炮制程度

产品分类：吉致电子抛光垫产品名称：阻尼布抛光垫/碳化硅SIC精抛垫/Politex抛光垫FUJIBO抛光垫替代产品特点：吉致电子抛光垫满足低、中及高硬度材料抛光需求，针对碳化硅SIC抛光的4道工艺制程搭配不同型号抛光垫（粗磨垫/精磨垫/粗抛垫/精抛垫）具有高移除率、高平坦性、低缺陷和高性价比等优势。产品工艺及用途：柔软表面与特殊微孔洞结构，适用于碳化硅SIC衬底、各类晶圆、IC制造等CMP工艺高精细、高平坦化的制程。具有缓冲与晶背保护的效果。吉致电子碳化硅抛光垫价格：吉致电子抛光垫生产引进国外技术，可以媲美进口抛光垫PAD/阻尼布抛光垫产品（Politex/Fujiba/SUBA/环球等国产替代）品质稳定。选择吉致电子抛光垫产品，价格美丽，比进口抛光垫/精抛垫便宜，交货期稳定，性价比更高！

无锡吉致电子25年研发生产——钨抛光液/W CMP Slurry/W 抛光液/半导体研磨液/CMP抛光液/化学机械抛光液/CMP化学机械抛光液slurry/CMP集成电路抛光液钨W抛光液作用: 吉致电子钨W抛光液适用于8-12吋氧化硅镀膜片的抛光。特选粒径均一的SiO2水溶胶为磨料，抛光清洗后晶圆表面粗糙度低、颗粒残留少。与国内外同类产品相比，具有易清洗、表面粗糙度低等特点.我司产品优点： 1.悬浮性好，不易沉淀，使用方便。2.颗粒分散均匀，不团聚，软硬度适中，有效避免抛光过程中由于颗粒团聚导致的工件表面划伤缺陷。3.运用抛光过程中的化学新作用，提高抛光速度，改善抛光表面的质量。4.分散性好、乳液均一，程度提升抛光速率的同时降低微划伤的概率，可以提高抛光精度。5.无粉尘产生，关注环保和人体健康安全。可定制化：我们的抛光液可以根据客户需求定制不同的PH、粒径、浓度、稳定离子等。包裝方式：25KG/桶(也可依客户需求)吉致电子CMP抛光液/Slurry抛光液价格：吉致电子的CMP金属抛光液生产技术是引进国外生产技术和设备，特殊化学配方制备而成。吉致电子抛光液品质可以媲美进口同类产品。本土化生产使吉致电子CMP抛光液产品交货周期快，品质好，抛光液价格实惠亲民。吉致电子CMP抛光耗材适用范围吉致电子科技有限公司拥有成熟的加工工艺，为不锈钢、铜、铝、陶瓷、导光板、五金产品、蓝宝石、光学玻璃等各类抛光加工服务。为您提供可靠有效抛光解决方案！

产品分类：吉致碳化硅研磨抛光半导体晶圆抛光产品名称：碳化硅研磨液/碳化硅抛光液/碳化硅sic研磨垫/sic精抛垫产品特点：吉致针对碳化硅sic抛光的4道工艺制程搭配不同型号研磨液、抛光液和抛光垫（粗磨垫/精磨垫/粗抛垫/精抛垫）。在研磨和抛光应用中提高碳化硅衬底表面质量，同时大大提高材料去除率。产品工艺及用途：适用于sic碳化硅衬底DMP和CMP工艺制程，有效提升效率以及良率，碳化硅抛光液/抛光垫实现国产化替代。吉致sic碳化硅抛光液储存方法：通风，阴凉，干燥的库房，本品需在5-35℃储存，防止阳光直射，零度以下因产生不可再分散结块而失效。吉致cmp抛光液/slurry抛光液价格：吉致的cmp金属抛光液生产技术是引进国外生产技术和设备，特殊化学配方制备而成。吉致抛光液品质可以替代进口同类产品。本土化生产的优势使吉致cmp抛光液产品交货周期快，抛光液价格实惠亲民。吉致cmp抛光耗材适用范围 吉致拥有成熟的加工工艺和生产设备，为不锈钢、铜、铝、陶瓷、导光板、五金产品、蓝宝石、光学玻璃等各类抛光加工服务。为您提供可靠有效的抛光解决方案！

