多晶型表征

产品包括实验室加工设备药物制剂工艺设备旋转流变仪粘度计更多信息：请访问赛默飞世尔科技材料表征的展台，展位号：SH100279。或使用简易域名登陆：http://mctc.instrument.com.cn。

TriboLab CMP 利用其前身产品 （Bruker CP-4） 超过 20 年的 CMP 领域专业知识，为业界领先的 TriboLab 平台带来了一套完整的功能。基于本套设备产生的高精度和高可重复性使得在整个 CMP 流程中能够进行高效的鉴别、检查和连续功能测试。TriboLab CMP 是市场上唯一能够提供广泛的抛光压力 （0.05-50 psi）、速度（1 至 500 rpm）、摩擦、声发射和表面温度测量的工艺开发工具，可准确、完整地描述 CMP 工艺和耗材。用于 CMP 的小型研发规模专业系统布鲁克的TriboLab CMP工艺和材料表征系统是专为晶圆抛光工艺而设计，是具有可靠、灵活和高效的台式设备。重现全尺寸晶圆抛光工艺条件，无需在生产设备上停机提供无与伦比的测量可重复性和细节检测允许在小样品上进行测试，比全晶圆测试节省大量成本板载诊断系统可以更好地了解抛光过程比市场上任何其他系统提供更多的瞬态抛光过程的参数从接触抛光盘开始直至整个测试过程都能收集数据通过更完整、更详细的数据实现早期流程开发决策具有灵活的样品类型、尺寸和安装配置抛光任何平面材料，几乎能使用任何修正盘，任何抛光液，和任何抛光垫轻松使用 100 mm 以下的小尺寸晶圆可同时安装多个样品，测试更灵活

闪烁体是一类吸收高能粒子或射线后能够发光（探测器灵敏波段）的材料，可分为有机和无机两大类，按其形态又可分为固体、液体和气体三种。 当闪烁体受到高能粒子或射线照射后能够发生能级跃迁，且产生的紫外可见光强度可被光电探测器探测到。当X射线与闪烁体作用时，一个X射线光子，可以产生多个光子，与紫外可见光不同，因为X射线的能量足以使物体电离，使电子脱离能级的束缚。能量越高的X射线光子，通过产生俄歇电子，康普顿散射等产生更多的电离电子（二次电子），二次电子热能化退至激发能级，通过荧光或磷光的方式发光。因此闪烁体对辐射具有能量分辨率。在医学上，闪烁体是核医学影像设备的核心部件，通过它可以快速诊断出人体各器官的病变大小和位置。闪烁体在行李安检、集装箱检查、大型工业设备无损探伤、石油测井、放射性探测、环境监测等领域也都发挥着不可替代的作用。闪烁体还是制造各类对撞机中电磁量能器的重要材料，它可捕捉核反应后产生的各种粒子的信息，是人类探索微观世界及宇宙演变的重要工具。稳态瞬态荧光-闪烁体综合性能表征系统可综合测试稳态瞬态光致发光以及X射线辐射发光。X射线辐射样品仓安装可控屏蔽快门，在辐射光源最大功率下关闭快门时，样品位置辐射剂量小于10uSv/h，辐射防护满足国标GBZ115-2023《低能射线装置放射防护标准》的要求。 该系统可根据用户需要搭建以下功能● 稳态荧光/瞬态荧光● 稳态X射线荧光/瞬态X射线荧光● X射线荧光成像● 显微荧光/显微荧光寿命成像● 温度相关光谱 X射线荧光成像瞬态X射线荧光寿命测试技术参数X射线荧光成像TYP 39分辨率卡的X射线图像。测试1mm厚的YAG(Ce)时，分辨率可以达到20pl/mm以上。

显微热台广泛用于图象表征各种热转变过程，能够直接观察晶体或液晶样品在加热或冷却过程中的晶态变化以及结晶过程中形状、结构、颜色以及大小和数量的变化。FP82显微热台测量放置于玻璃片中的试样，通过显微镜系统观察并摄录试样的变化过程。FP84显微DSC热台测量放置于石英玻璃或蓝宝石坩埚中的试样，在通过显微镜观察并摄录试样变化过程的图像的同时，测量热流变化，图像信息与DSC曲线互为补充，可更全面准确地解析样品在升降温过程中的转变。技术参数：FP82HT：温度范围：-60～375℃重复性：0.2℃可视范围 &Phi 2.5mm主要特点：成像技术 - 可以直观研究多晶态转变封闭的炉体设计 - 保证精确的温度控制高灵敏度 - 光学灵敏度不受加热或冷却速率的影响手持式交互控制 - 使用者可以控制温度程序同步显微成像与DSC测量 -提供了样品完整的热分析信息产品型号： FP84HT：温度范围：-60～375℃重复性：0.2℃可视范围 &Phi 2mmDSC传感器：Au-Ni，5对热电偶量热灵敏度：13mV/mW应用领域:晶体、多晶体、液晶、半结晶聚合物等。主要型号: FP90/FP82+显微镜、FP90/FP84+显微镜查看更多信息咨询电话：

原料药API多晶型定量分析仪(台式小核磁)对制药行业而言,原料药(API) 的形态表征和组分定量分析在早期药物研发到生产整个过程都发挥着重要作用。它将影响API的溶解度,从而影响药物吸收特性 它也会影响药物的氧化,吸水,形态等方面的稳定性从而影响药物保质期。PQ001 原料药API多晶型定量分析仪(台式小核磁)多晶型定量分析仪基本参数：1、磁体类型：永磁体2、磁场强度：0.5±0.08T，仪器主频率：21.3MHz3、探头线圈直径：10mm4、有效样品检测范围：Ø 10mm×H20mm多晶型定量分析仪应用原理：在多组分混合物的情况下,低场磁共振分析技术通过测量纯组分的T1饱和恢复曲线(SR)作为参考曲线,随后用于量化已经测量过SRC的混合物中的组分,富含1H或19F的药物都可用于量化。多晶型定量分析仪应用方向：原料药(API)固体混合物的组分定量；样品与要求：样品：原料药(API)固体混合物，1H 和 19F 两种核可选探头直径：10mm（标配）组分含量最优范围：10%-90%多晶型定量分析仪产品优势：对样品质地或均匀性（片剂、凝胶、聚合物）以及载药量都没有要求；台式系统：占地面积小，维护成本低简单易用：从校准到项目报告，非专业用户也可以轻松完成整个工作流程；无需复杂的样品制备，样品量大具有代表性；中文软件界面：1. 测试页面包括测量设置区和结果显示区，设置与测量分开，直观方便；2. 软件集成一体化，直接显示测试结果，对操作人员无特殊要求；3. 测试过程简单快速。

中图仪器VT6000材料性能表征共聚焦测量显微镜基于光学共轭共焦原理，以转盘共聚焦光学系统为基础，结合精密纵向扫描，以在样品表面进行快速点扫描并逐层获取不同高度处清晰焦点并重建出3D真彩图像，一般用于略粗糙度的工件表面的微观形貌检测，可分析粗糙度、凹坑瑕疵、沟槽等参数。产品功能1)3D测量功能：设备具备表征微观3D形貌的轮廓尺寸及粗糙度测量功能；2)影像测量功能：设备具备二维平面轮廓尺寸的影像测量功能，可进行长度、角度、半径等尺寸测量；3)自动拼接功能：设备具备自动拼接功能，能够实现大区域的拼接缝合测量；4)数据处理功能：设备具备调整位置、纠正、滤波、提取四大模块的数据处理功能；5)分析工具功能：设备具备粗糙度分析、几何轮廓分析、结构分析、频率分析、功能分析等五大分析功能；6)批量分析功能：设备具备一键分析和多文件分析等辅助分析功能，可实现批量数据文件的快速分析功能；7)便捷操作功能：设备配备操纵杆，支持操纵杆进行所有位置轴的操作及速度调节、光源亮度调节、急停等；8)光源安全功能：光源设置无人值守下的自动熄灯功能，当检测到鼠标轨迹长时间未变动后会自主降低熄灭光源，防止光源高亮过热损坏，并有效延长光源使用寿命；9)镜头安全功能：设备配备压力传感器，并在镜头处进行了弹簧结构设计，确保当镜头碰撞后弹性回缩，进入急停状态，大幅减小碰撞冲击力，有效保护镜头和扫描轴，消除人为操作的安全风险。自设计之初，VT6000材料性能表征共聚焦测量显微镜便定下了“简单好用"四字方针的目标。1）结构简单：仪器整体由一台轻量化的设备主机和电脑构成，控制单元集成在设备主机之内，亦可采用笔记本电脑驱动，实现了“拎着走"的便携式设计；2）真彩图像：配备了真彩相机并提供还原的3D真彩图像，对细节的展现纤毫毕现；3）操作便捷：采用全电动化设计，并可无缝衔接位移轴与扫描轴的切换，图像视窗和分析视窗同界面的设计风格，实现了所见即所得的快速检测效果；4）采用自研的电动鼻轮塔台，并对软件防撞设置与硬件传感器防撞设置功能进行了优化，确保共聚焦显微镜在使用高倍物镜仅不到1mm的工作距离时也能应对。VT6000材料性能表征共聚焦测量显微镜可广泛应用于半导体制造及封装工艺检测、3C电子玻璃屏及其精密配件、光学加工、微纳材料制造、汽车零部件、MEMS器件等超精密加工行业及航空航天、科研院所等领域中。可测各类包括从光滑到粗糙、低反射率到高反射率的物体表面，从纳米到微米级别工件的粗糙度、平整度、微观几何轮廓、曲率等。不同应用场景下的3D形貌主要应用于半导体、光学膜材、显示行业、超精密加工等诸多领域中的微观形貌和轮廓尺寸检测中，其次是对表面粗糙度、面积、体积等参数的检测中。3D形貌图片：影像测量功能界面部分技术指标型号VT6100行程范围X100mmY100mmZ100mm外形尺寸520*380*600mm仪器重量50kg测量原理共聚焦光学系统显微物镜10× 20× 50× 100×视场范围120×120 μm~1.2×1.2 mm高度测量宽度测量XY位移平台负载10kg控制方式电动Z0轴扫描范围10mm物镜塔台5孔电动光源白光LED恳请注意：因市场发展和产品开发的需要，本产品资料中有关内容可能会根据实际情况随时更新或修改，恕不另行通知，不便之处敬请谅解。

