非晶碳薄膜

薄膜太阳电池QE测试专用系统 SCS10-Film适用范围： 非晶硅薄膜电池、CIGS 薄膜电池、CdTe 薄膜电池、非晶/ 微晶双结薄膜电池、非晶/ 微晶/微晶锗硅三结薄膜电池等光谱范围：300~1700nm电池结构：单结、多结太阳电池可测参数：光谱响应度、外量子效率、反射率、透射率、内量子效率、短路电流密度可测样品面积：300mm×300mm● 集成一体化turnkey系统● 大面积薄膜电池测试专用● 超大样品室，光纤传导● 背面电极快速连接● 反射率、内外量子效率同步测试● 快速高效售后服务 SCS10-Film系统规格 光源150W高稳定性氙灯，光学稳定度≤0.4%，光纤传导测试光斑尺寸2mm~10mm可调单色仪三光栅DSP扫描单色仪波长范围300nm~1700nm波长准确度±0.2nm（@1200g/mm,500nm)扫描间隔最小可达0.1nm，默认设置10nm输出波长带宽0.1nm~10nm可调，默认设置5nm多级光谱滤除装置根据波长自动切换，消除多级光谱的影响光调制频率4~400Hz标准探测器进口Si光电探测器，含校正测试报告数据采集装置灵敏度直流模式：100nA；交流模式：2nV测量重复精度0.6%( 400~1000nm范围0.3%)测量速度单次光谱响应扫描 1min 完整流程扫描 5min(扫描间隔10nm）样品加持探针样品台，156mm×156mm，特殊样品台可定制*Mapping扫描速度：20点/s（@0.5mm step）分辨率：0.5mm仪器尺寸主机：；样品室：控制机柜：800mm×600mm×1300mm计算机及软件系统含工控计算机、显示器、鼠标、键盘，正版windows 7操作系统，系统软件安装光盘

太阳能电池量子效率测试系统——SolarCellScan100系列系统功能系统可以实现测试太阳电池的：光谱响应度、外量子效率、内量子效率、反射率、透射率、短路电流密度、量子效率Mapping、反射率Mapping。系统适用范围1、适用于各种材料的太阳电池包括：单晶硅Si、多晶硅mc-Si、非晶硅α-Si、砷化镓GaAs、镓铟磷GaInP、磷化铟InP、锗Ge、碲化镉CdTe、铜铟硒CIS、铜铟镓硒CIGS、染料敏化DSSC、有机太阳电池Organic Solar Cell、聚合物太阳电池Polymer Solar Cell 等2、适用于多种结构的太阳电池包括：单结Single junction、多结multi junction、异质结HIT、薄膜thin film、高聚光HPV 等不同材料或不同结构的太阳电池，在测试过程中会有细节上的差异。比如说：有机太阳电池的测试范围主要集中在可见光波段，而GaAs 太阳电池的测试范围则很可能扩展到红外1.4um 甚至更长波段；单晶硅电池通常需要测内量子效率，而染料敏化太阳电池通常只需要测外量子效率；有机太阳电池测试通常不需要加偏置光，而多结非晶硅薄膜电池则需要加偏置光……SolarCellScan100 通过主机与各种附件的搭配，可以实现几乎所有种类电池的测试。这种模块化搭配的方式，适合科研用户建立测试平台。 选型列表：型号名称和说明主机SCS1011太阳能电池量子效率测量系统，含直流、交流测量模式，氙灯光源SCS1012太阳能电池量子效率测量系统，含直流测量模式，氙灯光源SCS1013太阳能电池量子效率测量系统，含直流、交流测量模式，溴钨灯光源SCS1014太阳能电池量子效率测量系统，含直流测量模式，溴钨灯光源SCS1015太阳能电池量子效率测量系统，含直流、交流测量模式，氙灯溴钨灯双光源SCS1016太阳能电池量子效率测量系统，含直流测量模式，氙灯溴钨灯双光源附件QE-A1偏置光附件，150W氙灯QE-A2偏置光附件，50W溴钨灯QE-B1标准太阳电池（单晶硅）QE-B1-SP标准太阳电池QE-B2标准铟镓砷探测器(800-1700nm，含标定证书）QE-B3标准硅探测器(300-1100nm，含标定证书)QE-B4标准铟镓砷探测器(800-2500nm，含标定证书）QE-B7透过率测试附件(300-1100nm)QE-B8透过率测试附件(800-1700nm)QE-BVS偏置电压源（±10V可调）QE-C2漫反射率测试附件（300-1700nm）QE-C7标准漫反射板QE-D1二维电动调整台QE-D2手动三维调整台QE-IV-Convertor短路电流放大器专用机型介绍系统功能部分太阳能应用方向的研究人员需要测量量子效率，但本身却不是光电测量方面的行家，卓立汉光在测量平台SolarCellScan100的基础上，进一步开发出以下几套极具针对性的专用机型配置，方便客户使用。以下的专用配置也适合产业化的工业客户使用。1、通用型太阳电池QE测试系统SCS100-Std系统特点符合IEC60904-8国际标准；测量结果高重复性；内外量子效率测量功能；快速导入参数功能；适用于科研级别小样品测试适用范围： 晶体硅电池、非晶硅薄膜电池、染料敏化电池、CdTe薄膜电池、CIGS薄膜电池等； 光谱范围： 300~1100nm； 电池结构： 单结太阳电池； 可测参数： 光谱响应度、外量子效率、内量子效率、反射率、短路电流密度； 可测样品面积： 30mm×30mm 2.通用型太阳电池QE测试系统SCS100-Exp系统特点符合IEC60904-8国际标准；测量结果高重复性；高度自动化测量；双光源设计；红外光谱范围扩展；薄膜透过率测试功能；小面积、大面积样品测试均适用；适用范围： 晶体硅电池、非晶硅薄膜电池、染料敏化电池、有机薄膜电池、CdTe薄膜电池、CIGS薄膜电池、三结砷化镓GaAs电池、非晶/微晶薄膜电池等； 光谱范围： 300~1700nm； 电池结构： 单结、多结太阳电池； 可测参数： 光谱响应度、外量子效率、内量子效率、反射率、透射率、短路电流密度； 可测样品面积： 156mm×156mm以下 3.晶体硅太阳电池测试专用系统 SCS100-Silicon系统特点集成一体化turnkey系统晶体硅电池测试专用内外量子效率测试快速Mapping扫描功能快速高效售后服务适用范围： 单晶硅电池、多晶硅电池 光谱范围： 300~1100nm 电池结构： 单结太阳电池 可测参数： 光谱响应度、外量子效率、反射率、内量子效率、短路电流密度、*量子效率Mapping、*反射率mapping 可测样品面积： 156mm×156mm 4.薄膜太阳电池QE测试专用系统 SCS100-Film系统特点集成一体化turnkey系统；大面积薄膜电池测试专用；超大样品室，光纤传导；背面电极快速连接；反射率、内外量子效率同步测试；快速高效售后服务。适用范围： 非晶硅薄膜电池、CIGS薄膜电池、CdTe薄膜电池、非晶/微晶双结薄膜电池、非晶/微晶/微晶锗硅三结薄膜电池等； 光谱范围： 300~1700nm ； 电池结构： 单结、多结太阳电池； 可测参数： 光谱响应度、外量子效率、反射率、透射率、内量子效率、短路电流密度； 可测样品面积： 300mm×300mm 5.光电化学太阳电池测试专用系统 SCS100-PEC系统特点光电化学类太阳电池专用配置方案；直流测量模式；低杂散光暗箱；电解池样品测试附件；经济型价格适用范围： 染料敏化太阳电池； 光谱范围： 300~1100nm； 电池结构： 光电化学相关的纳米晶太阳电池； 可测参数： IPCE； 可测样品面积： 50mm×50mm

具备三维翘曲（平整度）、薄膜应力、纳米轮廓、宏观缺陷成像等检测功能，适用于半导体晶圆生产、半导体制程工艺开发、玻璃及陶瓷晶圆生产.优势对各种晶圆的表面进行一次性非接触全口径均匀采样测量简单、准确、快速、可重复的测量方式，多功能强大的附加模块：晶圆加热循环模块（高达400度）；表面粗糙度测量模块；粗糙表面晶圆平整度测量模块适用对象2 寸- 8 寸/12 寸抛光晶圆（硅、砷化镓、碳化硅等）、图形化晶圆、键合晶圆、封装晶圆等；液晶基板玻璃；各类薄膜工艺处理的表面适用领域半导体及玻璃晶圆的生产和质量检查半导体薄膜工艺的研究与开发半导体制程和封装减薄工艺的过程控制和故障分析检测原理晶圆制程中会在晶圆表面反复沉积薄膜，基板与薄膜材料特性的差异导致晶圆翘曲，翘曲和薄膜应力会对工艺良率产生重要影响。采用结构光反射成像方法测量晶圆的三维翘曲分布，通过翘曲曲率半径测量来推算薄膜应力分布，具有非接触、免机械扫描和高采样率特点，12英寸晶圆全口径测量时间低于30s。通过Stoney公式及相关模型计算晶圆应力分布。三维测量分析软件易用性强，具有丰富分析功能，包括：三维翘曲图、晶圆翘曲参数统计（BOW，WARP，GFIR，SFLR等），薄膜应力及分布，模拟加热循环，曲率，各种多项式拟合、空间滤波和各类数据导出。

1. 产品概述FTPadv是一种经济高效的台式光谱反射解决方案，具有快速厚度测量功能。测量时间不到 100 ms，精度低于 0.3 nm，膜厚范围为 50 nm – 25 μm。包括一系列预定义的配方，便于光谱反射仪操作。2. 主要功能与优势获得薄膜厚度的短方法通过选择并开始适当的配方，SENTECH FTPadv 反射仪可在不到 100 ms 的时间内完成厚度测量，精度小于 0.3 nm，厚度范围为 30 nm – 25 μm。AutoModel 功能和基于 SE 的材料库通过比较测得的反射光谱和光谱库，可以将操作员的误差降低。基于SENTECH的椭圆偏振光谱仪测量的大型材料库，为新材料的光学常数测量提供了方法。应用业知识30 多年来，SENTECH 已成功销售用于各种应用的 FTPadv 膜厚探头。这款台式反射仪可在工业或研究环境中，通过远程或直接控制，在低温或高温下，原位或在线测量小样品到大窗玻璃的厚度。 3. 灵活性和模块化SENTECH FTPadv的一个关键特性是可以测量多层样品中任何层的厚度，这使得FTPadv成为膜厚测量的理想、经济高效的解决方案。用于过程控制的FTPadv包括一个带有柱子和样品架的光纤束、一个带卤素灯的稳定光源以及FTP光学器件和控制器站。通过LAN连接到PC，可以在恶劣的工业应用环境、受到特殊保护的房间或大型机械中远程控制工具。反射仪 FTPadv 带有大量预定义的配方，例如半导体上的电介质、半导体上的半导体、硅上的聚合物、透明基板上的薄膜、金属基板上的薄膜等。自动建模功能允许通过与光谱库进行比较来快速检测样品类型。该反射仪将操作员错误降低。通过光学反射测量薄膜厚度从未如此简单。FTPadv菜单驱动的操作软件允许在出色的操作员指导下对单层和多层结构进行厚度测量。此外，它还具有强大的分析工具和出色的报告功能。额外的映射软件可用于控制电动样品台。将软件升到软件包FTPadv EXPERT，用于反射测量的高分析，通过应用具有未知或不同光学特性的材料，扩展了标准软件包。因此，可以进行厚度测量以及单片薄膜的折射率和消光系数分析。

