双面胶

一、双面胶胶黏强度测试仪主要介绍： QJ211双面胶胶黏强度测试仪可针对试验试样进行30KN以内强度试验。更换不同夹具，还可以做压缩、抗弯、剥离、撕裂、剪切、刺破、低调疲劳等多项力学试验。试验机可满足GB、ISO、JIS、ASTM、DIN、JG、JT、YB、QB、YD、YY、QC、SY、SL、BB、HG等国际标准和行业标准进行试验和提供数据.有着强大的数控显示系统和微机控制系统，全液晶数控设定所需参数，曲线，位移，力值能动态显示在液晶数显器上，联接电脑打印机实现全电脑控制并打印标准试验报告；以windows操作系统使试验数据曲线动态显示,试验数据可以任意删加,对曲线操作更加简便.轻松.随时随地都可以进行曲线遍历.叠加.分离.缩放.打印等全电子显示监控。产品主要可应用于计量质检；光伏行业、冶金钢铁；机械制造；电子电器；汽车生产；电线电缆；包仪器仪表；医疗器械；民用核能；民用航空；高等院校；科研实验所；商检仲裁、技术监督部门及其它行业。二、双面胶胶黏强度测试仪技术参数:1、最大负荷：30KN(任意选)2、荷重元精度：0.01%3、测试精度： ±0.5%4、操作方式：全电脑控制,windows模式操作5、有效试验宽度：约420mm6、有效拉伸空间：约800mm7、试验速度：0.001~500mm/min8、速度精度：±0.5%以内；9、位移测量精度：±0.5%以内；10、变形测量精度：±0.5%以内11、安全装置：电子限位保护，紧急停止键12、机台重量：约140kg三、双面胶胶黏强度测试仪公司承诺：1.购机前，我们专门派技术人员为您设计合适的流程和方案2.购机后，将免费指派技术人员为您调试安装3.整机保修一年，产品终身维护4.常年供应设备的易损件及耗品确保仪器能长期使用

剥离试验为材料力学性能测量与试验设备，可进行各种胶粘材料及制品的剥离、拉伸等项目的检测、环形初粘性的检测，可显示各种应力应变曲线。双面胶剥离强度测试仪具有应力、应变、位移方式，可求出最大力值、抗拉强度、弯曲强度、压缩强度、弹性模量、断裂延伸率、屈服强度等参数，适用于拉伸、压缩、剥离、撕裂、剪切等力学性能试验及分析。双面胶剥离强度测试仪是电子技术配合软件技术与机械传动相结合的新型材料试验机，采用步进电机系统作为精准动力源；采用精密滚珠丝杠与导向杆，采用0.5级精度力值传感器，再通过高精度力值测量系统，实现精准测量。该系列机型采用单柱结构，主要用于负荷低于10kN的材料试验，结构牢固，操作方便，维护简单，是各工厂，企业进行力学检测的理想试验仪器。双面胶剥离强度测试仪主要依据GB/T2611试验及通用技术条件和《电子式万能试验机》GB/T 16491-2008/标准制造；符合GB/T 2792、 JB/T2872、GB/T10424、GB/5319等相关标准；依据GB/T12160和GB/T16825进行检定和验收。技术参数：品 牌：Hongtuo宏拓型 号：HT-101PT-2试验机级别：1级有效测力范围：0.4％～100％FS力值精度：示值的±0.5%以内力值分解度：1/200 000力量放大倍率：X1,X2,X5,X10,X20,X50,X100等七档全程自动换档切换位移分解度：0.001mm位移精度：示值的±1%以内变形测量范围：2%～100%FS变形示值精度：示值的±1%以内最大试验速度：500mm/min；选购最大1000mm/min最小试验速度：0.1mm/min速度精度：示值的±1%以内夹具配置：压缩夹具一组；可选购其它夹具主要特点：满足大部分力学性能试验全套结构紧凑，高刚性设计，坚固耐用操作方便，任何人皆可轻易操作测量准确高，通过第三方检测机构认证高速率，低振动，低噪音的电机驱动装置多语种应用功能，适应不同的国别使用 具有灵活的、曲线图、数据表、报告书查看和打印功能具有测试完成后自动返回至测试起始的自动归位功能自动计算最大力、最小力、平均力、最大变形、伸长率、强度等功能具有应力-应变、力量-位移、力量-时间、强度-时间等多种曲线模式具有抗拉、抗弯、抗压、抗折、黏著、撕裂、剥离、伸长率… … 等测试模式功能具有机械行程开关；急停开关；过流，过压，欠流，欠压，漏电过载保护；软件过载限位保护；断点停机保护等多重保护装置售后服务承诺：1、我公司负责设备的安装与调试；2、负责对操作人员进行专业培训，并能独立进行试验操作；3、负责壹年内免费维修，终身维护；（因使用不当造成的产品损坏、配件遗失除外）4、对于用户的技术咨询，我公司技术人员随时予以解答；5、对于用户无法自行解决的问题，我公司负责派遣技术人员协助解决；6、售后人员对用户进行定期回访，指导用户保养维护仪器。宏拓仪器是一家具有实力的物性检测仪器供应商，专业为中小型企业提供优质、高性能的材料试验仪器解决方案。本公司主营产品有：拉力试验机、熔体流动速率仪（熔融指数仪）、悬臂梁冲击试验机、简支梁冲击试验机、密度计等类型工程塑料类检测仪器。

不干胶标签贴纸初粘性测试仪 双面胶初粘力试验仪不干胶标签贴纸初粘性测试仪 双面胶初粘力试验仪是一种专用于测定不干胶标签、压敏胶带、医用贴剂、保护膜等产品初粘性的测试设备。初粘性是指胶粘制品在短暂接触时对被粘物的粘附能力，是评价胶粘制品性能的重要指标之一。不干胶标签贴纸初粘性测试仪 双面胶初粘力试验仪测试原理初粘性测试仪通常采用斜面滚球法进行测试。该方法通过让一系列直径不同的钢球滚过平放在倾斜板上的胶粘带粘性面，根据胶粘带能粘住的最大钢球尺寸来评价其初粘性大小。不干胶标签贴纸初粘性测试仪 双面胶初粘力试验仪技术参数可调倾角：0～60°，可以根据测试需求调整倾斜角度。台面宽度：通常为120mm，确保足够的测试面积。试区宽度：80mm，为胶粘带提供标准的测试区域。标准钢球：直径范围从1/32英寸至1英寸，用于测试不同级别的初粘性。外形尺寸：大约为320mm (L)×140mm (B)×180mm (H)，便于操作和存放。重量：大约6kg，确保仪器稳定性。操作方法通过底座调节螺栓将水准泡调节至中心圆内，确保测试板水平。使用角度调节旋钮将倾斜板固定在所需角度，通常为30°。将试样粘性面向上放置在倾斜板上，并用聚脂薄膜覆盖固定。将处理好的钢球用镊子夹入放球器内，调节放球器位置。释放钢球，观察并记录能粘住的最大球号钢球。重复测试以确认最大球号钢球，并按规定进入正式测试程序。产品特征采用斜面滚球法测试原理，评估试样的瞬间粘附性能。测试倾斜角度可以自由调整，满足不同测试标准的要求。高精度钢球，确保测试数据的准确性和重复性。执行标准测试仪通常遵循国家标准，如中国的GB/T 4852《压敏胶带初粘性试验方法——滚球法》[^73^][^74^]。注意事项须严格按国标规定制取试样，选用合适的钢球及其它试验用材。测试装置应经常擦拭并保持清洁完好，以确保测试结果的准确性。

双面胶带初粘测试仪 热敏标签纸初粘性测试仪 封箱胶带初粘力测试仪双面胶带初粘测试仪 热敏标签纸初粘性测试仪 封箱胶带初粘力测试仪是一种专门用于测量封箱胶带初粘力的设备，它通过模拟胶带与表面接触时的粘附性能来评估胶带的初粘性。采用斜面滚球法，通过钢球与压敏胶带试样粘性面之间以微小压力发生短暂接触，测试胶带对钢球的粘附作用，从而评估试样的初粘性。封箱胶带初粘力测试仪适用于压敏胶带、医用胶带、不干胶标签、保护膜等多种胶粘制品的初粘性测试。双面胶带初粘测试仪 热敏标签纸初粘性测试仪 封箱胶带初粘力测试仪技术参数滚球材料：不锈钢。倾斜角度：20-60°（可调）。滚球大小：1/32”至1”（多种尺寸可选）。倾斜板材料：5mm厚玻璃。助跑道长度：100mm。外型尺寸：380×150×250 mm（长×宽×高）。重量：约12kg。测试条件：试验室温度23±2℃，相对湿度65±5%。双面胶带初粘测试仪 热敏标签纸初粘性测试仪 封箱胶带初粘力测试仪设备特点设备结构简单，操作方便，可重复性好。通过调整倾斜角度和选择不同大小的钢球，可以适应不同胶带的初粘力测试需求。采用斜面滚球法，模拟实际使用中胶带与表面的接触情况，测试结果具有较高的实用价值.符合标准设备设计和测试方法遵循GB/T 4852等相关标准，确保测试结果的准确性和权威性。

双面胶180度剥离测试仪 压敏胶带剥离强度试验机 胶带剥离机压敏胶带剥离强度试验机是一款专为评估胶带、压敏胶粘带等产品剥离强度而设计的精密设备。该设备遵循多项国家标准，如GB/T 2792-2014，确保测试结果的准确性和一致性。双面胶180度剥离测试仪 压敏胶带剥离强度试验机 胶带剥离机产品特点与参数：适用范围：适用于胶粘带、压敏胶、不干胶、保护膜、复合膜等材料的180°或T型剥离强度测试。技术标准：符合GB/T 2790、GB/T 2791、GB/T 2792等国家标准，支持多种测试方法。负荷范围：配置50N荷重传感器，适合中低负荷测试需求，可选配其他规格以适应不同测试要求。精度与分辨率：高精度荷重元，精度达到1级，分辨率0.01N，确保数据的精确读取。位移测量：采用高精度光电编码器，确保位移测量的准确性。速度控制：测试速度可调，标准设置为300mm/min，满足不同测试条件。控制与显示：微电脑控制，配备LED数码显示屏和PVC操作面板，直观易用。数据处理：内置TM2101测量控制系统，支持英文/中文简体/繁体界面，提供全面的数据分析和统计功能。安全保护：具备限位保护、过载保护等智能安全配置，确保操作安全。测试治具：提供90°和180°剥离夹具，以及标准镜面钢板和手动压轮，满足不同测试需求。物理尺寸：桌上型设计，占用空间小，便于实验室使用。双面胶180度剥离测试仪 压敏胶带剥离强度试验机 胶带剥离机操作流程简述：样品准备：裁剪25.4mm宽的胶带试样，长度至少300mm。黏贴与碾压：将胶带贴于镜面钢板上，使用2KG手动滚轮来回压三次，确保无气泡。静置：让胶带粘性达到最佳状态。安装试样：将处理好的试样固定在试验机的夹具上。执行测试：设置好参数后开始测试，机器自动完成剥离过程并记录数据。

