离子存储薄膜

产品名称：等离子薄膜溅射仪 GSL-1100X-SPC-12产品简介：GSL-1100X-SPC-12型等离子薄膜溅射仪是为扫描电镜和电子探针等进行试样制备的设备，可进行真空蒸碳、真空镀膜和离子溅射，它也可以在高纯氩气的保护之下进行多种离子处理。用本设备处理的试样既可用于样品的外貌观察又可以进行成分分析，尤其是成分的定量分析更为适宜。本仪器装有分子泵，分子泵系统特别适用于对真空要求高、真空环境好的用户选用。 我公司供应的产品符合国家有关环保法律法规的规定（含采购商ISO14000环境体系要求），不会造成环境污染； 该产品符合采购商OHSMS18000职业安全健康管理体系标准的要求，不会对接触产品的人员健康造成损害！主要特点：抽速快，操作简便，真空度高，安全可靠技术参数：●试样处理室 （1）钟罩：内径250mm× 高度340mm （2）玻璃处理室： 玻璃罩 A：内径88mm× 高度140mm 玻璃罩 B：内径88mm× 高度57mm （3）试样台：直径40mm（最大） （4）试样旋转：电动 （5）挡板：电动 （6）蒸发加热器：可同时安装两个加热器 ●真空系统 （1）抽气系统：由分子泵、机械泵组成的高真空机组 （2）真空检测：热偶计、冷规 （3）常用真空度：1.3× 10-2 ~6× 10-3Pa （4）操作：手动 ●处理电源 （1）高压电源：DC3千伏10mA连续可变，用表指示。 （2）低压电源：AC10V100A连续可变，电流用表指示。 （3）电源要求：AC220V 50HZ 10A ●气体要求 氩气纯度99.9%（对样品有特殊要求时可使用） ●冷却要求 本系统采用F100/110F―普通轴承风冷涡轮分子泵，其冷却方式为风扇强制风冷和通水冷却两种，当工作环境低于32℃时，可采用风冷冷却，当工作环境温度高于32℃时，则必须采用水冷。重量：约150公斤 体积：L800mm× W560mm× H1340mm可选配件：氧化铝坩埚，石英坩埚，真空泵等具体信息请点击查看：

1. 产品概述：高真空等离子体增强化学气相薄膜沉积（PECVD）系统是一种先进的材料制备技术，广泛应用于物理学、化学、材料科学等多个领域。该系统通过在高真空环境下利用射频、微波等能量源将反应气体激发成等离子体状态，进而在基片表面发生化学反应，沉积出所需的薄膜材料。这种技术具有沉积温度低、沉积速率快、薄膜质量高等优点，能够制备出多种功能性薄膜，如氧化硅、氮化硅、碳化硅、多晶硅等。2 设备用途/原理：半导体工业：用于制备集成电路中的钝化层、介电层等关键薄膜，提高器件的可靠性和性能。光伏产业：在太阳能电池制造中，PECVD系统被广泛应用于制备透明导电氧化物（TCO）薄膜、减反射膜等，以提高光电转换效率。平板显示：在液晶显示器（LCD）和有机发光二极管（OLED）等平板显示器件的制造中，PECVD系统用于制备薄膜晶体管（TFT）的栅极绝缘层、钝化层等关键薄膜。微电子与纳米技术：在微纳电子器件、纳米传感器等领域，PECVD系统能够制备出具有优异性能的薄膜材料，如抗腐蚀层、绝缘层等。3. 设备特点 1 高真空环境：PECVD系统通常配备有高真空泵组，以确保反应室内的真空度达到较高水平，从而减少杂质对薄膜质量的影响。 2 等离子体增强：通过射频或微波等能量源将反应气体激发成等离子体，使气体分子高度活化，降低反应温度，提高沉积速率和薄膜质量。 3 精确控制：系统配备有精密的控制系统，可以对反应气体的流量、压力、温度以及射频功率等参数进行精确控制，从而实现对薄膜厚度、成分和结构的精确调控。 4 多功能性：PECVD系统具有广泛的应用范围，可以制备出多种不同成分和结构的薄膜材料，满足不同领域的需求。4 设备参数真空室结构:方形侧开门真空室尺寸:设计待定限真空度:≤6.0E-5Pa沉积源:设计待定 样品尺寸，温度:设计待定占地面积（长x宽x高）:约6米×3米x2米（设计待定）电控描述:全自动工艺:片内膜厚均匀性：≤±5%

1. 产品概述：高真空等离子体增强化学气相薄膜沉积（PECVD）系统是一种先进的材料制备技术，广泛应用于物理学、化学、材料科学等多个领域。该系统通过在高真空环境下利用射频、微波等能量源将反应气体激发成等离子体状态，进而在基片表面发生化学反应，沉积出所需的薄膜材料。这种技术具有沉积温度低、沉积速率快、薄膜质量高等优点，能够制备出多种功能性薄膜，如氧化硅、氮化硅、碳化硅、多晶硅等。2 设备用途/原理：半导体工业：用于制备集成电路中的钝化层、介电层等关键薄膜，提高器件的可靠性和性能。光伏产业：在太阳能电池制造中，PECVD系统被广泛应用于制备透明导电氧化物（TCO）薄膜、减反射膜等，以提高光电转换效率。平板显示：在液晶显示器（LCD）和有机发光二极管（OLED）等平板显示器件的制造中，PECVD系统用于制备薄膜晶体管（TFT）的栅极绝缘层、钝化层等关键薄膜。微电子与纳米技术：在微纳电子器件、纳米传感器等领域，PECVD系统能够制备出具有优异性能的薄膜材料，如抗腐蚀层、绝缘层等。3. 设备特点1 高真空环境：PECVD系统通常配备有高真空泵组，以确保反应室内的真空度达到较高水平，从而减少杂质对薄膜质量的影响。 2 等离子体增强：通过射频或微波等能量源将反应气体激发成等离子体，使气体分子高度活化，降低反应温度，提高沉积速率和薄膜质量。 3 精确控制：系统配备有精密的控制系统，可以对反应气体的流量、压力、温度以及射频功率等参数进行精确控制，从而实现对薄膜厚度、成分和结构的精确调控。 4 多功能性：PECVD系统具有广泛的应用范围，可以制备出多种不同成分和结构的薄膜材料，满足不同领域的需求。真空室结构:1个中央传输室：蝶形结构；3个沉积室：方形结构； 1个进样室：方形结构真空室尺寸:中央传输室：Φ1000×280mm ； 沉积室：260×260×280mm ；进样室：300×300×300mm限真空度:中央传输室：6.67E-4 Pa；沉积室：6.67E-6 Pa ；进样室：6.67 Pa沉积源:设计待定样品尺寸，温度:114X114X3mm， 加热温度350度，机械手传递样品占地面积（长x宽x高）:约13米x9米x2.3米（设计待定）电控描述:全自动控制工艺:在80X80mm范围内硅膜的厚度均匀性优于±5%特色参数:共有8路工作气体

1.产品概述：高真空磁控溅射与离子束复合薄膜沉积系统可用于制备光学薄膜、电学薄膜、磁性薄膜、硬质保护薄膜和装饰薄膜等，工艺性能稳定、模块化结构，采用行业先的软件控制系统，用于纳米单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等新型薄膜材料的制备。可广泛应用于大院校、科研院所的薄膜材料的科研项目。2.产品工艺：真空室结构:圆筒形上升盖真空室尺寸:φ550x450mm限真空度:≤6.0E-5Pa沉积源:磁控靶3套，φ2英寸； 四工位转靶1套；样品尺寸，温度:φ2英寸，6片。高可以到达800℃占地面积（长x宽x高）:约3米×1.1米×2米电控描述:全自动控制工艺:片内膜厚均匀性：≤±3%溅射源：考夫曼离子源 Kaufman 2套，φ2英寸

【ITO薄膜测厚仪 电池薄膜厚度测定仪 接触式薄膜厚度测试仪】ITO薄膜是一种n型半导体材料，具有高的导电率、高的可见光透过率、高的机械硬度和良好的化学稳定性。它是液晶显示器（LCD）、等离子显示器（PDP）、电致发光显示器 （EL/OLED）、触摸屏（TouchPanel）、太阳能电池以及其他电子仪表的透明电极最常用的薄膜材料。ITO薄膜是一种很薄的金属薄膜，在透明导电薄膜方面得到普遍的应用，具有广阔的前景。但薄膜的厚度是否均匀直接关系到企业的生产成本控制，所以对ITO薄膜厚度的高精度测量，是企业必须重视的检测项目之一。Labthink兰光研发生产的CHY-C2A测厚仪，采用机械接触式测量方式，严格符合标准要求，有效保证了测试的规范性和准确性。专业适用于量程范围内的塑料薄膜、薄片、隔膜、纸张、箔片、硅片等各种材料的厚度精确测量。设备分辨率高达0.1微米，配置的自动进样系统，使用户可自行设置进样步距、测量点数和进样速度，大大提高了薄膜厚度测试效率。 技术特征： 负荷量程：0～2 mm（常规）　　　　　0～6 mm；12 mm （可选）分辨率：0.1 μm测量速度：10 次/min （可调）测量压力：17.5±1 KPa（薄膜）；50±1 KPa（纸张）接触面积：50 mm2（薄膜）；200 mm2（纸张）　　　　　注：薄膜、纸张任选一种；非标可定制电源：220VAC 50Hz / 120VAC 60Hz外形尺寸：461mm(L)×334mm(W)×357mm(H)净重：32kg 以上【ITO薄膜测厚仪 电池薄膜厚度测定仪 接触式薄膜厚度测试仪】信息由济南兰光机电技术有限公司发布，如欲了解更详细信息，欢迎致电0531-85068566垂询！

