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含硅二胺

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含硅二胺相关的耗材

  • InertCap for Amines(胺类专用柱)
    胺类分析专用柱—InertCap for Amines气相分析中,由于存在硅羟基的残留,硅羟基较易与醇羟基、羧基、胺基及巯基等官能团发生作用,导致目标分析物出现吸附拖尾等问题。所以使用惰性话处理过的色谱柱进行分析是很有必要的。胺类物质分析难点—拖尾胺类物质分析解决方法产品特点Ø 适用于胺类溶剂残留、环境中多元胺等分析项目Ø 高惰性,碱性化合物峰形尖锐Ø 对C2-C10胺类化合物有较高选择性Ø 可同时分析羧酸及醇类化合物产品信息*更对产品规格详询技尔客服服务热线400-089-1889应用案例胺类溶剂残留的测定含氮化合物分析案例技尔(上海)商贸有限公司是由日本色谱耗材、分析仪器生产厂商GL Sciences在中国设立的全资子公司。我们秉承“以用户需求为先”的理念,将GL Sciences在色谱行业积累的经验与不断发展的进步科技相结合,为中国色谱行业用户提供解决方案与优质服务,让您的色谱分析工作更便捷、更高效。GL Sciences扎根分析领域五十余年,旗下产品覆盖环境、医药、材料、食品、化工、生命科学等多个领域,可为客户提供分析中所需的各类仪器及耗材。
  • 托吡卡胺滴眼液中托吡卡胺含量的测定,色谱柱COSMOSIL C8-MS
    托吡卡胺滴眼液中托吡卡胺含量的测定,色谱柱COSMOSIL C8-MS 关键词:托吡卡胺滴眼液,托吡卡胺,2010年药典,辛烷基键合硅胶,北京绿百草 2010年中国药典标准:托吡卡胺测定色谱条件:照高效液相色谱法(附录Ⅴ D)测定,用辛烷基硅烷键合硅胶为填充剂;以甲醇辛烷磺酸钠溶液为流动相;检测波长为254nm。理论板数按托吡卡胺峰计算不低于3000,托吡卡胺与羟苯甲酯、羟苯乙酯的分离度应符合要求。(中国药典二部P264) 需要详细的药典标准请联系北京绿百草:010-51659766. 登录网站获得更多产品信息: www.greenherbs.com.cn
  • 异福酰胺胶囊中利福平、异烟腁和吡嗪酰胺的含量测定,推荐色谱柱:Cosmosil CN柱 各种规格
    异福酰胺胶囊中利福平、异烟腁和吡嗪酰胺的含量测定,推荐色谱柱:Cosmosil CN柱 关键词:异福酰胺胶囊,利福平,异烟腁,吡嗪酰胺,2010年药典 2010年中国药典标准:照高效液相色谱法(附录Ⅴ D)测定,用氰基键合硅胶为填充剂;以0.01mol/L庚烷磺酸钠为流动相;检测波长为254nm。理论板数按吡嗪酰胺峰计算不低于1500,各色谱峰的分离度应符合要求。(中国药典二部P300) 需要详细的药典标准请联系北京绿百草:010-51659766. 登录网站获得更多产品信息: www.greenherbs.com.cn
  • 异福酰胺片中利福平、异烟腁和吡嗪酰胺的含量测定,推荐色谱柱:Cosmosil CN柱
    异福酰胺片中利福平、异烟腁和吡嗪酰胺的含量测定,推荐色谱柱:Cosmosil CN柱 关键词:异福酰胺片,利福平,异烟腁,吡嗪酰胺,2010年药典 2010年中国药典标准:照高效液相色谱法(附录Ⅴ D)测定,用氰基键合硅胶为填充剂;以庚烷磺酸钠溶液-乙腈为流动相;检测波长为254nm。理论板数按吡嗪酰胺峰计算不低于1500,各色谱峰的分离度应符合要求。(中国药典二部P299) 需要详细的药典标准请联系北京绿百草:010-51659766. 登录网站获得更多产品信息: www.greenherbs.com.cN
  • 异福酰胺胶囊中利福平、异烟腁和吡嗪酰胺的含量测定,推荐色谱柱:Cosmosil CN柱
    异福酰胺胶囊中利福平、异烟腁和吡嗪酰胺的含量测定,推荐色谱柱:Cosmosil CN柱 关键词:异福酰胺胶囊,利福平,异烟腁,吡嗪酰胺,2010年药典 2010年中国药典标准:照高效液相色谱法(附录Ⅴ D)测定,用氰基键合硅胶为填充剂;以0.01mol/L庚烷磺酸钠为流动相;检测波长为254nm。理论板数按吡嗪酰胺峰计算不低于1500,各色谱峰的分离度应符合要求。(中国药典二部P300) 需要详细的药典标准请联系北京绿百草:010-51659766. 登录网站获得更多产品信息: www.greenherbs.com.cn
  • CP-Wax for Volatile Amines and Diamines 胺和二胺分析专用柱
    产品特点: &bull 用于分析挥发性胺类和二胺类化合物 &bull 碱性去活,确保峰形对称性 &bull 对于碱性组分有良好的惰性 保证很好的分析挥发性胺和二胺;通过碱性试剂灭活,有极好的对称峰形;对碱性化合物有非常高的惰性. 胺类化合物专用分析柱在化学、制药工业和环境中胺的分析都很重要。例如:有机胺可用于生产高聚物、药物、农药、染料和其它化合物。此外,已知环境中存在痕量胺对健康有害。但是,用毛细管色谱法分析胺时,胺会被诸如熔融石英壁和固定相的极性表面吸附。Chrompack公司取得了名为&ldquo 多目的脱活"(Multi Purpose Deactivation,MPD)的专利工艺,能彻底消除非极性固定相上胺的吸附,取得了突破性时展。MPD现用于制作CP-Sil 8 CB for Amines胺类分析柱,其应用领域非常广。另外,该技术也用于制造另一种稳定的非极性的厚液膜,名为CP-Volamine的特殊毛细管柱,该柱具有很高的稳定性和化学惰性,可用于分析挥发性胺。此外,Chrompack公司还提供其它几种极性固定相分析胺类化合物,以满足不同的选择性要求。 Chrompack特有MPD工艺提供惰性最好的毛细柱将本公司特有的脱活和稳定化技术-MPD,用于普通的低流失/亚芳基型固定相,可成功的分析微量胺。熔融石英管柱的酸性表面可以使用一种本公司产权专属的脱活试剂进行去活。该试剂能提供多目的去活作用。此外,该脱活试剂也能提供屏蔽效应,可降低在柱壁表面的硅氧桥相互作用。该脱活试剂中还包含一个活性的碱性集团,可降低酸-碱相互作用,从而降低微量胺类的吸附。 产品应用: 专用于挥发性胺和二胺分离检测。 应用范围:C3-C8胺和二胺类化合物。 订货信息: CP-Wax for Volatile Amines and Diamines Tmax-iso/Tmax-prog 220/220 ° C Part No. ID Length df N/M 部件号 内径(mm)长度(m) 膜厚(µ m) 柱效 CP7422 0.32 25 1.20 2200 CP7424 0.53 25 2.00 1300
