微米尺度图案

GATTA-SIM NANORULER来自德国GATTA-SIM系列Nanorulers（纳米尺）是检查您的SIM系统（单分子定位超分辨显微镜）分辨率的完美样本。单色纳米尺子携带两个由高量子产率染料分子密集排列而成的荧光标记。此外，我们提供了一种新的设计，包含两个不同的荧光团三个发光点，允许获取非常引人注目的图像。单色GATTA-SIM纳米尺120纳米-120nm尺寸只有蓝色可供选择140纳米-黄色和蓝色160纳米-颜色为红色(ATTO 647N)，黄色(Alexa Fluor® 568)或蓝色(Alexa Fluor® 488)多色纳米尺有三个发射点，尺寸：140纳米(Alexa Fluor 568 & Alexa Fluor 488)160纳米(ATTO 647N & Alexa Fluor 568或ATTO 647N & Alexa Fluor 488)我们还可以根据您的要求设计特殊的解决方案。所有纳米样品都将是GATTA-SIM超分辨率图像，在密封玻片上交付，您可以舒适地直接放在显微镜上。

GATTA-STED NANORULER作为第一种超分辨率显微镜技术，STED(受激辐射损耗技术）方法彻底改变了光学显微镜。有了GATTA-STED系列的纳米尺子，现在终于有了足够的校准探针。单色纳米尺子携带两个由高量子产率染料ATTO 647N密集排列而成的荧光标记。我们提供50纳米，70纳米，90纳米和120纳米尺寸的标记距离。此外，我们还提供了一种新的设计，包含两个不同荧光团的三个发射点，可以获得非常引人注目的图像。多色纳米尺有三个发射点，尺寸为140 nm (ATTO 647N和ATTO 594)。我们还可以根据您的要求设计特殊的解决方案。所有的纳米样品将在一个密封的玻璃载片上，你可以舒服地直接放在你的显微镜上。订购选单

GATTA-PAINT NANORULER纳米尺GATTA-PAINT系列的纳米尺是任何类型的基于定位的超分辨率显微镜的理想分辨尺。由于基于DNA PAINT技术的闪烁动力学机制，样品几乎没有光漂白。此外，包含三个发射点的设计可以获得非常引人注目的图像。我们为GATTA-PAINT纳米尺子提供40纳米和80纳米尺寸的标记距离。两种尺寸都有红色(ATTO 655)、绿色(ATTO 542)或黄色(ATTO 565)以及红色/绿色(ATTO 655和ATTO 542)或红色/黄色(ATTO 655和ATTO 565)可供选择。80nm纳米尺40nm 纳米尺80nm和40nm组合纳米尺

台式扫描电子显微镜配件是为客户提供的欧洲最高性价比扫描电镜，完全改变了动辄百万人民币的电镜价格，它为用户提供低价亚微米和纳米尺度的电子显微镜工具。台式扫描电子显微镜配件特点：具有传统显微镜20倍的分辨率，提供高分辨率成像，非常适合科研人员，工程师获取高质量的亚微米分辨率图像，非常容易使用，用户接受培训10分钟即可独立操作，非常适合材料科学，微电子等领域获取高分辨率图像。台式扫描电子显微镜配件参数放大倍数：24-24000X图像分辨率：高达2048x2048像素空间分辨率：高达30nm样品加载：小于30秒自动样品控制功能超低能耗总重量：55kg台式扫描电子显微镜配件构成系统主要部件：成像模块，17' ' 触摸屏显示器，旋转手柄，真空泵，USB接口驱动光学放大：固定24X放大电学放大：120-24000X可调光学探测：彩色CCD相机电学探测：高灵敏度背散射探测器图像输出格式：JPEG,TIFF, BMP，图像分辨率：456 x 456, 684 x 684, 1024 x 1024 and 2048 x 2048可选数据存储：优盘样品台：计算机控制电动XY台样品容纳大小：直径25mm ，高度30mm样品加载时间：光学成像5s , 电学成像30s减震桌要求：120x75cm 尺寸以上的减震桌

