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硫化锌法

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硫化锌法相关的耗材

  • ZnS琉化锌晶体光学材料
    ZnS琉化锌晶体光学材料作为一个重要的二,六化合物半导体,硫化锌纳米材料已经引起了极大的关注,不仅因为其出色的物理特性,如能带隙宽,高折射率,高透光率在可见光范围内,而且其巨大的潜力应用光学,电子和光电子器件。硫化锌具有优良的荧光效应及电致发光功能,纳米硫化锌更具有独特的光电效应,在电学、磁学、光学、力学和催化等领域呈现出许多优异的性能,因此纳米硫化锌的研究引起了更多人的重视,尤其是1994年Bhargava报道了经表面钝化处理的纳米ZnS:Mn荧光粉在高温下不仅有高达18% 的外量子效率,其荧光寿命缩短了5个数量级,而且发光性能有了很大的变化,更为ZnS在材料中的应用开辟了一条新途径。可用于制白色的颜料及玻璃、发光粉、橡胶、塑料、发光油漆等。Zinc sulfide is commonly used for IR optics, substrates and as a source for evaporation. Basic propertiesStructure:Cubic (zincblende)Density: 4.08 g/ cm3Knoop Hardness:210 kg/ mm2Young’s Modulus:10.8 MpsiPoisson Ratio:0.27Coef. of Thermal Expansion:6.8×10-6/KSpecific Heat:0.469 J/gKThermal conductivity (at 25 °C):0.16 W/cmKMax. Transmittance (λ=7-12 μm):≥ 71 %Absorption Coef. (λ=10.6 μm):≤0.15 cm-1(including 2 surfaces)Thermo-Optic Coef. (dn/dT):4.7 (λ =10.6 μm)Refractive index (λ=10.6 μm):2.34Electrooptical coefficient r41 (λ=10.6 μm):2×10-12 m/VMax. crystal diameter/length:?38×30 mmZnS Transmission ProductsZnS rods, wafers and substratesDiameter/Width1-38 mmThickness/length0.1-150 mmOrientation(110)Surface qualityAs-cut, 80/50, 60/40 per MIL-0-13830ZnS crystal pieces for vapour deposition.Purity99.995%, 99.999%Particle size0.01- 10 mm 更多晶体相关产品 碲化锌晶体 ZnTe晶体 铌酸锂晶体 LiNbO3晶体 硒化锌晶体 ZnSe晶体 硒化镓晶体 GaSe晶体 硫化锌晶体 ZnS晶体 磷化镓晶体 GaP晶体 有机晶体 DAST晶体 有机晶体 DSTMS晶体 有机晶体 OH1晶体
  • Si,ZnS,ZnSe 硅窗片硒化锌窗片硫化锌窗片
    盐片窗片 产品名称:盐片,窗片 型号规格:160-xxxx 品牌:美国PIKE公司 产品价格:面议(RMB) 详细信息 1. 盐片,窗片------应用于红外光谱分析固体及液体样品。 2. 材料:AMTIR,BaF2,CaF2,CsI,Ge,KBr,KRS-5,NaCl,SiO2,Si,ZnS,ZnSe。 2. 直径:13mm,20 mm,25 mm,29 mm,31 mm,32 mm,38mm,35 mm,38mm,40 mm,41 mm,49 mm,50 mm等。 3. 产品具有纯度高,透光率好等优点。
  • 单层二硫化钨-单层二硫化钨
    参数:制备方法:锂基插层法组成:单层二硫化钨外观:黑色粉末或分散体直径:0.1-4um厚度:1纳米单分子层比例:95%Parameter:Preparation Method:Lithium-based Intercalation MethodComposition: Monolayer Tungsten disulfideAppearance: Black Powder or dispersionDiameter: 0.1-4 μmThickness: ~1 nmMonolayer ratio: =95%
  • PHI平板硫化机专用电磁阀
    PHI平板硫化机专用,属于设备专用备件。
  • 安徽硫化物测定装置硫化物测定装置
    安徽硫化物测定装置硫化物测定装置
  • 单层二硫化钼-单层二硫化钼
    参数:制备方法:锂基插层法组成:单层二硫化钼外观:黑色粉末或分散体直径:0.2~5um,主要集中在1um-3um厚度:1纳米单分子层比例:95%Parameter:Preparation Method:Lithium-based Intercalation MethodComposition:Monolayer Molybdenum disulfideAppearance: Black Powder or dispersionDiameter: 0.2-5 μm, mainly concentrate in 1μm-3μmThickness: ~1 nmMonolayer ratio: =95%
  • 硫化仪、门尼和自动进样硫化仪卷状尼龙薄膜
    硫化仪、门尼和自动进样硫化仪 130mm 宽600mm长 23µ m厚 卷状尼龙薄膜硫化仪、门尼和自动进样硫化仪 130mm 宽600mm长 25µ m厚 卷状尼龙薄膜
  • 二硫化钨
    分类:半导体中文名称:二硫化钨英文名称:Ws?纯度:≥99.9999% 尺寸:~10 mm
  • 硫化砷
    简介:二维晶体材料指的是以石墨烯为代表的单原子层及少数原子层厚度的晶体材料,巨纳集团除了提供石墨烯材料、设备、检测等一体化服务外,还联合美国2D Semiconductors为全球客户提供高质量的二维晶体材料、粉体、溶液、薄膜等材料,并提供定制服务,以满足客户的不同需求。硫化砷As?S?
