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纳米钛酸镁

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  • (一).机种昵称:纳米碳酸钙研磨混合机,制药研磨混合机,纳米研磨混合机,超研磨混合机,线路式研磨混合机,Ⅲ级研磨混合机,高剪切研磨混合机。(二).研磨机:机种19类,流动50一8万千克/60分钟,运行1千1一1万4rpm/min,线速度23一44M/秒钟,电辊耗量1.5一160KW,磨头胶体磨和锥体磨。三.研磨分散机:机型6款,处理量50到6*1000KG/小时,旋转1100到9*1000转/分钟,线速度23m/秒,电滚功耗2.2到150kW,磨头胶体磨。四.小型分散乳化机:机型30款,处理量0.2克到10KG/小时,旋转50到3*10000转/分钟,线速度3到33m/秒,电滚功耗0.3到0.8kW。五.真空分散乳化机:机型32款,处理量5到2*10000KG/小时,旋转14到1.4*10000转/分钟,线速度44m/秒,电滚功耗0.18到120kW。六.均质匀浆机:机型4款,处理量0.2到150克/小时,旋转3500到8*1000转/分钟,线速度3到10m/秒,电滚功耗0.145到0.18kW。七.多效用分散乳化均质机:机型27款,处理量150到12.5*10000KG/小时,旋转960到1.4*10000转/分钟,线速度10到44m/秒,电滚功耗1.5到160kW。八.混合机:机型I6款,处理量300到12.5*10000KG/小时,旋转1100到9*1000转/分钟,线速度20到23m/秒,电滚功耗1.5到160kW。九.实用物料种类:胶粘溶胶,巨粒子固态液体悬空液乳剂,不包溶等。十.终级粒径:主腔内有叁组定转子,每组粗齿、中齿、细齿、超细齿。调动定转子间隙,加工后地终级粒径在10微纳米之下。十一.胚料配件:百分之八十以上进ロ海内外公司。十二.技艺出处:引荐德国技艺,立发明加工,备有专利。十三.工作方式:有在线式,批次式,内外循环式,水管式,可倒式,若干效用式。十四.机型合成:靠预加工锅、搅动锅、泵、液压系统、倒料系统、电力调动系统、主腔等部件合成。十五.智力化:CIP冲洗系统,液压升降松盖,包括配料给料吸料安装。十六.磨头好处:研磨头可调5款模版,6款分散头,20多款工作头。十七.锥磨好处:锥磨转子外层包含金属碳化物跟不一样粒子地陶瓷镀层等高上材料,提防毁伤腐蚀。十八.机型材料:统统接碰物料地材料皆是进口耐酸钢,主腔跟管路内乃亮面抛光三百EMSH(卫生级),无死角。十九.密封好处:博格曼双机械密封,液压平稳系统(可以担当16atm重压),软密封。二十.搅动方式:可挑刮壁式/锚固式/融解式/叶面式。二十一.机型好处:机型采选上层同轴三重装搅动器,循环管路,出水阀。二十二.操控箱好处:不但可以操控电滚旋转,摄氏度降温升温(经历电能,热汽,油水循环,可以担当-40到250摄氏度),重压,PH度,粘性。且可以设定不一样效用模版,呈现相称地个个参数,可以线性扩大量产。二十三.可以抉择:察看窗,硅氟酸玻璃察看,电导率计,二重绝缘以防,稳固夹,工作架,底座,图谱剖析多效用显微硬度器(测试界限1到4千HV),管路式测试电炉(测试界限zui高1350度),输出泵/转子泵/气动隔膜泵/锚固泵/离心泵(处理量850到4.3*10000KG/小时),反应搅动单罐/组合罐(500到3*1000KG/小时),反渗透/全自动纯水安装(0.5到3*1000KG/小时),臭氧发生器,过流式紫外线消菌器等。二十四.另外好处:成套容积小,功耗低,噪声低,可以每天不停加工。二十五.顾客垂问:依据顾客实情需求正确抉择!另外可以定制非标和生产线!假诺是特别工况,好比极温,极压,易燃易爆,腐蚀性,可以机型升级!二十六.物料测量:获得顾客物料后赶紧开始测试,看能否达到要求跟回答测试经过跟成效。二十七.方案价钱:决定好机型效用后赶紧策划方案,包括平面布置图,总组装加工线示意图,三维成效图,跟奉上对应地价钱列表!二十八.结语:我们是加工公司,详情可以公司查看,因而格外恭迎顾客来访问跟且进一步会谈!以上内容不准仿照,非常感恩!扩展内容可不看:纳米碳酸钙又称超细碳酸钙。标准名称为超细碳酸钙。纳米碳酸钙应用成熟的行业是塑料行业,主要用于塑料制品。 可改善塑料母粒的流变性,提高其成型性。用作塑料填料,具有增韧补强的作用,提高塑料的弯曲强度和弯曲弹性模量、热变形温度和尺寸稳定性,同时赋予塑料热滞后性。用于油墨产品的纳米碳酸钙具有的分散性和透明度以及的光泽度,以及的吸墨性和高干燥性。纳米碳酸钙在树脂油墨中用作油墨填料,稳定性好,光泽度高,不影响印刷油墨的干燥性能。适应性强等优点。纳米碳酸钙是1980年代发展起来的一种新型超细固体粉末材料,其粒径在0.01~0.1μm之间。由于纳米碳酸钙颗粒的超细化,其晶体结构和表面电子结构发生变化,产生普通碳酸钙不具备的量子尺寸效应、小尺寸效应、表面效应和宏观量子效应。
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  • 一、纳米碳酸钙水分检测仪,钙粉水分仪纳米碳酸钙水分检测仪,钙粉水分仪是一种新型快速水分检测仪器。水分测定仪在测量样品重量的同时,特制加热单元和水分蒸发通道快速干燥样品,在干燥过程中,水分仪持续测量并即时显示样品丢失的水分含量%,干燥程序完成后,终测定的水分含量值被锁定显示。与国际烘箱加热法相比,特制加热可以短时间内达到加热功率,在高温下样品快速被干燥,其检测结果与国标烘箱法具有良好的一致性,具有可替代性,且检测效率远远高于烘箱法。一般样品只需几分钟即可完成测定。 二、纳米碳酸钙水分检测仪,钙粉水分仪技术参数:1、称重范围:0-90g可调试测试空间为3cm2、水分测定范围:0.01-**3、 净重:3.7KgJK称重系统传感器4、样品质量:0.5-90g5、加热温度范围:起始-250℃加热方式:应变式混合气体加热器微调自动补偿温度15℃6、水分可读性:0.01%7、显示7种参数:水分示值,样品初值,样品终值,测定时间,温度初值,终值,恒重值红色数码管独立显示模式8、双重通讯接口:RS 232(打印机)RS232(计算机)9、外型尺寸:380×205×325(mm)10、电源:220V±10%/110V±10%(可选)11、频率:50Hz±1Hz/60Hz±1Hz(可选)三、纳米碳酸钙水分检测仪,钙粉水分仪操作步骤1. 开机:接通电源,打开仪器后部的电源开关;2. 自检:重量显示窗显示“0”,稳定显示窗显示初始值,一般是室温(40℃以下);   3. 预热:开机预热30分钟,经预热后测定的数据真实有效   4. 放样:打开加热装置,放入样品,合上加热装置,待重量显示稳定20秒;   5. 按测试键,等待仪器自己加热;   6. 等到报警声响起,按一次显示键,此时显示判别时间,再按一次显示键,显示终水分值。连续按显 示键查看其他测试参数,后按“清除”,测试完毕。   7. 打开加热桶,等温度显示回到40℃以下才可以进行下一次检测。
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  • 纳米库尔特粒度仪介绍:瑞芯智造在经典的库尔特原理基础上开发的纳米库尔特粒度仪,全球首创固态纳米孔颗粒分析平台,采用新一代电学检测方法,粒径分辨率可达到1nm。实现纳米颗粒的单颗粒检测,一次测试得到多维度数据(粒径、浓度、zeta电位、形态),为科学研究、生产品控、医药研发等领域,提供精准的数据。产品优势:粒径|媲美电镜的粒径测量精度NanoCoulter测量聚苯乙烯标准微球等样本的平均粒径与粒径分布,其结果与电镜(SEM)数据准确度及精度完全吻合。浓度|精准的浓度测量和重复性将样本梯度稀释,浓度数据线性关系良好,且与理论浓度相一致(固含量理论计算),10次重复测试,CV5%。电位|单颗粒Zeta电位测量颗粒的带电情况,即颗粒的zeta电位,是表征分散体系稳定性的重要指标,是极其重要的一个参数。在电解质溶液中,通过检测颗粒穿过纳米孔的时间,再根据Helmholtz-Smoluchowski方程可准确计算zeta电位。 性能优势:1、采用经典的库尔特原理,电阻感应脉冲(RPS);2、一次检测得到粒径、浓度、zeta电位、形态多维度数据;3、ISO 13319:2021国际标准订定的颗粒检测技术;4、皮安(PA)级别的电流检测,粒径分辨率可达1nm,媲美电镜;5、根据颗粒的真实体积测量每个颗粒的粒度,实现真正意义上的单颗粒检测。 应用领域:1、生命科学:外泌体鉴定、脂质体载药研究、蛋白质团聚过程、生物制药的条件变化、疫苗生产等;2、涂层:高分子涂料、锂电池负极浆料、炭分散体系、油漆、油墨、染料等;3、化学化工:聚合物微球、打磨抛光液、乳液、催化剂、胶束研究等;4、纳米材料:纳米碳酸钙、石墨烯、纳米硅、二氧化硅等有机无机纳米材料的均一性、溶解度、稳定性研究等。
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  • 纳米探针台 400-860-5168转2623
    基于 SEM 的纳米探针台 用于直观、原位、低电流电性能测量。 在扫描电镜的真空腔室中,在纳米尺度对样品进行观察和表征分析。Imina Technologies公司的纳米探针台 是一套独特的解决方案,特别适合在纳米尺度对电子器件和先进材料进行微纳操纵和表征。这套方案内含四个业界著。名的易用、多功能压电陶瓷驱动微型机器人miBotTM。miBot微机器人可以在毫米级样品上独立定位,定位精度高达纳米级。该方案是为低电流电性能测量量身定做 的,漏电流低达100fA/V。对纳米结构 进行电性能表征时要经由具有超高信噪 比的屏蔽电缆外接第三方半信号发生/分析器。