CZY-G 初粘性测试仪，严格按照国标GB/T4852标准设计。适用于压敏胶带、医用贴剂、不干胶标签、保护膜等相关产 品进行初粘性测试，独具A斜面滚球法B斜槽滚球法两种试验方法，转换方式简单易行。 产品特点◎ 采用斜面滚球法的测试原理，测试试样的瞬间粘附性能。◎ 完全按照国家标准设计的测试钢球，确保了测试数据的高精。◎ 测试倾斜角度可以按照用户的需求进行自由调整。 测试原理初粘力测试仪CZY-G 采用A法斜面滚球法和B法斜槽滚球法：A法：通过钢球和压敏胶粘带试样粘性面之间以微小压力发生短暂接触时，胶粘带对钢球的粘附作用来测试试样初粘性。将一钢球滚过平放在倾斜板上的胶粘带粘性面，根据规定长度的粘性面能够粘住的z大钢球尺寸，评价其初粘性大小。B法：将一规定大小的钢球滚过倾斜槽，测量其在水平板上的胶粘带粘性面上滚动的距离来评价其初粘性的大小。 应用领域适用于各种胶粘类制品的初粘性测试，如压敏胶带、医用贴剂、不干胶标签、保护膜等测试标准该仪器符合多项国家和国标标准：GB/T4852、药典第四部。 售后服务承诺三月内只换不修，一年质保，终身提供。快速处理，1小时内响应问题，1个工作日出解决方案。 体系荣誉资质ISO9001：2008质量体系认证、计量合格确认证书、CE认证、软件著作权、产品实用新型、外观设计。实力铸造品牌三大研发中心，两条独立生产线，一个综合体验式实验室。赛成自2007年创立至今，全球用户累计成交产品破万台，完善四大产品体系，50多种产品。

用途剥离力试验机系针对胶带剥离试验而开发设计，采用微电脑芯片控制，可做材料料的拉力、剥离力测试,全电脑操作,自动复位功能,连接电脑可输出测试图形及表格资料作为材料测试之依据。软件功能测控系统是专为微机电子万能试验机、微机液压万能试验机、微机压力机设计的测控系统。可进行拉伸、压缩、弯曲、剪切、撕裂、剥离试验。采用PC机和 接口板进行数据的采集、保存、处理和打印试验结果。可计算最大力、屈服力、平均剥离力、最大变形、屈服点、弹性模量等参数；可进行曲线处理、多传感器支 持、图形图像化的接口、灵活的数据处理、MS-ACCESS数据库支持，使系统功能更为强大。技术参数容量选择:10N、20N、50N、100N、200N（可选双容量配制）显示器:电脑显示方式力量分辨率:1/500,000力量精度:0.3%行程分辨率:1/500,000控制方式:全电脑操作方式实验行程:500mm实验宽度:?140mm实验速度:5～500mm/min 电脑设定, 附夹具上下快速调节按钮力量单位转换:kgf，N，Ibf，g，ton，Mpa停机模式:过载停机、紧急停止键、试件破坏自动停机、上下限设定自动停机、自动复位功能机台尺寸:1063 x 300 x 200mm (W×D×H)机台动力:步进马达驱动，同步轮及精密滚珠丝杆传动功率:180W机台重量:约45kg使用电力:220V 50/60HZ 5A标准配置:夹具1组、电脑软件、USB电脑连线；选购:个人电脑

机台介绍YL-S70拉力试验机专门测试各种材料、成品、半成品的强度,选取各种夹具、冶具，适用于测定各种材料在拉伸、压缩、弯曲、剪切、撕裂、剥离、穿刺等状态下的力学性能及有关物理参数。可做拉伸、压缩、三点抗弯、四点抗弯、剪切、撕裂、剥离、成品鞋穿刺、纸箱持压、泡棉循环压缩、弹簧拉压及各种动静态循环测试等。机台结构交流伺服马达驱动,精密滚珠丝杆传动；丝杆护罩采用铝型材挤压成型，表面喷砂、阳极亮银处理，工艺精美 外壳选用高级ABS吸塑喷涂处理，经久耐用，美观大方；上下行程微调开关；快拆式接头,可轻松更换不同的功能夹具；机台保护超行程、超容量保护、紧急制动开关；机台功能强大的数据分析统计和曲线图形分析辅助工具，具备放大、缩小、平移、十字光标、取点等功能。多次历史测试数据可调入图形同时显示做对比分析。多达7个区间设置、40个手动取点、120个自动取点功能。具备zui大值、zui小值、平均值、去高低平均值、中位数、标准差、总体标准差、CPK值等多种统计功能。测试曲线显示测试过程中实时且可以同时显示力量-位移、力量-时间、位移-时间、应力-应变等曲线，可随意切换到想看的曲线画面；自定义测试方法具备定速度、定位移、定力量、定力量速率、定应力、定应力速率、定应变、定应变速率等各种控制模式，可实现复杂的多步嵌套循环控制.可设置自动返回、自动判断断裂、自动归零等功能。传感器正反受力可切换；技术参数型号YL-S70YL-S71YL-S72YL-S73容量选择10N、20N、50N、100N、200N、500N、1KN、2KN、5KN（可选双容量配制，并具备快速更换要求）控制方式全电脑控制方式，软件功能强大力量单位N、kN、gf、kgf、lbf、kP、tf(SI)、tf(long)等长度单位mm、cm、Inch、m、km、um等应力单位Pa、Kpa、Mpa、Gpa、KN/㎡、N/㎡等力量分辨率1/500,000精度优于0.5级行程分辨率1/500,000mm采集速率50次/S有效行程450mm700mm1000mm1300mm速度范围0.01~500mm/min（可定制）测试空间?140mm停机模式过载停机、紧急停止键、试件破坏自动停机、上下限设定自动停机机台动力伺服马达驱动机台尺寸（宽×深×高）520×590×1061mm520×590×1325mm520×590×1530mm520×590×1880mm机台净重45KG50KG55KG70KG功率400W电源220V 50~60HZ机台配备USB\232连接线1条、软件1份选购两点延伸计、夹具、电脑

HP-TCN-A探头式初粘力测试仪又叫探针式初粘力试验机（Probe Tack Tester），是胶带初粘力测试的方式之一，主要用于各种胶带、粘合剂类等各种不同产品的初始粘着力测试，产品满足ASTM D2979 的规范等国际标准，适合各类研究机构、胶粘剂企业、不干胶等检验检疫机构等。测试原理：使用5mm直径精密研磨的平面探头压在黏胶面，完全接触之后，再反方向恒速完全分离所产生的力，这个力值即为所测试样的初粘力，机器会记录离开时拉力数值。 产品特点：1.数据收集系统具有即精确又易用的特点，是当前先进的测量仪器。2.采用微电脑控制技术，，精度高，操作简便。3.采用高精度传感器，精确度可以达到重量感应器标准的+0.1%。4.先进的静音电机和精密滚珠丝杠，传动运行平稳，位移测量更加准确。5.高清晰LCD显示，操作一目了然6.连接微型打印机：可实现实验日期、试验结果，直接及时打印.7.具有试验力值保持功能，查看实验结果更加方便。8.无级调速可在1—800范围内任意设定精度技术参数：1.负荷范围：0－50N2.精 度：0.5级3.分 辨率：0.001N4.试验速度：24 ipm (英寸/分)，61cpm (公分/分)，610 mm/min（0.001～800mm/min 可调 ）5、试验行程：600mm（标配）或1000mm（可定做）6、速度控制范围：1mm/min～800mm/min7、试验机尺寸：530*266*1450或1810 mm8、供电电源：220V，50Hz9、重量:75kG探头式初粘力测试仪标准配置：主机、电源线、探头一副、试验板3片，夹持辅具一副。

机台介绍YL-S70拉力试验机专门测试各种材料、成品、半成品的强度,选取各种夹具、冶具，适用于测定各种材料在拉伸、压缩、弯曲、剪切、撕裂、剥离、穿刺等状态下的力学性能及有关物理参数。可做拉伸、压缩、三点抗弯、四点抗弯、剪切、撕裂、剥离、成品鞋穿刺、纸箱持压、泡棉循环压缩、弹簧拉压及各种动静态循环测试等。机台结构交流伺服马达驱动,精密滚珠丝杆传动；丝杆护罩采用铝型材挤压成型，表面喷砂、阳极亮银处理，工艺精美 外壳选用高级ABS吸塑喷涂处理，经久耐用，美观大方；上下行程微调开关；快拆式接头,可轻松更换不同的功能夹具；机台保护超行程、超容量保护、紧急制动开关；机台功能强大的数据分析统计和曲线图形分析辅助工具，具备放大、缩小、平移、十字光标、取点等功能。多次历史测试数据可调入图形同时显示做对比分析。多达7个区间设置、40个手动取点、120个自动取点功能。具备zui大值、zui小值、平均值、去高低平均值、中位数、标准差、总体标准差、CPK值等多种统计功能。测试曲线显示测试过程中实时且可以同时显示力量-位移、力量-时间、位移-时间、应力-应变等曲线，可随意切换到想看的曲线画面；自定义测试方法具备定速度、定位移、定力量、定力量速率、定应力、定应力速率、定应变、定应变速率等各种控制模式，可实现复杂的多步嵌套循环控制.可设置自动返回、自动判断断裂、自动归零等功能。传感器正反受力可切换；技术参数型号YL-S70YL-S71YL-S72YL-S73容量选择10N、20N、50N、100N、200N、500N、1KN、2KN、5KN（可选双容量配制，并具备快速更换要求）控制方式全电脑控制方式，软件功能强大力量单位N、kN、gf、kgf、lbf、kP、tf(SI)、tf(long)等长度单位mm、cm、Inch、m、km、um等应力单位Pa、Kpa、Mpa、Gpa、KN/㎡、N/㎡等力量分辨率1/500,000精度优于0.5级行程分辨率1/500,000mm采集速率50次/S有效行程450mm700mm1000mm1300mm速度范围0.01~500mm/min（可定制）测试空间?140mm停机模式过载停机、紧急停止键、试件破坏自动停机、上下限设定自动停机机台动力伺服马达驱动机台尺寸（宽×深×高）520×590×1061mm520×590×1325mm520×590×1530mm520×590×1880mm机台净重45KG50KG55KG70KG功率400W电源220V 50~60HZ机台配备USB\232连接线1条、软件1份选购两点延伸计、夹具、电脑

