高分子纳米线

武汉东隆科技为美国Quantum Opus的中国区独家代理，欢迎您来电垂询！Opus One 超导纳米线探测器系统Opus One™ 超导纳米线探测器系统配有定制的紧凑型桌面低温恒温器（预先安装的16/32通道以及低温恒温器中的所有电接线），光学实验室友好型水冷压缩机（低空气循环，低噪声，低热量输出），偏置和高速放大器电子元件以及易于使用的软件控制库。 专有的纳米线材料允许纳米线工作在 2K，降低低温系统的复杂性，并允许系统连续工作3年。Opus One 是基于超导纳米线技术的单光子探测器，在1550 nm的探测效率高达85 %，通过对谐振腔的调节 ， 可以将提供特殊设计、订购和组装。700~1300 nm指定波长的探测效率提高到90%。除此之外，该探测器还拥有极低的暗噪声和超快的时间分辨率， 计数率高达40Mcps。产品特点 工作温度在2.5k即可达到高探测效率支持定制规格支持定制宽波段响应3U 紧凑化设计低噪声水冷压缩机2um以上红外响应定制 产品应用 量子光学量子计算量子密钥通信低通量生物光子学荧光测量参数 * 可定制更高探测效率850nm 950nm 1310nm 1550nm SDE 90%90% 80%*80%*暗计数率 1Hz 1Hz10Hz100Hz时间抖动 80ps80ps 100ps100ps脉冲幅值 600mV600mV300mV300mV死时间 50ns50ns50ns50ns

QE85%超导纳米线单光子探测器所属类别： ? 探测器/光子计数器 ? 单光子计数器 产品简介QE85%超导纳米线单光子探测器 高量子效率85%,低暗计数10cps,高计数率20MHz 很新的超高效率超导纳米线单光子探测器，其在600nm-2300nm内达到高量子效率85%，暗计数10cps，同时zui高计数率20MHz，是目前市场上性能良好的超导单光子探测器，此型号超导纳米线单光子探测器可提供zui多8通道同时运行 超导单光子探测器， SSPD，SNSPD超导纳米线单光子探测器，单光子计数器， Superconducting Nanotechnology，红外单光子计数器，高灵敏度单光子计数器 技术指标：l 量子效率: ≥ 80 %l 时间抖动: ≤ 45 ps (20 ps on request)l 暗计数: ≤ 10 cps (0.01 cps on request)l 光谱范围: 0.6 ÷ 2.3 μml 无后脉冲l 光纤耦合l 连续模式 一般参数：l 探测通道数: 1-8l 光纤类型: SMF-28e l 原始输出电压: ≤ 150 mVl 输出信号类型: TTL, ECL, LVDSl 驱动接口: USB, LabVIEW 应用领域：l 光量子计算l 光子相关性测量l 量子密码和QKDl CMOS缺陷分析l α，β粒子探测l TCSPCl 单分子荧光光谱l 弹道成像l 单等离子体检测l 自由空间通信l LIDARl 时间分辨荧光测量l 单量子点荧光光谱l 片上量子光学l 单线态/三线态氧荧光探测l 皮秒集成电路分析l 单电子探测 相关产品 超低暗计数(0.01cps)超导单光子探测器 超高速（500MHz）超导单光子探测器 超快(120MHz)近红外单光子计数OEM模块 符合计数单光子计数系统

武汉东隆科技有限公司为美国Quantum Opus的中国区独家代理，欢迎您来电垂询！Quantum Opus 超导纳米线探测器Quantum Opus提供了两个标准的纳米线产品，在950 nm（ 90％）或1550 nm（ 80％）范围内最大化系统检测效率。 我们还可以定制任何所需的客户波长，包括非常广泛的响应设备，保持超过100nm的带宽和中红外设备的效率超过50％。 这些设备也可以单独购买，并集成到制冷温度2.5K的第三方低温系统中。 产品特点 工作温度在2.5k可达到最高探测效率探测效率90%@1550nm计数率40MHz!!无PDE下降暗计数1Hz/10Hz/100Hz3U紧凑化设计单台支持2-32通道扩展产品应用 量子光学量子计算量子密钥通信低通量生物光子学荧光测量参数

QE60%超导纳米线单光子 探测器量子效率60%,低暗计数10cps,高计数率70MHz，只要有制冷腔，就能轻松安装 俄罗斯Scontel 蕞新推出的超导纳米线单光子探测器，只要有制冷腔，就能轻松安装,并且价格低廉，但是功能毫不差劲。其在600nm-2300nm内达到量子效率60%，暗计数10cps，同时计数率高达70MHz，是目前市场上性能优良的超导纳米线单光子探测器的。此型号超导纳米线单光子探测器可提供蕞多16通道同时运行，针对不同应用提供匹配的产品，可多通道同时探测及低成本升级，且可以根据您的不同需求我们不仅有如下图中探测性能的设备，还有多模大面积探测器、超低噪声探测器、光子数分辨探测器供您选择。超导纳米线单光子探测器主要特点：&bull 超高性价比，有制冷腔的选择&bull 针对不同应用提供匹配的产品 &bull 可多通道同时探测及低成本升级 &bull 产品安装/培训/升级全程服务超导纳米线单光子探测器技术指标： 根据需求不同我们可提供以下探测性能的搭配也可根据您的参数要求进行定制：高效检测(HED) -高系统效率和时间分辨率、低噪声、中等带宽的蕞佳组合。 超高效检测(U-HED) -改进的HED版本，运行温度更低，因此在所有参数方面具有更好的综合性能。 宽带宽检测（Broadband）-虽系统效率略有下降。但优化的光学腔增加了带宽低噪声检测（Low noise）-应用可变滤波技术将设备的暗计数率降低到每秒10次,探测器的光谱响应窄得多。超导纳米线单光子探测器应用领域：&bull 量子计算 &bull 光子相关性测量&bull 量子密码和QKD&bull cmos 缺陷分析&bull α，β粒子探测&bull tcspc &bull 单分子荧光光谱&bull 弹道成像&bull 单等离子体检测&bull 自由空间通信&bull LIDAR&bull 时间分辨荧光测量&bull 单量子点荧光光谱&bull 量子光学 &bull 单线态/三线态氧荧光探测&bull 皮秒集成电路分析关于昊量光电：上海昊量光电设备有限公司是光电产品专业代理商，产品包括各类激光器、光电调制器、光学测量设备、光学元件等，涉及应用涵盖了材料加工、光通讯、生物医疗、科学研究、国防、量子光学、生物显微、物联传感、激光制造等；可为客户提供完整的设备安装，培训，硬件开发，软件开发，系统集成等服务。

多通道超导纳米线单光子探测系统赋同量子生产的SNSPD系统由超导纳米线单光子探测器、低温恒温系统和电子学模块三个部分组成，该系统具有以下特点：●采用小冷量风冷GM制冷机，无需液氦；●7×24小时不间断运行； ●高可靠性，已通过各种应用场合长期证； ●专业高效的技术支持； ●机柜式或桌面式集成。 参数细节探测通道数目：1-32；光学接口：FC/PC；电子学接口：SMA；工作环境：温度4℃-38℃；湿度≤60%；系统漏率：＜1E-10Pam3/s；重量：约100 kg；电源：单相220-230 V，50 Hz；功耗：≤ 1.3 kW；

生长纳米线CVD炉OTF-1200X-4-NW是一种紧凑型CVD炉，专为生长各种纳米线而设计，基片最大3″。在法兰的左侧装有一个小加热器，可对输入的气体、液体、固体进行预加热后进入 CVD 炉进行纳米线的生长。其可滑动的样品架使操作更为简单。 产品型号　生长纳米线CVD炉OTF-1200X-4-NW安装条件本设备要求在海拔1000m以下，温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。1、水：设备配有自循环冷却水机（加注纯净水或者去离子水）2、电：AC380V 50Hz（63A空气开关），必须有良好接地3、气：设备腔室内需充注氩气（纯度99.99%以上），需自备氩气气瓶（自带?6mm双卡套接头）4、工作台：尺寸1500mm×600mm×700mm，承重200kg以上5、通风装置：需要主要特点 1、由OTF-1200X-4单温区炉演变而来的紧凑型CVD炉。 2、内炉膛表面涂有进口高温氧化铝涂层，可以提高设备的加热效率及延长仪器的使用寿命。 3、带样品支架的右法兰是滑动的，方便样品的快速取放。 4、左侧的小加热器可对输入CVD 炉的气体、液体、固体或混合物进行预加热，不锈钢加热腔外径?30mm、长150mm，最高工作温度600℃。 5、左边法兰（在加热器与CVD炉之间）装有4个1/4"卡套连结的通气管，具有密封和气体通道的作用。 6、PID自整定数字控制器，可以设置30段升降温程序。 7、选配相关软件可用计算机进行控温。 8、已通过CE认证。技术参数 1、额定电压：单相AC 220V 50Hz/60Hz 2、额定功率：3KW（需20A的空气开关） 3、石英管：外管外径?110mm，内径?102mm，长381mm 4、加热区域：CVD炉400mm，加热器150mm， 5、工作温度：CVD炉最高1100℃（2h），连续工作200℃-1000℃，最大升降温速率10℃/min；加热器连续工作0-500℃，最大升降温速率10℃/min 6、控温精度：±1℃ 7、热电偶：K型 8、右法兰：一个3"石英样品支架，与石英挡板、法兰连成一体，设有KF25真空快接口，以及水冷接口（可选配水 冷机，避免O型圈融化） 9、左法兰：有2个独立1/4″口，可单独将任何气体通入炉内，一路1/4"口将预热气体通入CVD炉，一路1/4″口将不加 热的气体通入炉内，并通过炉内的T型结构与加热气体汇合产品规格　尺寸：1200mm×450mm×510mm；重量：100kg可选配件 1、冷水机 2、控温软件

