快离子导体薄膜

超快薄膜偏振片1.适用于钛：蓝宝石和镱掺杂激光器2.高达0.3 J / cm2 @ 200 fs @ 800nm损伤阈值3.优化分散S和P的最小色散超快薄膜偏振片采用薄膜涂层技术，可在近红外波长范围内实现zui佳性能。这些偏振器具有高损伤阈值，非常适用于高功率激光器，包括Ti：蓝宝石和掺镱激光源。透射偏振器可在偏振器的两侧具有偏振涂层，而反射偏振器由输入面上的偏振涂层和输出面上的抗反射涂层组成。订购信息消声系数对比度 波长范围 (nm)透射率 (%) 20:1Tp:Ts20:1750 - 850Tp85 / Ts4#88-23560:1Rs:Rp60:1750 - 850-#88-23620:1Tp:Ts20:1980 - 1090Tp85 / Ts4#88-23760:1Rs:Rp60:1980 - 1090- #88-238技术数据

X射线透射显微成像/能谱（同步辐射）用氮化硅薄膜窗口 产品概述： X-射线薄膜窗能够实现软X-射线(如真空紫外线)的最大透射率。主要用于同步辐射X射线透射显微成像时承载样品。 X-射线越软(能量越低)，穿透能力越差，所需氮化硅薄膜窗越薄。特别在&ldquo 离轴&rdquo 状态工作（即薄膜与光束成一定角度）时，也需要较薄的薄膜窗口，便于X射线更好地穿透。 氮化硅薄膜窗口是利用现代MEMS技术制备而成，由于此种氮化硅窗口选用低应力氮化硅（0-250MP）薄膜，因此比计量式和ST氮化硅薄膜更坚固耐用。提供的氮化硅薄膜窗口非常适合应用于透射成像和透射能谱等广泛的科学研究领域，例如，X-射线（上海光源透射成像/能谱线站）、TEM、SEM、IR、UV等。 现在提供X-射线显微成像/能谱（同步辐射）用氮化硅薄膜窗系列产品，规格如下： 外框尺寸 (4种标准规格): &bull 5 mm x 5 mm (窗口尺寸：1.0 mm 或和 1.5 mm 方形) &bull 7.5 mm x 7.5 mm (窗口尺寸：2.0 mm 或 2.5 mm) &bull 10 mm x 10 mm (窗口尺寸：3.0 mm 或 5 mm 方形) 边框厚度： 200µ m、381µ m、525µ m。 Si3N4薄膜厚度：50、100、150和200nm 我们也可以为用户定制产品（30-500nm），但要100片起订。 本产品为一次性产品，不建议用户重复使用，本产品不能进行超声清洗，适合化学清洗、辉光放电和等离子体清洗。 技术指标： 透光度： 对于X射线用窗口，500nm厚的氮化硅薄膜有很好的X光穿透效果，对于软X射线（例如碳边吸收谱），100-200nm厚的氮化硅薄膜窗口是用户首选。 真空适用性： 真空适用性数据如下： 　 薄膜厚度 窗口面积 压力差 &ge 50 nm &le 1.0 x 1.0 mm 1 atm &ge 100 nm &le 1.5 x 1.5 mm 1 atm &ge 200 nm &le 2.5 x 2.5 mm 1 atm 表面平整度： 氮化硅薄膜窗口产品的表面平整性很稳定（粗糙度小于1nm），对于X射线应用没有任何影响。 温度特性： 氮化硅薄膜窗口产品是耐高温产品，能够承受1000度高温，非常适合在其表面利用CVD方法生长各种纳米材料。 化学特性： 氮化硅薄膜窗口是惰性衬底。 应用简介和优点： 1、 同步辐射X射线（紫外或极紫外）透射成像或透射能谱应用中是不可或缺的样品承载体。 2、 耐高温、惰性衬底，适应各种聚合物、纳米材料、半导体材料、光学晶体材料和功能薄膜材料的制备环境，利于制备理想的用于X射线表征用的自组装单层薄膜或薄膜（薄膜直接沉积在窗口上）。 3、 生物和湿细胞样本的理想承载体。特别是在等离子体处理后，窗口具有很好的亲水性。 4、 耐高温、惰性衬底，也可以用于化学反应和退火效应的原位表征。 5、 适合做为胶体、气凝胶、有机材料和纳米颗粒等的表征实验承载体。 同步辐射X射线应用参考文献：PRL

透射电镜（TEM）用氮化硅薄膜窗口 产品概述： 与X射线用氮化硅窗口类似，透射电镜（TEM）用氮化硅薄膜窗口也使用低应力氮化硅薄膜基底。但整体尺度更小，适合TEM装样的要求。窗口有单窗口和多窗口阵列等不同规格。同时NTI也定制多孔氮化硅薄膜窗口。 现在可以提供透射电镜（TEM）用氮化硅薄膜窗系列产品，规格如下： 外框尺寸: &bull 3 mm x 3 mm (窗口尺寸：0.5 mm，薄膜厚度：30 nm) &bull 3 mm x 3 mm (窗口尺寸：1.0 mm，薄膜厚度：50 nm) 边框厚度： 200µ m、381µ m。 Si3N4薄膜厚度： 50nm、100nm 可以为用户定制产品(30-200nm)，但要100片起订。 本产品为一次性产品，不建议用户重复使用，本产品不能进行超声清洗，适合化学清洗、辉光放电和等离子体清洗。 技术指标： 表面平整度： 我们认为薄膜与其下的硅片同样平整， TEM用氮化硅薄膜窗口的表面粗糙度为：0.6-2nm。完全适用于TEM表征。 亲水性： 该窗格呈疏水性，如果样品取自水悬浮液，悬浮微粒则不能均匀地分布在薄膜上。用等离子蚀刻机对薄膜进行亲水处理，可暂时获得亲水效果。虽然没有对其使用寿命进行过测试，但预期可以获得与同样处理的镀碳TEM网格相当的寿命。我们可以生产此种蚀刻窗格，但无法保证其使用寿命。如果实验室有蚀刻工具也可对其进行相应的处理提高其亲水性能。 温度特性： 氮化硅薄膜窗口产品是耐高温产品，能够承受1000度高温，非常适合在其表面利用CVD方法生长各种纳米材料。 化学特性： 氮化硅薄膜窗口是惰性衬底。 应用简介和优点： 1、 适合TEM、SEM、AFM、XPS、EDX等的对同一区域的交叉配对表征。 2、 大窗口尺寸，适合TEM大角度转动观察。 3、 无碳、无杂质的清洁TEM观测平台。 4、 背景氮化硅无定形、无特征。 5、 耐高温、惰性衬底，适应各种聚合物、纳米材料、半导体材料、光学晶体材料和功能薄膜材料的制备环境，（薄膜直接沉积在窗口上）。 6、 生物和湿细胞样本的理想承载体。特别是在等离子体处理后，窗口具有很好的亲水性。。 7、 耐高温、惰性衬底，也可以用于化学反应和退火效应的原位表征。 8、 适合做为胶体、气凝胶、有机材料和纳米颗粒等的表征实验承载体。 详细请咨询：021-35359028/ admin@instsun.com

教学型光学薄膜测厚仪配件是一款低价台式光学薄膜厚度测量仪,可测量薄膜厚度,薄膜的吸收率/透过率，薄膜反射率，荧光等，也可测量膜层的厚度,光学常量（折射率n和k)。光学薄膜测厚仪配件基于白光反射光谱技术，膜层的表面和底面反射的光VIS/NIR光谱，也是干涉型号被嵌入的光谱仪收集分析，结合多次反射原理，给出膜层的厚度和光学常数（n，k)，到货即可使用，仅仅需要用户准备一台计算机提供USB接口即可，操作非常方便。光学薄膜测厚仪配件参数 可测膜厚： 100nm-30微米；波长范围: 300-1000nm 探测器：650像素Si CCD阵列，12bit A/D精度：1%斑点大小：0.5mm 光源：钨灯-汞灯（360-2000nm)所测样品大小：10-150mm, 计算机要求：Windows XP, vista, Win7均可，USB接口；尺寸：320x360x180mm 重量：9.2kg光学薄膜测厚仪配件应用用于薄膜吸收率,透过率和荧光测量，用于化学和生物薄膜测量，传感测量用于光电子薄膜结构测量 用于半导体制造用于聚合物薄膜测量 在线薄膜测量用于光学镀膜测量