  • 双(三甲硅基)三氟乙酰胺 for gas chromatography
    双(三甲硅基)三氟乙酰胺 for gas chromatography
  • 双(三甲硅基)乙酰胺 for gas chromatography unit
    双(三甲硅基)乙酰胺 for gas chromatography
  • 双(三甲硅基)三氟乙酰胺 for gas chromatography unit
    双(三甲硅基)三氟乙酰胺 for gas chromatography
  • 双(三甲硅基)乙酰胺 for gas chromatography
    双(三甲硅基)乙酰胺 for gas chromatography
  • HP-1-二甲基聚硅氧烷柱
    HP-1-二甲基聚硅氧烷柱 说明:这是最常用的非极性键合固定相,HP-1(二甲基聚硅氧烷),具有极好的热稳定性并且在高温下流失很小,具有低的检测限 相似的固定相:DB-1,Rtx-1,SPB-1,CP Sil 5CB,MDN-1,DB-1h.t.,AT-1 007-1 恒温/程序升温温度范围:-60至325/350℃,-60至300/320℃ 0.53内径,-60至260/280℃2.0mm液膜 应用:胺类、烃类、农药、多氯联苯、酚类、含硫化合物 HP-1 25m, 0.20mm, 0.33um HP-1 30m, 0.32mm, 0.25um HP-1 15m, 0.25mm, 0.25um HP-1 30m, 0.32mm, 1.0um HP-1 30m, 0.25mm, 0.25um HP-1 60m, 0.32mm, 0.25um HP-1 60m, 0.25mm, 0.25um HP-1 15m, 0.53mm, 1.5um HP-1 30m, 0.53mm, 2.65um
  • HP-35-二苯基-65%-二甲基硅氧烷共聚物
    HP-35-二苯基-65%-二甲基硅氧烷共聚物 说明:HP-35柱是用苯基取代甲基的聚硅氧烷固定相柱。EPA(美国环保暑)方法8081和UPS(美国药典)G-42中已经指定用此固定相。HP-35的中极性使其成为分析杀虫剂、除草剂、药物和胺的良好选择。 相似的固定相:DB-35,Rtx-35,SPB-35,AT-35,Sup-herb 等温/程序升温温度范围:-40至300/320℃  40至280/300℃ 应用:芳氯物(Aroclors)、胺类、杀虫剂、药品 HP-35 15m, 0.25mm, 0.25um HP-35 30m, 0.32mm, 0.15um HP-35 30m, 0.25mm, 0.25um HP-35 30m, 0.32mm, 0.25um HP-35, 60 meter, 0.25mm, 0.25um HP-35 30m, 0.32mm, 0.5um 甲基硅氧烷共聚物
  • 2,2,2-三氟-N-甲基-N-三甲基硅基-乙酰胺 for gas chromatography
    2,2,2-三氟-N-甲基-N-三甲基硅基-乙酰胺 for gas chromatography
  • BPX1–100%二甲基聚硅氧烷
    BPX1&ndash 100%二甲基聚硅氧烷 高温模拟蒸馏 非极性固定相适用于高温模拟蒸馏(ASTM方法),应用在石油工业中; 操作温度: 铝涂层: 0.1µ m膜厚 30° C &ndash 430° C 聚亚酰胺涂层: 0.1 &ndash 0.9µ m膜厚 30° C &ndash 400° C 2.65µ m膜厚 30° C &ndash 370° C 等同产品:DB-HT Sim Dis、DB-2887、RTX2887、HP-1、Petrocol 2887和Petrocol EX2887。 内径(mm) 膜厚 (µ m) 5m 6m 10m 聚亚酰胺涂层柱 0.1 0.1 &radic 054777 0.53 0.1 &radic 054803 0.9 &radic 054801 2.65 0548025 054802 铝涂层柱 0.53 0.1 054800 054779 0.17 054782 &radic
  • 用于乙二胺等胺类的碱性硅胶A/B管
    使用盐酸煮沸、氢氧化钾浸泡的溶剂解析活化硅胶管在高温活化去水后可用于脂肪族胺类吸附。? Use for ?? 工作场所空气中有毒物质测定 脂肪族胺类化合物 GBZ/T 160.69 3 -2004 脂肪族胺类? ?(三甲胺/乙胺/二乙胺/三乙胺 /乙二胺/丁胺/环己胺) 填料与克重:200mg/100mg 目数:20-40 外径×长度:6×120 最小包装:100支/盒
  • 用于乙二胺等胺类的碱性硅胶A/B管
    使用盐酸煮沸、氢氧化钾浸泡的溶剂解析活化硅胶管在高温活化去水后可用于脂肪族胺类吸附。? Use for ?? 工作场所空气中有毒物质测定 脂肪族胺类化合物 GBZ/T 160.69 3 -2004 脂肪族胺类? ?(三甲胺/乙胺/二乙胺/三乙胺 /乙二胺/丁胺/环己胺) 填料与克重:200mg/100mg 目数:20-40 外径×长度:6×120 最小包装:100支/盒
  • 单晶硅标样 615-B 单晶硅标样,含样品座B
