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人工晶体

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人工晶体相关的仪器

  • 碘化钠晶体是一种性能优良的闪烁晶体。它是以NaI为基质材料掺以适当浓度的TlI生长而成,其最大发射波长在415nm,可与光电倍增管的光阴极很好地匹配,有很高的发光效率,对X射线和γ射线均有良好的分辨能力。我公司研制的碘化钠晶体成功应用于2008北京奥运会和2010年上海世博会的安全检查系统,性能良好,备受好评。我公司可根据客户使用条件和图纸要求生产各种碘化钠晶体,满足高温、抗震等方面的需求。1.石油测井用碘化钠晶体 核测井中,γ射线通过碘化钠闪烁体,通过能谱分析,可以由不同能量的γ射线强度确定地层中铀、钍和钾的含量及其分布情况,从而评价地层的岩性、生油能力以及解决更多的地质和油田开发问题。碘化钠晶体具有较高的光产额且受温度的影响相对较小,已成为油井测井探测器中的首选材料,我公司先后为大庆油田、大港油田等单位提供优质碘化钠晶体,并得到用户好评。 高温抗震碘化钠晶体 使用温度:25°C-175°C 振动:加速度20g,频率20-1000Hz 冲击:400g@1ms2.环境监测用碘化钠晶体 目前放射性物质普遍存在于日常环境中,对某些需要进行核监测的场合进行核辐射的测量能够确保工人工作的安全,避免潜在的危害公众安全的核辐射。该晶体主要对生产、生活、工作环境、野外进行核辐射监测等领域。3.核医学用碘化钠晶体 在核医学中,碘化钠晶体主要用于核成像技术,包括同位素治疗仪、γ相机等。核医学显像方法简单、灵敏、安全、结果准确、可靠,在临床和基础研究中的应用广泛。4.工业CT和安全检查用碘化钠晶体 该晶体主要应用于冶金行业钢水流动速度、钢板的厚度及缺陷检验及对隐蔽爆炸物进行安全检查等。
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  • X射线自动定向仪是根据市场对晶体角度测量越来越高的精度要求而推出的手动定向仪的升级产品,它是利用X射线衍射原理,设计制造的光,机,电三为一体精密仪器,能快速地测定天然和人造晶体(压晶体管、光学晶体、激光晶体、半导体晶体)的晶面,可与各种切割、研磨等加工设备配套使用。是精密加工制造晶体器件不可缺少的仪器,上述各种晶体的定向与切割。广泛适用于各种晶体材料加工行业和科研院校。 技术特点: 1. 采用进口PLC控制,自动化程度高、故障率极低、抗干扰能力强、系统稳定性好。 2. 全中文人机界面,7英寸TFT触摸屏,接口直观、操作简单。 3. 自动测角扫描方式,并采用进口高分辨率编码器,大大提高测量精度,规避了人工测量的读数误差,极大降低了操作者的劳动强度和操作难度。 4. 测量方式灵活,只需轻触触摸屏或踩脚踏开关,二者任选。 5. 自动标晶校对准确方便、自动扫描10次,取平均值。 6. 满足客户不同需求,设置单点、两点、四点测量模式。 7. 显示可在任一位置调零,便于显示晶体片角度偏差值。 8. 具有峰值放大的特殊积分器,采用高压模块器件,提高检测精度。 9. 模块化的电子线路,射线管高压电缆一体结构,使用维修简单。 10. 自动控制关闸设计,只在必要时打开,安全方便无隐患。 11. 可根据被测样品不同,定制各种样品台,保证测量精度和使用的方便性。 技术参数: 本技术参数根据中华人民共和国机械行业标准,JB/5482 —91 1)、使用条件: 1) 海拔不超过1000米 (超过1000.米、客户与制造厂协商解决) 2) 环境温度+5°~+35°C ; 3) 相对湿度不得大于75%,(如超过此湿度必须采取相应措施); 4) 单相交流220V,50HZ 5A,电源电压波动不大于±10%,容量不低0.5KW ; 5) 有良好的接地装置,接地电阻不应大于4Ω; 6) 供电线路中不得有电焊机,高频炉等设备引起的高频和电弧干扰。 2、技术指标: (1) X射线发生器部分 输入电源:单相交流220V、50HZ、0.5KW; X射线管:铜靶阳极接地,强迫风冷; X管电压:-30KVP,全压合闸; X管电流:0~5mA,连续可调; 功 率:总功率不大于0.5KW; 保 护:自动光闸、高压连锁、温度保护; 静态检测精度:≤±10″ (用标准石英片SIO2、1011面)(θ:13°20′)(2θ:26°40′) (2) 测 角 仪 部 分: 样品台转角度:θ,0~+55°; 计数器转角度:2θ,0°~+100°; 狭 缝:发散度为4′.5′.6′插入式; (3) 触 摸 屏: 角度最小读值:1″; 数字显示:度、分、秒。 角 度 调 整:数字显示可予置任何角度值。 (3)记录部分: 计 数 管:GJ5101盖革计数管工作电压0~1100V 。 强度显示;微安表显示被测晶体角强度值。 (4)外型尺寸:1150(长)×650(宽)×1500(高)。 (5)重 量:约200Kg。