NH 3 备用模块包：薄膜订货号: 6.1255.050包括：1 个备用薄膜模块 每 1 个包中 20 个薄膜 1 镊子

半导体激光模块 筱晓光子供应半导体激光模块，波长：405nm、445nm、635nm/638nm、650nm。该系列半导体激光器具有效率高、可靠性好、结构紧凑、寿命长、免维护的特点，广泛应用于：生物医疗、数据存储、材料检测、科学研究、OEM系统集成。ModelLDM-405LDM-445LDM-635/638LDM-650Wavelength405±5nm 445±5nm635±5nm650±5nmSpatial modeNear TEM00Near TEM00MultimodeMultimodeOutput power10, 20, ..., 200mW100, 200, 500, 1000mW200, 500, 800mW250, 500, 900mWHigher power could be available upon requestOperation modeCW or ModulationBeam diameter (1/e2)4.0mm2x4mm4.0mm5.0mmBeam divergence0.5mrad3x0.5mrad2mrad1.5 or 3mradPower stability3% per 4 hrs3% per 4 hrs3% per 2 hrs3% per 2 hrsWarm up time2minsOperating temp.20-30℃Storage temp.10-50℃Lifetime10000 hours10000 hours5000 hours5000 hours

手持式薄膜测厚仪配件是全球首款便携式光学薄膜厚度测量仪,可测量透明或半透明单层薄膜或膜系的薄膜厚度,薄膜的吸收率/透过率，薄膜反射率，荧光等。手持式薄膜测厚仪可测量膜层的厚度,光学常量（折射率n和k)，薄膜厚度测量范围为350-1000nm，不需要电线连接，也不需要实验室安装空间，它从USB连接中获取工作电源，这种独特设计方便客户移动测量，只需USB线缆从计算机控制测量即可，采用全球领先的3648像素和16bit的光谱仪，具有超高稳定性的LED和荧光灯混合光源，光源寿命高达20000小时，手持式薄膜测厚仪配件特色USB接口供电，不需要额外的线缆供电超级便携方便现场使用超低价格手持式薄膜测厚仪配件参数 可测膜厚： 15nm-90微米；波长范围: 360-1050nm 探测器：3648像素Si CCD阵列，16bit A/D精度：1nm 斑点大小：0.5mm 光源：LED混合光源（ 360-1050nm )所测样品大小：10-150mm, 计算机要求：Windows XP, vista, Win7均可，USB接口；尺寸：300x110x500mm 重量：600克手持式薄膜测厚仪配件应用用于薄膜吸收率,透过率和荧光测量，用于化学和生物薄膜测量，传感测量用于光电子薄膜结构测量 用于半导体制造用于聚合物薄膜测量 在线薄膜测量用于光学镀膜测量

TEM用氮化硅薄膜窗口氮化硅薄膜窗特点 低应力的8, 15 , 50nm厚的氮化硅支撑膜：50nm厚的薄膜具有最大的视野范围；8nm和15nm厚的无孔氮化硅薄膜适用于TEM超高分辨率的应用 氮化硅支撑膜：低应力的LPCVD非化学计量比氮化硅薄膜，良好的平整度、绝缘性和疏水性良好的化学稳定性：图像分辨率和机械强度达到理想的平衡 均匀性：减少了不同区域的不均匀性 TEM断面成像应用的特殊窗口：适用于倾斜断层成像的0.5x1.5mm大窗口，倾斜度最大可达75° 多窗口系列：2窗口，0.1x1.5mm；3x3系列，0.1x0.1mm 可应用于多种显微技术：良好的机械稳定性使得同一种薄膜可应用于TEM, SEM, EDX, XPS and AFM 薄膜和基底耐酸，不会被溶解：可以在酸性条件或常规条件下研究、制备样本 可应用于高温试验环境： 1000°C 可提供更对精确的分析，如样品中的碳含量，减少污染：可用于无碳环境中的TEM成像和分析 容易清洗：机械稳定性和化学稳定性使得薄膜很容易采用辉光放电或等离子清洗，无有机物残留，改善成像质量 良好的平整度：良好的纳米沉积基底和薄膜，无背景结构适合于SEM成像 超净加工，防止支撑膜上残留微粒：100级的超净间内包装 框架厚度：200 and 50μm ：200μm是标准的TEM支撑架；50μm是特殊的TEM支撑架 标准框架直径为3mm 同一批次的氮化硅薄膜窗具有相同的特性氮化硅薄膜窗规格单窗口系列窗口类型薄膜厚度窗口尺寸框架尺寸框架厚度20nm500x500μmΦ3mm100μm20/50nm500x500μmΦ3mm200μm50nm1000x1000μmΦ3mm200μm50nm100x100μmΦ3mm200μm15nm0.25x0.25mmΦ3mm200μm50nm0.25x0.25mm 0.5x0.5mm0.75x0.75mm1.0x1.0mmΦ3mm200μm200nm0.25x0.25mm 0.5x0.5mm0.75x0.75mm1.0x1.0mmΦ3mm200μm15/50/200nm0.25x0.25mmΦ3mm50μm50nm/200nm0.5x1.5mmΦ3mm50μm 多窗口系列窗口类型薄膜厚度窗口尺寸框架尺寸框架厚度50nm2x1阵列，100X1500μmΦ3mm200μm15nm/50nm/200nm2x1阵列，100X1500μmΦ3mm200μm50nm2x1阵列，100X1500μmΦ3mm50μm10nm/20nm3x3阵列，8个窗口100X100μm，1个窗口100X350μmΦ3mm100μm10nm3x3阵列，8个窗口250X250μm，1个窗口250X500μmΦ3mm100μm20nm3x3阵列，8个窗口100X100μm，1个窗口100X350μmΦ3mm200μm50nm3x3阵列，8个窗口100X100μm，1个窗口100X350μmΦ3mm100μm15nm/50nm/200nm3x3阵列，窗口100X100μm，Φ3mm200μm50nm3x3阵列，窗口100X100μm，Φ3mm50μm8nm单窗口，窗口大小：0.6×0.6mm；25个网格，氮化硅支撑膜200nm；网格上的氮化硅薄膜8nm；网格大小：75μm ，网格间距：25μm；Φ3mm200μm 应用简介： 1、适合TEM、SEM、AFM、XPS、EDX等的对同一区域的交叉配对表征。2、大窗口尺寸，适合TEM大角度转动观察。3、无碳、无杂质的清洁TEM观测平台。4、背景氮化硅无定形、无特征。5、耐高温、惰性衬底，适应各种聚合物、纳米材料、半导体材料、光学晶体材料和功能薄膜材料的制备环境，（薄膜直接沉积在窗口上）。6、生物和湿细胞样本的理想承载体。特别是在等离子体处理后，窗口具有很好的亲水性。7、耐高温、惰性衬底，也可以用于化学反应和退火效应的原位表征。8、适合做为胶体、气凝胶、有机材料和纳米颗粒等的表征实验承载体。 详细资料请咨询：021-35359028/ admin@instsun.com

