晶体材料

陶瓷、玻璃、晶体等脆性材料研究成套设备-经济系列包括了最新研发的SYJ-200H手动快速切割机和GPS-50A精确磨抛控制仪，可以快速而准确地掌握制备精度。同时，配备的UNIPOL-802自动精密研磨抛光机及SKZD-2、SKZD-3滴料器可实现无人看守磨抛和研磨料、抛光剂的适量自动添加，有效的节约了人力、时间、原料，且大大提高了工作效率。此外，全套设备仅需五万元的成本。 1切割SYJ-200H手动快速切割机SYJ-150低速金刚石切割机2加热粘接MTI-250加热平台3磨抛控制GPS-50A精确磨抛控制仪4磨料添加SKZD-2滴料器SKZD-3滴料器5磨抛UNIPOL-802自动精密研磨抛光机6厚度检测SKCH-1（A）精密测厚仪7清洗VGT-1620QTD超声波清洗机 SYJ-200H手动快速切割机主轴转速高，切割速度快，试样装卡操作方便、快捷。SYJ-150低速金刚石切割机适用于切割晶体、陶瓷、玻璃，以及一些高价值脆性人工晶体和坚硬材料。 MTI-250加热平台　　 用于熔融石蜡，以便粘接样　　 品于载样盘上。　　 UNIPOL-802自动精密研磨抛光机 用于晶体、陶瓷、金属、玻璃、岩样、矿样等材料的研磨抛光制样。 GPS-50A精确磨抛控制仪 可精确控制样品研磨抛光的去层量。 SKZD-2滴料器可实现研磨过程中磨料滴加的自动控制，并实现均匀送料，使研磨质量大大提高。SKZD-3滴料器用于悬浮抛光液的滴加，可实现抛光过程中抛光液滴加的自动控制。 SKCH-1（A）精密测厚仪主要用于各类材料厚度的精密测量。VGT-1620QTD超声波清洗机可以清理一般工具达不到的地方，实现无损伤清洗。

陶瓷、玻璃、晶体等脆性材料研究成套设备-简便系列仅需二万元的成本即可实现对陶瓷、玻璃、晶体等脆性材料的简单切割和磨抛工艺。 1切割SYJ-D2000金刚石带锯切割机2加热粘接KJML普通加热平台3磨料添加SKZD-2滴料器4磨抛UNIPOL-810精密研磨抛光机 切　割　　　　　　 SYJ-D2000金刚石带锯切割机　　　小型的金刚石带锯切割机，可以进行一定的角度切割和曲线切割，是实验室切割脆性材料的理想工具。 　　 加热粘接 KJML普通加热平台用于熔融石蜡，以便粘接样品于载样盘上。　　 加热板尺寸400mm×280mm。 　　 磨料添加 SKZD-2滴料器可实现研磨过程中磨料滴加的自动控制，不但节省人力，而且节约磨料，并且实现均匀　　　送料，使研磨质量大大提高。磨　抛　　　　　 UNIPOL-810精密研磨抛光机　　用于磨抛晶体、金属、陶瓷、玻璃、岩样、矿样、PCB板、耐火材料、复合材料及密封件等。

陶瓷、玻璃、晶体等脆性材料研究成套设备-中级系列包括了外圆切割机、金刚石线切割机，以及最新研发的GPC-100A精密磨抛控制仪，可以准确地掌握制备精度。同时，配备的UNIPOL-1202自动精密研磨抛光机及SKZD-2、SKZD-3滴料器可实现无人看守磨抛和研磨料、抛光剂的适量自动添加，有效的节约了人力、时间、原料，且大大提高了工作效率。此外，全套设备仅需十万元的成本。 1切割STX-202A小型金刚石线切割机SYJ-400 CNC划片切割机2加热粘接MTI-250加热平台3磨抛控制GPC-100A精确磨抛控制仪4磨料添加SKZD-2滴料器SKZD-3滴料器5磨抛UNIPOL-1202自动精密研磨抛光机 SYJ-400 CNC划片切割机用于各种晶体、陶瓷、玻璃、矿石、 金属等材料的划片和切割。STX-202A小型金刚石线切割机用于脆性材料样品的精密切割及超薄精密切割。 MTI-250加热平台用于熔融石蜡，以便粘接样品于载样盘上。 GPC-100A精确磨抛控制仪可精确控制样品研磨抛光的去层量，采 用真空吸附方式固定样品。 SKZD-2滴料器可实现研磨过程中磨料滴加的自动控制。UNIPOL-1202自动精密研磨抛光机用于晶体、陶瓷、金属、玻璃、岩样、矿 样等材料的研磨抛光制样。 SKZD-3滴料器可实现抛光过程中抛光液滴加的自动控制。

SWT-1419微电脑晶体管焊接电源是电阻焊接里面最理想的焊接电源，主机采用高速微处理器控制，控制精度高，时间响应快， 工作模式丰富，它具有电流上升快、输出电流稳定、熔接处于两焊接接触面，被焊接处氧化少、焊接自检等主要特性，主要用于 锂离子电池组焊接、动力电池、电动工具电池焊接之用，是保证高品质焊接必选机型。整机电源全为开关电源控制，电源适应能力强。 SWT-1418微电脑晶体管点焊机带自动送料装置专用于镍片与电子线 焊接，也可以分开使用，方便快捷，焊接牢固。专用焊棒，不粘针，不炸火。规格型号：SWT-1419电流：8000A焊接能力：0.01-0.20驱动形式：气动焊接时间：1.0-3.0mS焊接电流：0-99%电极直径：φ6输入电源：AC220V±10%/50Hz

产品名称：（日本料）掺铌钛酸锶(Nb:SrTiO3)晶体基片产品简介：掺铌钛酸锶单晶与纯钛酸锶有相似的结构，但有电导性。掺铌钛酸锶的电阻率在0.1 – 0.001 W-cm之间变化随着掺铌浓度在0.01 ~ 0.001 wt %之间不同。传导的单晶基片为薄膜和器件提供了电极。科晶提供高质量低成本的掺铌钛酸锶基片。产品参数：晶体结构：Cubic, a=3.905 A 生长方法:Vernuil密度：5.175 g/cm3熔点：2080 ℃硬度：6 ( Mohn)热膨胀系数：10.4 (x10-6/ ℃)电阻率：0.007 ohm-cm for 0.7% doped and 0.08 ohm-cm for 0.1% doped损耗角正切at 10 GHz：~5x10-4 @ 300K , ~3 x10-4 @77K颜色和表象：黑色，化学稳定性好不溶于水产品规格：表面抛光：单抛或双抛，Ra 5?；标准方向：100 ± 0.5o ；标准尺寸：10x10x0.5mm, 5x5x0.5 mm.；日本料Nb:SrTiO3可按照客户要求加工备注：等离子清洗器专业清洗（详情请点击） 相关产品：SrTiO3LSATLaAlO3MgO薄膜制备仪硅材料综合测试仪 SrLaAlO4NdCaAlO4NdGaO3YSZ晶片盒等离子清洗/臭氧清洗机

Ppxx散装芯片关键词：PPLN晶体,PPLT晶体,PPMGOLN,非线性晶体_PPLN晶体,非线性晶体 基于准相位匹配（QPM），使新的波生成和xx型谱是困难的或不可能的工程实现由传统的非线性材料。xx型芯片和全谱（LN、LT：氧化镁：镁和适当的非线性频率转换计划）（DFG SFG，倍频、OPO，收购，联合，一个CAN，等），实现期望的输出波长（紫外/可见到/从太赫兹光谱反演和特殊功能（），两个频谱转换。频谱工程等）有效。 HCP提供以下全光谱configurations xx型散装芯片来满足你的应用要求和规格。我们可以帮助你设计结构合适的外加电压和外加电压为选定的时间获得所需的材料/ PPLT极化相匹配指定的操作温度和光谱.思考与输入和输出功率/能量/脉冲以及它们的光谱特性。请为您的特殊要求，也具有挑战。Ref-1: Materials and Application Wavelength?Ref-2: Chip StructureRef-3: Conversion ConfigurationRef-4: Dimension and Surface Specification ???