原料药API多晶型定量分析仪(台式小核磁)对制药行业而言,原料药(API) 的形态表征和组分定量分析在早期药物研发到生产整个过程都发挥着重要作用。它将影响API的溶解度,从而影响药物吸收特性 它也会影响药物的氧化,吸水,形态等方面的稳定性从而影响药物保质期。PQ001 原料药API多晶型定量分析仪(台式小核磁)多晶型定量分析仪基本参数：1、磁体类型：永磁体2、磁场强度：0.5±0.08T，仪器主频率：21.3MHz3、探头线圈直径：10mm4、有效样品检测范围：?10mm×H20mm 多晶型定量分析仪应用原理：在多组分混合物的情况下,低场磁共振分析技术通过测量纯组分的T1饱和恢复曲线(SR)作为参考曲线,随后用于量化已经测量过SRC的混合物中的组分,富含1H或19F的药物都可用于量化。多晶型定量分析仪应用方向：原料药(API)固体混合物的组分定量； 样品与要求：样品：原料药(API)固体混合物，1H 和 19F 两种核可选探头直径：10mm（标配）组分含量zui优范围：10%-90% 多晶型定量分析仪产品优势：对样品质地或均匀性（片剂、凝胶、聚合物）以及载药量都没有要求；台式系统：占地面积小，维护成本低简单易用：从校准到项目报告，非专业用户也可以轻松完成整个工作流程；无需复杂的样品制备，样品量大具有代表性； 中文软件界面：1. 测试页面包括测量设置区和结果显示区，设置与测量分开，直观方便；2. 软件集成一体化，直接显示测试结果，对操作人员无特殊要求；3. 测试过程简单快速。

在材料生产检测领域中，纳米材料表征共聚焦显微镜用于对各种精密器件及材料表面进行微纳米级测量。它基于光学共轭共焦原理，结合精密纵向扫描，以在样品表面进行快速点扫描并逐层获取不同高度处清晰焦点并重建出3D真彩图像。产品功能(1)设备具备表征微观形貌的轮廓尺寸及粗糙度测量功能；(2)设备具备自动拼接功能，能够快速实现大区域的拼接缝合测量；(3)设备具备一体化操作的测量与分析软件，预先设置好配置参数再进行测量，软件自动统计测量数据并提供数据报表导出功能，即可快速实现批量测量功能；(4)设备具备调整位置、纠正、滤波、提取四大模块的数据处理功能；(5)设备具备粗糙度分析、几何轮廓分析、结构分析、频率分析、功能分析等五大分析功能；(6)设备具备一键分析和多文件分析等辅助分析功能，可实现批量数据文件的快速分析功能；VT6000纳米材料表征共聚焦显微镜在陶瓷、金属、半导体、芯片等材料科学及生产检测领域中具有广泛的应用。应用领域 对各种产品、部件和材料表面的面形轮廓、表面缺陷、磨损情况、腐蚀情况、平面度、粗糙度、波纹度、孔隙间隙、台阶高度、弯曲变形情况、加工情况等表面形貌特征进行测量和分析。应用范例：性能特色1、高精度、高重复性1）以转盘共聚焦光学系统为基础，结合高稳定性结构设计和3D重建算法，共同组成测量系统，保证仪器的高测量精度；2）隔震设计能够消减底面振动噪声，仪器在嘈杂的环境中稳定可靠，具有良好的测量重复性。2、一体化操作的测量分析软件1）测量与分析同界面操作，无须切换，测量数据自动统计，实现了快速批量测量的功能；2）可视化窗口，便于用户实时观察扫描过程；3）结合自定义分析模板的自动化测量功能，可自动完成多区域的测量与分析过程；4）几何分析、粗糙度分析、结构分析、频率分析、功能分析五大功能模块齐全；5）一键分析、多文件分析，自由组合分析项保存为分析模板，批量样品一键分析，并提供数据分析与统计图表功能； 6）可测依据ISO/ASME/EUR/GBT等标准的多达300余种2D、3D参数。3、精密操纵手柄集成X、Y、Z三个方向位移调整功能的操纵手柄，可快速完成载物台平移、Z向聚焦等测量前工作。4、双重防撞保护措施除软件ZSTOP设置Z向位移下限位进行防撞保护外，另在Z轴上设计有机械电子传感器，当镜头触碰到样品表面时，仪器自动进入紧急停止状态，保护仪器，降低人为操作风险。VT6000纳米材料表征共聚焦显微镜显微成像主要采用3D捕获的成像技术，使其具有较高的三维图像分辨率。横向分辨率更高，所展示的图像形态细节更清晰更微细，能够提供色彩斑斓的真彩图像便于观察。应用场景1、镭射槽测量晶圆上激光镭射槽的深度：半导体后道制造中，在将晶圆分割成一片片的小芯片前，需要对晶圆进行横纵方向的切割，为确保减少切割引发的崩边损失，会先采用激光切割机在晶圆表面烧蚀出U型或W型的引导槽，在工艺上需要对引导槽的槽型深宽尺寸进行检测。2、光伏在太阳能电池制作工程中，栅线的高宽比决定了电池板的遮光损耗及导电能力，直接影响着太阳能电池的性能。VT6000可以对栅线进行快速检测。此外，太阳能电池制作过程中，制绒作为关键核心工艺，金字塔结构的质量影像减反射焰光效果，是光电转换效率的重要决定因素。共聚焦显微镜具有纳米级别的纵向分辨能力，能够对电池板绒面这种表面反射率低且形貌复杂的样品进行三维形貌重建。3、其他部分技术指标型号VT6100行程范围X100mmY100mmZ100mm外形尺寸520*380*600mm仪器重量50kg测量原理共聚焦光学系统显微物镜10× 20× 50× 100×视场范围120×120 μm~1.2×1.2 mm高度测量宽度测量XY位移平台负载10kg控制方式电动Z0轴扫描范围10mm物镜塔台5孔电动光源白光LED恳请注意：因市场发展和产品开发的需要，本产品资料中有关内容可能会根据实际情况随时更新或修改，恕不另行通知，不便之处敬请谅解。

中图仪器VT6000材料表征3d共聚焦形貌显微镜基于光学共轭共焦原理，结合精密纵向扫描，通过系统软件对器件表面3D图像进行数据处理与分析，可以获取反映器件表面质量的2D、3D参数，从而实现器件表面形貌3D测量。VT6000材料表征3d共聚焦形貌显微镜在半导体制造及封装工艺检测、3C电子玻璃屏及其精密配件、光学加工、微纳材料制造、汽车零部件、MEMS器件等超精密加工行业及航空航天、科研院所等领域中，可测各类包括从光滑到粗糙、低反射率到高反射率的物体表面，从纳米到微米级别工件的粗糙度、平整度、微观几何轮廓、曲率等。产品功能(1)设备具备表征微观形貌的轮廓尺寸及粗糙度测量功能；(2)设备具备自动拼接功能，能够快速实现大区域的拼接缝合测量；(3)设备具备一体化操作的测量与分析软件，预先设置好配置参数再进行测量，软件自动统计测量数据并提供数据报表导出功能，即可快速实现批量测量功能；(4)设备具备调整位置、纠正、滤波、提取四大模块的数据处理功能；(5)设备具备粗糙度分析、几何轮廓分析、结构分析、频率分析、功能分析等五大分析功能； (6)设备具备一键分析和多文件分析等辅助分析功能，可实现批量数据文件的快速分析功能；功能特点1、测量模式多样单区域、多区域、拼接、自动测量等多种测量模式可选择，适应多种现场应用环境；2、双重防撞保护功能Z轴上装有防撞机械电子传感器、软件ZSTOP防撞保护功能，双重保护；3、分析功能丰富3D：表面粗糙度、平整度、孔洞体积、几何曲面、纹理方向、PSD等分析；2D：剖面粗糙度、几何轮廓测量、频率、孔洞体积、Abbott参数等分析。应用领域VT6000材料表征3d共聚焦形貌显微镜对各种产品、部件和材料表面的面形轮廓、表面缺陷、磨损情况、腐蚀情况、平面度、粗糙度、波纹度、孔隙间隙、台阶高度、弯曲变形情况、加工情况等表面形貌特征进行测量和分析。 应用范例：应用场景1、镭射槽测量晶圆上激光镭射槽的深度：半导体后道制造中，在将晶圆分割成一片片的小芯片前，需要对晶圆进行横纵方向的切割，为确保减少切割引发的崩边损失，会先采用激光切割机在晶圆表面烧蚀出U型或W型的引导槽，在工艺上需要对引导槽的槽型深宽尺寸进行检测。2、光伏在太阳能电池制作工程中，栅线的高宽比决定了电池板的遮光损耗及导电能力，直接影响着太阳能电池的性能。VT6000可以对栅线进行快速检测。此外，太阳能电池制作过程中，制绒作为关键核心工艺，金字塔结构的质量影像减反射焰光效果，是光电转换效率的重要决定因素。共聚焦显微镜具有纳米级别的纵向分辨能力，能够对电池板绒面这种表面反射率低且形貌复杂的样品进行三维形貌重建。3、其他VT6000共聚焦显微镜能够清晰地展示微小物体的图像形态细节，显示出精细的细节图像。它具有直观测量的特点，能够有效提高工作效率，更加快捷准确地完成日常任务。借助共聚焦显微镜，能有效提高工作效率，实现更准确的操作。部分技术指标型号VT6100行程范围X100mmY100mmZ100mm外形尺寸520*380*600mm仪器重量50kg测量原理共聚焦光学系统显微物镜10× 20× 50× 100×视场范围120×120 μm~1.2×1.2 mm高度测量宽度测量XY位移平台负载10kg控制方式电动Z0轴扫描范围10mm物镜塔台5孔电动光源白光LED恳请注意：因市场发展和产品开发的需要，本产品资料中有关内容可能会根据实际情况随时更新或修改，恕不另行通知，不便之处敬请谅解。