1. 产品概述：高真空等离子体增强化学气相薄膜沉积（PECVD）系统是一种先进的薄膜制备设备，它结合了化学气相沉积（CVD）与等离子体技术的优势。该系统在高真空环境下，通过射频、微波等手段激发气体形成等离子体，使气体分子高度活化并促进其在衬底表面发生化学反应，从而沉积出高质量的薄膜。PECVD系统广泛应用于半导体、光伏、平板显示、储能材料等领域，用于制备多种功能薄膜。2 设备用途/原理：半导体工业：用于制备集成电路中的钝化层、介电层、栅极绝缘层等，提高器件性能。光伏产业：制备太阳能电池板中的透明导电膜（TCO）、减反射膜等，提升光电转换效率。平板显示：在液晶显示器（LCD）和有机发光二极管（OLED）显示屏中制备薄膜晶体管（TFT）的栅极绝缘层、钝化层等。储能材料：制备锂离子电池、超级电容器等储能器件中的电极材料，提高能量密度和循环稳定性。3. 设备特点1 高真空环境：确保沉积过程的纯净度和薄膜质量，减少杂质污染。2 等离子体增强：提高气体分子的活化能，降低反应温度，促进化学反应速率，有利于制备高质量薄膜。3 薄膜均匀性：通过优化气体流动和等离子体分布，实现薄膜厚度的均匀控制。4 灵活性高：可根据需要调整沉积参数（如气体种类、流量、压力、温度等），制备不同成分和结构的薄膜。5 自动化程度高：集成先进的控制系统和监测设备，实现自动化操作和实时监控，提高生产效率和产品质量。4 设备参数真空室尺寸:φ400x300mm限真空度:≤6.67E-5Pa沉积源:设计待定样品尺寸，温度:φ4英寸，1片，高600℃占地面积（长x宽x高）:约2.6米x1.6米x1.8米电控描述:全自动工艺:设计待定特色参数:设计待定

产品简介：GSL-1100X-SPC-12等离子薄膜溅射仪专门为在基底上镀金属膜（如金、铂、铟、银等）而设计，最大放置样品尺寸直径为40mm，膜厚可达300?，特别适用于为SEM样品镀金而作为导电极。 GSL-1100X-SPC-12等离子薄膜溅射仪操作视频 产品型号 GSL-1100X-SPC-12等离子薄膜溅射仪安装条件本设备要求在海拔1000m以下，温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。1、水：不需要2、电：AC220V 50Hz，必须有良好接地3、气：设备腔室内需充注氩气（纯度99.99%以上）清洗，需自备氩气气瓶4、工作台：尺寸600mm×600mm×700mm，承重50kg以上5、通风装置：需要主要特点 1、可以调节电流大小，可设置溅射时间。 2、已经过CE认证。技术参数 1、输入电源：208V-240V 50Hz/60Hz 2、样品台：?60mm，高度可调节 3、石英腔体：?100mm×130mm 4、进气口：内部装有阀门，可以向腔体内通入各种气体 5、靶材：纯度为4N的金靶，?57mm×0.12mm 产品规格　尺寸：480mm×320mm×150mm；重量：20kg可选配件 1、Au（?57mm×0.12mm，4N） 2、Pt（?57mm×0.12mm，4N） 3、Ag（?57mm×0.5mm，4N）

一、高真空互联物理气相薄膜沉积系统概述：沉积系统可用于制备光学薄膜、电学薄膜、磁性薄膜、硬质保护薄膜和装饰薄膜等，工艺性能稳定、模块化结构，采用行业最好的软件控制系统；4英寸镀膜区域内片内膜厚不均匀性：≤±2.5%，8英寸镀膜区域内片内膜厚不均匀性：≤±3.5%，测定标准以Ti靶材，溅射200——500nm厚薄膜，边缘去5mm，随机5点取样测定为准。样品托面中心到地面的高度约1360mm；镀膜材料适用于：Au、Ag、Pt、W、Mo、Ta、Ti、Al、Si、Cu、Fe、Ni、氧化铝，氧化钛，氧化锆，ITO，AZO，氮化钽，氮化钛等；二、PVD平台概述：既专注单一功能、又可通过拓展实现多平台联动：1、 关键部件接口都为标准接口，可以通过更换功能单元实现电子束、电阻蒸发、有机蒸发、多靶或单靶磁控溅射、离子束、多弧、样品离子清洗等功能；2、 系统平台为准无油系统，提供更优质的超洁净实验环境，保障实验结果的可靠性和重复性；3、 系统可以选择单靶单样品、多靶单样品等多层沉积方式；4、 靶基距具有腔外手动调节功能；5、 系统设置一键式操作，可以实现自动手动切换、远程控制、远程协助等功能；6、 控制软件分级权限管理，采用配方式自动工艺流程，提供开放式工艺编辑、存储与调取执行、历史数据分析等功能，可以不断更新和升级；7、 可以提供网络和手机端查询控制功能（现场要具备局域网络），实现随时查询数据记录、分析统计等功能；8、 节能环保，设备能耗优化后运行功率相比之前节能10%；；9、 可用于标准镀膜产品小批量生产。 三、互联系统技术描述 真空互联系统由物理气相沉积磁控溅射系统A、物理气相沉积磁控溅射系统B、物理气相沉积、电子束及热阻蒸发镀膜系统A、物理气相沉积电子束及热阻蒸发镀膜系统B、进样室、出样室、传输管、机械手等组成，可以实现样品在真空环境下不同工艺方法的样品薄膜制备和传递。

GB/T6672接触式薄膜厚度测量仪 薄膜厚度仪 高精度膜厚测试仪是一款高精度、高重复性的机械接触式精密测厚仪，专业适用于量程范围内的薄膜、薄片、纸张、瓦楞纸板、纺织材料、非织造布、固体绝缘材料等各种材料的厚度精密测量。可选配自动进样机，更加准确、高效的进行连续多点测量。设备技术特征：1、专业——Labthink在不断的创新研发和技术积累中推陈出新，使用超高精度的位移传感器、科学的结构布局及专业的控制技术，实现先进的测试稳定性、重复性及精度。2、高效——采用高效率、自动化结构设计，有效简化人员参与过程；智能的控制及数据处理功能，为用户提供更便捷可靠的试验操作和结果处理。3、智能——搭载Labthink新一代版控制分析软件，具有友好的操作界面、智能的数据处理、严格的人员权限管理和安全的数据存储；支持Labthink特有的DataShieldTM数据盾系统（可选配置），为用户提供极为安全可靠的测试数据和测试报告管理功能。GB/T6672接触式薄膜厚度测量仪 薄膜厚度仪 高精度膜厚测试仪测试原理：将预先处理好的薄型试样的一面置于下测量面上，与下测量面平行且中心对齐的上测量面，以一定的压力，落到薄型试样的另一面上，同测量头一体的传感器自动检测出上下测量面之间的距离，即为薄型试样的厚度。执行标准：ISO 4593、ISO 534、ASTM D6988、ASTM F2251、GB/T 6672、GB/T 451.3、TAPPI T411、BS 2782-6、DIN 53370、ISO 3034、ISO 9073-2、ISO 12625-3、ISO 5084、ASTM D374、ASTM D1777、ASTM D3652、GB/T 6547、GB/T 24218.2、FEFCO No 3、EN 1942、JIS K6250、JIS K6783、JIS Z1702中国《药品生产质量管理规范》（GMP）对软件的有关要求（可选配置）应用材料：基础应用：薄膜、薄片——各种塑料薄膜、薄片、隔膜等的厚度测定纸——各种纸张、纸板、复合纸板等的厚度测定扩展应用：金属片、硅片——硅片、箔片、各种金属片等的厚度测定瓦楞纸板——瓦楞纸板的厚度测定纺织材料——各类纺织材料如编织织物、针织物、涂层织物等的厚度测定非织造布——各类非织造布如尿不湿、卫生巾、医用口罩等的厚度测定其它材料——固体电绝缘材料、胶黏带、土工合成材料、橡胶等的厚度测定GB/T6672接触式薄膜厚度测量仪 薄膜厚度仪 高精度膜厚测试仪技术指标：① C640M型号参数：测试范围（标配）：0～2mm分辨率：0.1μm 重复性：0.8μm测量范围（选配）：0～6、0～12mm测量间距：0～1000mm（可设定）进样速度：1.5～80mm/s（可设定）附加功能：自动进样机：可选配置DataShieldTM数据盾：可选配置GMP计算机系统要求：可选配置测量方式：机械接触式测量压力及接触面积：薄膜：17.5±1 kPa、50 mm2纸张：100±1 kPa(标准配置) / 50±1 kPa（可选配置）、200 mm2电源：220-240VAC 50Hz/120VAC 60Hz外形尺寸：370mm（L）× 350mm（W）× 410mm（H）净重：26kg② C640H型号参数：测试范围（标配）：0～2mm分辨率：0.1μm 重复性：0.4μm测量范围（选配）：0～6、0～12mm测量间距：0～1000mm（可设定）进样速度：1.5～80mm/s（可设定）附加功能：自动进样机：可选配置DataShieldTM数据盾：可选配置GMP计算机系统要求：可选配置测量方式：机械接触式测量压力及接触面积：薄膜：17.5±1 kPa、50 mm2纸张：100±1 kPa(标准配置) / 50±1 kPa（可选配置）、200 mm2电源：220-240VAC 50Hz/120VAC 60Hz外形尺寸：370mm（L）× 350mm（W）× 410mm（H）净重：26kg