光折变晶体 SBNSBN晶体，又名铌酸锶钡，是一种非常优异的光折变晶体材料。 纯SBN晶体和掺杂 Ce, Cr, Co, Fe 的铌酸锶钡 (SBN:60, SBN:61, SBN:75)是优良的光折变晶体，用于电光，声光和光折变等非线性光学研究。我司提供的进口SBN晶体采用优良的晶体生长技术，具有出色的光学质量。晶体内部无生长条纹，包裹体和其他不均匀性现象。SBN晶体指标参数：可根据客户需求提供极化处理等。SBN晶体应用领域：1. 光学信息记录，动态全息干涉，光学全息放大等；2. 高效相位共轭，自泵浦相位共轭镜，双相位共轭镜：3. 用于电光器件和声光器件；4. 用于Pyroelectrical 探测器；更多详情请联系昊量光电/欢迎直接联系昊量光电关于昊量光电：上海昊量光电设备有限公司是光电产品专业代理商，产品包括各类激光器、光电调制器、光学测量设备、光学元件等，涉及应用涵盖了材料加工、光通讯、生物医疗、科学研究、国防、量子光学、生物显微、物联传感、激光制造等；可为客户提供完整的设备安装，培训，硬件开发，软件开发，系统集成等服务。您可以通过我们昊量光电的官方网站了解更多的产品信息，或直接来电咨询。

高纯锗晶体（12N,13N） 1、晶体习性与几何描述： 该晶体使用直拉法在晶体（100）方向延伸。圆柱形表面（表面光洁度小于2.5 μm RMS）。经红外成像法检测晶体结构稳定可靠。晶体几个结构由直径和长度决定。当一个晶体属于原生态晶体时，其当量直径为： D ----外形尺寸当量直径 W----锗晶体重量 L-----晶体长度 测量值是四舍五入最小可达到毫米级别。为了便于订单出货，我们会依据晶体的体积、直径和长度进行分类。同时我们可以满足客户的特殊需求，提供定制服务。 2、纯度：残留载荷 最大允许净载流子杂质浓度与探头二极管的几个构造有关，请参照如列公式。其纯度依据据霍尔效应测量和计算。 同轴探测器：同轴探测器适用于下列公式： Nmax = 每立方厘米最大杂质含量 VD = 耗尽层电压 = 5000 V εo = 介电常数 = 8,85 10-14 F/cm εr = 相对介电常数(Ge) = 16 q = 电子电荷1,6 10-19C (elementary charge) r1 = 探测器内孔半径 r2 = 探测器外孔半径 3、纯度 ： 假如晶体表面半径减少2mm,由于锂的漫射和刻蚀，内径8毫米的内孔半径， 适用公式变为： D = 晶体外表面 平面探测器：平面探测器（厚度小于2厘米）适用于以下公式： d=探测器外观尺寸厚度 径向分散载荷子（绝对值） 迁移：霍尔迁移 性能： P 型晶体 μH ≥ 10000 cm2/V.s N 型晶体 μH ≥ 10000 cm2/V.s 能级： P 型晶体 通过深能瞬态测量，Cutot ≤ 4.5*109 cm-3 N 型晶体 通过深能瞬态测量点缺陷 5*108 cm-3 晶体主要指标： P 型晶体 N 型晶体 错位密度 ≤ 10000 ≤ 5000 星型结构 ≤ 3 ≤ 3 镶嵌结构 ≤ 5 ≤ 5 4、高纯度高纯锗HPGe晶体说明： 高纯锗晶体产地法国物理性质颜色银灰色属性半导体材料密度5.32g/cm3熔点937.2℃沸点2830℃ 技术指标材料均匀度特级光洁度特优纯度99.99999%-99.99999999999%（7N-13N)制备方式锗单晶是以区熔锗锭为原料，用直拉法（CZ）法或者垂直梯度法（VGF法）等方法制备的锗单晶体。产品规格P、N型按客户要求定制产品用途超高纯度，红外器件、γ辐射探测器P型N型高纯锗在高纯金属锗中掺入三价元素如铟、镓、硼等，得到p型锗；在高纯金属锗中掺入五价元素如锑、砷、磷等，得到n型锗。交货期90天

产品型号：SKJ-50产品简介：SKJ-50晶体生长炉 是用提拉法生长高质量氧化物单晶材料YAG,LSAT,SrLaAlO4,LaAlO3等）的设备。每位材料研究者都知道可靠的数据来源于完整性好的单晶。 在新材料研究时，为了避免可变因数造成的影响，一台性能稳定的单晶生长设备时非常必要的，然而很多晶体生长设备时非常昂贵的。KMT可提供性能稳定，价格适中的SKJ 50 单晶生长炉，可生长多种氧化物高熔点晶体，晶体尺寸达 2-3" 。 我公司供应的产品符合国家有关环保法律法规的规定（含采购商ISO14000环境体系要求），不会造成环境污染； 该产品符合采购商OHSMS18000职业安全健康管理体系标准的要求，不会对接触产品的人员健康造成损害！主要特点：中频感应电源：25KW,频率 0.2 - 20 KHz 提拉速度:0.1-10mm/h 旋转速度:0-40 RPM 最高熔炼温度 : 2100oC 电源要求: 三相, AC 380V, 100A , 25KW 真空腔尺寸 : 50 cm dia. X 70 cm ，机械泵真空度可达 10-3 torr ， 扩散泵真空度（选配）可达 10-6 torr 欧陆温控仪可获得温度精度 +/-0.2 oC 电子秤 ( 下称重)在生长过程中可自动控制晶体的直径 水冷要求 水压：0.13-0.18MPa 水流量:60 L/minute 炉子尺寸: 炉体:88L× 125W× 285H cm 控制单元:68L× 54W× 170H cm 中频感应电源:110L× 50W× 150H cm 相关配件：提拉机构是永磁直流电机驱动 带水冷和机械泵的真空腔体. 控制拉速、转速、温度和电子秤的控制柜. 风冷的中频感应电源. 带水冷的感应线圈（铜管）可选配件：铱坩埚,控制晶体直径的电子秤具体信息请点击查看：