ICCS 催化剂原位表征系统综合催化剂表征Micromeritics 催化剂原位表征系统（ICCS）给研究者提供一个先进的工具来研究在精确控制有代表性的工艺条件下反应结果与关键参数（如活性位点数量）的关系。ICCS 是一套独立的配件，可附加在微型反应器这类动态实验室设备上。为其增加两类动态化学吸附分析功能： 程序升温分析（TPx）和脉冲化学吸附。反应前可在新鲜催化剂上进行化学吸附分析。反应后，无需从反应管中取出样品即可对催化剂再次进行化学吸附分析。通过这种对同一个样品原位的分析，消除空气中气体及水分等对样品的污染，可详细对比使用前和使用后的催化剂活性位点的变化，可轻松获得程序升温分析和脉冲化学吸附数据，确保数据的完整性。 ICCS 包括：高精度、高灵敏度的热导检测仪（TCD）监测流经反应管气体浓度的变化内置 Peltier 冷阱控温准确可在 -20°C 至 65°C 内工作以去除可冷凝的液体（例如，在还原氧化物过程中产生的水）两个用于精确控制气体的质量流量控制器（通过反应器系统进行压力控制）交互式报告和控制系统，具有功能丰富且直观的图形用户界面，轻松进行实验设计和结果分析支持：在具有代表性的工艺条件下对样品进行安全、高效和全面的表征，最高压力可达 20 bar表征功能包括脉冲化学吸附、程序升温还原（TPR）、脱附（TPD）和氧化（TPO）以及物理吸附（可选）在反应前后以及再生后对同一催化剂样品进行多次表征，以研究反应、失活和再生机制

CFC 多功能聚烯烃分析表征仪产品介绍 多功能聚烯烃综合表征分析仪CFC是应用升温淋洗分级技术（TREF）和凝胶渗透色谱技术（GPC）的一台全自动联用分析仪，可同时实现对分子量及其分布（MWD）和化学组分及其分布(CCD)的表征。CFC可在较短时间内完成复杂的共聚单体的化学组分和分子量及其分布表征（过去通常需要耗费几天时间）以及复杂聚烯烃共混产品的详细分析。 一、CFC功能： 1、可得到温度、分子量和化学组分分布数据的三维谱图，像超级显微镜一样把样品的微观结构进行全面剖析；即可以看到每个温度下各个化学组分的分子量及其分布和千碳甲基数，也可以详细了解每个分子量组分的化学组分构成。2、配置42位自动进样器，可一次性运行42个样品；3、选配组分检测器可直接获得CH3/1000C信息；4、选配低温附件，对于低结晶度的样品，可控温低至-20oC；5、具备远程控制、诊断功能； 二、CFC特点 1、台式、全自动分析； 2、分析过程无需人工接触溶剂，符合HSE要求，溶剂消耗少； 3、仪器软件设计非常友好，方便操作； 4、仪器易于使用、维护；5、选配氮气附件，可以降低氧化降解；6、样品采用温和振荡模式，可降低样品剪切降解； 三、应用实例 对于既有聚丙烯，又有聚乙烯还有乙丙共聚物，附带掺杂各种小分子聚合物以及石蜡等这类复杂样品的表征，如果采用传统分析方法，根本无法了解此聚合物的情况，更不用说知道其详细组成情况了。但采用多功能聚烯烃表征分析仪CFC，不但能够了解其组成情况，还能够详细地知道每个组分的分子量及支链分布情况，就像用一个超级显微镜一样看得清清楚楚。图1是某个牌号树脂的CFC分析结果3D图，我们可以根据温度、分子量及支化度信息等判断其具体组成，同时也能看到每个温度下的化学组成结构和同一分子量下的化学组成结构。 图1 某牌号树脂CFC分析结果

双向拉伸材料表征试验机 该系统是Coesfeld与德国达姆施塔特工业大学联合开发的，由德累斯顿莱布尼兹聚合物研究所用来表征橡胶材料的裂纹增长及其评价。该系统有静态测试和动态测试2个机型。系统特点: 1. 包含4台电机驱动装置；2. 每台驱动装置配备了一套位移和力传感器；3. 应变和力的测量；4. 通过移动的样品夹具实现力的良好分布。23-500-000双向拉伸静态实验机型号:Biax S5, Biax S10, Biax S20主要应用：通过双向拉伸、蠕变、应力松弛测量来表征塑料和弹性体的。主要参数：最大力值分别是5kN/ 10kN/ 20kN力值精度：0.2力值采样频率：1000Hz行程：200mm精度：0.25μm拉伸速度：60mm/min（120mm/min手动设置）采样精度：1000Hz 61-490双向拉伸动态实验机型号:Biax 800, Biax 1800, Biax 6000主要应用：用于弹性体疲劳和裂纹增长的测试和表征。主要参数：最大力值分别是800kN/ 1800kN/ 6000kN力值精度：0.2力值采样频率：1000Hz行程：50mm精度：0.25μm拉伸速度：1mm/s采样精度：1000Hz

该系统是Coesfeld与德国达姆施塔特工业大学联合开发的，由德累斯顿莱布尼兹聚合物研究所用来表征橡胶材料的裂纹增长及其评价。 该系统有静态测试和动态测试2个机型。系统特点: 1. 包含4台电机驱动装置；2. 每台驱动装置配备了一套位移和力传感器；3. 应变和力的测量；4. 通过移动的样品夹具实现力的最佳分布。 23-500-000双向拉伸静态实验机型号:Biax S5, Biax S10, Biax S20主要应用：通过双向拉伸、蠕变、应力松弛测量来表征塑料和弹性体的。主要参数：最大力值分别是5kN/ 10kN/ 20kN力值精度：0.2力值采样频率：1000Hz行程：200mm精度：0.25μm拉伸速度：60mm/min（120mm/min手动设置）采样精度：1000Hz 61-490双向拉伸动态实验机型号:Biax 800, Biax 1800, Biax 6000主要应用：通过双向拉伸的实验方法测量并表征弹性体的疲劳和裂纹增长。主要参数：最大力值分别是800kN/ 1800kN/ 6000kN力值精度：0.2力值采样频率：1000Hz行程：50mm精度：0.25μm拉伸速度：1mm/s采样精度：1000Hz

