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抛光鉴定

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抛光鉴定相关的耗材

  • 蔡康光学 金相耗材-金相抛光剂 金刚石抛光剂 金相抛光粉
    高效金刚石金相抛光剂采用优质的金刚石微粉,以独特的介质与助剂,融物理与化学作用于一体研制而成;粒度分布均匀,颗粒形貌呈球形八面体,故研磨效果好、不易产生划痕;硬度极高,刃口尖锐锋利,对硬软材料都有良好的研磨作用,只产生研磨作用而无滚压,不产生扰乱层; 主要用于机械研磨、抛光硬质合金、合金钢、高碳钢等高硬材料制件以及金相和岩相试样的精研等。使用方法01. 使用前抛光织物需用清水湿透,避免磨擦热。 02. 启动抛光盘后将抛光剂轻摇后倒置喷出。 03. 喷撒抛光剂时,应以抛光盘中心为圆心,沿半径方向喷出3--5s即可。 04. 新织物喷撒时间相应延长,以使织物的磨削能力更完美。粒度:W0.25、W0.5、W1、W1.5、W2.5、W3.5、W5、W7、W10、W14、W20、 W28、W40包装:每罐250克、350毫升。附注:W为微米μm,国际通用标准。
  • 蔡康光学 金相耗材-金相组织抛光布 抛光布
    金相抛光布是金相制抛光工序最重要的一步,其金相组织呈现的清晰度与抛光息息相关,抛光质量的好坏与抛光布也有紧密的关系。金相抛光布规格有φ200mm;φ220mm;φ230mm;φ250mm及其它定制规格;带背胶或不带背胶。金相抛光布规格有:帆布、平绒、丝绒、真丝、丝绸、呢绒、法兰绒、精抛绒等。
  • 金相抛光布(金相磨抛机用)
    抛光布简介一、产品特点: 抛光布是专门用于金相制样时的粗抛和精抛。适用国内、外各种型号、规格的金相抛光机,尤其适用于半自动或全自动金相抛光机。金相抛光织物系列由抛光层、存储磨料层、保护层等多层组成,其中最重要的一层是真正用于抛光的抛光织物层。该层精选了高强度的、不同绒毛长度和布纹的、适合于金相抛光用的织物为材料。从而使本抛光织物具有优良的抛光效果和较长的使用寿命。二、抛光布直径及匹配的磨抛机: Φ200mm带胶抛光布→适用于磨盘直径200mm的磨抛机; Φ230mm带胶抛光布→适用于磨盘直径230mm的磨抛机; Φ250mm带胶抛光布→适用于磨盘直径250mm的磨抛机。 三、抛光布种类:
  • 抛光布
    专用于岩石薄片抛光时使用、其配合抛光料一齐应用效果更佳,抛光布质地结实、外表美观大方,结实耐用,适用于各种岩石薄片制备时使用,一包10张,各种尺寸抛光布:分常规性、粘贴性、磁吸性。直径有Q200、Q250、Q300
  • AKO抛光膏(WENOL抛光膏)
    AKO金属抛光膏不含硅树脂,适于清洁EM零件。AKO在工业领域和家用等领域也得到了广泛地使用,如挤出机,滚筒等工业机械部件。AKO金属抛光膏可以用来抛光和保养基本上所有材料的金属部件,如不锈钢、镀铬、铝、铜、黄铜、银(不使用油漆或电镀金属上)。 Wenol金属抛光膏适用于抛光所有的金属表面。欢迎登陆海德公司网站或来电获取详细信息。 订购信息:货号产品名称规格71830AKO Metal Polish,AKO金属抛光膏100ml71832Wenol Metal Polish,WENOL金属抛光膏100ml
  • 金相抛光布
    金相抛光织物适用于各种金相试样及仪器、仪表等零件的精密抛光。精抛后能达到光洁度▽8-▽12。选对抛光织物与相对应的磨料粒度对称,是抛出理想光洁度的关键。抛光织物由抛光层、存储磨料层、保护层等多层组成,其中最重要的一层是真正用于抛光的抛光织物层。该层精选了高强度的、不同绒毛长度和布纹的、适合于金相抛光用的优质织物为材料。