仪器简介：薄膜热释电探测器主要用锆钛酸铅铁电薄膜（PZT film）作为光电转换元件，其厚度仅为1um，构成一个微型的光电系统，其产生的电流通过两个电极搜集起来。 这种探测器具有以下特点： 薄膜热释电探测器带给用户的好处灵敏度高，辐射灵敏度可到106 V/W，D*可以达到1× 109，远远高于其他热释电传感器可用来检测更为微弱的信号，提升产品的档次，增强竞争力，降低生产成本噪声低且随着温度升高，噪声依然可以维持在较低水平 提高用户系统的信噪比，大幅降低温度对系统的影响频率特性好，响应速度快，可达5ms (200Hz)提高用户系统的响应速度熔点高，约600℃，耐高温 无需额外的恒温系统及探测器保护装置，大大提高产品在复杂环境下工作的稳定性探测器的面积可选的范围很宽，从150um× 150um到3mm× 2mm，封装形式多样化用户有更多选择，系统设计更加灵活光谱响应范围从1.2um-20um根据不同应用，客户可选择装配有滤光片的探测器，用于气体检测或光谱分析应用中技术参数：薄膜热释电探测器主要用锆钛酸铅铁电薄膜（PZT film）作为光电转换元件，其厚度仅为1um，构成一个微型的光电系统，其产生的电流通过两个电极搜集起来。 红外光谱1.线阵列型探测器+线性变化红外滤光片(Linear Variable Filter) 目前可提供的标准的线阵探测器包括：128× 1，128× 2，512× 1。红外滤光片的波长范围有近红外1.3-3.2um和中远红外2-20um两种，根据不同应用，选择相应波长范围的LVF滤光片，可直接得到光谱信息。 2. 单点探测器 此种探测器主要是针对FT-IR光谱仪。提供不同感光面积的单点探测器，根据客户需求，可选配适当的红外滤光片，滤光片的波长范围：2-20um。气体检测 感光面D*NoiseFrequencyResponsivity1mm× 1mm~3.5 x 108 cm&radic Hz/ W @10Hz~ 0.4mV&radic Hz/W1-30Hz ~150,000 V/ W @500K, 10Hz 火灾预警，行为监控及客流量计数 与传统的红外发射、接受的方式相比，如果选择合适焦距的红外镜头，配合不同阵列的红外探测器，不仅能够直接捕捉到由被测物体发射的红外信号（去掉了发射这一步骤），还能够获得包括空间位置等更详细的信息，有助于后续的分析系统作出正确的判断，降低误判率。 主要特点：红外光谱 与FT-IR光谱领域常用的DTGS探测器相比，产品具有以下特点： 薄膜热释电探测器带给用户的好处价格低, 各波段的辐射灵敏度相对DTGS探测器更平坦降低用户的成本的同时不降低性能，有效提高了性价比固态的探测器，不需要额外加光窗 降低用户系统复杂性高居里点（500℃），低颤噪声（microphonics），性能稳定，受温度上升的影响小，不需要额外加制冷 提高用户系统的稳定性，降低系统复杂性灵敏度D*为1× 108@500k,1000Hz；响应度可达到10,000V/W；频率响应范围到3.3kHz很好的灵敏度可在探测器前面加Lens，以收集更多的光提高信噪比 可更加客户应用的要求，调整探测器的参数，以达到最佳的性能系统性能进一步提升气体检测目前，针对气体检测领域可以提供薄膜热释电传感器，包括单通道、双通道和四通道的气体传感器。由于这种探测器具有低功耗，探头小巧，灵敏度高，性能稳定，频率响应快等优势，可广泛应用于红外气体检测领域，可用来也制作气体分析仪（含便携式），如检测CO2、CO、CH4、H2S、碳氢化合物、氮氧化合物等。火灾预警，行为监控及客流量计数与传统的红外发射、接受的方式相比，如果选择合适焦距的红外镜头，配合不同阵列的红外探测器，不仅能够直接捕捉到由被测物体发射的红外信号（去掉了发射这一步骤），还能够获得包括空间位置等更详细的信息，有助于后续的分析系统作出正确的判断，降低误判率。

质构仪探头-化工医用探头 TA/TG拉伸夹钳薄膜支撑装置可以测量薄膜的弹性。将薄膜通过带孔的圆盘进行固定，力量臂带动球形探头穿透薄膜，从而测定薄膜的断裂强度及断裂距离。该装置用于测量薄膜类材料的破裂强度。这类材料涉及医药及个人护理品，例如膏药、绷带、胶带、人造皮肤等等。

铌酸锂（LiNbO3）晶体是重要的光电材料, 是集成光学、非线性光学、光电子元器件等领域中应用*广泛,*重要的基片材料之一。目前,铌酸锂晶体被广泛应用在声表面波、电光调制、激光调Q、光陀螺、光参量振荡、光参量放大、光全息存储等器件中,这些器件在手机、电视机、光通讯、激光测距、电场探测器等器件中发挥着重要的作用。晶正科技生产的铌酸锂单晶薄膜产品, 其晶格结构为单晶, 完全保持了体材料的**物理性质, 直径为3英寸,上层铌酸锂单晶薄膜厚度为300-700纳米, 中层为2微米厚的二氧化硅（SiO2）, *下层为0.5毫米厚的铌酸锂芯片衬底。其产品结构自上而下依次为铌酸锂单晶薄膜、二氧化硅层、铌酸锂衬底。铌酸锂单晶薄膜集成到铌酸锂衬底上，此结构可应用于电光调制器、光波导、谐振器、声表面波器件、铁电存储器等。 技术参数 产品应用 光纤通讯, 例如波导调制器等。用此薄膜材料生产的器件与传统产品相比体积可缩小百万倍以上, 集成度大幅提高, 响应频带宽,功耗低, 性能更加稳定, 制造成本降低。信息存储领域, 可实现高密度信息存储。电子学器件, 比如高质量滤波器、延迟线等。红外探测领域, 比如高灵敏度红外探测器。

EddyCus TF map 2525 薄膜电阻和薄膜厚度测试仪 方阻测试仪 薄膜电阻测试仪TF lab系列产品是一款适合实验室研发或成品检测使用的薄膜面电阻（方块电阻）及薄膜厚度测量的仪器。特点非接触成像高解析度成像（25 至1,000,000 点）缺陷成像封装层的地图参数薄膜电阻（欧姆/平方）金属层厚度（nm、μm）金属基板厚度（nm、μm）各向异性缺陷完整性评定应用建筑玻璃（LowE）触摸屏和平板显示器OLED和LED应用智能玻璃的应用透明防静电铝箔光伏半导体除冰和加热应用电池和燃料电池包装材料材料金属薄膜和栅格导电氧化物纳米线膜石墨烯、CNT（碳纳米管）、石墨打印薄膜导电聚合物（PEDOT:PSS）其他导电薄膜及材料规格参数测量技术：非接触式涡流传感器基板：例如：薄膜、玻璃、晶圆，等等最大扫描面积：10 inch / 254 x 254 mm（根据要求可以更大）边缘效应修正/排除：对于标准尺寸，排除2 mm的边缘最大样品厚度/传感器间隙：2 / 5 / 10 / 25 mm（由最厚的样本确定）薄膜电阻的范围：低 0.0001 - 10 Ohm / sq 2 至 8 % 精度标准 1 - 1,000 Ohm / sq 2 至 8 % 精度高 10 - 10,000 Ohm / sq 4 至 8 % 精度金属膜的厚度测量（例如：铝、铜）：2 nm - 2 mm (与薄膜电阻一致)扫描间距：1 / 2 / 5 / 10 mm （根据要求的其它尺寸）每单位时间内测量点（二次形）：5分钟内10,000个测量点30分钟内1,000,000 个测量点扫描时间：4 inch / 100 x 100 mm，在0.5至5分钟内（1-10mm 间距）8 inch / 200 x 200 mm，在1.5至15分钟内（1-10mm 间距）装置尺寸（宽/厚/深）：549 x 236 x 786(836) mm / 23.6 x 9.05 x 31.5 inch重量： 27 kg可用特色：薄膜电阻成像各向异性电阻传感器

原位薄膜应力测量系统，又名原位薄膜应力计或原位薄膜应力仪！MOS美国技术（US 7,391,523 B1）！曾荣获2008 Innovation of the Year Awardee！ 采用非接触激光MOS技术；不但可以准确的对样品表面应力分布进行统计分析，而且还可以进行样品表面二维应力、曲率成像分析；客户可自行定义选择使用任意一个或者一组激光点进行测量；并且这种设计可以保证所有阵列的激光光点一直在同一频率运动或扫描，从而有效的避免了外界振动对测试结果的影响；同时提高测试分辨率；适合各种材质和厚度薄膜应力分析； 该设备已经广泛被各个学府（如：Harvard University 2套，Stanford University，Johns Hopkins University，Brown University 2套，Karlsruhe Research Center,Max Planck Institute，西安交通大学，中国计量科学院等）、半导体制和微电子造商（如IBM.，Seagate Research Center,Phillips Semiconductor,NEC，Nissan ARC,Nichia Glass Corporation）等所采用； 相关产品： 薄膜应力仪（薄膜应力测量仪）：为独立测量系统，同样采用先进的MOS技术，详细信息请与我们联系。设备名称：薄膜应力测量系统，薄膜应力测试仪，薄膜应力计，薄膜应力仪，Film Stress Tester, Film Stress Measurement System 主要特点： 1.自主专用技术：MOS 多光束传感器技术； 2.单Port(样品正上方)和双Port(对称窗口)系统设计； 3.适合MOCVD, MBE, Sputter，PLD、蒸収系统等各种真空薄膜沉积系统以及热处理设备等； 4.薄膜应力各向异性测试和分析功能； 5.生长速率和薄膜厚度测量；（选件） 6.光学常数n&k 测量；（选件） 7.多基片测量功能；（选件） 8.基片旋转追踪测量功能；（选件） 9.实时光学反馈控制技术，系统安装时可设置多个测试点； 10.专业设计免除了测量受真空系统振动影响；测试功能： 1. 实时原位薄膜应力测量 2.实时原位薄膜曲率测量 3.实时原位应力薄膜厚度曲线测量 4.实时原位薄膜生长全过程应力监控等 实时原位测量功能实例：曲率、曲率半径、薄膜应力、应力—薄膜厚度曲线、多层薄膜应力测量分析等；