  • 硫化镓
    简介:二维晶体材料指的是以石墨烯为代表的单原子层及少数原子层厚度的晶体材料,巨纳集团除了提供石墨烯材料、设备、检测等一体化服务外,还联合美国2D Semiconductors为全球客户提供高质量的二维晶体材料、粉体、溶液、薄膜等材料,并提供定制服务,以满足客户的不同需求。硫化镓Gallium Sulfide (GaS)
  • 硫化锗
    简介:二维晶体材料指的是以石墨烯为代表的单原子层及少数原子层厚度的晶体材料,巨纳集团除了提供石墨烯材料、设备、检测等一体化服务外,还联合美国2D Semiconductors为全球客户提供高质量的二维晶体材料、粉体、溶液、薄膜等材料,并提供定制服务,以满足客户的不同需求。硫化锗GeS
  • 硫化物分析专用色谱柱
    ?分析硫的CP-Sil 5 CB 色谱柱?分析挥发性硫化物的最佳选择用于挥发性硫化物直至C7 硫醇的痕量分析,实现更高的分析效率采用非极性固定相可实现基于挥发性的精确分离具有高惰性,可洗脱SO2,提供高质量数据和低检测限订货信息:
  • 二硫化铪
    简介:二维晶体材料指的是以石墨烯为代表的单原子层及少数原子层厚度的晶体材料,巨纳集团除了提供石墨烯材料、设备、检测等一体化服务外,还联合美国2D Semiconductors为全球客户提供高质量的二维晶体材料、粉体、溶液、薄膜等材料,并提供定制服务,以满足客户的不同需求。二硫化铪HfS?
  • 单层二硫化钨
    分类:单层剥离型中文名称:单层二硫化钨英文名称:Monolayer WS2
  • 硫化锗(GeS)
    1、企业介绍泰州巨纳新能源有限公司:巨纳集团(Sunano Group)是能源行业的知名品牌。泰州巨纳新能源有限公司(Sunano Energy)是国内最早的从事石墨烯制备、性能检测及应用产品开发的公司之一,注册资本11000万元,有办公用房300多平方米,厂房和洁净室3000多平方米。核心研发团队主要由国内外知名高校博士组成,部分成员来自于2010年诺贝尔物理学奖小组,项目技术处于国际领先地位,在石墨烯领域拥有专利30余项。企业管理团队有丰富的成功创业经验,创新意识强,公司客户遍布全球。2、高质量二维晶体材料简介:二维晶体材料指的是以石墨烯为代表的单原子层及少数原子层厚度的晶体材料。巨纳集团除了提供石墨烯材料、设备、检测等一体化服务外,还联合荷兰HQ Graphene为全球客户提供高质量的类石墨烯二维晶体材料,并提供定制服务,以满足客户的不同需求。 名称:硫化锗(GeS)纯度:>99.995% 尺寸:可定制 属性:半导体
  • 二硫化钼
    二硫化钼MoS2Small 15x10mm
  • 二硫化钼
    二硫化钼MoS2Small 10x10mm
  • 硫化物分析专用柱
    规格:5m*3mm材质:不锈钢配适机器型号:需客户提供相关信息用途:特殊工艺制造,专用于硫化物的检测分析。
  • 硫化物检测管
    硫化物检测管可自动完成采样和显色反应,与ZZW测试仪配套使用,可在5分钟内完成对水样中硫化物的定量测定。无须标样校准仪器,非专业技术人员即可轻松操作。测定范围:低量程 0.2-1.0mg/L 高量程 1.0-16mg/L
  • 二硫化钛
    简介:二维晶体材料指的是以石墨烯为代表的单原子层及少数原子层厚度的晶体材料,巨纳集团除了提供石墨烯材料、设备、检测等一体化服务外,还联合美国2D Semiconductors为全球客户提供高质量的二维晶体材料、粉体、溶液、薄膜等材料,并提供定制服务,以满足客户的不同需求。二硫化钛Titanium Disulfide (TiS?)