VT6000材料表征测量高分辨率超景深共聚焦显微镜基于光学共轭共焦原理，主要采用3D捕获的成像技术显微成像测量，具有较高的三维图像分辨率。一般用于略粗糙度的工件表面的微观形貌检测，可分析粗糙度、凹坑瑕疵、沟槽等参数。产品功能(1)设备具备表征微观形貌的轮廓尺寸及粗糙度测量功能；(2)设备具备自动拼接功能，能够快速实现大区域的拼接缝合测量；(3)设备具备一体化操作的测量与分析软件，预先设置好配置参数再进行测量，软件自动统计测量数据并提供数据报表导出功能，即可快速实现批量测量功能；(4)设备具备调整位置、纠正、滤波、提取四大模块的数据处理功能；(5)设备具备粗糙度分析、几何轮廓分析、结构分析、频率分析、功能分析等五大分析功能；(6)设备具备一键分析和多文件分析等辅助分析功能，可实现批量数据文件的快速分析功能；VT6000材料表征测量高分辨率超景深共聚焦显微镜可广泛应用于半导体制造及封装工艺检测、3C电子玻璃屏及其精密配件、光学加工、微纳材料制造、汽车零部件、MEMS器件等超精密加工行业及航空航天、科研院所等领域中。可测各类包括从光滑到粗糙、低反射率到高反射率的物体表面，从纳米到微米级别工件的粗糙度、平整度、微观几何轮廓、曲率等。应用领域VT6000材料表征测量高分辨率超景深共聚焦显微镜对各种产品、部件和材料表面的面形轮廓、表面缺陷、磨损情况、腐蚀情况、平面度、粗糙度、波纹度、孔隙间隙、台阶高度、弯曲变形情况、加工情况等表面形貌特征进行测量和分析。应用范例：性能特色1、高精度、高重复性1）以转盘共聚焦光学系统为基础，结合高稳定性结构设计和3D重建算法，共同组成测量系统，保证仪器的高测量精度；2）隔震设计能够消减底面振动噪声，仪器在嘈杂的环境中稳定可靠，具有良好的测量重复性。2、一体化操作的测量分析软件1）测量与分析同界面操作，无须切换，测量数据自动统计，实现了快速批量测量的功能；2）可视化窗口，便于用户实时观察扫描过程；3）结合自定义分析模板的自动化测量功能，可自动完成多区域的测量与分析过程； 4）几何分析、粗糙度分析、结构分析、频率分析、功能分析五大功能模块齐全；5）一键分析、多文件分析，自由组合分析项保存为分析模板，批量样品一键分析，并提供数据分析与统计图表功能；6）可测依据ISO/ASME/EUR/GBT等标准的多达300余种2D、3D参数。3、精密操纵手柄集成X、Y、Z三个方向位移调整功能的操纵手柄，可快速完成载物台平移、Z向聚焦等测量前工作。4、双重防撞保护措施除软件ZSTOP设置Z向位移下限位进行防撞保护外，另在Z轴上设计有机械电子传感器，当镜头触碰到样品表面时，仪器自动进入紧急停止状态，保护仪器，降低人为操作风险。功能特点1、测量模式多样单区域、多区域、拼接、自动测量等多种测量模式可选择，适应多种现场应用环境；2、双重防撞保护功能Z轴上装有防撞机械电子传感器、软件ZSTOP防撞保护功能，双重保护；3、分析功能丰富3D：表面粗糙度、平整度、孔洞体积、几何曲面、纹理方向、PSD等分析；2D：剖面粗糙度、几何轮廓测量、频率、孔洞体积、Abbott参数等分析。应用场景1、镭射槽测量晶圆上激光镭射槽的深度：半导体后道制造中，在将晶圆分割成一片片的小芯片前，需要对晶圆进行横纵方向的切割，为确保减少切割引发的崩边损失，会先采用激光切割机在晶圆表面烧蚀出U型或W型的引导槽，在工艺上需要对引导槽的槽型深宽尺寸进行检测。2、光伏在太阳能电池制作工程中，栅线的高宽比决定了电池板的遮光损耗及导电能力，直接影响着太阳能电池的性能。共聚焦显微镜可以对栅线进行快速检测。此外，太阳能电池制作过程中，制绒作为关键核心工艺，金字塔结构的质量影像减反射焰光效果，是光电转换效率的重要决定因素。共聚焦显微镜具有纳米级别的纵向分辨能力，能够对电池板绒面这种表面反射率低且形貌复杂的样品进行三维形貌重建。3、其他部分技术指标型号VT6100行程范围X100mmY100mmZ100mm外形尺寸520*380*600mm仪器重量50kg测量原理共聚焦光学系统显微物镜10× 20× 50× 100×视场范围120×120 μm~1.2×1.2 mm高度测量重复性(1σ)12nm显示分辨率0.5nm宽度测量重复性(1σ)40nm显示分辨率1nmXY位移平台负载10kg控制方式电动Z0轴扫描范围10mm物镜塔台5孔电动光源白光LED恳请注意：因市场发展和产品开发的需要，本产品资料中有关内容可能会根据实际情况随时更新或修改，恕不另行通知，不便之处敬请谅解。

TELSTAR 冻干工艺实验室拥有TELSTAR 中试工艺摸索型冻干机 LB 4PS 、 LB MINI；配置热电偶温度探头、自动参气、电容真空计、符合21CFR PART 11的工艺摸索软件；配置：升华界面温度软件、介入成核 等配置提供：冻干样品关键温度测试、冻干工艺摸索、优化、表征、放大等系列服务；设备：拥有TELSTAR 中试工艺摸索型冻干机 LB 4PS 、 LB MINI；配置热电偶温度探头、自动参气、电容真空计、符合21CFR PART 11的工艺摸索软件；配置：升华界面温度软件、介入成核 等配置Linkam 冻干显微镜；梅特勒 DSC；水分仪；灌装机；轧盖机；生物安全柜；超低温冰箱；等系列冻干工艺开发辅助设备。服务：冻干前后样品分析：冻干样品关键温度测试：塌陷温度（Tc)、玻璃态转变温度（Tg'、Tg)、共晶点温度（Teu)、初始融化温度；冻干工艺摸索：初始冻干工艺设计；冻干工艺优化；冻干工艺表征；冻干工艺放大；冻干样品缺陷问题解决；冻干工艺咨询：单小时咨询服务；8小时咨询服务包；16小时咨询服务包；长期顾问服务。冻干工艺培训：8小时线下冻干会议；16小时线下冻干会议；企业定制内训；

