砷化铟纳米线

市场上最精确的纳米划痕测试仪主要特点施加较小的载荷时具有极快的响应时间纳米划痕测试仪带有载荷传感器，采用双悬臂梁用于施加载荷，以及压电式驱动器用于对施加的载荷快速响应。这一设计理念还修正了在划痕过程中发生的任何事件（例如出现裂纹和故障、缺陷或样品不平整）而导致的测量结果偏差。适用于弹性恢复研究的专利真实划痕位移测量在划痕之前、过程和之后，位移传感器 (Dz) 一直记录样品的表面的轮廓。这让您可以在划痕过程中或之后评估针尖的位移量，从而可以评估材料的弹性、塑性和粘弹性能（专利：US 6520004)不打折扣：施加任何微牛级的载荷闭环主动力反馈系统可在 1 μN 以下进行更精确的纳米划痕测试。纳米划痕测试仪包含一个 传感器测量载荷，可以直接反馈给法向载荷驱动器。这确保施加的载荷就是用户设置的载荷。高质量光学成像带“跟踪聚焦”功能集成显微镜包括配置高质量物镜的转塔和 USB 照相机。划痕成像时，能轻松将放大倍数从 x200 转换为 x4000，实现在低放大倍数和高放大倍数自由切换从而更好地对样品进行评估。“跟踪聚焦”功能可以进行将多个划痕的 Z 样品台自动聚焦到正确位置。划痕后可用多次后扫描模式评估弹性性能划痕后，您可以在软件中用时间增量定义无限次后扫描测量残余位移。这种全新的分析方法将让您进一步了解表面变形性能与时间的依赖关系。技术指标施加的载荷分辨率0.01 μN最大载荷1000 mN本底噪音0.1 [rms] [μN]*摩擦力分辨率0.3 μN最大摩擦力1000 mN位移分辨率0.3 nm最大位移600 μm本底噪音1.5 [rms] [nm]*速度速度从 0.4 mm/min 到 600 mm/min*理想实验室条件下规定的本底噪音值，并使用减震台。

武汉东隆科技为美国Quantum Opus的中国区独家代理，欢迎您来电垂询！Opus One 超导纳米线探测器系统Opus One™ 超导纳米线探测器系统配有定制的紧凑型桌面低温恒温器（预先安装的16/32通道以及低温恒温器中的所有电接线），光学实验室友好型水冷压缩机（低空气循环，低噪声，低热量输出），偏置和高速放大器电子元件以及易于使用的软件控制库。 专有的纳米线材料允许纳米线工作在 2K，降低低温系统的复杂性，并允许系统连续工作3年。Opus One 是基于超导纳米线技术的单光子探测器，在1550 nm的探测效率高达85 %，通过对谐振腔的调节 ， 可以将提供特殊设计、订购和组装。700~1300 nm指定波长的探测效率提高到90%。除此之外，该探测器还拥有极低的暗噪声和超快的时间分辨率， 计数率高达40Mcps。产品特点 工作温度在2.5k即可达到高探测效率支持定制规格支持定制宽波段响应3U 紧凑化设计低噪声水冷压缩机2um以上红外响应定制 产品应用 量子光学量子计算量子密钥通信低通量生物光子学荧光测量参数 * 可定制更高探测效率850nm 950nm 1310nm 1550nm SDE 90%90% 80%*80%*暗计数率 1Hz 1Hz10Hz100Hz时间抖动 80ps80ps 100ps100ps脉冲幅值 600mV600mV300mV300mV死时间 50ns50ns50ns50ns

武汉东隆科技有限公司为美国Quantum Opus的中国区独家代理，欢迎您来电垂询！Quantum Opus 超导纳米线探测器Quantum Opus提供了两个标准的纳米线产品，在950 nm（ 90％）或1550 nm（ 80％）范围内最大化系统检测效率。 我们还可以定制任何所需的客户波长，包括非常广泛的响应设备，保持超过100nm的带宽和中红外设备的效率超过50％。 这些设备也可以单独购买，并集成到制冷温度2.5K的第三方低温系统中。 产品特点 工作温度在2.5k可达到最高探测效率探测效率90%@1550nm计数率40MHz!!无PDE下降暗计数1Hz/10Hz/100Hz3U紧凑化设计单台支持2-32通道扩展产品应用 量子光学量子计算量子密钥通信低通量生物光子学荧光测量参数

QE85%超导纳米线单光子探测器所属类别： ? 探测器/光子计数器 ? 单光子计数器 产品简介QE85%超导纳米线单光子探测器 高量子效率85%,低暗计数10cps,高计数率20MHz 很新的超高效率超导纳米线单光子探测器，其在600nm-2300nm内达到高量子效率85%，暗计数10cps，同时zui高计数率20MHz，是目前市场上性能良好的超导单光子探测器，此型号超导纳米线单光子探测器可提供zui多8通道同时运行 超导单光子探测器， SSPD，SNSPD超导纳米线单光子探测器，单光子计数器， Superconducting Nanotechnology，红外单光子计数器，高灵敏度单光子计数器 技术指标：l 量子效率: ≥ 80 %l 时间抖动: ≤ 45 ps (20 ps on request)l 暗计数: ≤ 10 cps (0.01 cps on request)l 光谱范围: 0.6 ÷ 2.3 μml 无后脉冲l 光纤耦合l 连续模式 一般参数：l 探测通道数: 1-8l 光纤类型: SMF-28e l 原始输出电压: ≤ 150 mVl 输出信号类型: TTL, ECL, LVDSl 驱动接口: USB, LabVIEW 应用领域：l 光量子计算l 光子相关性测量l 量子密码和QKDl CMOS缺陷分析l α，β粒子探测l TCSPCl 单分子荧光光谱l 弹道成像l 单等离子体检测l 自由空间通信l LIDARl 时间分辨荧光测量l 单量子点荧光光谱l 片上量子光学l 单线态/三线态氧荧光探测l 皮秒集成电路分析l 单电子探测 相关产品 超低暗计数(0.01cps)超导单光子探测器 超高速（500MHz）超导单光子探测器 超快(120MHz)近红外单光子计数OEM模块 符合计数单光子计数系统

多通道超导纳米线单光子探测系统赋同量子生产的SNSPD系统由超导纳米线单光子探测器、低温恒温系统和电子学模块三个部分组成，该系统具有以下特点：●采用小冷量风冷GM制冷机，无需液氦；●7×24小时不间断运行； ●高可靠性，已通过各种应用场合长期证； ●专业高效的技术支持； ●机柜式或桌面式集成。 参数细节探测通道数目：1-32；光学接口：FC/PC；电子学接口：SMA；工作环境：温度4℃-38℃；湿度≤60%；系统漏率：＜1E-10Pam3/s；重量：约100 kg；电源：单相220-230 V，50 Hz；功耗：≤ 1.3 kW；

QE60%超导纳米线单光子 探测器量子效率60%,低暗计数10cps,高计数率70MHz，只要有制冷腔，就能轻松安装 俄罗斯Scontel 蕞新推出的超导纳米线单光子探测器，只要有制冷腔，就能轻松安装,并且价格低廉，但是功能毫不差劲。其在600nm-2300nm内达到量子效率60%，暗计数10cps，同时计数率高达70MHz，是目前市场上性能优良的超导纳米线单光子探测器的。此型号超导纳米线单光子探测器可提供蕞多16通道同时运行，针对不同应用提供匹配的产品，可多通道同时探测及低成本升级，且可以根据您的不同需求我们不仅有如下图中探测性能的设备，还有多模大面积探测器、超低噪声探测器、光子数分辨探测器供您选择。超导纳米线单光子探测器主要特点：&bull 超高性价比，有制冷腔的选择&bull 针对不同应用提供匹配的产品 &bull 可多通道同时探测及低成本升级 &bull 产品安装/培训/升级全程服务超导纳米线单光子探测器技术指标： 根据需求不同我们可提供以下探测性能的搭配也可根据您的参数要求进行定制：高效检测(HED) -高系统效率和时间分辨率、低噪声、中等带宽的蕞佳组合。 超高效检测(U-HED) -改进的HED版本，运行温度更低，因此在所有参数方面具有更好的综合性能。 宽带宽检测（Broadband）-虽系统效率略有下降。但优化的光学腔增加了带宽低噪声检测（Low noise）-应用可变滤波技术将设备的暗计数率降低到每秒10次,探测器的光谱响应窄得多。超导纳米线单光子探测器应用领域：&bull 量子计算 &bull 光子相关性测量&bull 量子密码和QKD&bull cmos 缺陷分析&bull α，β粒子探测&bull tcspc &bull 单分子荧光光谱&bull 弹道成像&bull 单等离子体检测&bull 自由空间通信&bull LIDAR&bull 时间分辨荧光测量&bull 单量子点荧光光谱&bull 量子光学 &bull 单线态/三线态氧荧光探测&bull 皮秒集成电路分析关于昊量光电：上海昊量光电设备有限公司是光电产品专业代理商，产品包括各类激光器、光电调制器、光学测量设备、光学元件等，涉及应用涵盖了材料加工、光通讯、生物医疗、科学研究、国防、量子光学、生物显微、物联传感、激光制造等；可为客户提供完整的设备安装，培训，硬件开发，软件开发，系统集成等服务。