薄膜塑料介电常数测试仪Q合格指示预置功能: 预置范围：5～1000。测试仪正常工作条件a. 环境温度：0℃～+40℃；b．相对湿度：80％；c．电源：220V±22V，50Hz±2.5Hz。薄膜塑料介电常数测试仪1．a．消耗功率：约25W；b．净重：约7kg；c. 外型尺寸：（l×b×h）mm：380×132×280。1 测量范围及误差 本电桥的环境温度为20±5℃，相对湿度为30％－80％条件下，应满足下列表中的技术指示要求。 在Cn＝100pF R4＝3183.2（W）（即10K/π）时 测量项目 测量范围 测量误差 电容量Cx 40pF--20000pF ±0.5% Cx±2pF 介质损耗tgd 0～1 ±1.5％tgdx±0.0001 在Cn＝100pF R4＝318.3（W）（即1K/π）时 测量项目 测量范围 测量误差 电容量Cx 4pF--2000pF ±0.5% Cx±3pF 介质损耗tgd 0～0.1 ±1.5％tgdx±0.0001薄膜塑料介电常数测试仪　一些介质在电场极化时也会产生损耗，这种损耗一般称极化损耗。位移极化从建立极化到其稳定所需时间很短（约为10-16～10-12s），这在无线电频率（5×1012Hz 以下）范围均可认为是极短的，因此基本上不消耗能量。其他缓慢极化（例如松弛极化、空间电荷极化等）在外电场作用下，需经过较长时间（10-10s或更长）才达到稳定状态，因此会引起能量的损耗。若外加频率较低，介质中所有的极化都能完全跟上外电场变化，则不产生极化损耗。若外加频率较高时，介质中的极化跟不上外电场变化，于是产生极化损耗。 [2]3）电离损耗　　电离损耗（又称游离损耗）是由气体引起的，含有气孔的固体介质在外加电场强度超过气孔气体电离所需要的电场强度时，由于气体的电离吸收能量而造成指耗，这种损耗称为电离损耗。4）结构损耗在高频电场和低温下，有一类与介质内邻结构的紧密度密切相关的介质损耗称为结构损耗。这类损耗与温度关系不大，耗功随频率升高而增大。试验表明结构紧密的晶体成玻璃体的结构损耗都很小，但是当某此原因（如杂质的掺入、试样经淬火急冷的热处理等）使它的内部结构松散后。其结构耗就会大大升高。薄膜塑料介电常数测试仪在交变电场作用下，电位移D与电场强度E均变为复数矢量，此时介电常数也变成复数，其虚部就表示了电介质中能量损耗的大小。D，E，J之间的相位关系图D，E，J之间的相位关系图如图所示，从电路观点来看，电介质中的电流密度为J=dD/dt=d（εE）/dt=Jτ+iJe式中Jτ与E同相位。称为有功电流密度，导致能量损耗；Je，相比较E超前90°，称为无功电流密度。定义tanδ=Jτ/Je=ε〞/εˊ式中，δ称为损耗角，tanδ称为损耗角正切值。损耗角正切表示为获得给定的存储电荷要消耗的能量的大小，是电介质作为绝缘材料使用时的重要评价参数。为了减少介质损耗，希望材料具有较小的介电常数和更小的损耗角正切。损耗因素的倒数Q=（tanδ）-1在高频绝缘应用条件下称为电介质的品质因素，希望它的值要高。 薄膜塑料介电常数测试仪紧密结构的晶体离子都排列很有规则，键强度比较大，如α-Al2O3、镁橄榄石晶体等，在外电场作用下很难发生离子松弛极化，只有电子式和离子式的位移极化，所以无极化损耗，仅有的一点损耗是由漏导引起的（包括本质电导和少量杂质引起的杂质电导）。这类晶体的介质损耗功率与频率无关，损耗角正切随频率的升高而降低。因此，以这类晶体为主晶相的陶瓷往往用在高频场合。如刚玉瓷、滑石瓷、金红石瓷、镁橄榄石瓷等结构松散的离子晶体，如莫来石（3Al2O32SiO2）、董青石（2MgO2Al2O35SiO2）等，其内部有较大的空隙或晶格畸变，含有缺陷和较多的杂质，离子的活动范围扩大。在外电场作用下，晶体中的弱联系离子有可能贯穿电极运动，产生电导打耗。弱联系离子也可能在一定范围内来回运动，形成热离子松弛，出现极化损耗。所以这类晶体的介质损耗较大，由这类品体作主晶相的陶瓷材料不适用于高频，只能应用于低频场合。整个显示屏共分为四行第一行：左边 信号源频率指示，共6位；右边 信号源虚拟频段指示（1-4）。第二行：左边 调谐电容指示值，4位；右边 电感指示值，4位。第三行：左边 Q值指示值；右边 Q值合格比较状态 。第四行：左边 Q值量程，手动/自动切换指示/调谐点自动搜索指示； 右边上部 Q值量程范围指示；右边下部 Q值调谐光带指示。

PHI 4700薄膜分析仪产品介绍产品名称：薄膜分析仪产品型号：PHI 4700品 牌：日本ULVAC-PHI产 地：日本前言在开发新材料及薄膜制程上，为了有助于了解材料组成间的相互作用及解决制程上的问题，材料组成或薄膜迭层的深度分析是非常重要的。PHI 4700使用了AES分析技术为基础，搭配高感度半球型能量分析器、10 kV LaB6扫瞄式电子枪、5 kV浮动柱状式Ar离子枪及高精密度自动样品座。针对例行性的俄歇纵深分析、微区域的故障分析，提供了全自动与及高经济效益的解决方法。PHI 4700是建基于Ulvac-Phi公司的高性能PHI 700Xi俄歇扫描纳米探针。它提供了高度自动化，成本效益的方案进行例行俄歇深度分析和微米范围的故障分析。 PHI 4700可以轻易的配备上互联网的设备，以供远程操作或监控之用。优点量化薄膜的成分 层的厚度测量检测相互扩散层 微米范围多点分析基本规格全自动多样品纵深分析: PHI 4700薄膜分析仪在微小区域之纵深分析拥有绝佳的经济效益，可在SEM上特定微米等级之微小区域快速进行深度分析。图2显示长年使用的移动电话镀金电极正常与变色两个样品之纵深分析结果，两者材质皆为镀金之锡磷合金。从电极二（变色电极）可看到金属锡扩散到镀金膜上，因为界面的腐蚀而产生氧及锡导致电极变色。高感度半球型能量分析器：PHI 4700半球形能量分析器和高传输输入镜头可提供最高的灵敏度和大幅缩短样品侦测时间。除此之外，具有全自动的量测功能，此装置可在短时间内测量多个样品。点选屏幕上软件所显示的样品座，可以记录欲量测的位置，对产品与制程管理上之数据搜集可进行个别分析。10 kV LaB6扫瞄式电子枪：PHI的06-220电子枪是基于一个以LaB6为电子源灯丝以提供稳定且长寿命电子枪的工具，主要在氩气溅射薄膜时进行深度分析。06-220电子枪还可以：产生二次电子成像，俄歇测绘和多点分析。在加速电压调节从0.2至10千伏。电子束的最小尺寸可保证小于80纳米。浮动柱状式Ar离子枪：PHI的FIG- 5B浮动柱状式Ar离子枪:提供离子由5伏到5千伏。大电流高能量离子束被用于厚膜，低能量离子束（250-500 V）用于超薄膜。浮动柱状式，确保高蚀刻率与低加速电压。物理弯曲柱会停止高能量的中性原子，从而改善了接口定义和减少对邻近地区的溅射。五轴电动样品台和Zalar方位旋转：PHI 15-680精密样品台提供5轴样品传送：X，Y，Z，旋转和倾斜。所有轴都设有摩打及软件控制，以方便就多个样品进行的自动纵深分析。样品台提供Zalar（方位角）旋转的纵深剖析，透过减少构件与溅射在一个固定样本的位置，以优化纵深分析。PHI SmartSoft用户界面：PHI SmartSoft是一个被认同为方便用者使用的操作仪器软件。软件透过任务导向和卷标横跨顶部的显示指导用户从输入样品，定义分析点，并设定分析。多个分析点的定义和最理想样品的定位是由一个强大的&ldquo 自动Z轴定位&rdquo 功能所提供。在广泛使用的软件设置，可让新手能够快速，方便地设立测量及其模板。可选用配备热/冷样品座样品真空传送付仪（Sample Transfer vessel）应用领域半导体薄膜产业微电子封装产业无机光电产业微摩擦学

GSL-1100X-SPC-12等离子薄膜溅射仪专门为在基底上镀金属膜（如金、铂、铟、银等）而设计，最大放置样品尺寸直径为40mm，膜厚可达300?，特别适用于为SEM样品镀金而作为导电极。主要特点1、可以调节电流大小，可设置溅射时间。2、已经过CE认证。技术参数1、输入电源：208V-240V 50Hz/60Hz2、样品台：Φ60mm，高度可调节3、石英腔体：Φ100mm×130mm4、进气口：内部装有阀门，可以向腔体内通入各种气体5、靶材：纯度为4N的金靶，Φ57mm×0.12mm 产品规格尺寸：480mm×320mm×150mm重量：20kg可选配件1、Au（Φ57mm×0.12mm，4N）2、Pt（Φ57mm×0.12mm，4N）3、Ag（Φ57mm×0.5mm,4N）

C640薄膜厚度测量仪 接触式薄膜测厚仪 纸张厚度测定仪品牌：Labthink/兰光厂家：济南兰光机电技术有限公司C640测厚仪是一款高精度、高重复性的机械接触式精密测厚仪，专业适用于量程范围内的薄膜、薄片、纸张、瓦楞纸板、纺织材料、非织造布、固体绝缘材料等各种材料的厚度精密测量。可选配自动进样机，更加准确、高效的进行连续多点测量。设备技术特征：1、专业——Labthink在不断的创新研发和技术积累中推陈出新，使用超高精度的位移传感器、科学的结构布局及专业的控制技术，实现世界先进的测试稳定性、重复性及精度。2、高效——采用高效率、自动化结构设计，有效简化人员参与过程；智能的控制及数据处理功能，为用户提供更便捷可靠的试验操作和结果处理。3、智能——搭载Labthink新一代版控制分析软件，具有友好的操作界面、智能的数据处理、严格的人员权限管理和安全的数据存储；支持Labthink特有的DataShieldTM数据盾系统（可选配置），为用户提供极为安全可靠的测试数据和测试报告管理功能。测试原理：将预先处理好的薄型试样的一面置于下测量面上，与下测量面平行且中心对齐的上测量面，以一定的压力，落到薄型试样的另一面上，同测量头一体的传感器自动检测出上下测量面之间的距离，即为薄型试样的厚度。执行标准：ISO 4593、ISO 534、ASTM D6988、ASTM F2251、GB/T 6672、GB/T 451.3、TAPPI T411、BS 2782-6、DIN 53370、ISO 3034、ISO 9073-2、ISO 12625-3、ISO 5084、ASTM D374、ASTM D1777、ASTM D3652、GB/T 6547、GB/T 24218.2、FEFCO No 3、EN 1942、JIS K6250、JIS K6783、JIS Z1702中国《药品生产质量管理规范》（GMP）对软件的有关要求（可选配置）应用材料：基础应用：薄膜、薄片——各种塑料薄膜、薄片、隔膜等的厚度测定纸——各种纸张、纸板、复合纸板等的厚度测定扩展应用：金属片、硅片——硅片、箔片、各种金属片等的厚度测定瓦楞纸板——瓦楞纸板的厚度测定纺织材料——各类纺织材料如编织织物、针织物、涂层织物等的厚度测定非织造布——各类非织造布如尿不湿、卫生巾、医用口罩等的厚度测定其它材料——固体电绝缘材料、胶黏带、土工合成材料、橡胶等的厚度测定技术指标：① C640M型号参数：测试范围（标配）：0～2mm分辨率：0.1μm 重复性：0.8μm测量范围（选配）：0～6、0～12mm测量间距：0～1000mm（可设定）进样速度：1.5～80mm/s（可设定）附加功能：自动进样机：可选配置DataShieldTM数据盾：可选配置GMP计算机系统要求：可选配置测量方式：机械接触式测量压力及接触面积：薄膜：17.5±1 kPa、50 mm2纸张：100±1 kPa(标准配置) / 50±1 kPa（可选配置）、200 mm2电源：220-240VAC 50Hz/120VAC 60Hz外形尺寸：370mm（L）× 350mm（W）× 410mm（H）净重：26kg② C640H型号参数：测试范围（标配）：0～2mm分辨率：0.1μm 重复性：0.4μm测量范围（选配）：0～6、0～12mm测量间距：0～1000mm（可设定）进样速度：1.5～80mm/s（可设定）附加功能：自动进样机：可选配置DataShieldTM数据盾：可选配置GMP计算机系统要求：可选配置测量方式：机械接触式测量压力及接触面积：薄膜：17.5±1 kPa、50 mm2纸张：100±1 kPa(标准配置) / 50±1 kPa（可选配置）、200 mm2电源：220-240VAC 50Hz/120VAC 60Hz外形尺寸：370mm（L）× 350mm（W）× 410mm（H）净重：26kg