胶带持粘力测试仪贴膏剂持粘性测试仪是一款专门用于评估胶带、双面胶和贴膏剂等粘性材料性能的仪器。本产品实用性强，可对各类粘性材料的持久性、粘性和保持能力进行全面、准确的检测。贴膏剂持粘性测试仪主要采用物理力学原理，通过特制夹具将试样固定在仪器上，然后对试样施加一定拉力，模拟实际使用过程中可能出现的弯曲、拉伸等情况。经过特定时间后，观察试样是否发生脱落、位移等现象，从而评估其持粘性能。本仪器适用于各类胶带、双面胶和贴膏剂生产和使用单位的质量控制。它可以快速准确地检测各类粘性材料的持粘性能，确保产品质量和安全性。同时，该仪器还可以帮助科研机构和高校开展相关研究，推动粘性材料的技术创新和发展。总之，三泉中石的贴膏剂持粘性测试仪是一款专门针对胶带、双面胶和贴膏剂等粘性材料的性能检测仪器。通过使用该仪器，企业和科研机构可以全面评估各类粘性材料的性能，确保产品质量和安全性。 技术参数 标准压辊 2000g±50 g 砝　　码 1000g（200g、500g可选） 试 验 板 125（L）mmx50（B）mmx2（D）mm （200（L）mmx50（B）mmx2（D）mm 125（L）mmx125（B）mmx2（D）mm可选） 计时范围 0～200小时 温控范围 0--100℃ 控温精度 ±1 ℃ 工 位 数 6工位 外形尺寸 900mm×550mm×750mm (长宽高) 重 量 40Kg 工作温度 15℃-50℃ 相对湿度 高80%，无凝露 工作电源 220V 50Hz 参照标准 YY/T0148、中华人民共和国药典2015年版 黏附力测定法、GB 4851 产品配置 主机、标准压辊、实验板、砝码、微型打印机、触摸显示屏胶带持粘力测试仪此为广告

EVG620系列单面/双面光刻机 一、 简介 EVG公司成立于1980年，公司总部和制造厂位于奥地利，在美国、日本和台湾设有分公司，并在其他各地设有销售代理及售后服务部，产品和服务遍及世界各地。EVG公司是一家致力于半导体制造设备的全球供应商，其丰富的产品系列包括：涂胶和喷胶/显影机/热板/冷板、掩模版光刻/键合对准系统、基片热压键合/低温等离子键合系统、基片清洗机、基片检测系统、SOI 基片键合系统、基片临时键合/分离系统、纳米压印系统。目前已有数千台设备安装在世界各地，被广泛地应用于MEMS微机电系统/微流体器件，SOI基片制造，3D封装，纳米压印，化合物半导体器件和功率器件等领域。EVG620 是一款非常灵活和可靠的光刻设备，可配置为半自动也可以为全自动形式。EVG620既可以用作双面光刻机也可以用作150mm硅片的精确对准设备；既可以用作研发设备，也可以用作量产设备。精密的契型补偿系统配以计算机控制的压力调整可以确保良率和掩膜板寿命的大幅提升，进而降低生产成本。EVG620先进的对准台设计在保证精确的对准精度和曝光效果的同时，可以大幅提高产能。 二、应用范围EVG光刻机主要应用于半导体光电器件、功率器件、微波器件及微电子机械系统（MEMS）、硅片凸点、化合物半导体等领域，涵盖了微纳电子领域微米或亚微米级线条器件的图形光刻应用。 三、主要特点u 双面对准光刻和键合对准工艺u 自动的微米计控制曝光间距u 自动契型补偿系统u 优异的全局光强均匀度u 免维护单独气浮工作台u 高度自动化系统u 快速更换不同规格尺寸的硅片u 可选配Nanoalign技术包以达到更高的工艺能力u 薄硅片或翘曲硅片处理系统可选u Windows图形化用户界面u 完善的多用户管理（用户权限、界面语言、菜单和工艺控制）u 光刻工艺模拟软件可选u 三花篮上料台，可选五花篮台 四、技术参数设备咨询电话：欢迎您的来电咨询！

DSH系列双面探针台产品概要DSH系列探针台是我司自主研发的一款双面探针台,最大可完成12英寸晶圆的正反面点针测试。在具备常规探针台的功能基础上,可用于晶圆和PCB板的测试,对晶圆或者PCB板正面和背面同时扎针以实现各种光/电性能测试需求的测试,或背面点针,正面收集光线等,运用十分丰富。该定制探针台具有优良的机械系统,稳定的结构,符合人体工程学,以及多项升级功能。此设备在激光器,LD/LED/PD的光强/波长测试等方面得到了广泛运用。如果您的产品也有双面点针,或者背面点针的需求,此款产品是首选。技术特点双层设计,可正反面同时点针,可同时加载DC和RF信号 卡盘大手柄双驱动,省时,省力,省心,可升级360度快速移动 加厚级刚性金属框架结构设计,领先的内部防震技术,结构性能稳定。

DIP上下双面智能AOI双面检查AOI D610系列设备原理：通过上下两个高精度相机，对同一块板卡移动拍 照，采取AI深度学习算法，智能判定元器件不良和焊锡不良。适合产品： 高标准类：汽车电子、军工、航天； 主板类：服务器主板、PC主板； 网通类：通信板，网通板； 控制类：工控板、智能家电板； 电表类：仪表板；一.双面检查AOI检查项目二.产品功能介绍1.AI深度学习模型、计算机视觉、图形图像处理，提高焊点检出率；检测插件元件错、漏、反、浮高、焊锡缺陷等。2.智能算法，快速智能编程，无需人工干预，对编程人员要求低，易学习，编程速度快3.OCR文字识别算法4.强大的检出率，真正能让在线AOI无人值守。在确保能检出真正不良品前提下，本机器重复测量结果一致性好、低误判，才能真正减少人工。5.检测速度快 ,两面同时检测,自动规划最优路径移动检测，节省拍照时间；6.检测模式多，支持拼板检测 、支持混板检测 、支持混料检测 。三.双面检测AOI规格参数PCBA 尺寸：min：5mm5mm max:510*460mmPCBA 厚度：0.5mm-6mmPCBA 元件高度：顶面：150mm 底面：40mm摄像头分辨率：焊点面500W全彩 或者1200W全彩，器件面标配2000W或选配1200W，根据应用环境选配光源：上照白光+下照 RGBWS四色环形LED光源像元尺寸：3.45um(500万全彩)；2.45um(2000万全彩)CPU：Intel i7 10代 10700KF显存：8G 内存/存储：64G DDR/ 256G+2T机械硬盘显示器：22″/23.8″FHD 显示器运动机构：进口伺服电机丝杆轨道调宽：电动操作系统：Ubuntu.19.2.LTS 64bit外观尺寸：长*宽*高=1060mm*1340mm*1500mm（不含显示器支架，三色灯）

EVG620 单面/双面光刻机(带有压印功能）EVG 公司是一家致力于半导体制造设备的全球供应商，其丰富的产品系列包括：涂胶和喷胶/显影机/热板/冷板、掩模版光刻/键合对准系统、基片热压键合/低温等离子键合系统、基片清洗机、基片检测系统、SOI 基片键合系统、基片临时键合/分离系统、纳米压印系统。目前已有数千台设备安装在世界各地，被广泛地应用于 MEMS 微机电系统/微流体器件，SOI 基片制造，3D 封装，纳米压印，化合物半导体器件和功率器件等领域。设备原理：EVG620 是一款非常灵活和可靠的光刻设备，可配置为半自动也可以为全自动形式。EVG620 既可以用作双面光刻机也可以用作 150mm 硅片的精确对准设备；既可以用作研发设备，也可以用作量产设备。精密的契型补偿系统配以计算机控制的压力调整可以确保良率和掩膜板寿命的大幅提升，进而降低生产成本。EVG620 先进的对准台设计在保证精确的对准精度和曝光效果的同时，可以大幅提高产能。应用范围EVG 光刻机主要应用于半导体光电器件、功率器件、微波器件及微电子机械系统（MEMS）、硅片凸点、化合物半导体等领域，涵盖了微纳电子领域微米或亚微米级线条器件的图形光刻应用。主要特点及技术参数:1、主要特点：。 双面对准光刻和键合对准工艺。自动的微米计控制曝光间距。自动契型补偿系统。 优异的全局光强均匀度。免维护单独气浮工作台。 高度自动化系统。快速更换不同规格尺寸的硅片。 可选配 Nanoalign 技术包以达到更高的工艺能力。 薄硅片或翘曲硅片处理系统可选。 Windows 图形化用户界面。 完善的多用户管理（用户权限、界面语言、菜单和工艺控制）。 光刻工艺模拟软件可选。三花篮上料台，可选五花篮台2、技术参数