仪器简介：kSA MOS ThermalScan 薄膜热应力测量系统（薄膜应力仪，薄膜应力计，薄膜应力测试仪），测量光学设计MOS传感器，同时kSA公司荣获2008 Innovation of the Year Awardee！系统采用非接触MOS激光技术；不但可以对薄膜的应力、表面曲率和翘曲进行准确的测量，而且还可二维应力Mapping成像统计分析；同时可准确测量应力、曲率随温度变化的关系；部分参考用户：中国计量科学研究院电学与量子所、中国科学院上海微系统与信息技术研究所、中国科学院上海光学精密机械研究所、中国科学院长春光学精密机械与物理研究所、中国科学院上海技术物理研究所、北京航空材料研究院、苏州大学、中国科学院成都光电技术研究所中国科学院力学所、华南理工大学材料学院、中国空间技术研究院、阿里巴巴达摩院、清华大学、天津理工大学、上海大学、中国科学院兰州空间技术物理研究所、中国航空制造技术研究院、深圳瑞华泰薄膜科技股份有限公司；Harvard University ，Stanford University，Johns Hopkins University，Brown University ， Karlsruhe Research Center，Max Planck Institute，IBM.，Seagate Research Center, Phillips Semiconductor, NEC，Nissan ARC, Nich ia Glass Corporation等。同类设备：*薄膜应力测试仪（薄膜应力测量系统，薄膜应力计）；*薄膜残余应力测试仪；*实时原位薄膜应力测量系统；技术参数： Film Stress Tester, Film Stress Measurement System，Film Stress Mapping System 1.变温设计：采用真空和低压气体保护，温度范围RT~1000°C； 2.曲率分辨率：100km； 3.XY双向程序控制扫描平台扫描范围：up to 300mm（可选）； 4.XY双向扫描速度：可达20mm/s； 5.XY双向扫描平台扫描步进分辨率：2 μm ； 6.样品holder兼容：50mm, 75mm, 100mm, 150mm, 200mm, and 300mm直径样品； 7.程序化控制扫描模式：选定区域、多点线性扫描、全面积扫描； 8.成像功能：样品表面2D曲率、应力成像，及3D成像分析； 9.测量功能：曲率、曲率半径、应力强度、应力、Bow和翘曲等； 10.温度均匀度：优于±2摄氏度； 主要特点： 1.MOS多光束技术（二维激光阵列）； 2.变温设计：采用真空和低压气体保护，温度范围RT~1000°C； 3.样品快速热处理功能； 4.样品快速冷却处理功能； 5.温度闭环控制功能，保证优异的温度均匀性和精度 6.实时应力VS.温度曲线； 7.实时曲率VS.温度曲线； 8.程序化控制扫描模式：选定区域、多点线性扫描、全面积扫描； 9.成像功能：样品表面2D曲率成像，定量薄膜应力成像分析； 10.测量功能：曲率、曲率半径、薄膜应力、薄膜应力分布和翘曲等； 11.气体（氮气、氩气和氧气等）Delivery系统；实际应用：

东莞市雨菲电子科技有限公司成立于2015年，其前身为成立于2008年的维特国际。薄膜开关厂位于东莞市虎门镇怀德管理区合森工业园内，占地4500平米， PCBA厂位于东莞虎门大宁创富赢家产业园内， 占地面积3500平米。雨菲电子地理位置优越，距高速出口5公里，紧邻深圳，广州，香港，距离深圳机场仅30分钟车程，距广州机场1小时车程。雨菲电子是一家致力于电阻式薄膜开关，电容触摸式薄膜开关, 电容触摸感应线路, 薄膜面板，薄膜面贴，触摸屏贴合, 触摸显示模组, 单片机开发，PCBA及整机解决方案提供的新兴高科技企业。 雨菲电子已通过ISO9001, ISO14001, ISO13485和OHSAS18001体系认证。是业内早通过ISO13485的医疗体系认证的薄膜开关工厂。 雨菲电子的产品广泛应用于医疗, 工控, 自动化, 轨道交通, 航空航海, 网络通讯, 消费电子, 仪器仪表, 农用机械, 设备制造等广泛领域。公司所有生产车间均为十万级无尘防静电车间, 其中印刷车间为万级。此外还有2间千级高精密高洁净度无尘车间用于进行屏幕贴合, 精密电子组装等业务。公司自建品质实验室, 包括盐雾测试机, 高低温环测, 寿命测试机, 凸包高度测试仪, 二次元, 曲线荷重测试仪等仪器设备。公司拥有4台半自动丝网印刷机, 2条全自动印刷生产线, 全自动打孔机, 自动冲床, 五金冲床, 真空贴合机,脱泡机等等. 洁净的生产环境, 先进的生产设备和测试仪器确保我司优异的产品质量!

德国计量家SURAGUS GmbH，是德国注于薄膜电阻非接触测量(Non-Contact Sheet Resistance Measurement)的公司，总部位于德国德累斯顿。SURAGUS GmbH的技术可广泛应用于多种导电涂层、薄膜、衬底或多层结构的非接触检测。在不损坏、不污染样品的提下，实现对于样品均匀性、缺陷分布、涂层厚度的线上与线下的检测和分析。设备不仅可以保证快速以及高精度测量，而且兼容于真空与非真空两种环境。目，SURAGUS GmbH的产品在多个域都有布局，例如太阳能光伏、玻璃产业、显示域和半导体域等，检测对象包括金属涂层、电、ITO/AZO层，纳米银线膜/碳纳米管薄膜、金属网格、电磁屏蔽薄膜等。技术基于涡流的测试解决方案 (SURAGUS)SURface ArGUS = 表面防护（表面和薄膜上的 100 眼）其他光学计量（OEM）集成商导电功能? 燃料电池组件? 电池芯和电池组? 触摸屏传感器 (TPS)、显示器和平板显示器? 太阳能、半导体行业? LED / OLED 照明其他功能? 医疗传感器（化学）? 包装箔（阻隔）? 建筑玻璃行业（发射率）? 镜子（反射） 医疗（抗菌）设备用途1、在线检测薄层电阻2、在线检测薄膜电导率3、在线检测薄膜表面缺陷、同质性4、在线检测薄膜厚度、面积重量5、在线检测薄膜干燥状态等

FSM 128 薄膜应力及基底翘曲测试设备 如果您对该产品感兴趣的话，可以给我留言！ 产品名称：FSM 128 薄膜应力及基底翘曲测试设备产品型号：FSM 128， 500TC, 900TC1. 简单介绍 FSM 128 薄膜应力及基底翘曲测试设备:美国Frontier Semiconductor(FSM)成立于1988年，总部位于圣何塞，多年来为半导体行业等高新行业提供各式精密的测量设备，客户遍布全世界, 主要产品包括:光学测量设备: 三维轮廓仪、拉曼光谱、 薄膜应力测量设备、 红外干涉厚度测量设备、电学测量设备:高温四探针测量设备、非接触式片电阻及 漏电流测量设备、金属污染分析、等效氧化层厚度分析 (EOT)1. 产品简介：FSM128 薄膜应力及基底翘曲测试设备 在衬底镀上不同的薄膜后, 因为两者材质不一样，以及不同的材料不同温度下特性不一样, 所以会引起应力。 如应力太大会引起薄膜脱落, zui终引致组件失效或可靠性不佳的问题。 薄膜应力激光测量仪利用激光测量样本的形貌,透过比较镀膜前后衬底曲率半径的变化, 以Stoney’s Equation计算出应力, 是品检及改进工艺的有效手段。 1) 快速、非接触式测量 2) 128型号适用于3至8寸晶圆 128L型号适用于12寸晶圆 128G 型号适用于470 X 370mm样品， 另可按要求订做不同尺寸的样品台 3) 专利双激光自动转换技术 如某一波长激光在样本反射度不足，系统会自动使用 另一波长激光进行扫瞄，满足不同材料的应用 4) 全自动平台，可以进行2D及3D扫瞄（可选) 5) 可加入更多功能满足研发的需求 电介质厚度测量 光致发光激振光谱分析 （III-V族的缺陷研究） 6) 500 及 900°C高温型号可选 7) 样品上有图案亦适用1. 规格: 1) 测量方式: 非接触式(激光扫瞄) 2) 样本尺寸: FSM 128NT: 75 mm to 200 mm FSM 128L: 150 mm/ 200 mm/ 300mm FSM 128G: *大550×650 mm 3) 扫瞄方式: 高精度单次扫瞄、2D/ 3D扫瞄(可选) 4) 激光强度: 根据样本反射度自动调节 5) 激光波长: 650nm及780nm自动切换(其它波长可选) 6) 薄膜应力范围: 1 MPa — 4 GPa(硅片翘曲或弯曲度变化大于1 micron) 7) 重复性: 1% (1 sigma)* 8) 准确度: ≤ 2.5% 使用20米半径球面镜 9) 设备尺寸及重量: FSM 128: 14″(W)×22″(L)×15″(H)/ 50 lbs FSM128L:14″(W)×26″(L)×15″/ 70 lbs FSM128G:37″(W)×48″(D)×19″(H)/ 200 lbs 电源 : 110V/220V, 20A********************************************************************************FSM413 红外干涉测量设备如果您对该产品感兴趣的话，可以给我留言！ 产品名称：FSM 413 红外干涉测量设备产品型号：FSM 413EC, FSM 413MOT，FSM 413SA DP FSM 413C2C, FSM 8108 VITE C2C1. 简单介绍FSM 128 薄膜应力及基底翘曲测试设备:美国Frontier Semiconductor(FSM)成立于1988年，总部位于圣何塞，多年来为半导体行业等高新行业提供各式精密的测量设备，客户遍布全世界, 主要产品包括:光学测量设备: 三维轮廓仪、拉曼光谱、 薄膜应力测量设备、 红外干涉厚度测量设备、电学测量设备:高温四探针测量设备、非接触式片电阻及 漏电流测量设备、金属污染分析、等效氧化层厚度分析 (EOT)1. 产品简介：FSM 413 红外干涉测量设备1) 专利红外干涉测量技术, 非接触式测量 2) 适用于所有可让红外线通过的材料硅、蓝宝石、砷化镓、磷化铟、碳化硅、玻璃、石 英、聚合物… 2. 应用: 衬底厚度(不受图案硅片、有胶带、凹凸或者粘合硅片影响) 平整度 厚度变化 (TTV) 沟槽深度 过孔尺寸、深度、侧壁角度 粗糙度 薄膜厚度 环氧树脂厚度 衬底翘曲度 晶圆凸点高度(bump height) MEMS 薄膜测量 TSV 深度、侧壁角度… TSV应用Total Thickness Variation (TTV) 应用1. 规格: 1) 测量方式: 红外干涉(非接触式) 2) 样本尺寸: 50、75、100、200、300 mm， 也可以订做客户需要的产品尺寸 3) 测量厚度: 15 — 780 μm (单探头) 3 mm (双探头总厚度测量)4) 扫瞄方式: 半自动及全自动型号, 另2D/3D扫瞄(Mapping)可选5) 衬底厚度测量: TTV、平均值、*小值、*大值、公差。。。 6) 粗糙度: 20 — 1000? (RMS) 7) 重复性: 0.1 μm (1 sigma)单探头* 0.8 μm (1 sigma)双探头*8) 分辨率: 10 nm 9) 设备尺寸: 413-200: 26”(W) x 38” (D) x 56” (H) 413-300: 32”(W) x 46” (D) x 66” (H) 10) 重量: 500 lbs11) 电源 : 110V/220VAC 12) 真空: 100 mm Hg13) 样本表面光滑（一般粗糙度小于0.1μm RMS) 150μm厚硅片（没图案、双面抛光并没有掺杂）技术/销售热线：邮箱：