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  • 仪器简介:从1979年开始,BUCHI公司一直供应小型喷雾干燥仪B-190、B-191和B-290系统,目前已成为实验室规模喷雾干燥仪领域的全球市场领导者。我们在全球的大学、研究所以及各类专业研究机构安装了4000多台喷雾干燥仪。喷雾干燥作为一种柔和、连续和可拓展的干燥过程正日益受到关注,它可快速将液体转化为干燥粉末。纳米喷雾干燥仪B-90具有在亚微米甚至纳米范围生成颗粒粒径的独特能力,可以以高产率处理毫克级样品量,从而使当今的喷雾干燥方法产生了根本性变化。B90尤其适合满足制药、生物技术、材料和纳米技术市场的需求。在这些领域中所呈现的最新应用趋势,重点集中在复杂材料、高价值药品和纳米颗粒等方面。曾经,喷雾干燥常受到颗粒直径、产率和样品量的约束。而今,可获得的最小颗粒直径锐减至300纳米,而产率直线提高至90%,能处理的最小样品量更是达到令人惊叹的毫克级。这一切都归功于集创新技术的喷头、加热系统和静电颗粒收集器。技术参数:1. 加热功率:1400W;温度控制:± 1℃2. 最高入口温度:120℃3. 蒸发能力:最大0.2L/h,有机溶剂更高4. 空气流量:80-160L/min5. 喷雾盖(孔直径):4μm,5.5μm,7μm6. 平均雾滴直径:8-21μm7. 平均颗粒粒径:300nm-5μm8. 平均停留时间:1-4s9. 尺寸(W× H× D):58× 110/150× 55cm (低位或高位配置)10. 重量:65/70kg (低位或高位配置)主要特点:1. 全球独创的压电雾化技术2. 适合小量样品(ml,mg)高效喷雾3. 颗粒粒径分布窄4. 高产率的静电颗粒收集器5. 模块化玻璃组件和全可视化喷雾过程6. 安装时间短,清洗方便7. 连接惰性循环系统B-295, 可安全处理有机溶剂8.PC软件实现在线的参数监控和存储, 过程参数记录和输出功能 应用领域: 1.制药2.生物技术3.材料4.纳米技术 纳米喷雾干燥仪的应用实例:1. 采用纳米喷雾干燥技术制备壳聚糖亚微米/纳米颗粒2. 采用纳米喷雾干燥技术生产海藻酸钠亚微米/纳米颗粒3. 纳米喷雾干燥技术在治疗性蛋白领域中的应用 - -乳糖降解酶,酶活性试验4. 纳米喷雾干燥技术在蛋白质制剂领域中的应用 - -单克隆抗体、L-乳酸脱氢酶5. 采用纳米喷雾干燥技术制备粉末吸入剂--呼吸给药6. 纳米喷雾干燥技术在材料化学领域中的应用 --汽车和电子工业用燃料电池 层流加热系统 静电颗粒收集器惰性循环系统B-295
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  • 纳米位移台系统 400-860-5168转1446
    仪器简介:If smallest parts or samples have to be moved or positioned with nanometer precision in the millimetre range, nanopositioning systems with piezo inertial drive are used. Very compact actors with appropriate control units are available for rotational and linear movements. The compatibility to each other allows the assembly of multi-axes combinations for complex movements. All the nanopositioning system have a piezo inertialdrive. With a travel in the millimetre range and steos in the nano meter range or with large adjustment range and steps in the &mu rad range, they are suitable for manifold applications. The basic components of the gonimeter are made of high strength aluminium. Due to a black anodized coating, the surface is protected and reflexion-poor. For the mounting of the nanopositioners, the mounting plate NMP 50is recommend. It is available as a ccessory. In order to operate the nanopositioners,the manual control unit NHS06 has to be used. The complete system is pluggable and ready for connection.技术参数:仪器名称,型号/参数行程最小步长最大步长负载 (N)重复定位精度(双向)倾斜力矩(Mx,My,Mz)(Nm)速度 纳米旋转位移台 NDT 24-30无限旋转角度40 &mu rad100&mu radmax.2 max.0.1max.100mrad/s 纳米旋转位移台 NDT 24-30-MSI无限旋转角度40 &mu rad100&mu radmax.240&mu radmax.0.1max.300mrad/s 纳米角度位移台 NAGO P 24-8± 3.3 度2 &mu rad6 &mu radmax.2 max.0.1 纳米角度位移台 NAGO T 24-8± 4度2 &mu rad6 &mu radmax.2 max.0.1 纳米升降位移台 NHV 24-66mm100nm300nmmax.3 max.0.1 纳米升降位移台 NHV 24-6-MSI6mm50nm700nmmax.3400 nmmax.0.1 纳米线性位移台 NLV 24-77mm200nm300nmmax.2 max.0.1max.0.3mm/s 纳米线性位移台 NLV 24-7-MSI7mm50nm700nmmax.2400nmmax.0.1max.0.7mm/s 纳米线性位移台 PT 30-54.8mm300nm800nmmax.30 max.0.5max.0.8mm/s 纳米线性位移台 PT 30-5-MSI4.8mm100nm2000nmmax.30400nmmax.0.5max.2mm/s 主要特点:&bull high power density on little space &bull 纳米量级或&mu rad量级可调 &bull 停止是无摆动或振荡 &bull 由高强度的铝制成,黑色阳极氧化 &bull with ceramic guide for high life time Option &bull version for use in cacuum
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  • 纳米激光粒度分析仪 400-860-5168转0568
    产品介绍 JL-1197宽量程激光粒度仪,完善了JL系列产品的所有技术特点,并创新突破激光粒度仪器使用功能,既能测试纳米级又能测试微米级粉体,同一台仪器上分别采用光子相关光谱法,全量程Mie散射两种原理测试,两种测试功能只需一键,几秒钟立刻实现快速转换。 全密封的金属外壳,具有良好的电磁屏蔽抗干扰性能,将光电子、样品池、循环系统等设置于仪器内部,使其样品在管道内流动的时间短,避免了样品分散后的分层和重新团聚,重复性、稳定性达到国外同类仪器测量水平。名副其实的机电一体新一代粒度测试仪器。每测一个样品只需2~3分钟,可全自动连续测试,结果由电脑自动记录保存,查看打印方便。 应用领域 科研院校、陶瓷、硅溶胶、水油乳液、油漆、涂料、颜料 、油墨、电子、核材料、化妆品、电子材料、造纸、化工、陶瓷、碳酸锰、农药、医药、水煤浆、碳酸钙、滑石粉、高岭土、氧化铝、稀土、镁粉、催化剂、发泡剂、耐火材料、水泥、石墨以及其它纳米级、微米级材料研究、制备与应用等领域。参数指标项目纳米指标项目微米指标测量范围纳米段:1nm~10000nm 光子相关光谱法原理测量范围微米段:0.01μm~3000μm全量程Mie散射原理重复性误差≤1%(国家标准物质D50偏差)重复性误差≤1%(国家标物质D50偏差)准确性误差≤1%(国家标准物质D50偏差)准确性误差≤1%(国家标准物质D50偏差)测量时间1-5分钟(与样品特性有关)测量时间1-2分钟(与样品特性有关)通道数64-4000,延迟时间20ns-100ms探测器128级多元探测器浓度测试快速测试纳米样品质量浓度和相对浓度信号光源进口半导体激光器测试浓度范围根据测试样品浓度选择不同的测试档位(1-10档,分别由浓到稀)激光器寿命大于70000小时光路系统高增益低噪声光电倍增管,双光源通路光路系统倒置傅里叶光学系统测试方法全自动测试,自动确定通道数和最延迟时间等参数,有单分散和多分散两套模式。