EVG620系列单面/双面光刻机 一、 简介 EVG公司成立于1980年，公司总部和制造厂位于奥地利，在美国、日本和台湾设有分公司，并在其他各地设有销售代理及售后服务部，产品和服务遍及世界各地。EVG公司是一家致力于半导体制造设备的全球供应商，其丰富的产品系列包括：涂胶和喷胶/显影机/热板/冷板、掩模版光刻/键合对准系统、基片热压键合/低温等离子键合系统、基片清洗机、基片检测系统、SOI 基片键合系统、基片临时键合/分离系统、纳米压印系统。目前已有数千台设备安装在世界各地，被广泛地应用于MEMS微机电系统/微流体器件，SOI基片制造，3D封装，纳米压印，化合物半导体器件和功率器件等领域。EVG620 是一款非常灵活和可靠的光刻设备，可配置为半自动也可以为全自动形式。EVG620既可以用作双面光刻机也可以用作150mm硅片的精确对准设备；既可以用作研发设备，也可以用作量产设备。精密的契型补偿系统配以计算机控制的压力调整可以确保良率和掩膜板寿命的大幅提升，进而降低生产成本。EVG620先进的对准台设计在保证精确的对准精度和曝光效果的同时，可以大幅提高产能。 二、应用范围EVG光刻机主要应用于半导体光电器件、功率器件、微波器件及微电子机械系统（MEMS）、硅片凸点、化合物半导体等领域，涵盖了微纳电子领域微米或亚微米级线条器件的图形光刻应用。 三、主要特点u 双面对准光刻和键合对准工艺u 自动的微米计控制曝光间距u 自动契型补偿系统u 优异的全局光强均匀度u 免维护单独气浮工作台u 高度自动化系统u 快速更换不同规格尺寸的硅片u 可选配Nanoalign技术包以达到更高的工艺能力u 薄硅片或翘曲硅片处理系统可选u Windows图形化用户界面u 完善的多用户管理（用户权限、界面语言、菜单和工艺控制）u 光刻工艺模拟软件可选u 三花篮上料台，可选五花篮台 四、技术参数 设备咨询电话：（微信同号）；QQ：；邮箱：欢迎您的来电咨询！