    单晶硅标样,用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm,方格间距10μm,线宽1.9μm,通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线,用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成,深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。单晶硅标样,随标样提供校准证书,但需支付额外费用。保证的准确度为3%。标样由英国NPL实验室(National Physical Laboratory)用激光干涉测量法测定。
  • 单晶硅标样 615-A 单晶硅标样,含样品座A
    单晶硅标样,用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm,方格间距10μm,线宽1.9μm,通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线,用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成,深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。单晶硅标样,随标样提供校准证书,但需支付额外费用。保证的准确度为2%。标样由英国NPL实验室(National Physical Laboratory)用激光干涉测量法测定。
  • 单晶硅标样 615-F 单晶硅标样,含样品座F
    单晶硅标样,用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm,方格间距10μm,线宽1.9μm,通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线,用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成,深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。单晶硅标样,随标样提供校准证书,但需支付额外费用。保证的准确度为7%。标样由英国NPL实验室(National Physical Laboratory)用激光干涉测量法测定。
  • 单晶硅标样 615-E 单晶硅标样,含样品座E
    单晶硅标样, 用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm,方格间距10μm,线宽1.9μm,通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线,用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成,深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。单晶硅标样, 随标样提供校准证书,但需支付额外费用。保证的准确度为6%。标样由英国NPL实验室(National Physical Laboratory)用激光干涉测量法测定。
  • 单晶硅标样 615-G 单晶硅标样,含样品座G
    单晶硅标样, 用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm,方格间距10μm,线宽1.9μm,通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线,用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成,深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。单晶硅标样, 随标样提供校准证书,但需支付额外费用。保证的准确度为8%。标样由英国NPL实验室(National Physical Laboratory)用激光干涉测量法测定。
  • 单晶硅标样 615-C 单晶硅标样,含样品座C
    单晶硅标样, 用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm,方格间距10μm,线宽1.9μm,通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线,用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成,深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。单晶硅标样, 随标样提供校准证书,但需支付额外费用。保证的准确度为4%。标样由英国NPL实验室(National Physical Laboratory)用激光干涉测量法测定。
  • 单晶硅标样 615-A 单晶硅标样,含样品座A
    单晶硅标样,用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm,方格间距10μm,线宽1.9μm,通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线,用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成,深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。单晶硅标样,随标样提供校准证书,但需支付额外费用。保证的准确度为2%。标样由英国NPL实验室(National Physical Laboratory)用激光干涉测量法测定。
  • TMSI 硅烷化试剂 | 三甲基硅咪唑| 三甲基碘硅烷