生长纳米线CVD炉OTF-1200X-4-NW是一种紧凑型CVD炉，专为生长各种纳米线而设计，基片最大3″。在法兰的左侧装有一个小加热器，可对输入的气体、液体、固体进行预加热后进入 CVD 炉进行纳米线的生长。其可滑动的样品架使操作更为简单。 产品型号　生长纳米线CVD炉OTF-1200X-4-NW安装条件本设备要求在海拔1000m以下，温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。1、水：设备配有自循环冷却水机（加注纯净水或者去离子水）2、电：AC380V 50Hz（63A空气开关），必须有良好接地3、气：设备腔室内需充注氩气（纯度99.99%以上），需自备氩气气瓶（自带?6mm双卡套接头）4、工作台：尺寸1500mm×600mm×700mm，承重200kg以上5、通风装置：需要主要特点 1、由OTF-1200X-4单温区炉演变而来的紧凑型CVD炉。 2、内炉膛表面涂有进口高温氧化铝涂层，可以提高设备的加热效率及延长仪器的使用寿命。 3、带样品支架的右法兰是滑动的，方便样品的快速取放。 4、左侧的小加热器可对输入CVD 炉的气体、液体、固体或混合物进行预加热，不锈钢加热腔外径?30mm、长150mm，最高工作温度600℃。 5、左边法兰（在加热器与CVD炉之间）装有4个1/4"卡套连结的通气管，具有密封和气体通道的作用。 6、PID自整定数字控制器，可以设置30段升降温程序。 7、选配相关软件可用计算机进行控温。 8、已通过CE认证。技术参数 1、额定电压：单相AC 220V 50Hz/60Hz 2、额定功率：3KW（需20A的空气开关） 3、石英管：外管外径?110mm，内径?102mm，长381mm 4、加热区域：CVD炉400mm，加热器150mm， 5、工作温度：CVD炉最高1100℃（2h），连续工作200℃-1000℃，最大升降温速率10℃/min；加热器连续工作0-500℃，最大升降温速率10℃/min 6、控温精度：±1℃ 7、热电偶：K型 8、右法兰：一个3"石英样品支架，与石英挡板、法兰连成一体，设有KF25真空快接口，以及水冷接口（可选配水 冷机，避免O型圈融化） 9、左法兰：有2个独立1/4″口，可单独将任何气体通入炉内，一路1/4"口将预热气体通入CVD炉，一路1/4″口将不加 热的气体通入炉内，并通过炉内的T型结构与加热气体汇合产品规格　尺寸：1200mm×450mm×510mm；重量：100kg可选配件 1、冷水机 2、控温软件

纳米操作机、纳米机械手、纳米操纵机械臂、纳米操纵仪TNI LF-2000产品简介 TNI LF-2000是目前市面上基于SEM电镜下使用的自动化程度最 高的纳米操作系统，也是一种能够在SEM电镜下提供可重复 定位、低漂移、闭环运动控制定位的纳米操作系统。 产品特性 完全兼容主流电镜，不影响电镜功能 市面上较佳的运动定位性能：大行程、亚纳米分辨率 位移传感器集成自动化和可编程运动 SEM真空环境优化设计，可快速安装与拆卸规格参数应用案例电学特性LifeForce为纳米材料提供可靠、低噪音的电测量，以及与纳米结构的原位相互连接。图片展示的是四探针测量纳米线电学性能。力学测量LifeForce为纳米材料的力学特性提供高分辨率的力和位移反馈，图片展示的是用球端AFM悬臂探针对单根纳米线的拉伸测试。拾取和放置操作使用末端工具（例如：探针、微纳米夹持器、超声切割针），操作者能够操作LifeForce纳米操作手在SEM电镜内对微纳米物体进行推、拉和抓取等操作。制作微纳米器件精密的操作手运动能够实现微纳米器件的快速成型和后处理。图片展示的是纳米线FET传感器的构造。

纳米操作机、纳米机械手、纳米操纵机械臂、纳米操纵仪TNI LF-2000产品简介TNI LF-2000是兼容SEM/FIB的自动化纳米操作系统，也是能够在SEM/FIB下提供可重复定位、低漂移、闭环运动控制定位的纳米操作系统。产品特性 兼容主流电镜，不影响电镜功能 具有大行程、亚纳米分辨率运动定位性能 位移传感器集成自动化和可编程运动 SEM真空环境优化设计，可快速安装与拆卸规格参数系统概况系统尺寸127x127x33mm3*机械手数量1-4操作手（宏动）驱动原理粘滑驱动运动范围XY轴：10mm Z轴：5mm速度3mm/s最小步长100nm操作手（微动）驱动原理无摩擦柔性铰链运动范围XYZ轴：20μm速度45μm/s开环运动分辨率0.5nm闭环运动分辨率1nm定位漂移率0.35nm/min软件功能**点击-移动鼠标在电脑屏幕上从A移动到B自适应放大倍数定位器移动速度根据SEM放大自动调整操作手位置保存/加载用户自定义的“保存/加载”操作手坐标3D虚拟显示实时三维显示操作手的位置和运动自动校准操作手闭环传感器自动校准运动轴的自动对准所有操作手运动轴自动对准SEM图像轴*系统尺寸可根据需要减小到50x50x17mm3**可根据选定SEM/FIB的型号而定应用案例电学特性LifeForce为纳米材料提供可靠、低噪音的电测量，以及与纳米结构的原位相互连接。实例照片展示的是四探针测量纳米线电学性能。力学测量LifeForce为纳米材料的力学特性提供高分辨率的力和位移反馈，实例照片展示的是用球端AFM悬臂探针对硅纳米线簇进行纳米压痕，以及对单根纳米线的拉伸测试。拾取和放置操作使用末端工具（例如：探针、微纳米夹持器、超声切割针），操作者能够操作LifeForce纳米操作手在SEM电镜内对微纳米物体进行推、拉和抓取等操作。制作微纳米器件精密的操作手运动能够实现微纳米器件的快速成型和后处理。实例照片展示的是纳米线FET传感器的构造。纳米电子器件电学测量LifeForce纳米操作机是市面上能够自动探测电子结构（范围从亚微米，亚100nm及亚20nm）。只需要通过计算机点击鼠标，将探针定位到目标位置。极低得定位漂移，保证数据采集得可靠性。 主要软件功能①　位置反馈：提供每个操作手XYZ精确得位置反馈，1纳米运动定位分辨率。②　保存/加载坐标：保存和加载多个操作手得坐标。③　自动校准：限度地提高定位性能，并将操作手运动轴对准扫描电子显微镜图像轴。④　3D虚拟显示：实时3D虚拟空间显示操作手（粉红色方块）和样品（绿色平面）得位置。⑤　点击-移动：通过在屏幕上鼠标点击控制操作手运动。⑥　多操作手联动：连接多个操作手得运动，具有纳米级精度。⑦　图片-视频录制：保存操作过程中的高清图片和视频。

FT-NMT04纳米力学测试系统是一种多功能的原位SEM/FIB纳米压痕仪，能够在微米和纳米尺度上准确量化材料的力学行为。 FT-NMT04原位纳米压痕仪针对金属、陶瓷、薄膜以及超材料和MEMS等微观结构的机械测试进行了优化。此外，通过使用各种附件，FT-NMT04的功能可以扩展到各个研究领域的各种要求。 典型应用包括通过微柱的压缩测试或狗骨试样、薄膜或纳米线的拉伸测试来量化塑性变形机制。典型应用包括通过微柱的压缩测试或狗骨试样、薄膜或纳米线的拉伸测试来量化塑性变形机制。此外，在压缩测试期间进行连续刚度测量，可以在微梁断裂测试期间量化裂纹扩展和断裂韧性。由于 FT-NMT04 分别具有 500 pN 和 50 pm 的无可比拟的低本底噪声，因此可实现具有无可比拟的可重复性的浅纳米压痕，以及纳米压痕与 EBSD 成像的前所未有的相关性。

仪器简介：If smallest parts or samples have to be moved or positioned with nanometer precision in the millimetre range, nanopositioning systems with piezo inertial drive are used. Very compact actors with appropriate control units are available for rotational and linear movements. The compatibility to each other allows the assembly of multi-axes combinations for complex movements. All the nanopositioning system have a piezo inertialdrive. With a travel in the millimetre range and steos in the nano meter range or with large adjustment range and steps in the &mu rad range, they are suitable for manifold applications. The basic components of the gonimeter are made of high strength aluminium. Due to a black anodized coating, the surface is protected and reflexion-poor. For the mounting of the nanopositioners, the mounting plate NMP 50is recommend. It is available as a ccessory. In order to operate the nanopositioners,the manual control unit NHS06 has to be used. The complete system is pluggable and ready for connection.技术参数：仪器名称,型号/参数行程最小步长最大步长负载 (N)重复定位精度(双向)倾斜力矩(Mx,My,Mz)(Nm)速度 纳米旋转位移台 NDT 24-30无限旋转角度40 &mu rad100&mu radmax.2 max.0.1max.100mrad/s 纳米旋转位移台 NDT 24-30-MSI无限旋转角度40 &mu rad100&mu radmax.240&mu radmax.0.1max.300mrad/s 纳米角度位移台 NAGO P 24－8± 3.3 度2 &mu rad6 &mu radmax.2 max.0.1 纳米角度位移台 NAGO T 24－8± 4度2 &mu rad6 &mu radmax.2 max.0.1 纳米升降位移台 NHV 24－66mm100nm300nmmax.3 max.0.1 纳米升降位移台 NHV 24－6－MSI6mm50nm700nmmax.3400 nmmax.0.1 纳米线性位移台 NLV 24-77mm200nm300nmmax.2 max.0.1max.0.3mm/s 纳米线性位移台 NLV 24-7-MSI7mm50nm700nmmax.2400nmmax.0.1max.0.7mm/s 纳米线性位移台 PT 30-54.8mm300nm800nmmax.30 max.0.5max.0.8mm/s 纳米线性位移台 PT 30-5-MSI4.8mm100nm2000nmmax.30400nmmax.0.5max.2mm/s 主要特点：&bull high power density on little space &bull 纳米量级或&mu rad量级可调 &bull 停止是无摆动或振荡 &bull 由高强度的铝制成，黑色阳极氧化 &bull with ceramic guide for high life time Option &bull version for use in cacuum