硬管R-3603（毫米尺寸） タイゴン® チューブR-3603 TUBING TYGON® 编号 内径× 外径（mm） 价格 5-4006-01 &phi 2× &phi 4 ¥ 243.00 5-4006-02 &phi 3× &phi 5 ¥ 333.00 5-4006-03 &phi 4× &phi 6 ¥ 396.00 5-4006-04 &phi 5× &phi 7 ¥ 450.00 5-4006-05 &phi 6× &phi 8 ¥ 468.00 5-4006-06 &phi 7× &phi 10 ¥ 720.00 5-4006-07 &phi 8× &phi 11 ¥ 900.00 5-4006-08 &phi 9× &phi 12 ¥ 1,030.00 5-4006-09 &phi 10× &phi 13 ¥ 1,260.00 ※销售单位为15m。显示价格为每15m的价格。 特点 · 具有广泛的耐腐蚀性，能耐酸、碱、油、水及许多溶剂（酮、酯及部分芳香族碳氢化合物除外）。 · 无害、无臭，从软管析出的物质基本不会造成污染。 · 具有柔软性，可方便而稳固地装在玻璃或贵金属等上。 规格 · 最高使用温度：74℃ · 脆化温度：－50℃ · 最大长度：15m · 可用于高压灭菌

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红外显微镜配件专门为微电子研发和制造而设计的显微镜，它是一款科研级显微热成像仪，在微米尺度给出电子器件和芯片的温度分布，能够非接触式地测量电子器件的温度分布，查找热点hotspots。红外显微镜配件对于分析和诊断半导体器件热表现非常有用，可用于探测热点和缺陷 电子元件和电路板故障诊断 测量结温 甄别芯片键合缺陷 测量热阻封装 确立热设计规则等领域，可以有效地检测微尺度半导体电路的热问题和MEMS器件的热问题。就MEMS的研发而言：空间温度分布和热响应时间这两个参数对于微反应器,微型热交换器,微驱动器,微传感器之类的MEMS器件非常重要。到目前为止，还有非接触式的办法测量MEMS器件的温度，红外成像显微镜能够给出20微米空间分辨率的热分布图像，是迄今为止测量MEMS器件热分布的有力工具。红外显微镜配件光学载物台：坚固而耐用，具有隔离振动的功能；聚焦位移台：用于相机的精密聚焦和定位；X-Y位移台：用于快速而精密地把测量区域定位到相机的视场中； 热控制台： 具有加热和制冷功能，用于精密器件的温度控制；红外显微镜配件应用*半导体IC裸芯片热检测 *探测集成电路的热点（hotspots）和短路故障*探测并找到元件和电路板上缺陷 *测量半导体结点温度（结温）*辨别固晶/焊线/点胶缺陷*测量封装热阻 *确立热设计规则 *激光二极管性能和失效分析*MEMS热成像分析*光纤光学热成像检测*半导体气体传感器的热分析*测量微交换器的热传输效率 *微反应器的热成像测量*微激励器的温度测量*生物标本温度分析 *材料的热性能检测*红外显微镜热流体分析 热分析软件红外显微镜配件分析软件。 这种软件能够帮助您非常容易而快速地获得温度信息，同时，它可以产生实时的（real time）带状图、拍摄并回放图像序列以及在图像上选择任何大小形状的区域，从而为您提供不同视角和建设性的数据分析手段。

台式扫描电子显微镜配件是为客户提供的欧洲最高性价比扫描电镜，完全改变了动辄百万人民币的电镜价格，它为用户提供低价亚微米和纳米尺度的电子显微镜工具。台式扫描电子显微镜配件特点：具有传统显微镜20倍的分辨率，提供高分辨率成像，非常适合科研人员，工程师获取高质量的亚微米分辨率图像，非常容易使用，用户接受培训10分钟即可独立操作，非常适合材料科学，微电子等领域获取高分辨率图像。台式扫描电子显微镜配件参数放大倍数：24-24000X图像分辨率：高达2048x2048像素空间分辨率：高达30nm样品加载：小于30秒自动样品控制功能超低能耗总重量：55kg台式扫描电子显微镜配件构成系统主要部件：成像模块，17' ' 触摸屏显示器，旋转手柄，真空泵，USB接口驱动光学放大：固定24X放大电学放大：120-24000X可调光学探测：彩色CCD相机电学探测：高灵敏度背散射探测器图像输出格式：JPEG,TIFF, BMP，图像分辨率：456 x 456, 684 x 684, 1024 x 1024 and 2048 x 2048可选数据存储：优盘样品台：计算机控制电动XY台样品容纳大小：直径25mm ，高度30mm样品加载时间：光学成像5s , 电学成像30s减震桌要求：120x75cm 尺寸以上的减震桌