薄膜透湿仪_薄膜透湿性测试仪W301B水蒸气透过率测试仪又叫透湿性测试仪。基于杯式法测试原理，是一款专业用于薄膜试样的水蒸气透过率测试仪，适用于塑料薄膜、复合膜等膜、片状材料与医疗、建材领域等多种材料的水蒸气透过率的测定。通过水蒸气透过率的测定，达到控制与调节材料的技术指标的目的，满足产品应用的不同需求。产品特点◎ 称重法测试原理，符合标准要求的间歇式称量，每次测量前系统自动清零，保证数据的统一性和准确性◎ 高清液晶触摸屏，内容更直观，操作更简便◎ 单次试验测试1个试样，过程全自动化，透湿杯升降称量由气缸控制，数据准确可靠◎ 创新循环除湿系统，内置真空泵，有效防止透湿杯上方湿度梯度的形成，保证测试的准确性◎ 宽范围、高精度、自动化温湿度控制，满足各种试验条件下的测试◎ 试验结果支持多格式存储和数据输出，包括实验报告 Excel、云端共享◎ 提供标准砝码快速校准模式，称量系统保证检测数据的准确性◎ 产品符合GMP用户三级权限◎ 可进行试验结果的单次、成组的统计分析◎ 具备 ISP 在线控制、升级功能，可按照要求远程更改试验功能◎ 专门的计算机通信软件，可进行试验的实时显示及数据的分析处理 、数据保存 测试原理W301B水蒸气透过率测试仪采用透湿杯称重法测试原理，在一定的温度下，使试样的两侧形成一特定的湿度差，水蒸气透过透湿杯中的试样进入干燥的一侧，通过测定透湿杯重量随时间的变化量，从而求出试样的水蒸气透过率等参数。 应用领域薄膜：适用于各种塑料薄膜、塑料复合薄膜、纸塑复合膜、土工膜、共挤膜、防水透气膜、 镀铝膜、铝箔、铝箔复合膜等膜状材料的水蒸气透过率测试片材：适用于各种工程塑料、橡胶、建材（建筑用防水材料）、保温材料等片状材料的 水蒸气透过率测试。如PP片材PVC片材、PVDC片材、尼龙片材等纸张、纸板：适用于纸张、纸板的水蒸气透过率测试纺织品、非纺织布：适用于纺织品、非纺织布等材料的水蒸气透过率测试薄膜透湿仪_薄膜透湿性测试仪技术指标测试范围：0.01 ~ 100 g/m224h0.1MPa（常规）测试精度：0.01 g/m224h0.1MPa系统分辨率：0.001 g/m224h0.1MPa试样数量：1 ~ 3件（数据各自独立）试验温度：室温 ~ 55°C（常规）控温精度：±0.5°C试验湿度：10%RH ~ 98%RH（标准90%RH）控湿精度：±2%RH测试面积：50 cm2试样厚度：≤ 3 mm （其他厚度要求可定做）载气流量：0 ~ 200 ml/min试验压力：≥0.20 MPa接口尺寸：1/8英寸金属管外形尺寸：440 mm (L) × 450 mm (W) × 450 mm (H)电 源：AC 220V 50Hz净 重：42 kg测试标准该仪器符合多项国家和国际标准：ISO 15106-2、ASTM F1249、GB/T 26253-2010、TAPPI T557、JIS K7129、YBB 00092003-2015 产品配置标准配置：主机、专业软件、通信电缆、取样器、手套选购件：标准膜、空压机备注：本机气源进口为1/8英寸金属管；气源、蒸馏水用户自备

AYAN品牌内径60mm玻璃薄膜蒸发器产品介绍：薄膜蒸发器（Thin film evaporator）是一种物料液体沿加热管壁呈膜状流动而进行传热和蒸发，优点是传热效率高，蒸发速度快，蒸发器的类型，特点是物料停留时间短，因此特别适合热敏性物质的蒸发，是一种特殊的液--液分离技术，在高真空状态下，使蒸气分子的平均自由程大于蒸发表面与冷凝表面之间的距离，从而可利用料液中各组分蒸发速率的差异，对液体混合物进行分离。产品特征：1.远低于物料沸点的温度下操作,而且物料停留时间短 利于高沸点、热敏及易氧化物料的分离2.有效地脱除液体中的物质如有机溶剂、臭味等,对于采用溶剂萃取后液体的脱溶是非常有效的方法3.可有选择蒸挥发出产物,去除其它杂质,通过多级分离可同时分离2种以上的物质4.蒸馏真空度高，真空度可达5mmHg以下，其内部可以获得很高的真空度，通常分子蒸馏在很低的压强下进行操作，因此物料不易氧化受损5.蒸馏液膜薄,传热效率高，膜厚度小于0.5mm6.分离程度更高，分子蒸馏能分离常规不易分开的物质7.没有沸腾鼓泡现象，分子蒸馏是液层表面上的自由蒸发，在低压力下进行，液体中无溶解的空气，因此在蒸馏过程中不能使整个液体沸腾，没有鼓泡现象8.物理分离法，无毒、无害、无污染、无残留，可得到纯净安全的产物9.刮板系统由PTFE材料和SS316L不锈钢材料制成，具有极高抗腐蚀的功效；10.进料罐可选实现预加热功能，温度可达300度，温度可调节11.各个接口采用的是硅胶垫片进行密封，气密性好，如客户需要耐腐蚀可以更换成四氟材质。产品参数：产品型号AYAN-B60AYAN-B80AYAN-B100AYAN-B150AYAN-B200AYAN-B220内径(mm)6080100150200220蒸发面积(㎡)0.060.10.150.250.350.5冷凝面积(㎡)0.10.150.250.450.550.65进料容积(L）1（可定制）2（可定制）2（可定制）2（可定制）5（可定制）5(可定制)处理流量L/H0.1∽2.00.5∽4.00.5∽5.01.0∽8.01.5∽15.02.0∽15.0电机功率(W)120120120120120200z大转速(r/min)450450450450450450轻组分收集瓶(L）1（可定制）1（可定制）2（可定制）3（可定制）5（可定制）5(可定制)重组成收集瓶(L）1（可定制）1（可定制）2（可定制）3（可定制）5（可定制）5(可定制)冷井有有有有有有外置冷凝装置有有有有有有冷却装置有有有有有有真空度(pa)100bar以下100bar以下100bar以下100bar以下100bar以下100bar以下受热温度(°C)室温-200室温-200室温-200室温-200室温-200室温-200 薄膜蒸发器的结构特点和使用。燃烧、爆炸的条件及其控制　　我们知道，一般情况下，煤粉烟气的燃烧暴炸条件为燃烧物、氧气和温度（火源），因此就必须对其进行控制，才能保证含尘气体不发生燃烧和爆炸。1、控制燃烧物　　含尘气体的燃烧物一是可燃气体，另一个是固体燃烧物，可燃气体主要是一氧化碳，其在气体中的含量达到一定浓度就可能发生爆炸，一氧化碳主要来自通风系统的热源，因此，必须加强通风系统的管理，保证一氧化碳含量在安全范围内。　　控制固体可燃物包括控制进气口含尘浓度和避免收尘器内部煤粉堆积两个方面，避免煤粉堆积由收尘器特殊结构来保证，而气体的含尘浓度则由系统工艺决定，根据有关试验表明，煤粉的爆炸浓度工区是100-2000g/m3，因此，为保证薄膜蒸发器安全运行，z好控制在60g以下，但是随着粉磨技术的发展，薄膜蒸发器常被作为工艺设备选用，而且又都采用一级收尘，含尘气体由磨机经粗粉分离器直接进入薄膜蒸发器，含尘浓度一般都在300-700g/m3之间，这正处于爆炸的危险区域，因此，控制其它两个爆炸条件及保证检测、防爆系统的正常尤为重要。2、控制含氧量　　氧气是燃烧的三要素之一，试验表明，气体含氧量低于12时，就能避免燃烧发生。在煤磨系统中，常需要热气体对磨进行通风和烘干物料，煤粉磨常采用窑头冷却机热风，或窑尾废气作热源，若采用冷却机热风，气体中的含氧量基本上与空气相同，为21，这将增大煤粉烟气爆炸的可能，极不安全，因此，使用薄膜蒸发器的煤磨系统z好是采用窑尾废气作热源，含氧量可降至12以下。3、控制温度　　控制温度包括气体温度和消除火源，气体温度的控制由工艺布置和现场管理来保证。火源的产生对于袋式收尘器来说主要有滤袋静电，运动部件碰撞火花和系统窜入火星，薄膜蒸发器使用新研制的防静电滤袋可抑制滤袋产生静电，运动部件采用铝制品，可防止碰撞火花。

安研薄膜蒸发器AYAN-B200刮板式薄膜蒸发设备产品介绍： 薄膜蒸发器（Thin film evaporator）是一种物料液体沿加热管壁呈膜状流动而进行传热和蒸发，优点是传热效率高，蒸发速度快，蒸发器的类型，特点是物料停留时间短，因此特别适合热敏性物质的蒸发，是一种特殊的液--液分离技术，在高真空状态下，使蒸气分子的平均自由程大于蒸发表面与冷凝表面之间的距离，从而可利用料液中各组分蒸发速率的差异，对液体混合物进行分离。产品特征：1.远低于物料沸点的温度下操作,而且物料停留时间短 利于高沸点、热敏及易氧化物料的分离2.有效地脱除液体中的物质如有机溶剂、臭味等,对于采用溶剂萃取后液体的脱溶是非常有效的方法3.可有选择蒸挥发出产物,去除其它杂质,通过多级分离可同时分离2种以上的物质4.蒸馏真空度高，真空度可达5mmHg以下，其内部可以获得很高的真空度，通常分子蒸馏在很低的压强下进行操作，因此物料不易氧化受损5.蒸馏液膜薄,传热效率高，膜厚度小于0.5mm6.分离程度更高，分子蒸馏能分离常规不易分开的物质7.没有沸腾鼓泡现象，分子蒸馏是液层表面上的自由蒸发，在低压力下进行，液体中无溶解的空气，因此在蒸馏过程中不能使整个液体沸腾，没有鼓泡现象8.物理分离法，无毒、无害、无污染、无残留，可得到纯净安全的产物9.刮板系统由PTFE材料和SS316L不锈钢材料制成，具有极高抗腐蚀的功效；10.进料罐可选实现预加热功能，温度可达300度，温度可调节11.各个接口采用的是硅胶垫片进行密封，气密性好，如客户需要耐腐蚀可以更换成四氟材质。产品参数：产品型号AYAN-B60AYAN-B80AYAN-B100AYAN-B150AYAN-B200AYAN-B220内径(mm)6080100150200220蒸发面积(㎡)0.060.10.150.250.350.5冷凝面积(㎡)0.10.150.250.450.550.65进料容积(L）1（可定制）2（可定制）2（可定制）2（可定制）5（可定制）5(可定制)处理流量L/H0.1∽2.00.5∽4.00.5∽5.01.0∽8.01.5∽15.02.0∽15.0电机功率(W)120120120120120200z大转速(r/min)450450450450450450轻组分收集瓶(L）1（可定制）1（可定制）2（可定制）3（可定制）5（可定制）5(可定制)重组成收集瓶(L）1（可定制）1（可定制）2（可定制）3（可定制）5（可定制）5(可定制)冷井有有有有有有外置冷凝装置有有有有有有冷却装置有有有有有有真空度(pa)100bar以下100bar以下100bar以下100bar以下100bar以下100bar以下受热温度(°C)室温-200室温-200室温-200室温-200室温-200室温-200薄膜蒸发器的结构特点和使用。燃烧、爆炸的条件及其控制　　我们知道，一般情况下，煤粉烟气的燃烧暴炸条件为燃烧物、氧气和温度（火源），因此就必须对其进行控制，才能保证含尘气体不发生燃烧和爆炸。1、控制燃烧物　　含尘气体的燃烧物一是可燃气体，另一个是固体燃烧物，可燃气体主要是一氧化碳，其在气体中的含量达到一定浓度就可能发生爆炸，一氧化碳主要来自通风系统的热源，因此，必须加强通风系统的管理，保证一氧化碳含量在安全范围内。　　控制固体可燃物包括控制进气口含尘浓度和避免收尘器内部煤粉堆积两个方面，避免煤粉堆积由收尘器特殊结构来保证，而气体的含尘浓度则由系统工艺决定，根据有关试验表明，煤粉的爆炸浓度工区是100-2000g/m3，因此，为保证薄膜蒸发器安全运行，z好控制在60g以下，但是随着粉磨技术的发展，薄膜蒸发器常被作为工艺设备选用，而且又都采用一级收尘，含尘气体由磨机经粗粉分离器直接进入薄膜蒸发器，含尘浓度一般都在300-700g/m3之间，这正处于爆炸的危险区域，因此，控制其它两个爆炸条件及保证检测、防爆系统的正常尤为重要。2、控制含氧量　　氧气是燃烧的三要素之一，试验表明，气体含氧量低于12时，就能避免燃烧发生。在煤磨系统中，常需要热气体对磨进行通风和烘干物料，煤粉磨常采用窑头冷却机热风，或窑尾废气作热源，若采用冷却机热风，气体中的含氧量基本上与空气相同，为21，这将增大煤粉烟气爆炸的可能，极不安全，因此，使用薄膜蒸发器的煤磨系统z好是采用窑尾废气作热源，含氧量可降至12以下。3、控制温度　　控制温度包括气体温度和消除火源，气体温度的控制由工艺布置和现场管理来保证。火源的产生对于袋式收尘器来说主要有滤袋静电，运动部件碰撞火花和系统窜入火星，薄膜蒸发器使用新研制的防静电滤袋可抑制滤袋产生静电，运动部件采用铝制品，可防止碰撞火花。

