方便面泡桶

专利创新的苯并[a]芘专用萃取填料，有效去除中性脂肪和维生素等基质干扰 回收率稳定、重现，克服了传统方法中氧化铝活性不稳定的缺陷 方法简单、快速、节省溶剂 方便面中2ug/kg苯并吡色谱图HiCapt Benzo 订货信息规格包装（支/盒）货号500mg/6mL30支23-05006

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产品名称：铜抛光液/合金铜抛光液/铜表面抛光液/金属研磨液/镜面抛光液合金铜CMP抛光液作用:吉致电子金属类抛光液适用于平面形态的铜、合金铜工件的镜面抛光，CMP抛光工序通过大量磨擦和化学反应作用，可以使铜金属表面得到加工和平整坦化。化学氧化铜金属后磨蚀性去除氧化物部分的机制可得到理想镜面效果，工件表面光滑平整具有易清洗、无残留等特点。吉致可提供铜/合金铜金属的镜面抛光液1、微米/纳米级抛光液，抛光后具有均匀镜面效果2、磨料颗粒呈悬浮状态，不易分散沉淀，提高CMP效率和稳定性3、铜专用抛光液磨料硬度高、稳定性好、化学惰性强*可以依客户不同工艺要求，提供定制化服务*提供全套解决方案，及免费安排工程师上门服务李女士17706168670

南京瑞尼克科技开发有限公司销售部： 苏阳 手机：138 138 88792 一、产品介绍PFA方槽又名：PFA酸洗槽、PFA方桶、PFA浸泡桶、PFA酸缸、溢流槽、纯水槽采用一体成型的模具生产技术，结实耐用不渗液，使用寿命长；桶口带有翻边，方便端起；不添加回料，保持产品洁净。配套PFA盖子，防尘防挥发；盖子带有把手，把手与盖子一体成型，更加牢固。方槽尺寸15L桶：长*宽*高=325*220*255；20L桶：长*宽*高=390*280*205；二、特点本底低：金属元素空白值低，铅铀含量小于0.01PPb 耐高温：-200~+260℃；耐腐蚀：耐受强酸强碱及各种有机溶剂；防污染：无溶出与析出，不污染试剂与产品； 半透明：实验人员可观察槽内情况，方便使用；易清洗：不粘附样品，表面平整光滑；化学性能稳定，可恢复性好，不易变形，经久耐用，不易碎。三、应用1、半导体、锂电池、光伏等行业贮存运输高纯试剂，简易的硅片玻璃片花篮浸泡清洗桶，不污染；2、化工、高校等配合电热板高温煮酸碱试剂，大容量更便捷；3、痕量分析、同位素分析等实验存储纯水、酸洗浸泡PFA溶样罐，是洁净的实验分析器皿；4、生物医药、第三方检测、石油化工等行业用作酸缸、浸泡清洗微波消解罐、特氟龙消解管。四、我司配套产品防腐电热板、PFA花篮、PTFE花篮清洗架、PFA镊子、PFA溶样罐、微波消解罐、特氟龙消解管等等

离轴抛物面金属膜反射镜 采用铝膜基片反射镜 备有15° 、30° 、45° 、60° 或90° 的离轴可选 可选择铝膜和金膜 与标准抛物反射镜的不同之处在于，离轴抛物金属膜反射镜可在特定角度下直射并聚焦入射平行光，并且支持无限远焦点。这些反射镜普遍应用为Schlieren和MTF系统的平行光管，而镀金膜离轴抛物反射镜则用于FLIR测试系统。 注意：由于表面粗糙度为175Å ，因此这种反射镜不适用于需要低散射的可见光和紫外应用。 为方便安装，所有反射镜有3个6-32TPI螺孔（直径规格为25.4mm的为¾ "螺栓圈，直径规格为50.8mm的为1.25"的螺栓圈），而所有直径规格为76.2mm和101.6mm的反射镜则有3个8-32 TPI螺孔，螺栓圈为2.25"。