宽带（超快）薄膜偏振片材质BK7, UVFS直径/尺寸公差+0/-0.1mm厚度公差±0.1 mm通光孔径90%表面质量20-10 S-D透射波前畸变λ/6 @ 632.8 nm入射角72° (±2°)平行度误差30 arcsec激光损伤阈值报告www.altechna.com/lidt宽带偏振片的zui佳工作角是AOI = 72°（±2°）。我们提供4种宽带（超快）薄膜偏振器。偏振器通过传输p偏振和反射s偏振光束分量来工作。 透射偏光器 - 在输入面上具有偏光涂层，而输出面是用于p偏振的增透膜。它们可以针对p极化的zui高透射率Tp 94％进行优化，或者用于极化的zui佳对比度。 反射偏振器 - 在输入面上具有偏振涂层，而输出面是AR涂层，用于s和p偏振。它们可以被优化用于s极化Rs 98％的zui高反射或者用于极化Rs：Rp 60：1的zui佳对比。此外，偏振片的AR涂层侧具有楔形以使重影zui小化。 标准的薄膜偏振器设计用于750 - 850 nm或980 - 1090 nm范围内的zui佳性能。自定义波长范围的设计也是可用的。 1）有效地分离s和p偏振分量2）许多宽带（超快）薄膜偏振器可从STOCK以快速交货获得3）尺寸可达160x50毫米4）针对流行的激光波长进行了优化Altechna在标准，定制或客户提供的光学器件上提供各种高性能光学镀膜。我们的涂料覆盖从深紫外（193纳米）到远红外（25微米）的波长范围，涂层的zui大部分是在波长范围内zui常见的266纳米到2微米的激光和照明光源。我们根据个人要求提供一套标准和定制涂料：?防反射涂层?高反射涂层?分束器涂层?部分反射涂层?偏光片涂层?过滤涂料?超快GDD补偿涂层?Gires-Tournois干涉镜（GTI）?可变反射镜?金属涂层 在Altechna，我们的目标是以zui高的标准为不断增长的光子市场提供高损伤阈值，高质量涂层。每个涂层都是特殊的，多年来在光电领域，我们了解到灵活性是满足客户高要求的关键，因此我们的涂层采用不同的技术，分别选择不同的涂层。这里是我们在Altechna提供的涂层技术列表：?电子束蒸发?离子辅助沉积?离子束溅射?磁控溅射每种技术都是不同的，并根据光谱灵敏度，损伤阈值，硬度，表面质量等的要求使用。电子束蒸发离子辅助沉积离子束溅射磁控管溅射沉积速率10 ?/sec~10 ?/sec~3 ?/sec1-6 ?/sec每次涂布面积3000 cm23000 cm2500 cm22000 cm2导热系数LowMediumHighHigh涂层温度范围200 - 300°C20 - 100°C20 - 150°C20-100°C层数1-50~50200Up to 200密度和孔隙度PorousDenseNear bulkNear bulk粘连/耐久性LowGoodExcellentExcellent湿度敏感性YesYes, smallNoNo老化影响YesYes, smallNoNo内在应力 100MPa~ 100MPaFew 100MPaFew 100 MPa波长，nm消光比透射/反射，％尺寸，mm优化产品编号750 - 850 (centered@800nm)Tp/Ts20:1Tp 85%, Ts 4%50 x 160 x 5Contrast2-UFP-0800-5016-T2750 - 850 (centered@800nm)Tp/Ts9:1Tp 94%, Ts 10%50 x 160 x 5Tp2-UFP-0800-5016-T1980 - 1090 (centered@1030nm)Tp/Ts20:1Tp 85%, Ts 4%50 x 160 x 5Contrast2-UFP-1030-5016-T2980 - 1090 (centered @ 1030nm)Tp/Ts9:1Tp 94%, Ts 10%?25.4 x 3Tp2-UFP-1030-0254-T1980 - 1090 (centered @ 1030nm)Tp/Ts9:1Tp 94%, Ts 10%50 x 160x 5Tp2-UFP-1030-5016-T1750 - 850 (centered @ 800nm)Rs/Rp5:1Rs 98%, Rp 20%50 x 160 x 10Rs2-UFP-0800-5016-R1750 - 850 (centered @ 800nm)Rs/Rp50:1Rs 85%, Rp 1.5%50 x 160 x 10Contrast2-UFP-0800-5016-R2980 - 1090 (centered @ 1030nm)Rs/Rp5:1Rs 98%, Rp 20%50 x 160 x 10Rs2-UFP-1030-5016-R1980 - 1090 (centered @ 1030nm)Rs/Rp50:1Rs 85%, Rp 1.5%50 x 160 x 10Contrast2-UFP-1030-5016-R2750 - 850 (centered @ 800nm)Tp/Ts20:1Tp 85%, Ts 4%40 x 120 x 5Contrast2-UFP-0800-4012-T2750 - 850 (centered @ 800nm)Tp/Ts9:1Tp 94%, Ts 10%40 x 120 x 5Tp2-UFP-0800-4012-T1980 - 1090 (centered @ 1030nm)Tp/Ts20:1Tp 85%, Ts 4%40 x 120 x 5Contrast2-UFP-1030-4012-T2980 - 1090 (centered @ 1030nm)Tp/Ts9:1Tp 94%, Ts 10%40 x 120 x 5Tp2-UFP-1030-4012-T1980 - 1090 (centered @ 1030nm)Rs/Rp5:1Rs 98%, Rp 20%40 x 120 x 10Rs2-UFP-1030-4012-R1980 - 1090 (centered @ 1030nm)Rs/Rp50:1Rs 85%, Rp 1.5%40 x 120 x 10Contrast2-UFP-1030-4012-R2980 - 1090 (centered @ 1030nm)Tp/Ts9:1Tp 94%, Ts 10%20 x 60 x 2Tp2-UFP-1030-2060-T1750 - 850 (centered @ 800nm)Rs/Rp50:1Rs 85%, Rp 1.5%40 x 120 x 10Contrast2-UFP-0800-4012-R2750 - 850 (centered @ 800nm)Tp/Ts9:1Tp 94%, Ts 10%?25.4 x 3Tp2-UFP-0800-0254-T1750 - 850 (centered @ 800nm)Tp/Ts20:1Tp 85%, Ts 4%20 x 60 x 2Contrast2-UFP-0800-2060-T2980 - 1090 (centered @ 1030nm)Rs/Rp5:1Rs 98%, Rp 20%20 x 60 x 5Rs2-UFP-1030-2060-R1980 - 1090 (centered @ 1030nm)Tp/Ts20:1Tp 85%, Ts 4%20 x 60 x 2Contrast2-UFP-1030-2060-T2980 - 1090 (centered @ 1030nm)Rs/Rp5:1Rs 98%, Rp 20%?25.4 x 3Rs2-UFP-1030-0254-R1750 - 850 (centered @ 800nm)Rs/Rp60:1Rs 85%, Rp 1%20 x 60 x 5Contrast2-UFP-0800-2060-R2750 - 850 (centered @ 800nm)Rs/Rp5:1Rs 98%, Rp 20%40 x 120 x 10Rs2-UFP-0800-4012-R1750 - 850 (centered @ 800nm)Rs/Rp60:1Rs 85%, Rp 1%?25.4 x 3Contrast2-UFP-0800-0254-R2750 - 850 (centered @ 800nm)Rs/Rp5:1Rs 98%, Rp 20%20 x 60 x 5Rs2-UFP-0800-2060-R1750 - 850 (centered @ 800nm)Tp/Ts20:1Tp 85%, Ts 4%?25.4 x 3Contrast2-UFP-0800-0254-T2750 - 850 (centered @ 800nm)Tp/Ts9:1Tp 94%, Ts 10%20 x 60 x 2Tp2-UFP-0800-2060-T1750 - 850 (centered @ 800nm)Rs/Rp5:1Rs 98%, Rp 20%?25.4 x 3Rs2-UFP-0800-0254-R1980 - 1090 (centered @ 1030nm)Rs/Rp60:1Rs 85%, Rp 1%20 x 60 x 5Contrast2-UFP-1030-2060-R2980 - 1090 (centered @ 1030nm)Rs/Rp60:1Rs 85%, Rp 1%?25.4 x 3Contrast2-UFP-1030-0254-R2980 - 1090 (centered @ 1030nm)Tp/Ts20:1Tp 85%, Ts 4%?25.4 x 3Contrast2-UFP-1030-0254-T2 定制你可以根据您的需求定制这个产品。如果您没有找到适合您的应用，请与我们联系，以便定制解决方案。

显微薄膜测量仪配件是一款超级紧凑而功能多样的薄膜测试仪系统，可以结合显微镜测量薄膜的吸收率，透过率，反射率以及测量点的荧光。薄膜测试仪通过反射率的测量，测量点处的薄膜厚度，薄膜光学常量（n &k)以及thick film stacks都能在瞬间测量出来。整套显微薄膜测量仪的组成是：光栅光谱仪（200-1100nm)+显微镜目镜 适配器+软件+显微镜（可选）。其中目镜适配器包含镜头，可增加光的收集。标准的40X物镜可做到测量点直径约200微米。更高倍数的物镜的测量点更小。整套薄膜测量仪和薄膜测试仪到货即可使用，仅仅需要用户准备一台计算机提供USB接口即可，操作非常方便。 安装到显微镜上的薄膜测量仪照片 薄膜测试仪SiO2薄膜测量结果（20X物镜）薄膜厚度测试仪配件软件 这款薄膜测试仪配备专业的仪器控制，光谱测量和薄膜测量功能的软件，具有广阔的应用范围。该薄膜厚度测试仪软件能够实时采集吸收率，透过率，反射率和荧光光谱，并且能够能够快速计算出结果。对于吸收率/透过率模式的配置，所有的典型参数如 A, T可快速计算出来。其他的非标准参数，如signal integration也能测量出来。对于反射率测量，该薄膜厚度测试仪软件能够精确测量膜层小于10层薄膜厚度（《10nm到100微米）， 光学常量（n & k)。 薄膜厚度测试仪配件参数 可测膜厚： 10nm-150微米； 波长范围：200-1100nm 精度：0.5% 分辨率：0.02nm 光源：使用显微镜光源 光斑大小：由显微镜物镜决定 计算机要求：Windows XP, vista, Win7均可，USB接口； 尺寸：120x120x120mm 重量：1.2kg 薄膜厚度测试仪配件应用 测量薄膜吸收率,透过率 测量化学薄膜和生物薄膜测量 光电子薄膜结构测量 半导体制造 聚合物测量 在线测量 光学镀膜测量

目标应用： 半导体薄膜（光刻胶） 玻璃减反膜测量 蓝宝石薄膜（光刻胶） ITO薄膜 太阳能薄膜玻璃 各种衬底上的各种膜厚 卷对卷柔性涂布 颜色测量 车灯镀膜厚度 其他需要测量膜厚的场合 阳极氧化厚度产品型号A3-SR-100 产品尺寸 W270*D217*（H90+H140）测试支架（配手动150X150毫米测量平台和硅片托盘）测试方式可见光,反射 波长范围380-1050纳米光源钨卤素灯(寿命10000小时) 光路和传感器光纤式(FILBER )+进口光谱仪 入射角0 度 (垂直入射) (0 DEGREE) 参考光样品硅片光斑大小LIGHT SPOTAbout 1 mm（标配，可以根据用户要求配置）样品大小SAMPLE SIZE150mm,配150X150毫米行程的工作台和6英寸硅片托盘 膜厚测量性能指标（THICKNESS SPECIFICATION）：产品型号A3-SR-100厚度测量 1Thickness15 nm - 100 um 折射率 1（厚度要求）N 100nm and up准确性 2 Accuracy 2 nm 或0. 5%精度 3precision0.1 nm1表内为典型数值, 实际上材料和待测结构也会影响性能2 使用硅片上的二氧化硅测量，实际上材料和待测结构也会影响性能3 使用硅片上的二氧化硅（500纳米）测量30次得出的1阶标准均方差,每次测量小于1秒.