微米 cHiPLC 色谱柱 微米 cHiPLC 色谱柱仅限研究使用，不可用于诊断程序。SCIEX 微米 cHiPLC 色谱柱可以在较大的 200 μm 内径格式条件下减少柱运行时间，并增大样品通量。200 μm 内径 cHiPLC 色谱柱可以使样品以更高的流速运行，从而获得更高的通量。与传统的 75 μm 内径纳流 LC 相比，大直径色谱柱还可以提供更强的耐用性、易用性和样品装载能力。对于很多应用而言，200 μm 内径格式提升了研究需要的速度和通量 - 全部都在简单的 cHiPLC 色谱柱中实现。简单：即插即用型芯片提升了简易性，并具备微米柱的性能可扩展：在多用户实验室内快速切换工作流程和项目的灵活性每次：每天、柱间以及实验室间的结果均可重现由于灵敏度高，纳流液相色谱与质谱联用 (nanoLC MS) 成为很多生物研究应用的首选。不过，由于 nanoLC 系统本身存在的梯度延迟、自动进样器和样品回路延迟以及由连接试管导致的延迟，nanoLC 的低流速会降低样品通量。解决这一问题的一种方式是在适当地较高流速下使用较大内径的色谱柱。虽然在总样品量保持相同时这会降低灵敏度，但是延迟时间将大大缩短，而且样品通量也会增加。降低色谱柱和梯度长度可以进一步缩短每个样品所需的分析时间。适用于 cHiPLC-Nanoflex 的 SCIEX 200 μm 内径微米 cHiPLC 色谱柱为这些需要更高样品通量和更快分析时间的应用提供了理想的解决方案。设计 SCIEX 微米 cHiPLC 色谱柱时，我们秉承严格的标准，旨在实现与我们的纳米 cHiPLC 色谱柱相媲美的制造质量和创新设计。色谱柱设计我们精心设计了捕集器-芯片和分析色谱柱-芯片，旨在实现相当于甚至优于填充毛细管的分离效果。利用熔融石英，可以使用圆柱形通道填充色谱柱和捕集器。我们的 cHiPLC 色谱柱采用独特的堰结构，而非由熔融固定相微粒制成的传统筛板，可以将固定相微粒保留在色谱柱中。这些堰的重现性更高，而其死体积几乎为 0 (~13 pL)。此外，筛板材料上可能发生的样品组分吸收在这些类型的结构上并不会出现。获得专利的连接系统与每块芯片之间的连接通过获得专利的连接系统实现，该连接系统可以连接七个通往外部的通道，且死体积小于 1 nl。用于连接芯片的力为预设，因此用户每次更换芯片时，都能实现防泄漏连接，无需用户进行任何调整。提升的柱间重现性除了在短短几秒内更换色谱柱或捕集器的简易性外，使用我们的 cHiPLC 色谱柱也可提升柱间重现性。所有芯片均完全一样，而且我们的填充程序可以确保实现最佳的柱间重现性。对于需要在多个色谱柱间长期保证保留时间稳定性的应用中，这一点非常重要。示例应用包括，结合使用保留时间与精确质量进行肽/蛋白质鉴定，以及使用编程 MRM 在生物标记物验证中进行肽定量。订货信息：微米 cHiPLC 色谱柱和捕集柱具有多种不同的固定相和色谱柱长度。cHiPLC 色谱柱部件号cHiPLC 色谱柱，3 μm，ChromXP C18CL，120 A，15 cm x 200 μm5015840cHiPLC 色谱柱，3 μm，ChromXP C18CL，120 A，5 cm x 200 μm5015839cHiPLC 色谱柱，3 μm，ReproSil-Pur C18-AQ，120 A，15 cm x 200 μm5020549cHiPLC 色谱柱，3 μm，ReproSil-Pur C18-AQ，120 A，5 cm x 200 μm5020545cHiPLC 色谱柱，5 μm，ChromXP C4CL，300 A，15 cm x 200 μm5017027cHiPLC 色谱柱，5 μm，ChromXP C4CL，300 A，5 cm x 200 μm5020543cHiPLC 色谱柱，3 μm，石墨化碳，250 A，15 cm x 200 μm5020547cHiPLC 色谱柱，2.7 μm，HALO 熔融核 C18，90 A，5 cm x 200 μm5020544cHiPLC 色谱柱，2.7 μm，HALO 熔融核 HILIC，90 A，15 cm x 200 μm5020548捕集柱部件号cHiPLC 捕集柱，3 μm，ChromXP C18CL，120 A，6 mm x 200 μm5015841cHiPLC 捕集柱，3 μm，ReproSil-Pur C18-AQ，120 A，6 mm x 200 μm5020550cHiPLC 捕集柱，5 μm，ChromXP C4CL，300 A，6 mm x 200 μm5017026cHiPLC 捕集柱，3 μm，石墨化碳，250 A，6 mm x 200 μm5020553cHiPLC 捕集柱，2.7 μm，HALO 熔融核 C18，90 A，6 mm x 200 μm5020551cHiPLC 捕集柱，2.7 μm，HALO 熔融核 HILIC，90 A，6 mm x 200 μm5020554基于芯片的微粒捕集器（溢流口）（位于自动进样器和 cHiPLC nanoflex 之间）800-00354跨接芯片部件号直接注射跨接芯片800-00408捕集器洗脱跨接芯片800-00389双柱跨接芯片800-00421