纳米操作机、纳米机械手、纳米操纵机械臂、纳米操纵仪TNI LF-2000产品简介 TNI LF-2000是目前市面上基于SEM电镜下使用的自动化程度最 高的纳米操作系统，也是一种能够在SEM电镜下提供可重复 定位、低漂移、闭环运动控制定位的纳米操作系统。 产品特性 完全兼容主流电镜，不影响电镜功能 市面上较佳的运动定位性能：大行程、亚纳米分辨率 位移传感器集成自动化和可编程运动 SEM真空环境优化设计，可快速安装与拆卸规格参数应用案例电学特性LifeForce为纳米材料提供可靠、低噪音的电测量，以及与纳米结构的原位相互连接。图片展示的是四探针测量纳米线电学性能。力学测量LifeForce为纳米材料的力学特性提供高分辨率的力和位移反馈，图片展示的是用球端AFM悬臂探针对单根纳米线的拉伸测试。拾取和放置操作使用末端工具（例如：探针、微纳米夹持器、超声切割针），操作者能够操作LifeForce纳米操作手在SEM电镜内对微纳米物体进行推、拉和抓取等操作。制作微纳米器件精密的操作手运动能够实现微纳米器件的快速成型和后处理。图片展示的是纳米线FET传感器的构造。

纳米操作机、纳米机械手、纳米操纵机械臂、纳米操纵仪TNI LF-2000产品简介TNI LF-2000是兼容SEM/FIB的自动化纳米操作系统，也是能够在SEM/FIB下提供可重复定位、低漂移、闭环运动控制定位的纳米操作系统。产品特性 兼容主流电镜，不影响电镜功能 具有大行程、亚纳米分辨率运动定位性能 位移传感器集成自动化和可编程运动 SEM真空环境优化设计，可快速安装与拆卸规格参数系统概况系统尺寸127x127x33mm3*机械手数量1-4操作手（宏动）驱动原理粘滑驱动运动范围XY轴：10mm Z轴：5mm速度3mm/s最小步长100nm操作手（微动）驱动原理无摩擦柔性铰链运动范围XYZ轴：20μm速度45μm/s开环运动分辨率0.5nm闭环运动分辨率1nm定位漂移率0.35nm/min软件功能**点击-移动鼠标在电脑屏幕上从A移动到B自适应放大倍数定位器移动速度根据SEM放大自动调整操作手位置保存/加载用户自定义的“保存/加载”操作手坐标3D虚拟显示实时三维显示操作手的位置和运动自动校准操作手闭环传感器自动校准运动轴的自动对准所有操作手运动轴自动对准SEM图像轴*系统尺寸可根据需要减小到50x50x17mm3**可根据选定SEM/FIB的型号而定应用案例电学特性LifeForce为纳米材料提供可靠、低噪音的电测量，以及与纳米结构的原位相互连接。实例照片展示的是四探针测量纳米线电学性能。力学测量LifeForce为纳米材料的力学特性提供高分辨率的力和位移反馈，实例照片展示的是用球端AFM悬臂探针对硅纳米线簇进行纳米压痕，以及对单根纳米线的拉伸测试。拾取和放置操作使用末端工具（例如：探针、微纳米夹持器、超声切割针），操作者能够操作LifeForce纳米操作手在SEM电镜内对微纳米物体进行推、拉和抓取等操作。制作微纳米器件精密的操作手运动能够实现微纳米器件的快速成型和后处理。实例照片展示的是纳米线FET传感器的构造。纳米电子器件电学测量LifeForce纳米操作机是市面上能够自动探测电子结构（范围从亚微米，亚100nm及亚20nm）。只需要通过计算机点击鼠标，将探针定位到目标位置。极低得定位漂移，保证数据采集得可靠性。 主要软件功能①　位置反馈：提供每个操作手XYZ精确得位置反馈，1纳米运动定位分辨率。②　保存/加载坐标：保存和加载多个操作手得坐标。③　自动校准：限度地提高定位性能，并将操作手运动轴对准扫描电子显微镜图像轴。④　3D虚拟显示：实时3D虚拟空间显示操作手（粉红色方块）和样品（绿色平面）得位置。⑤　点击-移动：通过在屏幕上鼠标点击控制操作手运动。⑥　多操作手联动：连接多个操作手得运动，具有纳米级精度。⑦　图片-视频录制：保存操作过程中的高清图片和视频。

纳米空间分辨超快光谱和成像系统 “空间和时间的结合”— 纳米分辨和飞秒别的光谱超快光谱技术拥有诸多特色，例如高的时间分辨率，丰富的光与物质的非性相互作用，可以用光子相干地调控物质的量子态，其衍生和嫁接技术带来许多凝聚态物理实验技术的变革等等。然而，受制于激发波长的限制（可见-近红外），超快光谱在空间分辨上受到了一定的制约，在对一些微纳尺寸结构的材料研究中，诸如一维半导体纳米线，二维拓扑材料、纳米相变材料等，无法地进行有效的超快光谱分析。 德国Neaspec公司利用十数年在近场及纳米红外领域的技术积累，开发出了全新的纳米空间分辨超快光谱和成像系统，其pump激发光可兼容可见到近红外的多组激光器，probe探测光可选红外（650-2200 cm-1）或太赫兹（0.5-2 T）波段，实现了在超高空间分辨（20 nm）和超高时间分辨（50 fs）上对被测物质的同时表征。技术原理：设备特点和参数：→ 超高空间分辨和时间分辨同时实现；→ 20-50 nm空间分辨率；→ 根据pump光源时间分辨可达50 fs；→ probe光谱可选红外（650-2200 cm-1）或太赫兹（0.5-2 T）应用领域：→ 二维材料→ 半导体→ 纳米线/纳米颗粒→ 等离激元→ 高分子/生物材料→ 矿物质......应用案例：■ 纳米红外超快光谱分辨率为10nm的InAs纳米线红外成像，并结合时间分辨超快光谱分析载流子衰减层的形成过程参考：M. Eisele et al., Ultrafast multi-terahertz nano-spectroscopy with sub-cycle temporal resolution, Nature Phot. (2014) 8, 841.稳态开关灵敏性：容易发生相变的区域，光诱导散射响应较大参考：M. A. Huber et al., Ultrafast mid-infrared nanoscopy of strained vanadium dioxide nanobeams, Nano Lett. 2016, 16, 1421.参考：G. X. Ni et al., Ultrafast optical switching of infrared plasmon polaritons in high-mobility graphene, Nature Phot. (2016) 10, 244.参考：Mrejen et al., Ultrafast nonlocal collective dynamics of Kane plasmon-polaritons in a narrow- gap semiconductor, Sci. Adv. (2019), 5, 9618.■ 范德华材料 WSe2 中的超快研究参考：Mrejen et al., Transient exciton-polariton dynamics in WSe2 by ultrafast near-field imaging, Sci. Adv. (2019), 5, 9618.■ 黑磷中的近红外超快激发黑磷的high-contrast interband性质使其具有半导体性质，在光诱导重组过程中表面激发的电子空隙对（electron-hole pairs）～50fs并在5ps内消失参考：M. A. Huber et al.,Femtosecond photo-switching of interface polaritons in black phosphorus heterostructures, Nat. Nanotechnology. (2016), 5, 9618.■ 多层石墨烯中等离子效应衰减效应参考：M. Wagner et al., Ultrafast and Nanoscale Plasmonic Phenomena in Exfoliated Graphene Revealed by Infrared Pump?Probe Nanoscopy, Nano Lett. 2014, 14, 894.发表文章：neaspec中国用户发表文章超80篇，其中36篇影响因子10。部分文章列表：● M. B. Lundeberg et al., Science 2017 AOP.● F. J. Alfaro-Mozaz et al., Nat. Commun. 2017, 8, 15624.● P. Alonso-Gonzales et al., Nat. Nanotechnol. 2017, 12, 31.● M. A. Huber et al., Nat. Nanotechnol. 2017, 12, 207.● P. Li et al., Nano Lett. 2017, 17, 228.● T. Low et al., Nat. Mater. 2017, 16, 182.● D. Basov et al., Nat. Nanotechnol. 2017, 12, 187.● M. B. Lundberg et al., Nat. Mater. 2017, 16, 204.● D. Basov et al., Science 2016, 354, 1992.● Z. Fei et al., Nano Lett. 2016, 16, 7842.● A. Y. Nikitin et al., Nat. Photonics 2016, 10, 239.● G. X. Ni et al., Nat. Photonics 2016, 10, 244.● A. Woessner et al., Nat. Commun. 2016, 7, 10783.● Z. Fei et al., Nano Lett. 2015, 15, 8271.● G. X. Ni et al., Nat. Mater. 2015, 14, 1217.● E. Yoxall et al., Nat. Photonics 2015, 9, 674.● Z. Fei et al., Nano Lett. 2015, 15, 4973.● M. D. Goldflam et al., Nano Lett. 2015, 15, 4859.● P. Li et al., Nat. Commun. 2015, 5, 7507.● S. Dai et al., Nat. Nanotechnol. 2015, 10, 682.● S. Dai et al., Nat. Commun. 2015, 6, 6963.● A. Woessner et al., Nat. Mater. 2014, 14, 421.● P. Alonso-González et al.,Science 2014, 344, 1369.● S. Dai et al., Science 2014, 343, 1125.● P. Li et al., Nano Lett. 2014, 14, 4400.● A. Y. Nikitin et al., Nano Lett. 2014, 14, 2896.● M. Wagner et al., Nano Lett. 2014, 14, 894.● M. Schnell et al., Nat. Commun. 2013, 5, 3499.● J. Chen et al., Nano Lett. 2013, 13, 6210.● Z. Fei et al., Nat. Nanotechnol. 2012, 8, 821.● J. Chen et al., Nature 2012, 487, 77.● Z. Fei et al., Nature 2012, 487, 82.