一、 URE-2000S/A8 型双面光刻机 1.主要技术参数曝光面积：8 英寸曝光波长：365nm： 15mW/cm405nm：15-30mW/cm2分辨力：1mm对准精度：±2 mm（双面,片厚 0.8mm）±0.8mm（单面）掩模尺寸：4 英寸、5 英寸，7 英寸，9 英寸样片尺寸：3 英寸、4 英寸，6 英寸，8 英寸厚度 0.1mm—2mm曝光方式：定时（倒计时方式）和定剂量调平接触压力通过传感器保证重复l数字设定对准间隙和曝光间隙具备压印模块接口，也具备接近模块接口 正面对准采用双目双视场对准显微镜：既可通过目镜目视对准，也可通过 CCD+显示器对准，光学合像，光学最大倍数 400 倍，光学+电子放大 800 倍物镜三对：4 倍、10 倍、20 倍目镜三对：10 倍、16 倍、20 倍底面面对准：采用双显微物镜+CCD+采集卡+计算机合像，物镜轴距范围 10mm-200mm照明不均匀性：5%（Ф200mm 范围）掩模相对于样片运动行程：X：±5mm Y：±5mm q：±6 度最大胶厚：500 mm（SU8 胶，用户提供检测条件）光源平行性：2°具有循环水冷却系统汞灯功率：1000W（直流，进口） 2．外形尺寸：1400mm（长）′1200mm(宽) ′2000mm（高） 3．设备构成与配置明细设备主要由均匀照明曝光系统（曝光头）、对准工件台系统、双目双视场显微镜系统、底面 CCD 对准系统、电控系统、气动控制系统及辅助配套设备构成。（1）曝光头系统包括：。冷光椭球镜。1000 W 进口直流高压汞灯(德国欧司朗)。XYZ 汞灯调节台。冷却风扇.。光学系统：固定光栏、可变光栏、快门、准直镜镜 1、准直镜镜 2、蝇眼透镜组（109 余个透镜）、i 线滤光片、场镜、冷光反射镜 1、反射镜 2 （2）对准工件台系统包括：。掩模样片相对运动台（XY）。转动台（θ）。样片自动调平机构。样片调焦机构l。承片台 4 个 （3 英寸、4 英寸，6 英寸，8 英寸）。掩模架 4 个 （4 英寸、5 英寸，7 英寸，9 英寸）。掩模翻转及旋转机构 （3）对准显微镜（可选择带 CCD 型，目镜和监视器可同时观测）系统包括：。LED 照明及配套电源。双目双视场对准显微镜主体。目镜 3 对（10 倍、16 倍、20 倍，共 6 个）。物镜 3 对（4 倍、10 倍、20 倍，共 6 个）。CCD 及光学成像系统XYZ 底面对准工件台（两套） （4）底面 CCD 对准系统。LED 照明及配套电源。CCD 及光学成像系统(2 套)。数据采集卡 （5）电控系统。汞灯触发电源(1000W 直流汞灯)。单片机控制系统。控制柜桌。计算机系统（22 英寸宽屏液晶显示器） （6）气动系统。气缸、电磁阀、减压阀、气动开关等。电磁阀驱动。气动仪表 （7）其他附件（选配）。真空泵一台（无油静音型）。空压机一台（无油静音型）。恒温循环水冷却系统。管道 二、 URE-2000S/A 型双面光刻机 1.主要技术参数曝光面积：6 英寸曝光波长：365nm： 20mW/cm405nm：20-35mW/cm2分辨力：1mm对准精度：±2mm（双面,片厚 0.8mm） ±0.8mm（单面）掩模尺寸：3 英寸、4 英寸、5 英寸，7 英寸样片尺寸：2 英寸、3 英寸、4 英寸，6 英寸厚度 0.1mm—6mm曝光方式：定时（倒计时方式）和定剂量调平接触压力通过传感器保证重复数字设定对准间隙和曝光间隙具备压印模块接口，也具备接近模块接口7正面对准采用双目双视场对准显微镜：既可通过目镜目视对准，也可通过 CCD+显示器对准，光学合像，光学最大倍数 400 倍，光学+电子放大 800 倍物镜三对：4 倍、10 倍、20 倍目镜三对：10 倍、16 倍、20 倍底面面对准：采用双显微物镜+CCD+采集卡+计算机合像，物镜轴距范围 10mm-148mm照明不均匀性： 2.5%（Ф100mm 范围） 3%（Ф150mm 范围）掩模相对于样片运动行程：X：±5mm Y：±5mm q：±6 度最大胶厚：500 mm（SU8 胶，用户提供检测条件）光源平行性：2°具有循环水冷却系统汞灯功率：1000W（直流，进口） 2．外形尺寸：1400mm（长）′1200mm(宽) ′2000mm（高） 3．设备构成与配置明细设备主要由均匀照明曝光系统（曝光头）、对准工件台系统、双目双视场显微镜系统、底面 CCD 对准系统、电控系统、气动控制系统及辅助配套设备构成。（1）曝光头系统包括：。冷光椭球镜。1000 W 进口直流高压汞灯(德国欧司朗)。XYZ 汞灯调节台。冷却风扇.。光学系统：固定光栏、可变光栏、快门、准直镜镜 1、准直镜镜 2、蝇眼透镜组（109 余个透镜）、i 线滤光片、场镜、冷光反射镜 1、反射镜 2 （2）对准工件台系统包括：。掩模样片相对运动台（XY）。转动台样片自动调平机构。样片调焦机构。承片台 4 个 （2 英寸、3 英寸、4 英寸，6 英寸）8。掩模架 4 个 （3 英寸、4 英寸、5 英寸，7 英寸）。掩模翻转及旋转机构 （3）对准显微镜（可选择带 CCD 型，目镜和监视器可同时观测）系统包括：。LED 照明及配套电源。双目双视场对准显微镜主体。目镜 3 对（10 倍、16 倍、20 倍，共 6 个）。物镜 3 对（4 倍、10 倍、20 倍，共 6 个）。CCD 及光学成像系统。XYZ 底面对准工件台（两套） （4）底面 CCD 对准系统。LED 照明及配套电源。CCD 及光学成像系统(2 套)。数据采集卡 （5）电控系统。汞灯触发电源(1000W 直流汞灯)。单片机控制系统。控制柜桌。计算机系统（22 英寸宽屏液晶显示器） （6）气动系统。气缸、电磁阀、减压阀、气动开关等。电磁阀驱动。气动仪表 （7）其他附件（选配）。真空泵一台（无油静音型）。空压机一台（无油静音型）。恒温循环水冷却系统。管道 （8）技术资料。设备使用及维护说明书 三、 URE-2000S/B 型双面光刻机 1．技术参数曝光面积：4 英寸曝光波长：365nm： 25mW/cm405nm：20-40mW/cm2分辨力：1mm对准精度：±2mm（双面,片厚 0.8mm）±0.8mm（单面）掩模尺寸： 3 英寸、4 英寸、5 英寸样片尺寸：2 英寸、3 英寸、4 英寸厚度 0.1mm--6mm曝光方式：定时（倒计时方式）和定剂量调平接触压力通过传感器保证重复数字设定对准间隙和曝光间隙具备压印模块接口，也具备接近模块接口正面对准采用双目双视场对准显微镜：既可通过目镜目视对准，也可通过 CCD+显示器对准，光学合像，光学最大倍数 400 倍，光学+电子放大 800 倍10物镜三对：4 倍、10 倍、20 倍目镜三对：10 倍、16 倍、20 倍底面面对准：采用双显微物镜+CCD+采集卡+计算机合像，物镜轴距范围 10mm-148mm照明不均匀性： 2.5%（Ф100mm 范围）掩模相对于样片运动行程：X: ±5mm Y: ±5mm q: ±6 度最大胶厚：600 mm（SU8 胶，用户提供检测条件）光源平行性：2°具有循环水冷却系统汞灯功率：1000W（直流，进口） 2．外形尺寸：1400mm（长）′1200mm(宽) ′2000mm（高） 3．配置（1）曝光头。冷光椭球镜。1000 W 进口直流高压汞灯(德国欧司朗,长寿命型)；。XYZ 汞灯调节台。冷却风扇。光学系统：固定光栏、可变光栏、快门、准直镜镜 1、准直镜镜 2、蝇眼透镜组（109 个透镜）、i 线滤光片、场镜、冷光反射镜 1、反射镜 2 （2）对准工件台。掩模样片相对运动台。转动台。样片调平机构,自动完成。样片调焦机构。承片台 3 个 （3 英寸、4 英寸，5 英寸）。掩模夹 3 个 （2 英寸、3 英寸、4 英寸）。掩模抽拉式上下机构 （3）对准显微镜（可以选择带 CCD 型，目镜和监视器可同时观测）。光源（配备品 2 只）、电源。双目双视场对准显微镜主体。目镜 3 对（10 倍、16 倍、20 倍，共 6 个）11。物镜 3 对（4 倍、10 倍、20 倍，共 6 个）。CCD 光学系统 （4）底面 CCD 对准系统。光源（配备品 2 只）、 电源。成像光学系统(2 套)。双通道数据采集卡。CCD（两套） （5）电控系统。汞灯触发电源(1000W 直流汞灯)。单片机控制系统。控制柜桌。计算机系统（监视器配 21 英寸宽屏液晶） （6）气动系统。气缸、电磁阀、减压阀、气动开关等。电磁阀驱动。气动仪表 （7）其他附件。无油静音真空泵一台。无油静音空压机一台。恒温循环水冷却系统。管道 四、 URE-2000S/25A 型双面光刻机 1．技术参数曝光面积：6 英寸曝光波长：365nm：功率密度：＞25mW/cm2分辨力：1mm正面双目双视场对准显微镜：既可通过目镜目视对准，也可通过 CCD+显示器对准，光学合像，光学最大倍数 400 倍，光学+电子放大 800倍，物镜三对：4 倍、10 倍、20 倍；目镜三对：4 倍、10 倍、20 倍正面立式双 CCD 对准系统，光学放大，0.65-4.5 倍；具备侧向光源底面面对准：采用双显微物镜+CCD+采集卡+计算机合像，物镜轴距范围 10mm-148mm对准精度：±2mm（双面，片厚 0.8mm） ±0.8mm（单面）掩模尺寸：3 英寸、4 英寸、5 英寸、7 英寸样片尺寸：：2 英寸、3 英寸、4 英寸、6 英寸 厚度 0.1mm--2mm(双面)曝光方式：定时（倒计时方式）和定剂量照明不均匀性： 2.5%（Ф100mm 范围）4%（Ф150 mm 范围）13掩模相对于样片运动行程：X: ±5mm Y: ±5mm q: ±6 度汞灯功率：350W（直流，进口）调平接触压力通过传感器保证重复数字设定对准间隙和曝光间隙具备压印模块接口，也具备接近模块接口最大胶厚：350 mm（SU8 胶，用户提供检测条件）光源平行性：3.5° 2．外形尺寸：1300mm（长）′900mm(宽) ′1800mm（高） 3．配置（1）曝光头。冷光椭球镜。350 W 进口直流高压汞灯(德国欧司朗)。XYZ 汞灯调节台。冷却风扇。光学系统：固定光栏、可变光栏、快门、准直镜镜 1、准直镜镜 2、蝇眼透镜组（79 个透镜）、i 线滤光片、场镜1、冷光反射镜 1、反射镜 2 （2）对准工件台。掩模样片相对运动台。转动台。样片调平机构,自动完成。样片调焦机构，气缸自动调。承片台 4 个（2 英寸、3 英寸、4 英寸、6 英寸）。掩模夹 4 个（3 英寸、4 英寸、5 英寸、7 英寸）。掩模抽拉式上下机构 （3）双目双视场对准显微镜（带 CCD，目镜和监视器可同时观测）。光源、电源。双目双视场对准显微镜主体。目镜 3 对（10 倍、16 倍、20 倍，共 6 个）。物镜 3 对（4 倍、10 倍、20 倍，共 6 个）。立式双 CCD 光学对准系统 14。侧向对准光源 （4）底面 CCD 对准系统。光源、电源。成像光学系统。数据采集卡。CCD （5）电控系统。汞灯触发电源(350W 直流汞灯)。单片机控制系统。控制柜桌。计算机系统（21 英寸宽屏液晶显示器） （6）气动系统。气缸、电磁阀、减压阀、气动开关等。电磁阀驱动。气动仪表 （7）其他附件。真空泵一台（无油泵）。空压机一台 （音静泵）。管道 五、 URE-2000S/25 型双面光刻机 1．技术参数曝光面积：4 英寸曝光波长：365nm： 40mW/cm405nm：20-45mW/cm2分辨力：1mm正面对准采用双目双视场对准显微镜：既可通过目镜目视对准，也可通过 CCD+显示器对准，光学合像，光学最大倍数 400 倍，光学+电子放大 800 倍物镜三对：4 倍、10 倍、20 倍目镜三对：4 倍、10 倍、20 倍底面面对准：采用双显微物镜+CCD+采集卡+计算机合像，物镜轴距范围 10mm-148mm对准精度：±2mm（双面，片厚 0.8mm） ±0.6mm（单面）掩模尺寸： 3 英寸、4 英寸、5 英寸样片尺寸：2 英寸、3 英寸、4 英寸厚度 0.1mm--2mm(双面)曝光方式：定时（倒计时方式）和定剂量照明不均匀性： 3%（Ф100mm 范围）16掩模相对于样片运动行程：X: ±5mm Y: ±5mm q: ±6 度汞灯功率：350W（直流，进口）调平接触压力通过传感器保证重复数字设定对准间隙和曝光间隙具备压印模块接口，也具备接近模块接口最大胶厚：350 mm（SU8 胶，用户提供检测条件）光源平行性：3.5° 2．外形尺寸：1300mm（长）′900mm(宽) ′1800mm（高） 3．配置（1）曝光头。冷光椭球镜。350 W 进口直流高压汞灯(德国欧司朗)。XYZ 汞灯调节台。冷却风扇。光学系统：固定光栏、可变光栏、快门、准直镜镜 1、准直镜镜 2、蝇眼透镜组（79 个透镜）、i 线滤光片、场镜1、冷光反射镜 1、反射镜 2 （2）对准工件台。掩模样片相对运动台。转动台。样片调平机构,自动完成。样片调焦机构，气缸自动调。承片台 3 个（2 英寸、3 英寸、4 英寸）。掩模夹 3 个（3 英寸、4 英寸、5 英寸）。掩模抽拉式上下机构 （3）双目双视场对准显微镜（可以选择带 CCD 型，目镜和监视器可同时观测）。光源、电源。双目双视场对准显微镜主体。目镜 3 对（10 倍、16 倍、20 倍，共 6 个）。物镜 3 对（4 倍、10 倍、20 倍，共 6 个）17。CCD 光学系统（选配件）。XYZ 底面对准工件台 （4）底面 CCD 对准系统。光源、电源。成像光学系统。数据采集卡。CCD （5）电控系统。汞灯触发电源(350W 直流汞灯)。单片机控制系统。控制柜桌。计算机系统（21 英寸宽屏液晶显示器） （6）气动系统。气缸、电磁阀、减压阀、气动开关等。电磁阀驱动。气动仪表 （7）其他附件。真空泵一台（无油泵）。空压机一台 （音静泵）。管道 六、 URE-2000S/35L（A）型双面光刻机 1．技术参数曝光面积：6 英寸光 源：紫外 LED曝光波长：365nm： 10-25mW/cm分辨力：1mm正面对准采用双目双视场对准显微镜：既可通过目镜目视对准，也可通过 CCD+显示器对准，光学合像，光学最大倍数 400 倍，光学+电子放大 800 倍物镜三对：4 倍、10 倍、20 倍目镜三对：4 倍、10 倍、20 倍底面面对准：采用双显微物镜+CCD+采集卡+计算机合像，物镜轴距范围 10mm-148mm对准精度：±2mm（双面，片厚 0.8mm）±0.6mm（单面）掩模尺寸：3 英寸、4 英寸、5 英寸、7 英寸样片尺寸：2 英寸、3 英寸、4 英寸、6 英寸厚度 0.1mm--2mm ，曝光方式：定时（倒计时方式）和定剂量照明不均匀性：2.5%（Ф100mm 范围）19 3%（ f150 mm 范围）掩模相对于样片运动行程：X: ±5mm Y: ±5mm q: ±6 度调平接触压力通过传感器保证重复数字设定对准间隙和曝光间隙具备压印模块接口，也具备接近模块接口最大胶厚：400 mm（SU8 胶，用户提供检测条件）光源平行性：2° 2．外形尺寸：1300mm（长）′900mm(宽) ′1800mm（高） 3．配置（1）曝光头。冷光椭球镜。LED 进口光源。冷却模块。光学系统：固定光栏、可变光栏、快门、准直镜镜 1、准直镜镜 2、蝇眼透镜组（79 个透镜）、i 线滤光片、场镜1、冷光反射镜 1、反射镜 2、能力调节器、微光学整形元件 （2）对准工件台。掩模样片相对运动台。转动台。样片调平机构,自动完成。样片调焦机构，气缸自动调。承片台 4 个（2 英寸、3 英寸、4 英寸、6 英寸）。掩模夹 4 个（3 英寸、4 英寸、5 英寸、7 英寸）。掩模抽拉式上下机构 （3）双目双视场对准显微镜（可以选择带 CCD 型，目镜和监视器可同时观测）。光源、电源。双目双视场对准显微镜主体。目镜 3 对（10 倍、16 倍、20 倍，共 6 个）。物镜 3 对（4 倍、10 倍、20 倍，共 6 个）。CCD 光学系统（选配件）20。XYZ 底面对准工件台 （4）底面 CCD 对准系统。光源、电源。成像光学系统。数据采集卡。CCD （5）电控系统。单片机控制系统。控制柜桌。计算机系统（21 英寸宽屏液晶显示器） （6）气动系统。气缸、电磁阀、减压阀、气动开关等。电磁阀驱动。气动仪表 （7）其他附件。真空泵一台（无油泵）。空压机一台 （音静泵）。管道 七、 URE-2000S/35L（B）型双面光刻机 1．技术参数曝光面积：4 英寸光 源：紫外 LED曝光波长：365nm：20-40mW/cm2分辨力：1mm正面对准采用双目双视场对准显微镜：既可通过目镜目视对准，也可通过 CCD+显示器对准，光学合像，光学最大倍数 400 倍，光学+电子放大 800 倍物镜三对：4 倍、10 倍、20 倍目镜三对：4 倍、10 倍、20 倍底面面对准：采用双显微物镜+CCD+采集卡+计算机合像，物镜轴距范围 10mm-148mm对准精度：±2 mm（双面，片厚 0.8mm）±0.6mm（单面）掩模尺寸：3 英寸、4 英寸、5 英寸样片尺寸：2 英寸、3 英寸、4 英寸厚度 0.1mm--2mm(双面)曝光方式：定时（倒计时方式）和定剂量照明不均匀性： 2.5%（Ф100mm 范围）22掩模相对于样片运动行程：X: ±5mm Y: ±5mm q: ±6 度调平接触压力通过传感器保证重复数字设定对准间隙和曝光间隙具备压印模块接口，也具备接近模块接口最大胶厚：400 mm（SU8 胶，用户提供检测条件）光源平行性：2° 2．外形尺寸：1300mm（长）′900mm(宽) ′1800mm（高） 3．配置（1）曝光头。冷光椭球镜。LED 进口光源。冷却模块。光学系统：固定光栏、可变光栏、快门、准直镜镜 1、准直镜镜 2、蝇眼透镜组（79 个透镜）、i 线滤光片、场镜1、冷光反射镜 1、反射镜 2、能力调节器、微光学整形元件 （2）对准工件台。掩模样片相对运动台。转动台。样片调平机构,自动完成。样片调焦机构，气缸自动调。承片台 3 个（2 英寸、3 英寸、4 英寸）。掩模夹 3 个（3 英寸、4 英寸、5 英寸）。掩模抽拉式上下机构 （3）双目双视场对准显微镜（可以选择带 CCD 型，目镜和监视器可同时观测）。光源、电源。双目双视场对准显微镜主体。目镜 3 对（10 倍、16 倍、20 倍，共 6 个）。物镜 3 对（4 倍、10 倍、20 倍，共 6 个）。CCD 光学系统（选配件）。XYZ 底面对准工件台23 （4）底面 CCD 对准系统。光源、电源。成像光学系统。数据采集卡。CCD （5）电控系统。单片机控制系统。控制柜桌。计算机系统（21 英寸宽屏液晶显示器） （6）气动系统。气缸、电磁阀、减压阀、气动开关等。电磁阀驱动。气动仪表 （7）其他附件。真空泵一台（无油泵）。空压机一台 （音静泵）。管道 （8）技术资料。使用维修说明书。显微镜使用说明书 八、 URE-2000S/25S 型双面光刻机 1．技术参数曝光面积：4 英寸（或 6 英寸）曝光波长：365nm： 40mW/cm405nm：20-40mW/cm2分辨力：1mm正面对准采用双目双视场对准显微镜：既可通过目镜目视对准，也可通过 CCD+显示器对准，光学合像，光学最大倍数 400 倍，光学+电子放大 800 倍物镜三对：4 倍、10 倍、20 倍目镜三对：4 倍、10 倍、20 倍底面面对准：采用双显微物镜+CCD+采集卡+计算机合像，物镜轴距范围 10mm-148mm对准精度：±2.5mm（双面，片厚 0.8mm）±0.6mm（单面）掩模尺寸： 3 英寸、4 英寸、5 英寸、7 英寸（6 英寸配置）样片尺寸：2 英寸、3 英寸、4 英寸、6 英寸（6 英寸配置） 25厚度 0.1mm--2mm曝光方式：定时（倒计时方式）和定剂量照明不均匀性： 3%（Ф100mm 范围） 5%（ f150 mm 范围）掩模相对于样片运动行程：X: ±5mm Y: ±5mm q: ±6 度汞灯功率：350W（直流，进口）最大胶厚：350 mm（SU8 胶，用户提供检测条件）光源平行性：3.5° 2．外形尺寸：1300mm（长）′1000mm(宽) ′1800mm（高） 3．配置（1）曝光头（两套）。冷光椭球镜。350 W 进口直流高压汞灯(德国欧司朗)。XYZ 汞灯调节台。冷却风扇。光学系统：固定光栏、可变光栏、快门、准直镜镜 1、准直镜镜 2、蝇眼透镜组（79 个透镜）、i 线滤光片、场镜1、冷光反射镜 1、反射镜 2 （2）对准工件台。掩模样片相对运动台。转动台。样片调平机构,自动完成。样片调焦机构，气缸自动调。承片台：2 英寸、3 英寸、4 英寸、6 英寸（6 英寸配置）。掩模夹：3 英寸、4 英寸、5 英寸、7 英寸（6 英寸配置） （3）双目双视场对准显微镜（可以选择带 CCD 型，目镜和监视器可同时观测）。光源、电源。双目双视场对准显微镜主体。目镜 3 对（10 倍、16 倍、20 倍，共 6 个）。物镜 3 对（4 倍、10 倍、20 倍，共 6 个）。CCD 光学系统（选配件）26。XYZ 底面对准工件台 （4）底面 CCD 对准系统。光源、电源。成像光学系统。数据采集卡。CCD （5）电控系统。汞灯触发电源(350W 直流汞灯)。单片机控制系统。控制柜桌。计算机系统（21 英寸宽屏液晶显示器） （6）气动系统。气缸、电磁阀、减压阀、气动开关等。电磁阀驱动。气动仪表 （7）其他附件。真空泵一台（无油泵）。空压机一台 （音静泵）。管道