岩石薄片抛光最后一道程序，为薄片上光效果最佳，将岩石薄片抛光至要求厚度时，使用抛光盘对薄片进行上光处理，达到精美程度。

GPC-50A精确磨抛控制仪简称磨抛控制仪，主要用来控制被研磨样品表面的平面度和平行度，使磨抛后的样品具有高的尺寸精度和质量优良的表面状态。磨抛控制仪采用质量优良的不锈钢材料制成，外形美观，制造工艺精湛，主要适用于UNIPOL-802研磨抛光机上。GPC-50A精密磨抛控制仪是工件进行磨抛时不可缺少的精密器具，尤其适用于对表面质量要求高的小尺寸薄片样品，磨抛控制仪专用载样块用螺纹与控制仪相连接，样品采用粘附的形式装卡在载样块上，载样块承载样件直径不大于50mm、厚度不大于10mm。可严格控制被磨样品表面的平行度和平面度，控制准确度高。研磨过程中可搭配数显测厚仪使用，随时观测样品磨削量，尤其适用于表面平行度和平面度及样品厚度要求高的样品研磨使用。产品名称GPC-50A精确磨抛控制仪产品型号GPC-50A安装条件1.本设备要求在海拔1000m以下，温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。2.水：配水源。3.电：无。4.气：无。5.外形尺寸：φ89mm*154mm6.通风装置：需要。主要参数1、载样盘直径：Ø 52mm2、载样盘轴向行程：10mm（分度螺母移动一格，载样盘轴向移动0.025mm）3、数显表精度：0.001mm4、载样盘部分空载压力：500g5、承载样件尺寸：直径≤50mm、厚度≤8mm产品规格尺寸：外径89mm，高154mm标准配件配重砝码（共400g）可选配件配重块（25g、50g）

产品简介屹持光电提供各种规格的离轴抛物镜√ 采用铝膜基片反射镜√ 备有15°、30°、45°、60°或90°的离轴可选√ 可选择铝膜和金膜与标准抛物反射镜的不同之处在于，离轴抛物金属膜反射镜可在特定角度下直射并聚焦入射平行光，并且支持无限远焦点。这些反射镜普遍应用为Schlieren和MTF系统的平行光管，而镀金膜离轴抛物反射镜则用于FLIR测试系统。注意：由于表面粗糙度为175?，因此这种反射镜不适用于需要低散射的可见光和紫外应用。 规格参数：离轴角度15°、30°、45°、60°、90°直径 mm1' ' 、2' ' 、3' ' 、4' ' 直径公差 mm+0.00/-0.38焦距公差 %±1表面形貌 RMS1λ父焦距 PFL mm0.5' ' 、1' ' 、1.5' ' 、2' ' 、3' ' 、4' ' 有效焦距 EFL mm1' ' 、2' ' 、3' ' 、4' ' 、5' ' 、6' ' 、7' ' 、8' ' 表面粗糙程度 (Angstroms)175 RMS衬底铝 6061-T6镀膜保护金膜/铝膜波长范围 um0.7 - 2波长范围 um700 - 2000根据不同波长选择镀膜更多太赫兹元件相关产品 太赫兹透镜 太赫兹偏振片 HDPE 太赫兹线栅偏振片 太赫兹衰减片 太赫兹波片 太赫兹分束镜 太赫兹光谱分光镜 太赫兹棱镜 太赫兹窗片 太赫兹滤波片 太赫兹衰减全反射测试模块

振动筛分仪简介Aodetest（奥德）是国内专业的实验室预处理和粉体测试仪器研发和生产厂家Aode200振动筛分仪是采用电磁驱动为筛分动力的实验室筛分仪。这种高能的电磁驱动动力能使样品产生三维的抛掷运动，当近筛孔颗粒堵住筛孔时会将堵住筛孔的颗粒抛起进行再次筛分，这种方式会以3000-6000次/分钟的频率振动，使得筛分样品能均一分布在整个筛网上做往复的三维抛掷运动。这种以电磁驱动的筛分技术为您的筛分实验提供高能、高效、高负荷性、高分离精度的筛分实验过程，使您在较短的时间便可完成筛分实验。筛分仪免费配有软件，可以与计算机、天平连接，能够对整个筛分实验过程进行自动称量、自动计算。自动对各级筛层筛分结果进行分析和评估。并可将各级筛层的粒度分布生成粒度分布曲线，与激光粒度仪的分析结果进行参照，同时还可以对筛分实验结果进行无限的保存和导出文档。

GPC-100A精确磨抛控制仪简称磨抛控制仪，主要用来控制被研磨样品表面的平面度和平行度，使磨抛后的样品具有高的尺寸精度和质量优良的表面状态。磨抛控制仪采用质量优良的不锈钢材料制成，外形美观，制造工艺精湛，主要适用于UNIPOL-1202、UNIPOL-1502研磨抛光机上，是工件进行磨抛时不可缺少的精密磨抛器具，尤其适用于晶圆样品、表面平行度和平面度要求高的大的圆片状样品的研磨。GPC-100A精确磨抛控制仪专用载样块用螺纹与控制仪进行连接，试样装卡方式为真空吸附，并配有数显厚度测量仪，可实时监测样品减少的厚度，承载样件直径不大于103mm、厚度不大于13mm且具有工艺重复性高的优点。可严格控制被磨样品表面的平行度和平面度，控制准确度高。研磨过程中可搭配数显测厚仪使用，随时观测样品磨削量，尤其适用于表面平行度和平面度及样品厚度要求高的晶圆样品研磨使用。产品名称GPC-100A精确磨抛控制仪产品型号GPC-100A安装条件1.本设备要求在海拔1000m以下，温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。2.水：配水源。3.电：无。4.气：真空泵（0— -0.1MPa）。5.外形尺寸：φ146mm*266mm6.通风装置：需要。主要参数1、载样盘直径：Ø 103mm2、载样盘轴向行程：12mm3、数显表精度：0.001mm4、载样盘可调加载压力：0.1kg-2.1kg5、压力确认仪有效量程：1g-5000g6、样品装卡方式：真空吸附7、承载样件尺寸：直径≤103mm、厚度≤12mm产品规格尺寸：外径146mm，高266mm标准配件1、真空泵2、过滤瓶3、底座4、玻璃片