离轴抛物面镜TYDEX的核心技术优势： TYDEX 镜面的制造工艺和传统工艺是不同的，它致力于为航空/防卫应用提供大批量的更廉价的镜片。传统的OAPs制造工艺是通过挖切磨制， 即从大的轴对称抛物面 （母镜）进行挖切一部分下来进行抛光。显然，这种整体加工、分体割切成型的面镜磨制方案耗时长，低产量是加工成本昂贵，同时在焦距和离轴距离的组合选择上有很多制约。另一项传统的方法是抛光盘技术，主要缺点是材料局限性、表面平整度和加工精度受很大限制。我们的OAP 工艺 采用的是电脑控制的点位修正抛光工艺，结合了常用的抛光手段的优点（表面光滑而且可以使用普通玻璃）和大抛光盘技术的优点（无需对整个抛物母镜进行抛光），又称为主动抛光盘技术。这是一种根据需要将抛光盘面实时地主动变形成偏轴非球面来磨制大口径非球面度高精度天文镜面的磨制技术。非球面表面的曲率不 仅各点不一致,而且同一点的径向与切向曲率也不相同。 每个研磨周期后，我们都用大型干涉仪对整个OAP镜进行测量，然后把 相关的信息反馈到计算机中，将修正过的抛光参数输入抛光机的控制单元。我们称这个工艺为润饰工艺，俄罗斯的工厂专门划出了10,000平方英尺用于这个工 艺的制造，而且有一批非常耐心而有经验的工程师一次又一次的测量和重复许多个润饰周期，直到镜面趋于完美。精确的镜面、有竞争力的价格！ 应用：光收集，照明，成像，大直径天文镜面、巨型天文光学/红外望远镜的分块子镜、 Dall-Kirkham和望远镜设计主要参数：询价离轴镜需提供的参数：Focal Length焦距，必须提供；Final Diameter外径，请提供尺寸和公差，也可由厂家推荐； Clear Aperture有效口径，请提供 ； Off Axis Distance离轴距离，用户或者提供光轴到镜子边缘的距离，或者提供光轴到镜子中心的距离，请注明清楚。 Surface Accuracy通常为λ/10 P-V，可以高达 λ/45 P-V Wavelength of Test 633nm Scratch/Dig (maximum)通常优于60/40，要求20/10可以达到 Chamfer 0.050 " x 45 degrees倒角Material：材料 Zerodur Coating：镀膜 关于俄罗斯Tydex公司： Tydex公司位于俄罗斯圣彼得堡,是世界上Golay Cell的唯一的原产商。Tydex公司还生产离轴抛物面镜，大口径天文光学器件等产品。

无锡吉致电子25年研发生产——钨抛光液/W CMP Slurry/W 抛光液/半导体研磨液/CMP抛光液/化学机械抛光液/CMP化学机械抛光液slurry/CMP集成电路抛光液钨W抛光液作用: 吉致电子钨W抛光液适用于8-12吋氧化硅镀膜片的抛光。特选粒径均一的SiO2水溶胶为磨料，抛光清洗后晶圆表面粗糙度低、颗粒残留少。与国内外同类产品相比，具有易清洗、表面粗糙度低等特点.我司产品优点： 1.悬浮性好，不易沉淀，使用方便。2.颗粒分散均匀，不团聚，软硬度适中，有效避免抛光过程中由于颗粒团聚导致的工件表面划伤缺陷。3.运用抛光过程中的化学新作用，提高抛光速度，改善抛光表面的质量。4.分散性好、乳液均一，程度提升抛光速率的同时降低微划伤的概率，可以提高抛光精度。5.无粉尘产生，关注环保和人体健康安全。可定制化：我们的抛光液可以根据客户需求定制不同的PH、粒径、浓度、稳定离子等。包裝方式：25KG/桶(也可依客户需求)吉致电子CMP抛光液/Slurry抛光液价格：吉致电子的CMP金属抛光液生产技术是引进国外生产技术和设备，特殊化学配方制备而成。吉致电子抛光液品质可以媲美进口同类产品。本土化生产使吉致电子CMP抛光液产品交货周期快，品质好，抛光液价格实惠亲民。吉致电子CMP抛光耗材适用范围吉致电子科技有限公司拥有成熟的加工工艺，为不锈钢、铜、铝、陶瓷、导光板、五金产品、蓝宝石、光学玻璃等各类抛光加工服务。为您提供可靠有效抛光解决方案！

Nalgene 5242 移液管浸泡桶，交联高密度聚乙烯，PPCO 底座?瓶体耐磨、坚硬且严丝无缝，可防止应力开裂。非常适合与相应的Nalgene 冲洗器和篮一起浸泡玻璃器具，清洗移液管。凸缘底座可增加稳定性。是优秀的大型通用容器，带有防尘盖。桶身标签上的配方有效，且能比标准溶液保持更长的时间。请勿在移液管浸泡桶中配制该溶液。将浸泡桶置于足够大的滴水板、水槽或容器中，以保证当浸泡桶中液体泄漏时，不会洒到外边。使用该溶液时，建议您使用5 加仑的耐用型圆筒容器（目录编号11100-0005）来保存移液管浸泡桶。订货信息：Nalgene 5242 移液管浸泡桶，交联高密度聚乙烯，PPCO 底座目录编号 5242-0040-0050-0060大小DEF尺寸 (H×D)，mm514×165686×165914×175尺寸 (H×D)，in.20-1/4×6-1/227×6-1/236×6-7/8每盒数量111每箱数量662

用手动磨抛具将样品磨到需要的厚度或者达到抛光要求。磨具的步进间隔为0.025mm。样品在磨抛过程中不需要粘片，方便取放，研磨厚度达80&mu m一下，单面或双面均可进行磨抛作业。