摩信高分子材料拉力试验机MX-0580采用单立柱主体结构，广泛适用于金属合金、非金属材料试样的拉伸、压缩、弯曲、剪切、剥离、撕裂等试验，以及一些产品的特殊试验。可靠性高，并且容易操作，同时满足GB、ISO、JIS、ASTM、DIN等多种标准要求，并可根据用户需求编辑试验软件，定制试验附具，是各类产品和材料制造商、高等院校、科研单位和各级产品质量监督部门必备的精密仪器。摩信高分子材料拉力试验机MX-0580自动采集处理试验数据，绘制多种曲线并打印试验报告。主机与辅具的设计借鉴了国外的技术，具有较宽的调速范围。采用微机控制并结合的电子控制技术，实行标准化、单元化设计，具有控制准确、测量精度高、配置灵活，可轻松实现附件互换，极易售后服务等。摩信高分子材料拉力试验机MX-0580可对橡胶、塑料、塑胶、薄膜、纺织、纤维、纳米材料、高分子材料、复合材料、包装带、纸张、电线电缆、光纤光缆、安全带、保险带、皮革皮带、鞋类、胶带、进行拉伸、撕裂、90度剥离、180度剥离、剪切、粘合力、拔出力、延伸伸长率等试验。摩信高分子材料拉力试验机MX-0580技术参数：1. 产品规格： MX-0580（单臂）2． 精度等级： 0.5级(以内）3． 额定负荷： 3N 5N 10N 20N 50N 100N 200N 500N 1000N 2000N 3000N 5000N（可配多只）4． 有效测力范围：0.1/100-99.9999% 5． 试验力分辨率，负荷±500000码；内外不分档，且全程分辨率不变。6． 有效试验宽度：120mm7． 有效试验空间：800mm8． 试验速度:：0.001~500mm/min(任意调)9. 速度精度：示值的±0.5%以内；10．位移测量精度：示值的±0.5%以内；11．变形测量精度：示值的±0.5%以内；12．应力控速率范围： 0.005%～6％FS/S13．应力控速率精度： 速率＜0.05％FS/S时，为设定值的±1%以内；速率≥0.05％FS/S时，为设定值的±0.5%以内；14．应变控速率范围： 0.002%～6％FS/S15．应变控速率精度： 速率＜0.05％FS/S时，为设定值的±2%以内；速率≥0.05％FS/S时，为设定值的±0.5%以内；16. 恒力/位移/变形测量范围：0.5％～99.99999％FS17．恒力/位移/变形测量精度：设定值＜10％FS时, 为设定值的±1%以内； 设定值≥10％FS时, 为设定值的±0.1%以内；18．试台升降装置：快/慢两种速度控制，可点动；19．试台安全装置：电子限位保护20．试台返回：手动可以高速度返回试验初始位置，自动可在试验结束后自动返回；21．试验定时间自动停车,试验定变形自动停车,试验定负荷自动停车22．超载保护：超过大负荷10%时自动保护；23. 自动诊断功能，定时对测量系统、驱动系统进行过载、过压、过流、超负荷等检查，出现异常情况立即进行保护23．电源功率： 750W24．主机重量： 100kg25. 电源电压: 220V（单相）26. 主机尺寸：470*400*1510mm

摩信高分子材料拉力试验机MX-0580自动采集处理试验数据，绘制多种曲线并打印试验报告。主机与辅具的设计借鉴了国外的技术，具有较宽的调速范围。采用微机控制并结合的电子控制技术，实行标准化、单元化设计，具有控制准确、测量精度高、配置灵活，可轻松实现附件互换，极易售后服务等。摩信高分子材料拉力试验机MX-0580采用单立柱主体结构，广泛适用于金属合金、非金属材料试样的拉伸、压缩、弯曲、剪切、剥离、撕裂等试验，以及一些产品的特殊试验。可靠性高，并且容易操作，同时满足GB、ISO、JIS、ASTM、DIN等多种标准要求，并可根据用户需求编辑试验软件，定制试验附具，是各类产品和材料制造商、高等院校、科研单位和各级产品质量监督部门必备的精密仪器。摩信高分子材料拉力试验机MX-0580可对橡胶、塑料、塑胶、薄膜、纺织、纤维、纳米材料、高分子材料、复合材料、包装带、纸张、电线电缆、光纤光缆、安全带、保险带、皮革皮带、鞋类、胶带、进行拉伸、撕裂、90度剥离、180度剥离、剪切、粘合力、拔出力、延伸伸长率等试验。摩信高分子材料拉力试验机MX-0580技术参数：1. 产品规格： MX-0580（单臂）2． 精度等级： 0.5级(以内）3． 额定负荷： 3N 5N 10N 20N 50N 100N 200N 500N 1000N 2000N 3000N 5000N（可配多只）4． 有效测力范围：0.1/100-99.9999% 5． 试验力分辨率，负荷±500000码；内外不分档，且全程分辨率不变。6． 有效试验宽度：120mm7． 有效试验空间：800mm8． 试验速度:：0.001~500mm/min(任意调)9. 速度精度：示值的±0.5%以内；10．位移测量精度：示值的±0.5%以内；11．变形测量精度：示值的±0.5%以内；12．应力控速率范围： 0.005%～6％FS/S13．应力控速率精度： 速率＜0.05％FS/S时，为设定值的±1%以内；速率≥0.05％FS/S时，为设定值的±0.5%以内；14．应变控速率范围： 0.002%～6％FS/S15．应变控速率精度： 速率＜0.05％FS/S时，为设定值的±2%以内；速率≥0.05％FS/S时，为设定值的±0.5%以内；16. 恒力/位移/变形测量范围：0.5％～99.9999％FS17．恒力/位移/变形测量精度：设定值＜10％FS时, 为设定值的±1%以内； 设定值≥10％FS时, 为设定值的±0.1%以内；18．试台升降装置：快/慢两种速度控制，可点动；19．试台安全装置：电子限位保护20．试台返回：手动可以高速度返回试验初始位置，自动可在试验结束后自动返回；21．试验定时间自动停车,试验定变形自动停车,试验定负荷自动停车22．超载保护：超过负荷10%时自动保护；23. 自动诊断功能，定时对测量系统、驱动系统进行过载、过压、过流、超负荷等检查，出现异常情况立即进行保护23．电源功率： 750W24．主机重量： 100kg25. 电源电压: 220V（单相）26. 主机尺寸：470*400*1510mm