东莞市雨菲电子科技有限公司成立于2015年，其前身为成立于2008年的维特国际。薄膜开关厂位于东莞市虎门镇怀德管理区合森工业园内，占地4500平米， PCBA厂位于东莞虎门大宁创富赢家产业园内， 占地面积3500平米。雨菲电子地理位置优越，距高速出口5公里，紧邻深圳，广州，香港，距离深圳机场仅30分钟车程，距广州机场1小时车程。雨菲电子是一家致力于电阻式薄膜开关，电容触摸式薄膜开关, 电容触摸感应线路, 薄膜面板，薄膜面贴，触摸屏贴合, 触摸显示模组, 单片机开发，PCBA及整机解决方案提供的新兴高科技企业。 雨菲电子已通过ISO9001, ISO14001, ISO13485和OHSAS18001体系认证。是业内早通过ISO13485的医疗体系认证的薄膜开关工厂。 雨菲电子的产品广泛应用于医疗, 工控, 自动化, 轨道交通, 航空航海, 网络通讯, 消费电子, 仪器仪表, 农用机械, 设备制造等广泛领域。公司所有生产车间均为十万级无尘防静电车间, 其中印刷车间为万级。此外还有2间千级高精密高洁净度无尘车间用于进行屏幕贴合, 精密电子组装等业务。公司自建品质实验室, 包括盐雾测试机, 高低温环测, 寿命测试机, 凸包高度测试仪, 二次元, 曲线荷重测试仪等仪器设备。公司拥有4台半自动丝网印刷机, 2条全自动印刷生产线, 全自动打孔机, 自动冲床, 五金冲床, 真空贴合机,脱泡机等等. 洁净的生产环境, 先进的生产设备和测试仪器确保我司优异的产品质量!

东莞市雨菲电子科技有限公司成立于2015年，其前身为成立于2008年的维特国际。薄膜开关厂位于东莞市虎门镇怀德管理区合森工业园内，占地4500平米， PCBA厂位于东莞虎门大宁创富赢家产业园内， 占地面积3500平米。雨菲电子地理位置优越，距高速出口5公里，紧邻深圳，广州，香港，距离深圳机场仅30分钟车程，距广州机场1小时车程。雨菲电子是一家致力于电阻式薄膜开关，电容触摸式薄膜开关, 电容触摸感应线路, 薄膜面板，薄膜面贴，触摸屏贴合, 触摸显示模组, 单片机开发，PCBA及整机解决方案提供的新兴高科技企业。 雨菲电子已通过ISO9001, ISO14001, ISO13485和OHSAS18001体系认证。是业内早通过ISO13485的医疗体系认证的薄膜开关工厂。 雨菲电子的产品广泛应用于医疗, 工控, 自动化, 轨道交通, 航空航海, 网络通讯, 消费电子, 仪器仪表, 农用机械, 设备制造等广泛领域。公司所有生产车间均为十万级无尘防静电车间, 其中印刷车间为万级。此外还有2间千级高精密高洁净度无尘车间用于进行屏幕贴合, 精密电子组装等业务。公司自建品质实验室, 包括盐雾测试机, 高低温环测, 寿命测试机, 凸包高度测试仪, 二次元, 曲线荷重测试仪等仪器设备。公司拥有4台半自动丝网印刷机, 2条全自动印刷生产线, 全自动打孔机, 自动冲床, 五金冲床, 真空贴合机,脱泡机等等. 洁净的生产环境, 先进的生产设备和测试仪器确保我司优异的产品质量!

薄膜透湿仪_薄膜透湿性测试仪W301B水蒸气透过率测试仪又叫透湿性测试仪。基于杯式法测试原理，是一款专业用于薄膜试样的水蒸气透过率测试仪，适用于塑料薄膜、复合膜等膜、片状材料与医疗、建材领域等多种材料的水蒸气透过率的测定。通过水蒸气透过率的测定，达到控制与调节材料的技术指标的目的，满足产品应用的不同需求。产品特点◎ 称重法测试原理，符合标准要求的间歇式称量，每次测量前系统自动清零，保证数据的统一性和准确性◎ 高清液晶触摸屏，内容更直观，操作更简便◎ 单次试验测试1个试样，过程全自动化，透湿杯升降称量由气缸控制，数据准确可靠◎ 创新循环除湿系统，内置真空泵，有效防止透湿杯上方湿度梯度的形成，保证测试的准确性◎ 宽范围、高精度、自动化温湿度控制，满足各种试验条件下的测试◎ 试验结果支持多格式存储和数据输出，包括实验报告 Excel、云端共享◎ 提供标准砝码快速校准模式，称量系统保证检测数据的准确性◎ 产品符合GMP用户三级权限◎ 可进行试验结果的单次、成组的统计分析◎ 具备 ISP 在线控制、升级功能，可按照要求远程更改试验功能◎ 专门的计算机通信软件，可进行试验的实时显示及数据的分析处理 、数据保存 测试原理W301B水蒸气透过率测试仪采用透湿杯称重法测试原理，在一定的温度下，使试样的两侧形成一特定的湿度差，水蒸气透过透湿杯中的试样进入干燥的一侧，通过测定透湿杯重量随时间的变化量，从而求出试样的水蒸气透过率等参数。 应用领域薄膜：适用于各种塑料薄膜、塑料复合薄膜、纸塑复合膜、土工膜、共挤膜、防水透气膜、 镀铝膜、铝箔、铝箔复合膜等膜状材料的水蒸气透过率测试片材：适用于各种工程塑料、橡胶、建材（建筑用防水材料）、保温材料等片状材料的 水蒸气透过率测试。如PP片材PVC片材、PVDC片材、尼龙片材等纸张、纸板：适用于纸张、纸板的水蒸气透过率测试纺织品、非纺织布：适用于纺织品、非纺织布等材料的水蒸气透过率测试薄膜透湿仪_薄膜透湿性测试仪技术指标测试范围：0.01 ~ 100 g/m224h0.1MPa（常规）测试精度：0.01 g/m224h0.1MPa系统分辨率：0.001 g/m224h0.1MPa试样数量：1 ~ 3件（数据各自独立）试验温度：室温 ~ 55°C（常规）控温精度：±0.5°C试验湿度：10%RH ~ 98%RH（标准90%RH）控湿精度：±2%RH测试面积：50 cm2试样厚度：≤ 3 mm （其他厚度要求可定做）载气流量：0 ~ 200 ml/min试验压力：≥0.20 MPa接口尺寸：1/8英寸金属管外形尺寸：440 mm (L) × 450 mm (W) × 450 mm (H)电 源：AC 220V 50Hz净 重：42 kg测试标准该仪器符合多项国家和国际标准：ISO 15106-2、ASTM F1249、GB/T 26253-2010、TAPPI T557、JIS K7129、YBB 00092003-2015 产品配置标准配置：主机、专业软件、通信电缆、取样器、手套选购件：标准膜、空压机备注：本机气源进口为1/8英寸金属管；气源、蒸馏水用户自备

薄膜拉伸试验机_薄膜拉力试验机XLW-L智能电子拉力试验机专业测试塑料薄膜、复合材料、软质包装材料、塑料软管、胶粘剂、胶粘带、不干胶、医用贴剂、离型纸、保护膜、组合盖、金属箔、隔膜、背板材料、无纺布、橡胶、纸张纤维等产品的拉伸、剥离、变形、撕裂、热封、粘合、穿刺力、开启力、低速解卷力、拨开力、抗压等性能测试。产品特点◎ 采用0.5级精度进口传感器，插拔设计更换方便，有效地保证了试验结果的准确性和重复性。◎ 多功能测试系统支持拉伸、剥离、穿刺、开启、撕裂、热封等七种独立的测试程序，为用户提供了多种试验项目选择。◎ 蓝光护眼大屏液晶显示器支持曲线、数据、结果实时统计。◎ PVC中英文操作面板，试验方便快捷，易学、易懂、易操作。◎ 配备微型静音打印机，实验结束自动打印测试数据。◎ 系统配有过载保护、限位保护、自动回位、掉电记忆等智能配置，保证用户的操作安全。◎ 闭环式测控软件支持鼠标操控运行，各功能独立、标准计量单位、无需人工换算。◎ 进行成组试样的统计分析运算，给出算术平均值、Z大值、Z小值。◎ 试验结果支持多格式存储和数据输出，包括试验报告EXCEL，配备USB标准接口。 测试原理XLW-L智能电子拉力试验机将试样装夹在夹具的两个夹头之间，两夹头做相对运动，通过位于动夹头上的力值传感器和机器内置的位移传感器，采集到试验过程中的力值变化和位移变化，从而计算出试样的拉伸、撕裂、变形率等性能指标。薄膜拉伸试验机_薄膜拉力试验机技术参数量程范围：500 N 50 N (选择其一)测力精度：0.5级分辨率：0.001N试样数量：1 件试验速度：10-500mm/mmin（试验速度可以根据客户需要设置）试样宽度：30 mm（标配夹具）50 mm（可选气动夹具）试样夹持：手动（注：气动夹具另购）测量行程：600mm外形尺寸：450 mm (L) × 450 mm (W) × 910 mm (H)电 源：AC 220V 50Hz主机净重：60 kg 测试标准该仪器符合多项国家和国标标准： IS O 37 、 GB 8808 、 GB/ T 1040 . 1 - 2006 、 GB/T 1040.2-2006、GB/T 1040.3-2006、GB/T 1040.4-2006、GB/T 1040.5-2008、GB/T 4850-2002、GB/T 12914-2008、GB/T 17200、 GB/T 16578.1-2008、 GB/T7122、 GB/T 2790、GB/T 2791、GB/T 2792、GB/T 17590、ASTM E4、 ASTM D882、 ASTD1938、 ASTM D3330、ASTM F88、 ASTM F904、JIS P8113、QB/T 2358、QB/T 1130。 售后服务承诺三月内只换不修，一年质保，终身提供。快速处理，1小时内响应问题，1个工作日出解决方案。 体系荣誉资质ISO9001：2008质量体系认证、计量合格确认证书、CE认证、软件著作权、产品实用新型、外观设计。实力铸造品牌三大研发中心，两条独立生产线，一个综合体验式实验室。赛成自2007年创立至今，全球用户累计成交产品破万台，完善四大产品体系，50多种产品。