kSA MOS UltraScan采用非接触MOS（多光束光学传感）激光技术；不但可以对薄膜的应力、表面曲率和翘曲进行准确的测量，而且还可二维应力 Mapping成像统计分析；同时准确测量应力、曲率随温度变化的关系。基于kSA MOS，kSA MOS Ultra Scan使用二维激光阵列扫描绘制半导体晶圆、光学镜面、玻璃、透镜等各种抛光表面的二维曲率、翘曲度和薄膜应力分布图。kSA MOS Ultra Scan适用于室温条件下测量需求，实现晶元全自动2D扫描测量，同时获得3D图。部分参考用户：中国计量科学研究院电学与量子所、中国科学院上海微系统与信息技术研究所、中国科学院上海光学精密机械研究所、中国科学院长春光学精密机械与物理研究所、中国科学院上海技术物理研究所、北京航空材料研究院、苏州大学、中国科学院成都光电技术研究所中国科学院力学所、华南理工大学材料学院、中国空间技术研究院、阿里巴巴达摩院、清华大学、天津理工大学、上海大学、中国科学院兰州空间技术物理研究所、中国航空制造技术研究院、深圳瑞华泰薄膜科技股份有限公司；Harvard University ，Stanford University，Johns Hopkins University，Brown University ， Karlsruhe Research Center，Max Planck Institute，IBM.，Seagate Research Center, Phillips Semiconductor, NEC，Nissan ARC, Nich ia Glass Corporation等。相关产品： *实时原位薄膜应力仪（kSA MOS Film Stress Tester）：同样采用先进的MOS技术，可装在各种真空沉积设备上（如：MBE, MOCVD, sputtering, PLD, PECVD, and annealing chambers ects），对于薄膜生长过程中的应力变化进行实时原位测量和二维成像分析； *薄膜热应力测量系统（kSA MOS Thermal-Scan Film Stress Tester） 技术参数：1.XY双向程序控制扫描平台扫描范围：300mm；2m（可选）；二维应力分析2.扫描速度：可达20mm/s（x,y）；3.XY双向扫描平台扫描步进/分辨率：1 μm；4.平均曲率分辨率：20km，5×10-5 1/m (1-sigma)；5.薄膜应力测量范围：3.2×106到7.8×1010dynes/cm2（或者3.2×105Pa to7.8×109Pa）(1-sigma)；6.应力测量分辨率：优于0.32MPa或1% (1-sigma) 7.应力测量重复性：0.02MPa(1-sigma)；8.平均曲率重复性：5×10-5 1/m (1 sigma) (1-sigma)；9.程序化控制扫描模式：选定区域、多点线性扫描、全样品扫描；10.成像功能：样品表面2D曲率成像，定量薄膜应力成像分析；11.测量功能：曲率、曲率半径、应力强度、应力和翘曲等；12.二维激光阵列测量技术：不但可以对样品表面进行二维曲率成像分析；而且这种设计能保证所有阵列的激光光点一直在同一频率运动或扫描，从而有效避免外界振动对测试结果的影响；同时提高测试分辨率；主要特点： 1.MOS多光束技术（二维激光阵列）； 2.自动光学追踪技术； 3.程序化控制扫描模式：选定区域、多点线性扫描、面积扫描； 4.成像扫描功能：样品表面2D曲率成像，定量薄膜应力成像分析； 5.测量功能：曲率、曲率半径、薄膜应力、薄膜应力分布和翘曲等； 6.适用于各种薄膜应力测量，及半导体晶圆、光学镜面、玻璃、透镜等表面曲率、面型测量。测试实例：

厂家正式授权代理商：岱美有限公司联系电话：，（贾先生）联系地址：北京市房山区启航国际3期5号楼801公司网址：ThetaMetrisis是一家私有公司，成立于2008年12月，位于希腊雅典，是NCSR' Demokritos' 的微电子研究所的第一家衍生公司。ThetaMetrisis的核心技术是白光反射光谱（WLRS），它可以在几埃到几毫米的超宽范围内，准确而同时地测量堆叠的薄膜和厚膜的厚度和折射率。 FR-Mic: 微米级薄膜表征-厚度，反射率，折射率及消光系数测量仪一、产品简介： FR-Mic 是一款快速、准确测量薄膜表征应用的模块化解决方案，要求的光斑尺寸小到几个微米，如微图案表面，粗糙表面及许多其他表面。它可以配备一台专用计算机控制的 XY 工作台，使其快速、方便和准确地描绘样品的厚度和光学特性图。o 实时光谱测量o 薄膜厚度，光学特性，非均匀性测量，厚度映射o 使用集成的， USB 连接高品质彩色摄像机（CCD）进行成像 二、应用领域 o 大学 & 科研院所o 半导体（氧化物、氮化物、硅、电阻等）o MEMS 元器件 (光刻胶、硅薄膜等)o LEDo 数据存储元件o 弯曲基材（衬底）上的硬/软涂层o 聚合物涂层、粘合剂等o 生物医学（ parylene—— 派瑞林,气泡壁厚,等等 )o 其他更多 … (如有需求，请与我们取得联系) 三、产品特点o 单点分析(无需预设值）o 动态快速测量o 包括光学参数(n和k，颜色)o 为演示保存视频o 600 多种的预存材料o 离线分析o 免费软件更新 四、技术参数 FR-Scanner 自动化超高速精准薄膜厚度测量仪 一、产品简介： FR-Scanner 是一种紧凑的台式工具，适用于自动测绘晶圆片上的涂层厚度。FR-Scanner 可以快速和准确测量薄膜特性:厚度，折射率，均匀性，颜色等。真空吸盘可应用于任何直径或其他形状的样片。 独特的光学模块可容纳所有光学部件:分光计、复合光源(寿命10000小时)、高精度反射探头。因此，在准确性、重现性和长期稳定性方面保证了优异的性能。FR-Scanner 通过高速旋转平台和光学探头直线移动扫描晶圆片(极坐标扫描)。通过这种方法，可以在很短的时间内记录具有高重复性的精确反射率数据，这使得FR-Scanner 成为测绘晶圆涂层或其他基片涂层的理想工具。测量 8” 样片 625 点数据60 秒 二、应用领域o 弯曲基材（衬底）上的硬/软涂层o 聚合物涂层、粘合剂等o 生物医学（ parylene—— 派瑞林,气泡壁厚,等等 )o 半导体生产制造：(光刻胶, 电介质,光子多层结构， poly-Si,Si, DLC )o 光伏产业o 液晶显示o 光学薄膜o 聚合物o 微机电系统和微光机电系统o 基底: 透明 (玻璃, 石英, 等等) 和半透明 三、产品特点o 单点分析(无需预设值）o 动态快速测量o 包括光学参数(n和k，颜色)o 为演示保存视频o 600 多种的预存材料o 离线分析o 免费软件更新 四、技术参数FR-Scanner: 自动化超高速薄膜厚度测量仪 FR-pOrtable:一款USB驱动的薄膜表征工具 一、产品简介： FR-pOrtable 是 一 款独 特 的 便 携 式 测 量 仪器 ， 可 对 透 明 和 半 透明 的 单 层 或 多 层 堆 叠薄 膜 进 行 精 确 的 无 损（非接触式）表征。使用 FR-pOrtable，用户可以在 380-1020nm 光谱范围内进行反射率和透射率测量及薄膜厚度测量。二、应用领域o 大学 & 科研院所o 半导体（氧化物、氮化物、硅、电阻等）o MEMS 元器件 (光刻胶、硅薄膜等)o LEDo 数据存储元件o 弯曲基材（衬底）上的硬/软涂层o 聚合物涂层、粘合剂等o 生物医学（ parylene—— 派瑞林,气泡壁厚,等等 )o 其他更多 … (如有需求，请与我们取得联系) 三、应用领域 FR-pOrtable的紧凑尺寸以及定制设计的反射探头以及宽带长寿命光源确保了高精度和可重复的便携式测量。 FR-Portable既可以安装在提供的载物台上，也可以轻松转换为手持式厚度测量工具。放置在待表征的样品上方即可进行测量。 FR-Portable是用于工业环境（如R2R、带式输送机等）中涂层实时表征的可靠而精确的测厚仪。四、产品特点o 一键分析 (无需初始化操作)o 动态测量o 测量光学参数(n & k, 颜色)，膜厚o 自动保存演示视频o 可测量 600 多种不同材料o 用于离线分析的多个设置o 免费软件更新服务 五、技术参数FR-pRo: 按需可灵活搭建的薄膜特性表征工具一、产品简介： FR-pRo 是一个模块化和可扩展平台的光学测量设备，用于表征厚度范围为1nm-1mm 的涂层.FR-pRo 是为客户量身定制的，并广泛应用于各种不同的应用 。 FR-pRo 可由用户按需选择装配模块，核心部件包括光源，光谱仪（适用于 200nm-2500nm 内的任何光谱系统）和控制单元，电子通讯模块此外，还有各种各种配件，比如:? 用于测量吸收率/透射率和化学浓度的薄膜/试管架,? 用于表征涂层特性的薄膜厚度工具,? 用于控制温度或液体环境下测量的加热装置或液体试剂盒,? 漫反射和全反射积分球通过不同模块组合，最终的配置可以满足任何终端用户的需求 二、应用领域o 弯曲基材（衬底）上的硬/软涂层o 聚合物涂层、粘合剂等o 生物医学（ parylene—— 派瑞林,气泡壁厚,等等 )O 半导体生产制造：(光刻胶, 电介质,光子多层结构， poly-Si,Si, DLC )o 光伏产业o 液晶显示o 光学薄膜o 聚合物o 微机电系统和微光机电系统o 基底: 透明 (玻璃, 石英, 等等) 和半透明 三、产品特点o 单点分析(无需预设值）o 动态快速测量o 包括光学参数(n和k，颜色)o 为演示保存视频o 600 多种的预存材料o 离线分析o 免费软件更新 四、技术参数

