改性氮化钼电极

氮化硅膜主要用于纳米技术研究；支撑强度高，TEM与原子力电镜都可以使用。氮化硅膜极其稳定可以抵抗温度变化上升至1000摄氏度；但是，疏水性，如果需要亲水，建议用刻蚀法：等离子刻蚀，增加电荷。膜厚：100nm、50nm、30nm；孔：1mm×mm 膜粗糙度2nm。型号名称硅框架厚度（μm）窗口尺寸（mm）膜厚（nm）孔厚包装/个产地21505-10氮化硅膜2000.25 x 0.25mm50110美国21500-10氮化硅膜2000.5 x 0.550110美国21502-10氮化硅膜2001.0 x 1.0mm50110美国21525-10氮化硅膜2000.25 x 0.25mm200110美国21522-10氮化硅膜2001.0 x 1.0mm200110美国21524-10氮化硅膜2000.1 x 1.5200210美国21528-10氮化硅膜2000.1 x 1.5200210美国4112SN-BA氮化硅膜2001.0 x 1.0200110SPI4120SN-BA氮化硅膜2000.5 x 0.5200110SPI

立方氮化硼锯片中立方结构的氮化硼晶体结构类似金刚石，其硬度略低于金刚石，为HV72000-98000兆帕，应用于高速切削或磨削，可提高产品质量、加工效率，同时缩短加工周期和降低加工成本。主要特点具有优于金刚石的热稳定性和对铁族金属的化学惰性，适于加工既硬又韧的材料，如高速钢、工具钢、模具钢、轴承钢、镍和钴基合金、冷硬铸铁等，且磨削钢材时，大多可获得高的磨削比和加工表面质量。 技术参数Φ101.6mm×Φ12.7mm×0.35mm、Φ127mm×Φ12.7mm×0.60mm、Φ152.4mm×Φ12.7mm×1.0mm、Φ203.2mm×Φ25.4mm×1.3mm

bruker afm探针氮化硅针尖ScanAsyst利用一种的曲线采集方法和复杂的算法，对图像质量进行持续的监测，并能自动地对参数进行适当的调整。因此无论用户的专业技术水平如何，图像自动优化都能更快获取更*的结果。-可直接控制力的强弱，调到超低力，从而保护易碎样品和针尖不受损坏。实现了悬臂调节的消除，定位调整，获得zui大优化让液态成像变得简单。仅适用于具有Scansyst成像的AFM。其中包含：DimensionIcon,Multimode8,BioscopeCatalyst,BioscopeResolve.【SCANASYST-AIR】brukerafm探针规格几何:旋转对称尖端高度h:2.5-8.0m前角FA:152.5背角BA:252.5侧角SA:17.52.5尖端半径Nom:2nm尖端半径最大:12nm尖端挫折TSBNom:5m尖端回缩TSBRNG:3-7m悬臂规范材料:氮化硅几何:三角悬臂梁数量:1悬臂厚度Nom:0.65m悬臂厚度RNG:0.6-0.7m背面涂层:反光铝

TEM用亲水性/疏水性氮化硅窗口 有需求请联系上海昭沅仪器设备有限公司！ 021-35359028/29技术参数： 亲水性: 低应力氮化硅薄膜上镀有5nm厚度的亲水涂层 疏水性: 低应力氮化硅薄膜上镀有5nm厚度的疏水涂层 表面能：表面表面能 (mJ/m2)标准偏差氮化硅薄膜46.14.3亲水涂层76.12.2疏水图层24.64.4表面粗糙度：表面表面粗糙度 (nm)标准偏差氮化硅薄膜Rq=0.65Ra=0.450.060.02亲水涂层Rq=0.57Ra=0.400.040.03疏水涂层Rq=0.66Ra=0.400.030.05Rq=表面粗糙度 Ra= 平均粗糙度氮化硅薄膜窗规格 窗口类型薄膜厚度窗口尺寸框架尺寸框架厚度50nm单窗口，500x500μmΦ3mm200μm200 nm单窗口，500x500μmΦ3mm200μm15 nm3x3，9窗口，窗口100x100μmΦ3mm200μm 详细资料请咨询：021-35359028/ admin@instsun.com

氮化硼坩埚 有需求请联系021-35359028/29氮化硼又称白色石墨，其结构与石墨相似，属于 片状六方结构，理论密度2.27克/厘米3，硬度为莫氏2。 氮化硼（BN)具有熔点高、导热、绝缘性能良好，抗弯强度高、抗热冲击性能好、耐化学腐蚀。在高温下仍具有相当稳定的高频介电性能。BN最独特的优点是具有优良的机械加工性能可以加工成形态复杂、精度很高的瓷件。因此广泛应用于复合导电陶瓷蒸发舟、高温坩埚、溅射靶材、高温高频和等离子弧的电绝缘体、电子模块散热装置、行波管收集和散热片、晶体管散热片、半导体封装散热基板、高频感应电炉材料以及原子反应堆结构材料、防光电辐射、化学辐射、核辐射材料和雷达传递窗。 氮化硼坩埚是氮化硼粉末经过热压烧结成制品料块后根据客户所需尺寸规格加工而成。用于熔解铝，锌和其他合金冶炼，代替石墨坩埚。其特点如下：1. 化学性能稳定，与被溶解金属基本不反应，提高合金的纯度。2. 抗氧化性能好，比石墨材料高出400-500度，最高可达900度。3. 使用寿命长。 规格尺寸：按客户要求定做！