聚合物薄膜测厚仪配件用于测量聚合物薄膜、有机薄膜、高分子薄膜和 光致抗蚀剂薄膜, 光刻胶膜,光刻薄膜,光阻膜在加热或制冷情况下薄膜厚度和光学常量（n, k)的变化。为了这种特色的测量，孚光精仪公司特意研发了专业的软件和算法，使得该聚合物薄膜测厚仪能够给出薄膜的物理化学指标：例如玻璃化转变温度 glass transition temperature (Tg)，热分解温度，薄膜的厚度测量范围也高达10nm--100微米。聚合物薄膜测厚仪配件在传统薄膜测厚仪的基础上添加了加热/制冷的温度控制单元，使用白光反射光谱技术（WLRS)，实时测量薄膜厚度和折射率，并通过专业软件记录下这些数据，能够快速实时给出薄膜厚度和薄膜光学常量等物理化学性能数据，并且能够控制薄膜加热和制冷的速度，是聚合物薄膜特性深入研究的理想工具。干膜测厚仪所使用的软件也适合薄膜的其他热性能研究，例如：薄膜的热消融/热剥蚀thermal ablation研究，薄膜光学性质随温度的变化，薄膜预烘烤Post Apply Bake，光刻过程后烘烤 Post Exposure Bake对薄膜厚度的损失等诸多研究。对于薄膜的厚度测量，这款聚合物薄膜测厚仪,薄膜热特性测厚仪要求薄膜衬底是透明的，背面是不反射的。它能够处理最高4层薄膜的膜堆layer stacks，给出两个参数：例如两个薄膜的厚度或一个薄膜的厚度和光学常量。这套聚合物薄膜测厚仪,薄膜热特性测厚仪已经成功应用于测量不同聚合物薄膜的热性能，光刻薄膜的热处理影响分析，Si晶圆wafer上的光致抗蚀剂薄膜分析等。聚合物薄膜测厚仪配件参数 可测膜厚： 5nm-150微米；波长范围：200-1100nm 精度：0.5%分辨率：0.02nm 测量点光斑大小：0.5mm可测样品大小：10-100mm计算机要求：Windows XP, vista, Win7均可，USB接口；尺寸：360x400x180mm重量：13.5kg 电力要求：110/230VAC聚合物薄膜测厚仪配件应用聚合物薄膜测量光致抗蚀剂薄膜测量化学和生物薄膜测量，传感测量光电子薄膜结构测量 半导体薄膜厚度测量在线测量光学镀膜测量聚合物薄膜厚度测量polymer films测量测量有机薄膜厚度测量光致抗蚀剂薄膜测光刻胶膜测厚测量光刻薄膜厚度测量光阻薄膜测厚测量光阻膜厚度

薄膜厚度测量系统配件是一种模块化设计的薄膜厚度测量仪，可灵活扩展成精密的薄膜测量仪器，可在此基础上衍生出多种基于白光反射光谱技术的薄膜厚度测试仪，比如标准吸收/透过率，反射率的测量，薄膜的测量，薄膜温度和厚度的测量。薄膜厚度测量系统配件：核心模块----光谱仪；外壳模块----各种精密精美的仪器外壳；工作面积模块----测量工作区域；光纤模块----根据不同测量任务配备各种光纤附件；测量室-/环境罩---给测量带去超净工作区域。薄膜厚度测量仪核心模块---光谱仪孚光精仪提供多种光谱仪类型，不同光谱范围和光源，满足各种测量应用

无机元素分析用　固相萃取薄膜片品 　名使　用　用　途直径（mm）枚／箱Cat.No.螯合物小柱淡化Na、K，2价以上阳离子专用　100mL以下1030根5010-30157螯合物淡化Na、K，2价以上阳离子专用 　5L以下47205010-30055螯合物淡化Na、K，2价以上阳离子专用　5L以上90105010-30056Anion-SR　阴离子专用薄膜片　As、Se、Cr（6价）　1L以下47205010-30021Anion-SR阴离子专用薄膜片　As、Se、Cr（6价）　1L以上90105010-30022Cation-SR阳离子专用薄膜片　Cr（3价）其他　　1L以下47205010-30031Cation-SR阳离子专用薄膜片　Cr（3价）其他　　1L以上90105010-30032

有需求请联系上海昭沅仪器设备有限公司！ 021-35359028/29 氧化硅薄膜窗氧化硅薄膜窗RISUN推出新型二氧化硅薄膜窗系列产品。与氮化硅相比，氧化硅更易遭受化学侵蚀，且坚固性更差。但在X-射线显微镜中，由于没有N原子存在而倍受青睐。 氧化硅与氮化硅薄膜窗比较：相比氮化硅薄膜，氧化硅薄膜更适合用于含氮样本。在EDS研究中，如基片薄膜含氮，则会与样本造成混淆。 RISUN氧化硅薄膜窗特点许多研究纳米微粒，特别是含氮纳米微粒的人员发现此种薄膜窗格在他们实验中不可缺少。气凝胶和干凝胶的基本组成微粒尺寸极小，此项研究人员也同样会发现SPI氧化硅薄膜窗格的价值。 SEM应用中，薄膜背景不呈现任何结构和特点。 X射线显微镜中，装载多个分析样的唯一方法。 无氮 RISUN氧化硅薄膜窗规格 薄膜厚度窗口尺寸框架尺寸型号50nm1.5X1.5mm5.0X5.0mmRISUN100nm1.5X1.5mm5.0X5.0mm200nm1.5X1.5mm5.0X5.0mm硅片厚度：200um、381um、525um； 定制系列RISUN也可以根据用户需求定制不同膜厚的氧化硅窗口。本产品为一次性产品，不建议用户重复使用；本产品不能进行超声清洗，适合化学清洗、辉光放电和等离子体清洗。 应用简介实际上，RISUN氧化硅薄膜应用范围非常广，但所有应用都有无氮要求（因样本中有氮存在）：1. 惰性基片可用于高温环境下，通过TEM、SEM或AFM（某些情况下）对反应进行动态观察。2. 作为耐用（如“强力”）基片，首先在TEM下，然后在SEM下对同一区域进行“匹配”。3. 作为耐用匹配基片，对AFM和TEM图像进行比较。4. 聚焦离子束（FIB）样本的装载。5．用作Ti、V、Mo等滤光器基质；用于X-射线光学设备中，如分光器定制服务：本公司接受特殊规格的产品预订，价格从优。详情请咨询：admin@instsun.com

【固相萃取薄膜片 螯合物】固相萃取薄膜片螯合物是导入了亚氨基二乙酸基的聚合物基薄膜滤片。如使用螯合物薄膜片，可以高效率地将水中的多价金属阳离子萃取出来。由于其在碱金属基体中，也同样有着对于迁移金属的高选择性，因此，其对于海水中的重金属前处理，以及对于酸分解处理液实施淡化浓缩方面都有着非常优异的效果 特　长◆有着对于重金属的高选择性。迁移金属＞碱土类金属＞＞＞碱金属Pb＞Cu＞Cd＞Co＞Fe＞Ca＞Sr＞＞＞K、 Na◆不使用有害的有机溶剂。较之于以往的液／液萃取，可迅速且简单地萃取出重金属。 ◆可高效率地浓缩重金属。只需通过简单的过滤操作，即可对重金属实施浓缩。与加热板浓缩相比，可以大大缩短作业时间。◆薄膜片内无偏差不稳定问题。由于薄膜片内无偏差不稳定问题，因此可在薄膜片表面均一地浓缩重金属类。为此，作为对荧光X线之类固体试样实施非破坏分析之类装置的前辅助处理，是最为适用的。 使用领域◆可作为环境水中的重金属测定之前处理 ◆可用于海水中重金属的脱盐处理及浓缩◆可用于提升水的荧光X线的灵敏度 ◆实现水试样搬运时的轻量化目的（搬运所捕集的薄膜片） ◆在节省空间的前提下实现对金属用水试样的中期保管之目的◆作为食品中重金属测定的前处理【薄膜片型（适合于大容量样品）】 品　　名直　径包装单位（枚）Cat.No.　固相萃取薄膜片 螯合物47mm205010-3005590mm105010-30056