GPC-80A精确磨抛控制仪简称磨抛控制仪，主要用来控制被研磨样品表面的平面度和平行度，使磨抛后的样品具有高的尺寸精度和质量优良的表面状态。磨抛控制仪采用质量优良的不锈钢材料制成，外形美观，制造工艺精湛，主要应用于UNIPOL-1202、和UNIPOL-802精密研磨抛光机上，是工件进行磨抛时不可缺少的精密器具，尤其适用于地质薄片样品的研磨与抛光。GPC-80A精确磨抛控制仪专用载样块用螺纹与控制仪相连接，样品采用粘附的形式装卡在载样块上，载样块承载样件直径不大于80mm、厚度不大于9mm且具有工艺重复性高的优点。可严格控制被磨样品表面的平行度和平面度，控制准确度高。研磨过程中可搭配数显测厚仪使用，随时观测样品磨削量，尤其适用于表面平行度和平面度及样品厚度要求高的地质薄片样品研磨使用。产品名称GPC-80A精确磨抛控制仪产品型号GPC-80A安装条件1.本设备要求在海拔1000m以下，温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。2.水：配水源。3.电：无。4.气：无。5.外形尺寸：φ117mm*155mm6.通风装置：需要。主要参数1、载样盘直径：Ø 80mm2、载样盘轴向行程：9mm（分度螺母移动一格，载样盘轴向移动0.025mm）3、数显表精度：0.001mm4、载样盘部分空载压力：750g5、承载样件尺寸：直径≤80mm、厚度≤9mm产品规格尺寸：外径117mm，不带配重高155mm，带配重高204mm可选配件配重块（≥50g、≤200g）

Aode-200B电磁振动筛分仪电磁振动筛分仪简介电磁振动筛分仪Aode-200B是丹东奥德仪器生产的一款三维式电磁振动筛分仪，能对多种性质的粉末颗粒进行筛分和分级。广泛用于药典筛分，粗集料筛分，细集料筛分。适合99%粉末颗粒的筛分和分级。仪器使用覆盖行业很广。此款仪器采用了电磁驱动为筛分动力，提高了筛分粉末颗粒的通过率，缩短了筛分时间，提高了筛分效率。仪器配有软件，空筛质量和筛余质量自动上传到软件中，筛分完成后自动生成各级的粒度分布百分比，同时生成粒度分布曲线，是目前国内唯一配有筛分软件的筛分仪。实验结束后可以无限量打印和保存实验记录。电磁振动筛分的原理电磁振动筛分仪是靠电磁铁不断的吸合动铁，迫使底盘随着标准筛一起振动，这个吸合产生的振动频率达到3000次/分钟，它的吸合是做上下运动，会把粉末抛向标准筛网上方，由于重力作用粉末颗粒又回落到标准筛网表面，这样的往复就会形成一个三维抛掷的运动模式。使堵住筛孔的粉末颗粒再次被抛起，落下时又参加了筛分。这种往复式的抛掷振动大大提高了样品的通过率，提高了筛分效率。仪器参数l 电源：220v50hz 400w 5Al 负载：6公斤l 筛分粒径范围：20微米-80毫米l 尺寸：350*200*520l 重量：40公斤l 包装：木箱包装l 筛塔层数:全高12级，半高24级仪器特点l 筛分效率高，时间短，重复性好l 触屏控制，筛分设置一目了然l 筛分的结果由软件分析计算，自动给出各层筛的百分比，自动生成粒度分布曲线。l 可无限量打印和保存实验结果。l 振动方式是电磁驱动。会使样品产生三维抛掷的筛分效果。售后承诺l 提供门到门货物运输，免费进行安装调试和技术培训指导l 仪器质保2年，质保期内免费更换一切配件及运输费用l 24小时在线提供技术服务支持l 接到售后电话2小时内给出解决方案，48小时内解决问题