供应天发双面刨片机、电缆刨片机，江都生产厂家 特点及用途：本机适用GB/T2951-2008标准要求，广泛应用于橡胶、塑料、皮革、电线、电缆、防水材料、科研等单位，是配套完成试样的热延伸试验及拉伸试验准备试片不可缺少的设备。该机能切制邵氏硬度大于40度，厚度0.5-12毫米的各种试片，切制片料表面光洁、平整；厚度尺寸公差能控制在±0.2；不需打磨，便可直接裁取试样。 本机适用于《电线电缆和护套材料通用试验方法》标准中规定的配用电缆通信电缆，包括船用电缆的聚合物绝缘护套材料机械和物理性能测试时的试样制备。 1、工作台宽度：300mm 2、切片厚度：1-12mm 3、切片宽度：不大于100mm 4、最大供料厚度：20mm 5、电动机型号：Y100L-8 1.1KW 710r/min 380V 6、外形尺寸：长×宽×高 625×500×1048mm 7、净重：215kg

一、产品概述离心管架主要由塑料制成，用于存放离心管，它们也称为离心管盒，用于保护和存放离心管，离心管架的规格主要根据离心管设计。二、产品特点 1、 采用加厚PP材质，环保且方便清洁。2、 用料均匀，材质稳定，经久耐用。3、 防爆防开裂，耐121℃高温高压灭菌，可重复使用。4、 横侧数字标识，竖侧字母标识，准确，方便，美观。5、 做工精细，无毛刺。6、 圆润转角设计，保护双手。7、 产品双面设计，适配多种规格离心管。三、产品参数型号多用双面离心管架 小号多用双面离心管架 大号长度（mm）208205宽度（mm）73110高度（mm）23.323.4孔1（mm）13.5/10.813.5/8.0孔2（mm）8.0/6.510.8/6.5孔数96/48孔102/84孔适配离心管规格0.2ml，0.5ml，1.5ml，2.0ml，5.0ml0.2ml，0.5ml，1.5ml，2.0ml，5.0ml净重（kg）0.130.17产品尺寸（mm）208×73×23.3205×110×23.4型号双面离心管架 60孔双面离心管架 96孔长度（mm）20820.8宽度（mm）11073高度（mm）23.523.3孔1（mm）10.810.8孔2（mm）88.0 孔数96孔60孔适配离心管规格0.5ml，1.5ml，2.0ml0.5ml，1.5ml，2.0ml净重（kg）0.190.14产品尺寸（mm）208×110×23.5208×110×23.3

EVG610单面/双面光刻机 一、 简介 EVG公司成立于1980年，公司总部和制造厂位于奥地利，在美国、日本和台湾设有分公司，并在其他各地设有销售代理及售后服务部，产品和服务遍及世界各地。EVG公司是一家致力于半导体制造设备的全球供应商，其丰富的产品系列包括：涂胶和喷胶/显影机/热板/冷板、掩模版光刻/键合对准系统、基片热压键合/低温等离子键合系统、基片清洗机、基片检测系统、SOI 基片键合系统、基片临时键合/分离系统、纳米压印系统。目前已有数千台设备安装在世界各地，被广泛地应用于MEMS微机电系统/微流体器件，SOI基片制造，3D封装，纳米压印，化合物半导体器件和功率器件等领域。EVG610是一款非常灵活的、适用于研发和小批量试产的对准系统，可处理200mm之内的各种规格的晶片。EVG610支持各种标准的光刻工艺，例如：真空、软、硬接触和接近曝光；也支持其他特殊的应用，如键合对准、纳米压印光刻、微接触印刷等。EVG610系统中的工具更换非常简便快捷，每次更换都可在几分钟之内完成，而不需要专门的工程人员和培训，非常适合大学、研究所的科研实验和小批量生产。 二、应用范围EVG光刻机主要应用于半导体光电器件、功率器件、微波器件及微电子机械系统（MEMS）、硅片凸点、化合物半导体等领域，涵盖了微纳电子领域微米或亚微米级线条器件的图形光刻应用。 三、主要特点u 支持背面对准光刻和键合对准工艺u 自动的微米计控制曝光间距u 自动契型补偿系统u 优异的全局光强均匀度u 免维护单独气浮工作台u 最小化的占地面积u Windows图形化用户界面u 完善的多用户管理（用户权限、界面语言、菜单和工艺控制） 四、技术参数设备咨询电话：欢迎您的来电咨询！

