钝化剂

北京明尼克分析仪器设备中心全面代理美国SilcoTek钝化技术产品。钝化技术采用的化学蒸汽沉淀法是一种全新的涂覆技术。在特制的炉中放置所需处理的部件，导入技术的气体。主要特点是这种气体可以渗透到曲折的管道内部并提供很薄的均匀涂覆，即使复杂的形状完成均匀的涂覆。技术特点：超强的化学惰性；超高耐腐蚀能力；耐高温、韧性好；涂覆层厚1微米；适应各法规分析方法，与特种合金材料相比，大大降低成本。应用领域：石油化工、油气勘探、半导体、 航天自动化、分析技术、气体制造、环境监测、采样，活性极性强以及强酸、强碱气体传输等领域。成品应用：大气采样罐、VICI进样切换阀、高压取样瓶、仪表采样硅钢管、两级调压阀、金属毛细柱和柱管、PDHID检测器、VICI管路接头、动态渗透管校准气体发生器、Swagelok管路接头。SilcoTek硅钝化管线：经Sulfinert钝化处理的SS316管，1/4”,1/8”,1/16”钝化管线现货供应。

晶硅太阳能电池表面钝化用高产出原子层沉积系统ALD for surface passivation of c-Si solar cells应用： 1.CIGS太阳能电池无镉缓冲层沉积 2.晶硅太阳能电池表面钝化层沉积 3.大规模生产的应用 4.工业全自动生产设备 5.高产量：高达4500晶片/小时(156 X 156 m㎡)特征： 1.良好的厚度＆均匀性好的Al2O3薄膜 2.用于短气体循环时间的先进工艺套件和小体积 3.具体化的ALD机械装置 4.全集成工艺模块 5.操作过程简单 6.自动式操作技术规格：ModelMaterialWafer Size(mm2)Thickness (nm)Throughput(wph)LucidaTM GS200Al2O3156x1564≥550LucidaTM GS800Al2O3156x1564≥2300LucidaTM GS1200Al2O3156x1564≥3400LucidaTM GS1600Al2O3156x1564≥4500LucidaTM GS6000Al2O3156x1564≥6000

Kurabo红外油膜钝化膜测厚仪NR-2100IB 仪器用途简介：汽车钢板上的防锈油、滚轧润滑油等涂油量的测量耐指纹、润滑性钢板等有机油膜厚度的测量铝罐（易拉罐内壁）等有机膜涂布量的测量彩色钢板的底漆厚度及背面涂布量的测量其他金属上有机膜涂布量的测量Kurabo红外油膜钝化膜测厚仪NR-2100IB 技术参数：测量方法:红外反射吸收方式(旋转过滤器方式)测量范围:0.1～10μm反复再现性:0.01μm以下测量面积:518×36mm(椭圆)尺寸・ 重量:100(W)×210(D)×145(H)、约1.5kgKurabo红外油膜钝化膜测厚仪NR-2100IB 主要特点：三点定位，独特光源，精确精确再精确。本产品深得钢铁业、铝业客户厚爱。如果把红外线照射到被测物上,就会发生与膜厚相对应的特定波长的红外线吸收现象。从透过光或镜面金属板的正反射光来掌握吸收量,再按事先测得的吸光度与水分值的关系式,可以测量膜厚。并且,采用本公司独自的P偏光入射方式。消除因表面反射或内部多重反射引起的误差,提供红外线测厚仪最理想的硬件。&bull 小型、轻量自由携带,可测量钢板上的任意位置。内置打印机因内部设置了打印机，数据的整理变得极为简单。