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  • EKSMA OPTICS提供各种高质量的非线性晶体,如LBO,beta BBO,KTP,KDP,DKDP,LiIO3,各种红外非线性晶体,AgGaS2, AgGaSe2, GaSe, ZnGeP2等,我们提供标准尺寸和定向的晶体,并支持快速库存发货。同时,我们亦针对客户的特定需求提供各种定制化产品。非线性晶体具有极其广泛的应用,如激光谐波振荡,频率反转(SFG,DFG),光学参量振荡和放大(OPG,OPA),电光调制Q-switching等。-----------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------超薄型晶体在飞秒光学中有多种不同应用谐波振荡(SHG,SFG)光学参量振荡和光学参量放大(OPG,OPA)差频振荡(DFG)脉宽测量——自相关仪或互相关仪太赫兹振荡(GaSe晶体)极化纠缠态光子对超短光脉冲在晶体中传播中会因群速失配(GVM)产生延迟,于是脉冲将会因群延迟色散(GDD)和频率啁啾而展宽。这种效应就迫使频率产生方案中必须限制非线性晶体的厚度。对两个具有不同群速的共线传播的脉冲,他们的准静态相互作用长度(Lqs)定义为:在一个脉冲宽度时间内(或所期望的脉冲宽度时间内),他们所分开的路径长度Lqs = τ/GVM 这里GVM为群速度失配,τ为脉冲宽度。对最常用几类晶体在Type1相位匹配,我们把GVM的计算结果列在表格一。而针对Type1,800nm的SHG效应, BBO,LBO,KDP和LiIO3等常用晶体因GVM所限,在各种不同基频光脉冲宽度下的厚度极限则列在表格二中,同时也列出了在室温(20°C)时的相位匹配角和转化效率因子。这时如果采用更长的晶体,则二次谐波的脉冲将会展宽至大于基频光脉冲宽度(或期望脉冲宽度)群延迟色散(GDD)对脉冲的传播有非常重要的影响。因为脉冲总是会有一定的光谱宽度,所以色散会导致其各频率分量以不同的速度进行传播。当晶体处于正常色散时,折射率随波长的增加而降低,这将导致高频分量产生更低群速度,于是引起正啁啾.群速度的频率相关特性也会对脉冲宽度产生影响。如果脉冲最初没有啁啾现象,晶体中色散将会不断增加脉冲宽度。这种现象被称作脉冲色散展宽。对非啁啾高斯脉冲,脉冲初始宽度为 0,其脉宽会按以下公式增加:L – 晶体厚度 mmD- 二阶群时延色散或色散参数表格三给出了各种晶体800nm二倍频的Type1相位匹配下的D因子
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  • 陶瓷、玻璃、晶体等脆性材料研究成套设备-经济系列包括了最新研发的SYJ-200H手动快速切割机和GPS-50A精确磨抛控制仪,可以快速而准确地掌握制备精度。同时,配备的UNIPOL-802自动精密研磨抛光机及SKZD-2、SKZD-3滴料器可实现无人看守磨抛和研磨料、抛光剂的适量自动添加,有效的节约了人力、时间、原料,且大大提高了工作效率。此外,全套设备仅需五万元的成本。 1切割SYJ-200H手动快速切割机SYJ-150低速金刚石切割机2加热粘接MTI-250加热平台3磨抛控制GPS-50A精确磨抛控制仪4磨料添加SKZD-2滴料器SKZD-3滴料器5磨抛UNIPOL-802自动精密研磨抛光机6厚度检测SKCH-1(A)精密测厚仪7清洗VGT-1620QTD超声波清洗机 SYJ-200H手动快速切割机主轴转速高,切割速度快,试样装卡操作方便、快捷。SYJ-150低速金刚石切割机适用于切割晶体、陶瓷、玻璃,以及一些高价值脆性人工晶体和坚硬材料。 MTI-250加热平台   用于熔融石蜡,以便粘接样   品于载样盘上。   UNIPOL-802自动精密研磨抛光机 用于晶体、陶瓷、金属、玻璃、岩样、矿样等材料的研磨抛光制样。 GPS-50A精确磨抛控制仪 可精确控制样品研磨抛光的去层量。 SKZD-2滴料器可实现研磨过程中磨料滴加的自动控制,并实现均匀送料,使研磨质量大大提高。SKZD-3滴料器用于悬浮抛光液的滴加,可实现抛光过程中抛光液滴加的自动控制。 SKCH-1(A)精密测厚仪主要用于各类材料厚度的精密测量。VGT-1620QTD超声波清洗机可以清理一般工具达不到的地方,实现无损伤清洗。
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  • PPLN 晶体,非线性晶体 400-860-5168转3512
    Ppxx散装芯片关键词:PPLN晶体,PPLT晶体,PPMGOLN,非线性晶体_PPLN晶体,非线性晶体 基于准相位匹配(QPM),使新的波生成和xx型谱是困难的或不可能的工程实现由传统的非线性材料。xx型芯片和全谱(LN、LT:氧化镁:镁和适当的非线性频率转换计划)(DFG SFG,倍频、OPO,收购,联合,一个CAN,等),实现期望的输出波长(紫外/可见到/从太赫兹光谱反演和特殊功能(),两个频谱转换。频谱工程等)有效。 HCP提供以下全光谱configurations xx型散装芯片来满足你的应用要求和规格。我们可以帮助你设计结构合适的外加电压和外加电压为选定的时间获得所需的材料/ PPLT极化相匹配指定的操作温度和光谱.思考与输入和输出功率/能量/脉冲以及它们的光谱特性。请为您的特殊要求,也具有挑战。Ref-1: Materials and Application Wavelength?Ref-2: Chip StructureRef-3: Conversion ConfigurationRef-4: Dimension and Surface Specification ???