铜胶带上有一层聚丙烯粘结剂，可以按样品台尺寸任意剪切，并能快速粘贴在样品台或其他表面上。通过衬底导电，使用方便。铜垫厚度：35μm (0.0014") 胶带总厚度：66μm 钢粘接强度：35oz./in(3.8N/10mm) 粘合剂电阻：0.005ohm/square 最高温度/持续时间：155℃ 产品编号产品名称规格YL-6002铜单面导电胶带6.35mm x 16.45m

铅（Pb） 是一种对人和动物均危害极大的有毒重金属元素，是当前食品中存在的不安全因素之一，长期使用被铅污染的食品，会造成人体内重金属铅的富集，对神经系统、骨骼造血机能、消化系统、生殖系统等均有危害，特别是大脑处于神经系统发育敏感期的儿童， 很容易造成发育迟缓等不良后果。 《GB 5009.12-2023 食品安全国家标准食品中铅的测定》于2023年 9 月 6 日正式发布，2024年3月6日实施，第一法 "石墨炉原子吸收光谱法"中相较于GB 5009.12-2017新增了食盐、酱油、腌渍食品、火锅底料和方便面盐包等高盐食品的除盐前处理方法，采用亚氨基二乙酸树脂萃取柱进行样品净化，减少盐对测定结果的影响。 迪马科技推出亚氨基二乙酸螯合树脂固相萃取柱ProElut IDAA 500 mg/1 mL （Cat#65962），适用于GB 5009.12-2023中高盐样品的检测。食品中铅的测定专用柱货号：65962产品描述：ProElut® IDAA 500mg/1mL 50/pk亚氨基二乙酸型树脂，适用于《GB 5009.12-2023食品安全国家标准食品中铅的测定》。

铜胶带上带有一层聚丙烯粘结剂，可以按样品台尺寸任意剪切，并能快速的粘贴在样品台或其他表面上。通过衬底可以很好的导电，使用方便。 技术参数： 铜垫厚度：35µ m (0.0014") 胶带总厚度：66µ m (0.0026") 钢粘接强度：35oz./in(3.8N/10mm) 粘合剂电阻：0.005ohm/square 最高温度/持续时间：155℃

产品名称：钼抛光液/金属钼抛光/激光反射镜抛光液/CMP研磨液/镜面抛光液金属钼片抛光液作用:吉致电子金属类抛光液适用于平面形态的钼、钼合金工件的镜面抛光，CMP抛光工序通过大量磨擦和化学反应作用，可以使钼金属表面快速去粗和平整坦化。化学氧化腐蚀钼合金表面，研磨去除氧化物部分的机制可得到理想镜面效果，金属钼工件表面光滑平整具有易清洗、无残留等特点。吉致可提供钼片/金属钼的镜面抛光液1、微米/纳米级抛光液，抛光后具有均匀镜面效果2、磨料颗粒呈悬浮状态，不易分散沉淀，提高CMP效率和稳定性3、钼片专用抛光液磨料硬度高、稳定性好、化学惰性强，吉致电子金属钼抛光液可用于钢铁、化工、电子、航天、光学领域的钼片加工，达到优良的表面平坦度，抛光速率快、表面均一无缺陷。*可以依客户不同工艺要求，提供定制化服务*提供全套解决方案，及免费安排工程师上门服务

产品分类：吉致电子抛光垫产品名称：阻尼布抛光垫/碳化硅SIC精抛垫/Politex抛光垫FUJIBO抛光垫替代产品特点：吉致电子抛光垫满足低、中及高硬度材料抛光需求，针对碳化硅SIC抛光的4道工艺制程搭配不同型号抛光垫（粗磨垫/精磨垫/粗抛垫/精抛垫）具有高移除率、高平坦性、低缺陷和高性价比等优势。产品工艺及用途：柔软表面与特殊微孔洞结构，适用于碳化硅SIC衬底、各类晶圆、IC制造等CMP工艺高精细、高平坦化的制程。具有缓冲与晶背保护的效果。吉致电子碳化硅抛光垫价格：吉致电子抛光垫生产引进国外技术，可以媲美进口抛光垫PAD/阻尼布抛光垫产品（Politex/Fujiba/SUBA/环球等国产替代）品质稳定。选择吉致电子抛光垫产品，价格美丽，比进口抛光垫/精抛垫便宜，交货期稳定，性价比更高！

