强的粘附力;很容易用去胶液去除。 单次旋涂厚度范围如下:﹤0.1~200 μm可在i、g以及h-line波长曝光避免了基于有机溶剂的显影和冲洗过优于传统正胶的优势:控制表面形貌的优异线宽 任意甩胶厚度都可得到笔直的侧壁单次旋涂即可获得200 μm胶厚厚胶同样可得到优越的分辨率150 ℃软烘烤的应用可缩短烘烤时间优异的感光度进而增加曝光通量更快的显影,100 μm的光刻胶显影仅需6 ~ 8分钟光刻胶曝光时不会出现气泡可将一种显影液同时应用于负胶和正胶不必使用增粘剂如HMDSg和h线曝光用粘度增强负胶系列
  • 显影粉
    显影粉广泛用于电子显微镜实验室底片显影。 也可用于其它类型的科技摄影。对比 度高,操作洁净,快速显影。
  • 防氧化瓶
    主要用于定影液,显影液的防氧化作用。
  • 不锈钢显影槽
    不锈钢显影装置,每套有显影槽,定影槽,水洗槽和50片底片夹,有机玻璃显影架,冲洗电镜胶片专用。
  • 湿电子化学品存储pfa电子级取样瓶蚀刻液清洗液存储100ml250ml现货
    PFA化学名氟树脂-可溶性聚四氟乙烯,试剂瓶又叫取样瓶 样品瓶 试剂瓶产品特点:1、良好的透明性,稳定,肉眼可以看到瓶内容积平滑的表面, 瓶内外壁平滑,不挂壁易于清洗,瓶口瓶内壁处倒出样品时不容易有液体残留;2、耐高温,使用温度在-200到+260度;3、耐受强酸、强碱等强腐蚀样品,比如:王水、魔酸、氢氟酸、盐酸、硝酸、硫酸等以及各种有机溶剂;4、很低的溶出和析出,是储存标准物质、强腐蚀性、昂贵超高纯试剂的器皿;5、国内家研发、生产,PFA产品在国内痕量分析市场上。6、PFA试剂瓶可以长期存放低浓度的标准元素;7、瓶口和瓶盖密封性好,无需瓶塞,液体不渗漏;可长期密封存储高纯试剂及标准样品;8、ICP-MS分析;9、防污染:极低的金属元素空白值,10、主要用于痕量分析、同位素分析等高端实验室,新兴的半导体/新能源/新材料/多晶硅/硅材/微电子等行业应用,是国内外洁净的实验室分析器皿。存储高纯水/蚀刻液/显影液/研磨液/去蜡液/清洗液/去光阻液等,电子级材质
  • CMP抛光液超高纯化学品pfa取样瓶试剂瓶电子级材质
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  • cmp抛光集成电路电子级PFA取样瓶试剂瓶30-5000ml
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  • 大规格pfa取样瓶3L/5L新款现货氟树脂瓶子PFA
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  • PFA取样瓶广口100ml瑞尼克现货G4氢氟酸pfa瓶
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  • 电子级pfa取样瓶G4级超高纯试剂瓶100ml250ml
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  • 半导体G4级氢氟酸PFA取样瓶试剂瓶60ml100ml250ml厂家大量现货
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  • pfa取样瓶湿电子化学平用超高纯进口透明四氟材质现货厂家
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  • HSQ-光刻胶/SOG