Atlas™ 标准薄膜制样机与高温薄膜制样系统Specac的等厚度薄膜制样工具主要用于高分子材料的光谱测定，根据热压制膜原理，所得到的样品是纯样品，谱图中只出现样品信息。Specac公司为满足客户的不同需求，提供三种等厚度薄膜制样工具，不仅可以将较厚的聚合物变成更薄的薄膜，还能将粒状，块状或板材，如药包材料，包装材料，特殊包裹材料等不规则的聚合物变成可以检测的薄膜。 GS15800高温薄膜制样系统技术参数： 最高操作温度高达400℃ 满足高端科研的要求 一周期40分钟 通过CE安全认证 集成的供热制冷设备? 2T的载荷极限 0.015, 0.025, 0.050, 0.100, 0.250, 0.500mm 薄膜直径29mm 压力范围0-2吨 一体式加热盘系统 双数字显示，精度1度 安全切换装置：70℃ 切断加热希同/55℃ 重启加热系统 一体式冷却盘高温薄膜制样机P/N GS15800有一组加热板是嵌入到薄膜制样机中的，所以当P/N GS15800装载在压 片机上时， 是不需要额外的Atlas 加热压盘P/NGS15515的。订购信息GS15640标准薄膜制样机特点：独立加热压盘，满足不同直径薄膜需要独立冷却盘，可缩短制膜周期重现性哈，制备过程简单 制膜过程无需化学品，成本低6种不同厚度的垫圈，适合各种高分子材料技术参数： 操作温度高达300℃ 一周期30分钟 4T的载荷极限 0.015, 0.025, 0.050, 0.100, 0.250, 0.500mm 薄膜直径29mm 双数字显示，精度℃ 可配套加热板P/N GS15515使用 冷却系统停止时切断加热系统 冷却水流速大于0.2/min时重启加热系统 独立冷却盒订购信息GS15640 Atlas™ 标准薄膜制样机包括: 0.015, 0.025, 0.050, 0.100, 0.250和0.500 mm 垫圈铝膜 直径40mm(200 片)Specacards 卡夹式，圆形通光孔直径10mm，样品架(20张)不锈钢镊子GS15800 Atlas™ 高温薄膜制样系统包括: 0.015, 0.025, 0.050, 0.100, 0.250and 0.500 mm 垫圈铝膜直径40mm(200 片)制作铝膜样品杯的工具Specacards 卡夹式，圆形通光孔直径10mm，样品架(20张)不锈钢镊子高稳定性及高精度的温度控制器(400℃) 薄膜制样套装GS15631 Atlas™ 标准型薄膜制样套装1包括: 薄膜制样系统(GS15640) 加热板和加热压盘以及数字全自动温控器(300°C) (GS15515)GS15633 Atlas™ 标准型薄膜制样套装2包括: 薄膜制样系统(GS15640)加热板和加热压盘以及数字温控器(300oC) (GS15515)15T手动液压机(GS15011)(对于GS15800,GS15631和GS15633，请指定220V或110V电压和使用的国家。)GS15800 Atlas™ 高温薄膜制样系统套装 包括: 高温薄膜制样系统(GS15800) 15T手动液压机(GS15011)(请指定220V或110V电压和使用的国家。)备件及耗材GS03800 卡夹式，圆形通光孔直径10mm，样品架 (100张/盒)GS03805 用于固定易伸缩薄膜样品的尼龙卡簧(20)GS03810 10mm x 25mm 矩形通光孔Specacards (100)GS03820 磁性薄膜样品架 圆形通光孔直径25mmGS15627 直径为40mm的铝膜(200)GS15641 冷却盒 用于标准薄膜制样系统 替换GS15642 标准薄膜制样压盘套装GS15629 标准薄膜制样机可替换的垫圈组件GS15805 高温薄膜制样机可替换的垫圈组件

产品信息：固相萃取薄膜片【固相萃取薄膜片是指】固相萃取薄膜片是将填充剂固定于纤维状的PTFE（特氟隆）中，制成厚0.5mm 的薄膜滤片的薄膜片型固相。其中约90％为填充剂，而剩下的10％则为PTFE纤维。固相中的溶液的流动保持均一，且与试剂的接触表面积也加大了，因此在短时间内流经大量试剂的情况下，也同样能够获得很高的回收率。特长* 可获得较高的萃取效率。由于粒径均等的填充剂被均一固定，因此，液体的流动是均一的，从而提高了萃取效率。* 即使1分钟内达到100mL以上的流速，还是能够进行固相萃取。（使用47mm 尺寸：1L检水的处理时间约为10 分钟）* 固相萃取薄膜片有着11种填充剂，2种尺寸（47mm、90mm）。* 其对于各种有机溶媒都是稳定的。【适应固相萃取薄膜片的应用】固相萃取薄膜片是作为日本国内的日本工业规格（JIS）、自来水试验法、环境省告示法下的固相萃取法而被采用的。其对海水、河水、废水、自来水等环境试样是有效的。是一种适合对二英、农药、PCB、环境激素、重金属、己烷萃取物实施分离精制的固相萃取薄膜片。订货信息：采用固相萃取薄膜片的公定法的例子公 定 法应 用使用固相萃取薄膜片JIS试验法JIS K0312 用水、排水中的二恶英分析固相萃取薄膜片C18 FFJIS K0128 用水、排水中的农药类分析固相萃取薄膜片SDB-XDJIS K0093 用水、排水中的PCB分析固相萃取薄膜片C18 FFJIS K0450-10-10 用水、排水中的双酚A固相萃取薄膜片SDB-XDJIS K0450-20-10 用水、排水中的烷基苯酚固相萃取薄膜片SDB-XDJIS K0450-30-10 用水、排水中的邻苯二甲酸酯类固相萃取薄膜片C18卫生试验法水中微囊藻的分析法固相萃取薄膜片SDB-XD自来水试验法2001年自来水中铀的测定（ICP发光）固相萃取薄膜片螯合物环境省告示法2004年环境省告示第123号《全锌》基准值的测定法固相萃取薄膜片螯合物 无机元素分析用固相萃取薄膜片种 类使 用 用 途直径（mm）枚／箱Cat.No.螯合物小柱淡化Na、K，2价以上阳离子专用 100mL以下1030根5010-30157螯合物淡化Na、K，2价以上阳离子专用 5L以下47205010-30055螯合物淡化Na、K，2价以上阳离子专用 5L以上90105010-30056Anion-SR阴离子专用薄膜片 As、Se、Cr（6价） 1L以下47205010-30021Anion-SR阴离子专用薄膜片 As、Se、Cr（6价） 1L以上90105010-30022Cation-SR阳离子专用薄膜片 Cr（3价）其他 1L以下47205010-30031Cation-SR阳离子专用薄膜片 Cr（3价）其他 1L以上90105010-30032

specac_迷你等厚度薄膜制样套装 等厚度薄膜制样工具主要用于高分子材料的光谱测定。根据热压制膜原理，所得到样品是纯样品，谱图中只出现样品信息。Specac公司为满足客户的不同需求，提供了3种等厚度薄膜制样工具。不仅可以将较厚的聚合物变成更薄的薄膜，还可以将粒状、块状或板材等不规则形状的聚合物变成可以用光谱检测的薄膜。 视频：http://v.youku.com/v_show/id_XNDg3ODI1OTc2.html 点击观看视频

总览筱晓（上海）光子技术有限公司的扫描式半导体激光器模块是基于自主知识产权的可调激光器模块，具有波长精确、功率稳定、扫描速度快，广泛应用于光纤光栅解调系统和光无源器件测试系统。 工作波长1528-1568nm输出功率20mW 技术参数产品特点：可调波长范围1528-1563 nm高输出功率低功耗工作温度范围宽扫描速度快通讯接口简单波长稳定性高 模块内部结构 技术指标:型号GC-76000CGC-76001C波长范围1528.8 -1563.8 nm1528 - 1568 nm输出功率20 mW最小分辨率0.1 GHz or 1 pm波长绝对精度+/-10 pm Typ 5 pm波长相对精度+/-5 pm Typ +/- 2 pm 波长重复性+/-2 pm Typ +/-1 pm波长稳定性( -5 to +65 ℃) +/- 2 pm扫描速度1.2 Second for 4000 Points (C-Band)缺省扫描步长1 GHz or 0.5 GHz功率稳定性+/- 0.05 dB功率vs 波长平坦度 0.5 dB边模抑制比 40 dB相对强度噪声 -135 dB/Hz供电电源+3.3 V/3 A 线宽 5 MHz, Typ 1 MHz触发信号输出电平TTL通信接口RS232通信协议OIF-ITLA-MSA-1.2尺寸120mm x 80mm x 32mm光接口FC/UPC 或客户定义温度范围0-60 ℃