机用粘尘滚筒主要适用于电子、半导体、LCD、PCB等行业。我公司粘尘滚筒系列产品种品种齐全，按材料不同，分PE粘尘滚筒、PP粘尘滚筒和硅胶粘尘滚筒；按使用方法不同，分手动粘尘滚筒和机用粘尘滚筒；按粘度不同，分高粘粘尘滚筒和低粘粘尘滚筒。 清洁机用PP粘尘滚筒为半导体业、PCB业、LCD业、玻璃业、SMT电子加工业等行业生产中所使用的清洁机专用耗材，产品粘性优良，不掉胶，分离切割方便，是表面清洁处理的良好清洁用品。 机用粘尘滚筒特点： 粘尘滚筒产品表面无损害、无杂质、无气泡、无味、不脱胶、无结合、形态自如，两边平坦。 机用粘尘滚筒规格 H*W(M) (18/20)X( 152/ 254/ 305/ 600/ 620/ 650/ 1300)m 注：特殊规格可以提前定做。 粘尘度 低粘度：250-350g/25mm 中粘度：350g/25mm 高粘度：250-600g/25mm

材料简介：三维石墨烯网络是在泡沫金属基底上通过化学气相沉积高温生长石墨烯薄膜层，借助泡沫基底的三维多孔骨架，生长成石墨烯的三维网络。三维石墨烯具有体表面积大，导电性佳，质量轻等特点。 应用领域：1）适用于超级电容、锂离子电池、铝电池、纳电池等电化学能源存储器件。2）适用于化学传感器、气体传感器领域。尺寸：5*10cm

DMPY-2C 大气泡法表面张力仪II型由上海书培实验设备有限公司提供，采用高硼硅玻璃材质加工，测定不同浓度正丁醇溶液的表面张力，计算吸附量。产品名称：DMPY-2C 大气泡法表面张力仪II型规格：DMPY-2C 材质：高硼硅玻璃材质用途：测定不同浓度正丁醇溶液的表面张力，计算吸附量。图中各配件：总共三个配件（A/B/C）A：表面张力仪 B：充满水的抽气瓶C：U型压力计（内盛比重较小的水或酒精、甲苯等，作为工作介质测定微压差）玻璃管F下端一段直径为0.2mm-0.5mm毛细管 实验原理：从热力学观点来看，液体表面缩小是一一个自发过程，这是使体系总自由能减小的过程，欲使液体产生新的表面AS,就需对其做功，其大小应与AS成正比: -W= σx AS (2.18.1)如果LS为1m2，则-W=σ是在恒温恒压下形成1m2新表面所需的可逆功，所以o称为比表面吉布斯自由能，其单位为J-m2。也可将o看作为作用在界面上每单位长度边缘上的力，称为表面张力，其单位是Nm-1。在定温下纯液体的表面张力为定值，当加入溶质形成溶液时，表面张力发生变化，其变化的大小决定于溶质的性质和加入量的多少。水溶液表面张力与其组成的关系大致有三种情况: 一：随溶质浓度增加表面张力略有升高 二：随溶质浓度增加表面张力降低，并在开始时降得快些 三：溶质浓度低时表面张力就急剧下降，于某一浓度后表面张力几乎不再改变。 以上三种情况溶质在表面上的浓度与体相中的都不相同，这种现象称为溶液表面吸附。根据能量最低原理，溶质能降低溶剂的表面张力时，表面层中溶质的浓度比溶液内部大 反之，溶质使溶剂的表面张力升高时，它在表面层中的浓度比在内部的浓度低。在指定的温度和压力下，溶质的吸附量与溶液的表面张力及溶液的浓度之间的关系遵守吉布斯(Gibbs)吸附方程:引起溶剂表面张力显著降低的物质叫表面活性物质，被吸附的表面活性物质分子在界面

紫外熔融石英比色皿，带塞子，两面通光耐化学腐蚀的加强型比色皿两个通光面，用于吸收光谱每个比色皿都配有一个PTFE塞子，以形成气密密封由JGS1紫外熔融石英(190 nm - 2.5 µ m)制成容量可选350 µ L和700 µ L成对出售这些紫外熔融石英比色皿具有两个通光面，可用于吸收光谱实验，另外两个磨砂面可供夹持。通光面可用标准的光学元件清洁步骤清洁。由于这些比色皿只有两个通光面，因此不适用于荧光光谱应用，此应用需要四个通光面，可在与光路成直角的方向测量荧光。这些比色皿具有矩形轮廓，容量可选350 µ L和700 µ L。请注意，外部尺寸的大小和透光光程因型号不同而异；详情请查看下表。每个比色皿都刻有产品型号以及表示其石英材质的字母“Q”，每个比色皿都配有一个PTFE塞子以形成气密密封，防止蒸发和大气污染物。塞子应轻轻插入比色皿顶部； 用力过大会导致难以取下塞子。为了增强耐化学腐蚀性，每个比色皿的石英片在粘合前经过精细抛光，从而提供更平滑的拼接。通过这种方法，耐化学腐蚀的加强型比色皿可盛放具有腐蚀性的溶液，类似于硝基盐酸(王水)溶液，而不会损坏。