GB6672接触式薄膜测厚仪应用范围适用于塑料薄膜、薄片、纸张、箔片、硅片等各种材料的厚度精确测量。主要特点1. 接触式测量原理2. 德国测厚传感器3. 工业 TFT 屏，触摸屏操作4. 零导航深度的扁平化界面 UI，操作更加方便快捷5. 真彩色液晶显示试验数据、结果6. 手动、循环、预约定时多种测量模式7. 测试过程全自动完成8. 本机内置历史数据查询功能9. 配置微型打印机，可自动打印单次、统计报告10. 配置标准通信接口11. 可支持 DSM 实验室数据管理系统，实现数据统一管理（选购）技术指标测量范围：0～2mm（标配） 0～10mm（可选）分 辨 率：0.1μm测量速度：1~25 次/min（可调）测 量 头：薄膜：50mm2，17.5±1kPa（标配）纸张：200mm2，50±1kPa（可选）电 源：AC 220V 50Hz外形尺寸：330 mm (L)×285 mm (B)×370 mm (H)净 重：38kg执行标准GB/T 6672、GB/T 451.3、GB/T 6547、ASTM D645、ASTM D374、ASTM D1777、TAPPI T411、ISO 4593、ISO 534、ISO 3034、DIN 53105、DIN 53353、JIS K6250、JIS K6328、JIS K6783、JIS Z1702、BS 3983、BS 4817产品配置标准配置：主机、薄膜测量头、微型打印机、标准量块一件选 购 件：纸张测量头、自动进样装置、配套软件、通信电缆、标准量块、DSM 实验室数据管理系统。

小型薄膜精馏塔负压刮膜式精馏装置产品特征： 与物料接触材质：高硼硅3.3玻璃塔釜容积：1-200L,可定制其他；塔高：0.5-2m，可定制其他高度最高加热温度：300℃最低可操作真空：≤0.1mbar；技术参数：型号AYAN-BJ60AYAN-BJ80AYAN-BJ100AYAN-BJ150AYAN-BJ200薄膜部分原料罐0.5L加料罐1L加料罐1L加料罐2L加料罐3L加料罐进料阀门控制，夹套保温蒸发器刮板成膜，密封良好，拥有耐腐蚀等特性精馏部分塔柱长度（m）依工艺设定塔柱伴热方式多种选择精馏塔头冷凝器依处理量设定回流比控制是配套部分电控箱显示温度和真空度等多功能集成加热系统高温循环冷凝系统低温冷却真空系统真空系统小型薄膜精馏塔负压刮膜式精馏装置处理废酸的方法用接连处理甲醇低压羰基法的废酸的方法，它包括以下过程：（1）在废酸质料中参加以质量计占废酸含量百分之零点五到百分之二的去离子水，与废酸充沛混合。（2）将混合去离子水的废酸通入刮板薄膜蒸发器进行蒸腾处理。（3）将贮槽中的液体送入精馏塔进行精馏，在精馏塔塔顶馏出质量含量大于百分之九十的粗醋酸，回来醋酸出产设备进行进一步精馏，有醋酸，在精馏塔塔釜别离出深色丙酸，将深色丙酸送入二精馏塔精馏，在二精馏塔塔顶馏出质量含量百分之九十九点五以上的无色丙酸。

薄膜表面爽滑性测试仪 薄膜动静摩擦系数测定仪 薄膜开口性试验仪薄膜动静摩擦系数测定仪是一种专业设备，用于精确测量各种材料的静摩擦系数和动摩擦系数。这类仪器广泛应用于塑料薄膜、薄片、铝箔、纸张、纸塑复合膜、纸板、金属以及特殊应用如人造皮肤等产品的摩擦性能测试，适用于造纸、包装材料、质量检测中心等行业。薄膜表面爽滑性测试仪 薄膜动静摩擦系数测定仪 薄膜开口性试验仪技术原理：摩擦系数测定仪基于简单的物理原理，将两个测试表面放置在一起，其中一个表面固定在滑块上，滑块带有一定重量。在设定的接触压力下，通过移动滑块，仪器记录摩擦力。通过摩擦力与滑块重力的比值，计算得到静摩擦系数和动摩擦系数。薄膜表面爽滑性测试仪 薄膜动静摩擦系数测定仪 薄膜开口性试验仪主要特点：兼容标准与非标试验：支持GB、ISO等国际标准，同时适应非标准试验需求，适合科研和材料研究。用户友好操作：一键式操作，配备嵌入式软件，界面直观，易于学习和使用。高精度与稳定性：采用高精度进口传感器，确保测试结果的准确性和重复性。多功能性：支持任意滑块质量与试样厚度的试验，具备液晶显示、数据统计分析、历史数据存储及打印功能。智能化设计：内置微型打印机，支持数据联网，可连接实验室数据管理系统，增强数据管理能力。薄膜表面爽滑性测试仪 薄膜动静摩擦系数测定仪 薄膜开口性试验仪技术参数：测试量程：提供多种选择，如5N、10N、30N，以适应不同材料的测试需求。测试精度：0.2%FS，确保测量的精确度。支持行程：330mm，允许较大的移动范围。滑块质量：标配200g、500g，可适应不同测试要求。试验速度：0-1000mm/min，可调速，满足不同测试条件。电源与功耗：AC220V50Hz，功率100W，节能设计。标准支持：遵循GB10006、ISO8295、ASTMD1894、TAPPIT816等标准，确保测试的标准化和国际认可度。配置与选购：标准配置包括主机、微型打印机、彩色触摸屏及不同规格的滑块。可选购配套软件、通信电缆、非标滑块、校准附件等，以扩展功能或满足特定研究需求。

储能电介质充放电测试系统目前常规的方法是通过电滞回线计算高压下电介质的能量密度，测试时，样品的电荷是放回到高压源上，而不是释放到负载上，通过电滞回线测得的储能密度一般会大于样品实际释放的能量密度，无法正确评估电介质材料的正常放电性能。 本系统采用特殊高压开关，通过单刀双掷控制充电和放电过程，开关可以承受10kV高压，寄生电容小，动作时间短； 内置直流高压模块，电压可达10kV，电流6mA； 通过电流探头监测放电电流，可达100A； 可以实现欠阻尼和过阻尼两种测试模式，欠阻尼测试时，放电回路短路，不使用电阻负载，过阻尼测试时，使用较大的高精度无感电阻作为放电负载； 通过示波器采集数据，并能直接计算储能密度； 定制载样平台，适用于陶瓷和薄膜样品测试； 可以变温测试，RT-250℃； 可以疲劳测试。 主要参数 产品名称：电介质充放电测试系统 型号：HCCF-10KV 电流探头带宽：120MHz 峰值电流：100A 电流采集精度：1mA 高压源模块：DC 10kV（6mA） 开关适用：100万次，耐压至15kV 温控范围：RT-250℃ 温度稳定性和精度：0.1℃ 测试样品：薄膜，厚膜，陶瓷，玻璃等

IQ Power 静电消除系统是专业针对薄膜、涂布、印刷等容易产生或累积强大静电场的高速产线及收放卷远距离安装要求而设计的静电控制系统。IQ Power Control Station控制器实现了除静电系统整合控制的需求，每台控制器上可同时整合并存：BPS电源+除静电离子棒、除静电风咀、Fantom除静电风机、24VDC输入整合IQ Easy除静电离子棒、IQ Easy Sensor检测棒、IQ Power HL防爆区除静电离子棒和电源及IQ Power防爆区域检测棒，提供灵巧的系统设计和安装。所有连接的装置与参数都显示于LCD屏幕上，所有信息采用色码，易于辨识，组织清晰，能立即了解系统的概观与状态。运作信息可通过USB存储或以太网接口自订周期进行数据记录，也可透过选配的各式通讯编译器连接PLC实现集成控制。

东莞市雨菲电子科技有限公司成立于2015年，其前身为成立于2008年的维特国际。薄膜开关厂位于东莞市虎门镇怀德管理区合森工业园内，占地4500平米， PCBA厂位于东莞虎门大宁创富赢家产业园内， 占地面积3500平米。雨菲电子地理位置优越，距高速出口5公里，紧邻深圳，广州，香港，距离深圳机场仅30分钟车程，距广州机场1小时车程。雨菲电子是一家致力于电阻式薄膜开关，电容触摸式薄膜开关, 电容触摸感应线路, 薄膜面板，薄膜面贴，触摸屏贴合, 触摸显示模组, 单片机开发，PCBA及整机解决方案提供的新兴高科技企业。 雨菲电子已通过ISO9001, ISO14001, ISO13485和OHSAS18001体系认证。是业内早通过ISO13485的医疗体系认证的薄膜开关工厂。 雨菲电子的产品广泛应用于医疗, 工控, 自动化, 轨道交通, 航空航海, 网络通讯, 消费电子, 仪器仪表, 农用机械, 设备制造等广泛领域。公司所有生产车间均为十万级无尘防静电车间, 其中印刷车间为万级。此外还有2间千级高精密高洁净度无尘车间用于进行屏幕贴合, 精密电子组装等业务。公司自建品质实验室, 包括盐雾测试机, 高低温环测, 寿命测试机, 凸包高度测试仪, 二次元, 曲线荷重测试仪等仪器设备。公司拥有4台半自动丝网印刷机, 2条全自动印刷生产线, 全自动打孔机, 自动冲床, 五金冲床, 真空贴合机,脱泡机等等. 洁净的生产环境, 先进的生产设备和测试仪器确保我司优异的产品质量!