产品分类：吉致电子抛光垫产品名称：无纺布抛光垫/碳化硅SIC抛光垫/suba800替代产品特点：吉致电子抛光垫满足低、中及高硬度材料抛光需求，针对碳化硅SIC抛光的4道工艺制程搭配不同型号抛光垫（粗磨垫/精磨垫/粗抛垫/精抛垫）具有高移除率、高平坦性、低缺陷和高性价比等优点。产品工艺及用途：特殊纤维结构高耐磨的抛光材料，适用于碳化硅SIC/再生晶圆/各类三五族或二六族等晶圆，如蓝宝石、砷化镓、氮化铝等抛光，也适用于各类衬底、窗口片或玻璃片的高平坦效果。可定制化：标准槽深为抛光垫厚度1/2，可以按客户不同开槽要求定制抛光垫价格：吉致的抛光垫生产引进国外技术，品质可以媲美进口的抛光垫产品。选择吉致电子抛光垫产品，价格比进口抛光垫便宜，交货期稳定，性价比更高！

VWR白色擦布浸泡布擦布浸泡在消毒液中。 可最大程度的抗真菌、细菌和病毒。 用于表面消毒*用于手部的简单消毒 杀死细菌：按照EN 1040和NF T 72-151. NF T 72-171. NF T 72-190 杀死真菌：按照EN 1275 杀死病毒：按照NF T 72-180关于小儿麻痹症、疱疹病毒和腺病毒的规定，以及NF T 72-181关T2, MS2的规定 颜色：白色 * 不代替浸泡槽或消毒槽VWR白色擦布浸泡布规格：长度×宽度包装规格包装规格VWR目录号150×220 mm每个分配器120个120VWRI115-8133

金相制样中试样磨抛工作的目的是去除变形层（深干扰层）露出真实样品并达到光滑平整的观测表面。去除变形层后获得平整光滑无划痕的样品表面叫做样品抛光，通常使用抛光布盘+抛光液/膏/粉来实现。 抛光布轮也是依据样品硬度来选择的，选择适合的抛光布是用来提高抛光效率，节约制样时间的。（不合适的抛光布也可以最终完成抛光，但是会增加抛光的时间和操作的难度。） 产品材质*产品规格*产品价格浸渍增强无纺布抛光布2FC1型,自粘型，200mm 5片/盒7002FC1型,自粘型，250mm 5片/盒9002FC1型,自粘型，300mm 5片/盒1100合成纤维塔夫绸抛光布2TT1型，自粘型，200mm 5片/盒7002TT1型，自粘型，250mm 5片/盒9002TT1型，自粘型，300mm 5片/盒1100超细天然纤维缎编织抛光布2TS3型,自粘型，200mm 5片/盒6002TS3型,自粘型，230mm 5片/盒7002TS3型,自粘型，250mm 5片/盒8002TS3型,自粘型，300mm 5片/盒900超细天然纤维绸编织抛光布2TS4型,自粘型，200mm 5片/盒6002TS4型,自粘型，250mm 5片/盒8002TS4型,自粘型，300mm 5片/盒900高性能金相专用抛光布盘（背胶型）高性能金相专用抛光布盘（背胶型）高性能金相专用抛光布盘（背胶型）3SE2型，自粘型，200mm 5片/盒6003SE2型，自粘型，250mm 5片/盒8003SE2型，自粘型，300mm 5片/盒900高耐磨羊毛编织抛光布3TL1型,自粘型，200mm 5片/盒 7003TL1型,自粘型，250mm 5片/盒 9003TL1型,自粘型，300mm 5片/盒 1100短植绒抛光布3FV1型,自粘型，200mm 5片/盒5003FV1型,自粘型，250mm 5片/盒7003FV1型,自粘型，300mm 5片/盒800长植绒抛光布4FV1型,自粘型，200mm 5片/盒5004FV1型,自粘型，230mm 5片/盒6004FV1型,自粘型，250mm 5片/盒7004FV1型,自粘型，300mm 5片/盒800高性能金相专用抛光布盘（背胶型）高性能金相专用抛光布盘（背胶型）高性能金相专用抛光布盘（背胶型）高性能金相专用抛光布盘（背胶型）4MP1型,自粘型，200mm 5片/盒11004MP1型,自粘型，230mm 5片/盒14004MP1型,自粘型，250mm 5片/盒16004MP1型,自粘型，300mm 5片/盒1900 金相制样中试样磨抛工作的目的是去除变形层（深干扰层）露出真实样品并达到光滑平整的观测表面。去除变形层后获得平整光滑无划痕的样品表面叫做样品抛光，通常使用抛光布盘+抛光液/膏/粉来实现。 抛光布轮也是依据样品硬度来选择的，选择适合的抛光布是用来提高抛光效率，节约制样时间的。（不合适的抛光布也可以最终完成抛光，但是会增加抛光的时间和操作的难度。）抛光过程可以分为初抛和终抛两个过程，初抛会使用浅层强支撑织物来去除去薄或者预抛过程中产生的较深划痕，获取平整的样品表面，终抛会使用深层软支撑来去除剩下的较浅的细微划痕，达成完美光滑观测面。预抛时底部由硬质磨盘支撑，金刚石悬浮液只能磨薄表面接触损伤层并且会产生新的变形层（深干扰层）预抛时底部由软质织物支撑，金刚石悬浮液在消除表面接触损伤层和变形层时不会产生新的变形层（深干扰层）1.抛光布一旦和磨料配伍是很难清洗干净的，如需更换磨料只能向上匹配，如用过3um可使用6um的磨料，但不能在使用1um的磨料.2.抛光布在使用磨料前需要充分润湿，以便磨料颗粒的分散和与纤维空间的结合。a.使用悬浮液的可以用水充分润湿后，甩去浮水开始滴加悬浮液。b.使用抛光膏和抛光喷雾的可以使用具备乳化和悬浮活性的专用润滑稀释液702型（水敏感的使用704型）来润湿，先喷抛光喷雾或者涂抛光膏再喷稀释液润湿。3.抛光布是可以短期内重复使用的，在二次使用前，使用专用润滑稀释液来润湿，可以有效唤醒织物中沉积的磨料重新发挥作用。4.抛光布经过多次使用后会有样品碎屑残留，是需要清洗的，清洗的方法是使用通用复合清洁剂742型或者使用的悬浮液布面用清水，使用抛光膏的用酒精，低转速配合塑料刮片由中心向边缘清洁。