基于PELCO® 多孔氮化硅上的石墨烯支持膜这种石墨烯产品是由多孔氮化硅支撑，在0.5x0.5mm的窗口上铺了一层Si3N4，网格的孔径为2.5um，孔间距为4.5um。石墨烯的使用率为75%，可提供单层、2层、3-5层和6-8层石墨烯。适合UHR成像，或者作为一种实验平台。Example of nanopatterning of an atomically thin matter-wave beam splitter from a single-layer Graphene on Holey Silicon Nitride product. Ref: C. Brand, et. al. Nature Nanotechnology, Vol. 10, Oct. 2015 货号产品描述包装21712-5基于多孔氮化硅的单层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mm pkg/521712-10基于多孔氮化硅的单层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/1021712-25基于多孔氮化硅的单层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/25 货号产品描述包装21722-5基于多孔氮化硅的2层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/521722-10基于多孔氮化硅的2层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/1021722-25基于多孔氮化硅的2层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/25 货号产品描述包装21742-5基于多孔氮化硅的3-5层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/521742-10基于多孔氮化硅的3-5层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/1021742-25基于多孔氮化硅的3-5层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/25 货号产品描述包装21772-5基于多孔氮化硅的6-8层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/521772-10基于多孔氮化硅的6-8层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/1021772-25基于多孔氮化硅的6-8层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/25

带陶瓷柱隔膜的组合式铂环形电极。该电极适用于 pH 值可变的氧化还原滴定，例如： 按照温克勒法的氧含量用 KMnO4 测定过氧化氢重氮化滴定作为参考电解液并进行制备时使用了 c(KCl) = 3 mol/ L。

多孔氮化硅TEM载网以高纯单晶硅为基底，超薄氮化硅(10-50nm)为支撑膜，可实现原子级分辨率。具有耐电子束辐照，电子束穿透率高，成像背景均匀和噪音小等优点。载网不含碳元素，避免积碳，尤其适合球差原子分辨表征。可以非常方便在不同分析仪器间转移分析，如TEM， AFM，XRD，EXAFS，Raman等。

利特斯直读光谱仪配件氮化硼

简介：二维晶体材料指的是以石墨烯为代表的单原子层及少数原子层厚度的晶体材料，巨纳集团除了提供石墨烯材料、设备、检测等一体化服务外，还联合美国2D Semiconductors为全球客户提供高质量的二维晶体材料、粉体、溶液、薄膜等材料，并提供定制服务，以满足客户的不同需求。六边形氮化硼Hexagonal Boron Nitride (hBN)

切割片的选择是试样制备取样工序的重要环节，PRESI金刚石和立方氮化硼切割片根据磨料类型、浓度、切割片厚度的不同有40多种类型可供选择。

氮化硅膜主要用于纳米技术以及分子生物学的研究。该支持膜具有良好的平整度和疏水性。氮化硅为无定形态，无碳，无杂质；其良好的化学稳定性使图像分辨率和机械强度达到理想的平衡；良好的机械稳定性使同一种薄膜可应用于TEM、SEM、EDX、XPS、AFM等对同一区域的交叉对表征；薄膜和基底耐酸，可满足酸性条件下制备、研究样品；薄膜很容易采用辉光放电或等离子清洗；可应用于1000摄氏度高温环境。产品编号支持膜厚度窗格规格包装（枚/盒）YL-6055200nm0.5×0.5mm10枚/盒 150nm0.5×0.5mm10枚/盒 100nm0.5×0.5mm10枚/盒 200nm0.25×0.25mm 10枚/盒 150nm0.25×0.25mm 10枚/盒 100nm0.25×0.25mm 10枚/盒 150nm0.1×0.1mm10枚/盒 100nm0.1×0.1mm10枚/盒 200nm0.1×0.1mm10枚/盒

X射线透射显微成像/能谱（同步辐射）用氮化硅薄膜窗口 产品概述： X-射线薄膜窗能够实现软X-射线(如真空紫外线)的最大透射率。主要用于同步辐射X射线透射显微成像时承载样品。 X-射线越软(能量越低)，穿透能力越差，所需氮化硅薄膜窗越薄。特别在&ldquo 离轴&rdquo 状态工作（即薄膜与光束成一定角度）时，也需要较薄的薄膜窗口，便于X射线更好地穿透。 氮化硅薄膜窗口是利用现代MEMS技术制备而成，由于此种氮化硅窗口选用低应力氮化硅（0-250MP）薄膜，因此比计量式和ST氮化硅薄膜更坚固耐用。提供的氮化硅薄膜窗口非常适合应用于透射成像和透射能谱等广泛的科学研究领域，例如，X-射线（上海光源透射成像/能谱线站）、TEM、SEM、IR、UV等。 现在提供X-射线显微成像/能谱（同步辐射）用氮化硅薄膜窗系列产品，规格如下： 外框尺寸 (4种标准规格): &bull 5 mm x 5 mm (窗口尺寸：1.0 mm 或和 1.5 mm 方形) &bull 7.5 mm x 7.5 mm (窗口尺寸：2.0 mm 或 2.5 mm) &bull 10 mm x 10 mm (窗口尺寸：3.0 mm 或 5 mm 方形) 边框厚度： 200µ m、381µ m、525µ m。 Si3N4薄膜厚度：50、100、150和200nm 我们也可以为用户定制产品（30-500nm），但要100片起订。 本产品为一次性产品，不建议用户重复使用，本产品不能进行超声清洗，适合化学清洗、辉光放电和等离子体清洗。 技术指标： 透光度： 对于X射线用窗口，500nm厚的氮化硅薄膜有很好的X光穿透效果，对于软X射线（例如碳边吸收谱），100-200nm厚的氮化硅薄膜窗口是用户首选。 真空适用性： 真空适用性数据如下： 　 薄膜厚度 窗口面积 压力差 &ge 50 nm &le 1.0 x 1.0 mm 1 atm &ge 100 nm &le 1.5 x 1.5 mm 1 atm &ge 200 nm &le 2.5 x 2.5 mm 1 atm 表面平整度： 氮化硅薄膜窗口产品的表面平整性很稳定（粗糙度小于1nm），对于X射线应用没有任何影响。 温度特性： 氮化硅薄膜窗口产品是耐高温产品，能够承受1000度高温，非常适合在其表面利用CVD方法生长各种纳米材料。 化学特性： 氮化硅薄膜窗口是惰性衬底。 应用简介和优点： 1、 同步辐射X射线（紫外或极紫外）透射成像或透射能谱应用中是不可或缺的样品承载体。 2、 耐高温、惰性衬底，适应各种聚合物、纳米材料、半导体材料、光学晶体材料和功能薄膜材料的制备环境，利于制备理想的用于X射线表征用的自组装单层薄膜或薄膜（薄膜直接沉积在窗口上）。 3、 生物和湿细胞样本的理想承载体。特别是在等离子体处理后，窗口具有很好的亲水性。 4、 耐高温、惰性衬底，也可以用于化学反应和退火效应的原位表征。 5、 适合做为胶体、气凝胶、有机材料和纳米颗粒等的表征实验承载体。 同步辐射X射线应用参考文献：PRL