联系我们：X射线透射显微成像/能谱(同步辐射)用氮化硅薄膜窗口 产品概述： X-射线薄膜窗能够实现软X-射线(如真空紫外线)的最大透射率。主要用于同步辐射X射线透射显微成像时承载样品。 X-射线越软(能量越低)，穿透能力越差，所需氮化硅薄膜窗越薄。特别在“离轴”状态工作(即薄膜与光束成一定角度)时，也需要较薄的薄膜窗口，便于X射线更好地穿透。 氮化硅薄膜窗口是利用现代MEMS技术制备而成，由于此种氮化硅窗口选用低应力氮化硅(0-250MP)薄膜，因此比计量式和ST氮化硅薄膜更坚固耐用。提供的氮化硅薄膜窗口非常适合应用于透射成像和透射能谱等广泛的科学研究领域，例如，X-射线(上海光源透射成像/能谱线站)、TEM、SEM、IR、UV等。 现在提供X-射线显微成像/能谱(同步辐射)用氮化硅薄膜窗系列产品，规格如下： 外框尺寸 (4种标准规格): 5 mm x 5 mm (窗口尺寸：1.0 mm或和 1.5 mm 方形) 7.5 mm x 7.5 mm (窗口尺寸：2.0 mm或 2.5 mm) 10 mm x 10 mm (窗口尺寸：3.0 mm或 5 mm 方形) 边框厚度： 200µ m、381µ m、525µ m。 Si3N4薄膜厚度：50、100、150和200nm 我们也可以为用户定制产品(30-500nm)，但要100片起订。 本产品为一次性产品，不建议用户重复使用，本产品不能进行超声清洗，适合化学清洗、辉光放电和等离子体清洗。 技术指标： 透光度： 对于X射线用窗口，500nm厚的氮化硅薄膜有很好的X光穿透效果，对于软X射线(例如碳边吸收谱)，100-200nm厚的氮化硅薄膜窗口是用户首选。 真空适用性： 真空适用性数据如下：　 薄膜厚度 窗口面积 压力差 ≥50 nm ≤1.0 x 1.0 mm 1 atm ≥100 nm ≤1.5 x 1.5 mm 1 atm ≥200 nm ≤2.5 x 2.5 mm 1 atm 表面平整度： 氮化硅薄膜窗口产品的表面平整性很稳定(粗糙度小于1nm)，对于X射线应用没有任何影响。 温度特性： 氮化硅薄膜窗口产品是耐高温产品，能够承受1000度高温，非常适合在其表面利用CVD方法生长各种纳米材料。 化学特性： 氮化硅薄膜窗口是惰性衬底。 应用简介和优点： 1、同步辐射X射线(紫外或极紫外)透射成像或透射能谱应用中是不可或缺的样品承载体。 2、耐高温、惰性衬底，适应各种聚合物、纳米材料、半导体材料、光学晶体材料和功能薄膜材料的制备环境，利于制备理想的用于X射线表征用的自组装单层薄膜或薄膜(薄膜直接沉积在窗口上)。 3、生物和湿细胞样本的理想承载体。特别是在等离子体处理后，窗口具有很好的亲水性。 4、耐高温、惰性衬底，也可以用于化学反应和退火效应的原位表征。 5、适合做为胶体、气凝胶、有机材料和纳米颗粒等的表征实验承载体。 氮化硅薄膜窗口系列 SN-LDE-505-15 氮化硅薄膜窗口，框架：5×5mm，窗口：1.5×1.5mm，膜厚：50nm SN-LDE-510-15 氮化硅薄膜窗口，框架：5×5mm，窗口：1.5×1.5mm，膜厚：100nm SN-LDE-515-15 氮化硅薄膜窗口，框架：5×5mm，窗口：1.5×1.5mm，膜厚：150nm SN-LDE-520-15 氮化硅薄膜窗口，框架：5×5mm，窗口：1.5×1.5mm，膜厚：200nm SN-LDE-705-25 氮化硅薄膜窗口，框架：7.5×7.5mm，窗口：2.5×2.5mm，膜厚：50nm SN-LDE-710-25 氮化硅薄膜窗口，框架：7.5×7.5mm，窗口：2.5×2.5mm，膜厚：100nm SN-LDE-715-25 氮化硅薄膜窗口，框架：7.5×7.5mm，窗口：2.5×2.5mm，膜厚：150nm SN-LDE-720-25 氮化硅薄膜窗口，框架：7.5×7.5mm，窗口：2.5×2.5mm，膜厚：200nm SN-LDE-105-30 氮化硅薄膜窗口，框架：10×10mm，窗口：3×3mm，膜厚：50nm SN-LDE-110-30 氮化硅薄膜窗口，框架：10×10mm，窗口：3×3mm，膜厚：100nm SN-LDE-115-30 氮化硅薄膜窗口，框架：10×10mm，窗口：3×3mm，膜厚：150nm SN-LDE-120-30 氮化硅薄膜窗口，框架：10×10mm，窗口：3×3mm，膜厚：200nm 氮化硅薄膜窗口阵列系列 SN-AR-522-15 氮化硅薄膜窗口，框架：5×5mm，窗口：1.5×1.5mm，2×2阵列，膜厚：50nm SN-AR-733-15 氮化硅薄膜窗口，框架：7.5×7.5mm，窗口：1.5×1.5mm，3×3阵列；膜厚：50nm SN-AR-1044-15 氮化硅薄膜窗口，框架：5×5mm，窗口：1.5×1.5mm，膜厚：100nm 氧化硅薄膜窗口系列 SO-505-15 氧化硅薄膜窗口，框架：5×5mm，窗口：1.5×1.5mm，膜厚：50nm SO-510-15 氧化硅薄膜窗口，框架：5×5mm，窗口：1.5×1.5mm，膜厚：100nm SO-520-15 氧化硅薄膜窗口，框架：5×5mm，窗口：1.5×1.5mm，膜厚：150nm SO-705-25 氧化硅薄膜窗口，框架：7.5×7.5mm，窗口：1.5×1.5mm，3×3阵列，膜厚：50nm SO-710-25 氧化硅薄膜窗口，框架：7.5×7.5mm，窗口：1.5×1.5mm，3×3阵列，膜厚：100nm SO-720-25 氧化硅薄膜窗口，框架：7.5×7.5mm，窗口：1.5×1.5mm，3×3阵列，膜厚：200nm 氮化硅薄膜窗口系列 SN-1010-2-AU10 氮化硅基底框架：10×10mm，窗口：2×2mm，膜厚：100nm，金膜厚度：10nm SN-1020-2-AU10 氮化硅基底框架：10×10mm，窗口：2×2mm，膜厚：200nm，金膜厚度：10nm SN-710-2-AU10 氮化硅基底框架：7.5×7.5mm，窗口：2×2mm，膜厚：100nm，金膜厚度：10nm SN-720-2-AU10 氮化硅基底框架：7.5×7.5mm，窗口：2×2mm，膜厚：200nm，金膜厚度：10nm 特殊定制产品 SN-5H5-15 氮化硅基底框架：5×5mm，硅片厚度：200um，窗口：1.5×1.5mm，膜厚：500nm SN-5H10-15 氮化硅基底框架：5×5mm，硅片厚度：200um，窗口：1.5×1.5mm，膜厚：1000nm SN-LDE-4-10 氮化硅片100nm-4英寸整张，10×10mm切片 衬底厚度：200um 温度范围：1000℃ 真空适应：1个大气压 厚度可以选择：200um，381um，525um，需要提前说明。联系我们：

F50 薄膜厚度测量仪自动化薄膜厚度绘图系统依靠F50先进的光谱测量系统，可以很简单快速地获得最大直径450毫米的样品薄膜的厚度分布图。采用r-θ极坐标移动平台，可以非常快速的定位所需测试的点并测试厚度，测试非常快速，大约每秒能测试两点。用户可以自己绘制需要的点位地图。F50系统配置高精度使用寿命长的移动平台，确保能够做成千上万次测量。系统中预设了许多极坐标形、方形和线性的图形模式，也可以编 辑自己需要的测试点。只需掌握基本电脑技术便可在几分钟内建立自己需要的图形模式。可测样品膜层基本上所有光滑的。非金属的薄膜都可以测量。可测样品包括：选择Filmetrics的优势桌面式薄膜厚度测量的专家24小时电话，E-mail和在线支持所有系统皆使用直观的标准分析软件附加特性嵌入式在线诊断方式免费离线分析软件精细的历史数据功能，帮助用户有效存储，重现与绘制测试结果