一、不锈钢钝化测试仪介绍1、Oxilyser3能用来测量不锈钢合金的表面质量，确保表面测量数据的精确性和可信度。 2、测量原理是基于特殊研发的电极，从而对不锈钢合金表面进行静态势能的测量。 3、合金表面的最小活性，也就是金属原子的流动性会被直接测量，并显示在仪器上。 4在欧洲委员会的支持下，经过了数年的科学研究，Oxilyser在 1992年被成功打入市场。二、产品特点：1、Oxilyser3不是测量腐蚀的仪器。它不会对受时间影响很大的焊接色泽有任何反应，它只会对表面干净的合金起作用。对不锈钢合金 表面质量控制的第一步是用眼睛去检验。但是，用肉眼检验过的合金表面也可能活性很大。设备说明2、Oxilyser通过旋转 ON的旋转开关来测量合金。在旋转 ON之后，液晶显示屏上显示一个很小的负值，这个负值没有任何意义。而与 此同时，电子显示屏上会变红。测量设备包括一根标准电极，这根电极包括黑色电线和一根含有红色电线的红色阳极夹钳。在测试时，钝 化值将会在 0-100之间。当钝化值达到可接受状态时，电子显示屏会自动由红变绿，可接受值是由调制开关上的合金名称决定的。三、产品配置：1、电池 在液晶显示屏上的电池标志表明电池电量低。更换电池时，拧开后盖，松开电池弹夹，然后更换电池即可。最好使用Alkaline电池。2、标准电极 为了符合工业上的灵活使用，标准电极是用塑料做成的。当探头末端的小型陶瓷薄膜与电解质溶液和阳极接触时，标准电极只会给提 供一种信号。包装必须凝固从而确保薄膜与液体相互接触。如果标准电极没有发出信号，那可能是在管内的空气泡挡住了电极内的薄膜。 在这种情况下，就像晃动水银温度计里边的空气一样把空气摇出来。如果陶瓷薄膜和氯化氢溶液接触良好时，标准电极的寿命将会在最佳 时间段。如果想长时间放置标准电极，建议用氯化钾溶液填充塑料帽，并把它放在探头末端。在测量的过程中，标准电极的末端必须用清 水和棉棒清洗。3、电解质不锈钢 电解质不锈钢是指浓度为 5%的酸性溶液。这种容易没有对人体没有伤害，不具有可燃性和爆炸性。但是这中电解质溶液不适用于内部空间的测试，因此建议在使用后，需要马上洗手，并清除溢出来的液体。另外，电解质溶液里边含有少量的用来稳定平衡的盐。为了确保 在测量的过程中不污染电解质溶液，标准电极的末端必须与测试表面和过滤纸一起清洗。由于冲洗的原因，所以要保持过滤纸箱有盖子。 四、维修与校准 Oxilyser3号是不需要很多维修的。请保持设备以及保护套内部没有化学物质和灰尘。建议两年维修一次。当标准电极保存时，需要 用装有氯化钾的塑料帽子保护起来。SCOTCH-BRITE测试 您能用 SCOTCH-BRITE 打磨来激活表面。如果在打磨后立即测量，Oxilyser3 会非常低。由于自然钝化你能看到数值慢慢上升。2-24 小时之后，钝化就在空气中发生了。五、物理特征 温度范围 最低温度℃ 最高温度 m℃ 电器（工作中） -10 +40 电器（空闲中） -20 +50 测量表面** +5 +30 电解质不锈钢 0 +40 电解质（2年保持态） 0 +15必要原装荷兰进口不锈钢钝化测试仪OXILYSER3的话，用冷水冷却表面并保持干燥。六、问题解决方案：1、 LCD或 LED没有显示信号。--连接电源适配器并给设备充电。必须关闭设备。 --检查电源适配器，输出：12伏的直流和中间电极。 --将设备送去返修。2、LCD显示器上的钝化值趋于零。--检查接触是否良好，确保过滤包装已被电解质溶液充分浸湿，以及标准电极的末端与电解质溶液接触良好。 --检查透明涂装上的合金是否良好，检查标准电极。在末端是否有空气气泡，就像晃动水银温度计里边的空气一样把空气摇出来。