湿法进样样品池与超声波分散器,搅拌器组合为一体,具有自动吸水(进水限位装置),自动对中测试、自动清洗样品池及循环管道。测试介质纯净水、蒸馏水或乙醇等样品用量毫克~克/每次(与样品的比重、颗粒大小、折射率有关)仪器体积880X410X500(mm)仪器重量约70kg工作电源AC220V ±22V 50Hz ±0.5Hz:环境要求温度:5℃~35℃;湿度:85%;仪器优点1.完善的制备系统:自动吸水、对中、测试、清洗等,以及稳定的分散系统:全自动超声波分散机械搅拌、蠕动泵循环(时间可按需调整)。2.采用倒置傅里叶光学系统,单光束大镜头及组合透镜,极大减小样品池与光学镜面的多次反射所产生的杂散光,大角度散射光不受透镜孔径的限制,有效提高了测试分辨率。3.128级多元探测器,高增益低噪声光电倍增管,双光源检测完成前向,侧向和后向散射信号的接收。4.专有多分散分析算法,可以快速分析出多分散和单分散颗粒体系,具备测试纳米样品的质量浓度和相对浓度,直接对样品温度实时测试,避免了样品池和恒温系统温度梯度引起的测量误差。5.采用优质光学玻璃,专为贵重样品定制容积2.5 mL薄缝检测池。具备测试纳米样品的质量浓度和相对浓度,具有全自动循环和静态2种进样系统,特别是对微量的贵重样品可采用静态,测试完毕后直接回收样品,2种进样方式互换极为方便。6.108级粒级的表格和曲线图,体积分布、数量分布两种模式。提供累积分布、频度分布、累积10%、50%、90%、97%、平均粒径和比表面积等数据,全面表征样品的粒度特征。7.软件操作界面可根据需要选择中文或者英文,输出结果可以直接打印,或转换为PDF和文本文件等格式保存。
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  • 纳米探针台 400-860-5168转4967
    纳米探测面临的挑战 定位精度 安全(软)着陆接触 具有适当尖端半径的可靠探针头 清洁环境:试验箱、样品、探针头 振动敏感性低 噪声抑制 漂移补偿 电路编辑/延迟:在FIB角度操作 优势电流成像 快速图像采集(每帧约5) 不需要更容易控制的反馈 原位应用,扫描电镜可以用来确定投资回报率 与标准钨探针头配合使用 picoamp分辨率,识别泄漏 污染物清除 恰当的高探测工具 适应您对工作流程的快速理解 相关的光镜和电子显微镜,EBIC/EBAC,电流成像-获得整个图像 快速发现故障(开路、短路、连接泄漏、晶体管故障等)
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  • 科研用polypico UniA6是一种非常灵活的纳米压印机。它可提供加热型纳米压印、UV紫外纳米压印以及真空纳米压印。模块化系统可根据特定需求轻松配置,体积小,容易存放,最大可处理210mm(8英寸)圆形的任何尺寸印章和基材。该系统是手动装卸印章和模板,但所有处理器都是全自动的,专用软件用户可以完全控制压印过程。 纳米压印机特色:&bull 体积小巧,容易存放,桌面型;&bull 轻微复制微米和纳米级结构;&bull 热压印温度高达200℃;&bull 可选的高温模块,适用于250℃;&bull UV纳米压印,365nm曝光;&bull 可选的UV模块,适用于405nm曝光;&bull 真空纳米压印(腔室可抽真空至0.1mbar);&bull 纳米压印压力高达11bar;&bull 温度分布均匀、读数精准;&bull 笔记本电脑全自动控制,工艺配方编辑简单,完全灵活控制,自动记录数据;&bull 直径最大210mm(圆形)腔室;&bull 腔室高度为20mm;&bull 即插即用&bull 使用简单直观&bull 专为研发而设计&bull 提供安装和操作教程视频
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  • LS-1730产品描述 LS-1730的尺寸为30 x 17 x 8.5mm,行程范围为21mm。概观运动行程[mm]21尺寸[mm]30 x 17 x 8.5重量[g]21力特性最大推力[N]2.5最大负载[N]20最大升力[N]1定位性能最大速度[mm/s]5开环定位分辨率[nm]1选配材质标配为铝底座;可选配钢座(-ST)、钛基(-TI);均黑色阳极氧化(-BK)真空兼容 (1E-6 mbar)-HV高真空兼容 (1E-11 mbar)可根据要求定制无磁可根据要求定制* 所有技术规格参数均为近似值,由于产品持续研发,我们保留更改技术规格的权利,恕不另行通知。Nators是一家高性能纳米定位平台及解决方案的专业提供商,可满足各种对精密运动定位要求严苛的应用场合,如光学、显微、精密组装以及纳米级表征分析等,同时提供 纳米定位,压电纳米定位,纳米定位平台,压电纳米定位平台,大行程压电纳米定位平台,多轴定位平台,压电陶瓷,压电控制器,压电陶瓷控制器,压电惯性运动定位器,预装配叠堆运动平台
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  • LS-1740产品描述 LS-1740的尺寸为40 x 17 x 8.5mm,行程范围为26mm。概观运动行程[mm]26尺寸[mm]40 x 17 x 8.5重量[g]26力特性最大推力[N]2.5最大负载[N]20最大升力[N]1定位性能最大速度[mm/s]5开环定位分辨率[nm]1选配材质标配为铝底座;可选配钢座(-ST)、钛基(-TI);均黑色阳极氧化(-BK)真空兼容 (1E-6 mbar)-HV高真空兼容 (1E-11 mbar)可根据要求定制无磁可根据要求定制* 所有技术规格参数均为近似值,由于产品持续研发,我们保留更改技术规格的权利,恕不另行通知。Nators是一家高性能纳米定位平台及解决方案的专业提供商,可满足各种对精密运动定位要求严苛的应用场合,如光学、显微、精密组装以及纳米级表征分析等,同时提供 纳米定位,压电纳米定位,纳米定位平台,压电纳米定位平台,大行程压电纳米定位平台,多轴定位平台,压电陶瓷,压电控制器,压电陶瓷控制器,压电惯性运动定位器,预装配叠堆运动平台
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  • LS-1720产品描述 LS-1720的尺寸为20 x 17 x 8.5mm,行程范围为12mm。概观运动行程[mm]12尺寸[mm]20 x 17 x 8.5重量[g]13力特性最大推力[N]2.5最大负载[N]20最大升力[N]1定位性能最大速度[mm/s]5开环定位分辨率[nm]1选配材质标配为铝底座;可选配钢座(-ST)、钛基(-TI);均黑色阳极氧化(-BK)真空兼容 (1E-6 mbar)-HV高真空兼容 (1E-11 mbar)可根据要求定制无磁可根据要求定制* 所有技术规格参数均为近似值,由于产品持续研发,我们保留更改技术规格的权利,恕不另行通知。Nators是一家高性能纳米定位平台及解决方案的专业提供商,可满足各种对精密运动定位要求严苛的应用场合,如光学、显微、精密组装以及纳米级表征分析等,同时提供 纳米定位,压电纳米定位,纳米定位平台,压电纳米定位平台,大行程压电纳米定位平台,多轴定位平台,压电陶瓷,压电控制器,压电陶瓷控制器,压电惯性运动定位器,预装配叠堆运动平台
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  • 产品简介Insplorion X1仪器的开发是为了从室温到600℃原位和实时研究,比如气体吸附/吸收过程或与催化相关的薄的聚合物膜和材料的相转变(比如:Tg)。X1测量几乎任何纳米材料或薄膜、电介质以及金属的结构或介电变化,如由气体成分或温度坡道引起的变化。Insplorion x1仪器包括快速启动和生成高质量数据所需的一切。仪器有两个样品位置,允许进行两次平行测量。我们提供的产品包括所有硬件、软件、支持和初步培训,帮助您开始并理解获得的结果。Insplorion X1使用远程光学读数,因此只需要将传感器芯片而非敏感光学设备放置在反应室内。因此,X1可以在高温(最高600°C)和常压(大气)下工作,并且仍然保持高分辨率和灵活性。技术指标高温反应器 传感器芯片位置 双通道 连接处 进口:1/8英寸,出口:1/4英寸 质量流量调节* 可连接多达16路质量流量控制器 材料 石英,不锈钢 温度范围 室温-600oC* Insplorer软件兼容Bronkhorst品牌的质量流量控制器 传感器芯片 衬底 熔融石英 尺寸 9.5 mm x 9.5 mm x 1 mm 表面 纳米结构金 标准涂层* Au, SiO2, Si3N4, TiO2, Al2O3 * 可订购客户化的薄膜涂层传感器 光学读数性质 光源* 卤钨灯,最低寿命2000小时 测量点尺寸 圆形区域~直径3mm 波长范围** 450 - 1000 nm 时间分辨率 每秒10个采样点 典型噪音*** 0.01 nm*可自定义选项和可替换,**可自定义波长范围,***在液相环境中的采样速率达到1Hz 软件 操作系统 兼容Windows操作系统 数据输出格式 ASCII兼容直接使用的任何绘图软件 分析的参数 多参数输出(如:共振波长、宽度和消光)应用 1、氢气传感/贮存 Insplorion NPS技术为储氢和固态反应领域的研究者提供了一种新的、强大的研究工具,以克服众多的实验挑战。NPS的测量集中在一个明确的模型系统上,在“运行”条件下和受控的微环境中使用少量的样品。这导致了各种梯度的最小化,以及广泛的粒径分布的扭曲。高时间分辨率使快速变化过程能够在高温下的固态反应中被监控。成功故事NPS技术已成功地用于解决纳米储存实体储氢领域的以下问题:1、在D5nm尺寸范围内,钯纳米粒子的氢化和脱氢动力学的尺寸依赖性。2、在D5nm尺寸范围内,钯纳米粒子氢化物形成和分解热力学的尺寸依赖性。3、金属纳米粒子中氢化物形成与分解之间的尺寸依赖性滞后现象的研究。4、镁和钯纳米粒子氢化物形成热力学的定量单粒子研究。 2、超薄的聚合物膜和纳米结构/纳米粒子的玻璃化转变温度在超薄聚合物膜中,玻璃化转变温度Tg因近表面层(几纳米厚)的存在而变得尺寸/厚度依赖,其中聚合物片段具有不同的流动性。Insplorion的NPS技术为聚合物薄膜领域的研究者提供了一个研究相变的强大工具。 成功故事NPS技术已成功地用于解决以下现象:1、无规聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)玻璃化转变温度(Tg)薄膜的厚度依赖性。2、聚苯乙烯(PS)纳米粒子中玻璃化转变温度(Tg)的尺寸依赖性。