  • 金相抛光布
    进口抛光布-背胶 品种多样,便于选择。选择合适的抛光布是非常关键的一步, 新一代抛光布更专业、更耐用和具有更好的制样效果。 本产品广泛应用于国内外各种金相抛光,适用范围广国产抛光布-背胶 品种多样,便于选择。选择合适的抛光布是非常关键的一步,新一代抛光布更专业、 更耐用和更好的制样效果。本产品广泛应用于国内外各种金相抛光,适用范围广。
  • 吉致电子JEEZ阻尼布抛光垫/碳化硅精抛垫/Politex抛光垫FUJIBO抛光垫替代/绒面抛光垫
    产品分类:吉致电子抛光垫产品名称:阻尼布抛光垫/碳化硅SIC精抛垫/Politex抛光垫FUJIBO抛光垫替代产品特点:吉致电子抛光垫满足低、中及高硬度材料抛光需求,针对碳化硅SIC抛光的4道工艺制程搭配不同型号抛光垫(粗磨垫/精磨垫/粗抛垫/精抛垫)具有高移除率、高平坦性、低缺陷和高性价比等优势。产品工艺及用途:柔软表面与特殊微孔洞结构,适用于碳化硅SIC衬底、各类晶圆、IC制造等CMP工艺高精细、高平坦化的制程。具有缓冲与晶背保护的效果。吉致电子碳化硅抛光垫价格:吉致电子抛光垫生产引进国外技术,可以媲美进口抛光垫PAD/阻尼布抛光垫产品(Politex/Fujiba/SUBA/环球等国产替代)品质稳定。选择吉致电子抛光垫产品,价格美丽,比进口抛光垫/精抛垫便宜,交货期稳定,性价比更高!
  • 悬浮抛光液
    悬浮抛光液包括金刚石悬浮抛光液、二氧化硅悬浮抛光液、氧化铝悬浮抛光液。主要特点1、金刚石悬浮抛光液适用于氧化镁、氧化锆、铌酸锂、钛酸锶、钽酸锂及各种有色、黑色金属的最后精抛。2、二氧化硅悬浮抛光液适用于砷化镓、磷化镓、单晶硅片、陶瓷、黑色金属及各种有色金属的最后精抛。技术参数1、金刚石悬浮抛光液粒度:W0.25、W0.5、W1、W1.5、W2、W3、W5、W7、W9、W14、W20、W28、W40、W602、二氧化硅悬浮抛光液粒度:50nm3、氧化铝悬浮抛光液粒度:50nm、80nm
  • 吉致电子JEEZ碳化硅晶圆抛光液 硅衬底抛光液 slurry抛光液
    无锡吉致电子25年研发生产——碳化硅晶圆抛光液/硅衬底SIC抛光液/半导体抛光液/CMP化学机械抛光液/硅衬底抛光液/slurry抛光液产品简介:为电力电子器件及LED用碳化硅晶片的CMP化学机械平坦化配制的抛光液。CMP抛光液大大提高了碳化硅晶圆表面去除率和平坦化性能,提供了非常好的表面光洁度吉致电子碳化硅晶圆Slurry抛光液使用方法:1.可根据抛光操作条件用去离子水进行5-20倍稀释。2.稀释后,粗抛时调节PH11左右,精抛时调节PH9.5左右。pH调节可以用10%的盐酸、醋酸、柠檬酸、KOH或氨水在充分搅拌下慢慢加入。3.循环抛光可以用原液。吉致电子碳化硅晶圆Slurry抛光液储存方法:1.贮存时应避免曝晒,贮存温度为5-35℃2.低于0℃以上储存,防止结冰,在无度以下因产生不可再分散结块而失效。 3.避免敞口长期与空气接触。吉致电子碳化硅晶圆Slurry抛光液价格:吉致电子的碳化硅晶圆抛光液生产技术是引进国外生产技术和设备,特殊化学配方制备而成。吉致电子抛光液品质可以媲美进口同类产品。本土化生产使得吉致电子CMP抛光液产品交货周期快,品质好,抛光液价格亲民。
  • 吉致电子JEEZ铜抛光液/合金铜抛光液/铜表面抛光液/金属研磨液/镜面抛光液