电镀锌钝化液在线浓度检测仪MAY-2001-EP一、电镀液为什么要检测浓度值（1）电镀液在电镀过程浓度过低， 会导致结合力不牢，镀层很薄或是无镀层，镀层比较阴暗有黑点，无光泽，会有明显的薄雾现象（2）电镀液在电镀过程浓度过高、容易剥离、脆裂、镀层会发蓝、镀层会向外翘起。工作原理：电镀液在线浓度计在工作时，通过内置的电机产生的高频振动在不同比重浓度的液体介质中产生的振动频率不同，振动的频率通过一个压电晶体检测出来，通过移相和放大电路，再由微处理器转换成比重浓度、波美度数字信号。电镀液在线浓度计由于液体的比重会受温度的影响，仪表通过内置的PT100温度传感器检测液体的温度值，再利用温度补尝算法，可得到统一温度下的波美度、百分比浓度值。产品简介：MAY-2001系列电镀液比重浓度、波美度在线测量探头接触液体部分采用聚四氟乙烯材料PTFE加工而成，不仅可以长时间浸泡在含镍或铬的电镀液中不被腐蚀，而且数据稳定、准确。电镀液的工作温度一般维持在50~60℃之间，仪表自带温度补尝功能，可消除温度变化对浓度测量带去的影响。检测系统可集成比重浓度、波美度、PH、液位、温度、ORP等多种测量参数，通过一个显示控制器对外输出数字量或模拟量信号，方便现场PLC、DCS、PC系统进行测量数据的读取，从而完成相关的自动化控制。 秒准电镀液在线浓度监控仪MAY-2001-EL特点描述：1、耐酸碱，防腐蚀，持久耐用，使用寿命长；2、即插即用，免维护：安装方式灵活，通常安装在电镀副槽上，也可以依据客户现场情况安装于输送管道等。3、拥有强大的数据库，内置0-80℃温度补偿数据，克服了单片机内存小，温度补偿范围受限制的缺点。温度传感器与密度探头集成，紧贴测量介质，保证温度补偿及时、准确、可靠；4、不受介质颜色变化影响，不易受振动、压力变化的影响；5、出厂附带标定证书，无需现场校准，也不需要定期校准；6、用户自定义上下限报警，触屏输入，操作简单易懂，现场可接报警灯，现场可实现自动加药补液。7、标配多组信号模拟输出：可选4-20mA、RS485/232数字量、开关量（异常报警,上下限2路/多路输出），便于客户集成控制，提高自动化程度，提高生产效率；8、采用4.3寸触屏人机交互界面，显示内容更详细，彩色界面，操作便利，可拓展性强，可按用户需求定制界面和功能；9、数据自动保存，便于查询：历史数据查询、生成历史数据曲线，快捷查询、导出EXCEL，自动数据分析与汇总，数据保存周期12个月，便于溯源；10、支持sqlite数据库，可存储高达16G的历史数据，数据可通过U盘导出到电脑或者通过无线远传功能实时远传至PLC、PC、DCS等上位机系统；通过PC远程查看实时状态与报警。11、选配多点数据采集系统，实现远程集中控制管理，现场车间数据一目了然；电镀锌钝化液在线浓度检测仪MAY-2001-EP规格参数选型表：产品型号MAY-2001-EPMAY-2001HPT-EL测量项目密度g/cm³ 、温度℃、浓度%、波美度°Bé密度范围0-2.2g/cm³ 浓度范围0-100%分辨率0.001g/cm³ 、0.1℃、0.1%、0.1°Bé0.0001g/cm³ 、0.1℃、0.01%、0.01°Bé测量精度±0.002g/cm³ 、0.1℃、0.5%、0.5°Bé±0.0005g/cm³ 、0.1℃、0.1%、0.1°Bé测量温度-20℃-120℃ 温度补偿自动温度补偿，0-80℃环境温度-20℃-80℃关键部位材质聚四氟乙烯（PTFE）/PPR-防腐输入电源24V DC 信号输出£ 4-20mA、£ RS485/232数字量、£ 开关量（异常报警,上下限2路输出）防护等级IP67耐压范围≤20MPa电气接口探头接口：M12*1.5、显示控制器接口：M16*1.5防爆等级£ MAY-2001EL常规款 £ MAY-2001EX本安型防爆 Ex ia IIB T6 Ga整机净重≈1050g≈1250g安装选项MAY-PPR13三通管道、PH探头、液位探头、ORP探头其他选项MAY-LST历史数据存储功能、MAY-LOT无线数据远传模块、一拖多无线数据采集系统特殊标度非标定制，按客户需求建立数据模型电镀锌钝化液在线浓度检测仪MAY-2001-EP应用工业：电镀液多通道分析系统、电镀液浓度监控仪、电镀液在线浓度检测仪、前处理脱脂剂浓度监控仪、脱脂剂浓度计、电镀液比重浓度测试仪、电镀液在线浓度监控仪、电镀液在线浓度检测仪、电镀液在线浓度计、PH液位流量、电镀液在线分析系统检测仪、电镀液离子浓度分析仪、电镀液离子浓度计、电镀液比重浓度计、脱脂剂浓度检测仪、电镀液在线分析系统检测仪