基于多孔氮化硅的氧化石墨烯支持膜氧化石墨烯铺在多孔氮化硅上，多孔氮化硅的孔径为2.5um，孔间距为4.5um， Si3N4的膜厚为200nm，窗口尺寸0.5x0.5mm 。 货号产品描述包装21812-5基于多孔氮化硅的单层氧化石墨烯支持膜，孔径 2.5μm , 窗口0.5 x 0.5mmpkg/5 21812-10基于多孔氮化硅的单层氧化石墨烯支持膜，孔径 2.5μm , 窗口0.5 x 0.5mmpkg/1021812-25基于多孔氮化硅的单层氧化石墨烯支持膜，孔径 2.5μm , 窗口0.5 x 0.5mmpkg/25货号产品描述包装21822-5基于多孔氮化硅的2层氧化石墨烯支持膜，孔径 2.5μm , 窗口0.5 x 0.5mmpkg/521822-10基于多孔氮化硅的2层氧化石墨烯支持膜，孔径 2.5μm , 窗口0.5 x 0.5mmpkg/1021822-25 基于多孔氮化硅的2层氧化石墨烯支持膜，孔径 2.5μm , 窗口0.5 x 0.5mmpkg/25

基于多孔氮化硅的氧化石墨烯支持膜氧化石墨烯铺在多孔氮化硅上，多孔氮化硅的孔径为2.5um，孔间距为4.5um， Si3N4的膜厚为200nm，窗口尺寸0.5x0.5mm 。 货号产品描述包装21812-5基于多孔氮化硅的单层氧化石墨烯支持膜，孔径 2.5μm , 窗口0.5 x 0.5mmpkg/5 21812-10基于多孔氮化硅的单层氧化石墨烯支持膜，孔径 2.5μm , 窗口0.5 x 0.5mmpkg/1021812-25基于多孔氮化硅的单层氧化石墨烯支持膜，孔径 2.5μm , 窗口0.5 x 0.5mmpkg/25货号产品描述包装21822-5基于多孔氮化硅的2层氧化石墨烯支持膜，孔径 2.5μm , 窗口0.5 x 0.5mmpkg/521822-10基于多孔氮化硅的2层氧化石墨烯支持膜，孔径 2.5μm , 窗口0.5 x 0.5mmpkg/1021822-25 基于多孔氮化硅的2层氧化石墨烯支持膜，孔径 2.5μm , 窗口0.5 x 0.5mmpkg/25

1．将单层硫化钼转移至衬底（衬底可根据客户需求选定）2．边长15um （三角形）片内层数均匀3．衬底上转移3个（数量可定制）带电极的单层硫化钼样品4．电极间距：~5um光学图片SEM表征图SEM表征图（全貌）拉曼测试图PL测试图

热解氮化硼坩埚 热解氮化硼（PBN）是特种陶瓷材料，是本公司在特殊设备上用化学气相沉积的工艺制得的。热解氮化硼的沉积过程，宛如“落雪”：氮化硼的六角型小雪片，一片一片的平行地落在石墨基体材料上，达到一定厚度后，最终冷却脱模而制成。 主要特点： ●　产品颜色在牙白至橙棕，无毒、无孔隙、易加工。●　纯度高达99.99％，表面致密，气密性好。●　耐高温，强度随温度升高，2200℃达到最大值。●　耐酸、碱、盐及有机试剂，高温与绝大多数熔融金属、半导体等材料不湿润、不反应。●　抗热震性好，热导性好，热膨胀系数低。●　电阻高，介电强度高，介电常数小，磁损耗角正切低，并具有良好的透微波和红外线性能。●　在力学、热学、电学等等性能上有着明显的各向异性。 产品应用1.半导体单晶及III－V族化合物合成用的坩埚、基座：原位合成GaAs 、InP 、GaP单晶的LEC系列坩埚。分子束外延用的MBE系列坩埚。 VGF、VB法系列坩埚。2.电子束源用的系列坩埚，金属熔炼蒸发坩埚等3.石英坩埚及舟皿等石墨器具上的涂层，MOCVD绝缘板。