    产品名称:铜抛光液/合金铜抛光液/铜表面抛光液/金属研磨液/镜面抛光液合金铜CMP抛光液作用:吉致电子金属类抛光液适用于平面形态的铜、合金铜工件的镜面抛光,CMP抛光工序通过大量磨擦和化学反应作用,可以使铜金属表面得到加工和平整坦化。化学氧化铜金属后磨蚀性去除氧化物部分的机制可得到理想镜面效果,工件表面光滑平整具有易清洗、无残留等特点。吉致可提供铜/合金铜金属的镜面抛光液1、微米/纳米级抛光液,抛光后具有均匀镜面效果2、磨料颗粒呈悬浮状态,不易分散沉淀,提高CMP效率和稳定性3、铜专用抛光液磨料硬度高、稳定性好、化学惰性强*可以依客户不同工艺要求,提供定制化服务*提供全套解决方案,及免费安排工程师上门服务李女士17706168670
  • 悬浮抛光液
    悬浮抛光液包括金刚石悬浮抛光液、二氧化硅悬浮抛光液、氧化铝悬浮抛光液。金刚石悬浮抛光液适用于氧化镁、氧化锆、铌酸锂、钛酸锶、钽酸锂及各种有色、黑色金属的精抛。二氧化硅悬浮抛光液适用于砷化镓、磷化镓、单晶硅片、陶瓷、黑色金属及各种有色金属的精抛。氧化铝抛光液主要用于透明陶瓷材料的抛光,也可用于其它材料的抛光,抛光过程中根据被抛光材料的不同选用适合的抛光液进行抛光,悬浮抛光液以液态形式存在,可均匀分布于抛光盘的表面,有利于抛光过程的顺利进行。 产品名称金刚石悬浮抛光液、二氧化硅悬浮抛光液、氧化铝悬浮抛光液主要特点1、金刚石悬浮抛光液适用于氧化镁、氧化锆、铌酸锂、钛酸锶、钽酸锂及各种有色、黑色金属的精抛。2、二氧化硅悬浮抛光液适用于砷化镓、磷化镓、单晶硅片、陶瓷、黑色金属及各种有色金属的精抛。3、氧化铝抛光液主要用于透明陶瓷材料的抛光,也可用于其它材料的抛光。产品参数1、金刚石悬浮抛光液粒度:W0.25、W0.5、W1.0、W1.5、W2.5、W3.0、W3.5、W5.0、W7.0、W9.02、二氧化硅悬浮抛光液粒度:50nm 3、氧化铝悬浮抛光液粒度:50nm、80nm
  • 吉致电子JEEZ钼抛光液/金属钼抛光/激光反射镜抛光液/CMP研磨液/镜面抛光液
    产品名称:钼抛光液/金属钼抛光/激光反射镜抛光液/CMP研磨液/镜面抛光液金属钼片抛光液作用:吉致电子金属类抛光液适用于平面形态的钼、钼合金工件的镜面抛光,CMP抛光工序通过大量磨擦和化学反应作用,可以使钼金属表面快速去粗和平整坦化。化学氧化腐蚀钼合金表面,研磨去除氧化物部分的机制可得到理想镜面效果,金属钼工件表面光滑平整具有易清洗、无残留等特点。吉致可提供钼片/金属钼的镜面抛光液1、微米/纳米级抛光液,抛光后具有均匀镜面效果2、磨料颗粒呈悬浮状态,不易分散沉淀,提高CMP效率和稳定性3、钼片专用抛光液磨料硬度高、稳定性好、化学惰性强,吉致电子金属钼抛光液可用于钢铁、化工、电子、航天、光学领域的钼片加工,达到优良的表面平坦度,抛光速率快、表面均一无缺陷。*可以依客户不同工艺要求,提供定制化服务*提供全套解决方案,及免费安排工程师上门服务
  • 抛光布
    磨光用抛光布:与金刚石悬浮液配合使用、材料去除率高、边缘保护好。 抛光用抛光布:与氧化物悬浮液配合使用,无材料去除、表面应力划痕去除。
  • UNIPOL抛光膏
    UNIPOL抛光膏配方与WenolL抛光膏相似,被广泛用于电镜、离子束系统、真空镀膜系统、衬底及日常的实验室应用。UNIPOL抛光膏配方对于硬金属(如不锈钢、镀铬表面)均能得到满意效果,UNIPOL抛光膏亦适用于清洁抛光控制电极。UNIPOL抛光膏为油基、不含硅脂,溶解大多数碳氢化合物。不建议UNIPOL抛光膏应用于铝等软金属。
  • UNIPOL抛光膏
    UNIPOL抛光膏配方与WenolL抛光膏相似,被广泛用于电镜、离子束系统、真空镀膜系统、衬底及日常的实验室应用。UNIPOL抛光膏配方对于硬金属(如不锈钢、镀铬表面)均能得到满意效果,UNIPOL抛光膏亦适用于清洁抛光控制电极。UNIPOL抛光膏为油基、不含硅脂,溶解大多数碳氢化合物。不建议UNIPOL抛光膏应用于铝等软金属。