AKO金属抛光膏不含硅树脂，适于清洁EM零件。AKO在工业领域和家用等领域也得到了广泛地使用，如挤出机，滚筒等工业机械部件。AKO金属抛光膏可以用来抛光和保养基本上所有材料的金属部件，如不锈钢、镀铬、铝、铜、黄铜、银(不使用油漆或电镀金属上)。 Wenol金属抛光膏适用于抛光所有的金属表面。欢迎登陆海德公司网站或来电获取详细信息。 订购信息：货号产品名称规格71830AKO Metal Polish,AKO金属抛光膏100ml71832Wenol Metal Polish，WENOL金属抛光膏100ml

Anavo亚氨基二乙酸型树脂是一种功能化的固相萃取材料，其分子结构中含有丰富的亚氨基二乙酸基团，能够与目标化合物发生化学吸附，并通过洗脱步骤实现目标化合物的富集和分离。固相萃取柱则是采用该材料填充于柱体中制成，具有大表面积和良好的机械强度，能够稳定地保持亚氨基二乙酸型树脂的化学性质和吸附能力。 货号描述规格AN60F084Anavo亚氨基二乙酸型树脂SPE小柱（GB 5009.12-2023）500 mg,1 mL,50/PKAN60I004Anavo SPE空柱管12 mL, PP,100/PK 纳鸥科技参照新国标GB 5009.12-2023第一法，采用Anavo亚氨基二乙酸型树脂SPE小柱（PN：AN60F084），对方便面调料包中的铅进行了检测，SPE小柱回收率95%左右，重现性好和精密度高。

Q-PANEL 测试基板简介如果涂料测试是可靠和可重复的，那么在底板上从一个到另一个的测试结果必须是完全一致的。不幸的是，普通的民用钢板均显示出广泛的表面特性差异，影响了涂层的附着。干净Q- PANEL生产过程会彻底清洁和去除表面的油污。特殊处理会保证所有的试板在包装时是完全干净的。 钢制试板是装在塑料袋中的，数量在20到50个(取决于类型和厚度)，再用气相防锈剂装在坚固的纸箱纸盒里，可以存放多年使用寿命。 铝塑板包装除了没有防锈剂，其他与钢制的一样。一致三个因素确保了Q-PANEL底板的一致、高质量和低价格:从选定的工厂采购大量金属高速生产线自动化生产在不同的加工阶段严格检验方便提供试板预清洁，使用6mm (?”) Q形孔(这是我们的商标，客户质量的保证)。出于安全和便于操作的考虑，试板制成圆角，并去掉了边缘的毛刺。我们的涂料测试底板库存超过100万块，意味着95%的订单可直接从库存中出货。在大多数情况下，试板开箱就可以使用。Q-panel 钢面板钢面板由标准低碳、冷卷钢按符合 ASTM A1008/1010, A-109 和 QQS-698 的标准制成。QD 型，平滑抛光钢面板QD 型，平滑抛光钢面板有一个平滑、明亮的抛光面，这是由钢铁厂以平滑打磨辊子所制成。由于QD型是我们最平滑的面板，建议在测试光泽和颜色时使用。QD 型价格较为低廉，它是针对许多一般性应用的最佳选择。然而，我们不建议在物理和侵蚀测试中使用QD面板。R 型非光滑未抛光钢面板R 型非光滑未抛光钢面板是一个由粗糙钢卷制成的不光滑抛光面板。这种不光滑抛光是一般目的金属板应用的代表。由于它们更厚一些，R 型面板比 QD 型更牢固。S 型打磨 (磨光) 钢面板S 型打磨 (磨光) 钢面板 与 R 型所用钢材相同，只是我们以研磨剂对一面进行了磨光，直到出厂表面被完全除去。这样得到的表面，看起来与“经过拉绒”的光滑表面一样。打磨(磨光)表面通 常有着比钢厂抛光更好的粘合结果。尽管打磨面板不能代表任何通常用于油漆的特定钢表面，它们被广泛应用，因为它们可提供用于测试的标准化表面。D型质薄、灵活(光滑抛光)钢面板D型质薄、灵活(光滑抛光)钢面板是一个非常薄且灵活的带有如同QD类光滑表面的面板。它成本低廉，并只有几个尺寸。DT型镀锡钢面板DT型镀锡钢面板与D型使用同样的钢材，只是镀有一层明亮流回抛光的锡面。有些政府标准要求使用这种面板。RS型粘合面板 (打磨抛光)RS型粘合面板 (打磨抛光) 提供 0.063 x 1 x 4 英寸 (1.5 x 25 x 101 毫米) 尺寸，可用于粘合剂测试。它们的表面抛光与我们的 S 型很相似。这些面板比我们通用的钢面板更厚也更硬，足以应付对高强度粘合剂的重叠剪切力的测试。R-44-T 型和 S-44-T 型 Taber? 研磨器面板R-44-T 型和 S-44-T 型 Taber? 研磨器面板 经过特殊设计，用作 Taber 研磨器的测试器。它们是 0.032 x 4 x 4 英寸 (0.8 x 101 x 101 毫米)，在中央带有一个孔。它们的表面光洁度分别对应我们的 R 型和 S 型面板。SS 型不锈钢面SS 型不锈钢面 板由 304 不锈钢合金制成，并可提供两个尺寸。它们没有悬挂孔。Q-panel各型号钢面板参数Q-panel各型号钢面板尺寸及包装规格类型概述型号尺寸（英寸）包装规格（片/盒）每盒重量（磅）Type QD光面QD-2-3.52 x 3.5 x 0.02050021QD-242 x 4 x 0.02060026QD-2.75-42.75 x 4 x 0.02040024QD-353 x 5 x 0.02040034QD-363 x 6 x 0.02040041QD-393 x 9 x 0.02020031QD-464 x 6 x 0.02020028QD-484 x 8 x 0.02020038QD-4124 x 12 x 0.02015043QD-6126 x 12 x 0.02015064Type R粗糙面R-2-3.52 x 3.5 x 0.03230020R-353 x 5 x 0.03225036R-363 x 6 x 0.03225043R-393 x 9 x 0.03212533R-464 x 6 x 0.03220045R-484 x 8 x 0.03212538R-4124 x 12 x 0.03210046R-6126 x 12 x 0.03210068Taber?磨耗R-44-T4 x 4 x 0.03225038Type S磨光面板 （单面）S-353 x 5 x 0.03225036S-363 x 6 x0.03225043S-393 x 9 x 0.03212533S-464 x 6 x 0.03220045S-484 x 8 x 0.03212538S-4124 x 12 x 0.03210046S-6126 x 12 x 0.03210068Taber?磨耗S-44-T4 x 4 x 0.03225038Type D 光面D-363 x 6 x 0.01080042D-464 x 6 x 0.01040028Type DT 镀锡板DT-363 x 6 x 0.01080040Type SS 不锈钢 (无孔)SS-363 x 6 x 0.03725047小板 (无孔)粗糙面R-131 x 3 x 0.0321003磨光面板RS-141 x 4 x 0.0631007不锈钢SS-131 x 3 x 0.0371004