QCM-D石英晶体微天平 对AT切型剪切振动石英晶振进行快速阻抗频谱测量，频谱测量可获得诸多信息，可在响应幅值最大处获得谐振频率，峰高、半峰宽也可作为特征参数用来表征压电石英体表面粗糙度、膜粘弹性变化情况。本仪器通过快速频谱扫描技术，获得压电石英体的谐振频率（F） 和耗散因子 D （定义为石英晶体品质因子 Q的倒数，通过半高峰宽近似求得）。 JSK-T(I)型石英晶体微天平是本公司独自开发的多功能一体化QCM-D型质量传感检测仪器，工作频率可达200MHz，精确测量纳克级物质质量的传感技术。QCM仪器价格便宜，操作简单，可实现电化学、光化学、光电化学的现场联用动态监测分析。可广泛用于电活性聚合物表征、电池储能材料如Li+ 嵌入材料、金属腐蚀、自组装单层、光电材料、生物传感器、免疫检测、 蛋白质的相互作用 、膜表面的吸附/解析 、细胞黏附行为、靶向药物筛选、高分子材料的生物相容性等。仪器特点 QCM-D石英晶体微天平基于快速阻抗频率谱测定技术，能够测定谐振频率、振幅、相位等参数，可用于常见压电石英晶体，例如基频5MHz、6MHz、8MHz、10MHz的石英晶体； 可进行奇数倍频测量，频率上限最高可达200MHz,优于目前常见QCM设备。可实现频率、相移、耗散因子等参数测量。根据需要预设参数、个性化定制。仪器模块化结构、数据显示储存一体、无需外接电脑、抗干扰能力强。l 石英晶体基频 5MHz,6MHz，8MHz，10MHz，33MHz，100MHz可任选。可3、5、7、9、11倍频激励，扫频范围200MHz以内。l 提供两套检测池、满足不同实验需求。可配置注射泵或蠕动泵、PID自动控制温度。技术参数l 本仪器使用商用镀金8MHzAT切石英晶体，稳定状态下液相中频率测定相邻数值波动可控制在±0.1Hz。l 3.5英寸触屏彩色液晶显示，U盘储存数据，无需外接电脑。l 仪器常规石英晶片直径14 mm，能够非常灵敏地检测非常薄的吸附层的质量、耗散、分子的结构（构象）变化。并可计算其他参数，如：厚度、粘度、弹性模量，同时可以进行分子间反应的动力学分析。l 仪器检测的耗散灵敏度可达10-7, 质量灵敏度为4ng Hz-1 cm-2(基频10MHz) 0.4 pg Hz-1 mm-2(基频100MHz) 频率测定模式数据采集0.2s一组数据 ；（可定制相移角测定模式，数据采集速度可达10微秒，可用于快速瞬态测定）。

PPLN and MgO:PPLN容易结合到您光学装置中的全套PPLN系统氧化镁掺杂的周期极化铌酸锂（MgO:ppln）晶体产品负责人：姓名：许工(Gary)电话：（微信同号）邮箱：MgO:PPLN是用于460nm~5100nm范围的高效波长变换的非线性光学晶体，英国Covesion公司在PPLN晶体领域的专业加工，提供了高精度的4.5um至33um极化周期，并且适用于大批量制造。在铌酸锂中添加5%的氧化镁可显著提高晶体的光学损伤和光折变阈值，同时又保留高的非线性系数。与类似的未掺杂的晶体相比，可实现可见光波段和较低温度下运行的更稳定的性能。MgO:PPLN晶体可在室温下运行，在某些情况下，不需要控制温度。从室温到200摄氏度，与未掺杂的PPLN晶体相比，MgO:PPLN晶体可提供明显更宽的波长适用范围。英国Covesion公司在PPLN晶体领域的专业加工，提供了高精度的4.5um至33um以上极化周期，尤其对红-绿-蓝光的产生和高功率中红外波段的应用，可为OEM量产提供优质原材料。我们的优势：1. 世界一流的PPLN技术2. 高品质1）10年以上的生产经历2）世界顶级镀膜公司合作伙伴3. 稳定可重复使用的性能均匀计划贯穿整个晶体厚度4. 完善的温度控制方案可实现无时间延迟的简单、大范围的温度调谐5. 丰富的库存和高效的服务1）1周内可以收到库存产品2）8周可以收到定制产品，半定制产品时间周期小于8周 以下是我们部分库存产品，有其他频率转换需求随时联系上海昊量光电！二次谐波（SHG）MgO:PPLN晶体型号： 光学参量振荡/产生（OPO/OPG）MgO:PPLN晶体型号：差频（DFG）MgO:PPLN晶体型号：和频（SFG）MgO:PPLN晶体型号： 我们为更特别的应用提供掩膜版：更多详情请联系昊量光电/欢迎直接联系昊量光电关于昊量光电：上海昊量光电设备有限公司是国内知名光电产品专业代理商，代理品牌均处于相关领域的发展前沿； 产品包括各类激光器、光电调制器、光学测量设备、精密光学元件等，涉及应用领域涵盖了材料加工、光通讯、生物医疗、科学研究、国防及更细分的前沿市场如量子光学、生物显微、物联传感、精密加工、先jjin激光制造等；可为客户提供完整的设备安装，培训，硬件开发，软件开发，系统集成等优质服务。您可以通过我们昊量光电的官方网站了解更多的产品信息，或直接来电咨询。

产品名称：Ge晶体基片产品简介：化学符号为Ge ，主要用途有：制作半导体器件、红外光学器件及太阳能电池衬底等材料。技术参数：密度：5.765 g/cm3 ；熔点：937.4 ℃；热传导性：640；掺杂物质：不掺杂；掺Sb；掺In或Ga；类型：/；N；P； 电阻率W.cm：35；0.05；0.05-0.1；EPD： 4x103/cm2 4x103/cm2 4x103/cm2 常规尺寸：晶体方向: 111，100and110± 0.5° 或特殊的方向；标准抛光片尺寸:Ф1"x 0.3mm；Ф2"x0.5mm；（110 Ra5A，不化抛）注：也可根据客户需求提供特殊尺寸和方向的基片备注：1000级超净室100级超净袋单片盒或25片插盒封装相关产品： A-Z系列晶体列表清洗机 基片包装盒系列划片机旋转涂层机

本公司研发团队开展石英晶体微天平化学生物传感分析研究已有三十余年，具有丰富的QCM应用研究经验，可根据客户需求提供个性化服务，解决客户QCM使用中出现的技术问题。该仪器融合多家著名高校相关领域研究成果，仪器模块化结构、便携式设计，可与电化学仪器光学仪器联用。仪器价格优惠、使用简单、性能稳定、检测结果可靠。石英晶体微天平（Quartz Crystal Microbalance，QCM）是一种非常灵敏的质量检测仪器。在一定条件下，石英晶体上沉积的质量变化和振动频率移动之间关系呈线性关系(Sauerbrey公式)，其测量灵敏度可达纳克级，可以测到单原子层的质量变化。本仪器采用10 MHz石英晶体，每Hz的频率变化相当于0.85 ng/cm2。石英晶体微天平作为纳克质量传感器具有结构简单、成本低、灵敏度高的优点，被广泛应用于化学、物理、生物、医学和表面科学等领域中，可实现电化学、光化学、光电化学的现场动态监测分析。可广泛用以进行气体、液体成分分析以及微质量的测量、薄膜厚度、液体粘度（血凝）检测等。例如：电活性聚合物表征、Li+ 嵌入材料、金属腐蚀、自组装单层、生物传感器、免疫检测、 蛋白质的相互作用 、膜表面的吸附/解析 、DNA的杂交 、 细胞吸附 、靶向药物筛选、高分子材料的生物相容性等。 仪器特点l 仪器接触溶液的激励电极做工作电极与电化学仪器联用可构成EQCM测量技术。 l 仪器便携式设计、操作简单、方法选择、操作过程、步步提示。l 锂离子电池可作为电源、抗干扰能力强。l 仪器智能化模块化设计、结构可靠，可适应现场使用。l SD卡储存数据，方便后续数据处理。l 数据同时通过蓝牙无线传输到手机，可在手机上同步进行显示和储存。l 仪器可与其他分析仪器联用，如电化学仪器、光学仪器联用实现现场多信息传感分析。根据科研需要可进一步开发应用。 技术参数 l 使用晶体频率范围5MHz-20MHz，本仪器使用商用镀金10MHz AT切石英晶体。l 频率稳定性，空气中+1Hz/小时，液相中精确控制实验条件可达到相近的信号稳定性。l 3.5英寸触屏彩色液晶显示。l 提供2G SD卡储存数据，每隔2秒储存一组实验数据。l 便携式QCM 配备直流供电电压范围9V-18V，建议使用12V，2A 直流稳压源。l 可配备12V 5400mAh 锂离子电池（12.6V，1A 充电器）。l 便携式仪器尺寸：150*97*40mm；仪器重量：500 g。