3D纳米结构高速直写机 — —纳米光刻与微米光刻兼顾的联合图形化工艺方案 NanoFrazor光刻技术，衍生于IBM Research研发的热扫描探针光刻技术——快速、地控制纳米针的移动及温度，利用热针实现对热敏抗刻蚀剂的快速刻写，从而为纳米制造提供了许多新颖的、特的可能性。NanoFrazor Explore以高的速度、精度和可靠性运行，在目前所有扫描探针光刻技术中属于速度快、应用广泛的一种。NanoFrazor Explore配备了先进的硬件和软件，以合适的方式控制可加热的NanoFrazor悬臂梁，以便进行书写和成像，实现基于闭环光刻技术的各种高精度图案化工艺。2019年，Explore增配了激光直写模块，有效加快了特征线宽在微米或亚微米水平的图形的加工速度，成为纳米光刻与微米光刻兼顾的联合图形化工艺方案。由此，在针对同一抗刻蚀层的图案化工艺中，实现了纳米刻写与微米刻写的无缝衔接。从而可以根据不同的图案特征线宽，采用不同精度的刻写技术，兼顾精度与速度。 主要特点：★ 利用加热针直接刻写图案，分辨率优于15 nm；★ 利用激光热挥发实现图案化，分辨率优于1 μm；★ 高速直写 10 mm/s★ 高速原位AFM轮廓成像；★ 样品尺寸100×100 mm2；★ 闭环光刻；★ 灰度曝光，分辨率及精度达到2 nm；★ 利用原位AFM实现的对准，从而实现无掩膜套刻及写场拼接；★ 的隔音及隔振性能；★ 无需洁净间，亦无特殊的实验室环境要求闭环光刻NanoFrazor光刻系统是基于热扫描探针光刻技术，其核心部件是一种可加热的、非常锐的针，利用此针可以直接进行复杂纳米结构的刻写并且同时探测刻写所得结构的形貌。加热的针通过热作用，直接挥发局部的抗刻蚀剂，从而实现对各类高分辨纳米结构的制备。此外，NanoFrazor的光刻技术能够与各类标准的图形转移方案（如lift-off、刻蚀）兼容，从而实现各类材料的图形化制备。“闭环光刻”技术确保图形化工艺的高度纳米光刻与微米光刻兼顾的图形化工艺方案自2019年开始，NanoFrazor Explore增配了激光直写模块，由此在保障纳米分辨率图案刻写精度的同时，大大提升了NanoFrazor Explore对微米分辨率图形的刻写速度。激光刻写基于激光的热作用，以亚微米精度，快速、直接地挥发抗刻蚀剂，从而实现大面积的图案化工艺（例如微纳结构的引线或焊点图形制备）。热探针直写对于纳米结构或纳米器件关键部分的高精度、高分辨率刻写。刻写所得结构的测量、观测、对准由于抗刻蚀剂直接挥发，无须湿法显影操作即可实现抗刻蚀剂的图案化。在图案化过程中，同一根探针能够原位、高速的对图案化抗刻蚀剂进行AFM成像和测试。微米尺度及纳米尺度的哈佛大学校徽，对PPA刻蚀剂的刻蚀深度为30 nm，图像由NanoFrazor Explore的探针进行AFM成像获得。(Courtesy of Harvard CNS)3D灰度纳米光刻★ 可在针扫描的每个位置对图案化工艺的深度进行设定（即每个像素点的灰度值）★ 闭环光刻技术能够实现很高的灰度刻写精度（经论证，对大于16个灰阶的结构进行图案化工艺，灰度刻写的误差小于1纳米）用于TEM的电子光学系统的三维相盘，由PPA中的微结构转移至SiN薄膜获得(Courtesy of EPFL and KIT)刻写在PPA中的多全息图的局部（图片由Explore的探针在刻写同时进行AFM成像获得）；小图展示的是转移至Si中的全息图局部的SEM图像（Courtesy of Sun Yat-Sen University）无掩膜套刻与拼接★ 通过原位AFM功能实现高精度的无掩膜套刻及拼接（经论证，精度优于10 nm）；★ 埋在抗刻蚀剂PPA下的图案结构（如纳米片、纳米线等）可用作“天然的”对准标记写场的自动关联拼接；由金的lift-off工艺获得的）反射全息图包含1×108个像素点，每个写场为边长50 μm的正方形，写场间的拼接由AFM相关技术实现利用无掩膜光刻在单根纳米线上制备金属电：（a）由Explore的AFM成像功能探测到的纳米线轮廓及位置信息（绿线标出）与拟制备的电结构布局图（粉色区域）；（b）lift-off工艺后获得的带有金属电的单根纳米线的SEM图像高分辨率★ 锐的针，为了高分辨率的实现（经论证，在PPA抗刻蚀剂中能够实现的半节距优于10纳米）★ 无须针对临近效应的修正由PPA抗刻蚀剂转移至硅基衬底的鳍型结构和沟槽结构(Courtesy of IBM Research and imec) 其他特性能★ 低损伤：制备过程中没有引入带电粒子束流，基于敏感材料的微纳器件能够获得更好器件特性★ 纳米尺度的材料转换：多种材料的直接热诱导修饰（相变、化学反应… … ）新型号：NanoFrazor Scholar — 小面积直写■ 3D纳米直写能力 高直写精度 (XY: 高可达20nm, Z: 3nm) 高速直写 0.5 mm/s■ 无需显影，实时观察直写效果 形貌感知灵敏度0.1nm 样品无需标记识别，多结构套刻，对准精度 50 nm ■ 无临近效应 高分辨，高密度纳米结构 ■ 无电子/离子损伤 高性能二维材料器件■ 区域热加工和化学反应 多元化纳米结构改性■ 小样品台 30mm X 30mm应用案例三维光子分子（3D PHOTONIC MOLECULES）(Courtesy of IBM Research Zurich, publication in 2018)单电子器件Courtesy of IBM Research Zurich, publication in 2018基于二维原子晶体的器件(Courtesy of Prof. Elisa Riedo, NYU)基于准一维纳米材料的纳米器件(Courtesy of S. Karg & A. Knoll, IBM Research – Zurich)基于布朗马达的纳米器件，可用于纳米颗粒分类(Courtesy of IBM Research, Publications in Science and PRL 2018) 国内外客户已发表的文献● Wolf (JVST B 2015) Sub20nm Liftoff and Si Etch and InAs nanowire contacts● Garcia (Nat Nano 2014) Advanced scanning probe lithography● Rawlings (IEEE Nano 2014) Nanometer accurate markerless pattern overlay using thermal Scanning Probe Lithography● Holzner (SPIE EMLC 2013) Thermal Probe Nanolithography● Cheong (Nanoletters 2013) Thermal Probe Maskless Lithography for 27.5 nm Half-Pitch Si Technology● Fei Ding (PhysRevB 2013) Vertical microcavities with high Q and strong lateral mode confinement● Carrol (Langmuir 2013) Fabricating Nanoscale Chemical Gradients with ThermoChemical NanoLithography● Paul (Nanotechnology 2012) Field stitching in thermal probe lithography by means of surface roughness correlation● Kim (Advance Mat 2011) Direct Fabrication of Arbitrary-Shaped Ferroelectric Nanostructures on Plastic, Glass, and Silicon Substrates● Holzner (APL 2011) High density multi-level recording for archival data preservation● Holzner (Nanoletters 2011) Directed placement of gold nanorods using a removable template● Paul (Nanotechnology 2011) Rapid turnaround scanning probe nanolithography● Wang (Adv Funct Mat 2010) Thermochemical Nanolithography of Multifunctional Nanotemplates for Assembling Nano-Objects● Wei and King (Science 2010)Nanoscale Tunable Reduction of Graphene Oxide for Graphene Electronics● Pires (Science 2010) Nanoscale 3DPatterning of Molecular Resists by Scanning Probes● Knoll (Adv Materials 2010) Probe-Based 3-D Nanolithography Using SAD Polymers● Fenwick (Nat Nano 2009) Thermochemical nanopatterning of organic semiconductors● Lee (Nanoletters 2009) Maskless Nanoscale Writing of Nanoparticle-Polymer Composites and Nanoparticle Assemblies using Thermal Nanoprobes● Nelson (APL 2006) Direct deposition of continuous metal nanostructures by thermal dip-pe

高分子材料水分检测仪,高分子材料含水率测定仪 冠亚牌SFY-118D高精度高分子材料水分检测仪,高分子材料含水率测定仪结果可以传统烘箱法达到一致，只需要几分钟检测时间，检测过程是全自动的，检测结束直接读取水分值，高效、快速、便捷！是高分子材料生产加工企业的！在高分子材料生产过程中，如果使用水分含量过多的高分子材料进行生产，则会产生一些加工问题，并终影响成品质量，如：表面开裂、反光，以及抗冲击性能和拉伸强度等机械性能降低等。因此，水分含量的控制对于生产高质量的高分子材料产品是**关重要的。高分子材料水分测定仪生产厂家《冠亚牌》快速水分测定仪是由深圳市冠亚公司研发并生产，该仪器具有温度设定、微调温度补偿及自动控制等功能, 采用目前国际通用的热解原理研制而成的新一代卤素线快速水分测定仪器。高分子材料水分测定仪引进进口自动称重显示系统，人性化系统操作, 无需特殊培训，自动校准功能、自动测试模式，取样、干燥、测定一机化操作。高分子材料水分检测仪,高分子材料含水率测定仪特点：● 准确测量样品内低**10ppm的水分● 减少不必要的干燥时间和电能损耗● 减少注塑机和干燥机的维护成本● 减少废品率● 提高生产效率● 即装即用，一键按式操作● 测试结果与国际公认的烘箱法的结果相符● 快速、专业、环保高分子材料水分检测仪,高分子材料含水率测定仪技术参数：1、称重范围：0-90g★★可调试测试空间为3cm2、水分测定范围：0.01-** 3、称重小读数：0.001g★★JK称重系统传感器 4、样品质量：0.5-90g 5、加热温度范围：起始-205℃★★加热方式：可变混合式加热★★微调自动补偿温度15℃ 6、水分含量可读性：0.01% 7、显示参数：7种★★红色数码管独立显示模式 8、双重通讯接口：RS 232（打印机） RS 232（计算机） 9、外型尺寸：380×205×325(mm) 10、电源：220V±10% 11、频率：50Hz±1Hz 12、净重：3.7Kg

PEEK高分子复合密封托辊|PEEK托辊|高分子托辊山东邹城市劳思模具制造有限公司PEEK托辊1. 外筒采用模压工艺，带有耐磨花纹，工作中花纹磨损消失 ，提示托辊已接近极限寿命，需要更换；花纹阻力还可以起纠偏作用。2. 模压工艺解决目前市场普遍采用的挤出工艺管材制作的外筒密度不高，壁厚不均匀，弯曲等缺陷。3. PEEK原料中加入柔韧性耐磨材料，既增加韧性又能提高耐磨性能，不磨损输送带，避免某些厂家为使托辊耐磨，原料中添加硬质颗粒，撕咬运输带的情况。4. 管筒内部中间支撑环向两边延出加强筋与外部加强环构成网状结构，增加承载重量，减轻自身重量，节能降耗。5. 尺寸精度高，复合密封效果好，免维护；组装无需加工，降低成本。

日本理学Rigaku nano3DX是一款真正的X射线显微镜（XRM），能够以高分辨率测量相对较大样品的3D计算机断层扫描（CT）图像，这是通过使用高功率旋转阳极X射线源和高分辨率探测器来实现的。nano3DX允许通过改变X射线波长来增强对比度或穿透力，拓展了可检测样品的类型，包括那些具有低吸收对比度的样品（例如CFRP）、或更密集的材料（如陶瓷复合材料），因此，nano3DX扩展了无损成像的范围，使研究中至关重要的灵活性和洞察力有了重大突破。nano3DX特征◆ 高功率旋转阳极X射线源◆ 多种靶材可供选择(Cr，Cu和Mo)，可得到不同波长的特征X射线，以优化不同样品基质的成像◆ 光学耦合高分辨率探测系统，多种物镜可供选择◆ 快速数据采集，源自于高亮度的X射线源和高分辨率探测系统，速度比同类产品快3倍以上◆ 低Z材料的高对比度，实现了优于0.13g/cm3的密度分辨率◆ 支持原位实验◆ 高分辨率：空间分辨率优于400nm（特殊定制可达100nm）◆ 宽视野：采用相同分辨率和扫描时间，FOV比同类系统大5倍以上nano3DX典型应用日本理学nano3DX适用于逆向工程、产品研究、失效分析、高可靠筛选、质量评价、改进工艺等无损检测和评估工作。常用于各类材料(如合成材料、陶瓷复合材料等)、电子半导体元器件、地矿标本、仿生材料、生化物质等的计算机断层扫描成像，现已广泛应用于以下领域：◆ 材料学：结构材料、复合材料的微观特性分析，探讨/解析样品内部结构l金属材料、合金/铸造：航空航天， 精密制造， 半导体零部件l复合材料l高分子材料/聚合物：纤维材料， 发泡材料， 橡胶， 树脂， 高分子聚合物◆ 工程材料：建筑材料内部孔隙度、连通度和渗透性分析◆ 储能设备：质量控制、新产品开发的结构试验、失效分析等◆ 农牧业：动植物组织，木材和农产品（如种子）的质检和分析◆ 古生物学和考古学：种系鉴定、化石的结构分析，文物保护和修复◆ 地质：矿物勘察、地质分布、油气藏开发等 ◆ 半导体：元器件的结构分析应用案例：CFRP材料曾被认为很难通过X射线成像分析。由于nano3DX具有0.13g/cm3的密度分辨率，可以清晰的区分CFRP中碳纤维、环氧树脂和材料孔隙的显微结构，以三维形式观察，并可测量空隙数量、体积和方向。碳纤维增强聚合物(CFRP)。图像为1.8mm×1.8mm×1.4mm，体积由3300× 3300×2500体素表示。在相同的分辨率、时间范围内，单次扫描的测量体积比其他系统大25倍。