TEM用氮化硅薄膜窗口氮化硅薄膜窗特点 低应力的8, 15 , 50nm厚的氮化硅支撑膜：50nm厚的薄膜具有最大的视野范围；8nm和15nm厚的无孔氮化硅薄膜适用于TEM超高分辨率的应用 氮化硅支撑膜：低应力的LPCVD非化学计量比氮化硅薄膜，良好的平整度、绝缘性和疏水性良好的化学稳定性：图像分辨率和机械强度达到理想的平衡 均匀性：减少了不同区域的不均匀性 TEM断面成像应用的特殊窗口：适用于倾斜断层成像的0.5x1.5mm大窗口，倾斜度最大可达75° 多窗口系列：2窗口，0.1x1.5mm；3x3系列，0.1x0.1mm 可应用于多种显微技术：良好的机械稳定性使得同一种薄膜可应用于TEM, SEM, EDX, XPS and AFM 薄膜和基底耐酸，不会被溶解：可以在酸性条件或常规条件下研究、制备样本 可应用于高温试验环境： 1000°C 可提供更对精确的分析，如样品中的碳含量，减少污染：可用于无碳环境中的TEM成像和分析 容易清洗：机械稳定性和化学稳定性使得薄膜很容易采用辉光放电或等离子清洗，无有机物残留，改善成像质量 良好的平整度：良好的纳米沉积基底和薄膜，无背景结构适合于SEM成像 超净加工，防止支撑膜上残留微粒：100级的超净间内包装 框架厚度：200 and 50μm ：200μm是标准的TEM支撑架；50μm是特殊的TEM支撑架 标准框架直径为3mm 同一批次的氮化硅薄膜窗具有相同的特性氮化硅薄膜窗规格单窗口系列窗口类型薄膜厚度窗口尺寸框架尺寸框架厚度20nm500x500μmΦ3mm100μm20/50nm500x500μmΦ3mm200μm50nm1000x1000μmΦ3mm200μm50nm100x100μmΦ3mm200μm15nm0.25x0.25mmΦ3mm200μm50nm0.25x0.25mm 0.5x0.5mm0.75x0.75mm1.0x1.0mmΦ3mm200μm200nm0.25x0.25mm 0.5x0.5mm0.75x0.75mm1.0x1.0mmΦ3mm200μm15/50/200nm0.25x0.25mmΦ3mm50μm50nm/200nm0.5x1.5mmΦ3mm50μm 多窗口系列窗口类型薄膜厚度窗口尺寸框架尺寸框架厚度50nm2x1阵列，100X1500μmΦ3mm200μm15nm/50nm/200nm2x1阵列，100X1500μmΦ3mm200μm50nm2x1阵列，100X1500μmΦ3mm50μm10nm/20nm3x3阵列，8个窗口100X100μm，1个窗口100X350μmΦ3mm100μm10nm3x3阵列，8个窗口250X250μm，1个窗口250X500μmΦ3mm100μm20nm3x3阵列，8个窗口100X100μm，1个窗口100X350μmΦ3mm200μm50nm3x3阵列，8个窗口100X100μm，1个窗口100X350μmΦ3mm100μm15nm/50nm/200nm3x3阵列，窗口100X100μm，Φ3mm200μm50nm3x3阵列，窗口100X100μm，Φ3mm50μm8nm单窗口，窗口大小：0.6×0.6mm；25个网格，氮化硅支撑膜200nm；网格上的氮化硅薄膜8nm；网格大小：75μm ，网格间距：25μm；Φ3mm200μm 应用简介： 1、适合TEM、SEM、AFM、XPS、EDX等的对同一区域的交叉配对表征。2、大窗口尺寸，适合TEM大角度转动观察。3、无碳、无杂质的清洁TEM观测平台。4、背景氮化硅无定形、无特征。5、耐高温、惰性衬底，适应各种聚合物、纳米材料、半导体材料、光学晶体材料和功能薄膜材料的制备环境，（薄膜直接沉积在窗口上）。6、生物和湿细胞样本的理想承载体。特别是在等离子体处理后，窗口具有很好的亲水性。7、耐高温、惰性衬底，也可以用于化学反应和退火效应的原位表征。8、适合做为胶体、气凝胶、有机材料和纳米颗粒等的表征实验承载体。 详细资料请咨询：021-35359028/ admin@instsun.com

基于PELCO® 多孔氮化硅上的石墨烯支持膜这种石墨烯产品是由多孔氮化硅支撑，在0.5x0.5mm的窗口上铺了一层Si3N4，网格的孔径为2.5um，孔间距为4.5um。石墨烯的使用率为75%，可提供单层、2层、3-5层和6-8层石墨烯。适合UHR成像，或者作为一种实验平台。Example of nanopatterning of an atomically thin matter-wave beam splitter from a single-layer Graphene on Holey Silicon Nitride product. Ref: C. Brand, et. al. Nature Nanotechnology, Vol. 10, Oct. 2015 货号产品描述包装21712-5基于多孔氮化硅的单层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mm pkg/521712-10基于多孔氮化硅的单层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/1021712-25基于多孔氮化硅的单层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/25 货号产品描述包装21722-5基于多孔氮化硅的2层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/521722-10基于多孔氮化硅的2层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/1021722-25基于多孔氮化硅的2层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/25 货号产品描述包装21742-5基于多孔氮化硅的3-5层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/521742-10基于多孔氮化硅的3-5层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/1021742-25基于多孔氮化硅的3-5层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/25 货号产品描述包装21772-5基于多孔氮化硅的6-8层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/521772-10基于多孔氮化硅的6-8层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/1021772-25基于多孔氮化硅的6-8层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/25