优势特点1）样品处理开始后样品池中真空度可达到10-3 Pa；2）样品测量过程中各样品可同时或分别进行预处理、吸附、脱附探针分子；3）测量所需探针分子为酸性或碱性分子，高硼硅玻璃材质避免了各类气体的相互污染；4）真空处理系统由机械泵与玻璃四级扩散泵串联组成，可满足样品测试所需的高真空度的要求，具有抽速快、体积小、噪音低、操作简单、使用方便等特点；5）低真空部分主要是抽除系统中的高浓度气体或吸附的残余气体；6）各部分节门选用高硼硅玻璃节门，满足系统高真空的要求，透明性操作，便于调试；7）真空测量仪使用数显高精密真空计；8）本系统所配透过式石英红外吸收池，可对样品进行陪烧、流动氧化还原、抽空脱气、吸附反应等处理过程，可随时移入或移出到红外光谱仪的光路中进行实验，对样品的加热温度可达450度；9）波纹管更换方便。10）高真空系统和原位红外吸收池可按客户要求进行更改和定制。产品应用1 吸附态研究和催化剂红外光谱表征红外光谱已经广泛应用于催化剂表面性质的研究，其中有效和广泛应用的是研究吸附在催化剂表面的所谓“探针分子”的红外光谱，如：NO、CO、CO2、NH3、C3H5N等，红外光谱表征可以提供催化剂表面尤其是原位反应条件下催化剂表面存在的“活性中心”和表面吸附物种的信息，因此对于揭示催化反应机理十分重要。1.1 CO吸附态研究CO具有很高的红外消光系数，其未充满的空轨道很容易同过渡金属相互作用，同时许多重要的催化反应如羰基合成、水煤气合成、费托合成等均与CO密切相关，因此，研究CO在过渡金属表面的吸附态是一项十分广泛的研究课题。1.2催化剂表面组成测定合金催化剂表面组成与体相组成的差异会导致催化剂的性能显著不同，因此，测定催化剂的表面组成对理解反应的活性位相当重要。利用两种气体混合物在双组份过渡金属催化剂表面上的竞争吸附，并通过红外光谱测定其强度，可以方便地测定双金属负载催化剂的表面组成。典型的例子是CO和NO在Pt-Ru双金属催化剂上共吸附的红外光谱。1.3几何效应和电子效应研究在高分散金属催化剂中引入第二金属组元，由于金属间的几何效应和电子效应可显著改变催化剂的吸附性能从而改变催化活性。如在Pd-Ag/SiO2催化剂体系中，Ag对Pd起稀释作用，当Ag含量增加，成双存在的Pd浓度减少，因而桥式CO减少，线式CO增加，说明几何效应改变了CO在Pd-Ag/SiO2体系中的吸附性能，同时，随Ag含量的增加，CO吸附谱带红移加大，说明Pd-Ag之间存在电子效应。1.4吸附分子相互作用研究CO吸附在过渡金属表面时存在d-π反馈，nco同d-π反馈程度有有关，而d-π反馈程度与金属本身的d轨道情况有关，因此，通过CO吸附态的红外吸收光谱的化学位移，可以考察其它分子与CO共同吸附时导致的分子与金属组元之间的电子转移过程。如：当能够给出电子的Lewis碱与CO共吸附在Pt上时，根据d-π反馈原理，吸附在Pt上的CO伸缩振动向低波数位移，而当能够接受电子的受体与CO共吸附在Pt上时，根据d-π反馈原理，吸附在Pt上的CO伸缩振动向高波数位移。2 氧化物、分子筛催化剂的红外光谱表征2.1 固体表面酸性测定固体表面酸性位一般可看作是氧化物催化剂表面的活性位。在众多催化反应如催化裂化、异构化、聚合等反应中烃类分子与表面酸性位相互作用形成正碳离子，该正碳离子是反应的中间物种。正碳离子理论可以成功解释烃类在酸性表面上的反应，也对酸性位的存在提供了有力证明。为了表征固体酸催化剂的性质，需要测定表面酸性位的类型(Lewis酸，Bronsted酸)、强度和酸量。测定表面酸性的方法很多，如碱滴定法、碱性气体吸附法、热差法等，但这些方法都不能区分L酸和B酸部位。红外光谱法则广泛用来研究固体催化剂表面酸性，它可以有效区分L酸和B酸，在该方法中，常用碱性吸附质如氨、吡啶、三甲基胺、正丁胺等来表征酸性位，其中应用比较广泛的是吡啶和氨。2.2 氧化物表面羟基的研究氧化物尤其是大比表面的氧化物的表面结构羟基同许多催化反应如脱水反应、甲酸分解反应等有关，而表面结构羟基的性质又同表面酸性有密切的关系，多年来，人们对氧化物表面羟基进行了大量的研究，其中大部分研究着眼于氧化物表面羟基的结构、性质以及同酸性中心的关系，进而同催化剂的反应性能相关联。研究催化剂表面结构羟基的方法很多，但卓有成效的是红外光谱法。2.3 氧化物表面氧物种研究甲烷是烃类分子中结构简单、对称、化学惰性的分子，从基础研究角度认识以甲烷为代表的低碳烃类活化机理具有极大的学术意义。但是，甲烷分子很难吸附在催化剂表面上，因此很难直接观察到它在氧化物表面的活化过程。而氧化物表面（尤其碱性氧化物表面）的氧物种研究由于表面存在一层稳定的碳酸盐使得对其研究十分困难。鉴于上述原因，氧化物表面氧物种的研究一直没有取得重大进展。近年来采用了“化学捕集”技术、同位素交换技术和低温原位红外光谱方法相结合应用于上述研究取得了一些关于表面氧物种和甲烷活化的重要信息。3 原位红外光谱应用于反应机理研究长期以来人们研究了各种分子在催化剂表面的吸附态并获得了许多重要的信息，但是这些信息都是在反应没有发生时测得的。而反应条件下的吸附物种的类型、结构、性能与吸附条件下的吸附物种的类型、结构、性能有很大差别，因此，仅利用吸附条件下分别测得的吸附物种信息无法准确阐明反应机理，为此，进行反应条件下吸附物种的研究十分必要。而在反应条件下催化剂表面吸附的物种并未都参与反应，因此如何在多种吸附物种中识别出参与反应的“中间物种”是非常重要的课题。原位红外光谱可以测量催化剂在反应状态下吸附物种的动态行为，因此可以获得催化剂表面物种的动态信息，并可据此推断反应机理。详细介绍原位红外光谱表征高真空系统是用于测定催化剂表面组成、吸附、酸性、物种、表面羟基及反应机理的专用设备，包括高真空系统和原位红外吸收池两部分，可以配合Bruker布鲁克等主要红外光谱仪进行氨、吡啶、一氧化碳、一氧化氮、甲醇、乙醇等化合物的化学吸附测定及反应机理研究。催化剂表征对于了解催化剂结构和组成在预处理、诱导期和反应条件下以及再生过程中所发生的变化是至关重要的。催化反应机理的知识、特别是结构、动态学和沿催化反应途径中生成的反应中间物的能量学可为开发新催化剂和改良现有催化剂提供更深刻的认识。原位谱学观察又是阐明反应机理、分子与催化剂相互作用的动态学和中间物结构的有效技术。这些研究还可以提供有关催化剂和底物相互作用及有关活化势垒的热力学方面信息。反应机理和动力学的研究，特别是对催化反应中间物的原位观察，对发展催化科学是非常必要的。因为这样的研究结果提供了催化作用的全面知识，并有助于阐明催化剂结构和功能的关系。高真空系统由玻璃四级扩散泵、真空泵、精密真空表、电离规、集气瓶、球形安瓶、制备瓶、可伐、真空活塞等组成。该系统的高真空是通过一台优质低噪声的机械泵和一台玻璃四级扩散泵组成的机组而获得。原位红外吸收池由石英制成，分样品台和真空密封窗口两部分。样品台带有加热组件、热电偶、冷却系统和气体引入系统；真空密封窗口由冷却系统和CaF2窗片组成。该吸收池采用透射模式进行红外光谱表征，可对样品进行焙烧、流动氧化还原、抽空脱气、吸附反应等处理过程，可随时移入或移出到红外光谱仪的光路中，也可利用配备的延长管路进行原位表征实验。样品的加热采用程序升温方法控制温度，温度可达450℃。标准配置的吸收池窗口材料为CaF2，工作区间为4000—1000cm-1，也可按用户需要配置其他窗口材料。表1 红外窗口材料的性质材料使用范围cm-1反射损失*(1000cm-1)溶解度 g/100ml@20oC相对价格物理性质NaCl5000至6257.5%401.0溶于水,硬但易抛光和切割,潮解慢KBr5000至4008.5%701.2溶于水,较软但易抛光和切割,潮解慢,价格高,范围宽CsI5000至18011.5%807.8溶于水,软且易划伤,不能切割,潮解慢CaF25000至10005.5%难溶3.5难溶于水,耐酸碱,不潮解,忌用于铵盐溶液BaF25000至7507.5%不溶6.2类似于CaF2,对热和机械振动敏感SrF25000至8506%不溶5.1类似于CaF2,对热和机械振动敏感AgCl5000至45019.5%不溶6.6不溶于水但溶于酸和NH4Cl溶液,可延展,长期暴露于紫外光变暗,腐蚀金属及合金AgBr5000至28025%难溶难溶于水,软且易划伤,冷变形长期暴露于紫外光变暗KRS-55000至25028%0.19.1微溶水,溶于碱但不溶于酸, 软且易划伤,冷变形,剧毒Infrasil(SiO2)5000至2850NA不溶不溶于水,溶于HF溶液,微溶于碱难切割Poly-ethylene625至10NA不溶1.6不溶于水,耐溶剂,软易溶胀,难清洗,可压片*两个面上的反射损失, NA 不透明. 玻璃高真空系统部分组成及说明请参阅图1所示，本玻璃高真空实验测试系统，主要应用红外光谱催化剂原位表征、催化剂表面吸附物种和催化剂表征方面（探针分子的红外光谱）以及反应动态学方面的研究。该系统包括由机械真空泵A，真空波纹管B，可伐KF接头C，缓冲球D，组成一级真空泵，用于抽取低真空段，该部分真空可以抽取到1.0Pa；玻璃扩散泵E，用于提升真空度，提升真空度到10-2-10-3Pa，此为二级真空泵，液氮冷阱F，用于冷却系统中杂质气体，也有利于帮助提高真空度；真空规管G和精密真空表J，分别用于测量系统的高真空度及低真空度；玻璃球瓶H、I为储气瓶，用于储存备用纯化好的气体；玻璃管P为高真空部，为工作玻璃管，为该系统的核心部分；玻璃管Q为低真空部，用于连接测试样品池M，进气接口Ｌ，为工作管Ｐ服务，并实现高低真空的转换；玻璃制备瓶K，用于气体的纯化与制备；制备安瓶N，用于液体的纯化与制备；该系统全部采用玻璃真空阀门，更好的保证了气密性，02,03为三通玻璃真空阀门（详图2），01、04、05、06、07、08、09、10、11为二通玻璃真空阀门（详图3）。本实用新型中所采用的管路均为玻璃管路，所采用的阀门均为玻璃高真空阀门，真空阀门可以保证系统使用过程中不会产生漏气或缓慢渗漏的情形。图1-C中不锈钢管与玻璃管路采用可伐（Kovar）连接。

MDPmap： 单晶和多晶硅片寿命测量设备用于复杂的材料研究和开发。 特点： ◇ 灵敏度：高的灵敏度，用于可视化迄今为止不可见的缺陷和调查外延层的情况 ◇ 测量速度：6英寸硅片5min，分辨率为1mm ◇ 寿命范围：20ns到几十ms ◇ 污染测定：源于坩埚和设备的金属（铁）污染 ◇ 测量能力：从切割好的硅片到完全加工的样品 ◇ 灵活性：固定的测量头可以与外部激光器连接并触发 ◇ 可靠性：模块化和紧凑型台式仪器，可靠性更高，正常运行时间99% ◇ 重复性： 99% ◇ 电阻率：电阻率测绘，无需频繁校准 技术规格: 样品尺寸 直径达300mm（标准台），直径达450mm（定制），*小为5 x 5mm 寿命测量范围 20ns至几十ms以上 电阻率 0.2 - 10³ Ωcm，p-型/n-型 样品材料 硅片、外延层、部分或完全加工的硅片、化合物半导体及更多材料 可测量的特性 寿命 - μ-PCD/MDP (QSS), 光导率 激发波长 选择从355nm到1480nm的*多四个不同波长。980nm(默认) 尺寸规格 体积：680 x 380 x 450毫米；重量：约65公斤 电源 100 - 250V, 50/60 Hz, 5 A 细节：◇ 用于研发或生产监控的灵活测绘工具 ◇ MDPmap被设计成一个紧凑的台式非接触电学表征工具，用于离线生产控制或研发，在稳态或短脉冲激励（μ-PCD）下，在一个宽的注入范围内测量参数，如载流子寿命、光导率、电阻率和缺陷信息。自动化的样品识别和参数设置允许轻松适应各种不同的样品，包括外延层和经过不同制备阶段的晶圆，从原生晶圆到高达95%的金属化晶圆。 ◇ MDPmap的主要优点是它的高度灵活性，例如，它允许集成多达四个激光器，用于测量从较低到高的注入水平的寿命，或通过使用不同的激光波长提取深度信息。包括偏置光设施，以及μ-PCD或稳态注入条件的选项。可以用不同的地图进行客户定义的计算，也可以输出主要数据进行进一步评估。对于标准的计量任务，预定义的标准只需按下一个按钮就能进行常规测量。 附加选项： ◇ 光斑大小的变化 ◇ 电阻率测量（晶圆） ◇ 方块电阻 ◇ 背景/偏光 ◇ 反射测量（MDP） ◇ 太阳能电池的LBIC（扩散长度测量） ◇ 偏压MDP ◇ 参考晶圆 ◇ 硅的内部/外部铁制图 ◇ 集成加热台 ◇ 灵活的激光器配置 MDPmap 测量案例： 钝化多晶硅的寿命图 多晶硅的铁污染图 单晶硅的硼氧图 单晶硅的缺陷密度图 碳化硅外延片（＞10μm）-少数载流子寿命mapping图（平均寿命τ=0.36μs） 高阻硅片（＞10000Ωcm）-少数载流子寿命mapping图 非钝化硅外延片（20μm）-少数载流子寿命mapping图 MDPmap 应用：铁浓度测定 铁的浓度的精确测定是非常重要的，因为铁是硅中丰富也是有害的缺陷之一。因此，有必要尽可能准确和快速地测量铁浓度，具有非常高的分辨率且**是在线的 更多...... 掺杂样品的光电导率测量 B和P的掺杂在微电子工业中有许多应用，但到目前为止，没有方法可以在不接触样品和由于必要的退火步骤而改变其性质的情况下检查这些掺杂的均匀性。迄今为止的困难…… 更多...... 陷阱浓度测定 陷阱中心是非常重要的，为了了解材料中载流子的行为，也可以对太阳能电池产生影响。因此，需要以高分辨率测量这些陷阱中心的陷阱密度和活化能。 更多...... 注入相关测量 少数载流子寿命强烈依赖于注入(过剩余载流子浓度)。从寿命曲线的形状和高度可以推断出掺杂复合中心和俘获中心的信息。 更多......