抛光套件的抛光带，用于超痕量石墨电极Polishing tape to Polishing Set for Ultra Trace Electrode订货号：6.2802.030抛光套件的抛光带，用于超痕量石墨电极。 粒径 12 μm. 在抛光筒中使用。 每套50件。技术参数宽度（mm）9长度（mm）140

洁净聚氨酯（PUF)泡沫桶 Use for collection of semivolatiles (pesticides, PCBs, PAHs). Both large high-volume (220-280 L/min) and small low-volume (1-5 L/min) PUFs available. Suitable for ambient, indoor, and industrial hygiene applications. PUF/XAD-2 "sandwiches" capture a wider range of semivolatiles. Precleaned and ready to use. EPA TO-10A Organochlorine and organophosphorous pesticides, carbamate, pyrethrin, triazine, and urea pesticides cat.# 22116, 22957 EPA IP-7 Polycyclic aromatic hydrocarbons (PAHs) cat.# 22114, 22954 EPA IP-8 Organochlorine and organophosphorous pesticides, carbamate, pyrethrin, triazine, and urea pesticides cat.# 22116, 22957 ASTM D4861 Organochlorine and organophosphorous pesticides, PCB cat.# 22116, 22957 ASTM D4947 Chlordane and heptachlor residues cat.# 22116, 22957 Research Pesticides cat.# 22117 EPA TO-4A Organochlorine pesticides, PCBs cat.# 22114, 22954 EPA TO-9A Polychlorinated dibenzo-p-dioxins (PCDDs) cat.# 22114, 22954 EPA TO-13A Polycyclic aromatic hydrocarbons (PAHs) cat.# 22114, 22954 EPA 600/8-80-038 Organochlorine pesticides, PCBs, PAHs cat.# 22115, 22955, 22956 ASTM D6209 Polycyclic aromatic hydrocarbons cat.# 22114, 22954 订货信息： 24295 Cleaned PUF Plug (7.6 cm length, 6 cm diameter) ea. 22114Large PUF Cartridge, 65 mm OD x 125 mm length, 75 mm PUF ea. 22115 Large PUF/XAD Cartridge, 65 mm OD x 125 mm length, 25 mm PUF/10 g XAD-2/50 mm PUF ea. 22116 Small PUF Cartridge, 22 mm OD x 100 mm length, 76 mm PUF ea. 22117 Small PUF/XAD Cartridge, 22 mm OD x 100 mm length, 30 mm PUF/1.5 g XAD-2/30 mm PUF ea.