透射电镜（TEM）用氮化硅薄膜窗口 产品概述： 与X射线用氮化硅窗口类似，透射电镜（TEM）用氮化硅薄膜窗口也使用低应力氮化硅薄膜基底。但整体尺度更小，适合TEM装样的要求。窗口有单窗口和多窗口阵列等不同规格。同时NTI也定制多孔氮化硅薄膜窗口。 现在可以提供透射电镜（TEM）用氮化硅薄膜窗系列产品，规格如下： 外框尺寸: &bull 3 mm x 3 mm (窗口尺寸：0.5 mm，薄膜厚度：30 nm) &bull 3 mm x 3 mm (窗口尺寸：1.0 mm，薄膜厚度：50 nm) 边框厚度： 200µ m、381µ m。 Si3N4薄膜厚度： 50nm、100nm 可以为用户定制产品(30-200nm)，但要100片起订。 本产品为一次性产品，不建议用户重复使用，本产品不能进行超声清洗，适合化学清洗、辉光放电和等离子体清洗。 技术指标： 表面平整度： 我们认为薄膜与其下的硅片同样平整， TEM用氮化硅薄膜窗口的表面粗糙度为：0.6-2nm。完全适用于TEM表征。 亲水性： 该窗格呈疏水性，如果样品取自水悬浮液，悬浮微粒则不能均匀地分布在薄膜上。用等离子蚀刻机对薄膜进行亲水处理，可暂时获得亲水效果。虽然没有对其使用寿命进行过测试，但预期可以获得与同样处理的镀碳TEM网格相当的寿命。我们可以生产此种蚀刻窗格，但无法保证其使用寿命。如果实验室有蚀刻工具也可对其进行相应的处理提高其亲水性能。 温度特性： 氮化硅薄膜窗口产品是耐高温产品，能够承受1000度高温，非常适合在其表面利用CVD方法生长各种纳米材料。 化学特性： 氮化硅薄膜窗口是惰性衬底。 应用简介和优点： 1、 适合TEM、SEM、AFM、XPS、EDX等的对同一区域的交叉配对表征。 2、 大窗口尺寸，适合TEM大角度转动观察。 3、 无碳、无杂质的清洁TEM观测平台。 4、 背景氮化硅无定形、无特征。 5、 耐高温、惰性衬底，适应各种聚合物、纳米材料、半导体材料、光学晶体材料和功能薄膜材料的制备环境，（薄膜直接沉积在窗口上）。 6、 生物和湿细胞样本的理想承载体。特别是在等离子体处理后，窗口具有很好的亲水性。。 7、 耐高温、惰性衬底，也可以用于化学反应和退火效应的原位表征。 8、 适合做为胶体、气凝胶、有机材料和纳米颗粒等的表征实验承载体。 详细请咨询：021-35359028/ admin@instsun.com

多孔氮化硅薄膜窗口特点 ● 相对大的实验区域；● 增加了薄膜的弹性；● 孔的尺寸适合实验要求；● 薄膜边缘有25μm宽度是无孔的； 多孔氮化硅薄膜窗参数： 框架大小：Φ3mm； 框架厚度：200μm；薄膜厚度：50/100nm； 窗口大小：0.5x0.5mm；孔径：2.5μm； 孔间距：4.5μm；孔排列：100x100； 详细资料请咨询：上海昭沅仪器设备有限公司 021-35359028/29 admin@instsun.com

产品特点：Agilent 255 氮化学发光检测器 (NCD)提高性能，使用方便* ppb 级的检测限 * 没有烃的淬灭 * 有机含氮化合物的线性等摩尔响应；还对氨、肼、氢化腈和 NOx 有响应 * 双等离子燃烧室和控制器还提供一个嵌入的硝基胺选项 * 用于 NCD 和 FID 同时操作的适配器订购信息：Agilent 255 氮化学发光检测器 (NCD)说明部件号NCD 双等离子体系统，带干燥泵G6600ANCD 双等离子体系统，带油泵G6601A

简介：二维晶体材料指的是以石墨烯为代表的单原子层及少数原子层厚度的晶体材料，巨纳集团除了提供石墨烯材料、设备、检测等一体化服务外，还联合美国2D Semiconductors为全球客户提供高质量的二维晶体材料、粉体、溶液、薄膜等材料，并提供定制服务，以满足客户的不同需求。氮化硼片状粉末h-BN Flakes Powder

简介：二维晶体材料指的是以石墨烯为代表的单原子层及少数原子层厚度的晶体材料，巨纳集团除了提供石墨烯材料、设备、检测等一体化服务外，还联合美国2D Semiconductors为全球客户提供高质量的二维晶体材料、粉体、溶液、薄膜等材料，并提供定制服务，以满足客户的不同需求。单层氮化硼溶液Monolayer h-BN Solution