货期：30天 品牌：北斗仪器 型号：CA200产地：广东东莞 名称：标准型光学接触角测量仪 接触角（Contact angle）是指在气、液、固三相交点处c作的气-液界面的切线，此切线在液体一方的与固-液交界线之间的夹角θ，是润湿程度的量度。是现今表面性能检测的主要方法。采用光学成像的原理-图像轮廓分析方式测量样品表面的接触角、润湿性能、表界面张力、前进后退角、表面能等。主要由光源、注射单元、样品台、采集系统、分析软件等组成。设备采用全自动进液装置，性价比高、拓展性强、功能全面、可满足各种常规测量需求，目前已经广泛使用在众多高校院所及企业。测量方法 固体表面处理评价、等离子清洗效果分析、表面清洁度分析、固液体之间或固体黏驸特性研究、液体配方设计、表面印刷性能的表征、分析表面改性、玻璃（包括塑料或金属等固体）表面润湿性研究等。在手机制造、玻璃制造、表面处理、材料研究、化学化工、半导体制造、涂料油墨、电子电路、纺织纤维、医疗生物等领域，接触角测量已经成为了一项评估表面性能的重要仪器。ASTM D 1173/评价表面活性剂发泡性能的标准测试方法（罗氏泡沫分析法）ASTM 5725 / 用自动接触角测试仪测试片状材料表面润湿性和吸收性的标准方法ASTM 724 / 纸表面润湿性的标准方法（接触角法）ASTM C 813 / 用接触角测量法测试玻璃疏水污物的标准方法ASTM D 971 / 用环法测试油对水的界面张力的标准方法ASTM D 1331 / 表面活性剂溶液表面张力和界面张力的标准测试方法ASTM D 1417 / 测试合成橡胶胶乳的标准方法ASTM D 1590 / 水表面张力的标准测试方法DIN 53914 / 表面活性剂测试 – 测定表面张力DIN 55660 / 色漆和清漆 - 润湿性评价DIN EN 14210 / 表面活性剂 – 用镫法或环法测定表面活性剂溶液的表面张力DIN EN 14370 / 表面活性剂 - 表面张力的测定DIN 14272 / 泡沫化合物德标 - 适用于消防用低膨胀水性成膜泡沫化合物ISO 1409 / 塑料/橡胶-聚合物分散体和橡胶胶乳（天然和合成）-表面张力的环法测定ISO 4311/阴离子和非离子表面活性剂-临界胶束浓度的测定ISO 6295 / 油水界面张力的测定型号CA200自动滴液光学接触角测量仪 三维平台左右X移动手动：行程30mm,精度0.1mm前后Y移动手动：行程50mm,精度0.1mm上下Z移动手动：行程40mm,精度0.1mm水平调整整机水平调整，摄像头水平调整（配送专业级XY水平仪）样品台尺寸120*150mm（可定制）可放置最大样品200（W）*∞(L)*50(H)mm样品台材质铝合金进液系统微量进样器XY移动行程：100mm，精度0.1mm（针头对中及液滴转移）进液控制移动行程：25mm,精度：0.01mm滴液控制模式手动，精度：0.1ul加液方式手动（配送5ml玻璃烧杯加液）微量进样器容量：1000ul(标配一支，备品一支)针头标配0.5mm不锈钢针头（可替换）20个、超疏水针头0.25mm（可替换）20个成像系统镜头Subpixel级别0.7-4.5远心轮廓深度定制镜头相机日本SONY原装进口高速工业级芯片(Onsemi行曝光)传感器类型1/1.8 英寸逐行扫描CMOS分辨率1280× 1024镜头控制仰视角度：±10度，精度：1度调焦移动行程：0-10mm，精度1mm。帧率80帧/s（可选配全局曝光高速400帧/s的相机）光源系统组合方式采用石英扩散膜与均光板使得亮度更均匀，液滴轮廓更清晰光源采用进口CCS工业级蓝色冷光源（有效避免因光源散发热量蒸发液滴），使用寿命可达5万小时以上亮度调节PWM数字调节光源波长460-465nm功率10W接触角测量接触角测量方法悬滴法、座滴法、前进角、后退角、滚动角、薄膜法等测量软件CA V1.2.1静/动态接触角测量软件+表面能测量软件软件操作系统要求windows 10(64位)接触角测量方式自动与手动接触角计算方法（static contact angle）自动拟合法（ms级别一键全自动拟合，不存在人工误差）、三点拟合、五点拟合、自动测量（包括圆拟合法/斜圆拟合法（Circle method/ Oblique Circle）、椭圆拟合法/斜椭圆拟合法(Ellipse method /Oblique Ellipse)）、凹凸面测量等动态接触角测量（Dynamic contact angle）前进角（Advancing angle），后退角（receding angle），滞后角（hysteresis angle），滚动角（选配）(可批量拟合多张图片或视频连续拟合计算Video analysis)基线拟合自动与手动角度范围0°＜θ＜180°精度0.1°分辨率0.001°表面能表面能测量方法Fowks法，OWRK法，Zisman法，EOS法，Acid-Base Theory法,Wu harmonic mean法,Extended Fowkes法（软件中预装37种液体数据库，可自行建立液体性能参数）数据可直接调入用于表面能估算，液体库数据可自行添加、删除和修改。可分别得到固体表面能、色散力、极性力、氢键力、范德华分量、路易斯酸分量、路易斯碱分量等表面能单位MN/m其他机架型材欧标160输入电源220V 50-60Hz仪器尺寸约640mm（W）*180mm(L)* 530mm(H)仪器重量约30KG表界面张力测量方法自动拟合+手动拟合精度0.01MN/m测量范围0.1MN/m-2000MN/m润湿性分析粘附功一键自动分析铺展系数一键自动分析粘附张力一键自动分析精度0.001 MN/m单位MN/m配件选配件纸片夹具、温控平台（高温、低温、高低温、湿度）、旋转台（滚动角）、蠕动泵等。设备选配件众所皆知，软件是一台仪器的灵魂所在，组成系统的硬件虽为测量提供了基础，但只有在软件的支持下，才能完美地实现硬件的功能，充分发挥其潜力，使系统的总体功能和性能如虎添翼。本公司研发定制的CA V1.2.1静/动态接触角测量软件+表面能测量软件专用测控软件自2010年开始就面向客户提供使用，经过多年来各行业客户的使用反馈、使用要求、国家标准和国外标准的融合，已经达到一个很成熟稳定的状态。拥有自主知识产权的软件控制系统（行业内极少），在对以后软件升级，新标准更换的时候起到一个很大的优势。软件主界面图版权声明：广东北斗精密仪器有限公司拥有光学静动态接触角分析测量仪CA V1.2.1软件的所有知识产权，本计算机程序受版本法/著作权法和国际公约保护，未经书面授权擅自传播本程序部分或者全部可能遭受严厉的民事刑事制裁，并将在法律允许的范围内受到最大可能的起诉测试报告1.精细机械：系统的框架选用高质量的进口高强度氧化保护铝型材并烤漆处理，所有的其它主要组件也都是由铝合金，不锈钢和铜合金通过精密制作而成。保证仪器极强的稳定性。2.精密定位：系统所有的线性移动单元，包括三维样品台（xy-轴），(Z-轴)注射器/针头的移动调节，均是由直线铜齿条和精密燕尾槽驱动，确保传动平稳、轻松和精细。3.配置齐全的进样器与针头选择：提供数十种不同规格的进样器供使用者选择，如不同规格（25ul/50ul/100ul/250ul/500ul/1000ul….）,不同材质（气密玻璃进样器/塑料进样器），不同品牌（Hamilton/boli….）以满足不同客户需求。提供各种规格（10-34#）以及不同材质（不锈钢/聚四氟乙烯/pp挠性针头）以及特殊针头（弯曲针头），可用于常规接触角测量，也可用于超疏水、超亲水、高粘度等特殊液体的进样、液滴转移等。4.成像系统：采用了行曝光（Rolling Shutter）高分辨率CMOS图像传感器配合pomeas0.7-4.5远心轮廓镜头。保证最佳的成像效果。同时亮度连续数字可调的高强度背光冷光源为成像提供了均匀的背景照明。优质镜头和高分辨率相机能够以理想的尺寸和亮度在图像中显示出液滴，即使是非常小的液滴。5.领 先 的 软 件 平 台 ：软 件 是 整 个 测 量 系 统 的 灵 魂 和大 脑 。 CA V1.2.1软件 为用户 提 供 了 范 围 广 泛 的功 能 和 特 性 ，而 且 其 中 的 许 多 项目 在 这 一 领 域 均是 出类拔萃 。作 为 一 光 学 方 法 ，测 量 的 精 度 取 决于 成 像 的 质 量 和 后 着 的 处 理 、 分析 和 计 算 方 法 。 其 中 采 用 的 亚 像 素 （ sub-pixel） 液 滴 坐标 检 测 ，自 动 液 /固 /流 -三 相 接 触 线 识 别 ， 液 滴 全 轮 廓 分析 ，和 基 于 连 续 信 息 反 馈 的 液 滴 监 视 功能 等构成了 软 件 的 核 心 组 件 ， 而且 这 一 切 又 都 能 实 时 完成。具备双边接触角自动测量快速拟合功能，分析液体与固体的表面润湿性能、更准确的分析表面的实际润湿情况。6.软件自动生成报告，其中涵盖word、excel、PDF图文、谱图等多种数据报告。7.基线自动倾斜功能，可修正由于样品倾斜或机台倾斜时的差异。8.分级管理系统，权限管理。分实验员与管理员。避免人为数据的改动影响测试结果。9.具备双边接触角测量快速拟合功能，更全面量分析液体与固体的表面润湿性能、更准确的分析表面的实际润湿情况；10.动态拍摄、视频快速测试数据，可以连续性记录测试接触角的变化，再由软件自动批量拟合；11.具备历史数据库功能，记录每一次的测试结果，可追溯历史测试结果。1.usb2.0数字CCD摄像头 1个2.连续变倍光学系统 1个3.手动加样系统 1套4.手动CCD倾斜系统 1套5.表界面分析测量系统应用软件 1套6.说明书纸质一份及说明书电子版 1份7.保修卡及合格证1份8.亲水进样针10个，疏水进样针10个9.500ul进样器1个10.电源线及数据线1条11.XY专用水平仪1个(电脑为选配件 客户可以自配)物料名称品牌物料名称品牌CPU英特尔i3处理器鼠标键盘力拓主板 英特尔 H61主板机箱金和田内存华硕8G DDR3 1600电源长城硬盘七彩虹 250G显示器HUYINIUDA 19寸

1.产品概述：本沉积系统可用于制备光学薄膜、电学薄膜、磁性薄膜、硬质保护薄膜和装饰薄膜等，工艺性能稳定、模块化结构，采用行业的软件控制系统。2.设备特点：本设备是一个镀膜平台，可把磁控靶拆下换电子枪成为电子束镀膜系统、或换蒸发源作为热蒸发系统、或换上离子枪作为离子束镀膜系统等。设备用途：用于纳米单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等新型薄膜材料的制备。可广泛应用于大院校、科研院所的薄膜材料的科研项目。3.真空室：真空室结构:方形开门真空室尺寸:φ500x500x500mm限真空度:≤3.0E-5Pa沉积源:永磁靶4套，φ2英寸样品尺寸，温度:φ4英寸，1片，高800℃占地面积（长x宽x高）:约2米×1.7米×2米电控描述:全自动工艺:具备计算机化的工艺自动化功能。片内膜厚均匀性：≤±3%