  • 电极抛光材料
    抛光材料为美国标乐公司抛光材料一瓶1.0 um - 氧化铝粉,一瓶0.3 um -氧化铝粉,1大瓶 0.05 um -氧化铝粉,2块固定抛光布用的玻璃板,5片73mm直径1200金相砂纸(灰色),5片73mm直径尼龙抛光布(白色)和10片73mm直径Microcloth抛光布(咖啡色)。
  • 金属抛光膏
    AKO金属抛光膏不含硅树脂,适于清洁EM零件。AKO在工业领域和家用等领域也得到了广泛地使用,如挤出机,滚筒等工业机械部件。AKO金属抛光膏可以用来抛光和保养基本上所有材料的金属部件,如不锈钢、镀铬、铝、铜、黄铜、银(不使用油漆或电镀金属上)。 Wenol金属抛光膏适用于抛光所有的金属表面。欢迎登陆海德公司网站或来电获取详细信息。 订购信息:货号产品名称规格71830AKO Metal Polish,AKO金属抛光膏100ml71832Wenol Metal Polish,WENOL金属抛光膏100ml
  • 窗片抛光工具
    使用Specac窗片抛光工具包让您的窗片保持最佳状态! 窗片抛光工具包包含了所有清理和抛光红外传输窗片必不可少的工具和材料。 简单的抛光既有效又经济。 包括完整说明和所有易损件的更换。 订购信息 04000:窗片抛光工具套件 窗片抛光工具包括下面列出的项目(每个项目可单独订购) 04030:光学平台(玻璃平板) 04070:玻璃抛光圈抛光绒布 04010:抛光绒布(5片) 04020:平滑圈研磨纸 04090:备用研磨纸(平滑圈用) 04040:聚乙烯瓶(2支) 04050:清洁海绵 04060:红铁粉(75g) 04080:非粘性绒布平条(2片) 04095:毛刷(2把)
  • Struers 抛光布
    为消除变形并获得高反射表面,需要具有不同弹力的不同磨料和抛光布。使用与设备配套的 Struers 耗材是确保优异抛光性能的理想方式。这是因为每种机器和耗材被设计成适于配合使用,以控制抛光过程的所有参数,从而帮助您充分利用您的投资。 抛光布、金刚砂粒度和润滑剂的选择取决于要抛光的材料。无论您对氧化物抛光还是金刚砂抛光感兴趣,Struers始终能够满足您的需求。 DiaPro是专为实现超高性能和效率而开发的一系列金刚石悬浮液,可将制备时间平均缩短30%。每种DiaPro悬浮液针对特定表面开发并且经过优化,可提供出色的平整度、边缘保护和再现性。 只有Struers耗材才能充分发挥Struers设备的优势。
  • 电极抛光材料
    名称型号规格价格(元) 电极抛光材料(美国进口) 120抛光材料整套9001.0微米抛光粉(4.5g)1000.3微米抛光粉(4.5g)1000.05微米抛光粉(17g)150抛光绒布(张)40尼龙抛光布(张)40金相砂纸(张)15
  • 金属抛光膏
    Wenol金属抛光膏广泛应用于电镜、离子束系统、真空镀膜系统及日常的实验室应用。Wenol为油基,不含硅脂,载液可溶解大多数碳氢化合物;用于清洁抛光如不锈钢等硬金属表面,不建议用于铝等软金属。
  • 电极抛光材料
    电极抛光材料 提供: 一小瓶的0.05 μm氧化铝粉,一小瓶0.3 μm氧化铝粉,一小瓶1.0 μm氧化铝粉,1张直径200mm的尼龙抛光布(白色),1张直径200mm的绒面抛光布(咖啡色),1张直径200mm 1200目-4000 # 金相砂纸(灰色)
  • Pikal专业抛光膏