聚氨酯泡沫采样管用途：用于敌敌畏，对硫磷、甲拌磷、溴氰菊酯、氰戊菊酯等的采集 长60mm，内径10mm的玻璃管内，装两段聚氨酯泡沫塑料圆柱，其间间隔2mm，聚氨酯泡沫塑料圆柱高20mm，直径12mm。

聚氨酯泡沫 (PUF) 柱1、聚氨酯泡沫 (PUF) 柱 用于收集的半挥发性物质（农药，多氯联苯，多环芳烃）。2、聚氨酯泡沫 (PUF) 柱 可根据需要选择大体积(220-280 L/min.)或小体积(1-5 L/min.)的PUF小柱3、聚氨酯泡沫 (PUF) 柱 适用于环境、室内空气和工业健康等场合4、聚氨酯泡沫 (PUF) 柱 PUF/XAD-2 “三明治” 式联用，可采集广范围的半挥发性物质。应用方法方法 应用 货号.#EPA TO-10A 有机氯和有机磷农药，氨基甲酸酯 除虫菊酯，三嗪，和尿素农药 22116EPA IP-7 多环芳烃 (PAHs) 22114EPA IP-8 有机氯和有机磷农药，氨基甲酸酯 除虫菊酯，三嗪，和尿素农药 22116ASTM D4861 有机氯和有机磷农药 PCB 22116ASTM D4947 氯丹和七氯 22116Research 农药 22117EPA TO-4A 有机氯农药 PCBs 22114EPA TO-9A 多氯二苯并二恶英类 (PCDDs) 22114EPA TO-13A 多环芳烃(PAHs) 22114EPA 600/8-80-038 有机氯农药, PCBs, PAHs 22115ASTM D6209 多环芳烃(PAHs) 22114

数字气泡流量计珀金埃尔默520型是一种体积流量计。它能在不需调节的情况下测量任何气体或混合气体（如：空气）的流速。流量计配有1个数字显示屏和1个输入按钮。它由不锈钢和经阳极氧化处理的铝制成。本品附带一份校准证书，其准确度为±3%。520型的流速测量范围是0.5 - 500 mL/min。特点和优势：流速为0.5 - 500 mL/min并带有数字显示屏体积流速测定流速测定值的准确度为±3%数字气泡流量计订货信息：产品描述部件编号数字气泡流量计N9302974数字气泡流量计的替换玻璃管N9303429

无锡吉致电子25年研发生产——碳化硅晶圆抛光液/硅衬底SIC抛光液/半导体抛光液/CMP化学机械抛光液/硅衬底抛光液/slurry抛光液产品简介：为电力电子器件及LED用碳化硅晶片的CMP化学机械平坦化配制的抛光液。CMP抛光液大大提高了碳化硅晶圆表面去除率和平坦化性能，提供了非常好的表面光洁度吉致电子碳化硅晶圆Slurry抛光液使用方法：1.可根据抛光操作条件用去离子水进行5-20倍稀释。2.稀释后，粗抛时调节PH11左右，精抛时调节PH9.5左右。pH调节可以用10%的盐酸、醋酸、柠檬酸、KOH或氨水在充分搅拌下慢慢加入。3.循环抛光可以用原液。吉致电子碳化硅晶圆Slurry抛光液储存方法：1.贮存时应避免曝晒，贮存温度为5-35℃2.低于0℃以上储存，防止结冰，在无度以下因产生不可再分散结块而失效。 3.避免敞口长期与空气接触。吉致电子碳化硅晶圆Slurry抛光液价格：吉致电子的碳化硅晶圆抛光液生产技术是引进国外生产技术和设备，特殊化学配方制备而成。吉致电子抛光液品质可以媲美进口同类产品。本土化生产使得吉致电子CMP抛光液产品交货周期快，品质好，抛光液价格亲民。