氮化硅窗口Silicon Nitride Window Grids 氮化硅TEM窗口在恶劣的实验室条件下表现良好，硅材料的框架100μm厚，适合标准的3mm支架和大多数双倾斜样品台，氮化硅窗口装在透明的凝胶盒中。l 等离子可清洗-可以耐受强力等离子清洗，移去有机污染层l 场到场的均匀性-整个薄膜厚度的变化小于0.5 nml 可容忍1000°C以上的温度-支持在高温下观察动态过程中使用l 经得起严酷的条件-提供理想的成像分辨率，化学稳定性和机械强度l 氮化硅采用LPCVD法制造，具有平坦，绝缘和疏水表面选择参考High Resolution Imaging:5nm76042-43, 1 square (25x25μm)76042-44, 9 squares (50x50μm)76042-45, 2 slots (50x1500μm)*Robust, Increased High Resolution:10nm76042-46, 9 squares (100x100μm)Everyday Imaging:20nm76042-49, 1 square (500x500μm)76042-50, 9 squares (100x100μm)Demanding Conditions:50nm76042-53, 1 square (100x100μm)76042-52, 1 square (500x500μm) 76042-51, 1 square (1000x1000μm)76042-50, 9 squares (100x100μm)Materials & Cryo-EM Suspension:Microporous76042-41, 1 square (500x500μm)76042-40, 1 square (500x500μm)*Coated with 1 nm of ultrahigh purity carbon to minimize charging产品选购：货号产品描述窗口尺寸厚度规格76042-40Silicon Nitride Microporous TEM Window Grid (2.0 μm pores with labeled grid)500μm sq.20nm10/pk76042-41Silicon Nitride Microporous TEM Window Grid (2.0 μm pores with labeled grid)500μm sq.50nm10/pk76042-42Silicon Nitride Nanoporous TEM Window Grid500μm sq.20nm10/pk76042-43Silicon Nitride TEM Window Grid25μm sq.5nm10/pk76042-44Silicon Nitride TEM Window Grid(8) 50μm sq., (1) 50x100μm 5nm10/pk76042-45Silicon Nitride TEM Window Grid(2) 50x1500μm5nm10/pk76042-46Silicon Nitride TEM Window Grid(8) 100 sq., (1) 100x350μm10nm10/pk76042-47Silicon Nitride TEM Window Grid(8) 250 sq., (1) 250x500μm10nm10/pk76042-48Silicon Nitride TEM Window Grid(8) 100 sq., (1) 100x350μm20nm10/pk76042-49Silicon Nitride TEM Window Grid500μm sq.20nm10/pk76042-50Silicon Nitride TEM Window Grid(9) 100μm sq.50nm10/pk76042-51Silicon Nitride TEM Window Grid1000μm sq.50nm10/pk76042-52Silicon Nitride TEM Window Grid500μm sq.50nm10/pk76042-53Silicon Nitride TEM Window Grid100μm sq.50nm10/pk