微米 cHiPLC 色谱柱 微米 cHiPLC 色谱柱仅限研究使用，不可用于诊断程序。SCIEX 微米 cHiPLC 色谱柱可以在较大的 200 μm 内径格式条件下减少柱运行时间，并增大样品通量。200 μm 内径 cHiPLC 色谱柱可以使样品以更高的流速运行，从而获得更高的通量。与传统的 75 μm 内径纳流 LC 相比，大直径色谱柱还可以提供更强的耐用性、易用性和样品装载能力。对于很多应用而言，200 μm 内径格式提升了研究需要的速度和通量 - 全部都在简单的 cHiPLC 色谱柱中实现。简单：即插即用型芯片提升了简易性，并具备微米柱的性能可扩展：在多用户实验室内快速切换工作流程和项目的灵活性每次：每天、柱间以及实验室间的结果均可重现 由于灵敏度高，纳流液相色谱与质谱联用 (nanoLC MS) 成为很多生物研究应用的首选。不过，由于 nanoLC 系统本身存在的梯度延迟、自动进样器和样品回路延迟以及由连接试管导致的延迟，nanoLC 的低流速会降低样品通量。解决这一问题的一种方式是在适当地较高流速下使用较大内径的色谱柱。虽然在总样品量保持相同时这会降低灵敏度，但是延迟时间将大大缩短，而且样品通量也会增加。降低色谱柱和梯度长度可以进一步缩短每个样品所需的分析时间。适用于 cHiPLC-Nanoflex 的 SCIEX 200 μm 内径微米 cHiPLC 色谱柱为这些需要更高样品通量和更快分析时间的应用提供了理想的解决方案。设计 SCIEX 微米 cHiPLC 色谱柱时，我们秉承严格的标准，旨在实现与我们的纳米 cHiPLC 色谱柱相媲美的制造质量和创新设计。色谱柱设计我们精心设计了捕集器-芯片和分析色谱柱-芯片，旨在实现相当于甚至优于填充毛细管的分离效果。利用熔融石英，可以使用圆柱形通道填充色谱柱和捕集器。我们的 cHiPLC 色谱柱采用独特的堰结构，而非由熔融固定相微粒制成的传统筛板，可以将固定相微粒保留在色谱柱中。这些堰的重现性更高，而其死体积几乎为 0 (~13 pL)。此外，筛板材料上可能发生的样品组分吸收在这些类型的结构上并不会出现。获得专利的连接系统与每块芯片之间的连接通过获得专利的连接系统实现，该连接系统可以连接七个通往外部的通道，且死体积小于 1 nl。用于连接芯片的力为预设，因此用户每次更换芯片时，都能实现防泄漏连接，无需用户进行任何调整。提升的柱间重现性除了在短短几秒内更换色谱柱或捕集器的简易性外，使用我们的 cHiPLC 色谱柱也可提升柱间重现性。所有芯片均完全一样，而且我们的填充程序可以确保实现最佳的柱间重现性。对于需要在多个色谱柱间长期保证保留时间稳定性的应用中，这一点非常重要。示例应用包括，结合使用保留时间与精确质量进行肽/蛋白质鉴定，以及使用编程 MRM 在生物标记物验证中进行肽定量。 订货信息：微米 cHiPLC 色谱柱和捕集柱具有多种不同的固定相和色谱柱长度。cHiPLC 色谱柱部件号cHiPLC 色谱柱，3 μm，ChromXP C18CL，120 A，15 cm x 200 μm5015840cHiPLC 色谱柱，3 μm，ChromXP C18CL，120 A，5 cm x 200 μm5015839cHiPLC 色谱柱，3 μm，ReproSil-Pur C18-AQ，120 A，15 cm x 200 μm5020549cHiPLC 色谱柱，3 μm，ReproSil-Pur C18-AQ，120 A，5 cm x 200 μm5020545cHiPLC 色谱柱，5 μm，ChromXP C4CL，300 A，15 cm x 200 μm5017027cHiPLC 色谱柱，5 μm，ChromXP C4CL，300 A，5 cm x 200 μm5020543cHiPLC 色谱柱，3 μm，石墨化碳，250 A，15 cm x 200 μm5020547cHiPLC 色谱柱，2.7 μm，HALO 熔融核 C18，90 A，5 cm x 200 μm5020544cHiPLC 色谱柱，2.7 μm，HALO 熔融核 HILIC，90 A，15 cm x 200 μm5020548捕集柱部件号cHiPLC 捕集柱，3 μm，ChromXP C18CL，120 A，6 mm x 200 μm5015841cHiPLC 捕集柱，3 μm，ReproSil-Pur C18-AQ，120 A，6 mm x 200 μm5020550cHiPLC 捕集柱，5 μm，ChromXP C4CL，300 A，6 mm x 200 μm5017026cHiPLC 捕集柱，3 μm，石墨化碳，250 A，6 mm x 200 μm5020553cHiPLC 捕集柱，2.7 μm，HALO 熔融核 C18，90 A，6 mm x 200 μm5020551cHiPLC 捕集柱，2.7 μm，HALO 熔融核 HILIC，90 A，6 mm x 200 μm5020554基于芯片的微粒捕集器（溢流口）（位于自动进样器和 cHiPLC nanoflex 之间）800-00354跨接芯片部件号直接注射跨接芯片800-00408捕集器洗脱跨接芯片800-00389双柱跨接芯片800-00421