精小型气动调节阀|气动薄膜调节阀|气动薄膜阀-精欧控制阀门15–18 分钟ZJHJP精小型气动调节阀精小型气动调节阀 产品概述 精欧控制阀门 小裴 （微信同号）本公司的ZJHJP精小型气动调节阀，是由多弹簧气动薄膜执行机构和低流阻精小型调节阀阀体组成，多弹簧执行机构高度低、重量轻、装备简便。精小型气动调节阀阀体流道呈S流线型，具有结构紧凑、重量轻、动作灵敏、压降损失小、阀容量大、流量特性准确、维护方便等优点，可用于苛刻的工作条件。气动薄膜调节阀配用电-气阀门定位或气动阀门定位器，可实现对工艺管路流体介质的自动调节控制。精小型气动薄膜调节阀广泛应用于准确控气体、液体、蒸汽等介质的工艺参数如压力、流量、温度、液位等参数保持在给定值气。精小型气动薄膜调节阀特别适用于允许泄露量小、阀前后压差不大及有一定粘度和含少量纤维介质的场合。精小型气动调节阀 技术参数公称通径(DN)20253240506580100125150200250300阀座直径(dn)20253240506580100125150200250300额定流量系数(KV)单座6.91117.627.544691101762754406308751250套筒6.310162540631001602503605708501180允许压差(MPa)单座3.83.23.02.01.81.51.41.00,70.60.50.30.1套筒6.46.45.25.24.64.63.73.73.53.13.12.62.2公称压力(MPa)1.6、2.5、4.0、6.4、10.0额定行程(mm)16254060100执行器型号ZHA/B-22ZHA/B-23ZHA/B-34ZHA/B-45ZHA/B-56阀盖形式标准型(-17～+250℃)、高温型(+250～+450℃)、低温型(-40～-196℃)、波纹管密封型(-40～+350℃)压盖形式螺栓压紧式密封填料V型聚四氟乙烯填料、V型柔性石墨填料阀芯形式单座式、套筒式流量特性等百分比、直线性精小型气动调节阀 执行机构配置执行器类别ZHA/B多弹簧簿膜执行机构执行器型号ZHA/B-22ZHA/B-23ZHA/B-34ZHA/B-45ZHA/B-56有效面积(cm2)3503505609001400行程(mm)10、16244040、60100弹簧范围(KPa)20～100（标准）、20-60、60-100、40-200、80-240膜片材料丁腈橡胶夹尼龙布、乙丙橡胶夹尼龙布供气压力140～400KPa气源接口RC1/4"环境温度-30～+70℃可配附件定位器、空气过滤减压器、保位阀、行程开关、阀位传送器、手轮机构等作用形式气关式(B)—失气时阀位开(FO)；气开式(K)—失气时阀位关(FC)精小型气动调节阀 性能指标项目不带定位器带定位器基本误差%±5.0±1.0回差%3.01.0死区%3.00.4始终点偏差%气开始点±2.5±1.0始点±5.0±1.0气关始点±5.0±1.0终点±2.5±1.0额定行程偏差%≤2.5泄露量L/h0.01%×阀额定容量可调范围R30：1精小型气动调节阀 零件材料1阀体WCB304316316L2垫片PTFE\石墨垫片PTFE\石墨垫片PTFE\石墨垫片PTFE\石墨垫片3阀座/套筒304304316316L4阀芯304304316316L5导向套/并帽304304316316L6中垫PTFE\石墨垫片PTFE\石墨垫片PTFE\石墨垫片PTFE\石墨垫片7阀盖WCB304316316L8阀杆304304316316L9金属垫304304316316L10填料PTFE/石墨PTFE/石墨PTFE/石墨PTFE/石墨11螺栓25不锈钢不锈钢不锈钢12填料压盖WCB304316316L精小型气动调节阀 产品选型（1）阀体参数：公称通径、工作压力、工艺介质、使用场合、阀体材料等系列参数。（2）执行器参数：执行器形式、控制方式、控制信号(4-20mA,1-5V)、作用方式(气-开式，气-关式)尽量详细提供以上技术参数，方便我公司生产及技术人员为您准确选型。如有任何疑问.您可以致电给我们，我们一定会尽心尽力为您提供优质的服务！相关名称：精小型气动调节阀,气动薄膜调节阀,气动薄膜阀

电镜薄膜网格电镜薄膜网格（载网膜）是透射电镜常用的耗材之一，主要作用是在电镜观察时负载小尺度的样品。微孔膜网格具有一系列不同的孔径，排列在方形网格上，不同的设计，具有不同的间距（节距）。孔阵列以正方形SiNx膜窗口为心，窗口以标准TEM网格的框架为中心。用于透射电子显微镜（TEM）的标准氮化硅窗口网格可提供以200μm厚度的硅框架为中心的5nm、10nm、30nm、50nm或100nm厚的方形膜窗口。TEM窗口框架是圆形或八边形的，并且适合在3.0mm直径的圆内。氮化硅膜是低应力和坚固的。我们所有的TEM窗口都封装在2〃x2〃包装盒中（每盒10pcs）。 另外，我们提供位置标记的多孔TEM氮化物窗口类似于规则的TEM网格，但在膜区域上具有微米尺寸的孔。并且，它在X和Y方向上沿着多孔膜的边缘都有位置标记，允许用户在TEM工作期间跟踪膜上的位置。 ** 如果您需要用于纳米孔、基因组学、蛋白质组学或其他生物物理应用的微孔膜产品，详情可联系上海昊量光电设备有限公司。更多详情请联系昊量光电/欢迎直接联系昊量光电关于昊量光电：上海昊量光电设备有限公司是光电产品专业代理商，产品包括各类激光器、光电调制器、光学测量设备、光学元件等，涉及应用涵盖了材料加工、光通讯、生物医疗、科学研究、国防、量子光学、生物显微、物联传感、激光制造等；可为客户提供完整的设备安装，培训，硬件开发，软件开发，系统集成等服务。

【仪器介绍】SGC-10型薄膜测厚仪，适用于介质，半导体，薄膜滤光片和液晶等薄膜和涂层的厚度测量，是天津港东与美国new-span公司合作研制的，采用new-span公司先进的薄膜测厚技术，基于白光干涉的原理来测定薄膜的厚度和光学常数（折射率n，消光系数k）。通过分析薄膜表面的反射光和薄膜与基底界面的反射光相干形成的反射谱，用软件来拟合运算，得到单层或多层膜系各层的厚度d，折射率n，消光系数k。设备关键部件均为国外进口，也可根据客户需要整机进口。【产品配置及参数】编号名称规格1厚度范围20nm-50um（只测膜厚），100nm-10um（同时测量膜厚和光学常数n，k）根据薄膜材料的种类，其范围有所不同。2准确度1nm或0.5%3重复性0.1nm4波长范围380nm-1000nm5可测层数1-4层6样品尺寸样品镀膜区直径1.2mm7测量速度5s-60s8光斑直径1.2mm-10mm可调9样品台290mm*160mm10光源长寿命溴钨灯（2000h）11光纤纯石英宽光谱光纤12探测器进口光纤光谱仪13电源AC100V-240V，50HZ-60HZ14重量18kg15尺寸300mm*300mm*350mm 【强大的软件功能】界面友好，操作简便，用户点击几下鼠标就可以完成测量。便捷快速的保存、读取测量得到的反射谱数据数据处理功能强大，可同时测量多达四层的薄膜的反射率数据。一次测量即可得到四层薄膜分别的厚度和光学常数等数据。材料库中包含了大量常规的材料的光学常数数据。用户可以非常方便地自行扩充材料数据库。 【产品功能适用性】该仪器适用于多种介质，半导体，薄膜滤光片和液晶等薄膜和涂层的厚度测量。 【典型的薄膜材料】SiO2、CaF2、MgF、光刻胶、多晶硅、非晶硅、SiNx、TiO2、聚酰亚胺、高分子膜。 【典型的基底材料】SiGe、GaAs、ZnS、ZnSe、铝丙烯酸、蓝宝石、玻璃、聚碳酸酯、聚合物、石英。 仪器具有开放性设计，仪器的光纤探头可很方便地取出，通过仪器附带的光纤适配器（如图所示）连接到带C-mount适用于微区（10μm，与显微镜放大率有关）薄膜厚度的显微镜（显微镜需另配），就可以使本测量仪测量。

全自动薄膜相变特性测试仪是一款对相变材料相变特性进行测量与分析的精密光电仪器，可通过自动测量分析薄膜或者粉体等相变材料的热滞回线、相变温度、热滞宽度、相变幅度等特性参数。先进的模块化设计理念、精密的光探针技术、高端的进口芯片、便捷的自动测试分析软件、以及时尚的外观，使该仪器成为二氧化钒等相变材料研究的不二选择。中国科学院广州能源研究所，深圳大学等单位为典型用户。全自动薄膜相变特性测试仪技术特点：1、精密光学测量技术，可进行单层、多层和超小样品的测量,且灵敏度更高2、非接触式信号采集，避免了接触式探针测量对样品的损伤和不稳定性缺点3、先进的光探针技术，使得采样范围最小直径可达300微米4、全自动一-键测量，操作简单，省时、省事5、超高采样速率1测量快速、准确，工作效率高6、触摸屏操作与电脑操作两种模式,测量随心所欲7、升温速率无级可调，根据实际需求任意选择8、与DSC测量相比，具有超高性价比9、科研型与基础型，满足不同需求技术规格1、仪器型号PTM17002、工作波长1550nm (特殊需要波长可定制)3、样品台温度范围:室温~120°C，温度精度+0.1°C4、采样频率1Hz5、最小采样范围直径300um6、红外非接触测温模式7、自然冷却与风冷两种降温模式8、加热速率无级可调9、设定参数后自动测量出薄膜相变的热滞回线10、USB2.0高速数据接口11、测试分析软件可得到相变温度、热滞宽度等特性参数12.可以Exce形式导出各原始测试数据和分析数据，以word形式导出测试分析报告