3D纳米结构高速直写机 — —纳米光刻与微米光刻兼顾的联合图形化工艺方案 NanoFrazor光刻技术，衍生于IBM Research研发的热扫描探针光刻技术——快速、地控制纳米针的移动及温度，利用热针实现对热敏抗刻蚀剂的快速刻写，从而为纳米制造提供了许多新颖的、特的可能性。NanoFrazor Explore以高的速度、精度和可靠性运行，在目前所有扫描探针光刻技术中属于速度快、应用广泛的一种。NanoFrazor Explore配备了先进的硬件和软件，以合适的方式控制可加热的NanoFrazor悬臂梁，以便进行书写和成像，实现基于闭环光刻技术的各种高精度图案化工艺。2019年，Explore增配了激光直写模块，有效加快了特征线宽在微米或亚微米水平的图形的加工速度，成为纳米光刻与微米光刻兼顾的联合图形化工艺方案。由此，在针对同一抗刻蚀层的图案化工艺中，实现了纳米刻写与微米刻写的无缝衔接。从而可以根据不同的图案特征线宽，采用不同精度的刻写技术，兼顾精度与速度。 主要特点：★ 利用加热针直接刻写图案，分辨率优于15 nm；★ 利用激光热挥发实现图案化，分辨率优于1 μm；★ 高速直写 10 mm/s★ 高速原位AFM轮廓成像；★ 样品尺寸100×100 mm2；★ 闭环光刻；★ 灰度曝光，分辨率及精度达到2 nm；★ 利用原位AFM实现的对准，从而实现无掩膜套刻及写场拼接；★ 的隔音及隔振性能；★ 无需洁净间，亦无特殊的实验室环境要求闭环光刻NanoFrazor光刻系统是基于热扫描探针光刻技术，其核心部件是一种可加热的、非常锐的针，利用此针可以直接进行复杂纳米结构的刻写并且同时探测刻写所得结构的形貌。加热的针通过热作用，直接挥发局部的抗刻蚀剂，从而实现对各类高分辨纳米结构的制备。此外，NanoFrazor的光刻技术能够与各类标准的图形转移方案（如lift-off、刻蚀）兼容，从而实现各类材料的图形化制备。“闭环光刻”技术确保图形化工艺的高度纳米光刻与微米光刻兼顾的图形化工艺方案自2019年开始，NanoFrazor Explore增配了激光直写模块，由此在保障纳米分辨率图案刻写精度的同时，大大提升了NanoFrazor Explore对微米分辨率图形的刻写速度。激光刻写基于激光的热作用，以亚微米精度，快速、直接地挥发抗刻蚀剂，从而实现大面积的图案化工艺（例如微纳结构的引线或焊点图形制备）。热探针直写对于纳米结构或纳米器件关键部分的高精度、高分辨率刻写。刻写所得结构的测量、观测、对准由于抗刻蚀剂直接挥发，无须湿法显影操作即可实现抗刻蚀剂的图案化。在图案化过程中，同一根探针能够原位、高速的对图案化抗刻蚀剂进行AFM成像和测试。微米尺度及纳米尺度的哈佛大学校徽，对PPA刻蚀剂的刻蚀深度为30 nm，图像由NanoFrazor Explore的探针进行AFM成像获得。(Courtesy of Harvard CNS)3D灰度纳米光刻★ 可在针扫描的每个位置对图案化工艺的深度进行设定（即每个像素点的灰度值）★ 闭环光刻技术能够实现很高的灰度刻写精度（经论证，对大于16个灰阶的结构进行图案化工艺，灰度刻写的误差小于1纳米）用于TEM的电子光学系统的三维相盘，由PPA中的微结构转移至SiN薄膜获得(Courtesy of EPFL and KIT)刻写在PPA中的多全息图的局部（图片由Explore的探针在刻写同时进行AFM成像获得）；小图展示的是转移至Si中的全息图局部的SEM图像（Courtesy of Sun Yat-Sen University）无掩膜套刻与拼接★ 通过原位AFM功能实现高精度的无掩膜套刻及拼接（经论证，精度优于10 nm）；★ 埋在抗刻蚀剂PPA下的图案结构（如纳米片、纳米线等）可用作“天然的”对准标记写场的自动关联拼接；由金的lift-off工艺获得的）反射全息图包含1×108个像素点，每个写场为边长50 μm的正方形，写场间的拼接由AFM相关技术实现利用无掩膜光刻在单根纳米线上制备金属电：（a）由Explore的AFM成像功能探测到的纳米线轮廓及位置信息（绿线标出）与拟制备的电结构布局图（粉色区域）；（b）lift-off工艺后获得的带有金属电的单根纳米线的SEM图像高分辨率★ 锐的针，为了高分辨率的实现（经论证，在PPA抗刻蚀剂中能够实现的半节距优于10纳米）★ 无须针对临近效应的修正由PPA抗刻蚀剂转移至硅基衬底的鳍型结构和沟槽结构(Courtesy of IBM Research and imec) 其他特性能★ 低损伤：制备过程中没有引入带电粒子束流，基于敏感材料的微纳器件能够获得更好器件特性★ 纳米尺度的材料转换：多种材料的直接热诱导修饰（相变、化学反应… … ）新型号：NanoFrazor Scholar — 小面积直写■ 3D纳米直写能力 高直写精度 (XY: 高可达20nm, Z: 3nm) 高速直写 0.5 mm/s■ 无需显影，实时观察直写效果 形貌感知灵敏度0.1nm 样品无需标记识别，多结构套刻，对准精度 50 nm ■ 无临近效应 高分辨，高密度纳米结构 ■ 无电子/离子损伤 高性能二维材料器件■ 区域热加工和化学反应 多元化纳米结构改性■ 小样品台 30mm X 30mm应用案例三维光子分子（3D PHOTONIC MOLECULES）(Courtesy of IBM Research Zurich, publication in 2018)单电子器件Courtesy of IBM Research Zurich, publication in 2018基于二维原子晶体的器件(Courtesy of Prof. Elisa Riedo, NYU)基于准一维纳米材料的纳米器件(Courtesy of S. Karg & A. Knoll, IBM Research – Zurich)基于布朗马达的纳米器件，可用于纳米颗粒分类(Courtesy of IBM Research, Publications in Science and PRL 2018) 国内外客户已发表的文献● Wolf (JVST B 2015) Sub20nm Liftoff and Si Etch and InAs nanowire contacts● Garcia (Nat Nano 2014) Advanced scanning probe lithography● Rawlings (IEEE Nano 2014) Nanometer accurate markerless pattern overlay using thermal Scanning Probe Lithography● Holzner (SPIE EMLC 2013) Thermal Probe Nanolithography● Cheong (Nanoletters 2013) Thermal Probe Maskless Lithography for 27.5 nm Half-Pitch Si Technology● Fei Ding (PhysRevB 2013) Vertical microcavities with high Q and strong lateral mode confinement● Carrol (Langmuir 2013) Fabricating Nanoscale Chemical Gradients with ThermoChemical NanoLithography● Paul (Nanotechnology 2012) Field stitching in thermal probe lithography by means of surface roughness correlation● Kim (Advance Mat 2011) Direct Fabrication of Arbitrary-Shaped Ferroelectric Nanostructures on Plastic, Glass, and Silicon Substrates● Holzner (APL 2011) High density multi-level recording for archival data preservation● Holzner (Nanoletters 2011) Directed placement of gold nanorods using a removable template● Paul (Nanotechnology 2011) Rapid turnaround scanning probe nanolithography● Wang (Adv Funct Mat 2010) Thermochemical Nanolithography of Multifunctional Nanotemplates for Assembling Nano-Objects● Wei and King (Science 2010)Nanoscale Tunable Reduction of Graphene Oxide for Graphene Electronics● Pires (Science 2010) Nanoscale 3DPatterning of Molecular Resists by Scanning Probes● Knoll (Adv Materials 2010) Probe-Based 3-D Nanolithography Using SAD Polymers● Fenwick (Nat Nano 2009) Thermochemical nanopatterning of organic semiconductors● Lee (Nanoletters 2009) Maskless Nanoscale Writing of Nanoparticle-Polymer Composites and Nanoparticle Assemblies using Thermal Nanoprobes● Nelson (APL 2006) Direct deposition of continuous metal nanostructures by thermal dip-pe

纳米银粉超高速纳米研磨分散机，纳米铝粉银粉高剪切研磨分散机，纳米金属粉体超高速研磨分散机，机械法循环型研磨机，金粉耐磨高速分散机，珠光防伪变色油墨研磨分散机 纳米金属颗粒具有量子尺寸效应、小尺寸效应、表面效应、宏观量子隧道效应，并且有许多奇特的电学、光学、磁学性能，使它在航天、原子能、军事、电子、化工、冶金等工业有着重要的应用价值。纳米金属粉体分散液可广泛用于涂料、油墨、电子工业等域。 目随着纳米金属粒子的生产工艺逐渐成熟，它的应用也随之扩大。在其应用过程中，较突出的问题是纳米金属粒子由于表面积大和表面能高，在制备、后处理及应用过程中易发生粒子凝结、团聚、形成二次粒子，使颗粒粒径变大，从而失去纳米粉末所具备的性能。研究者们为提高纳米金属粒子的分散性和稳定性，提出了一些有效的方法。 根据我司为多家客户定制方案，建议采用的方案为：在罐体内先进行固体物料的简单混合,将需要的配比浓度的物料投入罐体内,开动低速搅拌机进行简单混合,使得物料形成较为均一的物料；然后再罐体底部的物料出口开动阀门使得物料由管路进入我司的管线式研磨分散机进行剪切研磨分散处理,经过剪切研磨分散后在由设备的出口管路输送进入罐体内,实现物料的一次循环处理！经过多次罐外循环处理能达到很好的分散悬浮效果,物料颗粒细度均一。纳米银粉超高速纳米研磨分散机，纳米铝粉银粉高剪切研磨分散机，纳米金属粉体超高速研磨分散机，机械法循环型研磨机，金粉耐磨高速分散机，珠光防伪变色油墨研磨分散机 纳米金属粉体超高速研磨分散机是胶体磨和分散机的一体化设计，相对于胶体磨和分散机的串联而言更具优势。胶体磨与分散机串联的话存在时间差，当物料通过胶体磨之后，磨细后物料会出现抱团的现象，再经过分散机分散，效果不是很好。而CMSD超细研磨分散机的话，物料磨细后，瞬间又通过分散工作组，进行分散，在物料还未抱团之，就进行了分散，一个瞬间作用，效果会好很多。从设备角度分析，影响分散结果的因素有以下几点：1 分散头的形式（批次式和连续式）（连续式比批次好）；2 分散头的剪切速率 （越大，效果越好）；3 分散头的齿形结构（分为初齿，中齿，细齿，超细齿，约细齿效果越好）；4 物料在分散腔体的停留时间，分散时间（可以看作同等的电机，流量越小，效果越好）；5 循环次数（越多，效果越好，到设备的期限，就不能再好）。纳米金属粉体超高速研磨分散机设备结构： 第yi由具有精细度递升的三层锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每都可以改变方向。第二由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子（乳化头）和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为 在对输送性的要求方面，特别要引起注意的是：在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是转子齿的排列，还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例，依据以的经验选取相应的工作头来满 足一个具体的应用。在大多数情况下，机器的构造是和具体应用相匹配的，因而它对制造出产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。设备等：化工、卫生I、卫生II、无菌电机形式：普通马达、变频调速马达、防爆马达、变频防爆马达、气动马达电源选择： 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ电机选配件： PTC 热保护、降噪型均质机材质：SUS316L 、SUS316L 、SUS316Ti均质机选配：储液罐、排污阀、变频器、电控箱、移动小车均质机表面处理：抛光、耐磨处理进出口联结形式：法兰、螺口、夹箍均质机选配容器：本设备适合于种不同大小的容器.IKN管线式研磨分散机的技术参数：研磨分散机流量*输出线速度功率入口/出口连接类型l/hrpmm/skWCMD 2000/470014000404DN25/DN15CMD 2000/55,00010,5004011DN40/DN32CMD 2000/1010,0007,3004022DN50/DN50CMD 2000/2030,0004,9004045DN80/DN65CMD 2000/3060,0002,8504075DN150/DN125CMD 2000/501000002,00040160DN200/DN150*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，同时流量可以被调节到大允许量的10%。1 表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。2 处理量取决于物料的粘度，稠度和终产品的要求。纳米银粉超高速纳米研磨分散机，纳米铝粉银粉高剪切研磨分散机，纳米金属粉体超高速研磨分散机，机械法循环型研磨机，金粉耐磨高速分散机，珠光防伪变色油墨研磨分散机