泡沫塑料阻隔器，用于稳定性测定 （泡沫隔板）订货号：6.1451.010规格型号：Foam barrier for Rancimat用作743型Rancimat的反应杯6.1429.020中的泡沫塑料阻隔器（foam barrier）技术参数内直径（mm）5外直径（mm）20材料PP

AKO金属抛光膏不含硅树脂，适于清洁EM零件。AKO在工业领域和家用等领域也得到了广泛地使用，如挤出机，滚筒等工业机械部件。AKO金属抛光膏可以用来抛光和保养基本上所有材料的金属部件，如不锈钢、镀铬、铝、铜、黄铜、银(不使用油漆或电镀金属上)。 Wenol金属抛光膏适用于抛光所有的金属表面。欢迎登陆海德公司网站或来电获取详细信息。 订购信息：货号产品名称规格71830AKO Metal Polish,AKO金属抛光膏100ml71832Wenol Metal Polish，WENOL金属抛光膏100ml

除泡器 9000-1540去除气泡、溶解的气体或同时去除两者！系统液体中溶解的气体和气泡会在许多仪器中引起分配量异常，对分配准确度和分析精密度造成负面影响。现在您可以选择部件主动去除气泡，并同时除去或保留溶解在系统中的气体。与其他常见的脱气技术相比，在线真空脱气操作方便，效率高，且运行成本低。除泡器 / 脱气机将真空脱气与主动除泡结合?提高仪器性能 - 减少气泡形成造成的停机。?减少由于试剂分配不均而导致的假阳性。?可与任何泵、脱气盘或独立脱气应用轻松集成。?设计用于不含表面活性剂的水性溶液使用。其它溶液推荐使用主动脱气机。主动除泡器在泵前或泵后去除流体中的气泡?提高仪器性能 - 减少气泡形成造成的停机。?减少由于试剂分配不均而导致的假阳性。?可与任何泵、脱气盘或独立脱气应用轻松集成。传输线脱气机在流体输送过程中去除溶解的气体?消除基线波动，提高检测器灵敏度。?同轴设计减少了接头数量，提高了可靠性。?单内腔设计提高了除气可靠性。 应用注解?液体处理?IVD?HPLC / UHPLC?去除 O2 和 CO2在医用分析仪中，气泡会干扰临界体积试剂分配，导致样品失效，浪费时间和金钱。由于气泡几乎粘附在分配系统的每个零件上，所以通常使用高速度或引发湍流来将气泡从流体中排出并排放到废液中。这些替代方法会浪费试剂且耗时，并且不可预测，还有可能需要另外设计系统来识别气泡是否出现。不管系统如何设计，水系统始终受物理学定律的限制，在流体温度、压力或化学品混合物的变化期间会引发气体析出。在此类流体应用中，除泡器是捕获和去除形成的气泡以防止样品分配不准确的最佳解决方案，而脱气机则是防止下游反复形成气泡的理想选择。 特点主动除泡器除泡器 / 脱气机传输线脱气机非常适于需要溶解气体（如氧气）作为反应动力的应用√通过捕获和去除气泡来提高分配准确度√√通过提高仪器性能，消除假阳性并减少试剂浪费√√轻松与流路集成√√√在系统和环境波动之间创造稳定的仪器性能√√√防止在脱气机下游形成气泡√√通过防止气泡形成消除了波动，从而提高检测器的灵敏度和精密度√√因为同轴设计减少了接头的数量，提高了流体系统的可靠性√在没有空间的新仪器或现有仪器中，灵活的设计可以作为输送管路√最大限度减小流控系统内部体积，以降低试剂成本√应用规格（所有平台）主动除泡器脱气机/除泡器200 KPA（30 PSI）@ 25oC除泡（每分钟去除空气体积 @ 10 mL/min H 2O）最高达30 cc最高达30 ccN/A除气效率? @ 1 mL/min H2ON/A2.5 mL：去除 36% 的 O2，5.0 mL：去除 55%的 O 2 4 ppm 的溶解 O2 （@ 5 mL/min）膜材料PORIDEX® PORIDEXPORIDEX过液材料PORIDEX、聚烯烃、FEP、ETFE、Ultem® PORIDEX、聚烯烃、FEP、ETFE、UltemPORIDEX、聚烯烃、FEP、ETFE溶剂兼容性溶液 50% 水溶液。 不兼容浓度 0.05％的洗涤剂。溶液 50% 水溶液。 不兼容浓度 0.05％的洗涤剂。溶液 50% 水溶液。 不兼容浓度 0.05％的洗涤剂。标准气泡捕捉器体积2.5 / 5.0 mL2.5 / 5.0 mLN/A输送管路体积N/A2.5 / 5.0 mL 4 mL最大工作压力200 kPa (30 psi) @ 25 oC200 kPa (30 psi) @ 25 oC200 kPa (30 psi) @ 25 oC最高工作温度40 oC40 oC40 oC推荐真空度最小16 kPa（绝对压力）最小16 kPa（绝对压力）最小16 kPa（绝对压力）液体连接1/4-28 接头系统1/4-28 接头系统1/4-28 接头系统真空连接用于1/8英寸（3 mm）内径弹性体管的管道真空端口用于1/8英寸（3 mm）内径弹性体管的管道真空端口用于1/8英寸（3 mm）内径弹性体管的管道真空端口压降0.8 mm Hg/mL/min（假设层流和粘度为1cP）0.8 mm Hg/mL/min（假设层流和粘度为1cP）0.8 mm Hg/mL/min（假设层流和粘度为1cP）? 可以根据流速、要脱气的流体和要去除的气体优化除泡/除气效率。典型脱气机应用应用注解为何要对流动相脱气？HPLC 流动相中的溶解空气可能导致流速不稳定和基线干扰。流速不稳定：未脱气的流动相可以在泵头中产生气体，导致气泡形成并被困在泵头或单向阀内。这些气泡会引起流量扰动和压力波动，导致流速不稳定。基线干扰：当流动相通过色谱柱体时，会产生较大的压降。未脱气的流动相可能会由于这种压差而产生气体，导致形成气泡。在流量池中通过或滞留的气泡会导致检测干扰，表现为基线噪声。为什么要使用脱气系统？氦气鼓泡吹扫脱气是一种常用的 HPLC 溶剂脱气手段。然而，这种方法存在缺陷。氦气罐价格昂贵且体积庞大，还存在溶剂回流和污染的问题。此外，由于流动相成分的蒸发速率差异，氦气鼓泡吹扫脱气可能随时间改变预混合流动相的组分。相比之下，IDEX Health & Science 脱气系统并没有这些缺陷，而且去除溶解气体非常快速和高效 - 效率比氦气鼓泡吹扫系统或基于 PTFE 的脱气系统更高。管路连接我们建议使用 ETFE 管路（第27页）来限制脱气机和泵之间的流动相气体再生。推荐使用ETFE，因为与 PTFE、FEP 和 PFA 管相比，它具有优异的不透气性。可应用 1/8 英寸外径管路的无凸缘接头。GPC 和 HFIP 应用带有 PEEK 穿板式两通接头的标准脱气腔不推荐用于 GPC 应用或与HFIP（六氟异丙醇）一起使用。特殊的 GPC “硬化” 版本可用。请与我们联系了解更多详细内容。注解：脱气管路是柔性管，因此可以卷绕以缩短总长度或用于在仪器内将流体输送到下一个所需位置。订货信息：除泡器零件号描述标准气泡阱尺寸输送管路长度内容积最大气泡容量数量除泡器系列- 可用标准配置9000-15402.5 mL 主动除泡器2.5 mL—2.5 mL2.5 mL一个9000-15415 mL 主动除泡器5 mL—5 mL5 mL一个9000-15442.5 mL 除泡器 / 脱气机2.5 mL17.5” (444.5 mm)2.5 mL（输送管路）+ 2.5 mL（气泡阱）2.5 mL一个9000-15455 mL 除泡器 / 脱气机5 mL34” (863.6 mm)5 mL（输送管路） + 5 mL（气泡阱）5 mL一个9000-15491.1 m 传输线脱气机—1.1 m (43”)4 mLN/A一个