透射电镜（TEM）用氧化硅薄膜窗格 氧化硅与氮化硅薄膜窗格比较： 相比氮化硅薄膜，氧化硅薄膜更适合用于含氮样本。在EDS研究中，如基片薄膜含氮，则会与样本造成混淆。 样本安置面：对多数用户来说，样本应安置在薄膜窗格的&ldquo 覆膜面&rdquo 而非&ldquo 蚀坑面&rdquo 。但我们也知道在一些特殊情况下，蚀坑面也可安置样本。除对样本进行原子力显微镜（AFM）观测外，蚀坑面本质上并非不可用于放置样本。实际上，没有一个显微镜的悬臂可以伸至蚀坑内&ldquo 看清&rdquo 薄膜表面。 产品规格： 氧化硅薄膜窗特点： 清洗：采用等离子清洗，无有机物残留，改善成像质量； 均匀性：减少了不同区域的不均匀性； 稳定性： 耐高温，1000℃； 良好的化学稳定性：图像分辨率和机械强度达到理想的平衡； 化学计量比的SiO2：可用于氮气环境下的EDX分析； 氧化硅薄膜窗规格 窗口类型薄膜厚度窗口尺寸框架尺寸框架厚度20nm2x1阵列，100X1500μmΦ3mm200μm40nm2x1阵列，100X1500μmΦ3mm200μm20nm3x3阵列，窗口100X100μmΦ3mm200μm40nm3x3阵列，窗口100X100μmΦ3mm200μm8nm窗口0.5x0.5mm，氮化硅薄膜200nm；24个网格，网格大小70x70μmΦ3mm200μm18nm窗口0.5x0.5mm，氮化硅薄膜200nm；24个网格，网格大小60x60μmΦ3mm200μm 40nm窗口0.5x0.5mm，氮化硅薄膜200nm；24个网格，网格大小50x50μmΦ3mm200μm 优点： SEM应用中，薄膜背景不呈现任何结构和特点。 x-射线显微镜中，装载多个分析样的唯一方法。 无氮 应用： 氧化硅薄膜应用范围非常广，甚至有时使不可能变为可能，但所有应用都有无氮要求（因样本中有氮存在）： ● 惰性基片可用于高温环境下，通过TEM、SEM或AFM（某些情况下）对反应进行动态观察。 ● 作为耐用（如&ldquo 强力&rdquo ）基片，首先在TEM下，然后在SEM下对同一区域进行&ldquo 匹配&rdquo 。 ● 作为耐用匹配基片，对AFM和TEM图像进行比较。 ● 聚焦离子束（FIB）样本的装载，我们推荐使用多孔薄膜，而非不间断薄膜。 氧化硅薄膜TEM网格操作使用： 如果正确操作，氧化硅薄膜将会拥有非常好的性能。相反，若用工具直接接触薄膜，则会即刻损坏薄膜。为防损坏，可用尖嘴镊子小心夹取，就像夹取其他TEM网格一样。 使用前清洁： 氧化硅薄膜窗格在使用前不需进行额外清洁。有时薄膜表面边角处会散落个别氧化物或氮化物碎片。由于单片网格需要从整个硅片中分离，并对外框进行打磨，因此这些微小碎片不可避免。尽管如此，我们相信这些碎片微粒不会对您的实验产生任何影响。 如果用户确实需要对这些碎片进行清理，我们建议用H2SO4 : H2O2 (1:1)溶液清洁有机物，用H2O:HCl: H2O2 (5:3:3)溶液清洁金属。 通常不能用超声波清洗器清洁薄膜，因超声波可能使其粉碎性破裂。 详细请咨询：021-35359028/ admin@instsun.com

chemplex样品薄膜型号：090，250品牌：chemplex产地：美国 一、产品介绍： 在用x荧光光谱仪进行rohs检测，weee检测和一般材料成分分析时，由于样品的不规则（特别是液体、粉末等），需要借助样品杯和薄膜辅助检测；但不合适的样品薄膜往往造成样品污染并影响材料成分分析的x射线信号和检测结果。选择适当的薄膜材料对于分析结果至关重要。 在现有的众多不同的物质类型中，只有为数不多的几种具备能满足光谱化学需要的一致性和化学、物理属性。 如何选择薄膜样本支撑窗材料？适当的薄膜样本支撑窗的选择主要以满足首要重要的实验室要求为基础： 使用方便快捷； 避免造成待测样品污染； 优越的分析物透射比与强度； 对待测样品的耐化学性。chemplex industries有限公司专业从事样品前处理设备、耗材研发和生产的公司，是x射线光谱仪（xrf）配件耗材领域的全球知名厂商。chemplex xrf样品杯和样品薄膜用于rohs、weee专业测试仪器盛放小颗粒固体，粉末，液体，适用于各种品牌的x射线荧光光谱仪。chemplex样品薄膜薄膜张力特性极/佳，与样品杯组合使用，适合盛放各类金属重物、液体或粉末。对特别配制的塑料和保持其物理和化学属性一致性的特别关注，使得chemplex xrf样本杯、样品薄膜在xrf物质成分分析应用范围和性能上无与伦比。chemplex的许多xrf样本杯、样品薄膜被列为新颖独特的设计和应用，并被美国专利商标局授予知识产权地位。美同达作为美国chemplex公司的中国代理商，提供chemplex所有系列用于对应欧盟rohs和weee环保检测仪器——x射线荧光光谱仪（xrf）的检测实验消耗产品！我们不仅能够为您提供样品薄膜、样品杯, 还可根据您的样品应用为您选择、定制合适的样品薄膜、样品杯。 二、适用仪器：德国斯派克spectro、英国牛津oxford、日本堀场horiba、飞利浦/帕纳科philips/panalytical、德国布鲁克 bruker、美国赛默飞世尔科技（热电）thermo，瑞士arl及日本理学rigaku, siemens, spectrace,jordan, kevex, metorex,fisons, asoma，venus 200,valley等生产的x荧光光谱仪(xrf)。（适用x 射线荧光光谱仪品牌型号：所有x射线荧光光谱仪包括：尼通(niton)：xlt797z 、xlt794、xlt898 ；伊诺斯(innov-x)：alpha6000；牛津(oxford)：met-5000；帕纳科(panalytical)：minipal4、 minipal2；精工(seiko)：sea1000a；斯派克（spectro）：xepos、midex m；热电(thermo)：arl quant’x；日本电子（jeol）jsx－3400r；horriba等。） 三、spectromembrane® 样品薄膜随着spectromembrane® 样本支撑托架的面世，在处理薄膜时用户不再需要担心静电附着或潜在的污染风险或吸引空中颗粒等问题。除样本杯外，薄膜不再近距离接触其它任何物体。薄膜处理将通过使用集成的托框完成，托框能够在组装过程中自动分离，留下绷紧的薄膜样本平面。spectromembrane® 薄膜样本支撑托架由一块粘在托架上作为支撑物的薄膜样本支撑物质组成。在把薄膜物质粘在xrf样本杯上时，薄膜物质并不会被直接处理，这就消除了污染的可能性。接近完成或在完成附着时，薄膜将自动从托架上分离，留下绷紧的无皱样本支撑窗。

产品特点： 多模式样品导入系统（MSIS）外部气体控制模块（EGCM）G8000-63005订购信息：多模式样品导入系统（MSIS）MSIS 可以使砷、硒、汞等环境领域中敏感元素进行同步氢化物发生法分析，具有低至ppb 级的检出限。MSIS 通过薄膜氢化技术提供更好的氢化法分析性能，该技术可同时提供3 种分析模式，对于常规分析元素和氢化法元素可以同时测定而无需分析模式之间的切换。 说明部件号多模式样品导入系统（MSIS）G8000-63003外部气体控制模块（EGCM）增加外部气体控制模块实现有机溶剂和硫化物的测定外部气体控制模块将空气注入等离子体，使碳积累最小化且降低了背景。说明部件号外部气体控制模块（EGCM）G8000-63005有机物组件包4100 MP-AES 有机物组件包包括用4100 进行有机溶剂测定所需的所有部件。 说明部件号4100 MP-AES 有机物组件包包括外部气体控制模块（EGCM），OneNeb 雾化器和耐溶剂管G8000-68004