高纯度微粉化片状石墨（10微米，99％，100克）一般特征配方：碳外观：精细黑色粉末纯度：99.5%~99.99%保证灰分0.1%最大似然比保证值水分：最大0.5%D50（激光衍射）：17um 粒度分布D90 21.9D50 11.8D10 8.2典型值：灰分分析关键元素注意： 浓度以PPM显示，除非用％符号表示。

微图案化Micropatterning光刻是我们专业为科研客户加工制作微结构和微流控芯片而提供的一种订制化加工服务。 我们根据微图案微结构使用相应的加工技术，如无掩模光刻（几个不同的光刻胶上的结构），在玻璃基板蚀刻并金属涂层沉积（铬蚀刻），湿法刻蚀等。 无掩模光刻 基板表面准备之后，旋涂光致抗蚀剂，得到一层均匀厚度。镀膜光致抗蚀剂晶片，然后进行“预烘烤”（软烘焙）除去过量的溶剂，准备将光致抗蚀剂暴露于激光束。光致抗蚀剂暴露于激光束下得到图案轨迹（无掩模光刻系统）。 最后一步是暴露的光致抗蚀剂的开发。第二加热步骤（硬烘焙）是为了将图案稳定在基板表面。 例子：微接触打印PDMS模具。 请联系我们告知您的图案尺寸（光阻层高度和通道宽度）。 玻璃湿法刻蚀 以下的光刻工艺，液体（“湿”）化学剂可用于去除不受光致抗蚀剂保护区域的玻璃基板上的最上层：这是在湿蚀刻工艺。 例子：微流控芯片的微通道制造 请联系我们告知您的结构大小（微通道的宽度和深度）。 金属层湿法刻蚀 铬层（举例）可使用气相沉积技术来沉积。微观结构可以通过在金属层湿蚀刻产生。支持深化学腐蚀。 例子：光模式和目标的生产。 请联系我们告知金属类型，沉积层厚度和微通道的宽度。 编号 名称 LC-22x22 玻璃基板光刻.定制微型图案 WEC-22x22 玻璃湿法蚀刻。根据您的图样定制微观结构 CEC-22x22 铬蚀刻。玻璃基板。微观结构是根据您的图样

高纯度微粉化片状石墨（10微米，99％，1千克）一般特征配方：碳外观：精细黑色粉末纯度：99.5%~99.99%保证灰分0.1%最大似然比保证值水分：最大0.5%D50（激光衍射）：17um 粒度分布D90 21.9D50 11.8D10 8.2典型值：灰分分析关键元素注意： 浓度以PPM显示，除非用％符号表示。