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  • SBN晶体 400-860-5168转2831
    光折变晶体 SBNSBN晶体,又名铌酸锶钡,是一种非常优异的光折变晶体材料。 纯SBN晶体和掺杂 Ce, Cr, Co, Fe 的铌酸锶钡 (SBN:60, SBN:61, SBN:75)是优良的光折变晶体,用于电光,声光和光折变等非线性光学研究。我司提供的进口SBN晶体采用优良的晶体生长技术,具有出色的光学质量。晶体内部无生长条纹,包裹体和其他不均匀性现象。SBN晶体指标参数:可根据客户需求提供极化处理等。SBN晶体应用领域:1. 光学信息记录,动态全息干涉,光学全息放大等;2. 高效相位共轭,自泵浦相位共轭镜,双相位共轭镜:3. 用于电光器件和声光器件;4. 用于Pyroelectrical 探测器;更多详情请联系昊量光电/欢迎直接联系昊量光电关于昊量光电:上海昊量光电设备有限公司是光电产品专业代理商,产品包括各类激光器、光电调制器、光学测量设备、光学元件等,涉及应用涵盖了材料加工、光通讯、生物医疗、科学研究、国防、量子光学、生物显微、物联传感、激光制造等;可为客户提供完整的设备安装,培训,硬件开发,软件开发,系统集成等服务。您可以通过我们昊量光电的官方网站了解更多的产品信息,或直接来电咨询。
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  • 碘化铯闪烁晶体可分为Tl激活、Na激活和纯碘化铯三种,其化学式分别为CsI(Tl) 、CsI(Na)和CsI,它们均为无色透明的立方晶体。CsI(Tl)晶体的光输出可达NaI(Tl)晶体的85%,发光主峰位在550nm,能与硅光电二极管很好地匹配,从而使读出系统大为简化。它的衰减时间与入射粒子的电离本领有关,特别适宜于在强g本底下探测重带电粒子。碘化铯晶体没有解理面、较软且有一定的可塑性,所以晶体可以制成各种各样形状的探测器,同时能够承受猛烈的冲击、震动以及大的温度梯度不损坏。CsI(Na)的发光效率与NaI(Tl) 接近,发射光谱的主峰位在420nm,更容易与光电倍增管配合;温度效应好。特别适合于在高温环境和空间科学研究中使用。它的缺点是在低能(20keV)下发光效率很快下降,潮解作用比CsI(Tl)厉害。纯CsI晶体的潮解性比CsI(Tl)弱得多。其发射光谱中含有一个波长在305nm的快分量(10ns) 和波长在350-600nm附近的慢分量(100-4000ns) 。通过对慢分量的抑制,快/慢分量比可以达到4倍,总的光输出可达NaI:Tl 的4-5%。该晶体的应用有利于获得比较好的时间分辨率。
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  • Ge晶体基片 400-860-5168转2205
    产品名称:Ge晶体基片产品简介:化学符号为Ge ,主要用途有:制作半导体器件、红外光学器件及太阳能电池衬底。技术参数:晶体结构:立方:a = 5.6754 ?;生长方法:提拉法;密度:5.765 g/cm3 熔点:937.4 ℃热传导性:640掺杂物质:不掺杂;掺Sb;掺Ga类型:/;N;P;电阻率W.cm:35;0.05;0.05-0.1;EPD: 4x103/cm2; 产品规格:晶体方向: 111,100and110± 0.5o 标准尺寸:dia1"x 0.50 mm;dia2"x0.5mm;dia4"x0.5mm(110 Ra5A,不化抛)注:可按照客户要求加工尺寸及方向。标准包装:1000级超净室100级超净袋或单片盒装 相关产品: A-Z系列晶体列表清洗机 基片包装盒系列划片机旋转涂层机
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  • 高纯锗晶体 400-860-5168转3524
    高纯锗晶体(12N,13N) 1、晶体习性与几何描述: 该晶体使用直拉法在晶体(100)方向延伸。圆柱形表面(表面光洁度小于2.5 μm RMS)。经红外成像法检测晶体结构稳定可靠。晶体几个结构由直径和长度决定。当一个晶体属于原生态晶体时,其当量直径为: D ----外形尺寸当量直径 W----锗晶体重量 L-----晶体长度 测量值是四舍五入最小可达到毫米级别。为了便于订单出货,我们会依据晶体的体积、直径和长度进行分类。同时我们可以满足客户的特殊需求,提供定制服务。 2、纯度:残留载荷 最大允许净载流子杂质浓度与探头二极管的几个构造有关,请参照如列公式。其纯度依据据霍尔效应测量和计算。 同轴探测器:同轴探测器适用于下列公式: Nmax = 每立方厘米最大杂质含量 VD = 耗尽层电压 = 5000 V εo = 介电常数 = 8,85 10-14 F/cm εr = 相对介电常数(Ge) = 16 q = 电子电荷1,6 10-19C (elementary charge) r1 = 探测器内孔半径 r2 = 探测器外孔半径 3、纯度 : 假如晶体表面半径减少2mm,由于锂的漫射和刻蚀,内径8毫米的内孔半径, 适用公式变为: D = 晶体外表面 平面探测器:平面探测器(厚度小于2厘米)适用于以下公式: d=探测器外观尺寸厚度 径向分散载荷子(绝对值) 迁移:霍尔迁移 性能: P 型晶体 μH ≥ 10000 cm2/V.s N 型晶体 μH ≥ 10000 cm2/V.s 能级: P 型晶体 通过深能瞬态测量,Cutot ≤ 4.5*109 cm-3 N 型晶体 通过深能瞬态测量点缺陷 5*108 cm-3 晶体主要指标: P 型晶体 N 型晶体 错位密度 ≤ 10000 ≤ 5000 星型结构 ≤ 3 ≤ 3 镶嵌结构 ≤ 5 ≤ 5 4、高纯度高纯锗HPGe晶体说明: 高纯锗晶体产地法国物理性质颜色银灰色属性半导体材料密度5.32g/cm3熔点937.2℃沸点2830℃ 技术指标材料均匀度特级光洁度特优纯度99.99999%-99.99999999999%(7N-13N)制备方式锗单晶是以区熔锗锭为原料,用直拉法(CZ)法或者垂直梯度法(VGF法)等方法制备的锗单晶体。产品规格P、N型按客户要求定制产品用途超高纯度,红外器件、γ辐射探测器P型N型高纯锗在高纯金属锗中掺入三价元素如铟、镓、硼等,得到p型锗;在高纯金属锗中掺入五价元素如锑、砷、磷等,得到n型锗。交货期90天
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  • Ge晶体基片 400-860-5168转2205
    产品名称:Ge晶体基片产品简介:化学符号为Ge ,主要用途有:制作半导体器件、红外光学器件及太阳能电池衬底等材料。技术参数:密度:5.765 g/cm3 ;熔点:937.4 ℃;热传导性:640;掺杂物质:不掺杂;掺Sb;掺In或Ga;类型:/;N;P; 电阻率W.cm:35;0.05;0.05-0.1;EPD: 4x103/cm2 4x103/cm2 4x103/cm2 常规尺寸:晶体方向: 111,100and110± 0.5° 或特殊的方向;标准抛光片尺寸:Ф1"x 0.3mm;Ф2"x0.5mm;(110 Ra5A,不化抛)注:也可根据客户需求提供特殊尺寸和方向的基片备注:1000级超净室100级超净袋单片盒或25片插盒封装相关产品: A-Z系列晶体列表清洗机 基片包装盒系列划片机旋转涂层机