EVG610单面/双面光刻机 一、 简介 EVG公司成立于1980年，公司总部和制造厂位于奥地利，在美国、日本和台湾设有分公司，并在其他各地设有销售代理及售后服务部，产品和服务遍及世界各地。EVG公司是一家致力于半导体制造设备的全球供应商，其丰富的产品系列包括：涂胶和喷胶/显影机/热板/冷板、掩模版光刻/键合对准系统、基片热压键合/低温等离子键合系统、基片清洗机、基片检测系统、SOI 基片键合系统、基片临时键合/分离系统、纳米压印系统。目前已有数千台设备安装在世界各地，被广泛地应用于MEMS微机电系统/微流体器件，SOI基片制造，3D封装，纳米压印，化合物半导体器件和功率器件等领域。EVG610是一款非常灵活的、适用于研发和小批量试产的对准系统，可处理zui大200mm之内的各种规格的晶片。EVG610支持各种标准的光刻工艺，例如：真空、软、硬接触和接近曝光；也支持其他特殊的应用，如键合对准、纳米压印光刻、微接触印刷等。EVG610系统中的工具更换非常简便快捷，每次更换都可在几分钟之内完成，而不需要专门的工程人员和培训，非常适合大学、研究所的科研实验和小批量生产。 二、应用范围EVG光刻机主要应用于半导体光电器件、功率器件、微波器件及微电子机械系统（MEMS）、硅片凸点、化合物半导体等领域，涵盖了微纳电子领域微米或亚微米级线条器件的图形光刻应用。 三、主要特点u 支持背面对准光刻和键合对准工艺u 自动的微米计控制曝光间距u 自动契型补偿系统u 优异的全局光强均匀度u 免维护单独气浮工作台u zui小化的占地面积u Windows图形化用户界面u 完善的多用户管理（用户权限、界面语言、菜单和工艺控制） 四、技术参数 设备咨询电话：（微信同号）；QQ：；邮箱：欢迎您的来电咨询！

EVG620 单面/双面光刻机(带有压印功能）EVG 公司是一家致力于半导体制造设备的全球供应商，其丰富的产品系列包括：涂胶和喷胶/显影机/热板/冷板、掩模版光刻/键合对准系统、基片热压键合/低温等离子键合系统、基片清洗机、基片检测系统、SOI 基片键合系统、基片临时键合/分离系统、纳米压印系统。目前已有数千台设备安装在世界各地，被广泛地应用于 MEMS 微机电系统/微流体器件，SOI 基片制造，3D 封装，纳米压印，化合物半导体器件和功率器件等领域。设备原理：EVG620 是一款非常灵活和可靠的光刻设备，可配置为半自动也可以为全自动形式。EVG620 既可以用作双面光刻机也可以用作 150mm 硅片的精确对准设备；既可以用作研发设备，也可以用作量产设备。精密的契型补偿系统配以计算机控制的压力调整可以确保良率和掩膜板寿命的大幅提升，进而降低生产成本。EVG620 先进的对准台设计在保证精确的对准精度和曝光效果的同时，可以大幅提高产能。应用范围EVG 光刻机主要应用于半导体光电器件、功率器件、微波器件及微电子机械系统（MEMS）、硅片凸点、化合物半导体等领域，涵盖了微纳电子领域微米或亚微米级线条器件的图形光刻应用。主要特点及技术参数:1、主要特点：。 双面对准光刻和键合对准工艺。自动的微米计控制曝光间距。自动契型补偿系统。 优异的全局光强均匀度。免维护单独气浮工作台。 高度自动化系统。快速更换不同规格尺寸的硅片。 可选配 Nanoalign 技术包以达到更高的工艺能力。 薄硅片或翘曲硅片处理系统可选。 Windows 图形化用户界面。 完善的多用户管理（用户权限、界面语言、菜单和工艺控制）。 光刻工艺模拟软件可选。三花篮上料台，可选五花篮台2、技术参数

EVG620 单面/双面光刻机(带有压印功能）EVG 公司是一家致力于半导体制造设备的全球供应商，其丰富的产品系列包括：涂胶和喷胶/显影机/热板/冷板、掩模版光刻/键合对准系统、基片热压键合/低温等离子键合系统、基片清洗机、基片检测系统、SOI 基片键合系统、基片临时键合/分离系统、纳米压印系统。目前已有数千台设备安装在世界各地，被广泛地应用于 MEMS 微机电系统/微流体器件，SOI 基片制造，3D 封装，纳米压印，化合物半导体器件和功率器件等领域。设备原理：EVG620 是一款非常灵活和可靠的光刻设备，可配置为半自动也可以为全自动形式。EVG620 既可以用作双面光刻机也可以用作 150mm 硅片的精确对准设备；既可以用作研发设备，也可以用作量产设备。精密的契型补偿系统配以计算机控制的压力调整可以确保良率和掩膜板寿命的大幅提升，进而降低生产成本。EVG620 先进的对准台设计在保证精确的对准精度和曝光效果的同时，可以大幅提高产能。应用范围EVG 光刻机主要应用于半导体光电器件、功率器件、微波器件及微电子机械系统（MEMS）、硅片凸点、化合物半导体等领域，涵盖了微纳电子领域微米或亚微米级线条器件的图形光刻应用。主要特点及技术参数:1、主要特点：。 双面对准光刻和键合对准工艺。自动的微米计控制曝光间距。自动契型补偿系统。 优异的全局光强均匀度。免维护单独气浮工作台。 高度自动化系统。快速更换不同规格尺寸的硅片。 可选配 Nanoalign 技术包以达到更高的工艺能力。 薄硅片或翘曲硅片处理系统可选。 Windows 图形化用户界面。 完善的多用户管理（用户权限、界面语言、菜单和工艺控制）。 光刻工艺模拟软件可选。三花篮上料台，可选五花篮台2、技术参数

EVG620系列单面/双面光刻机 一、 简介 EVG公司成立于1980年，公司总部和制造厂位于奥地利，在美国、日本和台湾设有分公司，并在其他各地设有销售代理及售后服务部，产品和服务遍及世界各地。EVG公司是一家致力于半导体制造设备的全球供应商，其丰富的产品系列包括：涂胶和喷胶/显影机/热板/冷板、掩模版光刻/键合对准系统、基片热压键合/低温等离子键合系统、基片清洗机、基片检测系统、SOI 基片键合系统、基片临时键合/分离系统、纳米压印系统。目前已有数千台设备安装在世界各地，被广泛地应用于MEMS微机电系统/微流体器件，SOI基片制造，3D封装，纳米压印，化合物半导体器件和功率器件等领域。EVG620 是一款非常灵活和可靠的光刻设备，可配置为半自动也可以为全自动形式。EVG620既可以用作双面光刻机也可以用作150mm硅片的精确对准设备；既可以用作研发设备，也可以用作量产设备。精密的契型补偿系统配以计算机控制的压力调整可以确保良率和掩膜板寿命的大幅提升，进而降低生产成本。EVG620先进的对准台设计在保证精确的对准精度和曝光效果的同时，可以大幅提高产能。 二、应用范围EVG光刻机主要应用于半导体光电器件、功率器件、微波器件及微电子机械系统（MEMS）、硅片凸点、化合物半导体等领域，涵盖了微纳电子领域微米或亚微米级线条器件的图形光刻应用。 三、主要特点u 双面对准光刻和键合对准工艺u 自动的微米计控制曝光间距u 自动契型补偿系统u 优异的全局光强均匀度u 免维护单独气浮工作台u 高度自动化系统u 快速更换不同规格尺寸的硅片u 可选配Nanoalign技术包以达到更高的工艺能力u 薄硅片或翘曲硅片处理系统可选u Windows图形化用户界面u 完善的多用户管理（用户权限、界面语言、菜单和工艺控制）u 光刻工艺模拟软件可选u 三花篮上料台，可选五花篮台 四、技术参数

双面桌面排风罩适 用：实验室中央台（双面排风罩）视窗： 优质钢化防爆安全玻璃，无极平衡配重设计，任意位置悬停。集气罩： 高分子材料一体成型锥形集气罩，锥形结构，内壁光滑，具有良好集气平均性及低压损，表面喷涂环氧树脂防酸碱。柜 体： 采用E1级三聚氰胺双饰面板，断面以优质PVC封边条配合进口胶热熔封边防水处理，专用连接件连接组合紧固。电路：配置三只250V10A多功能插座，照明采用30W带防护罩日光灯，使灯与柜内气体隔离。电路控制面板:按键式开关面板。规 格：L*1500*1500mm。可选材质：铝玻、钢玻、全钢等，详情请咨询在线客服。备注：桌面排风罩价格为单个排风罩价格不含下柜体实验台，不含风机及管道。

一、混凝土双面磨平机使用方法SHM-200产品简介：混凝土双面磨平机是各类矿石、混凝土等非金属固体进行力学测试的标准样本制作的主要设备。混凝土双面磨平机与取芯机、切割机配套工作，即可为您加工出您所需要的高精密的立方体或圆柱体测试样本。 二、混凝土双面磨平机使用方法SHM-200技术指标：★工作台电机功率0.55KW, 转速1500rpm★磨削动力1.1KW×2台,转速2750 rpm★磨轮直径:Φ200mm★可磨样本规格：（正常出厂配置磨50~100mm的夹具） （1）方块50×50×50-150×150×150mm （2）圆柱Φ50-Φ150mm★试件精度可达：（1）平行度：50mm范围不超过+0.10 mm，（2）光洁度：按机械加工粗糙度标准Ra3.2。★自动磨削进给量：0.04-0.17. ★外形尺寸：1350X1000X1200mm★重量：550kg三、混凝土双面磨平机使用方法SHM-200工作原理：★机械部分1、双端面磨平机,双面磨平机工作台的往复由电机带动变速箱，输出慢速带动丝杆工作，作逆旋转，丝杆螺母固定在工作台下面，从而带动工作台作往复移动。2、本机磨头是**金刚石磨轮，直接安装在两台专用电机上，分别由两个横向工作台带动前进或后退，既可以自动，又可以手动。自动时将手柄向前推。手动时，将手柄向后拉即可。丝杠每一转为3MM。3、工作台的标本夹具和两磨轮在本设备出厂前，经过精心调试，确保磨出的标本的垂直度与平行度。每次磨削两个平行面，六个面的立方体标本，只需要经过三次磨削成即可，每次要定位准确，这样磨出的试样才能达到要求。★电器部分双端面磨平机,双面磨平机控制的按钮分别安装在两个动力头上面，操作方便。因采用水冷却，水花飞溅，故本机电器采用36V的安全电压。由于电源电压、运行电机电压380V，所以本机必须进行可靠的接地，否则会产生安全事故。故电源不能接反，否则会损坏机器。四、操作规程：★接通电源及水源。★根据芯样直径选择相应的夹具，将芯样夹紧并转到底盘中位置后将夹具索紧。 ★松开上、下索紧手轮，转动升降手轮，当磨轮端面距芯样端面1mm时停止。然后索紧上索紧手柄，开启进水嘴阀门通水，并闭合电源开关，使磨轮转动，然后逆时针转动手轮，并同时顺时针转动微动手轮使磨头下降。当磨轮端面接触试样端面时摆动磨头进行磨削，直至磨平试样端面。 ★磨削完毕，关闭电源及水嘴阀并逆时针转动微动手轮，使其处于上**限位置。 ★松开夹具索紧手柄，将夹具同试样一同取下并反向安装，重复2、3、4步动作磨削另一端面。直至芯样端面符合要求为止。 ★磨平机用后关闭电源，擦试干净机器五、注意事项：★每次装夹标本应将夹具及样本表面冲洗干净，否则残留物质会使标本磨削精度下降，每次定位要准确。★自动磨削的任何时候都不能随意手动进给，否则会损坏磨轮和设备，只有手动时才能手动进给。★自动磨削结束后，先停工作台，后停磨头。★磨削过程中应注意冷却液流量是否充足点击搜索：双卧轴混凝土搅拌机