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  • 固态纳米孔打孔 400-860-5168转2623
    固态纳米孔打孔1、在液体中自动制造现成的固态纳米孔2、纳米孔径范围广且精确,制造范围:1nm–30nm3、按需求扩大纳米孔孔径4、噪声隔离设计用于将流动池与大多数商用电流放大器无缝的连接起来5、盖帽可防止缓冲液蒸发,使纳米孔在几个月内保持湿润状态6、专为4x4 mm和4x5 mm芯片设计,但可适应其他尺寸
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  • IMINA纳米探针台 400-860-5168转6134
    基于 SEM 的纳米探针台 用于直观、原位、低电流电性能测量。 在扫描电镜的真空腔室中,在纳米尺度对样品进行观察和表征分析。Imina Technologies公司的纳米探针台 是一套独特的解决方案,特别适合在纳米尺度对电子器件和先进材料进行微纳操纵和表征。这套方案内含四个业界著。名的易用、多功能压电陶瓷驱动微型机器人miBotTM。miBot微机器人可以在毫米级样品上独立定位,定位精度高达纳米级。该方案是为低电流电性能测量量身定做 的,漏电流低达100fA/V。对纳米结构 进行电性能表征时要经由具有超高信噪 比的屏蔽电缆外接第三方半信号发生/分析器。
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  • 产品信息Insplorion XNano具有一个灵活的测量单元,能够在气体和液体流量测量中实时测量折射率变化。简而言之,整个Insplorion XNano系统提供以下功能:a、传感器表面折射率变化的超灵敏测量b、在液体或气体环境中测量c、使用集成温度控制,温度范围室温至80 Cd、灵活选择样品材料的结构和性能e、基底材料和表面化学的灵活选择f、实时、原位监控纳米颗粒和薄膜内/上的变化过程g、用户友好的仪器和软件技术指标测量单元 芯片上方体积 ~ 4 μL 样品消耗最小量 ~ 100 μL 典型流速 20-100 μL/min 材料* 钛和全氟化橡胶 温度范围** 室温至80oC *可自定义选项。** 通过可选的配置实现250oC的高温。 传感器芯片衬底 熔融石英 尺寸 9.5 mm x 9.5 mm x 1 mm 表面 纳米结构金 表面涂层* Au, SiO2, Si3N4, TiO2, Al2O3*可订购客户化的薄膜涂层传感器。 光学读数特性 光源* 卤钨灯,最低寿命2000小时 测量点尺寸 圆形区域~直径2mm 波长范围** 450 - 1000 nm 时间分辨率 每秒10个采样点 典型噪音*** 0.01 nm *可自定义选项和可替换,**可自定义波长范围,***在液相环境中的采样速率达到1Hz 尺寸 测量单元 31cm x 25cm x 25 cm 光学单元 25 cm x 27 cm x 9 cm 温度控制单元 25 cm x 27cm x 9 cm 软件 操作系统 兼容Windows操作系统 数据输出格式 ASCII码文本文件格式直接使用的任何绘图软件都兼容此格式 分析的参数 多参数输出(如:共振波长、宽度和消光) 应用领域1、分子结合和生物识别Insplorion NPS适用于生物分子相互作用分析。通过监测捕获剂(配体)固定到insplorion传感器,然后通过insplorion仪器的流体系统引入分析物,可以确定作为亲和常数的定量信息。监测脂质双层膜和嚢泡Insplorion的技术和仪器可以进行完整的实验,其中可以监测脂质双层的形成以及与生物分子和纳米颗粒的相互作用。对表面附近光学性质变化的极端敏感性也能获得结构信息,例如关于囊泡形状的信息。对邻近表面光学性质变化的极端敏感性也能获得结构信息,例如关于囊泡形状的信息。药物运输Insplorion NPS技术可用于监测聚合物薄膜(厚度从微米到几纳米)以及多孔网络中的扩散。Insplorion传感器具有极高的表面灵敏度,可以探测到厚膜中隐藏的内部界面。这允许您确定扩散物种到达界面并使薄膜饱和的时间,以及监测释放过程。定量的动力学信息,如扩散系数已经在一个案例中从实验获得。 2、氢气传感/贮存Insplorion NPS技术为储氢和固态反应领域的研究者提供了一种新的、强大的研究工具,以克服众多的实验挑战。NPS的测量集中在一个明确的模型系统上,在“运行”条件下和受控的微环境中使用少量的样品。这导致了各种梯度的最小化,以及广泛的粒径分布的扭曲。高时间分辨率使快速变化过程能够在高温下的固态反应中被监控。成功故事NPS技术已成功地用于解决纳米储存实体储氢领域的以下问题:1、在D5nm尺寸范围内,钯纳米粒子的氢化和脱氢动力学的尺寸依赖性。2、在D5nm尺寸范围内,钯纳米粒子氢化物形成和分解热力学的尺寸依赖性。3、金属纳米粒子中氢化物形成与分解之间的尺寸依赖性滞后现象的研究。4、镁和钯纳米粒子氢化物形成热力学的定量单粒子研究。 3、超薄的聚合物膜和纳米结构/纳米粒子的玻璃化转变温度在超薄聚合物膜中,玻璃化转变温度Tg因近表面层(几纳米厚)的存在而变得尺寸/厚度依赖,其中聚合物片段具有不同的流动性。Insplorion的NPS技术为聚合物薄膜领域的研究者提供了一个研究相变的强大工具。成功故事 NPS技术已成功地用于解决以下现象:1、无规聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)玻璃化转变温度(Tg)薄膜的厚度依赖性。2、聚苯乙烯(PS)纳米粒子中玻璃化转变温度(Tg)的尺寸依赖性。 4、监测多孔膜和衬底之间的隐藏界面即使对于装备精良的实验室,小分子小规模地扩散进出多孔材料也是一项挑战。对于药物输送和其他缓慢释放以及多孔基质中需要最多材料的应用,NPS技术可以证实为一个非常宝贵的工具。成功故事NPS技术已用于追踪下面的变化过程:1、介孔二氧化钛染料浸渍的时间依赖性对染料敏化太阳能电池的优化。2、染料在介孔材料中扩散系数的量化。 5、太阳能电池提高DSSC的性能和知识。Insplorion NPS技术应用于研发,提高太阳能电池的性能。实时传感器技术为光接收涂层的不同涂层提供了可靠和一致的测量。例如,染料敏化太阳能电池的染料浸渍步骤可以使用Insplorion仪器进行详细监测。Insplorion与瑞典洛桑联邦理工学院Prof. Michael Gr?tzel课题组和查尔姆斯理工大学的研究人员一起已经成功地将Insplorion的纳米等离子体传感技术NPS应用于染料敏化太阳能电池的研究。这项研究集中在太阳能电池中二氧化钛薄膜的分子吸附,并且展现在Nano Letters上。提高太阳能电池性能:Michael Gr?tzel作为太阳能电池领域的世界一流的研究者,关于insplorion的技术,他说:“我发现insplorion的技术对于研究染料敏化太阳能电池的染料浸渍非常有趣。它有可能成为改善染料浸渍工艺,从而提高太阳能电池性能的一个有价值的工具。”
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  • 室温纳米精度位移台 400-860-5168转0980