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  • PPLN晶体 400-860-5168转2831
    PPLN and MgO:PPLN容易结合到您光学装置中的全套PPLN系统氧化镁掺杂的周期极化铌酸锂(MgO:ppln)晶体产品负责人:姓名:许工(Gary)电话:(微信同号)邮箱:MgO:PPLN是用于460nm~5100nm范围的高效波长变换的非线性光学晶体,英国Covesion公司在PPLN晶体领域的专业加工,提供了高精度的4.5um至33um极化周期,并且适用于大批量制造。在铌酸锂中添加5%的氧化镁可显著提高晶体的光学损伤和光折变阈值,同时又保留高的非线性系数。与类似的未掺杂的晶体相比,可实现可见光波段和较低温度下运行的更稳定的性能。MgO:PPLN晶体可在室温下运行,在某些情况下,不需要控制温度。从室温到200摄氏度,与未掺杂的PPLN晶体相比,MgO:PPLN晶体可提供明显更宽的波长适用范围。英国Covesion公司在PPLN晶体领域的专业加工,提供了高精度的4.5um至33um以上极化周期,尤其对红-绿-蓝光的产生和高功率中红外波段的应用,可为OEM量产提供优质原材料。我们的优势:1. 世界一流的PPLN技术2. 高品质1)10年以上的生产经历2)世界顶级镀膜公司合作伙伴3. 稳定可重复使用的性能均匀计划贯穿整个晶体厚度4. 完善的温度控制方案可实现无时间延迟的简单、大范围的温度调谐5. 丰富的库存和高效的服务1)1周内可以收到库存产品2)8周可以收到定制产品,半定制产品时间周期小于8周 以下是我们部分库存产品,有其他频率转换需求随时联系上海昊量光电!二次谐波(SHG)MgO:PPLN晶体型号: 光学参量振荡/产生(OPO/OPG)MgO:PPLN晶体型号:差频(DFG)MgO:PPLN晶体型号:和频(SFG)MgO:PPLN晶体型号: 我们为更特别的应用提供掩膜版:更多详情请联系昊量光电/欢迎直接联系昊量光电关于昊量光电:上海昊量光电设备有限公司是国内知名光电产品专业代理商,代理品牌均处于相关领域的发展前沿; 产品包括各类激光器、光电调制器、光学测量设备、精密光学元件等,涉及应用领域涵盖了材料加工、光通讯、生物医疗、科学研究、国防及更细分的前沿市场如量子光学、生物显微、物联传感、精密加工、先jjin激光制造等;可为客户提供完整的设备安装,培训,硬件开发,软件开发,系统集成等优质服务。您可以通过我们昊量光电的官方网站了解更多的产品信息,或直接来电咨询。
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  • 产品概述:MWL120实时反射劳厄相机系统用来测定单晶的取向(反射和透射)、单晶的完整性、测量晶体的对称性、观察晶体的一般缺陷、拍摄板材棒材的结构相、精确测定点阵常数、测定残余应力等。 原理:由X射线管产生的X射线从相机的入射光阑射入,照射在被分析样品上,在满足布拉格公式:nλ=2dSinθ条件下,产生X射线衍射图像,这些图像记录在感光片上,然后对这些图像进行计算分析,可以了解物质内部结构。 本产品所具有的特点1 有效检测范围大:30cm×30cm2 灵敏度高:单光3 角灵敏度高:0.054 探测速度快:几秒钟即可根据角的偏差自动收集分析并在电脑上形成劳厄图像5 维护成本低:半年更换一次气体,一年更换一次冷却剂即可(价格较低廉)6 样品可旋转:探测器转过程中同时转动样品,可以得到对称性高的图像
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  • PPLN晶体 400-860-5168转1545
    仪器简介:PPLN是一种高效的非线形晶体,获得最大的波长转换效率必须对温度进行控制,并且晶体内部均匀的温度分布也很重要。Covesion提供了一系列的温度控制夹具或温控炉,以及温度控制器,尽量提高波长转换性能。改变晶体问题,也用于OPO中窄范围的波长调谐或其他波长转换应用。PPLN扩展了现有的激光系统,光谱覆盖可见到中红外。正确的PPLN和泵浦激光组合,可获得波长450nm到5um范围的光。Covesion还专门加工更复杂的晶体结构,在一个光学芯片上集合多种功能。 PPLN所提供的实际有效的波长转化,使得它成为各行业应用的焦点,如显示器、航空、电信、环境检测等。PPLN能达到转换效率很大程度上取决于激光束的属性。例如,优化的短脉冲激光单次通过晶体可获得80%的转换效率,但使用连续激光器,转换效率就可能下降到只有几个百分点。 PPLN是将生产的铌酸锂原材料晶圆进行所谓的&ldquo 周期性极化&rdquo 获得。铌酸锂是铁电晶体,在每个晶胞单元,由于铌离子和锂离子的晶格位置略有偏移,便产生了一个小的电偶极矩。通过施加一个强的电场,可以逆转这种结构,重新分布晶体中的偶极矩。反转铌酸锂结构的电场约为22KV/mm,反转时间仅需几个毫秒,之后该反转结构将永久性保持。在PPLN中,我们按光栅结构每隔几微米进行周期性反转,以实现输入光和输出光的准相位匹配。 在单个PPLN晶体上,可以完成多个光栅周期结构的加工。对OPO和其他可调谐应用,利用多周期结构可从单一泵浦光得到宽波长范围的光。光聚焦到不同周期光栅可实现波长的粗调,晶体的温度变化则可实现精细调节。技术参数:part# pump (nm) ouput (nm) period (&mu m) temp range ° C length (mm) aperture (mm) SHG8-1 976 - 984 488 - 492 5.00, 5.04, 5.08 160 - 200 1 0.5 x 0.5 SHG8-10 10 SHG3-1 1060 - 1068 530 - 534 6.50, 6.54, 6.58 160 - 200 1 0.5 x 0.5 SHG3-10 10 SHG3-20 20 SHG4-1 1310 - 1322 655 - 661 12.10, 12.20, 12.30 160 - 200 1 0.5 x 0.5 SHG4-10 10 SHG5-1 1540 - 1576 770 - 788 18.20, 18.40, 18.60, 18.80, 19.00 160 - 200 1 0.5 x 0.5 SHG5-10 10 SHG6-1 1570 - 1652 785 - 826 19.00, 19.25, 19.50, 19.75, 20.00, 20.25, 20.50, 20.75, 21.00 160 - 200 1 0.5 x 0.5 SHG6-10 10 SHG7-1 2024 - 2250 1012 - 1125 29.50, 30.00, 30.50, 31.00, 31.50, 32.00, 32.50 160 - 200 1 0.5 x 0.5 SHG7-10 10主要特点:周期性极化铌酸锂(PPLN)提供了460nm-1500nm波长范围内的高效率波长转换。我们专业的极化工艺可制作4.5um到33um的极化周期,是批量制造的理想选择。下面列出了标准的产品系列,对目前最常用的非线形过程进行分类:倍频(SHG), 和频(SFG),差频(DFG)和光学参量振荡/产生(OPO/OPG)。我们的PPLN晶体的标准范围与广泛使用的各种波长的激光相结合。每个晶体包含多周期光栅,灵活地实现温度及波长组合。我们的晶体镀增透膜,并抛光到:&lambda /4 平坦度,± 5min平行度,高于20-10光学表面质量。所有标准产品都经过严格的质量检验,提供带夹具的现货。