MicroVacuum是源于匈牙利的品牌。工作原理： 　　仪器的核心组件为具有功能表面的石英芯片，通过石英晶体的压电效应来实时监控表面反应。 　　当物质在石英晶体表面发生吸脱附反应或者石英晶体表面的液体性质发生变化时，都会引起频率的变化和振荡损耗(耗散)的变化。芯片共振频率的变化，与芯片表面吸附的物质的质量相关。而振荡能量损耗的强度与吸附物质本身的粘弹性及结构相关。QCM-I系列均可以高精度实时的监控这些变化。 　　通过分析频率变化与耗散变化，可以获得吸附层相应的质量、吸附层厚度、粘弹性(剪切模量)等信息。应用领域： 　　分子相互作用动力学研究(结合/解离常数)细胞吸附、迁移与变化药物作用与药物筛选生物材料相容性研究聚电解质膜的层层组装血凝检测及分析酶降解研究生物传感器平台高分子溶胀、结构变化原油富集及储运研究材料腐蚀与防污水处理及环境污染物消除矿物浮选纳米颗粒分散性流体粘弹性新能源行业细菌生物膜研究

货期：15天 品牌：北斗仪器 型号：CA500产地：广东东莞 名称：整体倾斜型接触角测量仪 接触角（Contact angle）是指在气、液、固三相交点处c作的气-液界面的切线，此切线在液体一方的与固-液交界线之间的夹角θ，是润湿程度的量度。是现今表面性能检测的主要方法。采用光学成像的原理-图像轮廓分析方式测量样品表面的接触角、润湿性能、表界面张力、前进后退角、表面能等。主要由光源、注射单元、样品台、采集系统、分析软件等组成。设备采用全自动进液装置，性价比高、拓展性强、功能全面、可满足各种常规测量需求，目前已经广泛使用在众多高校院所及企业。测量方法 固体表面处理评价、等离子清洗效果分析、表面清洁度分析、固液体之间或固体黏驸特性研究、液体配方设计、表面印刷性能的表征、分析表面改性、玻璃（包括塑料或金属等固体）表面润湿性研究等。在手机制造、玻璃制造、表面处理、材料研究、化学化工、半导体制造、涂料油墨、电子电路、纺织纤维、医疗生物等领域，接触角测量已经成为了一项评估表面性能的重要仪器。 ASTM D 1173/评价表面活性剂发泡性能的标准测试方法（罗氏泡沫分析法）ASTM 5725 / 用自动接触角测试仪测试片状材料表面润湿性和吸收性的标准方法ASTM 724 / 纸表面润湿性的标准方法（接触角法）ASTM C 813 / 用接触角测量法测试玻璃疏水污物的标准方法ASTM D 971 / 用环法测试油对水的界面张力的标准方法ASTM D 1331 / 表面活性剂溶液表面张力和界面张力的标准测试方法ASTM D 1417 / 测试合成橡胶胶乳的标准方法ASTM D 1590 / 水表面张力的标准测试方法DIN 53914 / 表面活性剂测试 – 测定表面张力DIN 55660 / 色漆和清漆 - 润湿性评价DIN EN 14210 / 表面活性剂 – 用镫法或环法测定表面活性剂溶液的表面张力DIN EN 14370 / 表面活性剂 - 表面张力的测定DIN 14272 / 泡沫化合物德标 - 适用于消防用低膨胀水性成膜泡沫化合物ISO 1409 / 塑料/橡胶-聚合物分散体和橡胶胶乳（天然和合成）-表面张力的环法测定ISO 4311/阴离子和非离子表面活性剂-临界胶束浓度的测定ISO 6295 / 油水界面张力的测定ISO 6889 / 表面活性剂 – 用拉膜法测定界面张力ISO 304 / 表面活性剂 - 用拉膜法测定表面张力Amtsblatt EU L251/37 / 表面张力OECD 115 / 化学品测试准则- 水溶液的表面张力型号CA500整体倾斜型光学接触角测量仪 三维平台左右X移动手动：行程30mm,精度0.1mm前后Y移动手动：行程50mm,精度0.1mm上下Z移动手动：行程40mm,精度0.1mm水平调整整机水平调整，摄像头水平调整（配送专业级XY水平仪）样品台尺寸120*150mm（可定制）可放置最大样品200（W）*∞(L)*50(H)mm样品台材质铝合金旋转系统角度0-90°旋转方向顺时针精度0.1度分辨率 0.001°进液系统微量进样器XY移动行程：100mm，精度0.1mm（针头对中及液滴转移）进液控制移动行程：70mm,精度：0.001mm滴液控制模式自动，精度：0.01ul加液方式自动（配送5ml玻璃烧杯自动一键加液，加满自动停止）微量进样器容量：500ul(实时显示剩余容量)针头亲水针头0.5mm不锈钢针头（可替换）20个、超疏水针头0.25mm（可替换）20个成像系统镜头Subpixel级别0.7-4.5远心轮廓深度定制镜头相机日本SONY原装进口高速工业级芯片(Onsemi行曝光)传感器类型1/1.8 英寸逐行扫描CMOS分辨率1280× 1024镜头控制仰视角度：±10度，精度：1度调焦移动行程：0-10mm，精度1mm。帧率80帧/s（可选配全局曝光高速400帧/s的相机）光源系统组合方式采用石英扩散膜与均光板使得亮度更均匀，液滴轮廓更清晰光源采用进口CCS工业级蓝色冷光源（有效避免因光源散发热量蒸发液滴），使用寿命可达5万小时以上亮度调节PWM数字调节光源波长460-465nm功率10W接触角测量接触角测量方法悬滴法、座滴法、前进角、后退角、滚动角、薄膜法等测量软件CA V1.2.1静/动态接触角测量软件+表面能测量软件软件操作系统要求Windows 7/windows 10(64位)接触角测量方式自动与手动接触角计算方法（static contact angle）自动拟合法（ms级别一键全自动拟合，不存在人工误差）、三点拟合、五点拟合、自动测量（包括圆拟合法/斜圆拟合法（Circle method/ Oblique Circle）、椭圆拟合法/斜椭圆拟合法(Ellipse method /Oblique Ellipse)）、凹凸面测量等动态接触角测量（Dynamic contact angle）前进角（Advancing angle），后退角（receding angle），滞后角（hysteresis angle），滚动角（选配）(可批量拟合多张图片或视频连续拟合计算Video analysis)基线拟合自动与手动角度范围0°＜θ＜180°精度0.1°分辨率0.001°表 面能表面能测量方法Fowks法，OWRK法，Zisman法，EOS法，Acid-Base Theory法,Wu harmonic mean法,Extended Fowkes法（软件中预装37种液体数据库，可自行建立液体性能参数）数据可直接调入用于表面能估算，液体库数据可自行添加、删除和修改。可分别得到固体表面能、色散力、极性力、氢键力、范德华分量、路易斯酸分量、路易斯碱分量等表面能单位MN/m其他机架型材欧标160输入电源220V 50-60Hz仪器尺寸约660mm（W）*180mm(L)* 600mm(H)仪器重量约40KG表界面张力测量方法 自动拟合+手动拟合精度0.01MN/m测量范围0.1MN/m-2000MN/m润湿性分析粘附功一键自动分析铺展系数一键自动分析粘附张力一键自动分析精度0.001 MN/m单位MN/m配件选配件纸片夹具、温控平台（高温、低温、高低温、湿度）、旋转台（滚动角）、蠕动泵等。设备选配件众所皆知，软件是一台仪器的灵魂所在，组成系统的硬件虽为测量提供了基础，但只有在软件的支持下，才能完美地实现硬件的功能，充分发挥其潜力，使系统的总体功能和性能如虎添翼。本公司研发定制的CA V1.2.1静/动态接触角测量软件+表面能测量软件专用测控软件自2010年开始就面向客户提供使用，经过多年来各行业客户的使用反馈、使用要求、国家标准和国外标准的融合，已经达到一个很成熟稳定的状态。拥有自主知识产权的软件控制系统（行业内极少），在对以后软件升级，新标准更换的时候起到一个很大的优势。本款产品所操控的软件已经获得国家版权局登记证书，仿冒必究。软件主界面图版权声明：广东北斗精密仪器有限公司拥有光学静动态接触角分析测量仪CA V1.2.1软件的所有知识产权，本计算机程序受版本法/著作权法和国际公约保护，未经书面授权擅自传播本程序部分或者全部可能遭受严厉的民事刑事制裁，并将在法律允许的范围内受到最大可能的起诉测试报告1.精细机械：系统的框架选用高质量的进口高强度氧化保护铝型材并烤漆处理，所有的其它主要组件也都是由铝合金，不锈钢和铜合金通过精密制作而成。保证仪器极强的稳定性。2.精密定位：系统所有的线性移动单元，包括三维样品台（xy-轴），(Z-轴)注射器/针头的移动调节，均是由直线铜齿条和精密燕尾槽驱动，确保传动平稳、轻松和精细。3.配置齐全的进样器与针头选择：提供数十种不同规格的进样器供使用者选择，如不同规格（25ul/50ul/100ul/250ul/500ul/1000ul….）,不同材质（气密玻璃进样器/塑料进样器），不同品牌（Hamilton/boli….）以满足不同客户需求。提供各种规格（10-34#）以及不同材质（不锈钢/聚四氟乙烯/pp挠性针头）以及特殊针头（弯曲针头），可用于常规接触角测量，也可用于超疏水、超亲水、高粘度等特殊液体的进样、液滴转移等。 4.成像系统：采用了行曝光（Rolling Shutter）高分辨率CMOS图像传感器配合pomeas0.7-4.5远心轮廓镜头。保证最佳的成像效果。同时亮度连续数字可调的高强度背光冷光源为成像提供了均匀的背景照明。优质镜头和高分辨率相机能够以理想的尺寸和亮度在图像中显示出液滴，即使是非常小的液滴。5.领先的软件平台 ：软件是整个测量系统的灵魂和大脑 。 CA V1.2.1软件为用户提供了范 围广泛的功能和特性 ，而且其中的许多项目在这一领域均是出类拔萃 。作为一光学方 法 ，测量的精度取决于成像的质量和后着的处理 、分析和计算方法 。其中采用的亚像素 （ sub-pixel） 液滴坐标检测 ，自动液 /固 /流 -三相接触线识别，液滴全轮廓分析，和基 于连续信息反馈的液滴监视功能等构成了软件的核心组件，而且这一切又都能实时完成。具备双边接触角自动测量快速拟合功能，分析液体与固体的表面润湿性能、更准确的分析表面的实际润湿情况。6.软件自动生成报告，其中涵盖word、excel、PDF图文等多种数据报告。7.提供德国进口的接触角测量校准样，确保仪器的精准性，角度校准标准片5°、8°、30°（选配）；60°、90°、120°（选配）。8．国内首创基线自动倾斜功能，可修正由于样品倾斜或机台倾斜时的差异。9.分级管理系统，权限管理。分实验员与管理员。避免人为数据的改动影响测试结果。10.具备双边接触角测量快速拟合功能，更全面量分析液体与固体的表面润湿性能、更准确的分析表面的实际润湿情况；11.动态拍摄、视频快速测试数据，可以连续性记录测试接触角的变化，再由软件自动批量拟合；12.具备历史数据库功能，记录每一次的测试结果，可追溯历史测试结果。1.usb2.0数字CCD摄像头 1个 2.连续变倍光学系统 1个3.自动高精密加样系统 1套+整体倾斜自动旋转系统1套4.手动CCD倾斜系统 1套5.表界面分析测量系统应用软件 1套6.说明书纸质一份及说明书电子版 1份7.保修卡及合格证1份8.亲水进样针20个，疏水进样针20个9.500ul进样器1个10.电源线及数据线1条11.XY专用水平仪1个配置清单物料名称数量规格描述主机框架1高强度合金结构搭配模块化设计相机1USB2.0接口， SONY 1/1.8" MT9M001 Rolling shutter CMOS，分辨率H1280×V1024，帧率80fps镜头1对焦距离90mm，0.7×时视场13.71～18.28mm，4.5×时视场2.13～2.84mm光源1日本CCS工业级深度定制单波长LED轮廓冷光源，120个密集光源点，配合美国进口柔光板与均光板，亮度连续可调，24V安全电压支撑脚1铝合金+减震胶垫结构，配合减震系统，可调节机台水平与防震效果俯仰调整滑台1螺杆控制，调整范围±1° 1齿轮齿条控制，移动行程40mm，分辨率0.1mm样品台平移滑台1齿轮齿条控制，移动行程X30×Y50mm，分辨率0.1mm固定件和连接件1AL6061铝合金