尺寸：5*10cm厚度：1.6mm铜基六方氮化硼薄膜采用化学气相沉积法（CVD），在高纯铜箔上沉积单层和多层h-BN薄膜。

DropSens 丝网印刷电极 丝网印刷电极阵列介绍 一、DropSens 公司介绍DropSens是一家创新型技术型公司，专门从事电化学研究仪器的设计和制造，总部位于西班牙奥维耶多。 瑞士万通DropSens基于厚膜混合技术开发丝网印刷电极，旨在为研究人员提供开发各种性质的电化学传感器的强大工具：化学传感器、酶传感器、免疫传感器和基因传感器等。这些传感器旨在临床分析、环境和食品控制领域的重要应用。与传统电极相比，丝网印刷电极具有许多优点：它们适用于微量和分散式检测（即时检测）等。 以电化学仪器的小型化为目标，我们专注于便携式恒电位仪的设计和开发它提供主要的电化学技术，同时保持大型仪器的精度，并提供易于使用的计算机界面。 二、丝网印刷电极及阵列介绍 DropSens基于碳、金、铂、银或碳纳米管的丝网印刷电极。适合环境、临床或农业食品领域的电化学分析丝网印刷电极是低成本的一次性设备，专门设计用于处理微量样品。非常适合质量控制或研究目的，也适用于电化学教学。丝网印刷电极的尺寸：3.4 x 1.0 x 0.05 厘米。个性化的SPE可以按照客户对材料和图案的规格进行制造。具体产品包括：未修饰的丝网印刷电极，改性碳丝网印刷电极，丝网印刷电极阵列，定制化丝网印刷电极1. 丝网印刷碳电极：型号：DRP-C110，DRP-11L 和 DRP-C11L 2. 带集成温度传感器的丝网印刷电极这些一次性电极包括基板背面的负温度系数 （NTC） 热敏电阻。一旦预先校准，这些电极就非常适合检测被测系统的温度。基板尺寸：L33 x W10 mm陶瓷基板厚度：500 μm型号：C110-NTC 系列 3. 带微孔的丝网印刷碳电极这些一次性丝网印刷碳电极 （SPCE） 由一个工作电极组成，该电极具有 19 个六边形分布的球形微孔，它们允许光通过并且不会被紫外线区域吸收，这些电极可用于检测或光谱电化学应用等。尺寸：3.4 x 1.0 x 0.05 厘米（长 x 宽 x 高）型号：MH-110 型4. 丝网印刷碳电极工作电极（直径4mm）由碳制成，对电极由铂制成，参比电极由银制成，电触点由银制成。非常适合处理 50 μL 的容积。尺寸：3.4 x 1.0 x 0.05 厘米（长 x 宽 x 高）。型号：1505. 丝网印刷金电极：用高温 （AT） 和低温 （BT） 固化油墨丝网印刷的电极，根据应用的不同，这些油墨可能具有不同的特性。工作电极有两种尺寸：4 mm 或 1.6 mm 直径。加上解决方案工作的特定设计。工作电极（直径 4 或 1.6 毫米）和对电极由金制成，而参比电极和电触点由银制成。非常适合处理 50 μL 体积（参考文献 220AT、220BT、C223AT、C223BT）或将它们引入溶液中（参考文献C220AT、C220BT）。AT型号：用高温固化油墨丝网印刷的电极。BT型号：用低温固化油墨丝网印刷的电极。尺寸：3.4 x 1.0 x 0.05 厘米（长 x 宽 x 高）型号：220BT系列，C220AT型，C220BT系列，C223AT型，C223BT型6、丝网印刷金电极（辅助：Pt 参考：Ag）工作（直径4mm）电极由金制成，对电极由铂制成，参比电极由银制成，电触点由银制成。非常适合处理 50 μL 容积。尺寸：3.4 x 1.0 x 0.05 厘米（长 x 宽 x 高）。型号：250， 250BT7、丝网印刷银电极 （Aux.： C Ref.： Ag）工作电极（直径 1.6 mm 或 4 mm）由银制成，对电极由碳制成 参比电极和电触点由银制成。用于电化学测量或原位EC-SERS。非常适合处理 50 μL 的容积。尺寸：3.4 x 1.0 x 0.05 厘米（长 x 宽 x 高）。型号：C013，0108、丝网印刷铂电极工作电极（直径 4 毫米）和铂制成的对电极。非常适合使用 50 μL 体积（参考 DRP-550）或将它们引入溶液（参考 DRP-C550）。也可提供低温固化油墨（型号 550BT）。尺寸：3.4 x 1.0 x 0.05 厘米（长 x 宽 x 高）9、丝网印刷氧化钌电极 （Aux.： C Ref.： Ag）工作电极（直径 4 毫米）由氧化钌制成，对电极由碳制成，参比电极由银制成，电触点由银制成。它非常适合处理 50 μL 的体积。尺寸：3.4 x 1.0 x 0.05 厘米（长 x 宽 x 高）。10、光学透明ITO丝网印刷电极这些一次性ITO电极（参考。ITO10）在塑料基板中制成，基于ITO工作电极，带有碳对电极和银参比电极。专为光谱电化学应用而设计。尺寸：33 x 10 x 0.175毫米11、光学透明PEDOT丝网印刷电极这些一次性PEDOT电极（参考。P10）在塑料基板中制成，基于带有碳对电极和银参比电极的PEDOT工作电极。专为电化学发光或光谱电化学应用而设计。尺寸：33 x 10 x 0.175 毫米（长 x 宽 x 高）。12、光学透明PEDOT丝网印刷电极这些一次性PEDOT电极（参考。P10）在塑料基板中制成，基于带有碳对电极和银参比电极的PEDOT工作电极。专为电化学发光或光谱电化学应用而设计。尺寸：33 x 10 x 0.175 毫米（长 x 宽 x 高）。13、光学透明PEDOT丝网印刷电极这些一次性PEDOT电极（参考。P10）在塑料基板中制成，基于带有碳对电极和银参比电极的PEDOT工作电极。专为电化学发光或光谱电化学应用而设计。尺寸：33 x 10 x 0.175 毫米（长 x 宽 x 高）。14、用于生物燃料电池的丝网印刷电极DropSens推出具有适当配置的丝网印刷电极，以开发自供电的电致变色生物传感器，该传感器有可能成为用于分析物检测的“无仪器”传感设备。尺寸： 3.3 x 1.0 x 0.0175 cm （长 x 宽 x 高）15、柔性塑料基板上的金电极 在柔性塑料基板上制成的金电极，工作电极为 4 mm。它们允许处理少量样品，适用于分散式分析，以开发特定的（生物）传感器和其他电化学研究16、柔性白色塑料基板上的钯电极这些电极参考在柔性塑料基板上制造，并具有基于薄膜的工作电极。PW-PD10 非常适合用于分散式检测或开发特定的电分析应用。- 塑料柔性基板：L33 x W10 mm- 塑料基板厚度：500 μm17、柔性白色塑料基板上的钯电极这些电极参考在柔性塑料基板上制造，并具有基于薄膜的工作电极。PW-PD10 非常适合用于分散式检测或开发特定的电分析应用。- 塑料柔性基板：L33 x W10 mm- 塑料基板厚度：500 μm18、8X 丝网印刷碳电极丝网印刷电化学阵列由八个带有碳基工作电极的 3 电极电化学电池组成。专为开发多个同时分析而设计。该系统可以使用其他工作电极材料（如金、铂或银）进行定制。尺寸：3.4 x 7.9 x 0.1 厘米（长 x 宽 x 高）。19、 8X 丝网印刷金电极由八个 3 电极电化学电池和高温金基工作电极形成的丝网印刷电化学阵列。专为开发多个同时分析而设计。该系统可以使用其他工作电极材料进行定制，例如用纳米材料改性的碳、铂或银。尺寸：3.4 x 7.9 x 0.1 厘米（长 x 宽 x 高）。4W丝网印刷碳电极丝网印刷电极由四个碳工作电极组成，共用辅助电极和参比电极。这些电极旨在同时检测四个信号，允许（差分）测量溶液中多达四种分析物。该系统可以使用其他工作电极材料（如金、铂或银）进行定制。尺寸：3.8 x 2 x 0.1 厘米（长 x 宽 x 高）。8W丝网印刷碳电极丝网印刷电极由8个碳工作电极组成，共用辅助电极和参比电极。这些电极旨在同时检测八个信号，允许（差分）测量溶液中多达八种分析物。该系统可以使用其他工作电极材料（如金、铂或银）进行定制。尺寸：5 x 2.7 x 0.1 cm （长 x 宽 x 高）.96X 丝网印刷碳电极 DropSens 推出电化学 ELISA 板。这是一种新型丝网印刷电化学阵列，由96个带有碳基工作电极的三电极电化学电池组成。该电化学阵列固定在具有 96 孔的标准微量滴定 ELISA 板的底部。该系统可以使用其他工作电极材料进行定制，例如用纳米材料改性的银或碳。尺寸：7.4 x 11 x 0.5 厘米（长 x 宽 x 高）。96X 丝网印刷金电极DropSens 推出电化学 ELISA 板。这是一种新型丝网印刷电化学阵列，由96个带有金基工作电极的三电极电化学电池组成。该电化学阵列固定在具有 96 孔的标准微量滴定 ELISA 板的底部。该系统可以使用其他工作电极材料进行定制，例如用纳米材料改性的银或碳。尺寸：7.4 x 11 x 0.5 厘米（长 x 宽 x 高）96X 丝网印刷铂电极DropSens推出电化学ELISA板。这是一种新型丝网印刷电化学阵列，由96个带有铂基工作电极的三电极电化学电池组成。该电化学阵列固定在具有 96 孔的标准微量滴定 ELISA 板的底部。该系统可以使用其他工作电极材料进行定制，例如用纳米材料改性的银或碳。尺寸：7.4 x 11 x 0.5 厘米（长 x 宽 x 高）。改性碳电极：这些改性赋予了碳电极不同的特性，使其适用于不同的应用。修改应用于工作电极。对电极由碳制成，参比电极由银制成。 丝网印刷碳电极用电化学介质和纳米材料等进行改性。改性电极包括：链霉亲和素改性丝网印刷电极，ExtrAvidin改性丝网印刷电极，聚苯胺改性电极，钯改性SPE， 菲咯啉改性的丝网印刷碳电极，金颗粒改性SPE, 钙离子改性SPE, 铜离子改性SPE，氢离子改性SPE，钾离子改性SPE，钠离子改性SPE，铵离子改性SPE，赖氨酸改性SPE，氧化铋改性SPE， 氧化镍改性SPE，石墨烯改性SPE，碳纳米管改性SPE，介孔碳改性SPE，铁氰化铁改性SPE，酞菁铜（II）改性碳SPE，酞菁铁（II）改性碳SPE，银纳米颗粒改性丝网印刷碳电极， 用蒽醌改性SPE，丝网印刷普鲁士蓝/碳电极，丝网印刷亚铁氰化物/碳电极，丝网印刷亚铁氰化物/碳电极/L-乳酸氧化酶，丝网印刷亚铁氰化物/碳电极/葡萄糖氧化酶，用于尿酸检测的丝网印刷电极，三、电化学工作站/恒电位仪便携式多恒电位仪 / 恒电流仪 STAT 8000 便携式多恒电位仪 STAT 8000P 便携式多恒电位仪 / 恒电流仪 STAT 4000 便携式多恒电位仪 STAT 4000P 便携式双恒电位仪/恒电流仪/EIS STAT-I 400便携式恒电位仪/恒电流仪/EIS STAT-I 400S便携式双恒电位仪 / 恒电流仪 STAT 400便携式双恒电位仪/恒电流仪 STAT400-OI便携式双恒电位仪 STAT 300便携式双恒电位仪 STAT 200独立式电化学读码器 DROPSTAT PLUS便携式电化学读卡器 DROPSTAT用于ORP测量的便携式套件