包装薄膜厚度测量仪 高精度接触式测厚仪仪器名称：CHY-02测厚仪制造商：山东泉科瑞达仪器设备有限公司仪器品牌：泉科瑞达包装薄膜厚度测量仪 高精度接触式测厚仪包装薄膜厚度测量仪 高精度接触式测厚仪是一种高精度的测量设备，主要用于测量塑料薄膜、薄片、隔膜、纸张、箔片、硅片等材料的厚度。以下是对接触式包装薄膜厚度测量仪的详细介绍：包装薄膜厚度测量仪 高精度接触式测厚仪产品特征高精度测量：采用机械接触式测量原理，通过精密的位移传感器测量薄膜材料的厚度。自动升降测头：在测试过程中，测量头自动升降，减少人为因素造成的误差。操作简便：配备大液晶屏显示，操作界面直观，支持手动和自动两种测量模式。数据管理：实时显示测量结果，包括最大值、最小值、平均值和标准偏差，方便数据分析。系统标定：配置标准量块用于系统标定，确保测试精度和数据一致性。打印功能：系统支持数据实时显示、自动统计和打印，方便获取测试结果。包装薄膜厚度测量仪 高精度接触式测厚仪技术参数测试范围：0～2mm（标配），可选配0～6mm或0～12mm的测量范围。分辨率：0.1μm，确保极高的测量精度。测量压力：17.5±1 kPa（薄膜），50±1 kPa（纸张），适应不同材料的测量需求。接触面积：50mm² （薄膜），200mm² （纸张），可根据测试材料选择。电源：AC 220V 50Hz，符合多数实验室的电源要求。外形尺寸：设备体积适中，便于实验室内安置。净重：大约26kg，便于移动和携带。执行标准该仪器符合多项国家和国际标准，如GB/T 6672、GB/T 451.3、GB/T 6547、ISO 4593、ISO 534、ISO 3034、ASTM D374、ASTM D1777、TAPPI T411、JIS K6250、JIS K6783、JIS Z1702、BS 3983、BS 4817等。包装薄膜厚度测量仪 高精度接触式测厚仪应用领域广泛应用于塑料薄膜、纸张、箔片、硅片等材料的厚度测量，适用于包装材料生产过程中的质量控制、研发与技术创新等领域。仪器配置标准配置通常包括主机、微型打印机、标准量块等。可选配件包括专业软件、通信电缆、配重砝码盘、配重砝码等。

FSM薄膜应力与晶圆翘曲度测量仪薄膜应力测量仪广泛应用于半导体行业薄膜应力的量测。在硅晶圆或者其他材料基底上附着薄膜，由于衬底与薄膜的物理常数不同，将会产生应力而导致衬底基板形变。由均匀附着的薄膜引起的形变表现为基板翘曲，因此，可依据翘曲（曲率半径）的变化量来计算应力。薄膜应力仪用下述方法测量附着表面上的薄膜引起的基底曲率半径的变化量。由于是根据在基板上扫描的激光反射角度进行计算，因此，通过测量薄膜附着前后的曲率半径变化，计算其差值，求出曲率半径变化量，用斯托尼公式，依据基板曲率半径计算薄膜应力S。FSM薄膜应力测量仪的特点:1）自动切换双波段激光具有专利的自动激光切换扫描技术.当样品反射率不好时，系统会自动切换到不同波长的另外一只激光进行扫描。这使客户可以测量包括Nitride，Polyimides, Low K，High K,金属等几乎所有的薄膜而不会遇到无法测量的问题。FSM500加热到500℃进行应力测量，可在加热循环过程中进行薄膜的热稳定性计算2）2-D & 3-D Map配备有马达驱动的可旋转载片台，可以快速生成2-D&3D Map图帮助用户可以看到整片晶圆的曲率和应力变化分布，并准确反映出工艺和均匀性有问题的区域。3）薄膜厚度可以整合介电材料薄膜的厚度测量功能，使设备变成一台可以在研发和生产环境下灵活使用强大的设备。产品优势&bull 薄膜整体应力与晶圆翘曲测试&bull 半导体/LED/太阳能/数据存储/液晶面板产业&bull 适用于多种晶圆,基板尺寸&bull 桌上型/站立式&bull 手动/自动/半自动&bull 500℃&bull 快速&非接触激光扫描&bull 适用生产和研发使用&bull 全球销售及客户支持产品应用&bull 新工艺的测试或新生产设备的校准 。化学气相沉积镀膜工艺（CVD), 物理气相沉积镀膜工艺(PVD)&bull 工艺的质量控制&bull 故障诊断&bull 新技术的研究与开发&bull 半导体新工艺的研究与开发&bull 半导体晶圆薄膜生产: 氮化物, 氧化物, 硅化物, 金属, 低介电常数材料等&bull 晶圆碗型翘曲: 晶圆工艺检查或晶圆生产原料检查&bull 其他的集成电路工艺: 平板显示器 微机电系统

厂家正式授权代理商：岱美有限公司联系电话：，（贾先生）联系地址：北京市房山区启航国际3期5号楼801公司网址：ThetaMetrisis是一家私有公司，成立于2008年12月，位于希腊雅典，是NCSR' Demokritos' 的微电子研究所的第一家衍生公司。ThetaMetrisis的核心技术是白光反射光谱（WLRS），它可以在几埃到几毫米的超宽范围内，准确而同时地测量堆叠的薄膜和厚膜的厚度和折射率。 FR-Mic: 微米级薄膜表征-厚度，反射率，折射率及消光系数测量仪一、产品简介： FR-Mic 是一款快速、准确测量薄膜表征应用的模块化解决方案，要求的光斑尺寸小到几个微米，如微图案表面，粗糙表面及许多其他表面。它可以配备一台专用计算机控制的 XY 工作台，使其快速、方便和准确地描绘样品的厚度和光学特性图。o 实时光谱测量o 薄膜厚度，光学特性，非均匀性测量，厚度映射o 使用集成的， USB 连接高品质彩色摄像机（CCD）进行成像 二、应用领域 o 大学 & 科研院所o 半导体（氧化物、氮化物、硅、电阻等）o MEMS 元器件 (光刻胶、硅薄膜等)o LEDo 数据存储元件o 弯曲基材（衬底）上的硬/软涂层o 聚合物涂层、粘合剂等o 生物医学（ parylene—— 派瑞林,气泡壁厚,等等 )o 其他更多 … (如有需求，请与我们取得联系) 三、产品特点o 单点分析(无需预设值）o 动态快速测量o 包括光学参数(n和k，颜色)o 为演示保存视频o 600 多种的预存材料o 离线分析o 免费软件更新 四、技术参数 FR-Scanner 自动化超高速精准薄膜厚度测量仪 一、产品简介： FR-Scanner 是一种紧凑的台式工具，适用于自动测绘晶圆片上的涂层厚度。FR-Scanner 可以快速和准确测量薄膜特性:厚度，折射率，均匀性，颜色等。真空吸盘可应用于任何直径或其他形状的样片。 独特的光学模块可容纳所有光学部件:分光计、复合光源(寿命10000小时)、高精度反射探头。因此，在准确性、重现性和长期稳定性方面保证了优异的性能。FR-Scanner 通过高速旋转平台和光学探头直线移动扫描晶圆片(极坐标扫描)。通过这种方法，可以在很短的时间内记录具有高重复性的精确反射率数据，这使得FR-Scanner 成为测绘晶圆涂层或其他基片涂层的理想工具。测量 8” 样片 625 点数据60 秒 二、应用领域o 弯曲基材（衬底）上的硬/软涂层o 聚合物涂层、粘合剂等o 生物医学（ parylene—— 派瑞林,气泡壁厚,等等 )o 半导体生产制造：(光刻胶, 电介质,光子多层结构， poly-Si,Si, DLC )o 光伏产业o 液晶显示o 光学薄膜o 聚合物o 微机电系统和微光机电系统o 基底: 透明 (玻璃, 石英, 等等) 和半透明 三、产品特点o 单点分析(无需预设值）o 动态快速测量o 包括光学参数(n和k，颜色)o 为演示保存视频o 600 多种的预存材料o 离线分析o 免费软件更新 四、技术参数FR-Scanner: 自动化超高速薄膜厚度测量仪 FR-pOrtable:一款USB驱动的薄膜表征工具 一、产品简介： FR-pOrtable 是 一 款独 特 的 便 携 式 测 量 仪器 ， 可 对 透 明 和 半 透明 的 单 层 或 多 层 堆 叠薄 膜 进 行 精 确 的 无 损（非接触式）表征。使用 FR-pOrtable，用户可以在 380-1020nm 光谱范围内进行反射率和透射率测量及薄膜厚度测量。二、应用领域o 大学 & 科研院所o 半导体（氧化物、氮化物、硅、电阻等）o MEMS 元器件 (光刻胶、硅薄膜等)o LEDo 数据存储元件o 弯曲基材（衬底）上的硬/软涂层o 聚合物涂层、粘合剂等o 生物医学（ parylene—— 派瑞林,气泡壁厚,等等 )o 其他更多 … (如有需求，请与我们取得联系) 三、应用领域 FR-pOrtable的紧凑尺寸以及定制设计的反射探头以及宽带长寿命光源确保了高精度和可重复的便携式测量。 FR-Portable既可以安装在提供的载物台上，也可以轻松转换为手持式厚度测量工具。放置在待表征的样品上方即可进行测量。 FR-Portable是用于工业环境（如R2R、带式输送机等）中涂层实时表征的可靠而精确的测厚仪。四、产品特点o 一键分析 (无需初始化操作)o 动态测量o 测量光学参数(n & k, 颜色)，膜厚o 自动保存演示视频o 可测量 600 多种不同材料o 用于离线分析的多个设置o 免费软件更新服务 五、技术参数FR-pRo: 按需可灵活搭建的薄膜特性表征工具一、产品简介： FR-pRo 是一个模块化和可扩展平台的光学测量设备，用于表征厚度范围为1nm-1mm 的涂层.FR-pRo 是为客户量身定制的，并广泛应用于各种不同的应用 。 FR-pRo 可由用户按需选择装配模块，核心部件包括光源，光谱仪（适用于 200nm-2500nm 内的任何光谱系统）和控制单元，电子通讯模块此外，还有各种各种配件，比如:? 用于测量吸收率/透射率和化学浓度的薄膜/试管架,? 用于表征涂层特性的薄膜厚度工具,? 用于控制温度或液体环境下测量的加热装置或液体试剂盒,? 漫反射和全反射积分球通过不同模块组合，最终的配置可以满足任何终端用户的需求 二、应用领域o 弯曲基材（衬底）上的硬/软涂层o 聚合物涂层、粘合剂等o 生物医学（ parylene—— 派瑞林,气泡壁厚,等等 )O 半导体生产制造：(光刻胶, 电介质,光子多层结构， poly-Si,Si, DLC )o 光伏产业o 液晶显示o 光学薄膜o 聚合物o 微机电系统和微光机电系统o 基底: 透明 (玻璃, 石英, 等等) 和半透明 三、产品特点o 单点分析(无需预设值）o 动态快速测量o 包括光学参数(n和k，颜色)o 为演示保存视频o 600 多种的预存材料o 离线分析o 免费软件更新 四、技术参数