SilcoNert2000（6,444,326和6,511,760）是非晶硅的化学保护屏障，其进一步官能化以提供可用的最惰性表面。通过应用化学气相沉积（CVD），SilcoNert2000非常适用于硫化物，汞，氨或其他活性化合物的痕量级测试精度（百万分之一）。特色与优势 非视距工艺；所有孔和复杂的几何形状都能被涂层 消除吸附和再测试 获得更快的校准 对结果充满信心SilcoNert 2000 规格薄膜材质：表面烃化的氢化非晶硅镀膜工艺：热化学气相沉积法(非等离子法)使用温度：450°C（惰性气体），400°C（氧化性气体）基板要求:兼容性:不锈钢合金，陶瓷，玻璃，钛及大多数特殊金属尺寸:不超过78英寸(198厘米)形状:不限,可镀任何复杂三维结构标准厚度：100 - 500 nm疏水性（接触角）：= 65° 允许接触的pH值 ：0 - 8

德国Infralytic NGO3全自动油膜测厚仪NGO3-WATER通过测量膜对特定波长红外线的吸收来直接测膜厚，测量结果不受静电涂油表面不平整的影响。当被测物接收到红外线照射，会产生特定波长下的红外吸收现象，形成特征吸收峰,这种吸收现象称为吸光度，吸光度的大小和油膜的厚度或克重相对应。由于NGO3-WATER采用非接触的红外光测量油膜厚度，所以不需要对产品进行测量前的预处理。最小测量时间为50ms，所以不会放过任何的厚度或克重变化。另外，由于采用3波长测量方式以及独特的P偏光技术，消除周围环境的影响，可确保长期的检测精度。特点非接触式的实时测量内部自动连续验证检查彩色图形显示皮带速度独立胶带振动补偿测量头和皮带之间有200毫米的安全距离独立的残油IP65等级应用领域用于测量乳剂的特殊传感器。该传感器被用于例如重板轧机连铸厂热轧机热轧机。

油膜测厚仪红外膜厚仪仪器用途简介：汽车钢板上的防锈油、滚轧润滑油等涂油量的测量耐指纹、润滑性钢板等有机油膜厚度的测量铝罐（易拉罐内壁）等有机膜涂布量的测量彩色钢板的底漆厚度及背面涂布量的测量其他金属上有机膜涂布量的测量油膜测厚仪红外膜厚仪技术参数：测量方法:红外反射吸收方式(旋转过滤器方式)测量范围:0.1～10μm反复再现性:0.01μm以下测量面积:518×36mm(椭圆)尺寸・ 重量:100(W)×210(D)×145(H)、约1.5kg油膜测厚仪红外膜厚仪主要特点：三点定位，独特光源，精确精确再精确。本产品深得钢铁业、铝业客户厚爱。如果把红外线照射到被测物上,就会发生与膜厚相对应的特定波长的红外线吸收现象。从透过光或镜面金属板的正反射光来掌握吸收量,再按事先测得的吸光度与水分值的关系式,可以测量膜厚。并且,采用本公司独自的P偏光入射方式。消除因表面反射或内部多重反射引起的误差,提供红外线测厚仪最理想的硬件。&bull 小型、轻量自由携带,可测量钢板上的任意位置。内置打印机因内部设置了打印机，数据的整理变得极为简单。