膜厚： 两面均含50nm超低张力氮化硅膜 圆片厚度： 200μm硅基底 圆片直径： 3mm

氮和硫化学发光检测器安捷伦的355 硫化学发光检测器(SCD) 是目前分析硫化合物最灵敏和最具选择性的色谱检测器。安捷伦的255 氮化学发光检测器(NCD) 是氮的专属性检测器，它是对基于NO 和臭氧的化学发光反应生成的含氮化合物产生线性和等摩尔的响应。即使复杂的样品基质也能分析，无干扰。氮化学发光检测器(NCD) 备件说明部件号NCD DP 燃烧头石英管工具包 包括密封垫圈、接头和石英管G6600-60038预防性维护工具包，DP RV5 油泵 包括 4 个臭氧化学捕集阱、4 个油凝聚过滤器元件和 4 个（1 夸脱）盛装合成油的瓶子G6600-67007预防性维护工具包，干活塞泵 包括 4 个臭氧破坏化学捕集阱和 2 个泵的维修工具包G6600-67008备用油凝聚过滤器G6600-80042油雾过滤器，用于 RV5 泵G6600-80043用于油雾过滤器的备用油凝聚过滤器G6600-80044备用气味过滤元件G6600-80045O 形环，内径 1.3614 英寸G6600-80050O 形环，内径 1.301 英寸G6600-80051双等离子体石英管G6600-80063Mobil 1 合成油G6600-85001油，Edwards Ultragrade，用于 RV3 和 RV5 泵G6600-85002备用色谱柱螺帽和密封垫工具包G6600-80018色谱柱螺帽，1/32 英寸G6600-80072密封垫圈，色谱柱，1/32 英寸 x 0.5 mm 熔融石英，Valco0100-2138密封垫圈，色谱柱，1/32 英寸 x 9 mm，聚酰亚胺/石墨0100-2430

基于SiO2/Si晶片的CVD石墨烯/CVD六方氮化硼异质结石墨烯/h-BN薄膜的性质：单层h-BN薄膜上的单层石墨烯薄膜转移到285nm（p掺杂）SiO2/Si晶片上尺寸：1cmx1cm 4片装每个薄膜的厚度和质量由拉曼光谱控制该产品的覆盖率约为98％薄膜是连续的，有小孔和有机残留物高结晶质量石墨烯薄膜预先单层（超过95％），偶尔有少量多层（双层小于5％）薄层电阻：430-800Ω/平方石墨烯薄膜以及h-BN薄膜通过CVD方法在铜箔上生长，然后转移到SiO2/Si晶片上。硅/二氧化硅晶圆的特性：氧化层厚度：285nm颜色：紫罗兰色晶圆厚度：525微米电阻率：0.001-0.005欧姆 - 厘米 型号/掺杂剂：P /硼方向：100前表面：抛光背面：蚀刻