    室温纳米精度位移台-attoECS 德国attocube公司是上著名的端环境纳米精度位移器制造商,其生产的位移器以稳定而优异的性能,原子定位精度,纳米位移步长和厘米位移范围受到科学家的肯定和赞誉。attoECS系列纳米位移台在提供高精度位移控制的同时,保证了优异而高的稳定性能,适用于室温、大气到超高真空环境中,负载可达几公斤,行程达到50mm,小步长50nm,配备的光学位移传感器可将位移精度控制到10nm,提供多维度位移功能。attoECS位移台应用领域加速器及同步辐射计量测量学半导体空间科学attoECS位移台特点+ 在厘米的行程范围内,达到纳米高精度位移控制+ 高的机械稳定性+ 位移驱动电压45V,无需高压屏蔽+ 10nm位移精度,+/-200nm位移重复性,0.01% 精度+ 特殊材质,兼容各种光学实验环境和超高真空环境+ 快速样品更换装置设备型号ECS系列纳米位移台ECS系列线性位移器采用闭环(/NUM光栅式反馈)或开环控制,典型单步位移步长为: 50nm。位移范围大为:50mm。位移器尺寸小为:30X30 mm。负载大24Kg。 线性纳米精度位移台型号尺寸mm3(长宽高)步长行程(mm)载重(N)ECSx303030x30 9.550nm2090ECSx3030/NUMECSx304030x40 9.550nm25120ECSx3040/NUMECSx305030x50 9.550nm30150ECSx3050/NUMECSx306030x60 9.550nm35180ECSx3060/NUMECSx307030x70 9.550nm40210ECSx3070/NUMECSx308030x80 9.550nm50240ECSx3080/NUMECSx505050x50 9.550nm30150ECSx5050/NUMECSxy505050x50 16.450nm25x25150ECSxy5050/NUMECSz505050x50 3230nm88ECSz5050/NUMECR系列旋转台ECR系列旋转台技术参数表ECR系列旋转器采用闭环(/NUM光栅式反馈)或开环控制,典型步长为: 0.4m°。可360度连续旋转。旋转台尺寸小为:30 mm × 30 mm。负载大2Kg。 高精度旋转台型号尺寸mm3(长宽高)步长行程 载重(N)ECR3030 30x30 13.50.4m°360度(连续旋转)20ECR3030/NUMECR4040 40x40 14.50.2m°360度(连续旋转)20ECR4040/NUMECR5050hs 50x50 13.50.2m°360度(连续旋转)20ECR5050hs/NUM ECG系列倾角台ECG系列倾角台技术参数表ECG系列倾角台采用闭环(/NUM光栅式反馈)或开环控制,典型步长为: 0.4m°。倾角范围:10°。倾角台尺寸为:50 mm × 50 mm。负载大1000g。 高精度倾角台型号尺寸mm3(长宽高)步长行程载重(N)ECGt505050x50 170.1m°10°10ECGt5050/NUMECGp505050x50 170.1m°10°10ECGp5050/NUM应用案例■ attocube纳米位移台在大尺寸昆虫自然色三维高分辨率成像的应用 关键词:高分辨三维成像; 纳米精度位移台; C-SIM高分辨率三维成像技术在生物领域已经有非常多的应用。然而,当研究大型标本时,如厘米大小的昆虫,现有的三维成像工具往往非常耗时。此外,大多数3D成像系统无法得到标本的自然颜色信息。为了突破现有3D成像的局限性,中国科学院西安光学精密机械研究所瞬态光学与光子技术重点实验室姚保利课题组出了一种基于结构照明的方法,能够提供大的视场三维图像方法。采用这种方法,获得了580nm横向分辨率的自然彩色全尺寸昆虫的三维图像和三维形态数据。这种方法提供了一种很有前景的方法,可以用在不同类型的昆虫学研究,包括分类学、进化学、仿生学,发育生物学、功能形态学、古生物学、林业等。实验采用全新设计的彩色结构化照明显微镜(C-SIM),C-SIM中集成了德国attocube 的纳米精度位移台ECS3040(行程为25mm,分辨率1nm,精度50nm),这也是能够得到纳米分辨率的三维全彩图像的关键。 两种中华虎的三维成像结果 参考文献Vol. 27, No. 4 | 18 Feb 2019 | OPTICS EXPRESS 4845用户单位attocube公司产品以其稳定的性能、高的精度和良好的用户体验得到了国内外众多科学家的认可和肯定,在全球范围内有超过了130多位低温强磁场显微镜用户。attocube公司的产品在国内也得到了低温、超导、真空等研究领域著名科学家和研究组的欢迎......国内部分用户北京大学中国科技大学中科院物理所中科院武汉数学物理所中科院上海应用技术物理研究所复旦大学清华大学南京大学中科院半导体所上海同步辐射中心北京理工大学哈尔滨工业大学中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所… … 国外部分用户
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  • 产品介绍 精新纳米激光粒度仪,完善了JL系列产品的所有技术特点,并创新突破激光粒度仪器使用功能,既能测试纳米级又能测试微米级粉体,同一台仪器上分别采用光子相关光谱法,全量程Mie散射两种原理测试,两种测试功能只需一键,几秒钟立刻实现快速转换。 全密封的金属外壳,具有良好的电磁屏蔽抗干扰性能,将光电子、样品池、循环系统等设置于仪器内部,使其样品在管道内流动的时间短,避免了样品分散后的分层和重新团聚,重复性、稳定性达到国外同类仪器测量水平。名副其实的机电一体新一代粒度测试仪器。每测一个样品只需2~3分钟,可全自动连续测试,结果由电脑自动记录保存,查看打印方便。 应用领域 科研院校、陶瓷、硅溶胶、水油乳液、油漆、涂料、颜料 、油墨、电子、核材料、化妆品、电子材料、造纸、化工、陶瓷、碳酸锰、农药、医药、水煤浆、碳酸钙、滑石粉、高岭土、氧化铝、稀土、镁粉、催化剂、发泡剂、耐火材料、水泥、石墨以及其它纳米级、微米级材料研究、制备与应用等领域。参数指标项目纳米指标项目微米指标测量范围纳米段:1nm~10000nm 光子相关光谱法原理测量范围微米段:0.01μm~3000μm全量程Mie散射原理重复性误差≤1%(国家标准物质D50偏差)重复性误差≤1%(国家标物质D50偏差)准确性误差≤1%(国家标准物质D50偏差)准确性误差≤1%(国家标准物质D50偏差)测量时间1-5分钟(与样品特性有关)测量时间1-2分钟(与样品特性有关)通道数64-4000,延迟时间20ns-100ms探测器128级多元探测器浓度测试快速测试纳米样品质量浓度和相对浓度信号光源进口半导体激光器测试浓度范围根据测试样品浓度选择不同的测试档位(1-10档,分别由浓到稀)激光器寿命大于70000小时光路系统高增益低噪声光电倍增管,双光源通路光路系统倒置傅里叶光学系统测试方法全自动测试,自动确定通道数和最延迟时间等参数,有单分散和多分散两套模式。湿法进样样品池与超声波分散器,搅拌器组合为一体,具有自动吸水(进水限位装置),自动对中测试、自动清洗样品池及循环管道。测试介质纯净水、蒸馏水或乙醇等样品用量毫克~克/每次(与样品的比重、颗粒大小、折射率有关)仪器体积880X410X500(mm)仪器重量约70kg工作电源AC220V ±22V 50Hz ±0.5Hz:环境要求温度:5℃~35℃;湿度:85%;仪器优点1.完善的制备系统:自动吸水、对中、测试、清洗等,以及稳定的分散系统:全自动超声波分散机械搅拌、蠕动泵循环(时间可按需调整)。2.采用倒置傅里叶光学系统,单光束大镜头及组合透镜,极大减小样品池与光学镜面的多次反射所产生的杂散光,大角度散射光不受透镜孔径的限制,有效提高了测试分辨率。3.128级多元探测器,高增益低噪声光电倍增管,双光源检测完成前向,侧向和后向散射信号的接收。4.专有多分散分析算法,可以快速分析出多分散和单分散颗粒体系,具备测试纳米样品的质量浓度和相对浓度,直接对样品温度实时测试,避免了样品池和恒温系统温度梯度引起的测量误差。5.采用优质光学玻璃,专为贵重样品定制容积2.5 mL薄缝检测池。具备测试纳米样品的质量浓度和相对浓度,具有全自动循环和静态2种进样系统,特别是对微量的贵重样品可采用静态,测试完毕后直接回收样品,2种进样方式互换极为方便。6.108级粒级的表格和曲线图,体积分布、数量分布两种模式。提供累积分布、频度分布、累积10%、50%、90%、97%、平均粒径和比表面积等数据,全面表征样品的粒度特征。7.软件操作界面可根据需要选择中文或者英文,输出结果可以直接打印,或转换为PDF和文本文件等格式保存。
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  • PI纳米平移台 400-860-5168转3524
    德国PI六轴六足纳米平移台 德国Physik Instrumente (PI) GmbH & Co.KG成立于1970年,一直致力于微米与纳米定位技术的研发与制造。PI代表着技术性能,定位精度可达纳米。PI可获得的组件独立于市场上,并提供超越现有技术水平的单独解决方案。高度的灵活性为PI的客户提供了显着的竞争优势。 Physik Instrumente提供了超越全球竞争的技术范围和垂直生产范围。然而,PI重要的关注是通过定位解决方案不断地激励客户。今天,无论是在计量、显微,生命科技,还是激光技术,精密加工技术;无论是半导体科技,数据存储技术,还是光电子/光纤,天文等领域,PI的产品和技术正得到越来越广泛的应用,也赢得了越来越广泛的赞誉。 Physik Instrumente (PI)主要产品: 线性平台和执行器 电动旋转平台和测角器 XY平台 六足/平行运动 XYZ扫描仪 Z-/倾斜平台,提示/倾斜镜和有源光学 陶瓷部件 压电陶瓷组件 压电陶瓷执行器 控制器和驱动器 空气轴承导向系统 主要型号: E-709、E-609、E-753、E-610、E-621、E-625、E-500、E-725、N-216、N-111、N-310、U-264、N-422、P-601、P-602、P-603、P-604、C-867、E-871、E-861、E-755、C-663、C-885、C-843、C-884、C-863、LPS-45、LPS-23、LPS-24、M-664、M-664KCEP、P-887.91、P-882.11、P-882.31、P-882.51、P-883.11、P-883.31 、P-883.51、P-885.11、P-885.31、P-885.51、P-885.91六轴六足位移台六自由度并联运动设计使其比串联运动系统更加紧凑、更具刚性,动态范围更大,无移动电缆:更稳定、摩擦更小,用于全天候应用的重型精密轴承。绝对编码器绝对编码器提供明确的位置信息,帮助即刻确定位置。这意味着在接通期间无需定位,提高了操作过程中的效率和安全性。六轴六足位移台无刷直流电机(BLDC)无刷直流电机尤其适合高旋转速度。能够对其进行控制并确保高精度。由于无滑动接触,可无磨损地平稳运行,因此能够实现较长的使用寿命。六轴六足位移台应用领域科研和工业. 用于天文学、光学定位、航空航天。 科研和工业. 用于天文学、光学定位、航空航天。