德国REUTER焊道处理机又称：毛刷头焊道处理机、不锈钢焊缝清洗机、毛刷焊缝处理机、氩弧焊斑清洗机、不锈钢焊缝抛光机。德国Reuter的型号有：Cleanox 1.0，cleanox 2.0，cleanox3.0，cleanox4.0，cleanox5.0 和工业级Supercleanox IV+,Supercleanox VI， Supercleanox VI HD，还有移动式锂电池板，自动供液毛刷式焊道处理机。在不锈钢清洗过程中，不仅需要快速清洗干净，还需要防止不锈钢出现返锈和钝化效果不好的问题。在这方面，德国路德不锈钢清洗机是一种能够满足这些要求的理想选择。首先，德国路德不锈钢清洗机可以快速清洗干净不锈钢表面的锈迹和污渍。其采用的电解液和特殊设计的电极可以帮助不锈钢表面快速剥离氧化层，让清洗过程更快速和高效。此外，该清洗机还具有自动喷淋和振动功能，能够更好地去除附着在不锈钢表面的污渍和锈迹。其次，德国路德不锈钢清洗机可以有效防止不锈钢出现返锈问题。这是因为该清洗机在清洗过程中会向不锈钢表面释放一层保护膜，这层保护膜可以防止不锈钢表面与氧气和水蒸气接触，从而避免了不锈钢的氧化和锈蚀。此外，该清洗机使用的电解液还具有防锈功能，可以在清洗过程中保护不锈钢表面，使其不易受到锈蚀的影响。德国路德不锈钢清洗机还具有优异的钝化效果。该清洗机的电解液可以在不锈钢表面形成一层致密的钝化层，这层钝化层可以增强不锈钢表面的抗氧化性和耐腐蚀性，从而提高不锈钢的使用寿命。此外，该清洗机的电解液还含有特殊的添加剂，可以帮助不锈钢表面形成更致密的钝化层，提高不锈钢的耐腐蚀性能。总之，德国路德不锈钢清洗机是一种高效、安全、环保的不锈钢清洗设备，可以快速清洗干净不锈钢表面的锈迹和污渍，防止不锈钢出现返锈和钝化效果不好的问题。同时，该清洗机还具有自动保护功能，能够避免人为因素对设备造成的损坏，使用寿命长，值得信赖。换热器焊接发黑清洗设备是不锈钢焊缝清洗机的一种，专门用于清洗换热器焊接发黑的问题。换热器焊接发黑清洗设备的主要功能是清洗换热器焊接部位的氧化物和杂质，提高换热器的质量和性能。这种设备采用先进的清洗技术，如超声波清洗、喷砂清洗等，能够有效地去除焊接部位的氧化物和杂质，使焊接部位表面光滑、整洁。在使用换热器焊接发黑清洗设备时，需要注意以下几点：根据不同的换热器类型和焊接工艺，选择合适的清洗头和工艺参数。控制清洗的时间和力度，避免对换热器造成过度损伤。注意设备的运行状态和噪音，发现问题及时停机检查。操作人员需要经过专业培训，熟悉设备的操作流程和维护方法。总之，换热器焊接发黑清洗设备是一种高效、安全、可靠的清洗设备，能够提高换热器的质量和性能，为工业生产的安全和可靠性提供保障。在操作过程中，需要注意设备的选择和使用方法，确保清洗工作的安全性和有效性。不锈钢焊缝抛光机管焊缝清洗机激光焊焊道清洗方法不锈钢焊缝处理机环保型氩弧焊焊接工艺激光焊焊道抛光技巧不锈钢焊缝清理机全自动激光焊黑斑处理设备生产商激光焊焊道处理技巧不锈钢焊道清洗机大功率TIG焊焊斑清理机制造商激光焊焊道清理方法不锈钢焊道抛光机焊道处理机供应商TIG焊焊斑处理方法

美国SVT公司超高真空解理机SVT公司的样品解理部件可以将15mm（其他尺寸可选）的方形样品解理成15个1mm×15mm的Bar条。所有解理出的bar条被收集到样品托，堆叠在一起进行下一步批量加工。独特设计的解理工具避免了器件被破坏以及样品互相黏在一起的可能性。此解理工具可完全适用于UHV环境。解理机可以增加钝化层沉积模块。解理后堆叠在一起的Bar条直接进入钝化室，不用暴露大气。 规格在线bar条解理加工15mm×15mm 样品（10mm-32mm可选）加工成15mm×1mm 样品（1mm-5mm宽度可选）8' ' 法兰接口可烘烤至180oC，（200oC可选）样品可以两种方向加工UHV环境兼容Cassette装取