    Pikal已有近100年生产历史了,在清洁抛光方面负有盛名,应用包括:机械零件抛光、表面修整、精抛光等制造领域,电镜、真空设备等清洁 精密机械抛光 薄膜沉积及薄膜研究基底的抛光与清洁 医疗设备表面清洁
  • 金属抛光膏
    Wenol金属抛光膏广泛应用于电镜、离子束系统、真空镀膜系统及日常的实验室应用。Wenol为油基,不含硅脂,载液可溶解大多数碳氢化合物;用于清洁抛光如不锈钢等硬金属表面,不建议用于铝等软金属。
  • Unipol金属抛光膏
    UNIPO金属抛光膏的配方与Wenol金属抛光膏相似, UNIPO金属抛光膏被广泛用于电镜、离子束系统、真空镀膜系统、衬底及日常的实验室应用。 UNIPO金属抛光膏的配方对于硬金属(如不锈钢、镀铬表面)均能得到满意效果, UNIPO金属抛光膏亦适用于清洁抛光控制电极。 UNIPO金属抛光膏为油基、不含硅脂,溶解大多数碳氢化合物。不建议 UNIPO金属抛光膏应用于铝等软金属
  • Unipol金属抛光膏
    UNIPO金属抛光膏的配方与Wenol金属抛光膏相似, UNIPO金属抛光膏被广泛用于电镜、离子束系统、真空镀膜系统、衬底及日常的实验室应用。 UNIPO金属抛光膏的配方对于硬金属(如不锈钢、镀铬表面)均能得到满意效果, UNIPO金属抛光膏亦适用于清洁抛光控制电极。 UNIPO金属抛光膏为油基、不含硅脂,溶解大多数碳氢化合物。不建议 UNIPO金属抛光膏应用于铝等软金属
  • 用量计量型抛光膏
    *产品名称*品牌*产品规格*产品价格用量计量型抛光膏德国古莎6MMe 10g/支900用量计量型抛光膏德国古莎3MMe 10g/支800用量计量型抛光膏德国古莎3MMe 10g/支700用量计量型抛光膏德国古莎1/4MMe 10g/支600 对于水敏感材质的高效抛光,抛光膏是一个常见选择,根据对水接触的控制要求可以使用702型或者704型润滑冷却剂配套使用。 122型抛光膏可适配全品类预抛光盘和抛光布,磨料含量高,亦分散,好计量,易清洗。 M型用量计量型抛光膏规格颜色粒度原料:单晶高效型金刚石磨料9-122型红色膏体9μm适合高硬度和超高硬度样品材质的试样的预抛光和初抛6-122型黄色膏体6μm适合硬度高难平整或者有韧性特点的样品材质试样的预抛光和初抛3-122型绿色膏体3μm适合需要完美保边和保存夹杂物的制样要求,达成优秀的平整表面的初抛1-122型蓝色膏体1μm适合硬度高难平整或者有韧性特点的样品材质试样的最终抛光0.25-122型灰色膏体0.25μm适用于中硬度的最终抛光
  • 晶体抛光工具包 51001188
    晶体抛光工具包起雾的窗片可通过红外光谱晶体抛光工具包而快速复原。该工具包可提供用于对氯化钠、溴化钾或碘化铯窗片进行重新抛光所需的各种部件,具体包括1个磨光盘、抛光用红铁粉、1块海绵、1个光学平整器、1块Selvyt布和1本用来说明再抛光步骤的小册子。晶体抛光工具包订货信息:产品描述部件编号晶体抛光工具包51001188晶体抛光工具包的替换部件产品描述部件编号Selvyt布(5件装)51001324玻璃磨盘51001325光学抛光器51001326清洁海绵(2块装)51001327装在锡罐中的抛光用红铁粉(56 g)51001328抛光器的玻璃板51001329
  • Pikal专业抛光膏
    Pikal已有近100年生产历史了,在清洁抛光方面负有盛名,应用包括:机械零件抛光、表面修整、精抛光等制造领域,电镜、真空设备等清洁 精密机械抛光 薄膜沉积及薄膜研究基底的抛光与清洁 医疗设备表面清洁
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