用于分析仪器或实验室小型反应管装置填料，耐高温1300度以上。规格进口：2微米 4微米 9微米国产：1-3微米 3-5微米 5-10微米 天津欧捷科技有限公司

ZIC-HILIC 30 x 1 mm, 3.5 μm, 200微米 LC 色谱柱 SeQuant

ZIC-HILIC 150 x 1 mm, 5 μm, 200微米 LC 色谱柱 SeQuant

微米级可调制膜器-100mm通过调节两端的千分尺，可以设定适合的刀片工作间隙。广泛适用于实验室的膜材料研究，可以使陶瓷流延、电池电极以及各种涂膜制备以较低的成本获得优质的薄膜。主要特点1、具有刀片间隙可微调的湿膜涂布功能。2、采用边缘精准的不锈钢刀片。技术参数1、宽度：100mm2、涂膜厚度：0-9500μm 3、千分尺控制精度：±2μm

产品简介：双刮刀微米可调制膜器-150mm是一个双刮刀片薄膜涂覆器，其涂覆的厚度可调节，不锈钢刀刃涂覆出高质量低成本的薄膜，双刮刀设计使涂层更加均匀平整，广泛应用于流延工艺、电池极片或其他形式的涂覆。 产品型号双刮刀微米可调制膜器-150mm技术参数1、刮刀涂覆厚度：0.01mm-5mm（可调节）2、宽度：150mm3、涂膜厚度：介于0-900μm4、千分尺可控精度：2μm

ZIC-HILIC 150 x 1 mm, 3.5 μm, 100 微米 LC 色谱柱 SeQuant

ZIC-HILIC 150 x 1 mm, 3.5 μm, 200微米 LC 色谱柱 SeQuant

微米级可调制膜器-55mm通过调节两端的千分尺，可以设定适合的刀片工作间隙。广泛适用于实验室的膜材料研究，可以使陶瓷流延、电池电极以及各种涂膜制备以较低的成本获得优质的薄膜。主要特点1、具有刀片间隙可微调的湿膜涂布功能。2、采用边缘精准的不锈钢刀片。技术参数1、宽度：55mm2、涂膜厚度：0-6000μm 3、千分尺控制精度：±2μm

Kleindiek纳米操纵仪配件是为外部电子显微学制备样品而设计的超精密样品拾取装卸系统，它在纳米尺度灵活微操纵样品。Kleindiek纳米操纵仪配件安装安装有一根微夹钳，一个四轴辅台，在表面有一个允许快速接近的小型CCD摄像头。Kleindiek纳米操纵仪是由安装在一个超小型平台上的一个四轴辅台构成。在辅台上安装了一个微夹钳，促进提取。操作该辅台将预切样品放置在微夹钳下。在这之后，微夹钳夹住样品并轻轻地固定住样品，固定要足够牢固，只要使辅台向旁边下落，就可以将样品从大量材料提取出。一旦分离，在TEM网格上，将样品与SEM兼容胶水接触，并且用离子束固化。Kleindiek纳米操纵仪配件规格：取样室兼容平台上的辅台最大样品尺寸：30mm行程：X和Y =10mm行程：Z轴为3mm行程：R =360°（无限）速度：可达1mm/秒分辨率：0.5nm笛卡尔运动没有反弹或翻转是大多数SEM和FIB工具的简单取样室装置几乎不受震动影响微夹钳运输和组装微型物体的高分辨率夹持器抓握区域：（5至10 μm）分辨率：20nm夹持力：5至5000μN（变量）最大跨度范围：20?40 μmSemCam样品表层的小相机允许快速接近包括显示器和LED照明

用于分析仪器或实验室小型反应管装置填料，耐高温1300度以上。规格进口：2微米 4微米 9微米国产：1-3微米 3-5微米 5-10微米 仪器名称及货号 Thermo 33822200 Sercon SC0006 Costech 021026 021038 Elementar 03679908 Eurovector E10507 Leco 502-177 Perkin Elmer 0240-1118 天津欧捷科技有限公司&mdash 进口元素分析耗材供应商 保证质量天津欧捷科技是一家高科技企业，公司集贸易、科研、服务一体化。公司从精密仪器设备及配件、耗材、试剂、标准对照品、实验室常用耗材的销售，到仪器调试、维护、样品的分析测试。我们主要经营：实验室耗材 元素分析耗材 色谱分析耗材 质谱耗材样品容器 Labco顶空进样瓶 色谱瓶 石英棉 石英燃烧管 进样隔垫 催化剂 标准品 试剂 玻璃碳产品 仪器配件这些耗材可用在Thermo、Elementar、Agilent、Analytikjena、Sercon、Shimadzu、leco、Varian、Perkin Elmer、waters 、Euro Vector等仪器。 天津欧捷科技有限公司