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  • 激光晶体 400-860-5168转3512
    NdYAG激光晶体品牌:eksmaopticsNd:YAG激光棒和各种倍频非线性晶体倍频晶体LBO晶体具有高损伤阈值,低光束偏移和优异的倍频效率。是高功率高重复频率Q-Switch和锁模激光器倍频的最佳选择KTP晶体具有超高效率特别适合地平均功率和连续激光应用。该晶体对温度变化不敏感并能工作在极其锋利聚焦或高发散角激光光束环境大孔径的DKDP晶体在高能量Q-Switch激光器中有广泛应用 Nd:YAG激光晶体(标准激光棒)提供各种标准尺寸的Nd:YAG激光棒,包括AR增透膜,适合高能量高功率的脉冲激光应用speciFicAtiONs OF stANDArD Nd:YAG LAser rODsNd Doping Level 0.8% or 1.1%Orientation 111 crystalline directionSurface Quality 10-5 scratch & dig (MiL-PRF-13830B)Surface Flatness λ/10 at 633 nmParallelism 10 arcsecPerpendicularity 5 arcmin for plano/plano endsDiameter Tolerance +0/-0.05 mmLength Tolerance +1/-0.5 mmClear Aperture 90 % of full apertureChamfers 0.1 mm at 45 degCoating Both sides coated AR @ 1064 nm, R 0.2%, AOi = 0 degBarrel Grooving All dia 6.35, 8, 10, 12 mm rods with barrel grooving
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  • 晶体生长炉 400-860-5168转2205
    产品型号:SKJ-50产品简介:SKJ-50晶体生长炉 是用提拉法生长高质量氧化物单晶材料YAG,LSAT,SrLaAlO4,LaAlO3等)的设备。每位材料研究者都知道可靠的数据来源于完整性好的单晶。 在新材料研究时,为了避免可变因数造成的影响,一台性能稳定的单晶生长设备时非常必要的,然而很多晶体生长设备时非常昂贵的。KMT可提供性能稳定,价格适中的SKJ 50 单晶生长炉,可生长多种氧化物高熔点晶体,晶体尺寸达 2-3" 。 我公司供应的产品符合国家有关环保法律法规的规定(含采购商ISO14000环境体系要求),不会造成环境污染; 该产品符合采购商OHSMS18000职业安全健康管理体系标准的要求,不会对接触产品的人员健康造成损害!主要特点:中频感应电源:25KW,频率 0.2 - 20 KHz 提拉速度:0.1-10mm/h 旋转速度:0-40 RPM 最高熔炼温度 : 2100oC 电源要求: 三相, AC 380V, 100A , 25KW 真空腔尺寸 : 50 cm dia. X 70 cm ,机械泵真空度可达 10-3 torr , 扩散泵真空度(选配)可达 10-6 torr 欧陆温控仪可获得温度精度 +/-0.2 oC 电子秤 ( 下称重)在生长过程中可自动控制晶体的直径 水冷要求 水压:0.13-0.18MPa 水流量:60 L/minute 炉子尺寸: 炉体:88L× 125W× 285H cm 控制单元:68L× 54W× 170H cm 中频感应电源:110L× 50W× 150H cm 相关配件:提拉机构是永磁直流电机驱动 带水冷和机械泵的真空腔体. 控制拉速、转速、温度和电子秤的控制柜. 风冷的中频感应电源. 带水冷的感应线圈(铜管)可选配件:铱坩埚,控制晶体直径的电子秤具体信息请点击查看:
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  • CdTe晶体基片 400-860-5168转2205
    产品名称:碲化镉(CdTe)晶体基片产品简介:碲化镉(CdTe)晶体基片广泛应用于X射线检测;红外光学;外延基片;蒸发源的晶体片等相关领域。技术参数:晶体结构立方 F43m a = 6.483?生长方法:PVT方法熔点(℃) 1047密度(g/cm3)5.851热容(J /g.k)0.210热膨胀系数(10-6/K)5.0热导率( W /m.kat 300K )6.3透过波长 (μm)0.85 ~ 29.9折射率2.72产品规格:常规晶向:100、001、110、111常规尺寸:5x5x0.5mm、10x10x0.5mm、dia1"x0.5mm注:也可提供多晶的,尺寸可按照客户要求加工,请发邮件确定信息。标准包装:1000级超净室,100级超净袋或单片盒封装
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  • 石英晶体微天平 400-860-5168转6094