薄膜相变分析仪是一款对相变材料相变特性进行测量与分析的精密光电仪器，可通过自动测量分析薄膜或者粉体等相变材料的热滞回线、相变温度、热滞宽度、相变幅度等特性参数。先进的模块化设计理念、精密的光探针技术、高端的进口芯片、便捷的自动测试分析软件、以及时尚的外观，使该仪器成为二氧化钒等相变材料研究的不二选择。中国科学院广州能源研究所，深圳大学等单位为典型用户。薄膜相变分析仪技术特点：1、精密光学测量技术，可进行单层、多层和超小样品的测量,且灵敏度更高2、非接触式信号采集，避免了接触式探针测量对样品的损伤和不稳定性缺点3、先进的光探针技术，使得采样范围最小直径可达300微米4、全自动一-键测量，操作简单，省时、省事5、超高采样速率1测量快速、准确，工作效率高6、触摸屏操作与电脑操作两种模式,测量随心所欲7、升温速率无级可调，根据实际需求任意选择8、与DSC测量相比，具有超高性价比9、科研型与基础型，满足不同需求技术规格1、仪器型号PTM17002、工作波长1550nm (特殊需要波长可定制)3、样品台温度范围:室温~120°C，温度精度+0.1°C4、采样频率1Hz5、最小采样范围直径300um6、红外非接触测温模式7、自然冷却与风冷两种降温模式8、加热速率无级可调9、设定参数后自动测量出薄膜相变的热滞回线10、USB2.0高速数据接口11、测试分析软件可得到相变温度、热滞宽度等特性参数12.可以Exce形式导出各原始测试数据和分析数据，以word形式导出测试分析报告

东莞市雨菲电子科技有限公司成立于2015年，其前身为成立于2008年的维特国际。薄膜开关厂位于东莞市虎门镇怀德管理区合森工业园内，占地4500平米， PCBA厂位于东莞虎门大宁创富赢家产业园内， 占地面积3500平米。雨菲电子地理位置优越，距高速出口5公里，紧邻深圳，广州，香港，距离深圳机场仅30分钟车程，距广州机场1小时车程。雨菲电子是一家致力于电阻式薄膜开关，电容触摸式薄膜开关, 电容触摸感应线路, 薄膜面板，薄膜面贴，触摸屏贴合, 触摸显示模组, 单片机开发，PCBA及整机解决方案提供的新兴高科技企业。 雨菲电子已通过ISO9001, ISO14001, ISO13485和OHSAS18001体系认证。是业内早通过ISO13485的医疗体系认证的薄膜开关工厂。 雨菲电子的产品广泛应用于医疗, 工控, 自动化, 轨道交通, 航空航海, 网络通讯, 消费电子, 仪器仪表, 农用机械, 设备制造等广泛领域。公司所有生产车间均为十万级无尘防静电车间, 其中印刷车间为万级。此外还有2间千级高精密高洁净度无尘车间用于进行屏幕贴合, 精密电子组装等业务。公司自建品质实验室, 包括盐雾测试机, 高低温环测, 寿命测试机, 凸包高度测试仪, 二次元, 曲线荷重测试仪等仪器设备。公司拥有4台半自动丝网印刷机, 2条全自动印刷生产线, 全自动打孔机, 自动冲床, 五金冲床, 真空贴合机,脱泡机等等. 洁净的生产环境, 先进的生产设备和测试仪器确保我司优异的产品质量!

产品简介：SGC-10薄膜测厚仪，适用于介质，半导体，薄膜滤波器和液晶等薄膜和涂层的厚度测量。该薄膜测厚仪，是与美国new-span公司合作研制的，采用new-span公司先进的薄膜测厚技术，基于白光干涉的原理来测定薄膜的厚度和光学常数（折射率n，消光系数k）。它通过分析薄膜表面的反射光和薄膜与基底界面的反射光相干形成的反射谱，用相应的软件来拟合运算，得到单层或多层膜系各层的厚度d，折射率n，消光系数k。产品型号SGC-10薄膜测厚仪主要特点1、非接触式测量，用光纤探头来接收反射光，不会破坏和污染薄膜；2、测量速度快，测量时间为秒的量级；3、可用来测薄膜厚度，也可用来测量薄膜的折射率n和消光吸收k；4、可测单层薄膜，还可测多层膜系；5、可广泛应用于各种介质，半导体，液晶等透明半透明薄膜材料；6、软件的材料库中整合了大量材料的折射率和消光系数，可供用户参考；7、内嵌微型光纤光谱仪，结构紧凑, 光纤光谱仪也可单独使用。8、强大的软件功能：界面友好，操作简便，用户点击几下鼠标就可以完成测量。便捷快速的保存、读取测量得到的反射谱数据数据处理功能强大，可同时测量多达四层的薄膜的反射率数据。一次测量即可得到四层薄膜分别的厚度和光学常数等数据。材料库中包含了大量常规的材料的光学常数数据。用户可以非常方便地自行扩充材料数据库。9、仪器具有开放性设计，仪器的光纤探头可很方便地取出，通过仪器附带的光纤适配器（如图所示）连接到带C-mount适用于微区（10μm，与显微镜放大率有关）薄膜厚度的显微镜（显微镜需另配），就可以使本测量仪测量。技术参数1、厚度范围： 20nm-50um（只测膜厚），100nm-25um（同时测量膜厚和光学常数n，k），根据薄膜材料的种类，其范围有所不同。2、准确度： 1nm或0.5%3、重复性： 0.1nm4、波长范围： 380nm-1000nm5、可测层数： 1-4层6、样品尺寸： 样品镀膜区直径1.2mm7、测量速度： 5s-60s8、光斑直径： 1.2mm-10mm可调9、样品台： 290mm*160mm10、光源： 长寿命溴钨灯（2000h）11、光纤： 纯石英宽光谱光纤12、探测器： 进口光纤光谱仪13、电源：AC110V-240V，50HZ-60HZ产品规格尺寸：300mm*300mm*350mm，重量：18kg

UV3 CMOS 紫外光谱系统， （紫外氙灯+紫外光谱仪+探头）它结合了CMOS紫外光谱仪和氙气光源，以实现经济高效的解决方案。CMOS紫外光谱仪组合氙光源来自JPN的CMOS探测器来自美国/德国的硬件1.集成的紫外光谱系统，它提供了一个完整的解决方案，将CMOS光谱仪与氙灯相结合，方便用户测量2.稳定的紫外线测量，高性能氙气闪烁灯，特别是在紫外线区域，使其测量稳定3.低成本，整个集成系统降低复杂性, 是一个完整的紫外测量方案.UVS3系列亮点CMOS探测器在UV紫外段性能良好高灵敏度在紫外线区域波长范围180-500nm，200-400nm信噪比800:1 *snr=(信号-噪声)/偏差集成氙气光源降低系统复杂度具成本效益的紫外线光谱系统支持扩展SDK，支持二次开发SMA905光接口完整的UVS3系统测量附件，如流通池USB接口用途紫外分光光度计紫外光谱测量紫外光谱仪紫外吸收光谱法紫外吸光度，吸光度测量透射率，透射系数测量水质，总氮测量吸光度计算，浓度计算使用朗伯比尔定律，可以计算液体的浓度或者含量蛋白质浓度测量定量分析测量应用举例一：膜厚测量薄膜干涉测厚是一种非接触式测量薄膜厚度的方法。它利用光的干涉原理，通过测量干涉光的波长变化来确定薄膜的厚度。薄膜干涉色测量法:薄膜受到入射光的照射后，反射光根据薄膜的厚度和折射率的不同而产生干涉色。利用干涉色的变化可以确定薄膜的厚度。测试步骤软件控制氙灯关闭，采集光谱设备电子噪声软件控制氙灯打开，用反射探头采集光谱信号，通过测量反射光的强度变化，并利用干涉公式计算薄膜的厚度薄膜干涉测厚方法具有测量快速、高精度、非接触等优点，广泛应用于半导体制造、光学材料、涂层工艺等领域.

用于非接触式测量的薄膜表征系统我们提供完整的薄膜厚度测量系统系列，可测量 5 nm 至 200 µ m 的厚度，用于分析单层和/或多层薄膜在不到一秒的时间内完成。 StellarNet 薄膜反射测量系统由与反射探头和光源耦合的紧凑型 USB 光谱仪组成。光学特性通过反射获得，厚度通过检测样品镜面反射率的正弦条纹图案来测量。有多种薄膜系统可满足您的薄膜和/或光学测量要求。TF-VIS –（厚度范围：10nm-75um 波长范围：400nm -1000 nm）大多数半透明或微吸收薄膜都可以快速可靠地测量：氧化物、氮化物、光刻胶、聚合物、半导体（Si、aSi、polySi）、硬质涂层（SiC、DLC）、聚合物涂层（Paralene、PMMA、聚酰胺）、金属薄膜等等。应用包括 LCD、FPD：ITO、单元间隙、聚酰胺。光学涂层：介质滤光片、硬度涂层、减反射涂层半导体和电介质：氧化物、氮化物、OLED 堆栈。TF-UVVIS-SR –（厚度范围：1nm- 75um 波长范围：200nm -1000nm）允许测量低至 1nm 的更薄薄膜用紫外-可见光。 UV-VIS 光谱仪和 UV-VIS 光源的硬件升级。光纤必须通过 -SR（耐日晒性）来增强，以便传输和收集额外的紫外线信号。

?应用领域：精细化工，如芳香油提纯.高聚物中间体的纯化.羊毛脂的提取等等医药领域：如提取天然维生素AE等.制取氨基酸及葡萄糖的衍生物等等食品行业：如精制鱼油.油脂脱酸.精制高碳醇.混合油脂的分离等等其他领域：石油行业，日用化学，环保领域等等 ?产品特征：1.远低于物料沸点的温度下操作,而且物料停留时间短 利于高沸点、热敏及易氧化物料的分离2.有效地脱除液体中的物质如有机溶剂、臭味等,对于采用溶剂萃取后液体的脱溶是非常有效的方法3.可有选择蒸挥发出产物,去除其它杂质,通过多级分离可同时分离2种以上的物质4.蒸馏真空度高，真空度可达0.1pa以下，其内部可以获得很高的真空度，通常分子蒸馏在很低的压强下进行操作，因此物料不易氧化受损5.蒸馏液膜薄,传热效率高，膜厚度小于0.5mm6.分离程度更高，分子蒸馏能分离常规不易分开的物质7.没有沸腾鼓泡现象，分子蒸馏是液层表面上的自由蒸发，在低压力下进行，液体中无溶解的空气，因此在蒸馏过程中不能使整个液体沸腾，没有鼓泡现象。8.提供多种规格客户选择，适用于客户小试实验,中试实验，如果需要更大蒸发面积规格的可以根据客户要求定制。9.物理分离法，无毒、无害、无污染、无残留，可得到纯净安全的产物10.刮板系统由PTFE材料和SS316L不锈钢材料制成，具有极高抗腐蚀的功效；11.进料罐可选实现预加热功能，预热温度可以调节。12.各个接口采用的是氟胶垫片进行密封，气密性好，如客户需要耐腐蚀可以更换成四氟材质 近期有人咨询，有没有不堵管的蒸发器，什么样的蒸发器可以不堵管，蒸发器怎么不堵管？如何不让蒸发器发生堵管现象呢？怎么防止蒸发器的堵管？等等一系列关于蒸发器堵管的问题。看来关于蒸发器堵管，蒸发器结垢这个问题，是蒸发器行业的常见问题，康景辉小编整理了一些关于蒸发器怎么做不堵管的方法，提供给大家，以供大家参考。蒸发器是利用蒸发工艺对废水进行蒸发浓缩的设备，将废水中的盐分进行蒸发浓缩结晶，而后冷凝水通过后续的处理，可以实现废水排放。蒸发器堵管的原因一般是晶体盐的沉积、钙镁离子等造成的结垢现象。因此，一般防止堵管要从防结垢方面考虑。在设计蒸发器时，要考虑到结垢现象，提前设计防结垢措施，在线清洗措施，同时要考虑到延缓结垢以及选对蒸发工艺。对于降膜蒸发器，膜式蒸发器就不适合应用在有晶体产生的场合，如果使用降膜蒸发器等薄膜蒸发器，堵管是会产生的现象，因此在易产生结晶体的场合应该采用强制循环蒸发器。薄膜蒸发器在蒸发溶液时也会产生结垢现象，那么就需要采用化学药剂进行清除，设计的防结垢措施在此时就派上了用场，能够延缓薄膜蒸发器结垢现象的产生。?技术参数：产品型号AYAN-B80AYAN-B100AYAN-B150AYAN-B200AYAN-B220内径(mm)80100150200220蒸发面积(㎡)0.10.150.250.350.5冷凝面积(㎡)0.150.250.450.550.65进料容积(L）22255处理流量L/H0.5∽4.00.5∽5.01.0∽8.01.5∽10.02.0∽15.0电机功率(W)120120120120200转速(r/min)≤450≤450≤450≤450≤450轻组分收集瓶(L）12355重组成收集瓶(L）12355冷井有有有有有外置冷凝装置有有有有有冷却装置有有有有有真空度(pa)100bar以下100bar以下100bar以下100bar以下100bar以下受热温度(°C)室温-200室温-200室温-200室温-200室温-200