Agilent UTM T150 Keysight T150 UTM 是一款通用试验机，可为研究人员提供卓越的纳米力学表征方法。最先进的 T150 利用纳米力学驱动传感器头生成拉力（load on sample），并将电磁驱动与精密的电容测量相结合，可在广泛的应变范围内提供卓越的灵敏度。T150 UTM 通过业界最广泛的动态范围和市场上最佳的分辨率，能够使研究人员了解柔性纤维的动力学性能，并研究生物材料、单根细纤维（聚合物/金属/陶瓷）、蜘蛛丝、静电纺纳米纤维和纺织品的拉伸/压缩性能。优势：载荷模块支持大应变下的高精度测量。在设计范围内，T150系统自带的纳米力学激励传感器，充分保证行业内最高的载荷精度。行业内最大的动态范围和最佳的测试精度。对样品力学特性进行实时、动态且精确的表征，实现市场上最高的测试精度。应用范围广泛，升级方便。模块化设计，用户可根据需求，自主搭配。应用范围广泛，根据标准和定制要求，不断增加测试方法。实时控制，简单方便的测试协议开发。性能优越的软件系统，保证对各种实验参数进行实时控制，并允许用户自主开发自动生成、导出结果报告。导出格式支持Microsoft Word 和Excel 应用对各种纤维和生物材料的动态研究 对聚合物的拉伸和压缩性能进行测试 纤维和生物材料的屈服强度 完善的结构设计 在拉伸过程中，T150系统上装有纳米力学激励传感器的夹头保持不动，通过移动另一个自由夹头，对样品进行拉伸。这种设计结构保证系统的高度稳定性，和极低的噪音水平。通过软件算法，T150系统对样品真实的拉伸起始点（松弛结束点）进行自动识别，充分保证数据的有效性和可靠性。 双弹簧支撑夹头传感器的结构设计保证T150系统横向刚度，在运动方向上（仪器轴向）保持唯一一个运动自由度。这种运动限制确保T150系统动态模式结果的可信度。此外，通过分别测量加载于样品上的载荷与位移，彻底消除两者间的相互影响，减少试验误差。连续动态分析模块（安捷伦专利技术）迄今为止，在纳米量级上，对样品的动态特性进行高分辨的测试分析，仍是科学家在研究材料性能时所面临的一个巨大挑战。这种试验受到种种条件限制，特别是在测试过程中，材料所受的应变不能根据要求连续、自由变化和调整。 配合T150纳米力学拉伸系统，连续动态分析模块提供一种操作简单且性能可靠的试验方法。在连续拉伸过程中的不同应变状态下，对材料的动态力学特性进行测试分析，可快速获得材料的储存模量、损耗模量、损耗因子等。采用设计独特的纳米力学激励传感器，系统将简谐力叠加在静态力上，通过传感器内置的电容检测器，对振幅进行实时监控。其振动频率远高于传统试验机利用横梁施加的振动频率。此外，连续动态分析模块的动态工作频率范围宽，可对多种样品的复合模量进行全面测试与分析。在连续拉伸过程中，系统对样品上各点的刚度进行精确测量，自动生成样品的力学曲线，从而对样品的力学特性进行直观分析。同时，根据载荷和位移的变化关系，系统可自动获得样品的储存模量、损耗模量等 功能强大的NanoSuite 5.0 专业图像处理软件NanoSuite 5.0专业图像处理软件是安捷伦T150纳米力学拉伸系统的随机配载软件，内置多种符合国际、国内标准的测试方法。NanoSuite 5.0软件对整个测试过程进行实时控制，在仪器使用和数据分析过程中，提高系统的可操作性。通过点击直观且智能化的软件界面，在连续拉伸过程中，用户可随时更改实验过程中的各个参数设定，避免繁复的操作步骤。全新的NanoSuite 5.0软件开发系统安捷伦NanoSuite 5.0软件开发系统向用户开放崭新的、使用方便的软件通道。根据自身要求，用户可设计全新的测试方法。没有其他任何商业软件，可为您提供如此功能强大、控制灵活的开发系统。至此，试验方法不再受限于软件，仅仅止步于您的想象。应用使用Agilent UTM T150符合ASTM C1557的铜纤维拉伸试验使用UTM T150测试的6 Cu线样品的工程应力 - 应变曲线，符合ASTM C1557-03标准测试方法。 虚线描绘了弹性变形。使用UTM T150测试的6 Cu线样品的工程应力 - 应变曲线，符合ASTM C1557-03标准测试方法。 虚线描绘了弹性变形。每条曲线清楚地表现出线性弹性状态（虚线），然后是塑性屈服和断裂前的应变硬化。 由于线性弹性区域的良好再现性，所测量的应力--应变值的一致性是明显的。

Agilent UTM T150 Keysight T150 UTM 是一款通用试验机，可为研究人员提供卓越的纳米力学表征方法。最先进的 T150 利用纳米力学驱动传感器头生成拉力（load on sample），并将电磁驱动与精密的电容测量相结合，可在广泛的应变范围内提供卓越的灵敏度。T150 UTM 通过业界最广泛的动态范围和市场上最佳的分辨率，能够使研究人员了解柔性纤维的动力学性能，并研究生物材料、单根细纤维（聚合物/金属/陶瓷）、蜘蛛丝、静电纺纳米纤维和纺织品的拉伸/压缩性能。优势：载荷模块支持大应变下的高精度测量。在设计范围内，T150系统自带的纳米力学激励传感器，充分保证行业内最高的载荷精度。行业内最大的动态范围和最佳的测试精度。对样品力学特性进行实时、动态且精确的表征，实现市场上最高的测试精度。应用范围广泛，升级方便。模块化设计，用户可根据需求，自主搭配。应用范围广泛，根据标准和定制要求，不断增加测试方法。实时控制，简单方便的测试协议开发。性能优越的软件系统，保证对各种实验参数进行实时控制，并允许用户自主开发自动生成、导出结果报告。导出格式支持Microsoft Word 和Excel 应用对各种纤维和生物材料的动态研究 对聚合物的拉伸和压缩性能进行测试 纤维和生物材料的屈服强度 完善的结构设计 在拉伸过程中，T150系统上装有纳米力学激励传感器的夹头保持不动，通过移动另一个自由夹头，对样品进行拉伸。这种设计结构保证系统的高度稳定性，和极低的噪音水平。通过软件算法，T150系统对样品真实的拉伸起始点（松弛结束点）进行自动识别，充分保证数据的有效性和可靠性。 双弹簧支撑夹头传感器的结构设计保证T150系统横向刚度，在运动方向上（仪器轴向）保持唯一一个运动自由度。这种运动限制确保T150系统动态模式结果的可信度。此外，通过分别测量加载于样品上的载荷与位移，彻底消除两者间的相互影响，减少试验误差。连续动态分析模块（安捷伦专利技术）迄今为止，在纳米量级上，对样品的动态特性进行高分辨的测试分析，仍是科学家在研究材料性能时所面临的一个巨大挑战。这种试验受到种种条件限制，特别是在测试过程中，材料所受的应变不能根据要求连续、自由变化和调整。 配合T150纳米力学拉伸系统，连续动态分析模块提供一种操作简单且性能可靠的试验方法。在连续拉伸过程中的不同应变状态下，对材料的动态力学特性进行测试分析，可快速获得材料的储存模量、损耗模量、损耗因子等。采用设计独特的纳米力学激励传感器，系统将简谐力叠加在静态力上，通过传感器内置的电容检测器，对振幅进行实时监控。其振动频率远高于传统试验机利用横梁施加的振动频率。此外，连续动态分析模块的动态工作频率范围宽，可对多种样品的复合模量进行全面测试与分析。在连续拉伸过程中，系统对样品上各点的刚度进行精确测量，自动生成样品的力学曲线，从而对样品的力学特性进行直观分析。同时，根据载荷和位移的变化关系，系统可自动获得样品的储存模量、损耗模量等 功能强大的NanoSuite 5.0 专业图像处理软件NanoSuite 5.0专业图像处理软件是安捷伦T150纳米力学拉伸系统的随机配载软件，内置多种符合国际、国内标准的测试方法。NanoSuite 5.0软件对整个测试过程进行实时控制，在仪器使用和数据分析过程中，提高系统的可操作性。通过点击直观且智能化的软件界面，在连续拉伸过程中，用户可随时更改实验过程中的各个参数设定，避免繁复的操作步骤。全新的NanoSuite 5.0软件开发系统安捷伦NanoSuite 5.0软件开发系统向用户开放崭新的、使用方便的软件通道。根据自身要求，用户可设计全新的测试方法。没有其他任何商业软件，可为您提供如此功能强大、控制灵活的开发系统。至此，试验方法不再受限于软件，仅仅止步于您的想象。应用使用Agilent UTM T150符合ASTM C1557的铜纤维拉伸试验使用UTM T150测试的6 Cu线样品的工程应力 - 应变曲线，符合ASTM C1557-03标准测试方法。 虚线描绘了弹性变形。 使用UTM T150测试的6 Cu线样品的工程应力 - 应变曲线，符合ASTM C1557-03标准测试方法。 虚线描绘了弹性变形。每条曲线清楚地表现出线性弹性状态（虚线），然后是塑性屈服和断裂前的应变硬化。 由于线性弹性区域的良好再现性，所测量的应力--应变值的一致性是明显的。 使用Agilent T150 UTM拉伸测试玄武岩纤维样品NB1-T1的曲线。 杨氏模量计算为点1和点2之间的该曲线的斜率。P点为断裂点。 小直径电纺纤维的拉伸应力 - 应变响应 四种不同直径的静电纺丝PCL纤维的工程应力 - 应变曲线如图所示。试样直径，标距长度，杨氏模量，拉伸强度和断裂载荷值列于表2中。重要的是要注意极小这些电纺超薄纤维的拉伸变形所需的载荷。