FZ-14M(G) 区熔晶体生长系统可在线圈下放置颗粒硅料，使用籽晶将熔融的颗粒硅拉出用于材料分析的小单晶棒， 在拉制过程中颗粒硅容器和籽晶旋转方向相反。此外，上主轴可以在X或Y方向移动。产品数据概览：材料：硅晶体晶体拉动长度 350 mm晶体直径： 最长可达 25 mm最后真空度： 2.5 x 10-5 mbar 最大过压： 2 bar(g)发电机输出电压： 15 kW频率： 2.4 MHz (FZ-14M)上轴进料速度： 最高 30 mm/min上部旋转： 最高 30 rpm下轴 拉动速度： 最高 30 mm/min下部旋转： 最高 30 rpm尺寸规格高度： 3,000 mm宽度： 1,020 mm深度 1,640 mm面积（总）: 1,800 mm x 4,000 mm重量（总）： 约2,500 kg区熔（FZ）技术作为提纯方法为生产高电阻率的超纯硅单晶提供了技术可行性，该技术可应用于高性能电子和半导体技术领域。其另一优点是可以从气相中连续掺入，这使得在整个晶体的电阻率沿长度方向保持一致。因此，几乎可以在整个晶体上均匀地实现所需的电性能。由于电荷载流子的高寿命和极低的氧含量（无坩埚工艺），FZ晶体同样也适用于光伏行业。区熔（FZ）技术作为提纯方法与CZ直拉工艺等竞争方法相比，FZ工艺的优势在于只有紧邻感应线圈的一小部分晶体需要被熔化，无需使用石英坩埚（每炉次耗用一个），可实现高拉速，因此降低了耗材成本的同时也降低了能源成本。此外，无论是从硅还是其他合适的材料中提取的晶体，可以通过多次处理，显著地提高纯度。

产品名称：硅(Si)晶体基片 产品简介：化学符号为Si,主要用途有：制作半导体器件、红外光学器件及太阳能电池衬底等材料。 技术参数：掺杂物质：掺B掺P类型：P N电阻率Ω.cm：10-3 ~ 4010-3 ~ 40EPD (cm-2 )：≤100≤100氧含量( /cm3 )：≤1.8 x1018≤1.8 x1018碳含量( /cm3 )：≤5x1016≤5x1016 常规规格:晶体方向：111、100、110 ± 0.5° 或 特殊的方向；常规尺寸:dia1"x 0.30 mm dia2"x0.5mm dia3"x0.5mm dia4"x0.6mm 表面粗糙度：Ra10A可提供热氧化SiO2层的Si片；Si+SiO2+Ti+Pt的基片!欢迎您的咨询！ 标准包装：1000级超净室100级超净袋单片盒或25片插盒封装 相关产品：A-Z系列晶体列表清洗机 基片包装盒系列划片机旋转涂层机