川昱仪器 单人双面超净工作台垂直送风主要特征：1、垂直流形，准闭合式玻璃风门，可有效防止外部气流渗入，及操作异味对人体的刺激。2、超净工作台采用可调节风量风级系统，保证工作风速始终处于理想状态。3、超净工作台LED液晶控制面板控制。4、实验区采用优质不锈钢，为操作者提供便利。技术参数参数SW-CJ-1F洁净等级100级@≥0.5μm(美联邦209E）菌落数≤0.5个/皿．时（Φ90㎜培养平皿）平均风速0.25m～0.45/m/s(快、慢双速）噪音≤62dB(A)振动半峰值≤0.5μm(x.y.z方向）照度≥300LX电源AC单相220V/50Hz送风方式垂直送风功耗0.4KW重量150㎏高效过滤器规格及数量865×555×38×① 荧光灯/紫外灯规格及数量20W×①/20W×①适用人数单人双面工作区尺寸870×600×520㎜外形尺寸1050×680×1600㎜说明：本公司接受客户特殊规格要求的非标型净化工作台（可根据用户需要配备紫外灯杀菌功能）川昱仪器 单人双面超净工作台垂直送风操作步骤1、开始工作前，需要对洁净工作台进行杀菌处理，先提前30分钟按下电源开关，根据需要的生产参数进行设计控制，打开紫外线杀菌灯的开关，处理工作台内的细菌、微生物灯。离开洁净工作台后，在打开缓冲区域的紫外线杀菌灯。杀灭细菌后在关闭仪器。等待大约30分钟，让臭氧转化为氧气，避免影响工作人员的身体健康，在打开照明系统，启动风机，就可以使用洁净工作台。2、工作人员使用完洁净工作台，还需要做好清洁措施，使用75%的酒精擦拭净化工作台面，关闭送风机。打开紫外线杀菌灯15秒，杀灭工作台中的细菌后，后关闭电源开关。3、工作中需要使用的工具、仪器等要放入到洁净工作台中4、工作人员会产生很多细菌和微粒。所以工作人员需要戴上一次性口罩、帽子以及医用乳胶手套。5、可以适当的打开洁净工作台的移门进行操作，但是需要按照无菌操作规程操作。6、做好清理工作后，需要做好记录。保证工作台的洁净度，不存在没有清洁的死角。

URE-2000S/35L（B）型双面光刻机 技术参数。曝光面积：4 英寸。光 源：紫外 LED。曝光波长：365nm：20-40mW/cm2。分辨力：1μm。正面对准采用双目双视场对准显微镜：既可通过目镜目视对准，也可通过 CCD+显示器对准，光学合像，光学最 大倍数 400 倍，光学+电子放大 800 倍 物镜三对：4 倍、10 倍、20 倍 目镜三对：4 倍、10 倍、20 倍。底面面对准：采用双显微物镜+CCD+采集卡+计算机合像，物镜轴距范围 10mm-148mm。对准精度：± 2 μm（双面，片厚 0.8mm），Thelta: 0.6μm（单面）。掩模尺寸：3 英寸、4 英寸、5 英寸。样片尺寸：2 英寸、3 英寸、4 英寸,厚度 0.1mm--2mm(双面)。曝光方式：定时（倒计时方式）和定剂量。照明不均匀性： 2.5%（ Ф100mm 范围）22。掩模相对于样片运动行程：X: ± 5mm Y: ± 5mm Thelta: ± 6 度。调平接触压力通过传感器保证重复。数字设定对准间隙和曝光间隙。具备压印模块接口，也具备接近模块接口。最大胶厚：400 μm （SU8 胶，用户提供检测条件）。光源平行性：2° 外形尺寸：1300mm（长）x900mm(宽) x1800mm（高） 配置（1）曝光头。冷光椭球镜。LED 进口光源。冷却模块。光学系统：固定光栏、可变光栏、快门、准直镜镜 1、准直镜镜 2、蝇眼透镜组（79 个透镜）、i 线滤光片、场镜1、冷光反射镜 1、反射镜 2、能力调节器、微光学整形元件 （2）对准工件台。掩模样片相对运动台。转动台。样片调平机构,自动完成。样片调焦机构，气缸自动调。承片台 3 个（2 英寸、3 英寸、4 英寸）。掩模夹 3 个（3 英寸、4 英寸、5 英寸）。掩模抽拉式上下机构 （3）双目双视场对准显微镜（可以选择带 CCD 型，目镜和监视器可同时观测）。光源、电源。双目双视场对准显微镜主体。目镜 3 对（10 倍、16 倍、20 倍，共 6 个）。物镜 3 对（4 倍、10 倍、20 倍，共 6 个）。CCD 光学系统（选配件）。XYZ 底面对准工件台23 （4）底面 CCD 对准系统。光源、电源。成像光学系统。数据采集卡。CCD （5）电控系统。单片机控制系统。控制柜桌。计算机系统（21 英寸宽屏液晶显示器） （6）气动系统。气缸、电磁阀、减压阀、气动开关等。电磁阀驱动。气动仪表 （7）其他附件。真空泵一台（无油泵）。空压机一台 （音静泵）。管道

URE-2000S/25 型紫外双面光刻机技术参数。曝光面积：4 英寸。曝光波长：365nm： 40mW/cm，405nm：20-45mW/cm2。分辨力：1μm。正面对准采用双目双视场对准显微镜：既可通过目镜目视对准，也可通过 CCD+显示器对准，光学合像，光学最大倍数 400 倍，光学+电子放大 800 倍 物镜三对：4 倍、10 倍、20 倍 目镜三对：4 倍、10 倍、20 倍。底面面对准：采用双显微物镜+CCD+采集卡+计算机合像，物镜轴距范围 10mm-148mm。对准精度：±2μm（双面，片厚 0.8mm），±0.6μm（单面）。掩模尺寸： 3 英寸、4 英寸、5 英寸。样片尺寸：2 英寸、3 英寸、4 英寸 厚度 0.1mm--2mm(双面)。曝光方式：定时（倒计时方式）和定剂量。照明不均匀性： 3%（ Ф 100mm 范围）16。掩模相对于样片运动行程： X: ±5mm Y: ±5mm Thelta: ±6 度。汞灯功率：350W（直流，进口）。调平接触压力通过传感器保证重复。数字设定对准间隙和曝光间隙。具备压印模块接口，也具备接近模块接口。最大胶厚：350 μm（SU8 胶，用户提供检测条件）。光源平行性：3.5° 外形尺寸：1300mm（长）x900mm(宽) x1800mm（高） 配置（1）曝光头。冷光椭球镜。350 W 进口直流高压汞灯(德国欧司朗)。XYZ 汞灯调节台。冷却风扇。光学系统：固定光栏、可变光栏、快门、准直镜镜 1、准直镜镜 2、蝇眼透镜组（79 个透镜）、i 线滤光片、场镜1、冷光反射镜 1、反射镜 2 （2）对准工件台。掩模样片相对运动台。转动台。样片调平机构,自动完成。样片调焦机构，气缸自动调。承片台 3 个（2 英寸、3 英寸、4 英寸）。掩模夹 3 个（3 英寸、4 英寸、5 英寸）。掩模抽拉式上下机构 （3）双目双视场对准显微镜（可以选择带 CCD 型，目镜和监视器可同时观测）。光源、电源。双目双视场对准显微镜主体。目镜 3 对（10 倍、16 倍、20 倍，共 6 个）。物镜 3 对（4 倍、10 倍、20 倍，共 6 个）17。CCD 光学系统（选配件）。XYZ 底面对准工件台 （4）底面 CCD 对准系统。光源、电源。成像光学系统。数据采集卡。CCD （5）电控系统。汞灯触发电源(350W 直流汞灯)。单片机控制系统。控制柜桌。计算机系统（21 英寸宽屏液晶显示器） （6）气动系统。气缸、电磁阀、减压阀、气动开关等。电磁阀驱动。气动仪表 （7）其他附件。真空泵一台（无油泵）。空压机一台 （音静泵）。管道

产品介绍RVBB型双面立式平衡机是为满足市场需求，针对工具行业用于高速旋转 切削的钻头等工具需要进行平衡检测而设计制造的一种小型软支承立式平衡机。 近来RVBB型双面立式平衡机通过鉴定，样机的试制基本成功，产品技术性能及指标均达到设计要求，填补公司立式平衡机系列产品—小型软支承双面立式平衡机的空白。 RVBB型双面立式平衡机结构简单、紧凑，便于装配和调试，采用同步齿 形带传动，并设有皮带张紧微调装置；采用了高灵敏度的双线圈T81S型传感器，增强了振动信号量的输出，提高了平衡检测的灵敏度。该机的防护罩采用透明有机玻璃窗，使得操作者能直观地观察到被测工件的运转状况，并设有机器和防护罩之间的电器联锁装置，使得机器工作更安全、可靠。该机的电测系统采用ST690型电测箱，以数字和图形两种形式在屏幕上显示检测结果技术参数RVBB型双面立式平衡机的主要参数及技术指标： 1. 工件最大重量（包括夹具重量） 3 kg2. 工件最大直径 φ160 mm3. 工件最大高度 φ145 mm4. 平衡转速 2400 r/min5. 电机功率 0.25kW6. 最小可达剩余不平衡度emar ≤4gmm/kg7. 主轴的剩余不平衡量 ≤4.4gmm8. 不平衡量减少率URR ≥90％