    QCM-D石英晶体微天平 对AT切型剪切振动石英晶振进行快速阻抗频谱测量,频谱测量可获得诸多信息,可在响应幅值最大处获得谐振频率,峰高、半峰宽也可作为特征参数用来表征压电石英体表面粗糙度、膜粘弹性变化情况。本仪器通过快速频谱扫描技术,获得压电石英体的谐振频率(F) 和耗散因子 D (定义为石英晶体品质因子 Q的倒数,通过半高峰宽近似求得)。 JSK-T(I)型石英晶体微天平是本公司独自开发的多功能一体化QCM-D型质量传感检测仪器,工作频率可达200MHz,精确测量纳克级物质质量的传感技术。QCM仪器价格便宜,操作简单,可实现电化学、光化学、光电化学的现场联用动态监测分析。可广泛用于电活性聚合物表征、电池储能材料如Li+ 嵌入材料、金属腐蚀、自组装单层、光电材料、生物传感器、免疫检测、 蛋白质的相互作用 、膜表面的吸附/解析 、细胞黏附行为、靶向药物筛选、高分子材料的生物相容性等。仪器特点 QCM-D石英晶体微天平基于快速阻抗频率谱测定技术,能够测定谐振频率、振幅、相位等参数,可用于常见压电石英晶体,例如基频5MHz、6MHz、8MHz、10MHz的石英晶体; 可进行奇数倍频测量,频率上限最高可达200MHz,优于目前常见QCM设备。可实现频率、相移、耗散因子等参数测量。根据需要预设参数、个性化定制。仪器模块化结构、数据显示储存一体、无需外接电脑、抗干扰能力强。l 石英晶体基频 5MHz,6MHz,8MHz,10MHz,33MHz,100MHz可任选。可3、5、7、9、11倍频激励,扫频范围200MHz以内。l 提供两套检测池、满足不同实验需求。可配置注射泵或蠕动泵、PID自动控制温度。技术参数l 本仪器使用商用镀金8MHzAT切石英晶体,稳定状态下液相中频率测定相邻数值波动可控制在±0.1Hz。l 3.5英寸触屏彩色液晶显示,U盘储存数据,无需外接电脑。l 仪器常规石英晶片直径14 mm,能够非常灵敏地检测非常薄的吸附层的质量、耗散、分子的结构(构象)变化。并可计算其他参数,如:厚度、粘度、弹性模量,同时可以进行分子间反应的动力学分析。l 仪器检测的耗散灵敏度可达10-7, 质量灵敏度为4ng Hz-1 cm-2(基频10MHz) 0.4 pg Hz-1 mm-2(基频100MHz) 频率测定模式数据采集0.2s一组数据 ;(可定制相移角测定模式,数据采集速度可达10微秒,可用于快速瞬态测定)。
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  • 本公司研发团队开展石英晶体微天平化学生物传感分析研究已有三十余年,具有丰富的QCM应用研究经验,可根据客户需求提供个性化服务,解决客户QCM使用中出现的技术问题。该仪器融合多家著名高校相关领域研究成果,仪器模块化结构、便携式设计,可与电化学仪器光学仪器联用。仪器价格优惠、使用简单、性能稳定、检测结果可靠。石英晶体微天平(Quartz Crystal Microbalance,QCM)是一种非常灵敏的质量检测仪器。在一定条件下,石英晶体上沉积的质量变化和振动频率移动之间关系呈线性关系(Sauerbrey公式),其测量灵敏度可达纳克级,可以测到单原子层的质量变化。本仪器采用10 MHz石英晶体,每Hz的频率变化相当于0.85 ng/cm2。石英晶体微天平作为纳克质量传感器具有结构简单、成本低、灵敏度高的优点,被广泛应用于化学、物理、生物、医学和表面科学等领域中,可实现电化学、光化学、光电化学的现场动态监测分析。可广泛用以进行气体、液体成分分析以及微质量的测量、薄膜厚度、液体粘度(血凝)检测等。例如:电活性聚合物表征、Li+ 嵌入材料、金属腐蚀、自组装单层、生物传感器、免疫检测、 蛋白质的相互作用 、膜表面的吸附/解析 、DNA的杂交 、 细胞吸附 、靶向药物筛选、高分子材料的生物相容性等。 仪器特点l 仪器接触溶液的激励电极做工作电极与电化学仪器联用可构成EQCM测量技术。 l 仪器便携式设计、操作简单、方法选择、操作过程、步步提示。l 锂离子电池可作为电源、抗干扰能力强。l 仪器智能化模块化设计、结构可靠,可适应现场使用。l SD卡储存数据,方便后续数据处理。l 数据同时通过蓝牙无线传输到手机,可在手机上同步进行显示和储存。l 仪器可与其他分析仪器联用,如电化学仪器、光学仪器联用实现现场多信息传感分析。根据科研需要可进一步开发应用。 技术参数 l 使用晶体频率范围5MHz-20MHz,本仪器使用商用镀金10MHz AT切石英晶体。l 频率稳定性,空气中+1Hz/小时,液相中精确控制实验条件可达到相近的信号稳定性。l 3.5英寸触屏彩色液晶显示。l 提供2G SD卡储存数据,每隔2秒储存一组实验数据。l 便携式QCM 配备直流供电电压范围9V-18V,建议使用12V,2A 直流稳压源。l 可配备12V 5400mAh 锂离子电池(12.6V,1A 充电器)。l 便携式仪器尺寸:150*97*40mm;仪器重量:500 g。
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  • BGO晶体基片 400-860-5168转2205
    产品名称:锗酸铋(Bi4Ge3O12)晶体基片产品简介:锗酸铋(Bi4Ge3O12简称BGO)是一种具有立方结构、无色透明的无机氧化物晶体,它不溶于水,在高能粒子或高能射线(x-射线、γ-射线)激发下能发出峰值为480nm波长的绿色荧光。BGO晶体具有强阻止射线能力、高闪烁效率、优良的能量分辨率及不潮解等优点,所以是一种优良的闪烁体,广泛应用于高能物理、核物理、空间物理、核医学、地质勘察和其它工业领域。技术参数: 基本性质晶向100晶体结构立方晶格常数a=10.518?生长方法提拉法熔点1050℃密度7.12g/cm3莫氏硬度5 Mohs透过范围350~5500nm电光系数 (x10-12m/V ) r41 1.03折射率 2.098@ 632.8nm激发光谱 305nm荧光光谱 480~510nm相对光输出 10~14% Nal (Tl)衰减时间 300ns临界能量 10.5Mev能量分辨率(511千电子伏特) 20% 产品规格:可按客户要求定制尺寸标准包装:1000级超净室,100级超净袋或单片盒封装
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  • CdS晶体基片 400-860-5168转2205
    产品名称:硫化镉(CdS)晶体基片产品简介:II - VI族晶体有可能在不久的将来用于突出拍摄上。他们的直接带隙的性质和大范围的透明度以及一个带隙,为有趣的设备提供了广泛选择的可能性。技术参数:晶体名称CdS生长方法PVT结构六方晶系晶格常数(A)a=4.1367 c=6.7161密度 ( g/cm3)4.821熔点 (oC)1287热容 (J /g.k)0.3814 热膨胀系数(10-6/K)4.6 // a 2.5 // c导热系数( W /m.k at 300K )2.7透明波长 ( um)2.5 ~ 15 (71%)折射率1.708 (o) 1.723 (e)产品规格:尺寸:25x25x15 mm注:可按客户要求定制特殊的方向和尺寸。标准包装:1000级超净室,100级超净袋或单片盒封装
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  • THz有机晶体 太赫兹有机晶体THz Organic CrystalTHz Generator & Detector光整流THz发生器非线性光学差频THz发生器THz探测器1200-1600nm优化泵浦光源,700-800nm可备选THz Frequency Ranges for Generator MaterialsSpectal Bandwidth measured by Rainbow Photonics instrumentsTHz Frequency Range for Different Pump Pulsewidth 相关商品 ZnTe碲化锌晶体 1-20THz太赫兹源 太赫兹探测器 太赫兹光谱仪