产品简介屹持光电提供各种规格的离轴抛物镜√ 采用铝膜基片反射镜√ 备有15°、30°、45°、60°或90°的离轴可选√ 可选择铝膜、银膜和金膜与标准抛物反射镜的不同之处在于，离轴抛物金属膜反射镜可在特定角度下直射并聚焦入射平行光，并且支持无限远焦点。这些反射镜普遍应用为Schlieren和MTF系统的平行光管，而镀金膜离轴抛物反射镜则用于FLIR测试系统。注意：由于表面粗糙度为175?，因此这种反射镜不适用于需要低散射的可见光和紫外应用。规格参数： 离轴角度15°、30°、45°、60°、90°直径 mm1' ' 、2' ' 、3' ' 、4' ' 直径公差 mm+0.00/-0.38焦距公差 %±1表面形貌 RMS1λ父焦距 PFL mm0.5' ' 、1' ' 、1.5' ' 、2' ' 、3' ' 、4' ' 有效焦距 EFL mm1' ' 、2' ' 、3' ' 、4' ' 、5' ' 、6' ' 、7' ' 、8' ' 表面粗糙程度 (Angstroms)175 RMS衬底铝 6061-T6镀膜保护金膜/铝膜波长范围 um0.7 - 2波长范围um700 - 2000 离轴抛物面金属反射镜一般为原型，直径就是外形尺寸。1英寸（25.4mm）的离轴反射镜就是采用1英寸的圆柱金属切削加工而成的，2英寸的离轴反射镜底面直径都是2英寸（50.4mm）。离轴抛物面镜的焦距分为父焦距和有效焦距，通常默认的焦距都是指有效焦距，有效焦距通常也是用英寸来定义的，标准品离轴镜的焦距一般为1英寸，2英寸，3英寸，4英寸和6英寸。 离轴角是反映光束通过离轴抛物面镜传播方向的指标，离轴抛物面金属反射镜的离轴角一般为90°，对于离轴角为90°的离轴抛物面镜，准直光束的传播轴应与基底垂直，从而实现理想的聚焦效果。如果进行特殊的设计，也可以设定其它的离轴角。 一般为镀金膜，镀银膜和镀铝膜。也有一些特殊的镀膜，比如紫外增强的铝膜。（如下图所示）带小孔的离轴抛物面镜主要分析激发信号（激光或电子束）和太赫兹波，例如1)需要两束光在空间中共线传播的场合；2)需要让中心光束或电子束不产生反射的场合。这些反射镜的底座带有一个中心小孔，可以让一束光通过该小孔与经过反射镜抛物面反射而聚焦的光束进行共线传播。根据不同波长选择镀膜离轴抛物镜常规型号型号直径（mm）焦距（mm）离轴角度镀膜单价（元）离轴抛物镜MY254-OAP-254-Au25.425.490°保护金膜1500.00离轴抛物镜MY254-OAP-508-Au25.450.890°保护金膜1500.00离轴抛物镜MY254-OAP-762-Au25.476.290°保护金膜1500.00离轴抛物镜MY254-OAP-1016-Au25.4101.690°保护金膜1500.00离轴抛物镜MY508-OAP-508-Au50.850.890°保护金膜2300.00离轴抛物镜MY508-OAP-762-Au50.876.290°保护金膜2300.00离轴抛物镜MY508-OAP-1016-Au50.8101.690°保护金膜2300.00离轴抛物镜MY508-OAP-1524-Au50.8152.490°保护金膜2300.00离轴抛物镜MY508-OAP-2032-Au50.8203.290°保护金膜2300.00离轴抛物镜MY254-OAP-254-Ag25.425.490°保护银膜1450.00离轴抛物镜MY254-OAP-508-Ag25.450.890°保护银膜1450.00离轴抛物镜MY254-OAP-762-Ag25.476.290°保护银膜1450.00离轴抛物镜MY254-OAP-1016-Ag25.4101.690°保护银膜1450.00离轴抛物镜MY508-OAP-508-Ag50.850.890°保护银膜2200.00离轴抛物镜MY508-OAP-762-Ag50.876.290°保护银膜2200.00离轴抛物镜MY508-OAP-1016-Ag50.8101.690°保护银膜2200.00离轴抛物镜MY508-OAP-1524-Ag50.8152.490°保护银膜2200.00离轴抛物镜MY508-OAP-2032-Ag50.8203.290°保护银膜2200.00离轴抛物镜MY254-OAP-254-Al25.425.490°紫外增强铝1450.00离轴抛物镜MY254-OAP-508-Al25.450.890°紫外增强铝1450.00离轴抛物镜MY254-OAP-762-Al25.476.290°紫外增强铝1450.00离轴抛物镜MY254-OAP-1016-Al25.4101.690°紫外增强铝1450.00离轴抛物镜MY508-OAP-508-Al50.850.890°紫外增强铝2200.00离轴抛物镜MY508-OAP-762-Al50.876.290°紫外增强铝2200.00离轴抛物镜MY508-OAP-1016-Al50.8101.690°紫外增强铝2200.00离轴抛物镜MY508-OAP-1524-Al50.8154.290°紫外增强铝2200.00离轴抛物镜MY508-OAP-2032-Al50.8203.290°紫外增强铝2200.001，可根据要求定制更大尺寸的离轴抛物镜 2，可以打8mm-3mm锥形孔，打孔单价加200元每件