    产品特点:N-Trimethylsilylimidazole (TMSI) UN1993, 25 grams三甲基硅咪唑, 三甲基碘硅烷SKU: 140-25 Categories: 硅烷化试剂 ,Tag: TMSI三甲基硅咪唑 用途硅烷化试剂三甲基硅咪唑是硅烷化羟基的最强的硅烷化试剂;能够快速、平顺地与羟基和羧基发生反应。不与胺或酰胺发生反应,所以可以用于制备既含有羟基又含有氨基的化合物的多重衍生物。在存在少量水的情况下可用于硅烷化糖;当需要将糖作为糖浆剂来分析的时候是硅烷化糖的理想选择。能够衍生不被阻碍和被严重阻碍的大多数的甾类羟基。用途 用作抗菌素中间体、特强的硅烷化剂用途 高效硅烷化试剂,特别适合用于醇、酰基咪唑类的合成,在氨基存在的条件下保护羟基基团。抗菌素中间体。用途 用于合成各种酰基咪唑的重要中间体,也是合成吡藜酰胺的重要中间体;在胺功能化条件下,保护羟基的硅烷化试剂;强有力的硅烷化试剂、特别针对醇类;酰基咪唑啉的合成用途 甲硅烷基化试剂,在氨基存在的条件下保护羟基基团。抗菌素中间体。特点● UN Number: 1993
  • 单晶硅标样 615-B 单晶硅标样,含样品座B
    单晶硅标样,用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm,方格间距10μm,线宽1.9μm,通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线,用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成,深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。单晶硅标样,随标样提供校准证书,但需支付额外费用。保证的准确度为3%。标样由英国NPL实验室(National Physical Laboratory)用激光干涉测量法测定。
  • 单晶硅标样 615-F 单晶硅标样,含样品座F
    单晶硅标样,用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm,方格间距10μm,线宽1.9μm,通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线,用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成,深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。单晶硅标样,随标样提供校准证书,但需支付额外费用。保证的准确度为7%。标样由英国NPL实验室(National Physical Laboratory)用激光干涉测量法测定。
  • 单晶硅标样 615-D 单晶硅标样,含样品座D
    单晶硅标样, 用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm,方格间距10μm,线宽1.9μm,通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线,用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成,深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。单晶硅标样, 随标样提供校准证书,但需支付额外费用。保证的准确度为5%。标样由英国NPL实验室(National Physical Laboratory)用激光干涉测量法测定。
  • 单晶硅标样 615-K 单晶硅标样,含样品座K
    单晶硅标样, 用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm,方格间距10μm,线宽1.9μm,通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线,用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成,深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。单晶硅标样随标样提供校准证书,但需支付额外费用。保证的准确度为9%。标样由英国NPL实验室(National Physical Laboratory)用激光干涉测量法测定。
  • 单晶硅标样 615-G 单晶硅标样,含样品座G
    单晶硅标样, 用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm,方格间距10μm,线宽1.9μm,通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线,用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成,深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。单晶硅标样, 随标样提供校准证书,但需支付额外费用。保证的准确度为8%。标样由英国NPL实验室(National Physical Laboratory)用激光干涉测量法测定。
  • 单晶硅标样 615-C 单晶硅标样,含样品座C
    单晶硅标样, 用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm,方格间距10μm,线宽1.9μm,通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线,用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成,深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。单晶硅标样, 随标样提供校准证书,但需支付额外费用。保证的准确度为4%。标样由英国NPL实验室(National Physical Laboratory)用激光干涉测量法测定。
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