本公司提供大量石英棉现货，国产（1-3微米，3-5微米，5-10微米），进口（2微米，4微米，9微米），该产品主要用于实验室元素分析反应管的填料，适用仪器及货号 : Thermo finnigan NO: 338 222 00 Elementar NO: 03 679 908 Perkin ElmerTM NO: 0240-1118 Eurovector NO: E10514 Leco NO: 767-385 SerCon NO: SC0006 Europa NO: C1001016

多功能纳米压痕仪配件通过扫描材料表面实现对材料力学性能的纳米尺度的高精度测量，精确给出硬度，弹性模量，杨氏模量等材料力学性能。 多功能纳米压痕仪配件特色最高位移测量能力可达300mkm, 最高负载科大100mN。实现静态压痕和动态压痕测量以及sclerometry测量具备原子力显微镜和纳米硬度测量仪的功能采用模块化设计，可广泛集成原子力显微镜，光学显微镜，激光干涉仪器等尖端材料表面测量仪器，为用户提供综合性材料微观力学测试方案。 多功能纳米压痕仪配件选型4D紧凑型多功能纳米压痕仪4D紧凑型是全球结构最为紧凑小巧的纳米硬度测试仪，它采用纳米压痕法测量材料硬度和弹性模量（杨氏模量），负载高达2N,广泛用于材料力学性能测量研究。也非常适合大学或研究单位的纳米压痕仪测量硬度的教学或演示教学。 4D标准型多功能纳米压痕仪4D标准型具有测量材料硬度，弹性模量和其它力学性能的功能。它采用静态和动态纳米压痕技术以及sclerometry方法测量材料性能。并且可以接触式或半接触式地测量材料表面形貌，采用光学显微镜高精度地对压头和样品进行精确互动性定位。多功能纳米压痕仪4D标准型还可以接入另外的传感器或测量模块，实现对材料表面进行其它测量。 4D+增强型多功能纳米压痕仪4D+增强型配置是全球功能最多的多功能纳米硬度测量仪器。它具有纳米压痕仪和原子力显微镜的功能，具备了所有的物理和力学性能测量能力。它具有原子力显微镜测量模块，能够以纳米级分辨率研究压痕后留下的表面痕迹和图像，并能够全自动测量，可以批量处理分析测量结果。

适用AFM、SEM、Auger和 FIB精确全息条纹可用于高分辨、纳米尺度上准确校准仪器，具有高稳定性和高适用性特性。中等脊线宽度便于AFM应用。扫描电镜成像时二次电子和背散射电子像反差好。条纹间隔宽度分70、145 、294nm三种。

适用AFM、SEM、Auger和 FIB精确全息条纹可用于高分辨、纳米尺度上准确校准仪器，具有高稳定性和高适用性特性。中等脊线宽度便于AFM应用。扫描电镜成像时二次电子和背散射电子像反差好。条纹间隔宽度分70、145 、296nm三种。

适用AFM、SEM、Auger和 FIB精确全息条纹可用于高分辨、纳米尺度上准确校准仪器，具有高稳定性和高适用性特性。中等脊线宽度便于AFM应用。扫描电镜成像时二次电子和背散射电子像反差好。条纹间隔宽度分70、145 、295nm三种。