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  • 一维纳米定位台,为一维×向运动压电平台,可进行10~200um范围内的纳米级位置调整。产品特性:◆ 高速响应;◆ 压电陶瓷驱动;◆ 重复定位精度高;◆ 纳米级位移分辨率;◆ 机体材料分铝合金和钛合金;◆ 具有开环和闭环两种;◆ 采用数控、线切割等加工工艺。严格保证结构精度;◆ 采用计算机有限元仿真分析等现代设计方案设计微动结构;◆ 采用表面处理工艺,提高了适应工作环境的能力。
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  • 压电纳米定位台是一款三维运动的压电平 台,行程可高达 100μm,适用于小型样品的三维纳米定位应用。产品特点■ 高速响应■ 压电陶瓷驱动■ 较高的重复定位精度■ 纳米级位移分辨率■ 机体材料为铝合金■ 具有开环和闭环两种控制方式■ 采用数控、线切割等加工工艺,严格保证结构精度■ 采用计算机有限元仿真分析等现代设计方案设计微动结构■ 采用精机的表面处理工艺,提高了适应不同工作环境的能力
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  • 产品描述X轴纳米定位线性位移台是基于压电控制的线性位移台,行程包括12/30/45/60μm及可定制其他行程版本,本系列产品包含X、XY可供用户选择。该压电纳米定位器是我们高速产品线的一部分(可提供大功率控制器,进行高速运动)。二维产品型号为PS2H45-xx。PS1H45系列压电纳米位移台采用高可靠多层低压压电叠堆陶瓷作为驱动元件,利用有限元优化的固态挠性导向系统可确保完美的平移运动。平台采用了无摩擦柔性机构,压电位移台无需维护,无磨损,并具有快速响应和快速稳定的性能,使其适用于动态过程,例如高频误差补偿,跟踪,快速步进或连续扫描等。闭环版本具有高分辨率应变片式位置传感器,可实现高精度和可重复的运动,还可以补偿压电陶瓷的的蠕变。传感器采用全闭环电桥设计。它可以在开环或闭环控制中运行。压电平台固定是通过移动面和底板上的螺纹孔实现的。若要安装到具有标准栅格的光学平台或其他组件上,请使用转接板转接。在紧固过程中,应避免过大的弯矩载荷和作用在移动面与外壳之间的侧向力,这些外力可能会损坏位移台。产品特性—高速运动、直接驱动—设计小巧紧凑PS1H45系列技术参数—闭环控制—可堆叠进行XY运动选配功能—可定制转接工装—可选PZT&Sensor连接器及线缆长度—可选配闭环(SGS) 位置反馈系—可组维、可定制其他行程应用领域—扫描显微镜、光纤端面检测—干涉仪、测量技术、3D锡膏检测—光子、光纤定位、干涉—纳米光刻、纳米定位、电化学加工 结构原理 高速响应 典型应用PS1H45系列技术参数
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  • 压电直线纳米位移台 Z轴扫描台,得益于特殊的结构设计,卓聚科技的Z轴扫描台,提供约等于5nm的粗调步进。产品支持真空,低温等应用。Z轴扫描台尺寸参数中间位置外形尺寸(长*宽*高)45.6*44.0*24.6mm样品台面平面度5 μm总重量78g运动参数Z轴行程±1.0mm粗调步进5~200nm细调行程300nm细调步进(理论值)0.005nm闭环运动分辨率2nm负载竖直方向负载10N操作环境闭环(开环)操作温度-20~80(-269~80)℃是否适用真空是/以上就是东莞市卓聚科技有限公司提供的压电直线纳米位移台 Z轴扫描台的介绍,了解更多直接咨询:原文: 随着微电子、纳米科技和人工智能等领域的进一步发展,精密定位不仅在实验室用途广泛,工业界的应用也越来越多。该团队在以往研究基础上,发展出一系列具有自主知识产权的超精密定位产品,填补了国产空白。一个火柴盒大小、外壳包覆金属的小方块,通过电压控制能够实现纳米级别的精密位移,可以用于对精密度要求超.高的科学实验、精密制造和半导体工业等领域。日前,在松山湖材料实验室高.端科研设备产业化团队的实验室内,团队负责人许智展示了该团队拥有核心技术的压电驱动纳米位移台。 安徽泽攸科技有限公司为您提供压电旋转纳米位移台RF-5950A的参数、价格、型号、原理等信息,压电旋转纳米位移台RF-5950A产地为安徽、品牌为泽攸科技,型号为旋转纳米位移台,价格为面议,更多相关信息可来电咨询,公司客服电话7*24小时为您服务
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  • 德国PI压电纳米位移台应用领域扫描显微镜测量技术测试程序和质量保证光子光纤定位带电容式传感器,实现亚纳米分辨率电容式传感器以亚纳米分辨率进行测量,且无接触。它们可确保优异的运动线性、长期稳定性和千赫兹范围的带宽。自动配置和快速部件更换机械部件和控制器可按需组合、快速更换。所有伺服和线性化参数均存储在机械部件的Sub-D连接器的ID芯片中。每当控制器启动时,数字控制器的自动校准功能就会使用这些数据PICMA压电陶瓷促动器带来超长使用寿命PICMA压电陶瓷促动器为全瓷绝缘。这可以防潮,避免漏电流增大造成故障。PICMA促动器的使用寿命比传统的聚合物绝缘促动器长达十倍。它们被证明可实现无故障运行1000亿个循环。零间隙柔性铰链导向带来高导向精度柔性铰链导向无需维护、无摩擦、无磨损,无需润滑。它们的刚性可实现高负载能力,且它们对振动和冲击不敏感。它们真空兼容,可在很广的温度范围内工作。直接位置测量带来最大精度运动直接在运动平台上测量,完全不受驱动或导向元件的影响。这样可以实现优异的重复精度、优异的稳定性和刚性、快速响应控制。 德国Physik Instrumente (PI) GmbH & Co.KG成立于1970年,一直致力于微米与纳米定位技术的研发与制造。PI代表着技术性能,定位精度可达纳米。PI可获得的组件独立于市场上,并提供超越现有技术水平的单独解决方案。高度的灵活性为PI的客户提供了显着的竞争优势。 Physik Instrumente提供了超越全球竞争的技术范围和垂直生产范围。然而,PI重要的关注是通过定位解决方案不断地激励客户。今天,无论是在计量、显微,生命科技,还是激光技术,精密加工技术;无论是半导体科技,数据存储技术,还是光电子/光纤,天文等领域,PI的产品和技术正得到越来越广泛的应用,也赢得了越来越广泛的赞誉。 Physik Instrumente (PI)主要产品: 线性平台和执行器 电动旋转平台和测角器 XY平台 六足/平行运动 XYZ扫描仪 Z-/倾斜平台,提示/倾斜镜和有源光学 陶瓷部件 压电陶瓷组件 压电陶瓷执行器 控制器和驱动器 空气轴承导向系统 主要型号: E-709、E-609、E-753、E-610、E-621、E-625、E-500、E-725、N-216、N-111、N-310、U-264、N-422、P-601、P-602、P-603、P-604、C-867、E-871、E-861、E-755、C-663、C-885、C-843、C-884、C-863、LPS-45、LPS-23、LPS-24、M-664、M-664KCEP、P-887.91、P-882.11、P-882.31、P-882.51、P-883.11、P-883.31 、P-883.51、P-885.11、P-885.31、P-885.51、P-885.91