    HSQ (Hydrogen Silsesquioxane Polymers) 是⼀ 种半导体级纯度的氢倍半硅氧烷聚合物。作为半导体⾏ 业的⼀ 种重要材料应⽤ 于超⾼ 分辨EUV光刻、电⼦ 束光刻,以及作为旋涂玻璃层(SOG)应⽤ 于半导体⾏ 芯⽚ 表⾯ 平坦化层和介电层以及中间层等。为了满⾜ 各位⽼ 师对⾼ 品质电⼦ 束光刻胶的需求,汇德信与加拿⼤ AQ Materials建⽴ 深度合作关系,旨在为各位⽼ 师提供灵活且易于存储的H-SiOx(HSQ)超⾼ 分辨率电⼦ 束负胶产品。AQM开发了⼀ 种⽅ 便且通⽤ 的⽅ 法来合成电⼦ 级倍半硅氧烷基(由硅和氧核,H-SiOx组成)树脂。这类聚合物/树脂是⼀ 款超⾼ 分辨率的电⼦ 束负胶⽤ 于纳⽶ 电⼦ 器件制造过程。我们的H-SiOx聚合物具有最佳的分⼦ 量,可以在普通有机溶剂(例如甲苯和甲基异丁基酮)中制成均匀的溶液,获得⾼ 质量薄膜。可以获得具有⼩ 于10 nm半周期(视光刻胶厚度)的密集图案。 图1 H-SiOx粉末,便于存储产品特点: 图2 H-SiOx制成的菲涅⽿ 波带⽚ ①成膜性好高分辨率(10 nm特征尺寸)优异的线条边缘粗糙度良好的耐干蚀刻性能粉末形式可灵活配制不同厚度在20°C下具有非常长的保存周期(粉末形式)H-SiOx具有与经典HSQ相同的超⾼ 分辨率和优异的耐⼲ 法刻蚀能⼒ 。但相⽐ 于经典HSQ产品以粉末形式存储,保质期更⻓ ,可根据应⽤ 灵活配置浓度获得不同胶厚的薄膜。可使⽤ 通⽤ TMAH显影液或者盐显影液进⾏ 显影⼯ 艺,分别可获得⾼ 灵敏度(对⽐ 度约为4.8)或低灵敏度⾼ 对⽐ 度(约为8.7)的结果②,可满⾜ 不同应⽤ 场景的需求。为了更好的服务⼴ ⼤ 客户,我们针对H-SiOx产品采取粉末形式交货,延⻓ 产品的使⽤ 寿命,客户可根据⾃ ⼰ 的实际膜厚需求配置,为⽅ 便⼤ 家使⽤ ,我们免费赠送MOS级MIBK溶剂,以及过滤器,⽅ 便客户使⽤ ! 关于H-SiOx超⾼ 分辨率电⼦ 束负胶产品,如果您有任何问题或者需要产品资料,请随时联系我们!参考文献:① Application of HSQ electron beam resist for silicon photonic applications, courtesy of Applied Nanotools Inc.② https://doi.org/10.1116/1.5079657
  • 电子束光刻胶 AR-P 6200(CSAR 62)
    特点:• 用于高分辨率电子束曝光等• 感光波段:e-beam• 高分辨率( 10 nm), 高对比度(14)• 高深宽比,高工艺稳定性 • 优异的耐干法刻蚀能力• 采用不同的显影液(AR 600-546/ 548/ 549),可实现 不同程度的灵敏度• 可实现Lift-off工艺,操作简单• 溶剂为苯甲醚(安全溶剂) 旋涂曲线:应用实例:欢迎致电咨询(电话:010-82867920/21/22),更多光刻胶信息请查看官网:http://www.germantech.com.cn/new/cplook.asp?id=514
  • YMC-Pack C4 液相色谱柱
    YMC公司的C4(丁基)液相色谱柱用于快速分离混合极性样品,其与C8或C18相比疏水性较小,通常可用于水相成分高的洗脱液。在利用相同的流动相时,与C8或C18相比,对非极性化合物表现了更短的保留时间,对极性化合物没有明显影响。YMC-Pack C4柱对分离含极性范围广组分的混合物最好,丁基键合相(C4)能给出较短的分析时间和较高的分辨率。 技术参数 粒径:3, 5, 10, 15, 20和50um 孔径:12nm(120A), 20nm(200A)和30nm(300A) 碳含量:120A:7%, 200A:5%和300A:3% pH范围:2.0 &mdash 7.5 产品介绍 YMC公司的C4(丁基)液相色谱柱用于快速分离混合极性样品,其与C8或C18相比疏水性较小,通常可用于水相成分高的洗脱液。在利用相同的流动相时,与C8或C18相比,对非极性化合物表现了更短的保留时间,对极性化合物没有明显影响。YMC-Pack C4柱对分离含极性范围广组分的混合物最好,丁基键合相(C4)能给出较短的分析时间和较高的分辨率。 YMC公司的C4(丁基)液相色谱柱有三种孔径,适合于几乎所有分子量的化合物分离。孔径120A广泛地适合在C8和C18柱上有强保留的非极性蛋白分离。200A和300A孔径的丁基柱可有效地分离许多类的蛋白和生物分子。大孔的丁基填料可做到最小的破坏大生物分子的三元结构,从而得到高纯度、高浓度、高生物活性的样品。 主要特点 分离生物分子的理想选择 高覆盖率,完全键合,球型硅胶载体,完全封端 颗粒尺寸齐全,粒径从分析用的3&mu m到制备用的50&mu m;孔尺寸有120A,200A,300A。