迷你薄膜制样套装一款5分钟就能实现红外透射分析专用的聚合物薄膜制样机特点：液压机与加热压盘以及温控器一体化的设计体积小巧，方便存储，携带薄膜重现性好，使用快捷 无需化学品，成本低,6种不同的垫圈这种设计允许加热板先进行预加热，温度升高至样品所需的熔点，并保持这个温度。样品在被引入到预加热板之前，薄膜制样机就可以独立的为几克的样品准备好相应的载荷和合适的定型圈。当薄膜制样机达到预设温度并稳定后，通常使用0.5T负载转动丝杆来热压薄膜。一旦从热压机上移走，低温块体薄膜制备制样机可以在冷却板上快速冷却到室温，压制成型的薄膜可以移除。薄膜样品可被镶嵌在一个3×2英寸的自粘帖卡片(Specacard) 上以用于红外透射光谱分析使用。与传统方法相比，这个过程可缩短薄膜制备的周期，实际上，制作一个薄膜样品的周期可小于5分钟。如何制备薄膜样品放置好隔热板, 选择好定型圈和较小的铝膜，放到下方组件上。1) 将样品放到铝膜的中央位置，然后在上面覆盖上较大的铝膜和上方组件2) 将准备好的以上组件整体放置到预加热板平面间，再施加1T位的载荷。3) 一旦样品完成压缩从压片机取出，分开组件，小心的将铝膜从样品上剥离。4) 制成的薄膜放入Specacard，然后一同放置到光谱仪器中进行分析。 技术参数： 快速，可重复的制备薄膜样品 样品熔点范围从室温到260℃ 标准薄膜厚度15,25，50, 100,250和500μm 直径15mm 压力范围0-2吨 制样包包括液压机和集成的加热板 周期5分钟 加热压盘直径25mm 加热压盘最大功率：35W 温度控制器：双数字显示，精度1℃ 加热压盘可调距离0-20mm 独立冷却盘 重量5.7kg 订购信息 迷你薄膜制样套装 GS03970 迷你薄膜制样套装 备件及耗材 GS03971 迷你薄膜制样组件 (包括压板组件，隔热板， 下压板组件，定型圈组件) GS03972 定型圈(15, 25, 50, 100, 250 和500 μm GS03973 铝膜(200 对) GS03974 迷你薄膜制样机冷却板 GS03975 迷你薄膜制样机压板(包括上压板，隔热板，下压板) GS03800 Specacards (100包) 直径10mm的圆形通光孔 GS15628 不锈钢镊子

半导体488nm激光器配件是优质进口的488nm激光器,它使用半导体激光器经过准直和光束整形后，达到了DPSSL激光器的优秀水准。半导体488nm激光器配件是超级紧凑的激光器,TE制冷，波长温度,可以直接使用，也可作为OEM器件使用,广泛用于生物光子学仪器,光谱学，荧光成像，检测和计量领域，采用了坚固的光学微板全固态设计和准直，使用温度稳定的激光二极管作为光源，提供超水平的稳定性，激光输出功率浮动小，波长稳定，模块经过良好的制冷控制，波长稳定，激光器的尺寸非常小巧，适合各种应用。488nm激光器包括激光电源和激光头，到货使用220V交流电即可工作。半导体488nm激光器配件规格激光波长：488nm输出功率：10mW激光头尺寸：30x31x34mm，模块电源大小：138x87x38mm 模块波长精度Wavelength Accuracy +/- 10 nm模块线宽Line width 1 nm光束质量Beam Quality TEMoo M2 1.2 （只限于对称光束和单模二极管）光束发散角Beam Divergence 1.5 mrad 光束直径Beam Diameter(1/e2) 2.3 mm 光束点稳定性Beam Pointing Stability 0.1 mrad模组制冷功率Conductive Cooling Laser Head 10 W Power Controller 15 W寿命：Expected Lifetime: 10,000 hours limited by laser diode lifetime模组温度稳定控制Temperature Stabilization TEC 工作温度operating temperature range +10° to +40°模组存储温度Storage temperature range -10° to +50°噪音Noise 5% rms 模组电源消耗Power Consumption 25 W偏振Polarization 100:1 Vertical(4)/Circular(5)模组预热时间Warm up time 5 min 375nm先的进口精密激光光学器件旗舰型服务商--孚光精仪！ 型号波长 [nm]输出功率 [mW] CLD-375-XX 375 3 CLD-405-XX 405 3,20,500* CLD-440-XX 440 3 CLD-445-XX 445 50,500* CLD-473-XX 473 3 CLD-488-XX 488 10 New Product CLD-515-XX 515 3 CLD-635-XX 635 3,20 CLD-650-XX 650 3,20 CLD-670-XX 670 3,20 CLD-690-XX 690 3,20 CLD-780-XX 780 3,20 CLD-808-XX 808 3,20 CLD-830-XX 830 3,20 CLD-850-XX 850 3,20 CLD-904-XX 904 3,20 CLD-980-XX 980 3,20 CLD-1310-XX 1310 3 CLD-1550-XX 1550 3

无锡吉致电子25年研发生产——钨抛光液/W CMP Slurry/W 抛光液/半导体研磨液/CMP抛光液/化学机械抛光液/CMP化学机械抛光液slurry/CMP集成电路抛光液钨W抛光液作用: 吉致电子钨W抛光液适用于8-12吋氧化硅镀膜片的抛光。特选粒径均一的SiO2水溶胶为磨料，抛光清洗后晶圆表面粗糙度低、颗粒残留少。与国内外同类产品相比，具有易清洗、表面粗糙度低等特点.我司产品优点： 1.悬浮性好，不易沉淀，使用方便。2.颗粒分散均匀，不团聚，软硬度适中，有效避免抛光过程中由于颗粒团聚导致的工件表面划伤缺陷。3.运用抛光过程中的化学新作用，提高抛光速度，改善抛光表面的质量。4.分散性好、乳液均一，程度提升抛光速率的同时降低微划伤的概率，可以提高抛光精度。5.无粉尘产生，关注环保和人体健康安全。可定制化：我们的抛光液可以根据客户需求定制不同的PH、粒径、浓度、稳定离子等。包裝方式：25KG/桶(也可依客户需求)吉致电子CMP抛光液/Slurry抛光液价格：吉致电子的CMP金属抛光液生产技术是引进国外生产技术和设备，特殊化学配方制备而成。吉致电子抛光液品质可以媲美进口同类产品。本土化生产使吉致电子CMP抛光液产品交货周期快，品质好，抛光液价格实惠亲民。吉致电子CMP抛光耗材适用范围吉致电子科技有限公司拥有成熟的加工工艺，为不锈钢、铜、铝、陶瓷、导光板、五金产品、蓝宝石、光学玻璃等各类抛光加工服务。为您提供可靠有效抛光解决方案！

TEM用纯Si薄膜窗 纯硅薄膜窗特点 纳米级厚度：薄膜厚度为5-15nm，比目前无定形碳薄膜窗口还薄，为高倍成像减少了背景干扰； 清洗：采用等离子清洗，无有机物残留，改善成像质量； 均匀性：减少了不同区域的不均匀性； 稳定性：高电子束电流和退火温度下具有很好的稳定性(600℃ for non-porous, 1000℃ for nanoporous)； 减少污染：彩色污染仅为C膜的一半； 纳米孔：为纳米尺寸材料提供稳定的成像，无背景干扰； Si成分：溅镀沉积、纯的Si； 最小的背景信号：可对含Ni或C样品进行元素分析； 纯硅薄膜窗规格 单窗口系列窗口类型薄膜厚度窗口尺寸框架尺寸框架厚度5nm25x25μmΦ3mm100μm30nm500x500μm纳米孔10-60nmΦ3mm100μm多窗口系列窗口类型薄膜厚度窗口尺寸框架尺寸框架厚度5nm2x1阵列，50X1500μmΦ3mm100μm9nm/15nm2x1阵列，100X1500μmΦ3mm100μm5nm2x1阵列，100X100μmΦ3mm200μm9nm/15nm2x1阵列，100X1500μmΦ3mm200μm5nm3x3阵列，8个窗口50X50μm，1个窗口50X100μmΦ3mm100μm5nm/9nm3x3阵列，8个窗口100X100μm，1个窗口100X350μmΦ3mm100μm9nm3x3阵列，8个窗口100X100μm，1个窗口100X350μmΦ3mm200μm15nm3x3阵列，8个窗口100X100μm，1个窗口100X350μmΦ3mm100μm30nm3x3阵列，8个窗口100X100μm，1个窗口100X350μm；纳米孔10-60nmΦ3mm100μm15nm3x3阵列，窗口100X100μmΦ3mm200μm详细资料请咨询：021-35359028/ admin@instsun.com