一、上海保圣高分子流变仪产品介绍高分子流变仪，即用于测定聚合物熔体，聚合物溶液、悬浮液、乳液、涂料、油墨和食品等流变性质的仪器。分为旋转流变仪、毛细管流变仪、转矩流变仪和界面流变仪。上海保圣高分子流变仪可用于测定聚合物熔体，聚合物溶液、悬浮液、乳液、涂料、油墨和食品等流变性质的仪器。上海保圣高分子流变仪可用于观察高分子材料内部结构的窗口，通过高分子材料，诸如塑料、橡胶、树脂中不同尺度分子链的响应，可以表征高分子材料的分子量和分子量分布，能快速、简便、有效地进行原材料、中间产品和最终产品的质量检测和质量控制。流变性能测量是高聚物的分子量、分子量分布、支化度与加工性能之间构架了一座桥梁，所以它提供了一种直接的联系，帮助用户进行原料检验、加工工艺设计和预测产品性能。二、上海保圣高分子流变仪主要功能及应用范围上海保圣高分子流变仪可应用于食品（液态、固态、凝胶、分散体系）、发酵、化工、医药、纺织、农业等行业的多种检测，适合于蛋白、多糖等大分子亲水胶体材料的流变特性测定，包括任何粘度的流体、软固体、聚合物、凝胶和分散液的流变特性研究。由于食品物料的流变特性与食品的质地稳定性和加工工艺设计等有着重要关系，所以通过对食品、化工材料流变特性的研究，可以了解食品、化工材料的组成、内部结构和分子形态等，能为产品配方、加工工艺、设备选型及质量检测等提供方便和依据。通过流变仪检测，可进行食品、医药的质量监控、食品研发以及食品工程设计。1. 上海保圣高分子流变仪应用于聚合物领域上海保圣高分子流变仪应用于微悬浮法PVC增塑溶胶凝胶化和熔化特性的研究；上海保圣高分子流变仪应用于PVC物料标准流变曲线；上海保圣高分子流变仪应用于聚合物研究，通过记录物料在混合过程中对转子或螺杆产生的反扭矩以及温度随时间的变化,可研究物料在加工过程中的分散性能,流动行为及结构变化(交联,热稳定性等),同时也可作为生产质量控制的有效手段；上海保圣高分子流变仪应用于r-PET/ABS复合材料的制备及其结晶动力学研究；{C}2. {C}{C}上海保圣高分子流变仪应用于食品流域上海保圣高分子流变仪应用于酱料制品流变性能研究；上海保圣高分子流变仪应用于食品配方及工艺研究；上海保圣高分子流变仪应用于在馒头品质分析中的应用浅探；上海保圣高分子流变仪应用于不同链/支比玉米淀粉的形态及其在有/无剪切力下糊化的研究；上海保圣高分子流变仪应用于蕨根淀粉的颗粒形态与糊化特性研究；上海保圣高分子流变仪应用于番茄酱制品的流变特性比较；上海保圣高分子流变仪应用于蓝莓发酵副产物制作低糖果酱的工艺研究；上海保圣高分子流变仪应用于巧克力的粘度测定，用旋转流变仪对巧克力原料进行质量控制；上海保圣高分子流变仪应用于旋转流变仪在油脂研究中的应用。3. 上海保圣高分子流变仪应用于化妆品领域上海保圣高分子流变仪应用于凝胶流变性能研究 上海保圣高分子流变仪应用于乳状液体系流变性能研究 上海保圣高分子流变仪应用于表面活性剂流变性能研究 上海保圣高分子流变仪应用于油包水型乳化化妆品 上海保圣高分子流变仪应用于普鲁兰多糖对牙膏流变学性能影响的初步研究 4. 上海保圣高分子流变仪应用于胶体领域上海保圣高分子流变仪应用于高分子水凝胶材料的流变学研究方法；上海保圣高分子流变仪应用于合成水凝胶的流变学性能及相关生物材料的基础研究；上海保圣高分子流变仪应用于新型天然高分子多糖智能水凝胶生物材料的制备及性能研究；上海保圣高分子流变仪应用于天然蚕丝丝素蛋白在不同油/水界面的粘弹性和稳定性研究。{C}5. {C}{C}上海保圣高分子流变仪应用于石油领域 上海保圣高分子流变仪应用于石油钻井泥浆检测中的应用； 上海保圣高分子流变仪应用于生物降解材料流变性能的研究； 上海保圣高分子流变仪应用于沥青性能评价方面的应用； 上海保圣高分子流变仪应用于含蜡原油触变性实验； 上海保圣高分子流变仪应用于胶质液体泡沫的流变性； 上海保圣高分子流变仪应用于低温凝胶类调堵剂溶液的流变性。

请选择合适的型号NX-B100多功能整片基板纳米压印系统（热压印）zui大75毫米直径压印面积 热压印加热速度200℃/分钟 制冷速度60℃/分钟NX-B200多功能整片基板纳米压印系统（热压印和紫外压印）zui大75毫米直径压印面积 热压印和紫外压印加热速度200℃/分钟 制冷速度60℃/分钟58mW/cm2紫外LED光源；365纳米或395纳米波长可选；全自动化控制NX-1000多功能整片基板纳米压印系统（热压印）标配4英寸,6或8英寸压印面积可选 热压印 加热速度300℃/分钟 制冷速度150℃/分钟NX-2000多功能整片基板纳米压印系统（热压印和紫外压印）标配4英寸,6或8英寸压印面积可选 热压印和紫外压印加热速度300℃/分钟 制冷速度150℃/分钟200W窄带紫外光源；365纳米或395纳米波长可选；全自动化控制NX-2500多功能整片基板带对准功能多层次的纳米压印系统标配4英寸,6或8英寸压印面积可选热压印和紫外压印加热速度300℃/分钟 制冷速度150℃/分钟200W窄带紫外光源；365纳米或395纳米波长可选；全自动化控制带对准功能（亚1微米对准精度） 多层次的纳米压印对准模块 1μm 3σ对准准确率 X, Y, Z, Theta平台分场光学和CCD相机NX-2600多功能整片基板带对准功能多层次的纳米压印和高分辨率光刻系统可选背面对准标配4英寸,6或8英寸压印面积可选热压印和紫外压印加热速度300℃/分钟 制冷速度150℃/分钟200W窄带紫外光源；365纳米或395纳米波长可选；全自动化控制带对准功能（亚1微米对准精度） 多层次的纳米压印对准模块 1μm 3σ对准准确率 X, Y, Z, Theta平台分场光学和CCD相机标配5”模板,标配4”直径基板 ? 其他尺寸可以提供500瓦紫外水银灯光源

FT-NMT04纳米力学测试系统是一种多功能的原位SEM/FIB纳米压痕仪，能够在微米和纳米尺度上准确量化材料的力学行为。 FT-NMT04原位纳米压痕仪针对金属、陶瓷、薄膜以及超材料和MEMS等微观结构的机械测试进行了优化。此外，通过使用各种附件，FT-NMT04的功能可以扩展到各个研究领域的各种要求。 典型应用包括通过微柱的压缩测试或狗骨试样、薄膜或纳米线的拉伸测试来量化塑性变形机制。典型应用包括通过微柱的压缩测试或狗骨试样、薄膜或纳米线的拉伸测试来量化塑性变形机制。此外，在压缩测试期间进行连续刚度测量，可以在微梁断裂测试期间量化裂纹扩展和断裂韧性。由于 FT-NMT04 分别具有 500 pN 和 50 pm 的无可比拟的低本底噪声，因此可实现具有无可比拟的可重复性的浅纳米压痕，以及纳米压痕与 EBSD 成像的前所未有的相关性。