周期性极化KTP (PPKTP） 周期性极化磷酸氧钛钾晶体(PPKTP)是一种高效率的非线性材料。 PPKTP可以根据不同的非线性应用定制。相比在传统的KTP应用，PPKTP没有相位匹配的局限性。PPKTP的非线性系数大约是传统KTP的三倍。PPKTP也是产生纠缠光子源的一种理想材料。 我们可以针对生产企业提供大量的PPKTP晶体，也可以提供少量晶体满足工程和科研客户的需求。 晶体参数 通光孔径[mmXmm] 1x2 长度 [mm] up to 30 光谱范围 [nm] 400-4000 垂直度 [arc min] 15 平面度 &lambda /10 平行度 [arc sec] 30 划痕/Dig 10/5 镀膜 AR/HR/PR *晶体可以接受定制，具体参数请与我们沟通。 OPO Yuchen offers the following types of crystals for OPO applications: - KTP - RTP - LBO - BBO - PPKTP - PPSLT - PPMgLN Part Numbering System for bulk OPO crystals C - &theta - &phi - S - D - L - T - P C - Crystal Type: K (KTP),HGTR KTP (H), R(RTP), L(LBO), B (BBO) &theta &ndash Orientation in Z-X direction [degrees] &phi - Orientation in X-Y direction [degrees] S - OPO type: R (regular), M (monolithic), D-(double pass), N (uncoated) D - Cross Section [mm] L - Crystal Length [mm] T &ndash Transmission of signal wavelength on output face [%] P &ndash Pump Wavelength [nm] Examples: KTP OPO, Cross-section 5x5mm, Length 30mm, Regular, &theta =90O,&phi = 0O, Transmission of signal wavelength on output T99.5%, Pump 1064 nm. K-90-0-R-5-30-99.5-1064 KTP ,Monolithic, &theta =90O, &phi = 0O, Cross-section 7.5 x 7.5mm, length 30mm, Transmission of signal wavelength on output T=50%, Pump -1064 nm, K-90-0-M-7.5-30-50-1064 KTP, Uncoated, &theta =90O,&phi = 0O, Cross-section 3x3 mm, Length 10mm, Pump 1064 nm, K-90-0-N-3-10-T-1064

仪器简介：PPLN是一种高效的非线形晶体，获得最大的波长转换效率必须对温度进行控制，并且晶体内部均匀的温度分布也很重要。Covesion提供了一系列的温度控制夹具或温控炉，以及温度控制器，尽量提高波长转换性能。改变晶体问题，也用于OPO中窄范围的波长调谐或其他波长转换应用。PPLN扩展了现有的激光系统，光谱覆盖可见到中红外。正确的PPLN和泵浦激光组合，可获得波长450nm到5um范围的光。Covesion还专门加工更复杂的晶体结构，在一个光学芯片上集合多种功能。 PPLN所提供的实际有效的波长转化，使得它成为各行业应用的焦点，如显示器、航空、电信、环境检测等。PPLN能达到转换效率很大程度上取决于激光束的属性。例如，优化的短脉冲激光单次通过晶体可获得80%的转换效率，但使用连续激光器，转换效率就可能下降到只有几个百分点。 PPLN是将生产的铌酸锂原材料晶圆进行所谓的&ldquo 周期性极化&rdquo 获得。铌酸锂是铁电晶体，在每个晶胞单元，由于铌离子和锂离子的晶格位置略有偏移，便产生了一个小的电偶极矩。通过施加一个强的电场，可以逆转这种结构，重新分布晶体中的偶极矩。反转铌酸锂结构的电场约为22KV/mm，反转时间仅需几个毫秒，之后该反转结构将永久性保持。在PPLN中，我们按光栅结构每隔几微米进行周期性反转，以实现输入光和输出光的准相位匹配。 在单个PPLN晶体上，可以完成多个光栅周期结构的加工。对OPO和其他可调谐应用，利用多周期结构可从单一泵浦光得到宽波长范围的光。光聚焦到不同周期光栅可实现波长的粗调，晶体的温度变化则可实现精细调节。技术参数：part# pump (nm) ouput (nm) period (&mu m) temp range ° C length (mm) aperture (mm) SHG8-1 976 - 984 488 - 492 5.00, 5.04, 5.08 160 - 200 1 0.5 x 0.5 SHG8-10 10 SHG3-1 1060 - 1068 530 - 534 6.50, 6.54, 6.58 160 - 200 1 0.5 x 0.5 SHG3-10 10 SHG3-20 20 SHG4-1 1310 - 1322 655 - 661 12.10, 12.20, 12.30 160 - 200 1 0.5 x 0.5 SHG4-10 10 SHG5-1 1540 - 1576 770 - 788 18.20, 18.40, 18.60, 18.80, 19.00 160 - 200 1 0.5 x 0.5 SHG5-10 10 SHG6-1 1570 - 1652 785 - 826 19.00, 19.25, 19.50, 19.75, 20.00, 20.25, 20.50, 20.75, 21.00 160 - 200 1 0.5 x 0.5 SHG6-10 10 SHG7-1 2024 - 2250 1012 - 1125 29.50, 30.00, 30.50, 31.00, 31.50, 32.00, 32.50 160 - 200 1 0.5 x 0.5 SHG7-10 10主要特点：周期性极化铌酸锂（PPLN）提供了460nm-1500nm波长范围内的高效率波长转换。我们专业的极化工艺可制作4.5um到33um的极化周期，是批量制造的理想选择。下面列出了标准的产品系列，对目前最常用的非线形过程进行分类：倍频（SHG）， 和频（SFG），差频（DFG）和光学参量振荡/产生（OPO/OPG）。我们的PPLN晶体的标准范围与广泛使用的各种波长的激光相结合。每个晶体包含多周期光栅，灵活地实现温度及波长组合。我们的晶体镀增透膜，并抛光到：&lambda /4 平坦度，± 5min平行度，高于20-10光学表面质量。所有标准产品都经过严格的质量检验，提供带夹具的现货。

飞秒系列晶体fs series产品特色：主要用于飞秒激光应用；SHG, SFG, DFG and OPO AR coated长度 (X): 0.3, 0.5 and 1.0 mm厚度 (Z): 0.5 and 1.0 晶体可定制！！！更多细节：

仪器简介：QCM200是一种非常灵敏的质量检测仪器，其测量精度可达纳克级，比灵敏度在微克级的电子微天平高100倍，理论上可以测到的质量变化相当于单分子层或原子层的几分之一。主要特点：石英晶体微量天平QCM200系统主要由电子振荡电路、频率计数器和压电石英晶体3部分组成。 其工作原理是：利用了石英晶体谐振器的压电特性，将石英晶振电极表面质量变化转化为石英晶体振荡电路输出电信号的频率变化，进而通过计算机等其他辅助设备获得高精度的数据。QMC 所具有的高灵敏度和实时测量质量改变的特点使其在化学和生物医学研究领域的应用备受关注。QCM200是一种非常灵敏的质量检测仪器，其测量精度可达纳克级，比灵敏度在微克级的电子微天平高100倍，理论上可以测到的质量变化相当于单分子层或原子层的几分之一。系统主要由电子振荡电路、频率计数器和压电石英晶体3部分组成。 测量精度为±1.5ppm；最小测量为1ng；频率范围大于5MHz；RS232接口。利用了石英晶体谐振器的压电特性，将石英晶振电极表面质量变化转化为石英晶体振荡电路输出电信号的频率变化，进而通过计算机等其他辅助设备获得高精度的数据。QMC 所具有的高灵敏度和实时测量质量改变的特点使其在化学和生物医学研究领域的应用备受关注。应用选定的SRS QCM100/200文学引文免疫传感器吸附传感器水分测定仪颗粒显示器污染监测电价测量氢吸附在金属薄膜气泡的形成氧化还原和导电聚合物研究双层表征腐蚀研究表面氧化DNA和RNA杂交的研究抗原抗体反应蛋白质吸附检测病毒衣壳，细菌，哺乳动物细胞生物污染和防污生物膜和生物材料蛋白质相互作用自组装单分子膜（SAMs）的分子印迹聚合物（MIP）朗缪尔/ LB膜激光烧蚀，解吸和故障研究基于MEMS的纳米材料智能生物材料