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  • 硅(Si)晶体基片 400-860-5168转2205
    产品名称:硅(Si)晶体基片 产品简介:化学符号为Si,主要用途有:制作半导体器件、红外光学器件及太阳能电池衬底等材料。 技术参数:掺杂物质:掺B掺P类型:P N电阻率Ω.cm:10-3 ~ 4010-3 ~ 40EPD (cm-2 ):≤100≤100氧含量( /cm3 ):≤1.8 x1018≤1.8 x1018碳含量( /cm3 ):≤5x1016≤5x1016 常规规格:晶体方向:111、100、110 ± 0.5° 或 特殊的方向;常规尺寸:dia1"x 0.30 mm dia2"x0.5mm dia3"x0.5mm dia4"x0.6mm 表面粗糙度:Ra10A可提供热氧化SiO2层的Si片;Si+SiO2+Ti+Pt的基片!欢迎您的咨询! 标准包装:1000级超净室100级超净袋单片盒或25片插盒封装 相关产品:A-Z系列晶体列表清洗机 基片包装盒系列划片机旋转涂层机
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  • 氮化镓(GaN)晶体基片 400-860-5168转2205
    产品名称:氮化镓(GaN)晶体基片产品简介:GaN易与AlN、InN等构成混晶,能制成各种异质结构,已经得到了低温下迁移率达到105cm2/Vs的2-DEG(因为2-DEG面密度较高,有效地屏蔽了光学声子散射、电离杂质散射和压电散射等因素).科晶公司将为您提供高品质低价位的氮化镓晶体和基片。技术参数:制作方法:HVPE(氢化物气象外延法)传导类型:N型;半绝缘型电阻率:R0.5 Ω.cm;R106Ω.cm表面粗糙度:0.5nm位错密度:5x106Ω.cm可用表面积:90%TTV:≤15umBow:≤20um 产品规格:晶体方向: 0001 常规尺寸:dia50.8mm±1mm x 0.35mm ±25um;注:可按照客户要求加工尺寸及方向。标准包装:1000级超净室100级超净袋或单片盒装相关产品: Thin Films A-ZCrystal wafer A-Z等离子清洗机基片包装盒系列切割机薄膜制备设备
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  • 该产品可以实现LBO,BBO,KDP等非线性晶体的温度控制要求,晶体的尺寸从3~100mm各种口径的均可,可以接受定制
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  • 德国弗莱贝格仪器Quatrz XRD——石英晶体X射线衍射仪主要应用于对石英棒、硅片和坯料进行生产质量控制。而根据样品对象的不同,Quatrz XRD可以分为Quatrz Bar XRD、Quatrz Wafer XRD和Quatrz Blank XRD,即全自动石英棒定向仪、全自动石英晶圆盘分析仪和全自动石英晶片分选仪三种型号。全自动石英棒定向仪▼ 样品:石英棒特点:完全自动化的吸收和校准石英棒自动上胶转接器板校准精度:±0.5°(AT & TF)全自动石英晶圆片分析仪▼样品:圆形,长方形和正方形4 x 4毫米至80 x 80毫米(人工处理样本)20 x 20毫米至80 x 80毫米(自动样本处理)特点:空间质量检查的映射图选项模块化设计,支持未来的自动化升级用于输入/输出的标准样品盒:盒式或叠式可用排序函数产量:在标准分选精度下,可高达350片/小时全自动石英晶片分选仪▼样品:圆形,长方形和正方形4 x 4毫米至12 x 12毫米(手工处理样本)1.5 x 1.5毫米至3.0 x 6.0毫米(自动化选项一)4.0 x 4.0 mm至9.0 x 9.0 mm(自动化选项二)特点:质量分组:±7.5 arcsec吞吐量:在标准分拣精度下,每小时可处理高达1000个晶片
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  • PPKTP晶体 400-860-5168转3067
    周期性极化KTP (PPKTP) 周期性极化磷酸氧钛钾晶体(PPKTP)是一种高效率的非线性材料。 PPKTP可以根据不同的非线性应用定制。相比在传统的KTP应用,PPKTP没有相位匹配的局限性。PPKTP的非线性系数大约是传统KTP的三倍。PPKTP也是产生纠缠光子源的一种理想材料。 我们可以针对生产企业提供大量的PPKTP晶体,也可以提供少量晶体满足工程和科研客户的需求。 晶体参数 通光孔径[mmXmm] 1x2 长度 [mm] up to 30 光谱范围 [nm] 400-4000 垂直度 [arc min] 15 平面度 &lambda /10 平行度 [arc sec] 30 划痕/Dig 10/5 镀膜 AR/HR/PR *晶体可以接受定制,具体参数请与我们沟通。 OPO Yuchen offers the following types of crystals for OPO applications: - KTP - RTP - LBO - BBO - PPKTP - PPSLT - PPMgLN Part Numbering System for bulk OPO crystals C - &theta - &phi - S - D - L - T - P C - Crystal Type: K (KTP),HGTR KTP (H), R(RTP), L(LBO), B (BBO) &theta &ndash Orientation in Z-X direction [degrees] &phi - Orientation in X-Y direction [degrees] S - OPO type: R (regular), M (monolithic), D-(double pass), N (uncoated) D - Cross Section [mm] L - Crystal Length [mm] T &ndash Transmission of signal wavelength on output face [%] P &ndash Pump Wavelength [nm] Examples: KTP OPO, Cross-section 5x5mm, Length 30mm, Regular, &theta =90O,&phi = 0O, Transmission of signal wavelength on output T99.5%, Pump 1064 nm. K-90-0-R-5-30-99.5-1064 KTP ,Monolithic, &theta =90O, &phi = 0O, Cross-section 7.5 x 7.5mm, length 30mm, Transmission of signal wavelength on output T=50%, Pump -1064 nm, K-90-0-M-7.5-30-50-1064 KTP, Uncoated, &theta =90O,&phi = 0O, Cross-section 3x3 mm, Length 10mm, Pump 1064 nm, K-90-0-N-3-10-T-1064