NX-2600整片基板带对准可多层次纳米压印加高分辨率光刻系统经过了大量的实时实地验证，质量可靠，性能优越稳定。具备全部压印模式：热固化、紫外固化和压印。基于独特专利保护的Nanonex气垫软压技术（ACP），不论模版或基板背面粗糙程度如何，或是模版或基板表面波浪和弧形结构，NX-2600均可对其校正补偿从而获得无与伦比的压印均匀性， ACP消除了基板与模版之间侧向偏移，有效地延长了模版使用寿命。通过微小热容设计可获得快速的热压印周期，最终得到快速的工艺循环。 主要特点：所有形式的纳米压印l 热塑化l 紫外固化l 热压与紫外压印同时进行l 热固化 气垫软压技术(ACP)l Nanonex专利技术l 完美的整片基板纳米压印均匀性l 高通量 低于10nm分辨率 亚1微米正面对准精度 背面对准可选项 快速工艺循环时间（小于60秒） 灵活性l 4″, 6″, or 8″压印面积可选l 各种尺寸及不规则形状模板与基板均可压印l 方便用户操作 基于超过12年、15代产品开发经验的自动化压印操作 Nanonex压印系统经过大量实时实地验证，质量可靠，性能优越稳定 全自动纳米压印 纳米压印系统参数 热塑压印模块 l 温度范围0～250℃l 加热速度300℃/分钟 l 制冷速度150℃/分钟 l 压力范围0 ～ 3.8 MPa（550 psi） 紫外固化模块 l 200W窄带紫外光源 l 365纳米或395纳米波长可选 l 全自动化控制 对准模块 l X, Y, Z, Theta平台 l 分场光学和CCD相机 基板装载 l 标配纳米压印系统可装载4″基板 l 6″和8″基板可选 l 各种尺寸及不规则形状模板及基板均可压印 l 独特专利保护ACP技术可最大限度保护基板和模板，特别对于象磷化铟（InP）等极易碎模板和基板给予最大限度保护。 光刻 l 标配5”模板，标配4”直径基板 l 其他尺寸可以提供 l 500瓦紫外水银灯光源 应用领域：纳米电子和光电子、显示器、数据存储介质、先进材料、生物科技、纳米流道等

高分子扩散焊机，提供技术和工艺支持。热情欢迎各界人士垂询洽谈高分子扩散焊机采用打破常规焊机的焊接技术方法，在设计和效果上潜心研发，经过数百次的试验，现已量产上市.专注动力电池软连接生产设备的研发，以成为“新能源汽车软连接行业可靠的设备供应商”为格言，为广大客户提供性能稳定，高精密的生产设备。高分子扩散焊是在一定温度和压力下将种待焊物质的焊接表面相互接触，通过微观塑性变形或通过焊接面产生微量液相而扩大待焊表面的物理接触，再经较长时间的原子相互间的不断扩散，相互渗透，来实现冶金结合的一种焊接方法

分馏法原液高分辨纳米粒度仪毛细管流体分离（CHDF）技术是种高分辨的粒度分布（PSD）检测技术。毛细管流体分离技术（CHDF）用于测量粒径在5nm-3μm 范围内胶体的粒度分布（PSD）。毛细管流体分离(CHDF)技术是以洗脱液或载体流体在毛细管中携带颗粒顺流而下的形式发生的。大颗粒先于小颗粒退出分离毛细管。颗粒分离是由于洗脱物抛物线速度剖面(层流)、在毛细管内颗粒的尺寸排斥和胶体力的共同作用而发生的。 1)CHDF4000是基于光散原理的设备，使用新的技术对高分辨率的粒度分布(PSD)进行测量，包括高粒子检测灵敏度、动态范围、纳米粒子的优化分析； 2)CHDF4000可提供完整范围5纳米至NM3微米，真实的PSD数据； 3)通过粒子分离真正的PSD数据，关于粒子大小分布的形状不需要假设； 4)根据颗粒密度分析—得出准确的粒子分类，包括纳米粒度； 5)自动化操作，通过个人性化界面即可完成全部操作； 主要优势： 1) 高精度颗粒分布； 2) 高灵敏度探测； 3)纳米别颗粒度分析； 4)高的可靠性； 5)操作简便； 6)在质量控/研发/在线控制方面均可应用； 7)由于其新的紫外检测，具有好的粒子检测灵敏度； 8)平台，采用锥形检测流动池； 9)高的检测动态范围，可检测出微量的粒子； 10)泵送系统性能高； 11)连续监测/控制所有的测量数据； 12)紫外检测器； 13)自动取样器； 14)样品用量小（不到1ml），分析时间10分钟；分馏法原液高分辨纳米粒度仪 技术参数： 1)样品瓶数量：72； 2)样品瓶尺寸：12mm，2ml； 3)每小瓶注射次数：每个样品低可以重复运行15次，数据可以自动保存和打印； 4)自动样品混合：在分析之样品(200μL)被吸入到瓶中4次用于样品混 合，也为了防止粒子沉降； 5)单独标记瓶：12ml； 6)单独针冲洗瓶：12ml用于自动针浸渍(进入水或表面活性剂溶液)保持针外表面清洁； 7)注射器体积：250 μL； 8)精度：小于+/- 0.5% RSD； 9)阀门：Valco Cheminert C3阀门，带有25 μL圈； 10)防潮材质：聚四氟乙烯，316不锈钢； 11)尺寸：24 x 59 x 52 cm (W x D x H)； 12)净重：42kg

美国MAS原液高分辨纳米粒度仪新的 CHDF 3000 提供： 高分辨率粒度分布（PSD）测量新的技术，包括颗粒检测高灵 敏度、动态范围和纳米颗粒优化分析。粒子分馏的真实 PSD 数据。无需对粒径分布的形状进行假设。精确非均匀样品分析—包括纳 米颗粒—归功于其与颗粒密度无关的分析。自动/无人操作。所有组件都在一个简易单一窗口界面控制和操作。美国MAS应用科学公司的新 CHDF3000 系统，在高分辨率粒度分布（PSD）分析方面有卓著新的进展。CHDF3000 使用毛细管流体动力分馏（CHDF）技术按大小分离颗粒。架构于光散射仪器、主要提供平均粒径数据—任何平均粒径都可由无限多的 PSD 产生（见下文）。相反，CHDF3000在 5 纳米到 3 微米范围内提供完整、真实、详细的 PSD 数据。接下来将介绍CHDF3000 的一些优势亮点。 美国MAS原液高分辨纳米粒度仪优势毛细流体动力分馏：详细 PSD 数据、广泛多样 PSD 准确报告 宽动态范围检测：在主要粒子群中，对次要粒子群进行大动态范围检测 可靠性较高和简易操作：质量控制/研发/在线使用 全面的粒度分布数据报告连续监测/控制所有测量数据：与泵、紫外线检测器和自动采样器串联占地面积小 其他1. 自动取样器/无人值守分析2. 样品量： 10%的高分辨率能力3. 适用于非均匀成分样品、独立颗粒密度4. 样品量： 1 ml (v)5. 10 分钟

产品信息Micro Materials 产品纳米力学综合性能测试系统NanoTest Xtreme可以实现真空环境下的纳米力学测试！ 为了更加准确、可靠地预测材料的性质，研究学者们对测试条件模拟真实环境程度的要求越来越高。Micro Materials 公司的NanoTest Vantage 产品可以提供最全面的纳米力学测试功能。现在Micro Materials 公司的最新产品NanoTest Xtreme 可以实现真空环境下-40℃至1000℃这一温度范围内的纳米级力学测试， 并且没有氧化和结霜的影响。自1988年以来，我们一直处于纳米力学创新的前沿： ► 第一个商用高温纳米压痕平台 ► 第一台商用纳米冲击测试仪器 ► 第一个商用液体池 ► 第一台用于高真空、高温纳米力学的商用仪器更适合以下极端环境条件的研究：1、 航空发动机部件的高温 2、 用于高速加工的工具涂层 3、 电站蒸汽管的高温4、核反应堆覆层中的辐射效应 5、低温对油气管道焊缝修复的影响 NanoTest Xtreme 特点：a、500 mN加载头在真空下最高测试温度：1000°Cb、30 N加载头在真空下的最高测试温度：800°C c、真空下的最低测试温度：-40°C d、极限真空度：10-7 mbar e、与真空下所有标准纳米测试技术兼容（纳米压痕、纳米划痕、纳米磨损、纳米冲击、纳米微动） f、可选配第二个加载头，最大负载从500mN增加到30 N g、填充功能可在非空气环境中进行测试 h、高分辨率光学显微镜 i、可选配在整个温度范围内均可使用的SPM 成像/纳米定位平台 NanoTest Xtreme 优点：1、 将高温能力扩展到1000°C，超出NanoTest Vantage提供的850°C 2、 将低温能力提高至-40°C，且无样品结霜 3、超低的热漂移归因于与NanoTestVantage相同的仪器设计原理 4、 完整的纳米力学测试(例如压痕、划痕、磨损、摩擦、冲击) 5、能够填充气体以匹配材料操作环境参数指标1、加载框架 高度抛光的铝，用于快速脱气 加载应用：电磁 标准压头最大负载 500 mN 最大负载，可选高负载头 30 N 位移传感器 ：电容式 负载分辩率 3 nN 位移分辨率 0.002 nm 重新定位精度 0.4 µ m 样品处理 ：手动控制，网格压痕，特定位置选择，多个同时安装的样本 热漂移 0.005 nm/s 符合标准 ：符合ISO 14577和ASTM 2546标准 2、高温平台 最高温度 1000 º C 压头尖端加热 ：是 可测试样本区 16 mm x 16 mm 温度控制 ：反馈和恒定功率 温度精度 0.1 º C 3、低温平台 最低温度 -40 º C 4、SPM纳米定位平台 扫描范围 100 µ m x 100 µ m X Y定位精度 2 nm 5、真空 工作模式 ：真空或气体吹扫 真空度 ：极限10-7 (标准10-6 )mbar 6、选件 纳米划痕，纳米磨损，纳米冲击，动态硬度 应用NanoTest&trade Xtreme可以广泛应用于：航空航天、汽车工业、半导体、生物医学、MEMS、高分子、薄膜和涂层，以及太阳能/燃料电池等。