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  • 多功能台式 微米和纳米加工制造仪 适合各式纳米材料及薄膜的表面粗糙度或表面形貌量测。● 无需抽真空及快速的量测取得量测图像。● 直觉性的操作接口。● 一键扫描的快速功能。ACST为科研人员和教育工作者带来了一种先进的、多功能的台式微米和纳米制造的仪器,可以作为研究和教育工具。不仅帮助科研人员拓展他们现有的工作向不同的领域发展,而且还可以帮助教育工作者打夯实基础,教育学生掌握工业用的微米和纳米加工制造技术。COSMOS nanoFAB是一个加工制造仪器,这对我们培养纳米科学家的教育计划至关重要,也为学生在日益增长的微制造和纳米技术领域提供丰富的就业机会。 COSMOS nanoFAB采用了一种非常成熟的设计,充分考虑到其性能、成本和多样性。模块化设计理念允许在不同的技术中使用通用型的机械元件/电子元件,从而保证了使用方便和成本低廉。该仪器完全有能力成为快速j加工或新研究的实验验证工具。在教育领域,COSMOS nanoFAB可应用于表面化学、材料科学、工业应用、电子元件和半导体器件制造、生物分子固化和生物传感应用等领域的教学和应用。可被应用于高解析影像和测量需求,特别是具备次奈米级的 Z 轴分辨率。其低噪声和开回路设计于一体的扫描仪可以快速地针对样本进行扫描。独特光像散式的光路模块提供业界最小的雷射光点,让用户可运用于更小且快速的AFM 探针,COSMOS nanoFAB提供了在纳米和微米加工制造技术方面的功能,这并且在业界得到了很好的认可: ★ 紫外线光刻: 通过一系列的实验,学生们学习了紫外线光刻技术的概念;半导体行业的基本技术★ 微接触印刷(μCP): 学生们了解这一传统简易的技术,使用有机、无机和生物材料进行纳米/微米的图案加工。★ 纳米压印加工技术(NIL): 学生操作和实践纳米压印加工技术。业内专家认为,作为半导体行业未来的市场需求,纳米 压印加工技术(NIL)是最具前景的一项技术。 总之,COSMOS nanoFAB可以应用的领域包括:● 表面化学● 材料科学● 工业应用● 半导体器件的电子元件制造● 生物固定和生物传感应用● 直觉式的数据撷取软件 PSX 可提供用户在最基本教育训练下,即可直接操作。值得一提的是,一键扫描功能可自动地设定参数与进行扫描,用户同样能够快速获得高质量的扫描结果。PSX 内建的扫描库管理功能有效地简化扫描数据的整理,以方便用户删除或输出扫描图文件。 ● 永效性的光路校准系统---雷射点实时维持在四象限二极管中心,不须另外校正。● 一键扫描- 藉由智能预测算法,即可轻松点击按键便可进行全自动扫频、下针、做力图曲线、以及扫描样品等相关流程。 应用案例和模块信息介绍-微接触印刷(μCP): 描述:微接触印刷(μCP)是一种非光刻技术,也是“软刻蚀技术”的前身。μCP是一种常有吸引力的、可以应用于生物技术领域的、用于微米和纳米图案/结构制备的技术。它使用弹性印章,通过将各种分子(从有机分子到大的生物物质)点印到固体基底上,以生成二维的微米和纳米结构。这项技术包括两个主要步骤:印章的制作及印刷,如图所示。包被靶标分子的弹性印章通过预施加的控制来接触基底表面,从而将靶标分子转移到基底上。不同的大小和形状的几何图形可以生成各种各样的印章,例如可以使用大的平面印章或滚动印章(类似于油漆辊)在平面和非平面表面上点印,从而轻松地对很大的区域进行图案制备。印章是由弹性体聚合物制成,如聚二甲基硅氧烷(PDMS),聚氨酯,聚酰亚胺和树脂等等。 应用:微接触印刷是一个从下而上的加工技术,由于简单方便,高通量和成本低廉,现广泛应用于多个领域,如光学、MEMS、高密度分子电路、微流体、微阵列和生物传感器点印寡核苷酸、固定细胞来研究细胞-细胞和细胞-基底表面的相互作用、生成肽阵列研究免疫实验和生物传感器实验的蛋白质和生物配体。 我们客户还可以探索如何在大尺寸和纳米尺度上点印计算机芯片或者如何制作生物传感器。例如,在实验室里,可以使用大尺寸和纳米尺度的印章,用光刻技术制作纳米印章模板和聚合物。印章将被包被有机小分子与黄金等贵金属,然后点印在黄金薄膜的基底上,随后的是金的湿蚀刻,没有被有机分子保护的区域将被蚀刻。在这样的一个实验中,印章上的结构将被复制到基底上。 应用案例和模块信息介绍-光刻技术: 光刻技术是当今世界上最成功的精密加工技术之一。自1959年发明以来,它就是最有价值和最有利润的行业,最初是开发出来用于微电子工业(集成电路平面技术),现在也被用来制造微型器件(硅晶体平面的三维结构材料刻蚀)。从那以后,这个行业一直在广泛需求中不断发展,包括单个电路元件和整合的半导体材料,基本上所有的集成电路是用光刻技术制造的。光刻工艺概述如图所示,预先设计的图案是从光掩模(例如用电子束光刻法)传送到靶标的硅基底。该程序包括以下常用的步骤: 1、在硅片层基底上包被一层薄薄的紫外线敏感的聚合物抗蚀剂(光刻胶)(图2a,图2b)。 2、随后紫外光透过有图案的印章(图2c)进行照射,只有部分抗蚀剂暴露在紫外线下,这引起了抗蚀溶解度的变化。然后将印章放置于离样品尽可能近的地方但是不接触,如图2c所示。由于光衍射,辐射面积会增大一些,大于印章对应的开口区域(这将导致分辨率降低)。这种光刻蚀程序只能用于创建尺寸小于辐射波长的图案和器件。因此,半导体工业也开始使用更短波长的光线来做辐射。 3、紫外线曝光后,将样品浸入显影剂中,以便从显影剂中除去光刻胶暴露在光线下的地方(图2d)。 4. 硅晶片上的抗蚀图案随后被用来从裸片上蚀刻材料(将硅晶片暴露于蚀刻剂)(图2e)或沉积电路设计需要的其他材料。最后光刻胶完全脱离硅晶片(图2)。 在这四个步骤之后,抗蚀剂(光刻胶)上的图案特征被转移到硅晶片的基底上(步骤f)。整个过程可以按电路设计要求重复多次。 用途:光刻蚀是一种从上而下的制作工艺,选择光刻蚀工艺是因为它可以产生小到几十纳米的图案,并提供精确的控制形状,大小,并且制备成本非常低。 光刻技术被广泛应用于从微电子到生命科学的各个行业,在可预见的未来,它还将是微处理器、存储器和其他微电子设备信息技术的基础。此外,它还用于许多设备的制造业和小型化,从而带来了高性能、可移植性、节约时间、节省成本、节省试剂、提高生产通量、改善功耗、提高检测限度以及新功能的开发。 应用案例和模块信息介绍-纳米压印加工技术(NIL): 描述:纳米压印加工技术(NIL)是基于一种与传统微加工有着根本区别的原理,该技术具有高通量,小于10纳米分辨率和低成本的优点,是目前其他现有刻蚀方法无法达到的。在压印过程中,图案被热敏或紫外光复制到抗蚀剂中,然后被转移到下面的基底上。在热敏纳米压印加工技术(NIL)(T-NIL)工艺中,将表面具有纳米结构的模具压入基底上铸造的薄层抗蚀剂中。抗蚀剂是一种热敏塑料,由于粘度低,在玻璃化温度(Tg)以上时容易变形。当抗蚀剂冷却到Tg以下时,模具被移除,模具的图案被复制在抗蚀剂中。在光固化纳米压印加工技术(UV- NIL)中,将模具在室温下,压入顶层的UV光刻胶中,然后紫外照射交联抗蚀剂,最后模具复制品转移到底层的抗蚀剂和基底上。 在这两个过程中,模具表面都涂上了钝化层,以防止在分离过程中抗蚀剂粘在模具上。在图案转移过程中,利用反应离子刻蚀~RIE等各向异性刻蚀工艺去除压缩区域的残余抗蚀剂,将压印中产生的厚度对比图案转移到整个抗蚀剂中。 应用:为了加快纳米结构的研究和商业化,必须有一个高通量和低成本的纳米加工技术,来实现尺寸、形状和间距完全自由化的设计。这就是为什么纳米压印会快速发展,并且它已经扩展到许多学科,如微电子学、生物学、化学、医学和信息存储。还有希望应用于光学器件、磁存储器、微电子机械系统、生物技术、微波器件的三D打印、生物技术中使用的微流控通道、存储器VRAM的环形结构、无源光学元件等。
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  • 音圈电机纳米扫描台 400-860-5168转6164
    基于音圈电机驱动和高精度导向模组实现纳米级超高分辨力的定位/扫描直线运动,内置光栅位移传感器,结构紧凑,通过自主研发的高性能纳米伺服系统获得优异的闭环控制效果,具有纳米级运动分辨率和运动精度,同时兼具高速、高动态位移定位和扫描功能。特点:高精度、高动态、跨尺度、大承载、灵活性应用领域:光学系统中透镜的定位医学装置中精密电子管、真空管控制机械工具的多坐标定位平台柔性机器人中使未端执行器快速精确定位
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  • 纳米高压均质机用途:  可应用于二氧化硅,蜡,环氧,丙烯酸,纤维素,硅酮乳液,润滑剂,TiO2油墨,颜料涂料,CNT,碳,BT ,,石墨烯,氧化铝。乳液,奶油海藻萃取等  各种技术的剪切率  剪切率:  通过供给分散单元和狭窄间隙之间的差动速度引起的。  速度:  在分散单元内约有 400~ 500m/s  碰撞:  受到碰撞的力量  速度超过 400 m/s,剪切率达 107s-1,整批混合条件不变,可用和负担得起的可扩展性。  NLM100: 75?m Z 型和 100?m Z 型  NH500: 100?m Z 型和  200?m Z 型, NH4000: 400?m Z 型 (过滤) - 100?m Y 型(multi slots-多槽)  纳米高压均质机新技术的出现要求先进的材料处理,特别是化学,电子材料。  样品的供给和排出可以通过柱塞来完成,从左到右依次移动。柱塞的移动导致相互作用使分散单元内压力升高。  当高压流体样品通过相互作用的分散单元时,其速度突然增加到跨音速流体(马赫数 1)并引起剪切机和空穴作为分散的动力源。  大工作压力(设计) 1700bar(2000bar)控制系统液压系统驱动大流量480L/H均质腔型号Z /Y型,孔径 100/200/400μm外形尺寸3090L*1000W*2160H电力需求380v,50HZ,37kw重量2000kg  ※ 可以根据客户不同种应用定制合适的搭配  ※ 利用样品与样品之间的湍流和对撞来实现样品的处理,样品污染的风险更小!  ※ 大耐压可达 30000psi,超过目前所有的样品处理设备,可达到更大的剪切力,空穴和湍流的效果!  ※ 金刚石内置层,更加耐磨,适用于更多的颗粒坚硬的样品处理  苏州纳洛泰仪器有限公司专业销售微射流高压均质机,超高压纳米微射流,纳米粉碎机,纳米高压粉碎机,微射流纳米均质机,脂质体挤出器,超高压灭菌柜,primix高速分散机,微反应乳化机,高压分散器等工业用设备, 成套设备以及研究装备的企业.