PFA清洗桶15L体：PFA 盖子:PTFE一体成型无任何接缝，方便器皿的清洗，使用方便

产品名称：陶瓷抛光液/氧化锆抛光液/氧化铝抛光液/氮化硅抛光液/氮化铝抛光液陶瓷抛光液作用: 吉致电子陶瓷类抛光液适用于碳化物、氮化物、氧化物和硼化物各精密陶瓷件的镜面抛光，通过CMP抛光工序可得到理想镜面效果，表面光滑平整具有易清洗、无残留等特点。产品特点：吉致可提供各陶瓷类的镜面抛光液1、纳米级抛光液，抛光后具有较优的粗糙度2、抛光液绿色环保、不含卤素及重金属元素3、抛光液可循环使用，根据工艺要求可添加去离子水稀释可定制化：可以依客户不同工艺要求，提供定制化服务 包裝方式：25KG/桶(也可依客户需求)

研抛底片采用耐腐蚀材料制作而成，用作砂纸、抛光垫的衬底，与磁力垫形成快速连接，方便研磨抛光的进行。技术参数直径Φ200mm、Φ250mm、Φ300mm、Φ320mm、Φ380mm

产品简介：研抛底片采用耐腐蚀材料制作而成，用作砂纸、抛光垫的衬底，与磁力垫形成快速连接，方便研磨抛光的进行。 产品型号研抛底片技术参数直径Φ205mm、Φ252mm、Φ305mm、Φ320mm、Φ385mm如需特殊尺寸请与我司销售人员联系！