  • 二硫化铼
    简介:二维晶体材料指的是以石墨烯为代表的单原子层及少数原子层厚度的晶体材料,巨纳集团除了提供石墨烯材料、设备、检测等一体化服务外,还联合美国2D Semiconductors为全球客户提供高质量的二维晶体材料、粉体、溶液、薄膜等材料,并提供定制服务,以满足客户的不同需求。二硫化铼Rhenium Disulfide (ReS?)
  • 二硫化锆
    简介:二维晶体材料指的是以石墨烯为代表的单原子层及少数原子层厚度的晶体材料,巨纳集团除了提供石墨烯材料、设备、检测等一体化服务外,还联合美国2D Semiconductors为全球客户提供高质量的二维晶体材料、粉体、溶液、薄膜等材料,并提供定制服务,以满足客户的不同需求。二硫化锆Zirconium Disulfide (ZrS?)
  • 二硫化钨
    简介:二维晶体材料指的是以石墨烯为代表的单原子层及少数原子层厚度的晶体材料,巨纳集团除了提供石墨烯材料、设备、检测等一体化服务外,还联合美国2D Semiconductors为全球客户提供高质量的二维晶体材料、粉体、溶液、薄膜等材料,并提供定制服务,以满足客户的不同需求。二硫化钨Tungsten Disulfide (WS?)
  • 二硫化钨钼
    简介:二维晶体材料指的是以石墨烯为代表的单原子层及少数原子层厚度的晶体材料,巨纳集团除了提供石墨烯材料、设备、检测等一体化服务外,还联合美国2D Semiconductors为全球客户提供高质量的二维晶体材料、粉体、溶液、薄膜等材料,并提供定制服务,以满足客户的不同需求。二硫化钨钼Molybdenum Tungsten Disulfide (MoWS?)
  • 二硫化铌
    简介:二维晶体材料指的是以石墨烯为代表的单原子层及少数原子层厚度的晶体材料,巨纳集团除了提供石墨烯材料、设备、检测等一体化服务外,还联合美国2D Semiconductors为全球客户提供高质量的二维晶体材料、粉体、溶液、薄膜等材料,并提供定制服务,以满足客户的不同需求。二硫化铌Niobium Disulfide (NbS?)
  • 二硫化钽
    简介:二维晶体材料指的是以石墨烯为代表的单原子层及少数原子层厚度的晶体材料,巨纳集团除了提供石墨烯材料、设备、检测等一体化服务外,还联合美国2D Semiconductors为全球客户提供高质量的二维晶体材料、粉体、溶液、薄膜等材料,并提供定制服务,以满足客户的不同需求。二硫化钽Tantalum Disulfide (TaS?)
  • 二硫化锡
    简介:二维晶体材料指的是以石墨烯为代表的单原子层及少数原子层厚度的晶体材料,巨纳集团除了提供石墨烯材料、设备、检测等一体化服务外,还联合美国2D Semiconductors为全球客户提供高质量的二维晶体材料、粉体、溶液、薄膜等材料,并提供定制服务,以满足客户的不同需求。二硫化锡Tin Disulfide (SnS?)
  • 单层二硫化钼-纳米尺寸单层二硫化钼
    参数:制备方法:锂基插层法组成:单分子层,具有小尺寸的二硫化物外观:黑色粉末或分散体直径:20-500 nm,主要集中在100-200 nm厚度:1纳米单分子层比例:95%Parameter:Preparation Method:Lithium-based Intercalation MethodComposition: Monolayer Tungsten disulfide with small sizeAppearance: Black powder or dispersionDiameter: 20-500 nm, mainly concentrate in 100-200 nmThickness: ~1 nmMonolayer ratio: =95%
  • 二硫化钼
    裕隆时代向客户提供质量精良的进口二硫化钼,充分满足客户实验需求。规格:20*10mm; 15*9mm;8*8mm
  • 单层二硫化钨-纳米尺寸单层二硫化钨
    参数:制备方法:锂基插层法组成:单分子层,具有小尺寸的二硫化物外观:黑色粉末或分散体直径:20-500 nm厚度:1纳米单分子层比例:95%Parameter:Preparation Method:Lithium-based Intercalation MethodComposition: Monolayer Tungsten disulfide with small sizeAppearance: Black powder or dispersionDiameter: 20-500 nmThickness: ~1 nmMonolayer ratio: =95%
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