Minderheit明德赫 ES Cleaner 消泡剂浓缩液消泡剂-液体浓缩原液。防止泡沫产生。可用于低温小剂量加注。采用乳化硅胶油制成。适用范围 防止在使用全自动清洗机处理时产生泡沫 。适用于医学实验室（血 液检测和血清学实验室）、工业实验室、食品行业和化妆品行业以 及手术部件、实验室玻璃器皿。 特 性 在去除产生泡沫残留物的过程中，防止形成泡沫。基于乳化硅油， 即使在低温下也具有极好的消泡作用。用法用量 用于机械清洗：0.05-0.1ml/L 可使用合适的加液系统或手动添加。

Welchrom® 平头柱也是由外径360&mu m的表面有聚酰亚胺涂层的熔融石英管子制成，只是与纳喷柱相比，没有了喷头（tip）。柱子末端的筛板（frit）是抛光打磨的平头，因而不但确保了与喷针连接的方便性，还在很大程度上降低了峰形拖尾。

美国PE气相色谱数字气泡流量计N9302974　　珀金埃尔默520型是一种体积流量计。它能在不需调节的情况下测量任何气体或混合气体（如：空气）的流速。流量计配有1个数字显示屏和1个输入按钮。它由不锈钢和经阳极氧化处理的铝制成。本品附带一份校准证书，其准确度为±3%。520型的流速测量范围是0.5 - 500 mL/min。特点和优势：流速为0.5 - 500 mL/min并带有数字显示屏体积流速测定流速测定值的准确度为±3%产品描述部件编号数字气泡流量计 N9302974数字气泡流量计的替换玻璃管 N9303429

美国PE气相色谱数字气泡流量计N9302974　　珀金埃尔默520型是一种体积流量计。它能在不需调节的情况下测量任何气体或混合气体（如：空气）的流速。流量计配有1个数字显示屏和1个输入按钮。它由不锈钢和经阳极氧化处理的铝制成。本品附带一份校准证书，其准确度为±3%。520型的流速测量范围是0.5 - 500 mL/min。特点和优势：流速为0.5 - 500 mL/min并带有数字显示屏体积流速测定流速测定值的准确度为±3%产品描述部件编号数字气泡流量计 N9302974数字气泡流量计的替换玻璃管 N9303429

美国PE气相色谱数字气泡流量计N9302974　　珀金埃尔默520型是一种体积流量计。它能在不需调节的情况下测量任何气体或混合气体（如：空气）的流速。流量计配有1个数字显示屏和1个输入按钮。它由不锈钢和经阳极氧化处理的铝制成。本品附带一份校准证书，其准确度为±3%。520型的流速测量范围是0.5 - 500 mL/min。特点和优势：流速为0.5 - 500 mL/min并带有数字显示屏体积流速测定流速测定值的准确度为±3%产品描述部件编号数字气泡流量计 N9302974数字气泡流量计的替换玻璃管 N9303429

美国PE气相色谱数字气泡流量计N9302974　　珀金埃尔默520型是一种体积流量计。它能在不需调节的情况下测量任何气体或混合气体（如：空气）的流速。流量计配有1个数字显示屏和1个输入按钮。它由不锈钢和经阳极氧化处理的铝制成。本品附带一份校准证书，其准确度为±3%。520型的流速测量范围是0.5 - 500 mL/min。特点和优势：流速为0.5 - 500 mL/min并带有数字显示屏体积流速测定流速测定值的准确度为±3%产品描述部件编号数字气泡流量计 N9302974数字气泡流量计的替换玻璃管 N9303429

黄色聚氨酯抛光垫分为平面型和沟槽型两种，用于粗抛各种材料。技术参数直径Φ70mm（无沟槽型）、Φ203mm、Φ250mm、Φ300mm、Φ320mm、Φ381mm

胶带分配器由金属制成，具有翻转式顶盖和底部吸盘，以提供额外保护。最多可容纳229 mm的多卷磁带和标签卷，带25.4 mm的磁芯说明宽度×深度×高度包装规格VWR目录号Multi roll dispenser251×114×86 mm1VWRU89097-896