Agilent UTM T150 Keysight T150 UTM 是一款通用试验机，可为研究人员提供卓越的纳米力学表征方法。最先进的 T150 利用纳米力学驱动传感器头生成拉力（load on sample），并将电磁驱动与精密的电容测量相结合，可在广泛的应变范围内提供卓越的灵敏度。T150 UTM 通过业界最广泛的动态范围和市场上最佳的分辨率，能够使研究人员了解柔性纤维的动力学性能，并研究生物材料、单根细纤维（聚合物/金属/陶瓷）、蜘蛛丝、静电纺纳米纤维和纺织品的拉伸/压缩性能。优势：载荷模块支持大应变下的高精度测量。在设计范围内，T150系统自带的纳米力学激励传感器，充分保证行业内最高的载荷精度。行业内最大的动态范围和最佳的测试精度。对样品力学特性进行实时、动态且精确的表征，实现市场上最高的测试精度。应用范围广泛，升级方便。模块化设计，用户可根据需求，自主搭配。应用范围广泛，根据标准和定制要求，不断增加测试方法。实时控制，简单方便的测试协议开发。性能优越的软件系统，保证对各种实验参数进行实时控制，并允许用户自主开发自动生成、导出结果报告。导出格式支持Microsoft Word 和Excel 应用对各种纤维和生物材料的动态研究 对聚合物的拉伸和压缩性能进行测试 纤维和生物材料的屈服强度 完善的结构设计 在拉伸过程中，T150系统上装有纳米力学激励传感器的夹头保持不动，通过移动另一个自由夹头，对样品进行拉伸。这种设计结构保证系统的高度稳定性，和极低的噪音水平。通过软件算法，T150系统对样品真实的拉伸起始点（松弛结束点）进行自动识别，充分保证数据的有效性和可靠性。 双弹簧支撑夹头传感器的结构设计保证T150系统横向刚度，在运动方向上（仪器轴向）保持唯一一个运动自由度。这种运动限制确保T150系统动态模式结果的可信度。此外，通过分别测量加载于样品上的载荷与位移，彻底消除两者间的相互影响，减少试验误差。连续动态分析模块（安捷伦专利技术）迄今为止，在纳米量级上，对样品的动态特性进行高分辨的测试分析，仍是科学家在研究材料性能时所面临的一个巨大挑战。这种试验受到种种条件限制，特别是在测试过程中，材料所受的应变不能根据要求连续、自由变化和调整。 配合T150纳米力学拉伸系统，连续动态分析模块提供一种操作简单且性能可靠的试验方法。在连续拉伸过程中的不同应变状态下，对材料的动态力学特性进行测试分析，可快速获得材料的储存模量、损耗模量、损耗因子等。采用设计独特的纳米力学激励传感器，系统将简谐力叠加在静态力上，通过传感器内置的电容检测器，对振幅进行实时监控。其振动频率远高于传统试验机利用横梁施加的振动频率。此外，连续动态分析模块的动态工作频率范围宽，可对多种样品的复合模量进行全面测试与分析。在连续拉伸过程中，系统对样品上各点的刚度进行精确测量，自动生成样品的力学曲线，从而对样品的力学特性进行直观分析。同时，根据载荷和位移的变化关系，系统可自动获得样品的储存模量、损耗模量等 功能强大的NanoSuite 5.0 专业图像处理软件NanoSuite 5.0专业图像处理软件是安捷伦T150纳米力学拉伸系统的随机配载软件，内置多种符合国际、国内标准的测试方法。NanoSuite 5.0软件对整个测试过程进行实时控制，在仪器使用和数据分析过程中，提高系统的可操作性。通过点击直观且智能化的软件界面，在连续拉伸过程中，用户可随时更改实验过程中的各个参数设定，避免繁复的操作步骤。全新的NanoSuite 5.0软件开发系统安捷伦NanoSuite 5.0软件开发系统向用户开放崭新的、使用方便的软件通道。根据自身要求，用户可设计全新的测试方法。没有其他任何商业软件，可为您提供如此功能强大、控制灵活的开发系统。至此，试验方法不再受限于软件，仅仅止步于您的想象。应用使用Agilent UTM T150符合ASTM C1557的铜纤维拉伸试验使用UTM T150测试的6 Cu线样品的工程应力 - 应变曲线，符合ASTM C1557-03标准测试方法。 虚线描绘了弹性变形。 使用UTM T150测试的6 Cu线样品的工程应力 - 应变曲线，符合ASTM C1557-03标准测试方法。 虚线描绘了弹性变形。每条曲线清楚地表现出线性弹性状态（虚线），然后是塑性屈服和断裂前的应变硬化。 由于线性弹性区域的良好再现性，所测量的应力--应变值的一致性是明显的。 使用Agilent T150 UTM拉伸测试玄武岩纤维样品NB1-T1的曲线。 杨氏模量计算为点1和点2之间的该曲线的斜率。P点为断裂点。 小直径电纺纤维的拉伸应力 - 应变响应 四种不同直径的静电纺丝PCL纤维的工程应力 - 应变曲线如图所示。试样直径，标距长度，杨氏模量，拉伸强度和断裂载荷值列于表2中。重要的是要注意极小这些电纺超薄纤维的拉伸变形所需的载荷。

纳米空间分辨超快光谱和成像系统 “空间和时间的结合”— 纳米分辨和飞秒别的光谱超快光谱技术拥有诸多特色，例如高的时间分辨率，丰富的光与物质的非性相互作用，可以用光子相干地调控物质的量子态，其衍生和嫁接技术带来许多凝聚态物理实验技术的变革等等。然而，受制于激发波长的限制（可见-近红外），超快光谱在空间分辨上受到了一定的制约，在对一些微纳尺寸结构的材料研究中，诸如一维半导体纳米线，二维拓扑材料、纳米相变材料等，无法地进行有效的超快光谱分析。 德国Neaspec公司利用十数年在近场及纳米红外领域的技术积累，开发出了全新的纳米空间分辨超快光谱和成像系统，其pump激发光可兼容可见到近红外的多组激光器，probe探测光可选红外（650-2200 cm-1）或太赫兹（0.5-2 T）波段，实现了在超高空间分辨（20 nm）和超高时间分辨（50 fs）上对被测物质的同时表征。技术原理：设备特点和参数：→ 超高空间分辨和时间分辨同时实现；→ 20-50 nm空间分辨率；→ 根据pump光源时间分辨可达50 fs；→ probe光谱可选红外（650-2200 cm-1）或太赫兹（0.5-2 T）应用领域：→ 二维材料→ 半导体→ 纳米线/纳米颗粒→ 等离激元→ 高分子/生物材料→ 矿物质......应用案例：■ 纳米红外超快光谱分辨率为10nm的InAs纳米线红外成像，并结合时间分辨超快光谱分析载流子衰减层的形成过程参考：M. Eisele et al., Ultrafast multi-terahertz nano-spectroscopy with sub-cycle temporal resolution, Nature Phot. (2014) 8, 841.稳态开关灵敏性：容易发生相变的区域，光诱导散射响应较大参考：M. A. Huber et al., Ultrafast mid-infrared nanoscopy of strained vanadium dioxide nanobeams, Nano Lett. 2016, 16, 1421.参考：G. X. Ni et al., Ultrafast optical switching of infrared plasmon polaritons in high-mobility graphene, Nature Phot. (2016) 10, 244.参考：Mrejen et al., Ultrafast nonlocal collective dynamics of Kane plasmon-polaritons in a narrow- gap semiconductor, Sci. Adv. (2019), 5, 9618.■ 范德华材料 WSe2 中的超快研究参考：Mrejen et al., Transient exciton-polariton dynamics in WSe2 by ultrafast near-field imaging, Sci. Adv. (2019), 5, 9618.■ 黑磷中的近红外超快激发黑磷的high-contrast interband性质使其具有半导体性质，在光诱导重组过程中表面激发的电子空隙对（electron-hole pairs）～50fs并在5ps内消失参考：M. A. Huber et al.,Femtosecond photo-switching of interface polaritons in black phosphorus heterostructures, Nat. Nanotechnology. (2016), 5, 9618.■ 多层石墨烯中等离子效应衰减效应参考：M. Wagner et al., Ultrafast and Nanoscale Plasmonic Phenomena in Exfoliated Graphene Revealed by Infrared Pump?Probe Nanoscopy, Nano Lett. 2014, 14, 894.发表文章：neaspec中国用户发表文章超80篇，其中36篇影响因子10。部分文章列表：● M. B. Lundeberg et al., Science 2017 AOP.● F. J. Alfaro-Mozaz et al., Nat. Commun. 2017, 8, 15624.● P. Alonso-Gonzales et al., Nat. Nanotechnol. 2017, 12, 31.● M. A. Huber et al., Nat. Nanotechnol. 2017, 12, 207.● P. Li et al., Nano Lett. 2017, 17, 228.● T. Low et al., Nat. Mater. 2017, 16, 182.● D. Basov et al., Nat. Nanotechnol. 2017, 12, 187.● M. B. Lundberg et al., Nat. Mater. 2017, 16, 204.● D. Basov et al., Science 2016, 354, 1992.● Z. Fei et al., Nano Lett. 2016, 16, 7842.● A. Y. Nikitin et al., Nat. Photonics 2016, 10, 239.● G. X. Ni et al., Nat. Photonics 2016, 10, 244.● A. Woessner et al., Nat. Commun. 2016, 7, 10783.● Z. Fei et al., Nano Lett. 2015, 15, 8271.● G. X. Ni et al., Nat. Mater. 2015, 14, 1217.● E. Yoxall et al., Nat. Photonics 2015, 9, 674.● Z. Fei et al., Nano Lett. 2015, 15, 4973.● M. D. Goldflam et al., Nano Lett. 2015, 15, 4859.● P. Li et al., Nat. Commun. 2015, 5, 7507.● S. Dai et al., Nat. Nanotechnol. 2015, 10, 682.● S. Dai et al., Nat. Commun. 2015, 6, 6963.● A. Woessner et al., Nat. Mater. 2014, 14, 421.● P. Alonso-González et al.,Science 2014, 344, 1369.● S. Dai et al., Science 2014, 343, 1125.● P. Li et al., Nano Lett. 2014, 14, 4400.● A. Y. Nikitin et al., Nano Lett. 2014, 14, 2896.● M. Wagner et al., Nano Lett. 2014, 14, 894.● M. Schnell et al., Nat. Commun. 2013, 5, 3499.● J. Chen et al., Nano Lett. 2013, 13, 6210.● Z. Fei et al., Nat. Nanotechnol. 2012, 8, 821.● J. Chen et al., Nature 2012, 487, 77.● Z. Fei et al., Nature 2012, 487, 82.