超高分子量聚烯烃材料分子量及其分布的表征超高分子量聚烯烃分子量及其分布的表征一直是超高分子量聚烯烃材料开发和加工应用的障碍，因为没有很好的方法来得到分布的数据，只能采用传统的黏度法来获得粗略的黏均分子量的数据，而采用我公司配置了专用IR5检测器和超高分子量色谱柱的高温凝胶色谱仪可以轻松方便地获得超高分子量聚烯烃的分子量及其分布的数据，如果需要也可以得到支化度的信息，成为超高分子量聚烯烃材料研发和加工应用的强有力的手段。

碳纳米管和石墨烯性能表征系统随着纳米技术的不断发展，碳纳米管和石墨烯的性能越来越受到科研人员的关注。然而，对于碳纳米管和石墨烯性能表征一直是困扰碳纳米管和石墨烯技术研究和应用的主要障碍。目前，碳纳米管和石墨烯测量方法是光谱测量技术。相对其他测量方法，该技术主要有以下的优点： 1、较高灵敏度，即使碳纳米管和石墨烯的含量很低也能测量。2、较高测量精度，对碳纳米管的（n,m）分辨率很高3、对待测样品要求低，可直接分析含较多杂质的样品。4、测量设备相对简单，准备待测样品非常容易。 5、数据处理简单，测量结果无需考虑背景减除。对于碳纳米管和石墨烯的表征，虽然光谱测量技术有很大的优点，但是测量过程还是有些问题，如获取数据速度太慢，测量灵敏度不是很高，手工处理数据非常繁琐且容易出错等等。著名的碳纳米管专家美国莱斯大学的R. Bruce Weisman和Sergei M. Bachilo教授针对这些问题开发了碳纳米管专用的测量系统NS3，使得NS3系统成为碳纳米管和石墨烯专用测量系统，可对碳纳米管和石墨烯进行吸收、荧光和拉曼光谱测量。Nano Spectralyzer (NS3)系统NS3上的测量结果：碳纳米管的近红外发射光谱 应用领域：1. 测量碳纳米管（n,m）分布2. 监测碳纳米管和石墨烯品质的稳定性3. 测量化学反应和物理作用的动态过程主要特点：1. 高度集成化，体积小巧2. 操作简单，使用方便3. 仅需要很少的样品4. 高测量灵敏度和测量速度5. 简单的操作界面，全自动测量和数据分析6. 同时测量样品近红外波长的吸收和发射光谱7. 采用电制冷材料冷却近红外光谱探头，无需使用液氮主要技术指标：荧光光谱测量：可见区发射谱探测范围： 400-900nm近红外发射谱探测范围： 900-1600nm可选近红外发射谱探测范围： -2000nm吸收谱测量：紫外吸收谱探测范围： 210-450nm可见吸收谱探测范围： 400-900nm红外吸收谱探测范围： 900-1600nm可选红外发射谱探测范围： -2000nm 拉曼光谱测量：拉曼光谱探测范围： 150-3000cm-1激发光源波长： 532和/或671nm

OROBOROS O2k高精度线粒体氧化磷酸化功能表征系统 OROBOROS O2k高精度线粒体氧化磷酸化功能表征系统的特点：1. 双通道系统/四通道系统/多通道系统2. 样本仓体积0.5ml-3.5ml3. 温度范围：4-47℃，可进行低温试验4. 具有可变速的磁力混匀功能5. 极谱氧电极传感器，检测氧流量分辨率为1 pmol/(sml)6. 氧电极测量参数：耗氧率、呼吸速率、呼吸控制比率7. 荧光检测参数包括：线粒体膜电位、ATP、Ca2+、ROS。8. 独立外接电极单元，测量参数包括：PH、H2O2、TPP+、H2S、NO9. 样品仓为杜兰玻璃、钛金属等极低活性的材质，降低背景氧干扰。10. 不限次数的加药系统，手动加药结合自动加药，实现准确定时、定量的试剂添加11. 专用组织匀浆工具，采用匀浆管技术对样本进行研磨，样本需求量少至几毫克。12. 引导性软件：实时记录实验过程中的所有数据变化，自动校准，引导标准实验步骤13. 几十种成熟的Protocol，支持代谢领域所有实验设计14. 无实验耗材、无专用试剂、开放性实验空间，节省实验成本的同时打开更广阔的实验领域

MagnebotiX磁控微纳操纵/表征系统产品介绍磁控微纳操纵/表征系统是基于磁场控制的微纳操作系统，通过五自由度磁场发生器，结合磁控算法及软件，可实现对磁性操控介质（如微小磁珠、磁 性无缆探针）运动轨迹和力学控制，在显微医学、纳米技术 基础和应用研究领域有着广泛应用。产品特性●　可实现5自由度的磁场控制●　可在微米到毫米级大小范围的物体上同时施加力和力矩●　超大球形工作空间，直径可达130毫米●　可与主流显微镜品牌和型号高度兼容应用案例生物力学 可实现在单细胞水平进行多种非接触操作方案。 巨噬细胞开始与磁性靶体相互作用 用磁珠探测微小组织 医学微操作 采用 OctoMag型磁控系统可以操纵磁性微探针，对小动物进行体内微创靶向给药。 磁性操纵微型机器人 靶向给药 微纳机器人研究 用于各种磁控微机器人 操作及其控制方案的研 究和二次开发。 磁共振微型机器人 螺旋形微型机器 磁控微机器人进行微装配操作 软件控制界面l 开环控制模式（遥杆控制）l 闭环控制模式l 自动化操控l 软件二次开发工具包l 实时显微成像显示规格参数产品型号MFG-100系统OctoMag系统工作空间直径10mm130mm磁场强度40mT50mT磁场梯度2T/m2T/m磁场频率2000Hz at 2mT10Hz外形尺寸250x275x110mm560x560x550mm系统重量4.5Kg40Kg

MagnebotiX磁控微纳操纵/表征系统 产品介绍MagnebotiX磁控微纳操纵/表征系统是基于磁场控制的微纳操作系统，通过五自由度磁场发生器，结合 磁控算法及软件，可实现对磁性操控介质（如微小磁珠、磁 性无缆探针）运动轨迹和力学控制，在显微医学、纳米技术 基础和应用研究领域有着广泛应用。产品特性●　可实现5自由度的磁场控制●　可在微米到毫米级大小范围的物体上同时施加力和力矩●　超大球形工作空间，直径可达130毫米●　可与主流显微镜品牌和型号高度兼容应用案例生物力学 可实现在单细胞水平进行多种非接触操作方案。 巨噬细胞开始与磁性靶体相互作用 用磁珠探测微小组织医学微操作 采用 OctoMag型磁控系统可以操纵磁性微探针，对小动物进行体内微创靶向给药。 磁性操纵微型机器人 靶向给药 微纳机器人研究 用于各种磁控微机器人 操作及其控制方案的研 究和二次开发。 磁共振微型机器人 螺旋形微型机器 磁控微机器人进行微装配操作软件控制界面l 开环控制模式（遥杆控制）l 闭环控制模式l 自动化操控l 软件二次开发工具包l 实时显微成像显示 规格参数产品型号MFG-100系统OctoMag系统工作空间直径10mm130mm磁场强度≦40mT50mT磁场梯度2T/m2T/m磁场频率2000Hz at 2mT10Hz外形尺寸250x275x110mm560x560x550mm系统重量4.5Kg40Kg

TriboLab CMP 利用其前身产品 （Bruker CP-4） 超过 20 年的 CMP 领域专业知识，为业界领先的 TriboLab 平台带来了一套完整的功能。基于本套设备产生的高精度和高可重复性使得在整个 CMP 流程中能够进行高效的鉴别、检查和连续功能测试。TriboLab CMP 是市场上唯一能够提供广泛的抛光压力 （0.05-50 psi）、速度（1 至 500 rpm）、摩擦、声发射和表面温度测量的工艺开发工具，可准确、完整地描述 CMP 工艺和耗材。用于 CMP 的小型研发规模专业系统布鲁克的TriboLab CMP工艺和材料表征系统是专为晶圆抛光工艺而设计，是具有可靠、灵活和高效的台式设备。重现全尺寸晶圆抛光工艺条件，无需在生产设备上停机提供无与伦比的测量可重复性和细节检测允许在小样品上进行测试，比全晶圆测试节省大量成本板载诊断系统可以更好地了解抛光过程比市场上任何其他系统提供更多的瞬态抛光过程的参数从接触抛光盘开始直至整个测试过程都能收集数据通过更完整、更详细的数据实现早期流程开发决策具有灵活的样品类型、尺寸和安装配置抛光任何平面材料，几乎能使用任何修正盘，任何抛光液，和任何抛光垫轻松使用 100 mm 以下的小尺寸晶圆可同时安装多个样品，测试更灵活