硅窗口纯Pure Silicon Windows纯硅膜的厚度有5nm, 9nm, 15nm, 35nm，利用溅射沉积纯硅，允许对含氮和/或碳的样品进行元素分析。单晶纯硅具有1-0-0取向，制作35 nm的薄膜，用于衍射研究和其它需要从单晶薄膜中获得均匀的背景应用。无孔硅薄膜轻微起皱，大约100微米间距有5微米或更少的偏转，这对于高分辨率成像来说通常是没有问题的。纳米多孔硅Nanoporous采用P30膜使多孔窗口更加多孔，孔径一般在10-60纳米范围。 l 纳米级别的厚度-成像窗口的厚度为5到35 nm，降低背景的干扰，以更高的对比度成像。5nm厚的无孔纯硅窗口比市面上最薄的非晶碳膜更薄。l 可等离子清洗-可以强力等离子清洗，去除有机污染，不像传统的碳膜l 场到场的均匀性-非多孔纯硅窗口比碳膜更薄，减少了场到场的可变性.(注：多孔窗口确实具有固有的结晶特征，但具有无背景纳米尺度的孔隙)。l 降低色彩模糊-与市面上最薄的无定形碳膜相比，5nm无孔纯硅窗口的色彩模糊减少一半。这种巨大的差异是由于电子通过硅窗口的薄膜的非弹性散射减少了两倍。反过来，减少的色彩模糊提供了一个潜在的成像分辨率的两倍提高。l 纳米尺寸孔-纯硅窗口可作为孔径为5~50 nm的多孔薄膜。孔隙允许简单和稳定的悬浮纳米材料进行成像，而不干涉背景。l 硅成分优点- 纯硅窗口的元素硅组分在高束流和高退火温度下显著提高了稳定性。纯硅成分还引入了最小的背景信号，使含有氮和/或碳的样品的元素分析可以通过EDX和EELS进行。l 孤立的多晶体硅-多孔纯硅窗口的多晶特性为x射线衍射研究提供了内部校准标准。孤立的晶体特征也为高分辨率尺寸测量提供了一个方便可靠的尺度，硅的晶格特征也很好。 l 亲水性-无孔和多孔纯硅窗口的亲水性可通过等离子体和/或臭氧处理来调节，从而使样品的制备变得更加容易，特别是在水溶液中的样品。l 高稳定性能-在高束流和高退火温度下(无孔600°C，纳米孔1000°C) 货号产品描述窗口尺寸膜厚度规格76042-70Single Crystal Pure Si TEM Window(8) 100μm, (1) 100x350μm35nm10/pk76042-71Non-Porous Pure Si TEM Window25μm sq.5nm10/pk76042-72Non-Porous Pure Si TEM Window(8) 50μm sq., (1) 50x100μm5nm10/pk76042-73Non-Porous Pure Si TEM Window(2) 50x1500μm5nm10/pk76042-74Non-Porous Pure Si TEM Window(8) 100 sq., (1) 100x350μm9nm10/pk76042-75Non-Porous Pure Si TEM Window(2) 100x1500μm9nm10/pk76042-76Non-Porous Pure Si TEM Window(8) 100 sq., (1) 100x350μm15nm10/pk76042-77Non-Porous Pure Si TEM Window(2) 100x1500μm15nm10/pk76042-78Nanoporous Pure Si TEM Window500μm sq.-10/pk76042-79Nanoporous Pure Si TEM Window(8) 100 sq., (1) 100x350μm-10/pk

孚光精仪品牌的多功能纳米硬度计配件通过扫描材料表面实现对材料力学性能的纳米尺度的高精度测量，精确给出硬度，弹性模量，杨氏模量等材料力学性能。 多功能纳米硬度计配件特色具备原子力显微镜和纳米压痕仪的功能实现静态压痕和动态压痕测量以及测量最高位移测量能力可达300mkm, 最高负载科大100mN。采用模块化设计，可广泛集成原子力显微镜，光学显微镜，激光干涉仪器等尖端材料表面测量仪器，为用户提供综合性材料微观力学测试方案。 多功能纳米硬度计配件选型4D紧凑型纳米硬度计4D紧凑型是全球结构最为紧凑小巧的纳米硬度测试仪，它采用纳米压痕法测量材料硬度和弹性模量（杨氏模量），负载高达2N,广泛用于材料力学性能测量研究。也非常适合大学或研究单位的纳米压痕仪测量硬度的教学或演示教学。 4D标准型纳米硬度计4D标准型具有测量材料硬度，弹性模量和其它力学性能的功能。它采用静态和动态纳米压痕技术以及sclerometry方法测量材料性能。并且可以接触式或半接触式地测量材料表面形貌，采用光学显微镜高精度地对压头和样品进行精确互动性定位。纳米硬度计4D标准型还可以接入另外的传感器或测量模块，实现对材料表面进行其它测量。 4D+增强型纳米硬度计4D+增强型配置是全球功能最多的多功能纳米硬度测量仪器。它具有纳米压痕仪和原子力显微镜的功能，具备了所有的物理和力学性能测量能力。它具有原子力显微镜测量模块，能够以纳米级分辨率研究压痕后留下的表面痕迹和图像，并能够全自动测量，可以批量处理分析测量结果。