T150 UTM 系统提供了一种测量静态和动态微拉伸性能的非常卓越的方法。设备采用了一种独特设计的纳米力学激励传感器，使得系统既能够进行大应变实验，又能进行小应变测试(高分辨率)。连续动态分析(Keysight CDA)是KT公司的专利技术，通过施加一个纳米量级的简谐信号以及反馈控制，KLA-Tencor CDA 可以进行连续拉伸过程中不同应变状态下的储存模量和损耗模量测量。UTM 系统可以快速测量弹性模量、屈服强度、极限抗拉强度以及失效测量等。创新技术和优势传感器的精度高，稳定性和重复性好，人性化的界面设计，使用方便。 多种加载模式：恒载荷速率、恒位移速率、恒应变速率以及阶梯加载。 动态和静态拉伸测试电控部分采用了全新的第三代技术，仪器的稳定性更高，实现了更高速的数据采集和传递，并且做到数据的实时 处理和显示，包括硬度和弹性模量在压入过程中的实时显示。 厂。 国内高水平的专业人员和国际科学家的技术支持。UTM T150 主要技术指标载荷500mN 载荷分辨率50nN 作动器位移± 1mm 位移分辨率0.1nm 动态位移分辨率0.001nm 横梁拉伸150mm 拉伸分辨率35nm 拉伸速率0.5um/s to 5mm/s 动态频率范围0.1Hz to 2.5kHz

JKFD-6514FENG摩擦纳米发电机测试系统纳米发电机,是基于规则的氧化锌纳米线的纳米发电机,是在纳米范围内将机械能转化成电能,而摩擦发电纳米发电机基于摩擦起电和静电感应的耦合将机械能转换成电能,两者均是世界上Z小的发电机。研究纳米发电机的电学输出特性,开路电压、短路电流、转移电荷、功率密度、对提是高发电机输出功率,转换效率及产品设计的可靠性有着密不可分的关系。JKFD-6514FENG摩擦纳米发电机测试系统配置包含：Keithley静电计6514一台，NI采集卡一块，测试系统及测试线缆。系统要求：1.静电计可以测电阻、电压，电流，电荷这四个参数，且精度高。电流100aA - 20mA；电压10μV - 200V；电阻10mΩ - 200GΩ；电荷10fC - 20μC；带模拟输出，DIGITAL I/O口。2.计算机通讯：支持GPIB和RS232接口。3.提供NI的多通道数据采集卡及数据通讯线。4.可设置调零、量程、采集间隔、运行时间。可随时终止测量。5.数据可显示瞬时测量曲线（IT，VT，RT，CT）和阶段时间测量曲线，数据自动保存为csv格式。6.支持GPIB和RS232控制。

百及纳米ParcanNano 探针电子束光刻机P-SPL21 简介： 公司以全球首家专利的针尖技术为核心竞争力，技术源自于德国伊尔默瑙工业大学，致力于主动式针尖技术在微纳米结构制备和表征方面的研发，及其相关设备的产业化。 公司研制一套基于扫描针尖低能电子场发射的原理、采用压阻式微纳米针尖和多维纳米定位与测量技术、在半导体器件材料表面制造尺寸小于5纳米线宽结构的高性能微纳加工系统。可在大气环境下，高经济效益、快速直写5纳米以下结构和制备纳米级器件。该系统的闭环回路可实现使用同一扫描探针对纳米结构的成像、定位、检测和操纵。 技术特点：。场发射低能电子束。大幅降低电子束背底散射。几乎消除电子束临近效应。光刻5纳米以下单线宽结构。光刻结构间距小于2纳米。接近原子级分辨的套刻精度。线写速度高达 300 μm/s。大气环境下可实现正负光刻。正光刻流程无需显影步骤。无需调制电子束聚光。大范围分步重复工艺。Mix & Match 混合光刻模式。针尖曝光与结构成像实时进行。真空原位观测光刻图案 功能指标

PDMS系列压电摩擦纳米发电机测试机 方案简介：王中林院士在纳米科学与能源技术领域有着高深的造诣，其所提出的纳米发电机方向，为不少高校材料学院的研究方向之一。但是由于此类材料，多为高阻材料，其对测试的仪器仪表有了更高的要求。6514和6517B以其高达200TΩ的源内阻，以及pA至mA级别的高精度电流量程，成为了纳米发电机电压，电流测试的不二之选。 材料介绍：纳米发电机，是基于规则的氧化锌纳米线，在纳米范围内将机械能转换成电能，是较小的发电机。目前纳米发电机分为三类：压电纳米发电机；摩擦纳米发电机；热释电纳米发电机，一般应用于生物医学，无线通信，无线传感等领域。PDMS系列压电摩擦纳米发电机测试机主要技术参数1.采集软件功能:软件可快速采集电流、电压、电阻、电荷随时间变化曲线,V-T, I-T,R-T,Q-T曲线。软件可设置静电计的量程范围、对静电计进行零点校正、设置静电计NPLC采样速度。可连续可调设置采集卡的采集速度,最大可达50k/s，可设置记录时间,在测试的过程中实时绘制数据曲线，数据自动保存、数据可用Excel、记事本、Origin打开并分析。包含采集卡1个、转接头适配器1个及USB通信电缆1条，RS232通信电缆1条、低噪声3同轴测试电缆1条2.静电计技术参数： 2.1输入阻抗：200TΩ 2.2电压量程：10µ V-200V 2.3电流量程：50pA-20mA2.4电阻量程：10mΩ-200GΩ 2.5电荷量程：20nC-20µ C 3.直线电机技术参数3.1有效行程：360mm 3.2最佳行程：280mm 3.3峰值推力：163N 3.4持续推力：29N3.5持续推力（风冷）：54N 3.6力常数：20.4N/A3.7最大电流@72VDC：8A 3.8最大电流@48VDC：6.3A 3.9最大速度@72VDC：3.2m/s 3.10最大速度@48VDC：2.2m/s3.11配置驱动软件1套3.12光学面包板1套 3.13控电柜1个3.14剪式升降台2个3.15 TENG 直角架与转接板1板 4.测力计技术参数4.1拉压力测量:501bF/800ozF/25kgF/25000gF/250N4.2精度：±0.1%FS4.3分辨率：0.00lbF/0.2ozF/0.005kgF/5gF/0.05N 4.4测量单位：lbF ozF kgF gF N4.5输出：RS232 digiatic USB analogue4.6可存储测量值：1000 个

HOLITH界面光刻技术----“纳米压印友好伴侣” HOLITH界面光刻装置使用两束干涉激光在光界面上形成周 期性光栅和点/孔图案。 HOLITH纳米成像系统具有新型力 学，光学和电学设计，可在200nm-2μm的周期性范围内于4 英寸晶片上做出纳米结构图案，图案最小形貌可低50nm。 最先进的HOLITH专利技术可使用户仅通过简单的鼠标点击操 作便能作出100nm以下尺寸的高品质高均一性线性光栅和 2D/3D图像。在HOLITH界面光刻装置中无需使用遮罩和模 具。 优势： 无遮罩过程：低成本、多功能、可伸缩 计算机系程序自动化光学结构和排列控制 简单操作，无需光学培训 相比遮罩定位器系统成本更低 200nm范围内具有高分辨率 最低特征尺寸小于50nm 无需遮罩及模具 可以制作大面积2D/3D纳米压印模具（4/6英寸） 可以操作不平整晶片 周期精度：+-2.5% All-fiber-optic setup replacing free- space optical components Special optical fiber delivers light from laser Fiber-optic beam splitter splits the laser beam into two coherent beams Output port of the fiber performs spatial filtering Close-loop feedback control stabilizing interference pattern 低成本、不受环境因素干扰，使自动化成为可能：自由改变入射角度调整模式周期。 Holith 纳米图案化结构 应用：能源 太阳能电池抗反射结构 太阳能电池光子操纵 LEDs灯管中的光提取 图案化蓝宝石基板(PSS) 光学器件 1-D和2-D光栅光谱 大范围等离子体结构 光子晶体 超颖表面 高对比度光栅过滤器和反射器 亚波长和衍射光学器件计量光栅结构化的颜色材 料 超疏水/亲水表面 诱导自组装 表面增强拉曼荧光 生物医学传感器纳米装配纳米压印磨具装配先进纳米装配过程开发

基于音圈电机驱动和高精度导向模组实现纳米级超高分辨力的定位/扫描直线运动，内置光栅位移传感器，结构紧凑，通过自主研发的高性能纳米伺服系统获得优异的闭环控制效果，具有纳米级运动分辨率和运动精度，同时兼具高速、高动态位移定位和扫描功能。特点：高精度、高动态、跨尺度、大承载、灵活性应用领域：光学系统中透镜的定位医学装置中精密电子管、真空管控制机械工具的多坐标定位平台柔性机器人中使未端执行器快速精确定位