一、膏药剥离强度测定仪介绍膏药是中药外用的一种，古称薄贴，用植物油或动物油加药熬成胶状物质， 涂在布、纸或皮的一面，可以较长时间地贴在皮肤患处，经皮肤发挥作用，由于 膏药直接敷贴于体表，而制作膏剂的药物大多气味较浓，再加入辛香走窜强的 引经药物，通过渗透入皮肤，内传经络、脏腑，起到调气血、通经络、散寒湿， 消肿痛等作用。利用上海保圣TA,XTC-18膏药剥离强度测定仪测试膏药的胶粘性，并介绍了设备的测试原理、试验的基本步骤等信息，为企业检测膏药的胶粘性提供参考。表征膏药胶粘性的性能指标有初粘性、持粘性、剥离强度等，对某品牌膏药进行剥离强度的测定，可模拟膏药在剥离时的状态，从而为该膏药剥离的测定提供客观参考数据可供厂家改进产品，以便消费者选择好的商品。二、膏药剥离强度测定仪符合标准本法系用于测定贴膏剂、贴剂敷贴于皮肤后与皮肤表面黏附力的大小。本法分别采用初黏力、持黏力、剥离强度及黏着力四个指标测定贴膏剂、贴剂的黏附力。初黏力系指贴膏剂、贴剂黏性表面与皮肤在轻微压力接触时对皮肤的黏附力，即轻微压力接触情况下产生的剥离抵抗力:持黏力可反映贴青剂、贴剂的音体抵抗持久性外力所引起变形或断裂的能力:剥离强度表示贴膏剂、贴剂的音体与皮肤的剥离抵抗力:黏着力表示贴音剂、贴剂的黏性表面与皮肤附着后对皮肤产生的黏附力。三、膏药剥离强度测定方法：1.使用仪器TA,XTC-18膏药剥离强度测定仪。试验板厚1.5-2.0mm，宽50mm，长125mm的不锈钢板。180°剥离装置。2.测试样品实验前，将膏药于 18℃-25℃、相对湿度 40%-70%条件下放置 2 小时以上。 将膏药背面剥离固定在试验板上，使膏药平整地贴合在试验板上。然后用2000g的重轴在贴合的膏药上来回滚压三次，以确定粘接处无气泡存在。膏药粘贴后，应在室温下放置20-40min后进行试验。把试验板下端夹持在仪器上，膏药一边夹持在上端，使剥离面垂直。

产品简介当前通用的磁光克尔测试方法主要分为两种，一种是以激光和光电探测为主的MOKE高精度磁滞回线扫描,另一种是将光学成像技术与磁光克尔效应结合,形成高分辨率磁光克尔显微镜。前者具有高精度优势,但不具备空间成像能力和微区定点探测能力 后者则具有高分辨率成像和微区探测能力，但由于采用相机作为信号采集单元，探测精度不如前者。低温强磁场激光克尔显微成像系统-二维铁磁材料表征利器是针对二维铁磁材料磁性弱样品尺寸小、部分样品不导电、矫顽场高、居里温度低等特性开发的一款功能强大的表征系统,低温强磁场激光克尔显微成像系统-二维铁磁材料表征利器磁性探测精度高、能够微区定点测量和光斑位置定位、具备较高磁场和宽温区变温，可以满足大部分维铁磁材料的磁特性表征需求。主要技术指标激光光斑:5 umMOKE测试:可测试面内和垂直磁各向异性样品，克尔转角分辨率优于1mdeg磁场范围：最大1.4T变温范围:5 K-800 K

AMI-300 系列全自动程序升温化学吸附仪AMI-300化学吸附分析仪是新一代全自动程序升温化学吸附仪，可执行动态程序升温催化剂表征实验（TPR,TPO,TPD,脉冲化学吸附等）；测定金属分散度、相对活性、吸附强度，测试时间仅为传统容积法的1/3。根据您的需要，可使用标配TCD检测器进行气体分析，或者与质谱仪或其他检测器 ( FID, FTIR, GC 等) 。产品特点：多路进气 可选配四个高精度质量流量控制器(MFC)， 扩展至12个进气口。温度范围 实验温度可至1200℃，全范围升温速率均可达1-50℃/min,可选低温组件温度可低至-130℃峰扩散小 1/16英寸316不锈钢管线，保证较小的死体积，有利千提高信号 响应速率， 减少峰的扩散。内置饱和蒸汽发生器 用于产生带有饱和液体蒸汽的气体，饱和蒸蒸汽发生器的温度可控。样品装卸方便 灵活可移动的贝壳式加热炉多种规格的样品管，适用于不同样品尺寸、剂量满足用户的测试需求分析时间短 自动控制的空气冷却组件使得降温更迅速，有效缩短实验时间多路控温 可自由切换加热炉或样品床层的温度来控制仪器测试时的升温速率，并实时记录加热炉和样品床层的温度用于数据分析安全系数高 提供多方位温度检测，超温保护系统，TCD流量监控防干烧系统，前置应急开关等选项都提供更优的安全选择。 测量精确 配置4灯丝高精度热导池检测器（TCD ) , 以及不同量程的定量环（Loop)。定量可选择自动或者手动脉，以最大限度的满足灵敏性和兼容性灵活的用户操作界面 基于Windows操作系统软件，程序设置实验过程，控制仪器功能和数据处理。操作自有、全自动测试 全自动运行实验，电脑自 动采集和储存数据。高级用户模式下仪器设置窗口完全开放，实现用户高度自由化操作。可连接质谱（MS）或气体检测器 支持外接多种检测器，提供串联&并联连接方式，可将质谱（MS）数据采集嵌入AMI软件中，实现同一文件导出TCD&MS数据无蒸汽凝结和吸附滞留 仪器内所有管线和阀均可控温，以防止蒸汽的凝结和吸附滞留现象无需另购气体混合器 内置气体混合器，可提供忍任意、均一混合气体。该气体混合器也适用于全自动多点BET比表面积分析化学通用性和高灵敏性 可根据不同实验需求选择合适的密封材料和TCD灯丝性能参数：型号AMI-300典型样品0.1-1.0克温度范围室温°C——1200°C低温选件-130°C——1200°C升温速率1°C/min——50°C/min标准操作压力（TPX units)大气压 可选压力范围（高压）30bar/100bar气体输入口（低压）4路载气，4路处理气，2路混气气体流速5——50cm3/min（标准模式）样品管类型（低压）石英U型管，泡形管，直壁管样品管类型（高压）316不锈钢反应管TCD检测器两种材料可选（钨；金/钨）管路材质316不锈钢，1/6英寸密封圈可选Viton,Buna-N,Kalrez等尺寸宽56cm 高60cm 深61cm重量55Kg电源220—240V，50/60Hz典型应用：研究催化剂的表面活性位及数量、强度 、活性 、稳定性 、选择性和失活对于工业反应过程非常重要。在催化、化学品和石化行业、比如精细化学品、燃料、肥料、尾气排放控制器、电池、燃料电池和储能材料的研制过程中，表面活性 对材料起着至关重要的作用。多相催化剂也广泛应用于催化裂解和重整反应，加氢反应（加氢脱硫，加氢脱氮，加氢脱氧，加氢脱金属），选择性氧化和还原反应，汽车尾气污染治理、烃的异构化、费托工艺、水煤气变换以及其他许多重要的工业反应。