x射线定硫仪消耗品样品薄膜，迈拉膜，样品杯 Chemplex样品薄膜 型号：090，250 品牌：Chemplex 产地：美国 一、产品介绍： 在用X荧光光谱仪进行ROHS检测，WEEE检测和一般材料成分分析时，由于样品的不规则（特别是液体、粉末等），需要借助样品杯和薄膜辅助检测；但不合适的样品薄膜往往造成样品污染并影响材料成分分析的X射线信号和检测结果。 选择适当的薄膜材料对于分析结果至关重要。 在现有的众多不同的物质类型中，只有为数不多的几种具备能满足光谱化学需要的一致性和化学、物理属性。 如何选择薄膜样本支撑窗材料？ 适当的薄膜样本支撑窗的选择主要以满足首要重要的实验室要求为基础： 使用方便快捷； 避免造成待测样品污染； 优越的分析物透射比与强度； 对待测样品的耐化学性。 Chemplex Industries有限公司专业从事样品前处理设备、耗材研发和生产的公司，是X射线光谱仪（XRF）配件耗材领域的全球知名厂商。 Chemplex XRF样品杯和样品薄膜用于RoHS、WEEE专业测试仪器盛放小颗粒固体，粉末，液体，适用于各种品牌的X射线荧光光谱仪。Chemplex样品薄膜薄膜张力特性佳，与样品杯组合使用，适合盛放各类金属重物、液体或粉末。对特别配制的塑料和保持其物理和化学属性一致性的特别关注，使得Chemplex XRF样本杯、样品薄膜在XRF物质成分分析应用范围和性能上无与伦比。Chemplex的许多XRF样本杯、样品薄膜被列为新颖独特的设计和应用，并被美国商标局授予知识产权地位。 美同达为美国Chemplex公司的中国代理商，提供Chemplex所有系列用于对应欧盟ROHS和WEEE环保检测仪器——X射线荧光光谱仪（XRF）的检测实验消耗产品！ 我们不仅能够为您提供样品薄膜、样品杯, 还可根据您的样品应用为您选择、定制合适的样品薄膜、样品杯。 二、适用仪器： 德国斯派克Spectro、英国牛津Oxford、日本堀场Horiba、飞利浦/帕纳科Philips/Panalytical、德国布鲁克 Bruker、美国赛默飞世尔科技（热电）Thermo，瑞士ARL及日本理学Rigaku, Siemens, Spectrace,Jordan, Kevex, Metorex,Fisons, Asoma，Venus 200,Valley等生产的X荧光光谱仪(XRF)。 （适用X 射线荧光光谱仪品牌型号：所有X射线荧光光谱仪包括：尼通(NITON)：Xlt797z 、Xlt794、Xlt898 ；伊诺斯(Innov-X)：AlPHA6000；牛津(Oxford)：Met-5000；帕纳科(Panalytical)：Minipal4、 Minipal2；精工(Seiko)：SEA1000A；斯派克（Spectro）：XEPOS、MIDEX M；热电(Thermo)：ARL Quant’X；日本电子（JEOL）JSX－3400R；Horriba等。） 三、SPECTROMEMBRANE?样品薄膜 随着SpectroMembrane?样本支撑托架的面世，在处理薄膜时用户不再需要担心静电附着或潜在的污染风险或吸引空中颗粒等问题。除样本杯外，薄膜不再近距离接触其它任何物体。薄膜处理将通过使用集成的托框完成，托框能够在组装过程中自动分离，留下绷紧的薄膜样本平面。 SpectroMembrane?薄膜样本支撑托架由一块粘在托架上作为支撑物的薄膜样本支撑物质组成。在把薄膜物质粘在XRF样本杯上时，薄膜物质并不会被直接处理，这就消除了污染的可能性。接近完成或在完成附着时，薄膜将自动从托架上分离，留下绷紧的无皱样本支撑窗。 x射线定硫仪消耗品样品薄膜，迈拉膜，样品杯 106麦拉膜、CAT.NO：150麦拉膜、CAT.NO：250麦拉膜、CAT.NO：256麦拉膜、CAT.NO：257麦拉膜、CAT.NO：416、CAT.NO：426等Cat. No. Type Thickness Format Size Qty/Pack446-5 Kapton? 7.5 μm (0.3mil) Precut Circles 2.5" (63.5mm) 50090 Ultra-Polyester? 1.5μm (0.06mil) Roll 3.0" (76.2mm) 300' (91.4m)95 Etnom? 1.5μm (0.06mil) Roll 3.0" (76.2mm) 300' (91.4m)100 Mylar? 2.5μm (0.1mil) Roll 3.0" (76.2mm) 300' (91.4m)100-PP Mylar? 2.5μm (0.1mil) Roll - PrePerf 3.0" (76.2mm) 300' (91.4m)106 Mylar? 2.5μm (0.1mil) Precut Circles 2.5" (63.5mm) 500107 Mylar? 2.5μm (0.1mil) Precut Circles 2.5" (63.5mm) 1000150 Mylar? 3.6μm (0.14mil) Roll 3.0" (76.2mm) 300' (91.4m)150-PP Mylar? 3.6μm (0.14mil) Roll - PrePerf 3.0" (76.2mm) 300' (91.4m)156 Mylar? 3.6μm (0.14mil) Precut Circles 2.5" (63.5mm) 500157 Mylar? 3.6μm (0.14mil) Precut Circles 2.5" (63.5mm) 1000250 Mylar? 6.0μm (0.24mil) Roll 3.0" (76.2mm) 300' (91.4m)250-PP Mylar? 6.0μm (0.24mil) Roll - PrePerf 3.0" (76.2mm) 300' (91.4m)256 Mylar? 6.0μm (0.24mil) Precut Circles 2.5" (63.5mm) 500257 Mylar? 6.0μm (0.24mil) Precut Circles 2.5" (63.5mm) 1000美国Chemplex工业公司自1971年成立以来，一直坚持专注于X射线光谱分析的样品制备领域，拥有多系列独有的特色产品线以及产权，以质量和全面的X射线的样品制备产品线享誉全球。美国Chemplex公司一直以产品创新、质量保证、、服务周到、准时交货为原则，几乎所有的产品有库存。美同达代理美国Chemplex工业公司旗下系列产品：XRF样品杯、XRF样品膜、X-ray光谱仪样本杯、ROHS专用样品杯、符合ROHS方法的PE/PVC高分子聚合物（块/粉）、XRF/XRD化学试剂盒套包装等。全线供应给各大中石油、中石化、中海油旗下研发质检实验室，是一家专业的油品实验室进口配件耗材打包供应专家！

薄膜偏振片英文名Thin film polarizer，薄膜偏振片是一种介质镀膜偏振片把s光和p光分开，适合高功率激光或高能量激光应用，适合内腔和外腔应用。布儒斯特型薄膜偏振片又叫Thin film polarizer,布儒斯特角偏振片，是一种适合高能激光应用的偏振片，损伤阈值高达10J/cm2 @1064nm 8ns. 薄膜偏振片常常作为格兰泰勒棱镜和偏振立方分束器（偏振立方体）的替代用品使用。常用的基质材料是BK7和紫外熔炉石英。56度入射角（布儒斯特角）情况下的 偏振比值Tp/Ts=200：1.特点：1）薄膜偏振片,Thin film polarizer有效地分开s光和p光 2）薄膜偏振片,Thin film polarizer配备有库存，可以立刻发货。薄膜偏振片标准参数 材料：BK7, UVFS直径公差：+0.0/-0.12mm厚度公差：+/-0.2mm净孔径：90%表面质量： 20-10 scratch&dig表面平整度：Lambda/10 @633nm平行度：30arec sec 消光比Tp/Ts：200:1典型透过率： Tp90%典型反射率：Ts99.5%激光损伤阈值： 5J/cm2 10ns 1064nm现有产品：266nm,343nm, 355nm, 400nm, 515nm, 532nm,780nm, 780-820nm, 795-805nm,940nm980nm, 1020-1040nm, 1064nm, 1550nm偏振片中国领先的进口精密激光光学器件旗舰型服务商--孚光精仪！

X射线荧光膜、土壤样品杯膜、X-RAY样品膜、Prolene膜、ROHS测试膜、XRF有方形托架的圆片薄膜--美国Chemplex--3018# 现货供应：XRF样品膜、XRF薄膜、EDX样品膜、EDX薄膜、样品薄膜、X-RAY样品膜、ROHS测试膜、X-ray样品膜、X荧光光谱仪样品膜、光谱仪样品膜、迈拉膜、麦拉膜、Mylar膜、美国Chemplex样品膜、CAT.NO：106、CAT.NO：150、CAT.NO：250、CAT.NO：256、CAT.NO：257、CAT.NO：416、CAT.NO：426、CAT.NO：3014样品膜、Sample Film。 品名：XRF样品膜Sample Film目录编号CAT. NO：3018产品信息：Prolene膜，厚度4.0μm，直径63.5mm，100片/盒品牌：美国Chemplex Industries.Inc.（原装进口）货期：现货起订量：1盒以上。 现货供应：XRF样品膜、XRF测试薄膜、EDX样品膜、EDX薄膜、样品薄膜、X-RAY样品膜、ROHS测试膜、X-ray样品膜、X荧光光谱仪样品膜、光谱仪样品膜、迈拉膜、麦拉膜、Mylar膜、美国Chemplex样品膜、CAT.NO：106、CAT.NO：150、CAT.NO：250、CAT.NO：256、CAT.NO：257、CAT.NO：416、CAT.NO：426、CAT.NO：3014样品膜、Sample Film。