多量程X射线纳米CTSkyScan 2211多量程X射线纳米CT系统可涵盖范围广的样品的对象尺寸和空间分辨率。它可为油气勘探、复合材料、燃料电池、电子组装等许多应用带来不一样的材料三维成像和精确建模机会。技术规范：X射线源：20… 190kV，4/10/25 W，亚微米焦点尺寸，5档滤线器；开放（泵送）X射线源（带双级电子光学器件）；靶材—钨（标准）；铜、钼、银（可选）X射线探测器： 300万像素CMOS平板探测器 1920×1536像素 1100万像素冷却式CCD探测器 4032×2670像素重建图像格式：平板：1920×1920×1160像素（中心位置）3776×3776×1160像素（两个偏移位置） CCD：4032×4032×2272像素（中心位置）8000×8000×2272像素（两个偏移位置）重建速度：1分12秒：针对600次投影进行2K×2K×1K重建 11分：针对1319次投影进行4K×4K×2K重建样品对象定位：直接驱动空气轴承带集成式微定位平台 使用压电式驱动器（5.5毫米行程）细节探测能力：100纳米扫描容积： 直径204毫米，长度200毫米，重量25千克辐射安全：在距离仪器表面10厘米的任何一点上＜0.5 μSv/h （在190 keV、4 W条件下于目标上测得）电源：100-130V或200-240 V AC，50-60 Hz， 2.5 kW + 1.5 kW（压缩机）（65 A峰值电流）系统随附闭环水冷器和无油空压机及必要的粒子过滤器和干燥机。

产品描述iNano采用InForce 50驱动器进行纳米压痕和通用纳米机械测试。 InForce 50的50mN力荷载和50μm位移范围使得该系统适合各种测试。 InView软件是一个灵活的现代软件包，可以轻松进行纳米级测试。 iNano是内置高速InQuest控制器和隔振门架的紧凑平台。 该系统可以测试金属、陶瓷、复合材料、薄膜、涂层、聚合物、生物材料和凝胶等各种不同的材料和器件。主要功能InForce 50驱动器，用于电容位移测量，并配有电磁启动的可互换探头独特的软件集成探头校准系统，可实现快速准确的探头校准InQuest高速控制器电子设备，具有100kHz数据采集速率和20μs时间常数XY移动系统以及易于安装的磁性样品架带数字变焦的集成显微镜，可实现精确的压痕定位ISO 14577和标准化测试方法InView软件包，包含RunTest、ReviewData、InFocus报告、InView大学在线培训和InView移动应用程序主要应用硬度和模量测量(Oliver Pharr)高速材料性质分布ISO 14577硬度测试聚合物tan delta，储存和损耗模量样品加热工业应用大学、研究实验室和研究所半导体和封装行业聚合物和塑料MEMS（微机电系统）/纳米级通用测试陶瓷和玻璃金属和合金制药涂料和油漆聚合物制造复合材料电池和储能应用硬度和模量测量 (Oliver-Pharr)机械表征在薄膜的加工和制造中至关重要，其中包括汽车工业中的涂层质量，以及半导体制造前段和后段的工艺控制。iNano纳米压痕仪能够测量从超软凝胶到硬涂层的各种材料的硬度和模量。 对这些特性的高速评估保证了在生产线上进行质量控制。高速材料性质分布对于包括复合材料在内的许多材料，其机械性能可能因部位而异。 iNano的样品平台可以在X轴和Y轴上移动100mm，并在Z轴方向移动25mm，这使得该系统适用于不同的样品高度并可以在很大的样品区域上进行测量。 可选的NanoBlitz形貌和层析成像软件可以快速绘制任何测得的机械属性的彩色分布图。ISO 14577硬度测试iNano纳米压痕仪包括预先编写的ISO 14577测试方法，可测量符合ISO 14577标准的材料硬度。 该测试方法对杨氏模量、仪器硬度、维氏硬度和标准化压痕进行自动测量和报告。聚合物Tan Delta、储存和损失模量iNano纳米压痕仪能够针对包括粘弹性聚合物的超软材料测量tan delta和储存与损耗模量。 储存与损耗模量以及tan delta是粘弹性聚合物的重要特性，其能量作为弹性能量存储并作为热量消耗。 这两个指标都用于测量给定材料的能量消耗。高温纳米压痕测试高温下的纳米压痕对于表征热应力下的材料性能至关重要，特别对热机械工艺中的失效机理进行量化。 在机械测试期间改变样品温度不仅能够测量热引起的行为变化，还能够量化在纳米级别上不易测试的材料过渡塑性。产品优势iNano纳米压痕仪可轻松测量薄膜、涂层和少量材料。 该仪器准确、灵活，并且用户友好，可以提供压痕、硬度、划痕和通用纳米级测试等多种纳米级机械测试。 该仪器的力荷载和位移测量动态范围很大，因而可以实现从软聚合物到金属材料的精确和可重复测试。 模块化选项适用于各种应用：材料性质分布、特定频率测试、刮擦和磨损以及高温测试。 iNano提供了一整套测试扩展选项，包括样品加热、连续刚度测量、NanoBlitz3D/4D属性映射和远程视频选项。

Imina公司的miBotTM是世界上最紧凑的机器人，具有4个自由度及纳米定位分辨率，专为FIB/SEM电性测量及分析开发。与传统纳米机械手不同，miBotTM是一种自由移动机械手，几乎不受限制，能够在载台表面自由移动。由于采用非固定安装，miBotTM可以定位任意位置同时能够测量各种外形样品。miBotTM采用压电陶瓷驱动，运动范围达厘米级，定位分辨率从微米到纳米不等，步进模式能够快速移动探针指感兴趣区域，而扫描模式能够快速落针。miBotTM具备高刚度手臂使其抗震性好，其无与伦比的稳定性确保了即使在最小的样品上也能长时间保持稳定接触。miBots移动均在本身方向进行，无需传统旋转和平移耦合控制，因而操控非常直观。用户很快可掌握，大大减小损坏样品的风险，用户也更为直观实现各类电学测量分析。功能丰富且容易满足各类样品需求优化的操作设计确保操作简单、测量安全可靠、数据传输快兼容低加速电压和短工作距离分析，同时支持磁性镜筒的高分辨率成像55°倾斜角度下依然能长时间稳定定位和电学接触，满足FIB原位分析厘米级移动范围，高达15μm范围高精度纳米级精细运动控制适配小工作距离适配磁性镜筒平台适配FIB大倾转分析标准纳米钨针光纤机械手配置灵活方便可选配置：1. 变温载台温度范围：-30℃~+150℃，可连续精准控温温度稳定性：0.05℃可折叠散热器满足小腔体SEM安装Peltier半导体制冷无震动 2. EFA电性失效分析专为EBIC、EBAC/RCI和EBIRCh的高效精确缺陷定位设计实时成像，缩短数据传输时间自动路径规划简化操作流程各种故障案例进行高性能分析 3. XYZ子样品台在电镜载台运动外增加样品独立XYZ调节降低探针落针时间及满足批量测量行程范围：5mm（X/Y），330μm（Z）分辨率：2nm（X/Y），7nm（Z） 4. 软件模块化纳米分析工作流程预设分步式流程，降低学习曲线并减少数据处理时间快速设置工作流程，轻松完成落针配备预定义的测量配方管理测量数据库，轻松进行曲线对比及结果导出 5. 大样品载台双层架空设计最大支持2英寸晶圆以及先进封装和横截面样品测试不同高度支架选择满足各种高度样品分析 6. 标准失效分析设备设计可选标准19寸机柜，可容纳各类控制器及标准可参数分析仪标准工具和配件工具箱预装软件工作站及配套显示器应用场景：1. 纳米分析失效分析和可靠性分析集成电路安全评估芯片设计及逆向工程 2. EBAC/RCI分析开路、电阻或短路缺陷定位分析制造和长期问题诊断低电阻梯度分析 3. 半导体器件分析单个晶体管/二极管的I-V曲线测量SRAM位单元特性分析通孔电阻率测量 4. 电性测量MEMS和传感器驱动和分析光电子器件测试：MicroLED、太阳能电池材料表征：纳米线、石墨烯、薄膜、纳米颗粒 5. EBIC分析PN结区可视化及缺陷定位偏压下样品电荷成像分析掺杂可视化及分析 6. 纳米操纵纳米颗粒分离和定位TEM样品制备微纳组装