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  • 石英晶体微天平 400-860-5168转3855
    MicroVacuum是源于匈牙利的品牌。工作原理:   仪器的核心组件为具有功能表面的石英芯片,通过石英晶体的压电效应来实时监控表面反应。   当物质在石英晶体表面发生吸脱附反应或者石英晶体表面的液体性质发生变化时,都会引起频率的变化和振荡损耗(耗散)的变化。芯片共振频率的变化,与芯片表面吸附的物质的质量相关。而振荡能量损耗的强度与吸附物质本身的粘弹性及结构相关。QCM-I系列均可以高精度实时的监控这些变化。   通过分析频率变化与耗散变化,可以获得吸附层相应的质量、吸附层厚度、粘弹性(剪切模量)等信息。应用领域:   分子相互作用动力学研究(结合/解离常数)细胞吸附、迁移与变化药物作用与药物筛选生物材料相容性研究聚电解质膜的层层组装血凝检测及分析酶降解研究生物传感器平台高分子溶胀、结构变化原油富集及储运研究材料腐蚀与防污水处理及环境污染物消除矿物浮选纳米颗粒分散性流体粘弹性新能源行业细菌生物膜研究
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  • 区熔晶体生长系统 400-860-5168转5919
    FZ-14 区熔晶体生长系统是专为工业生产直径达100毫米(4英寸)的单晶硅晶体而设计。根据源棒的尺寸,可以拉出长度达1. 1米的晶体。在这个过程中,晶体的直径和液体区的高度可以通过摄像系统来监测。并且该系统的上部主轴和线圈都是自动定位的。该系统采用无接触熔化工艺,通过使用涡轮分子泵和超纯氩气作为工艺气体,产生高极限真空环境,有效地防止了工艺过程中的污染,同时还能将氮气以受控的方式引入工艺炉体。产品数据概览:材料:硅晶体晶体 1,100 mm晶体拉动长度: 长达100 mm (4″)晶体直径: 2.5 x 10-5 mbar极限真空度: 0.5 bar(g) 发电机 输出电压: 30 kW频率: 2.4 MHz上轴进料速度: 最高30 mm/min上部旋转: 最高35 rpm下轴拉动速度: 最高 30 mm/min下部旋转: 最高 30 rpm尺寸规格 高度 6,280 mm宽度: 2,750 mm深度: 3,000 mm重量(总): 约 4,900 kg区熔(FZ)技术作为提纯方法为生产高电阻率的超纯硅单晶提供了技术可行性,该技术可应用于高性能电子和半导体技术领域。其另一优点是可以从气相中连续掺入,这使得在整个晶体的电阻率沿长度方向保持一致。因此,几乎可以在整个晶体上均匀地实现所需的电性能。由于电荷载流子的高寿命和极低的氧含量(无坩埚工艺),FZ晶体同样也适用于光伏行业。区熔(FZ)技术作为提纯方法与CZ直拉工艺等竞争方法相比,FZ工艺的优势在于只有紧邻感应线圈的一小部分晶体需要被熔化,无需使用石英坩埚(每炉次耗用一个),可实现高拉速,因此降低了耗材成本的同时也降低了能源成本。此外,无论是从硅还是其他合适的材料中提取的晶体,可以通过多次处理,显著地提高纯度。
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  • 非极性GaN晶体基片 400-860-5168转2205
    产品名称:非极性氮化镓(GaN)晶体基片产品简介:技术参数:晶体定位面:A plane 11-20+/-1 M plane 1-100+/-1°.传导类型:N型;半绝缘型电阻率:R0.5 Ω.cm;R106Ω.cm表面粗糙度:0.5nm位错密度:5x106Ω.cm可用表面积:90%TTV:≤15um; 产品规格:常规尺寸:10x5x0.5mm;厚度公差:+/-0.05mm;注:可按照客户要求加工尺寸及方向。标准包装:1000级超净室100级超净袋相关产品:Thin Films A-ZCrystal wafer A-Z等离子清洗机基片包装盒系列切割机薄膜制备设备
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  • 区熔晶体生长系统 400-860-5168转5919
    FZ-30和FZ-35区熔晶体生长系统专为工业生产直径达200毫米(8英寸)的单晶硅晶体而设计。根据源棒的尺寸,可以拉出长度为2000毫米的晶体。在这个过程中,晶体的直径和液态区的高度可以用摄像系统来监测。该系统采用无接触熔化工艺,通过使用涡轮分子泵和超纯氩气作为工艺气体,产生高极限真空环境,有效地防止了工艺过程中的污染。在FZ-30和FZ-35区熔晶体生长系统中,可以分别以高达3 bar和5 bar的超压产生氩气气体,用以培育大晶体。同时,上主轴和线圈都可实现自动定位。在FZ-30中,上主轴可以在X或Y方向上移动。两种系统类型都能够以受控方式将氮气引入工艺炉体。PVA TePla为您提供更多个性化选择,例如用于掺杂晶体的气体掺杂系统、封闭式去离子冷却水系统、源棒的修整器和调整籽晶方向的系统。产品数据概览:材料:硅晶体晶体拉动长度: 2,700 mm晶体直径: 长达 200 mm (8")极限真空度: 2.5 x 10-5 mbar最大过压: FZ-30: 3.0 bar(g)FZ-35: 5.0 bar(g)发电机输出电压: 120 kW频率: 2.4 MHz上轴进料速度: 高达 30 mm/min上部旋转: 高达 30 rpm下轴拉动速度: 最高 30 mm/min下部旋转: 最高 30 rpm尺寸规格高度: 11,550 mm宽度: 3,800 mm深度: 4,050 mm面积(总计): 5,000 x 6,000 mm重量(总计): 约14,000 kg区熔(FZ)技术作为提纯方法为生产高电阻率的超纯硅单晶提供了技术可行性,该技术可应用于高性能电子和半导体技术领域。其另一优点是可以从气相中连续掺入,这使得在整个晶体的电阻率沿长度方向保持一致。因此,几乎可以在整个晶体上均匀地实现所需的电性能。由于电荷载流子的高寿命和极低的氧含量(无坩埚工艺),FZ晶体同样也适用于光伏行业。区熔(FZ)技术作为提纯方法与CZ直拉工艺等竞争方法相比,FZ工艺的优势在于只有紧邻感应线圈的一小部分晶体需要被熔化,无需使用石英坩埚(每炉次耗用一个),可实现高拉速,因此降低了耗材成本的同时也降低了能源成本。此外,无论是从硅还是其他合适的材料中提取的晶体,可以通过多次处理,显著地提高纯度。
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