基于改装SEM纳米图形电子束曝光机NPGS V9.2仪器简介：在过去的几年中，半导体器件和IC生产等微电子技术已发展到深亚微米阶段及纳米阶段。为了 追求晶片更高的运算速度与更高的效能，三十多年 来，半导体产业遵循著摩尔定律 （Moore’s Law）：每十八个月单一晶片上电晶体的数量倍增，持续地朝微小化努力 。为继续摩尔定律 ，在此期间，与微电子领域相关的微/纳加工技术得到了飞速发展，科学家提出各种解决方案如：图形曝光（光刻）技术、材料刻蚀技术、薄膜生成技术等。其中，图形曝光技术（微影术）是微电子制造技术发展的主要推动者，正是由于曝光图形的分辨率和套刻精度的不断提高，促使集成电路集成度不断提高和制备成本持续降低。 电子束曝光系统（electron beam lithography, EBL）是一种利用电子束在工件面上扫描直接产生图形的装置。由于SEM、STEM及FIB的工作方式与电子束曝光机十分相近，美国JC Nabity Lithography Systems公司成功研发了基于改造商品SEM、STEM或FIB的电子束曝光装置（Nanometer Pattern Generation System纳米图形发生系统，简称NPGS，又称电子束微影系统）。电子束曝光技术具有可直接刻画精细图案的优点，且高能电子束的波长短（ 1 nm），可避免绕射效应的困扰，是实验室制作微小纳米电子元件非常好的选择。相对于购买昂贵的专用电子束曝光机台，以既有的SEM等为基础，外加电子束控制系统，透过电脑介面控制电子显微镜中电子束之矢量扫描，以进行 直接刻画图案，在造价方面可大幅节省 ，且兼具原SEM 的观测功能，在功能与价格方面均具有优势。由于其具有高分辨率以及低成本等特点，在北美研究机构中，JC Nabity的NPGS是非常热销的配套于扫描电镜的电子束微影曝光系统，而且它的应用在世界各地越来越广泛。 NPGS的技术目标是提供一个功能强大的多样化简易操作系统，结合使用市面上已有的扫描电镜、扫描透射电镜或聚焦离子束装置，用来实现艺术级的电子束或离子束平版印刷技术。NPGS能成功满足这个目的，得到了当前众多用户的强烈推荐和一致肯定。 应用简述 基于改装SEM纳米图形电子束曝光机NPGS V9.2能够制备出具有高深宽比的微细结构纳米线条，从而为微电子领域如高精度掩模制作、微机电器件制造、新型IC研发等相关的微/纳加工技术提供了新的方法。NPGS系统作为制作纳米尺度的微小结构与电子元件的技术平台，以此为基础可与各种制程技术与应用结合。应用范围和领域取决于客户的现有资源，例如： NPGS电子束曝光系统可与等离子应用技术做非常有效的整合，进行 各项等离子制程应用的开发研究，简述如下： (一) 半导体元件制程 等离子制程已广泛应用于当前半导体元件制程，可视为电子束微影曝光技术的下游工程。例如： (1) 等离子刻蚀（plasma etching） (2) 等离子气相薄膜沉积（plasma-enhanced chemical vapor deposition, PECVD） (3) 溅镀（sputtering） (二) 微机电元件制程（Semiconductor Processing） 微机电元件在制程上与传统半导体元件制作有其差异性。就等离子相关制程而言，深刻蚀（deep etching）是主要的应用，其目标往往是完成深宽比达到102 等级的深沟刻蚀或晶圆穿透刻蚀。而为达成高深宽比，深刻蚀采用二种气体等离子交替的过程。刻蚀完成后可轻易 以氧等离子去除侧壁覆盖之高分子。在微机电元件制作上，深刻蚀可与电子束微影曝光技术密切 结合。电子束微影曝光技术在图案设计上之自由度 十分符合复杂多变化的微机电元件构图。一旦完成图案定义，将转由深刻蚀技术将图案转移到晶圆基板。技术参数：型号：NPGS V9.2最细线宽（μm）：根据SEM 最小束斑（μm）：根据SEM 扫描场：可调 加速电压：根据SEM，一般为0-40kV 速度：5MHzA. 硬件： 微影控制介面卡：NPGS PCIe-516A High Speed Lithography Board，high resolution (0.25%) 控制电脑：DELL或类似品牌主流配置电脑工作站皮可安培计：KEITHLEY 6485 Picoammeter B. 软件： 微影控制软件 NPGS V9.2 for Windows10图案设计软件 QCAD for Windows主要特点：技术描述： 为满足纳米级电子束曝光要求，JC Nabity出品的NPGS系统设计了一个纳米图形发生器和数模转换电路，并采用PC机控制。PC机通过图形发生器和数模转换电路去驱动SEM等仪器的扫描线圈，从而使电子束偏转并控制束闸的通断。通过NPGS可以对标准样片进行图像采集以及扫描场的校正。配合精密定位的工件台，还可以实现曝光场的拼接和套刻。利用配套软件也可以新建或导入多种通用格式的曝光图形。 (一) 电子源（Electron Source） 曝照所需电子束是由既有的SEM、STEM或FIB产生的电子束（离子束）提供。 (二) 电子束扫描控制（Beam Scanning Control） 电子射出后，受数千乃至数万伏特之加速电压驱动沿显微镜中轴向下移动，并受中轴周围磁透镜（magnetic lens）作用形成聚焦电子束而对样本表面进行 扫描与图案刻画。扫描方式可分为循序扫描（raster scan）与矢量扫描（vector scan）。 循序扫描是控制电子束在既定的扫描范围内进行 逐点逐行 的扫描，扫描的点距与行 距由程式控制，而当扫描到有微影图案的区域时，电子束开启进行 曝光，而当扫描到无图案区域时，电子束被阻断；矢量扫描则是直接将电子束移动到扫描范围内有图案的区域后开启电子束进行 曝光，所需时间较少。 扫描过程中，电子束的开启与阻断是由电子束阻断器（beam blanker）所控制。电子束阻断器通常安装在磁透镜组上方，其功效为产生一大偏转磁场使电子束完全偏离中轴而无法到达样本。 (三) 阻剂（光阻） 阻剂（resist）是转移电子束曝照图案的媒介。阻剂通常是以薄膜形式均匀覆盖于基材表面。高能电子束的照射会改变阻剂材料 的特性，再经过显影（development）后，曝照（负阻剂）或未曝照（正阻剂）的区域将会留 在基材表面，显出所设计的微影图案，而后续的制程将可进一步将此图案转移到阻剂以下的基材中。 PMMA（poly-methyl methacrylate）是电子束微影中非常常用的正阻剂，是由单体甲基丙烯酸甲酯（methyl methacrylate, MMA）经聚合反应而成。用在电子阻剂的PMMA 通常分子量在数万至数十万之间，受电子束照射的区域PMMA 分子量将变成数百至数千，在显影时低分子量与高分子量PMMA 溶解度 的对比非常大。 负阻剂方面，多半由聚合物的单体构成。在电子束曝照的过程中会产生聚合反应形成长链或交叉链结（crosslinking）聚合物，所产生的聚合物较不 易 被显影液溶解因而在显影后会留 在基板表面形成微影图案。目前常用的负阻剂为化学倍增式阻剂（chemically amplified resist），经电子束曝照后产生氢离子催化链结反应，具有高解析度 、高感度 ，且抗蚀刻性高。 (四) 基本工序 电子束微影曝光技术的基本工序与光微影曝光技术相似，从上阻、曝照到显影，各步骤的参数（如温度 、时间等等）均有赖于使用者视需要进行 校对与调整。

高分辨率微纳米工业CT EasyTom / 产品概述测试特性：尺寸测量、材料表征、缺陷分析、内部结构无损检测适用领域：工业零部件可以对工件进行高分辨率内部可视化和测量分析，可搭载拉伸、压缩、弯曲和温度测试的原位装置，铅窗口支持设置和扫描期间直接查看样品，扫描体积为直径320mm、高530mm，分辨率高达0.4μm，微米管＆纳米管的双射线源结构，适合中等尺寸零件。高分辨率微纳米工业CT EasyTom / 产品特点实时高分辨率2D数字射线成像提供微米或纳米版以及组合版体素分辨率低至350m/体素检测体积大(直径x高度:320mmx420mm)7可编程自动控制循环可进行原位微CT铝/钢结构和X射线联锁装置，设计符合X射线规定开放式综合系统，具有可编程自动控制循环技术规格机械微米纳米轴数77zui大SDD3910 mm780 mm扫描体积Ø 320×530mmØ 320×300mmzui大样品重量30kg20kg设备重量3300kg2500kg外部尺寸2200×1114×2000mm(W×D×H)2200×1114×2000mm(W×D×H)平板探测器（选配）像素矩阵1920x1536；像素间距127 µ m；尺寸25×20 cm像素矩阵2048x2560；像素间距124 µ m；尺寸32×25 cm像素矩阵3072x3072；像素间距139 µ m；尺寸43×43 cm相机探测器（选配像素矩阵4008x2672；像素间距9 µ m；尺寸36×24 mmX射线管（选配）封闭管：zui大电压130微米；zui大功率39W；zui大分辨率5µ m封闭管：zui大电压150微米；zui大功率75W；zui大分辨率5µ m开放管：zui大电压230微米；zui大功率200W；zui大分辨率2µ m/4µ m开放管：zui大电压300微米；zui大功率200W；zui大分辨率4µ m开放管：zui大电压160微米；zui大功率16W；zui大分辨率0.4µ m