FZ-14 区熔晶体生长系统是专为工业生产直径达100毫米（4英寸）的单晶硅晶体而设计。根据源棒的尺寸，可以拉出长度达1. 1米的晶体。在这个过程中，晶体的直径和液体区的高度可以通过摄像系统来监测。并且该系统的上部主轴和线圈都是自动定位的。该系统采用无接触熔化工艺，通过使用涡轮分子泵和超纯氩气作为工艺气体，产生高极限真空环境，有效地防止了工艺过程中的污染，同时还能将氮气以受控的方式引入工艺炉体。产品数据概览:材料：硅晶体晶体 1,100 mm晶体拉动长度： 长达100 mm (4″)晶体直径： 2.5 x 10-5 mbar极限真空度： 0.5 bar(g) 发电机 输出电压： 30 kW频率： 2.4 MHz上轴进料速度： 最高30 mm/min上部旋转： 最高35 rpm下轴拉动速度： 最高 30 mm/min下部旋转： 最高 30 rpm尺寸规格 高度 6,280 mm宽度： 2,750 mm深度： 3,000 mm重量（总）： 约 4,900 kg区熔（FZ）技术作为提纯方法为生产高电阻率的超纯硅单晶提供了技术可行性，该技术可应用于高性能电子和半导体技术领域。其另一优点是可以从气相中连续掺入，这使得在整个晶体的电阻率沿长度方向保持一致。因此，几乎可以在整个晶体上均匀地实现所需的电性能。由于电荷载流子的高寿命和极低的氧含量（无坩埚工艺），FZ晶体同样也适用于光伏行业。区熔（FZ）技术作为提纯方法与CZ直拉工艺等竞争方法相比，FZ工艺的优势在于只有紧邻感应线圈的一小部分晶体需要被熔化，无需使用石英坩埚（每炉次耗用一个），可实现高拉速，因此降低了耗材成本的同时也降低了能源成本。此外，无论是从硅还是其他合适的材料中提取的晶体，可以通过多次处理，显著地提高纯度。

EKSMA OPTICS提供各种高质量的非线性晶体，如LBO，beta BBO，KTP，KDP，DKDP，LiIO3，各种红外非线性晶体，AgGaS2, AgGaSe2, GaSe, ZnGeP2等，我们提供标准尺寸和定向的晶体，并支持快速库存发货。同时，我们亦针对客户的特定需求提供各种定制化产品。非线性晶体具有极其广泛的应用，如激光谐波振荡，频率反转（SFG，DFG），光学参量振荡和放大（OPG，OPA），电光调制Q-switching等。-----------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------红外非线性晶体AgGaS2, AgGaSe2, GaSe, ZnGeP2 由于极其独特的材料特性，红外光学非线性晶体ZnGeP2, AgGaSe2, AgGaS2, GaSe在中红外和远红外的应用方面赢得了人们极大的兴趣。这些红外非线性晶体拥有非常大的有效光学非线性，接收光谱和接收角度宽，透光范围广，对温度稳定性和振动控制没有苛刻要求，非常易于机械加工(GaSe除外)。 红外晶体ZnGeP2(ZGP)透光范围从074um至12um，其中有用的透过范围为1.9um至8.6um，以及9.6um到10.2um。ZGP晶体拥有最大的非线性光学系数和较高的激光损伤阈值。ZGP晶体目前已经成功的应用于各种领域： 通过谐波与混频效应实现CO2和CO激光辐射到近红外的上转换脉冲式CO，CO2，DF化学激光器的高效倍频通过OPO实现钬，铥，铒激光波长像中红外的下转换 EKSMA光学提供抗高损伤BBAR镀膜，并且具备超低的吸收损耗，2.05-2.1um泵浦波长下，吸收系数为α 0.05 cm-1；2.5-8.2um范围吸收系数为：α0.03 cm-1红外晶体AgGaSe透光波段在0.73um到18um之间。而具有高应用价值的透过范围为0.9-16um，这个范围具有非常宽的相位匹配能力，对当前大多数可用的激光泵浦光源均可提供潜在的OPO应用。2.05um的Ho:YLF激光泵浦已获得2.5-12um的可调谐输出。而通过1.4-1.55um的泵浦，也获得了非关键相位匹配下的1.9-5.5um输出。AgGaSe2(AgGaSe)也同时早已被证明为脉冲式CO2激光的高效倍频晶体。 红外晶体AgGaS2(AGS)透光波段为0.53-12um。虽然其非线性光学系数在上述提到的红外晶体中最小，但其透明波长短波边缘至550nm，因此可作为Nd:YAG激光器泵浦的OPO应用；同时也被大量应用于利用二极管，钛宝石，Nd:YAG，以及3-12um红外染料激光器进行的差频混频实验；还可以直接应用于红外对抗系统，以及CO2激光器的二倍频。而AgGaS（AGS）薄片晶体通过近红外波段脉冲差频效应在产生中红外超短脉冲方面也应用的非常普遍。 红外晶体 GaSe透光波长在0.65-18um。GaS3晶体已经成功的用于CO2激光的高效倍频；脉冲式CO、CO2和DF激光（λ = 2.36 μm）的二倍频；CO和CO2激光到可见光的上转换；Nd激光与燃料激光器或（F-）-central激光脉冲差频、混频产生红外脉冲；3.5-18um范围内的OPG。同时GaSe晶体薄片还广泛用于飞秒-太赫兹振荡。当然，由于材料结构（沿(001)平面解理）的特殊性，无法获得特定的相位匹配角度，也限制了其应用的领域

所谓Gray Track Effect(灰迹效应）指的是非线性晶体在承受高重复频率，高功率的激光照射后，在晶体内部出现灰色的损伤痕迹。由于以色列Raicol公司采用自有的助熔剂，其HGTR KTP晶体抗灰迹损伤能力远超常规KTP晶体。Raicol低灰迹效应实测图如下： Raicol低灰迹效应实测图 随着工业加工用激光器对于高平均功率和高峰值功率密度的要求越来越高，Raicol的HGTR KTP高抗灰迹效应KTP晶体以其如下优点被广泛采用：平均输出功率密度在532 nm高达5kW/cm² 非线性系数比LBO高4倍在可见光到近红外波长段均保持低吸收率宽温度带宽非吸湿潮解材料小去离角和大接收角

产品名称：硅锗(Si-Ge)晶体基片产品简介：Al2O3（Sapphire,又称白宝石，蓝宝石）有着很好的热特性，极好的电气特性和介电特性，并且防化学腐蚀，它耐高温，导热好，硬度高，透红外，化学稳定性好。广泛用于耐高温红外窗口材料和III-V族氮化物及多种外延薄膜基片材料，为满足日益增长的蓝、紫、白光发光二极管（LED）和蓝光激光器（LD）的需要，科晶公司专业生产高质量的蓝宝石晶体和外延抛光基片，将为您提供大量高质量低价格的单晶和基片。技术参数：单晶: Si-Ge （ wt 2%）导电类型: P type电阻: 7-8 ohm-cm抛光情况：单面抛光 产品规格：常规晶向：100；常规尺寸：dia4″x0.5mm；注：可按照客户要求加工尺寸及方向。标准包装：1000级超净室100级超净袋相关产品：A-Z系列晶体列表等离子清洗机基片包装盒系列切割机旋转涂层机