厂家正式授权代理商：岱美有限公司联系电话：，（贾先生）联系地址：北京市房山区启航国际3期5号楼801公司网址：ThetaMetrisis是一家私有公司，成立于2008年12月，位于希腊雅典，是NCSR' Demokritos' 的微电子研究所的第一家衍生公司。ThetaMetrisis的核心技术是白光反射光谱（WLRS），它可以在几埃到几毫米的超宽范围内，准确而同时地测量堆叠的薄膜和厚膜的厚度和折射率。 FR-Mic: 微米级薄膜表征-厚度，反射率，折射率及消光系数测量仪一、产品简介： FR-Mic 是一款快速、准确测量薄膜表征应用的模块化解决方案，要求的光斑尺寸小到几个微米，如微图案表面，粗糙表面及许多其他表面。它可以配备一台专用计算机控制的 XY 工作台，使其快速、方便和准确地描绘样品的厚度和光学特性图。o 实时光谱测量o 薄膜厚度，光学特性，非均匀性测量，厚度映射o 使用集成的， USB 连接高品质彩色摄像机（CCD）进行成像 二、应用领域 o 大学 & 科研院所o 半导体（氧化物、氮化物、硅、电阻等）o MEMS 元器件 (光刻胶、硅薄膜等)o LEDo 数据存储元件o 弯曲基材（衬底）上的硬/软涂层o 聚合物涂层、粘合剂等o 生物医学（ parylene—— 派瑞林,气泡壁厚,等等 )o 其他更多 … (如有需求，请与我们取得联系) 三、产品特点o 单点分析(无需预设值）o 动态快速测量o 包括光学参数(n和k，颜色)o 为演示保存视频o 600 多种的预存材料o 离线分析o 免费软件更新 四、技术参数 FR-Scanner 自动化超高速精准薄膜厚度测量仪 一、产品简介： FR-Scanner 是一种紧凑的台式工具，适用于自动测绘晶圆片上的涂层厚度。FR-Scanner 可以快速和准确测量薄膜特性:厚度，折射率，均匀性，颜色等。真空吸盘可应用于任何直径或其他形状的样片。 独特的光学模块可容纳所有光学部件:分光计、复合光源(寿命10000小时)、高精度反射探头。因此，在准确性、重现性和长期稳定性方面保证了优异的性能。FR-Scanner 通过高速旋转平台和光学探头直线移动扫描晶圆片(极坐标扫描)。通过这种方法，可以在很短的时间内记录具有高重复性的精确反射率数据，这使得FR-Scanner 成为测绘晶圆涂层或其他基片涂层的理想工具。测量 8” 样片 625 点数据60 秒 二、应用领域o 弯曲基材（衬底）上的硬/软涂层o 聚合物涂层、粘合剂等o 生物医学（ parylene—— 派瑞林,气泡壁厚,等等 )o 半导体生产制造：(光刻胶, 电介质,光子多层结构， poly-Si,Si, DLC )o 光伏产业o 液晶显示o 光学薄膜o 聚合物o 微机电系统和微光机电系统o 基底: 透明 (玻璃, 石英, 等等) 和半透明 三、产品特点o 单点分析(无需预设值）o 动态快速测量o 包括光学参数(n和k，颜色)o 为演示保存视频o 600 多种的预存材料o 离线分析o 免费软件更新 四、技术参数FR-Scanner: 自动化超高速薄膜厚度测量仪 FR-pOrtable:一款USB驱动的薄膜表征工具 一、产品简介： FR-pOrtable 是 一 款独 特 的 便 携 式 测 量 仪器 ， 可 对 透 明 和 半 透明 的 单 层 或 多 层 堆 叠薄 膜 进 行 精 确 的 无 损（非接触式）表征。使用 FR-pOrtable，用户可以在 380-1020nm 光谱范围内进行反射率和透射率测量及薄膜厚度测量。二、应用领域o 大学 & 科研院所o 半导体（氧化物、氮化物、硅、电阻等）o MEMS 元器件 (光刻胶、硅薄膜等)o LEDo 数据存储元件o 弯曲基材（衬底）上的硬/软涂层o 聚合物涂层、粘合剂等o 生物医学（ parylene—— 派瑞林,气泡壁厚,等等 )o 其他更多 … (如有需求，请与我们取得联系) 三、应用领域 FR-pOrtable的紧凑尺寸以及定制设计的反射探头以及宽带长寿命光源确保了高精度和可重复的便携式测量。 FR-Portable既可以安装在提供的载物台上，也可以轻松转换为手持式厚度测量工具。放置在待表征的样品上方即可进行测量。 FR-Portable是用于工业环境（如R2R、带式输送机等）中涂层实时表征的可靠而精确的测厚仪。四、产品特点o 一键分析 (无需初始化操作)o 动态测量o 测量光学参数(n & k, 颜色)，膜厚o 自动保存演示视频o 可测量 600 多种不同材料o 用于离线分析的多个设置o 免费软件更新服务 五、技术参数FR-pRo: 按需可灵活搭建的薄膜特性表征工具一、产品简介： FR-pRo 是一个模块化和可扩展平台的光学测量设备，用于表征厚度范围为1nm-1mm 的涂层.FR-pRo 是为客户量身定制的，并广泛应用于各种不同的应用 。 FR-pRo 可由用户按需选择装配模块，核心部件包括光源，光谱仪（适用于 200nm-2500nm 内的任何光谱系统）和控制单元，电子通讯模块此外，还有各种各种配件，比如:? 用于测量吸收率/透射率和化学浓度的薄膜/试管架,? 用于表征涂层特性的薄膜厚度工具,? 用于控制温度或液体环境下测量的加热装置或液体试剂盒,? 漫反射和全反射积分球通过不同模块组合，最终的配置可以满足任何终端用户的需求 二、应用领域o 弯曲基材（衬底）上的硬/软涂层o 聚合物涂层、粘合剂等o 生物医学（ parylene—— 派瑞林,气泡壁厚,等等 )O 半导体生产制造：(光刻胶, 电介质,光子多层结构， poly-Si,Si, DLC )o 光伏产业o 液晶显示o 光学薄膜o 聚合物o 微机电系统和微光机电系统o 基底: 透明 (玻璃, 石英, 等等) 和半透明 三、产品特点o 单点分析(无需预设值）o 动态快速测量o 包括光学参数(n和k，颜色)o 为演示保存视频o 600 多种的预存材料o 离线分析o 免费软件更新 四、技术参数

闪烁体是一类吸收高能粒子或射线后能够发光（探测器灵敏波段）的材料，可分为有机和无机两大类，按其形态又可分为固体、液体和气体三种。 当闪烁体受到高能粒子或射线照射后能够发生能级跃迁，且产生的紫外可见光强度可被光电探测器探测到。当X射线与闪烁体作用时，一个X射线光子，可以产生多个光子，与紫外可见光不同，因为X射线的能量足以使物体电离，使电子脱离能级的束缚。能量越高的X射线光子，通过产生俄歇电子，康普顿散射等产生更多的电离电子（二次电子），二次电子热能化退至激发能级，通过荧光或磷光的方式发光。因此闪烁体对辐射具有能量分辨率。在医学上，闪烁体是核医学影像设备的核心部件，通过它可以快速诊断出人体各器官的病变大小和位置。闪烁体在行李安检、集装箱检查、大型工业设备无损探伤、石油测井、放射性探测、环境监测等领域也都发挥着不可替代的作用。闪烁体还是制造各类对撞机中电磁量能器的重要材料，它可捕捉核反应后产生的各种粒子的信息，是人类探索微观世界及宇宙演变的重要工具。稳态瞬态荧光-闪烁体综合性能表征系统可综合测试稳态瞬态光致发光以及X射线辐射发光。X射线辐射样品仓安装可控屏蔽快门，在辐射光源最大功率下关闭快门时，样品位置辐射剂量小于10uSv/h，辐射防护满足国标GBZ115-2023《低能射线装置放射防护标准》的要求。 该系统可根据用户需要搭建以下功能● 稳态荧光/瞬态荧光● 稳态X射线荧光/瞬态X射线荧光● X射线荧光成像● 显微荧光/显微荧光寿命成像● 温度相关光谱 X射线荧光成像瞬态X射线荧光寿命测试技术参数X射线荧光成像TYP 39分辨率卡的X射线图像。测试1mm厚的YAG(Ce)时，分辨率可以达到20pl/mm以上。

水泥水化程度表征-低场核磁共振分析仪　　低场核磁共振技术对于水泥浆体内部不同自由程度的水分有着较高的敏感性。低场核磁共振技术以水为“探针”，可分析水分在浆体内部的弛豫信息，表征水泥浆体水化进程中微观结构，这使得利用低场核磁共振技术研究水泥水化程度成为可能。　　PQ001核磁共振成像分析仪是纽迈推出的多功能核磁分析仪，可实现水泥材料的水化程度表征，还可搭配自主研发的多种硬件模块（如低温、高温模块），可实现变温条件下的模拟研究。 　　基本参数　　磁场强度：0.5±0.03T　　样品范围：Ø 25mm*H25mm； 　　性能特点　　快速：快速、高通量、可重复性好　　无损：样品无需前处理，可重复监测　　低成本：仪器无需额外维护，无需化学试剂　　简单：操作简单，适合非技术人员水泥浆体在不同养护制度下的横向弛豫时间分布

详细介绍标准太阳电池为2cm*2cm的单晶硅或多晶硅晶硅（可依据用户需要定制）光伏电池，经过老化、筛选，选择稳定性好、表面均匀的进行全密封式封装。太阳电池置于方形铝基座的中心，并配有一个抗辐照玻璃保护窗口，窗口的封装采用透明性好，折射系数相近的光敏胶。太阳电池的下面装有Pt100铂电阻温度传感器，在封装前已进行标定。太阳电池和测温传感器均采用四端输出的Kelvin连接接线方式。型号：1）CEL-RCCN单晶硅标准太阳能电池2）CEL-RCCO多晶硅标准太阳能电池标准太阳电池通常用于日常校准或测试光源（氙灯、太阳模拟器等）在被测太阳电池表面所建立的总辐照度（W/m2）。太阳模拟器的辐照度发生变化时，照射在太阳电池上产生的短路电流与太阳模拟器的辐照度之比接近常数，因此可以通过测量短路电流的大小来获得太阳的辐照度。太阳电池的标定值定义为：在标准测试条件下，标准太阳电池的短路输出电流与辐照度之比，单位A/(W/m2)，称为CV值。当太阳电池的短路电流等于其标定值时，即可认为太阳模拟器的辐照度达到一个太阳常数，即1000W/m2。 规格参数尺寸和外观测试条件光伏材料单晶硅/多晶硅光谱AM1.5光伏器件尺寸20mm x 20mm标定温度25oC窗口材料空间抗辐照盖片标定辐照度1000 W/m2外围材料空间抗辐照盖片波长范围400-1100nm外围材料70mm x 70mm x 20 mm测试参数温度传感器100 Ω Pt电阻标定值CV (A/W/m2 )电流电压连接器LEMO插头短路电流Isc ( mA)温度连接器LEMO插头开路电压Voc ( mV)电性能短路电流的温度系数α(mA• oC-1)标定辐照度1000 W/m2开路电压的温度系数β(mV• oC-1)操作电流不超过200 mA电流最大值Imax ( mA)操作温度10oC - 40oC电压最大值Vmax ( mV)转换效率大于16%功率最大值Pmax ( mW)填充因子大于0.7填充因子FF短路电流变化不超过±0.5% 测试证书每个电池会有一份测试证书和独立的数据记录。证书记录了测量值及其不确定度，标准电池溯源的基础及各种参数数据，可以作为与ISO相符合的质量证书。