  • YMC-Pack C4 液相色谱柱 250x4.6mm
    对非极性化合物表现了更短的保留时间,对极性化合物没有明显影响。YMC-Pack C4柱对分离含极性范围广组分的混合物最好,丁基键合相(C4)能给出较短的分析时间和较高的分辨率。 技术参数 粒径:3, 5, 10, 15, 20和50um 孔径:12nm(120A), 20nm(200A)和30nm(300A) 碳含量:120A:7%, 200A:5%和300A:3% pH范围:2.0 &mdash 7.5 产品介绍 YMC公司的C4(丁基)液相色谱柱用于快速分离混合极性样品,其与C8或C18相比疏水性较小,通常可用于水相成分高的洗脱液。在利用相同的流动相时,与C8或C18相比,对非极性化合物表现了更短的保留时间,对极性化合物没有明显影响。YMC-Pack C4柱对分离含极性范围广组分的混合物最好,丁基键合相(C4)能给出较短的分析时间和较高的分辨率。 YMC公司的C4(丁基)液相色谱柱有三种孔径,适合于几乎所有分子量的化合物分离。孔径120A广泛地适合在C8和C18柱上有强保留的非极性蛋白分离。200A和300A孔径的丁基柱可有效地分离许多类的蛋白和生物分子。大孔的丁基填料可做到最小的破坏大生物分子的三元结构,从而得到高纯度、高浓度、高生物活性的样品。 主要特点 分离生物分子的理想选择 高覆盖率,完全键合,球型硅胶载体,完全封端 颗粒尺寸齐全,粒径从分析用的3&mu m到制备用的50&mu m;孔尺寸有120A,200A,300A。
  • Parafilm 封口膜 PM-996
    产品介绍:Parafilm封口膜具有柔软性-可塑性-防止水分流失,自动密封性-无味-容易切割,热塑性塑料-半透明-无色。可以快速有效地密封实验器皿。具有防水防湿的性能,有效阻止样品发挥和污染。有效保护无水物质。可以重复折叠使用,缠绕在尖锐外形物体上也不会被撕裂。具有良好韧性,21℃时也可拉伸接近两倍的长度。随温度身高,绕韧性和柔软度相应提升。不耐高温,68℃时将会软化具有粘性。物理性质:Parafilm封口膜,是半透明的,有柔性的,热塑性塑料, 高性能防水材料,本身为无色,无嗅,无味,厚度仅 0.005 &Prime (0.127mm)。Parafilm M&rsquo s 的独特特性使它适用于许多重要实验和技术方面的理想工具,它紧紧而且自动密闭的形成在试管,细颈瓶,各种不规则工具和物体的表面。它对于湿气蒸汽、湿气损失、湿气吸收以及渗透气体具有高度的低灵敏度,这个特性也是它成为流动池中理想的覆盖工具。渗透性: 氧气: 150cc/m2/24 hours at 73℉,and 50%R.H. 氧化物:400cc/m2/24 hours at 73℉,and 50%R.H. (注意:渗透比例是在0℃和760mm大气压的条件下测定的。)水蒸气:扁平:88g/m2/24 hours at 100℉,and 90% R.H. vs. desiccant(干燥剂)注意: 由于材料本身对水蒸气的低渗透性和低敏感性,所以相对于氧气或者二氧化碳的渗透性,这两者在湿度方面有本质的不同。受普通试剂的影响: 浓盐酸(12N)稀释到(5N),在24小时内不会有明显影响 浓硫酸(36N)稀释到(5N),在24小时内不会有明显影响 浓硝酸(22%),在24小时内不会有明显影响 浓氢氧化钠(28%),在24小时内不会有明显影响 高锰酸钾:5%,非长期性,在棕色环境内18个小时无明显影响;1%,效果同上排除在浅色环境内 碘溶液,0.1N:在棕色环境内18个小时无明显影响 氯化钠20%, 在24小时内不会有明显影响 四氯化碳/氯仿/乙醚:接触后开始溶解 乙酸 95%,在24小时内不会有明显影响,排除部分变白 异丙醇99%,在24小时内不会有明显影响 在超过54度到68度之间封口膜开始变软和粘稠。 技术参数:125&rsquo x4&rsquo /盒,12盒/箱产品应用:实验室:Parafilm封口膜,是实验室工作的理想选择,它是热塑性塑料,自动密封的,最小化的减少水分的流失,对于斜置瓶,细颈瓶,培养皿中的样品起到优秀的保护作用。医院:Parafilm封口膜,被当作上好的绷带覆盖在盒子上,它是最有效的被使用在医院的实验室和药物储存领域,它也可以作为一条障碍和架子,用来防止瓶子、容器、实验工具的滑移和损坏。