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  • 一.机型称号:纳米碳管研磨混合机,药物研磨混合机,毫微米研磨混合机,超飞快研磨混合机,水管式研磨混合机,3级研磨混合机,高剪切研磨混合机。二.研磨机:机型19款,处理量50到8*10000KG/小时,旋转1100到1.4*10000转/分钟,线速度23到44m/秒,电滚功耗1.5到160kW,磨头胶体磨&锥体磨。三.研磨分散机:机型6款,处理量50到6*1000KG/小时,旋转1100到9*1000转/分钟,线速度23m/秒,电滚功耗2.2到150kW,磨头胶体磨。四.小型分散乳化机:机型30款,处理量0.2克到10KG/小时,旋转50到3*10000转/分钟,线速度3到33m/秒,电滚功耗0.3到0.8kW。五.真空分散乳化机:机型32款,处理量5到2*10000KG/小时,旋转14到1.4*10000转/分钟,线速度44m/秒,电滚功耗0.18到120kW。六.均质匀浆机:机型4款,处理量0.2到150克/小时,旋转3500到8*1000转/分钟,线速度3到10m/秒,电滚功耗0.145到0.18kW。七.多效用分散乳化均质机:机型27款,处理量150到12.5*10000KG/小时,旋转960到1.4*10000转/分钟,线速度10到44m/秒,电滚功耗1.5到160kW。八.混合机:机型I6款,处理量300到12.5*10000KG/小时,旋转1100到9*1000转/分钟,线速度20到23m/秒,电滚功耗1.5到160kW。九.实用物料种类:胶粘溶胶,巨粒子固态液体悬空液乳剂,不包溶等。十.终级粒径:主腔内有叁组定转子,每组粗齿、中齿、细齿、超细齿。调动定转子间隙,加工后地终级粒径在10微纳米之下。十一.胚料配件:百分之八十以上进ロ海内外公司。十二.技艺出处:引荐德国技艺,立发明加工,备有专利。十三.工作方式:有在线式,批次式,内外循环式,水管式,可倒式,若干效用式。十四.机型合成:靠预加工锅、搅动锅、泵、液压系统、倒料系统、电力调动系统、主腔等部件合成。十五.智力化:CIP冲洗系统,液压升降松盖,包括配料给料吸料安装。十六.磨头好处:研磨头可调5款模版,6款分散头,20多款工作头。十七.锥磨好处:锥磨转子外层包含金属碳化物跟不一样粒子地陶瓷镀层等高上材料,提防毁伤腐蚀。十八.机型材料:统统接碰物料地材料皆是进口耐酸钢,主腔跟管路内乃亮面抛光三百EMSH(卫生级),无死角。十九.密封好处:博格曼双机械密封,液压平稳系统(可以担当16atm重压),软密封。二十.搅动方式:可挑刮壁式/锚固式/融解式/叶面式。二十一.机型好处:机型采选上层同轴三重装搅动器,循环管路,出水阀。二十二.操控箱好处:不但可以操控电滚旋转,摄氏度降温升温(经历电能,热汽,油水循环,可以担当-40到250摄氏度),重压,PH度,粘性。且可以设定不一样效用模版,呈现相称地个个参数,可以线性扩大量产。二十三.可以抉择:察看窗,硅氟酸玻璃察看,电导率计,二重绝缘以防,稳固夹,工作架,底座,图谱剖析多效用显微硬度器(测试界限1到4千HV),管路式测试电炉(测试界限zui高1350度),输出泵/转子泵/气动隔膜泵/锚固泵/离心泵(处理量850到4.3*10000KG/小时),反应搅动单罐/组合罐(500到3*1000KG/小时),反渗透/全自动纯水安装(0.5到3*1000KG/小时),臭氧发生器,过流式紫外线消菌器等。?.别的特长:整体立方小,电耗低,分贝低,可每日不断出产。?.访客垂访:按照访客实况必要恰当抉选!别的可订制非标和生产线!假若是非常情况,比方超温,超压,易烧易炸,侵蚀性,可产品升级!?.物料测量:得到访客物料后当即投入测量,瞧可否到达要求&答复测量进程&成果。?.方案价格:断定好产品功用后当即策画方案,包含2D部署图,总安装出产线表示图,立体成果图,&呈上本该得价格单子!?.结语:我们是出产厂家,详尽信息可以企业查看,因此分外恭候访客去垂访&更深一步长谈!以上信息不容坊造,非常道谢!扩展内容可不看:碳纳米管(CNTs),管状纳米级石墨晶体,是由单层或多层石墨片以一定的螺旋角绕中心轴卷曲而成的无缝纳米管。 每一层的C经过SP2杂化形成六边形平面的圆柱面。 碳纳米管还具有天然存在的碳晶体的特性。 制造被称为碳原子材料的碳纳米管。 科学发现自然,自然验证科学。
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  • A-Z系列纳米粉 400-860-5168转2205
    A-Z系列纳米粉 我司提供A-Z系列纳米粉料,纯度3N-4N不等,欢迎您的垂询!名 称规 格名 称规 格ZnO3N 50nmNd2O33N5 20-30nmγ相 Al2O34N 40nmZrC40nm 97%α相Al2O34N 40nmTiN40nm 97%SiO215-20nmTiC20nm 99%SiO250-60nmAlN40nm 99.9%ZrO4N 40nmSi3N420nm 99%CuO3N 30nmBN40nm 99% 六方结构TiO2(锐钛矿)4N 10nmB4C50nm 99%TiO2(金红石)4N 20nmFe3O499.5% 20nmMgO3N 40nmα-Fe2O399.5% 30nm 氧化铁Ho2O33N 30-50nmγ-Fe2O399.5% 20nm 磁性氧化铁CeO24N 20-30nmZnFe2O499.5% 30nm 铁酸锌La2O320-30nmNiFe2O499.5% 30nm 铁酸镍Tm2O35NCoFe2O499.5% 40nm 铁酸钴Dy2O34NZnO.5NiO.5Fe2O499.5% 30nm 复合铁酸锌镍Dy2O33N5ZnO.5CoO.5Fe2O499.5% 40nm 复合铁酸锌钴Er2O34N5-8微米NiO.5CoO.5Fe2O499.5% 40nm 复合铁酸镍钴Lu2O34N5Sm2O399.5% 40nm 氧化銏Sm2O33NPr6O1199.9% 50nmSm2O35NNiO99.5% 30nmSc2O3高纯粉 4NSi3N430nmGd2O3高纯粉 4NSiC30nmAl99.99% 1~50nmC30nmZn99.99% 1~50nmIn2O399.99% 20~100nm 化学湿法Ag99.9% 50nmBaCO399.9% 50nmW99.9% 80nmCu99.99% 1~50nmTi99% 80nmFe99.9% 1~50nm
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  • 产品描述PSWH30-005U系列是具有纳米级定位分辨率的高速,多轴,精密纳米定位系统。本系列产品提供多功能性,可以配置XY或XYZ运动,并拥有独立的Z/X轴运动产品。可选配内部位置传感器进行闭环,可进行重复的位置测量。体积小,外形尺寸仅有30x30x33mm,具有高谐振频率,高稳定性,高精度使其非常适合需要低噪声和高速性能的计量应用。可根据客户要求定制。PSWH30-005U系列压电陶瓷元件直接移动工作台面,具有高刚性,即使在高负载下可实现稳定定位。产品特性—高速1ms响应,多轴定位—最短的响应时间—亚纳米范围内的高分辨率—高度紧凑的设计带来卓越的性能选配功能—可定制孔位及转接装置—可选PZT&Sensor连接器及线缆长度—可选配闭环(SGS) 位置反馈系—可提供XYZ版本应用领域—原子力显微镜、扫描探针显微镜—测量、计量—光学探针、光学扫描、光束对准—微流体技术 结构原理 叠堆形式 典型应用PSWH30-005U系列技术参数
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