Quorum Technologies制造市场领先的科学仪器，用于电子显微镜（EM）样品制备。 电子显微镜是许多科学研究领域的重要研究工具，从对抗重大疾病到食品安全以及先进微电子和新材料的开发。 在Quorum Technologies，我们了解严格的EM样品制备是为客户提供清晰图像进行分析的唯一方法。Quorum Technologies 的全系列高质量仪器在冷冻 SEM、溅射镀膜、临界点干燥和辉光放电等样品制备技术方面处于领先地位，一次又一次地提供无与伦比的易用性和可重复性。 Quorum Technologies成立于2001年，但其产品品牌的历史可以追溯到更远的地方。最初的 Polaron Ltd 公司处于电子显微镜 （EM） 样品制备的最前沿，率先推出了扫描电子显微镜 （SEM） 溅射镀膜，并在 1970 年代初推出了第一台 SEM 临界点干燥机。 如今，Quorum Technologies 延续了这一优良传统，仍然是溅射镀膜、临界点干燥和冷冻 SEM 等制备技术的市市场领导者Quorum 溅射镀膜机和 SEM/TEM 碳镀膜机2-1 miniQS -入门级用于镀膜/涂布机MiniQS非常适合预算不高的用户，他也需要在易于使用的仪器中获得可重复的结果。MiniQS使用磁控溅射头，带有易于更换的圆盘靶2-2 Q plus 系列-全系列溅射镀膜机-用于电子显微镜和薄膜Q Plus系列是Quorum国际知名、市场领先的溅射和碳镀膜机系列的新版本。越来越多地用于高分辨率显微镜，其中超细涂层是必须的。溅射镀膜是在扫描电子显微镜（SEM）观察之前制备非导电或导电性差的试样的标准方法。Quorum提供低成本的旋转泵送溅射镀膜机，用于沉积非氧化性金属（如金（Au）和铂（Pt））和涡轮分子泵送镀膜机，适用于氧化性和非氧化性金属，如铬（Cr）。为了提供改进的超细涂层，Quorum推出了新的Q150V Plus，它提供1 x 10-6 mbar的极限真空，以获得卓越的效果。大型腔室溅射镀膜机可用于直径达 200 mm 的试样。大多数 Quorum 涂布机也可以使用易于更换的碳棒和碳纤维插件进行碳蒸发配置。型号有Q 150R Plus, Q 150T Plus, Q 150V Plus, Q300T Plus, Q 300 TD Plus。Q150V Plus 适用于高真空应用。这款新产品为用户提供了为超高分辨率应用（高于x 200k放大倍率）生产更细晶粒尺寸和更薄涂层的能力。Q150T Plus 镀膜机适用于 SEM、TEM 和许多薄膜应用。它有三种形式：作为溅射镀膜机、碳镀膜机或在一个紧凑的系统中同时溅射和碳蒸发。Q150R Plus 镀膜机适用于使用非氧化金属的 W-SEM 溅射应用以及用于 EDS 和 WDS 的碳涂层 SEM 试样。对于较大的试样，Q300T T Plus（涡轮分子泵送）型号允许涂覆最大 8“/200 mm 的单个大直径试样（例如晶圆），或多个直径相似的较小试样。两者都具有三重溅射头，以确保均匀的镀膜沉积。对于薄膜应用，Q300T D Plus 双目标顺序溅射镀膜机允许连续溅射金属层，而无需打破真空。Q150 GB 是 Q150T ES 涂布机的模块化版本，设计用于集成到手套箱中。SC7620是该系列的完善，这是一款紧凑的入门级SEM溅射镀膜机，可与可选的碳纤维蒸发附件一起使用。

SHNTI的X-射线薄膜窗能够实现软X-射线(如真空紫外线)的最大透射率。主要用于同步辐射X射线透射显微成像时承载样品。 X-射线越软(能量越低)，穿透能力越差，所需氮化硅薄膜窗越薄。特别在“离轴”状态工作（即薄膜与光束成一定角度）时，也需要较薄的薄膜窗口，便于X射线更好地穿透。SHNTI提供的氮化硅薄膜窗口是利用现代MEMS技术制备而成，由于此种氮化硅窗口选用低应力氮化硅（0-250MP）薄膜，因此比计量式和ST氮化硅薄膜更坚固耐用。SHNTI提供的氮化硅薄膜窗口非常适合应用于透射成像和透射能谱等广泛的科学研究领域，例如，X-射线（上海光源透射成像/能谱线站）、TEM、SEM、IR、UV等。现在SHNTI可以提供X-射线显微成像/能谱（同步辐射）用氮化硅薄膜窗系列产品，规格如下：外框尺寸 (4种标准规格):5 mm x 5 mm (窗口尺寸：1.0 mm 或和 1.5 mm 方形)7.5 mm x 7.5 mm (窗口尺寸：2.0 mm 或 2.5 mm)10 mm x 10 mm (窗口尺寸：3.0 mm 或 5 mm 方形)边框厚度： 200μm、381μm、525μm。Si3N4薄膜厚度：50、100、150和200nmSHNTI也可以为用户定制产品（30-500nm），但要100片起订。本产品为一次性产品，SHNTI不建议用户重复使用，本产品不能进行超声清洗，适合化学清洗、辉光放电和等离子体清洗。与X射线用氮化硅窗口类似，透射电镜（TEM）用氮化硅薄膜窗口也使用低应力氮化硅薄膜基底。但整体尺度更小，适合TEM装样的要求。窗口有单窗口和多窗口阵列等不同规格。同时SHNTI也定制多孔氮化硅薄膜窗口。现在SHNTI可以提供透射电镜（TEM）用氮化硅薄膜窗系列产品，规格如下：外框尺寸:3 mm x 3 mm (窗口尺寸：0.5 mm，薄膜厚度：50 nm) 3 mm x 3 mm (窗口尺寸：1.0 mm，薄膜厚度：50 nm) 3 mm x 3 mm (窗口尺寸：1.0 mm，薄膜厚度：100 nm) 边框厚度： 200μm、381μm。Si3N4薄膜厚度： 50nm、100nmSHNTI也可以为用户定制产品(30-200nm)，但要100片起订。本产品为一次性产品，SHNTI不建议用户重复使用，本产品不能进行超声清洗，适合化学清洗、辉光放电和等离子体清洗。 技术指标：表面平整度：我们认为薄膜与其下的硅片同样平整， TEM用氮化硅薄膜窗口的表面粗糙度为：0.6-2nm。完全适用于TEM表征。亲水性该窗格呈疏水性，如果样品取自水悬浮液，悬浮微粒则不能均匀地分布在薄膜上。用等离子蚀刻机对薄膜进行亲水处理，可暂时获得亲水效果。虽然没有对其使用寿命进行过测试，但预期可以获得与同样处理的镀碳TEM网格相当的寿命。我们可以生产此种蚀刻窗格，但无法保证其使用寿命。如果实验室有蚀刻工具也可对其进行相应的处理提高其亲水性能。温度特性：氮化硅薄膜窗口产品是耐高温产品，能够承受1000度高温，非常适合在其表面利用CVD方法生长各种纳米材料。化学特性：氮化硅薄膜窗口是惰性衬底。应用简介和优点：1、 适合TEM、SEM、AFM、XPS、EDX等的对同一区域的交叉配对表征。2、 大窗口尺寸，适合TEM大角度转动观察。3、 无碳、无杂质的清洁TEM观测平台。4、 背景氮化硅无定形、无特征。5、 耐高温、惰性衬底，适应各种聚合物、纳米材料、半导体材料、光学晶体材料和功能薄膜材料的制备环境，（薄膜直接沉积在窗口上）。6、 生物和湿细胞样本的理想承载体。特别是在等离子体处理后，窗口具有很好的亲水性。。7、 耐高温、惰性衬底，也可以用于化学反应和退火效应的原位表征。8、 适合做为胶体、气凝胶、有机材料和纳米颗粒等的表征实验承载体。氮化硅薄膜应用范围非常广，甚至有时使不可能变为可能，但所有应用都有无氮要求（因样本中有氮存在）：惰性基片可用于高温环境下，通过TEM、SEM或AFM（某些情况下）对反应进行动态观察。作为耐用基片，首先在TEM下，然后在SEM下对同一区域进行“匹配”。作为耐用匹配基片，对AFM和TEM图像进行比较。聚焦离子束（FIB）样本的装载，我们推荐使用多孔薄膜，而非不间断薄膜。许多研究纳米微粒，特别是含氮纳米微粒的人员发现此种薄膜窗格在他们实验中不可缺少。气凝胶和干凝胶的基本组成微粒尺寸极小，此项研究人员也同样会发现氧化硅薄膜窗格的价值。优点：&bull SEM应用中，薄膜背景不呈现任何结构和特点。&bull x-射线显微镜中，装载多个分析样的唯一方法。&bull 无氮高温应用，氮化硅薄膜在1000°C高温下仍能保持稳定的性能。使用前清洁：氮化硅薄膜窗格在使用前不需进行额外清洁。有时薄膜表面边角处会散落个别氧化物或氮化物碎片。由于单片网格需要从整个硅片中分离，并对外框进行打磨，因此这些微小碎片不可避免。尽管如此，我们相信这些碎片微粒不会对您的实验产生任何影响。如果用户确实需要对这些碎片进行清理，我们建议用H2SO4 : H2O2 (1:1)溶液清洁有机物，用H2O:HCl: H2O2 (5:3:3)溶液清洁金属。通常不能用超声波清洗器清洁薄膜，因超声波可能使其粉碎性破裂。详细情况，您可以与我们取得联系。我们为您一一解答。