聚四氟乙烯气体吸收瓶聚四氟乙烯吸收瓶是采用特氟龙材质PTFE（聚四氟乙烯）塑料制成，主要是替代玻璃吸收瓶，避免氟化氢和氢氟酸的腐蚀，利用溶液吸收法采集大气中污染物，采集大气中的某种污染成分，在吸收瓶中装入氟化氢或者氢氟酸溶液，气体通过吸收液时，待测污染物被吸收，经分析测定可确定大气中该污染物的浓度。吸收瓶的最主要的性能指标是在充装一定量的吸收液条件下，它的最适宜的采样流量、吸收效率和阻力降。常用的吸收瓶有多孔玻板吸收、气泡吸收、冲击式吸收等不同的结构形式。目前75ml气泡吸收瓶是HJ688-2019固定污染源废气氟化氢的测定离子色谱法最常用的吸收瓶。一、聚四氟乙烯气泡吸收瓶聚四氟乙烯气泡吸收瓶固定污染源氟化氢测定产品特点：1、产品规格：75ml 颜色分为透明和不透明2、防污染：金属元素空白值低，金属杂质低3、耐高低温性：可使用温度-200℃～＋250℃。4、可带滤球，滤球上的微孔直径细小，数量居多，确保通过滤球洗气的气体能够满足清洗的标准；5、有化学耐受性，可耐受所有的化学溶剂（王水，氢氟酸、硫酸、魔酸、丙酮、醇类等等）6、根据HJ688-2019固定污染源废气氟化氢的测定离子色谱法提到的最少要2只75ml的气泡吸收瓶链接，串联两支各装 50 ml 吸收液的 75ml 气泡吸收瓶，与烟气采样器连接，按照气态污染物采集方法，以 0.5 L/min～1.0 L/min 的流量在 1 小时内以等时间间隔采样 3 个～4 个样品或连续 1 小时采集样品。二、聚四氟乙烯氯化氢采样滤膜夹滤膜夹一般用于环境检测HJ549-2016标准里的氯化氢，采样用，采样时将滤膜夹在滤膜夹中，串联在两支冲击式吸收瓶并与空气采样器连接。环境空气布点及采样应符合HJ664和HJ/T194中的相关规定。在采样时将滤膜夹至滤膜夹内，然后串联两支各装10ml水作为吸收液的25ml冲击式吸收瓶，与空气采样器连接，以0.5L/min~1.0L/min的采样流量，至少采集45min，采样前后流量偏差应≤5%，也符合HJ688-2019固定污染源废气氟化氢采样装置的示意图

产品名称：铜抛光液/合金铜抛光液/铜表面抛光液/金属研磨液/镜面抛光液合金铜CMP抛光液作用:吉致电子金属类抛光液适用于平面形态的铜、合金铜工件的镜面抛光，CMP抛光工序通过大量磨擦和化学反应作用，可以使铜金属表面得到加工和平整坦化。化学氧化铜金属后磨蚀性去除氧化物部分的机制可得到理想镜面效果，工件表面光滑平整具有易清洗、无残留等特点。吉致可提供铜/合金铜金属的镜面抛光液1、微米/纳米级抛光液，抛光后具有均匀镜面效果2、磨料颗粒呈悬浮状态，不易分散沉淀，提高CMP效率和稳定性3、铜专用抛光液磨料硬度高、稳定性好、化学惰性强*可以依客户不同工艺要求，提供定制化服务*提供全套解决方案，及免费安排工程师上门服务李女士17706168670

产品名称：钼抛光液/金属钼抛光/激光反射镜抛光液/CMP研磨液/镜面抛光液金属钼片抛光液作用:吉致电子金属类抛光液适用于平面形态的钼、钼合金工件的镜面抛光，CMP抛光工序通过大量磨擦和化学反应作用，可以使钼金属表面快速去粗和平整坦化。化学氧化腐蚀钼合金表面，研磨去除氧化物部分的机制可得到理想镜面效果，金属钼工件表面光滑平整具有易清洗、无残留等特点。吉致可提供钼片/金属钼的镜面抛光液1、微米/纳米级抛光液，抛光后具有均匀镜面效果2、磨料颗粒呈悬浮状态，不易分散沉淀，提高CMP效率和稳定性3、钼片专用抛光液磨料硬度高、稳定性好、化学惰性强，吉致电子金属钼抛光液可用于钢铁、化工、电子、航天、光学领域的钼片加工，达到优良的表面平坦度，抛光速率快、表面均一无缺陷。*可以依客户不同工艺要求，提供定制化服务*提供全套解决方案，及免费安排工程师上门服务

如果您的实验对于流体中气体溶解问题存在较高要求，这种过滤器将会是您的理想选择。鼓泡器由2μm孔隙直径的多孔不锈钢制成，最大吹气流量为400mL/min。接头主体材质为316型不锈钢，管适配器材质为PTFE，接头及接头适配器材质为PEEK，压环材质为ETFE。