FZ-30和FZ-35区熔晶体生长系统专为工业生产直径达200毫米（8英寸）的单晶硅晶体而设计。根据源棒的尺寸，可以拉出长度为2000毫米的晶体。在这个过程中，晶体的直径和液态区的高度可以用摄像系统来监测。该系统采用无接触熔化工艺，通过使用涡轮分子泵和超纯氩气作为工艺气体，产生高极限真空环境，有效地防止了工艺过程中的污染。在FZ-30和FZ-35区熔晶体生长系统中，可以分别以高达3 bar和5 bar的超压产生氩气气体，用以培育大晶体。同时，上主轴和线圈都可实现自动定位。在FZ-30中，上主轴可以在X或Y方向上移动。两种系统类型都能够以受控方式将氮气引入工艺炉体。PVA TePla为您提供更多个性化选择，例如用于掺杂晶体的气体掺杂系统、封闭式去离子冷却水系统、源棒的修整器和调整籽晶方向的系统。产品数据概览:材料：硅晶体晶体拉动长度： 2,700 mm晶体直径： 长达 200 mm (8")极限真空度： 2.5 x 10-5 mbar最大过压： FZ-30: 3.0 bar(g)FZ-35: 5.0 bar(g)发电机输出电压： 120 kW频率： 2.4 MHz上轴进料速度： 高达 30 mm/min上部旋转： 高达 30 rpm下轴拉动速度： 最高 30 mm/min下部旋转： 最高 30 rpm尺寸规格高度： 11,550 mm宽度： 3,800 mm深度： 4,050 mm面积（总计）: 5,000 x 6,000 mm重量（总计）： 约14,000 kg区熔（FZ）技术作为提纯方法为生产高电阻率的超纯硅单晶提供了技术可行性，该技术可应用于高性能电子和半导体技术领域。其另一优点是可以从气相中连续掺入，这使得在整个晶体的电阻率沿长度方向保持一致。因此，几乎可以在整个晶体上均匀地实现所需的电性能。由于电荷载流子的高寿命和极低的氧含量（无坩埚工艺），FZ晶体同样也适用于光伏行业。区熔（FZ）技术作为提纯方法与CZ直拉工艺等竞争方法相比，FZ工艺的优势在于只有紧邻感应线圈的一小部分晶体需要被熔化，无需使用石英坩埚（每炉次耗用一个），可实现高拉速，因此降低了耗材成本的同时也降低了能源成本。此外，无论是从硅还是其他合适的材料中提取的晶体，可以通过多次处理，显著地提高纯度。

产品信息⽯ 英晶体微天平通过石英晶体谐振器的频率变化来测量其单位⾯ 积的质量变化。基于压电效应，经由分⼦ 吸附和分⼦ 相互作用而引起的表面质量变化和能量耗散，石英晶体微天平可以对水性样品中的⽬ 标物进行实时、灵敏以及无标记检测。与表⾯ 等离⼦ 共振（SPR）和荧光检测仪相似，石英晶体微天平可以作为科学研究和产品研发的传感分析检测平台。MIPS公司的便携式⽯ 英晶体微天平拥有⾼ 灵敏度和良好的抗干扰能力， 更集微型泵、多合⼀ 分析室和应用软件于⼀ 身，方便用户使用。 石晶体微天平的应⽤ 范围覆盖化学、生物、医药、环境、农业和材料分析等多个领域。技术指标主要包含了⼀ 个电⼦ 系统、⼀ 个或多个可配镀⾦ ⽯ 英芯⽚ 的微流量模组，集成测试室，以及⼀ 个或多个微型泵。 可以根据要求提供单通道、双通道和多通道石英晶体微天平。应用领域

SYNOPTICS公司可以完全自主实现集晶体生长、加工、镀膜、检测、包装于一体的一站式服务。作为ISO 9001:2008证书获得企业，SYNOPTICS着重于该公司在晶体生长、制造和检测方面的支持，以确保达到超高的质量标准。 主要特点：* 波长覆盖广： 500nm-3000nm * 晶体尺寸大 * 镀膜阈值高* 均匀性好 应用领域：* 医疗* 工业* 军事* 科研激光市场Er:YAG晶体 Er:YAG在600-800nm光谱范围均可被泵浦，广泛应用于医疗和牙科。Er:YAG优点：* 宽的泵浦带600-899nm；* 高的光学质量；* 可以输出长波，高的水吸收区；* 理想的硬组织切除工具 标准规格 材料参数基质Yttrium Aluminum Garnet(Y3Al5O12 )掺杂Erbium (Er -3)掺杂浓度50 Atomic % (~7x10 cm-3 )朝向[111] crystallographic directions(±5°)波前畸变1/2 wave per inch of length, as measured in a double pass interferometer operating @ 1micron尺寸/机械规格直径公差+.000”/-.002”长度公差+.040”/-.000”滚光55 ±5 micro-inch倒角0.005”±0.003”@ 45°±5° 端面标准规格面型Within λ/10 wave @ 633 nm wavelength平行度Within 30 seconds of arc垂直度Within 5 minutes of arc光洁度Scratch-dig 10-5 per MIL-O-13830A 端面减反膜规格反射率Less than 0.25% @ 2.94 microns附着力和耐用性Meets Mil-C-48497A standards脉冲损伤阈值Greater than 10 J/cm2Er:YAG特性激光能级4I11/2 -4 I13/2受激发射截面3×10-20cm2泵浦波长范围600-800nm

产品概述：MWL120实时反射劳厄相机系统用来测定单晶的取向（反射和透射）、单晶的完整性、测量晶体的对称性、观察晶体的一般缺陷、拍摄板材棒材的结构相、精确测定点阵常数、测定残余应力等。 原理：由X射线管产生的X射线从相机的入射光阑射入，照射在被分析样品上，在满足布拉格公式：nλ=2dSinθ条件下，产生X射线衍射图像，这些图像记录在感光片上，然后对这些图像进行计算分析，可以了解物质内部结构。 本产品所具有的特点1 有效检测范围大：30cm×30cm2 灵敏度高：单光3 角灵敏度高：0.054 探测速度快：几秒钟即可根据角的偏差自动收集分析并在电脑上形成劳厄图像5 维护成本低：半年更换一次气体，一年更换一次冷却剂即可（价格较低廉）6 样品可旋转：探测器转过程中同时转动样品，可以得到对称性高的图像

电化学石英晶体微天平EQCM是一款通过测量石英晶体的频率变化实现质量检测的高灵敏度设备。电化学石英晶体微天平EQCM作为高灵敏度的测试仪器， 它可以测量在传感器表面或附近吸附层ng级的“湿质量”。该设备的测量原理是基于石英晶体的阻抗分析，测量谐振频率和谐振电导曲线的峰宽。谐振电导曲线的峰宽或半峰宽与耗散因子（Q）直接相关。可以对多种不同类型表面的分子相互作用和分子吸附进行研究，应用范围包括蛋白质、脂质、聚电解质、高分子和细胞/细菌等与表面或与已吸附分子层之间的相互作用；可提供多个频率和耗散因子数据， 用于充分了解在传感器表面吸附的分子的状态。应用领域? 传感器开发? 蛋白质凝聚研究? 生物膜表面污垢表征? 细胞学表征? 双脂质层表征? 电池材料研发? 电聚合? 各类工业条件（真空、滴铸、油墨喷印）下的覆膜监控? 手套箱环境? ALD逐层沉积仪器参数频率测试范围1-61 MHz (基频为5 MHz时，可测试13级倍频)基频为3MHz时，可测试17阶倍频基频为5MHz时，可测试12阶倍频基频为10MHz时，可测试5阶倍频液体中倍频灵敏度1 Hz液体中耗散灵敏度～1x10-6质量灵敏度5ng cm-2每个倍频下测试参数倍频曲线、频率、频率变化、半峰宽、半峰宽变化、耗散因子、耗散因子变化、温度