产品描述iMicro采用InForce 1000驱动器进行纳米压痕和通用纳米机械测试，并可选择添加InForce 50驱动器来测试较软的材料。InView软件是一个灵活的现代软件包，可以轻松进行纳米级测试。iMicro是内置高速InQuest控制器和隔振门架的紧凑平台。 可以测试金属、陶瓷、复合材料、薄膜、涂层、聚合物、生物材料和凝胶等各种不同的材料和器件。主要功能InForce 1000驱动器，用于电容位移测量，并配有电磁启动的可互换探头可选的InForce 50驱动器提供最 大50mN的法向力来测量软性材料，并提供可选的Gemini 2D力荷载传感器用于双轴动态测量。独特的软件集成探头校准系统，可实现快速准确的探头校准InQuest高速控制器电子设备，具有100kHz数据采集速率和20μs时间常数XY移动系统以及易于安装的磁性样品架高刚度龙门架，集成隔振功能带数字变焦的集成显微镜，可实现精确的压痕定位ISO 14577和标准化测试方法InView软件包，包含RunTest、ReviewData、InFocus报告、InView大学在线培训和InView移动应用程序主要应用硬度和模量测量(Oliver Pharr)高速材料性质分布ISO 14577硬度测试聚合物tan delta，储存和损耗模量定量刮擦和磨损测试样品加热工业应用大学、研究实验室和研究所半导体行业PVD / CVD硬涂层（DLC，TiN）MEMS（微机电系统）/纳米级通用测试陶瓷和玻璃金属和合金制药涂料和油漆复合材料电池和储能汽车和航空航天应用硬度和模量测量（Oliver Pharr）机械表征在薄膜的加工和制造中至关重要，其中包括汽车工业中的涂层质量，以及半导体制造前段和后段的工艺控制。iMicro纳米压痕仪能够测量从超软凝胶到硬涂层的各种材料的硬度和模量。 对这些特性的高速评估保证了在生产线上进行质量控制。高速材料性质分布对于包括复合材料在内的许多材料，其机械性能可能因部位而异。 iMicro的样品平台可以在X轴和Y轴上移动100mm，并在Z轴方向移动25mm，这使得该系统适用于不同的样品高度并可以在很大的样品区域上进行测量。 可选的NanoBlitz形貌和层析成像软件可以快速绘制任何测得的机械属性的彩色分布图。ISO 14577硬度测试iMicro纳米压痕仪包括预先编写的ISO 14577测试方法，可测量符合ISO 14577标准的材料硬度。 该测试方法对杨氏模量、仪器硬度、维氏硬度和标准化压痕进行自动测量和报告。聚合物Tan Delta、储存和损失模量iMicro纳米压痕仪能够针对包括粘弹性聚合物的超软材料测量tan delta和储存与损耗模量。 储存与损耗模量以及tan delta是粘弹性聚合物的重要特性，其能量作为弹性能量存储并作为热量消耗。 这两个指标都用于测量给定材料的能量消耗。定量划痕和磨损测试iMicro可以对各种材料进行刮擦和磨损测试。 涂层和薄膜会经过化学机械抛光（CMP）和引线键合等多道工艺，考验薄膜的强度及其与基板的粘合性。 重要的是这些材料在这些工艺中抵制塑性变形，并且保持原样而不会基板起泡。 理想地，介电材料应具有高硬度和弹性模量，因为这些参数有助于确定材料在制造工艺下会如何反应。高温纳米压痕测试高温下的纳米压痕对于表征热应力下的材料性能至关重要，特别对热机械工艺中的失效机理进行量化。 在机械测试期间改变样品温度不仅能够测量热引起的行为变化，还能够量化在纳米级别上不易测试的材料过渡塑性。产品优势iMicro纳米压痕仪可轻松测量硬涂层，薄膜和少量材料。该仪器准确、灵活，并且用户友好，可以提供压痕、硬度、划痕和通用纳米级测试等多种纳米级机械测试。 可互换的驱动器能够提供大动态范围的力荷载和位移，使研究人员能够对软聚合物到硬质金属和陶瓷等材料做出精确及可重复的测试。模块化选项适用于各种应用：材料性质分布、特定频率测试、刮擦和磨损测试以及高温测试。 iMicro拥有一整套测试扩展的选项，包括样品加热、连续刚度测量、NanoBlitz3D / 4D性质分布，以及Gemini 2D力荷载传感器，可以提供摩擦和其他双轴测量。

T150 UTM 微纳拉伸试验机可以测量对应变速率敏感的材料的时变响应。它采用电磁作动器产生拉力（样品上的载荷），并采用高精度的电容传感器测量位移，从而在大范围的应变下确保高灵敏度。T150 UTM还可提供动态测量模式，用以研究生物材料的拉伸/压缩特性，该模式在拉伸/压缩过程中的每个状态均可实现样品刚度等的精确测量。产品描述T150 UTM 微纳拉伸试验机使用电磁力作动器为加载单元，可在很大的样品应变范围内保持高灵敏度。连续动态分析 (CDA) 选项可在测试过程中实时对样品刚度进行直接、精确的测量，从而连续测定样品在每个应变状态下的力学性能。CDA还支持测定样品不同频率下的复模量（储存模量、损耗模量等）。T150 UTM 微纳拉伸试验机的应用包括：测定软质纤维和生物材料的屈服强度，纤维和生物材料的动态研究，以及聚合物的拉伸和压缩测试。主要功能● 电磁力作动器，在很大的样品应变范围内保持高灵敏度● 动态测量模式，测量样品力学性能随应变状态的变化● 灵活、可升级、可配置的仪器系统，适配各种应用● 易于进行测试协议开发，用于实时测试控制● 符合 ASTM 标准主要应用● 单根聚合物、金属、复合材料或陶瓷超细纤维纤维的拉伸强度和弹性模量是其在大多数应用中的重要参数。但是传统的材料试验机难以准确测量单根超细纤维的力学性能，因为测试此类样品所需的力很小。T150 UTM 微纳拉伸试验机能够准确测量很小的载荷变化，且适配样品很大的应变范围。其同时配备载荷分辨率极佳的作动器和位移分辨率极佳的移动机构，因此可以准确测量微纳米纤维的准静态应力-应变行为。● 电纺聚合物纳米纤维静电纺丝制备的纤维直径从几百纳米到几微米不等。T150 UTM 的独特设计能够同时满足对极低载荷和极小位移的精确测量，从而实现超细纤维的拉伸性能表征。● 聚合物薄膜/MEMS（微机电系统）聚合物薄膜是通用的包装材料，且其现在越来越多地用于生物科学和半导体封装。T150 UTM 可用于测量聚合物薄膜的临界断裂能。● 生物材料（例如蜘蛛丝、软组织支架）在力学和材料测试领域，生物材料的纳米级表征仍颇具难度。此类研究的一个例子是蜘蛛丝的力学性能表征。蜘蛛丝具有惊人的强度重量比，因此受到从医疗到军事等许多领域的关注。蜘蛛丝相关研究面临诸多挑战，其中包括：蛛丝纤维的直径小且难于测量，样品难以收集和夹持，难以在较大应变范围内获得准确的准静态测试结果，难以测量样品的各类动态特性。T150 UTM 完全适用于测量小直径单根纤维的强度，其中即包括蜘蛛丝纤维。● 纺织品T150 UTM 针对极细纤维的拉伸变形行为测试进行了专门设计。基于高分辨率的载荷与位移作动器，T150 UTM的连续动态分析（CDA）专利技术模块能够在拉伸试验过程中，连续测量材料的储存模量和损耗模量。CDA模块能够表征材料变形过程中内部固有结构的变化，这对于聚合物材料尤其重要。适用行业● 大学、科研实验室和研究所● MEMS：微机电系统● 纤维和纺织品● 聚合物薄膜● 生物医学● 医疗器械● 更多内容：请联系我们并告知我们您的需求选配件XP作动器T150 UTM 系统具有很高的横向刚度，其来源于作动器内部的双弹簧支持系统，从而使其运动仅在压缩/拉伸方向具有单一自由度。这种限制使设备的动态行为严格遵循一维简谐振子模型。设备可以施加微牛级别的载荷，测量样品纳米级形变对应的应变。作动器工作在“加载单元”模式，其精确控制通入电磁线圈中的电流，使样品下夹具保持在作动器行程的中央位置。载荷施加与位移传感两者互相独立，有效降低测量误差，使测得的材料响应和载荷施加互无干扰。连续动态分析（CDA）连续动态分析（CDA）选项可在测试过程中实时对样品刚度进行直接、精确的测量，从而连续测定样品在每个应变状态下的力学性能。同时测量载荷和位移振荡的幅度和两者之间的相位关系，CDA可以实现储存模量和损耗模量的测试。动态观察选项实时观察材料变形并将其与力学性能相关联，这在微纳米尺度拉伸测试中较难实现。T150动态观察选项可启用外部摄像头，在拉伸测试期间实时监控单根纤维的变形情况。纳米压痕转换套件T150 UTM 配备微动样品台和样品导向装置，可以使样品处于与施加的拉力正交的方向，并有助于定位样品上夹具。此外，提供压痕转换套件（包括倒置支脚），可将设备作为压痕仪使用。NanoSuite 软件版本所有 T150 UTM 系统均配备标准的NanoSuite Professional版本软件。NanoSuite Professional 版本支持用户使用预先编制的测试方法，其中包括符合 ASTM 标准的方法。NanoSuite Explorer 版本支持研究人员轻松编写自己的 NanoSuite 方法。模拟模式（提供 Professional 和 Explorer 版本）支持用户离线编写测试方法并处理和分析数据。隔离柜和减震台将系统与环境震动隔离开来，避免其影响精密测试的结果。对于直径小于10µ m的样品、时间较长的测试或使用CDA选项时，需要配备隔离柜。相关产品

SNSPD器件由中科院上海微系统所（SIMIT)研发。上海微系统所自2007年开始开展SNSPD研发工作，具有国际先进水平的超导器件工艺平台，实现了从薄膜材料、器件设计和加工的全自主研发。首创片上集成滤波器SNSPD器件，实现暗计数≤1Hz，探测效率≥80%的高性能器件，已获中、美、日专利授权。 ●探测效率高:＞90%●暗计数低:＜1Hz●高稳定性 ●计数率高：＞100MHz ●时间抖动小:＜20ps●个性化定制 参数细节 探测效率和暗计数率曲线

魔技纳米PROME-Uni基于多光⼦ 聚合原理的超⾼ 速度一体化纳米级三维加⼯ 设备自研专利技术，大幅提高加工效率，突破多光子聚合速度限制，适应不同尺度的精密加工需求；拥有多项稳定系统，可长时无需维护，稳定工作；采用模块化的光机电设计，拥有极高的灵活性和可扩展性；为科研和工业领域提供全新的3D加工技术解决方案，适用于微光学器件、微流控芯片、微机械、超材料、微纳传感器件光子芯片集成等领域 主要特点： 如需了解更多产品信息，欢迎查询我司官网 魔技纳米科技或来电咨询。 企业介绍 魔技纳米科技创立于2017年，是一家高精度微纳三维装备制造与服务提供商、国家高新技术企业、省专精特新企业。主要业务为高端激光微纳三维直写光刻设备的研发、生产、销售及技术服务等。研发团队拥有十余年微纳三维制造技术经验，在光学、电气、机械、软件、材料等方面，拥有完整的自主开发能力，可以为多行业应用场景提供专业的一体化解决方案。企业推出了高精度纳米级3D打印设备、超快激光加工中心、无掩膜直写光刻设备三大系列及多款光刻胶产品，其中自主研发的商用纳米级三维激光直写系统，可实现70纳米精度的三维结构加工。凭借高精度、高速度、大幅面和长时稳定性等技术优势，实现了科研探索到商业化应用的跨越，有力推动了微纳三维制造在生物医疗、光电通信、新材料、微纳器件、航空航天等领域的规模化工业生产。