金属纳米颗粒制备 金纳米材料具有众多易于调控的特性，比如局域表面等离子共振、表面增强拉曼、光致发光、易于表面修饰和生物相容性好。这使得金纳米材料广泛应用于我们生活的多个方面。合成金纳米颗粒常用的制备方法有很多，其中，直接FSP火焰喷雾燃烧法生长法应用广泛。金属纳米颗粒制备采用火焰喷雾热解工艺，受益于极短的工艺链使复杂纳米颗粒的生产只需一步。纳米粉末生产FSP通常生产高结晶氧化纳米颗粒。但合成了磷酸盐、纯金属。根据工艺条件。颗粒的典型尺寸范围 5 ~ 50nm。这些初级粒子形成较大的团聚体。 纳米产品的例子包括简单的金属氧化物TiO2Al2O3 ZrO2以及YSZ CGO 钙 矿或尖晶石复杂氧化物。此外：贵金属纳米颗粒可以制造沉积在火焰中的氧化物支持颗粒上于某些组合物。可以制备表面包覆或基质化的纳米颗粒。 FSP纳米颗粒的应用包括:催化剂电池材料陶瓷牙科 生物医学材料体传感器聚合物纳米复合材料陶瓷.... 原材料FSP的源材料是低成本的金属化合物酸盐、硝酸盐或有机金属。这些所谓的前体是混合或溶解在标准有机溶剂。同心甲氧支持火焰、燃前驱溶剂喷雾，并确保稳定燃烧还可以使用可选的护套体。 NPS-20是一种用于纳米颗粒合成的全集成化桌面式火焰喷雾热解装置。应用于研究早期产品开发阶段。NPS-20设计用于快速筛选FSP合成中可用的材料组成 工艺条件的大量参数加速纳米材料的科学发展。纳米颗粒制备仪主要特点：1产品纯度高，粒径小，分布均匀，比表面积大，高表面活性，松装密度低，气相法制备，克服了市场上湿化学法制备的颗粒硬团聚、难分散、纯度低等缺点；2表面存在大量的不饱和残键及不同键合状态的羟基，因表面欠氧而偏离了稳定的硅氧结构，所以具有高反应活性，粉体松装密度比较小，容易分散使用；3纳米颗粒晶相稳定、硬度高、尺寸稳定性好，可应用于各种塑料、橡胶、陶瓷产品的补强增韧，特别是提高陶瓷的致密性、光洁度、冷热疲劳性、断裂韧性、抗蠕变性能和高分子材料产品的耐磨性能尤为。由于颗粒也是性能优异的远红外发射材料，作为远红外发射和保温材料被应用于化纤产品和高压钠灯中。4公司可以进行针对性的表面处理包裹，使得纳米粉体可以稳定地分散在溶剂体系中，形成透明状或半透明状溶胶，应用在涂料、玻璃表面、电子封装等

产品简介MML公司的纳米力学性能测试系统NanoTest&trade Vantage可以提供新型材料和特种材料开发和优化的大量信息。是世界上最灵活、功能最强大的纳米力学测试系统。它可以为用户提供高精度的纳米压痕测试，同时提供相关的全面综合测试：如纳米划痕和磨损测试、纳米冲击和疲劳测试、以及在高温、液体环境中的测试。这些纳米水平上的测试可以为我们提供材料表面局部的定量信息，数据可靠、测试省时。这些因数使得NanoTest&trade Vantage在世界范围内成为大学、工业实验室和标准机构中很多表征和优化项目的最关键设备。自1988年以来，我们一直走在纳米力学创新的前沿： ► 第一个商用高温纳米压痕平台 ► 第一台商用纳米冲击试验机 ► 第一个商用液体池 ► 第一台用于高真空、高温纳米力学的商用仪器产品优势：► 无与伦比的技术多样性 无纳米压痕，纳米划痕，纳米冲击，纳米微震动磨损，纳米磨损 ► 高精度的多种载荷纳米（至500mN）和微米（至30N） ► 引领市场的环境兼容能力 引高温（至850°C）、低温（至-20°C）、液体和湿度环境 ► 真正测量多 真 样性动态、静态、电气和多种成像模式技术指标1、加载框架 花岗岩复合材料设计专门用于计量应用 2、加载应用 电磁 标准头最大载荷 500 mN 位移传感器 线性电容 负载分辨率 3 nN 位移分辨率 0.002 nm 重复定位精度 0.4 µ m 可测试区域 50 mm x 100 mm 样品处理 手动控制并点击显微镜图像 热漂移 0.005 nm/s 接触力 1 µ N 显微镜– 4个物镜 x5, x10, x20 和 x40 屏幕放大率 x410, x825, x1650, x3300 隔振 负K，机械被动 压头交换时间 1 min 符合标准 完全符合ISO 14577和ASTM 2546 3、划痕模块 最大摩擦力 250 mN 摩擦载荷分辨率 10 µ m 最大划痕距离 10 mm 划痕速度 100 nm/s 至 0.1 mm/s 4、冲击模块 加速距离 高达20 µ m 接触应变率 高达104 s-1 微动磨损模块 轨道长度 ≤20 µ m 频率 ≤20 Hz 最大磨损次数 10 5、SPM纳米定位平台 XY扫描范围 100 µ m x 100 µ m Z扫描范围 20 μm 定位精度 ≤2 nm 闭环线性 99.97% 6、AFM XY扫描范围 110 µ m x 110 µ m Z范围 22 µ m 7、高温选项 温度 850 °C 主动，独立的样品和压头加热 是 压头材料 金刚石，氮化硼，蓝宝石 8、高负载头 最大载荷 30 N 摩擦载荷分辨率 300 μN 应用范围航空航天、汽车工业、半导体、生物医学、MEMS、高分子、薄膜和涂层，以及太阳能/燃料电池等

高分辨率微纳米工业CT EasyTom XL / 产品概述测试特性：尺寸测量、材料表征、缺陷分析、内部结构无损检测适用领域：工业零部件可以对工件进行高分辨率内部可视化和测量分析，160KV＆微米焦点230KV双射线源的步入式机柜设计，可搭载拉伸、压缩、弯曲和温度测试的原位装置，扫描体积为直径600mm、高度720mm，分辨率低至0.4μm，适合大尺寸零件。高分辨率微纳米工业CT EasyTom XL / 产品特点实时高分辨率2D数字射线成像提供微米版或纳米版以及组合版体素分辨率低至350mm/体素功能多样，适用于各种各样的应用和产品分析检测体积大(直径x高度:320mmx720mm)可进行原位微CT可编程自动控制循环铅/钢结构和X射线联锁装置，设计符合X射线规定开放式综合系统，具有可编程自动控制循环技术规格轴数4zui大SDD610 mm扫描体积Ø 180×400mmzui大样品重量5kg设备重量1020kg射线源数量1个外部尺寸1430×900×1870mm(W×D×H)辐射安全高级的 X 射线屏蔽柜集成保护（设备表面任何地方的辐射量0.5µ Sv/ 小时）软件所有设备都由 RX Solutions 自有的 X-Act 软件控制机械系统高级光学蜂窝面包板结构，确保了 CT 扫描的稳定性花岗岩底座，确保温度稳定性和良好的阻尼性能平板探测器（选配）像素矩阵1920x1536；像素间距127 µ m；尺寸25×20 cm像素矩阵2048x2560；像素间距124 µ m；尺寸32×25 cm相机探测器（选配）像素矩阵4008x2672；像素间距9 µ m；尺寸36×24 mmX射线管（选配）封闭管：zui大电压110微米；zui大功率16W；zui大分辨率2µ m封闭管：zui大电压130微米；zui大功率39W；zui大分辨率5µ m封闭管：zui大电压150微米；zui大功率75W；zui大分辨率5µ m

仪器简介：If smallest parts or samples have to be moved or positioned with nanometer precision in the millimetre range, nanopositioning systems with piezo inertial drive are used. Very compact actors with appropriate control units are available for rotational and linear movements. The compatibility to each other allows the assembly of multi-axes combinations for complex movements. All the nanopositioning system have a piezo inertialdrive. With a travel in the millimetre range and steos in the nano meter range or with large adjustment range and steps in the &mu rad range, they are suitable for manifold applications. The basic components of the gonimeter are made of high strength aluminium. Due to a black anodized coating, the surface is protected and reflexion-poor. For the mounting of the nanopositioners, the mounting plate NMP 50is recommend. It is available as a ccessory. In order to operate the nanopositioners,the manual control unit NHS06 has to be used. The complete system is pluggable and ready for connection.技术参数：仪器名称,型号/参数行程最小步长最大步长负载 (N)重复定位精度(双向)倾斜力矩(Mx,My,Mz)(Nm)速度 纳米旋转位移台 NDT 24-30无限旋转角度40 &mu rad100&mu radmax.2 max.0.1max.100mrad/s 纳米旋转位移台 NDT 24-30-MSI无限旋转角度40 &mu rad100&mu radmax.240&mu radmax.0.1max.300mrad/s 纳米角度位移台 NAGO P 24－8± 3.3 度2 &mu rad6 &mu radmax.2 max.0.1 纳米角度位移台 NAGO T 24－8± 4度2 &mu rad6 &mu radmax.2 max.0.1 纳米升降位移台 NHV 24－66mm100nm300nmmax.3 max.0.1 纳米升降位移台 NHV 24－6－MSI6mm50nm700nmmax.3400 nmmax.0.1 纳米线性位移台 NLV 24-77mm200nm300nmmax.2 max.0.1max.0.3mm/s 纳米线性位移台 NLV 24-7-MSI7mm50nm700nmmax.2400nmmax.0.1max.0.7mm/s 纳米线性位移台 PT 30-54.8mm300nm800nmmax.30 max.0.5max.0.8mm/s 纳米线性位移台 PT 30-5-MSI4.8mm100nm2000nmmax.30400nmmax.0.5max.2mm/s 主要特点：&bull high power density on little space &bull 纳米量级或&mu rad量级可调 &bull 停止是无摆动或振荡 &bull 由高强度的铝制成，黑色阳极氧化 &bull with ceramic guide for high life time Option &bull version for use in cacuum