  • 有机玻璃显影架
    架上有凹槽,可以正好恰住底片,防止底片在冲洗过程中漂浮。有机玻璃材质,抗暗室用化学用品的腐蚀,用水即可清洗干净。可用于大小8.25 x 10.16 cm、6.5cm x 9.0cm、8.25 x 11.8 cm的底片。
  • 光刻胶/抗蚀剂_导电胶_耐刻蚀胶
    光刻胶是一大类具有光敏化学作用(或对电子能量敏感)的高分子聚合物材料,是转移紫外曝光或电子束曝照图案的媒介。光刻胶的英文名为resist,又翻译为抗蚀剂、光阻等。广泛应用于集成电路(IC),封装(Packaging),微机电系统(MEMS),光电子器件光子器件(Optoelectronics/Photonics),平板显示器(LED,LCD,OLED),太阳能光伏(Solar PV)等领域。 德国ALLRESIST公司是从事光刻用电子化学品研发、生产和销售的专业公司,有丰富的经验和悠久的传统。可以为您提供各种标准工艺所用的紫外光刻胶,电子束光刻胶(抗蚀剂)以及相关工艺中所需要的配套试剂。 北京汇德信科技有限公司作为德国ALLRESIST的国内独家代理经销商,为国内用户提供高品质的光刻胶以及配套服务。 产品类型: 1.紫外光刻胶(Photoresist) 各种工艺:喷涂专用胶,化学放大胶,lift-off胶,图形反转胶,高分辨率胶,LIGA用胶等。 各种波长: 深紫外(Deep UV)、I线(i-line)、G线(g-line)、长波(longwave)曝光用光刻胶。 各种厚度: 光刻胶厚度可从几十纳米到上百微米。 2. 电子束光刻胶(电子束抗蚀剂)(E-beam resist) 电子束正胶:PMMA胶,PMMA/MA聚合物, LIGA用胶等。 电子束负胶:高分辨率电子束负胶,化学放大胶(高灵敏度电子束胶)等。 3. 特殊工艺用胶(Special manufacture/experimental sample) 电子束曝光导电胶,耐酸碱保护胶,全息光刻用胶,聚酰亚胺胶(耐高温保护胶)等特殊工艺用胶。 4. 配套试剂(Process chemicals) 显影液、除胶剂、稀释剂、增附剂(粘附剂)、定影液等。 产品特点1. 光刻胶种类齐全,可以满足多种工艺要求的用户。产品种类包含:各种厚度的紫外光刻胶(正胶或负胶),lift-off工艺用胶,LIGA用胶,图形反转胶,化学放大胶,耐刻蚀保护胶,聚酰亚胺胶,全息曝光用胶,电子束光刻胶(包含PMMA胶、电子束负胶、三维曝光用胶(灰度曝光用胶)、混合曝光用胶等)2. 光刻胶包装规格灵活多样,适合各种规模的生产、科研需求。 包装规格包含:250毫升、1升、2.5升等常规包装,还提供试验用小包装,如30毫升、100毫升等。3. 交货时间短。我们每个月20号左右都会向德国厂商下订单,产品将于第二个月中旬到货,您可以根据实际情况,合理安排采购时间。具体的订购情况,请联系我们的销售人员。 4. 可以提供高水准的技术咨询服务,具有为客户开发、定制特殊复杂工艺用光刻产品的能力5. 储存条件:密闭储存在容器中并置于避光、干燥阴凉、通风良好之处。储存在适当的温度下。详情请联系我们的销售人员。 欢迎致电咨询(电话:010-82867920/21/22),更多光刻胶信息请查看官网:http://www.germantech.com.cn/new/cplook.asp?id=514
  • 底片冲洗装置
    底片冲洗装置,每套有显影槽,定影槽,水洗槽和50片底片夹,有机玻璃显影架,冲洗电镜胶片专用
  • 透射电镜胶片 H08053-1 8.2*11
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