反应式离子蚀刻机 性能特点 Capability Features: 用于失效分析的剥层分析解决方案群，世界顶尖反应式离子蚀刻机，物理沉移系统，原子层化学气相沉积系统.RIE/PE and RIE-ICP FA system这些灵活的失效分析工具可以实现从钝化层的去除到各项异性的氧化物的去除，从小管芯或已封装的器件到300mm直径的晶片整个范围的工艺. 去除氮化物钝化层后 刻蚀金属间介质后 四层金属暴露 金属间介质后的失效分析优点:- 工艺灵活，既可采用RIE/PE，也可采用ICP- 先进的管芯工艺：采用等离子体加速器的刻蚀速率比标准的RIE工艺快20倍产品范围：- 可以处理300mm晶片的RIE/PE双模式设备- 快速低损伤的模具刻蚀装置- 处理200mm晶片的双模式设备- 填充用的正硅酸乙酯（TEOS）工艺应用:- 各向同性的聚酰亚胺的去除（RIE或ICP模式）- 各向同性的氮化物（钝化层）的去除（PE或ICP模式）- 各向异性的氧化物（金属间介质/层间介质）的去除（RIE或ICP模式）- 各向异性的低K值氧化物的去除（RIE或ICP模式）- 金属支架的去除（RIE或ICP模式）- 多晶硅的去除（RIE模式）- 铝或铜的去除（ICP模式）

1. 产品概述AL-1通过交替向反应室提供有机金属原料和氧化剂，仅利用表面反应沉积薄膜，实现了高膜厚控制和良好的步骤覆盖率。薄膜的厚度可以控制在原子层的数量。此外，可以在高宽比的孔内壁上沉积覆盖性好、厚度均匀的薄膜。可同时沉积3片ø 4英寸的晶片。2. 设备用途/原理用于下一代功率器件的栅氧化膜和钝化膜。在3D结构上形成均匀的薄膜，如MEMS。激光表面的沉积。碳纳米管的钝化膜。3. 设备特点成膜效率高，通过提供几十毫量的脉冲，减少了原材料的损耗，提高了沉积效率。真空清洁，温度不均匀性小，通过紧贴反应室内壁的内壁加热器，抑制反应室的温度不均匀，可获得清洁的真空。无针孔成膜，由于多种驱体在反应室中没有混合，因此可以防止颗粒，形成无针孔的薄膜。

泉州海德能水处理设备有限公司打造水处理行业一站式现货采购平台电话： 地址：泉州市鲤城区常泰街道新塘工业区（新园路130号）以下为加药系列热销产品：详情请点击●适用范围1、水系统：可用于电厂锅炉、工业蒸汽锅炉、大型取暖锅炉、循环冷却水系统设备等。广泛应用于清除锅炉、换热器、冷凝器、精密水处理设备、中央空调、制冷机组、冷却塔、水管内部的水垢、锈垢、菌藻、粘泥和其他沉积物。2、其 他：快速清除瓷砖、金属装饰物表面的水泥和灰浆以及卫生洁具上的水垢、锈垢、尿碱和其他污渍。对建筑机械表面的水泥薄层也能清除。●使用方法用于水系统除垢时，药液与水配比为1:100，并保持系统内PH值为3-4，闭路循环8-12小时，如需钝化，则可进行钝化处理。小系统1吨水垢需要25KG左右除垢剂清洗根据水垢厚度去调整，大系统除垢下药比例可以咨询止境化工技术人员解决。锅炉系列→除垢10小时排放→倒入预膜剂钝化钢铁铜等金属保护→定期加入缓蚀阻垢剂防止水形成水垢，每吨水下100克循环水以及冷却水塔系列→除垢10小时排放→倒入预膜剂钝化钢铁铜等金属保护→定期加入定期加入缓蚀阻垢剂防止水形成水垢，每吨水下100克→定期加入杀菌灭藻剂清洗青苔水藻，每吨水下200-300克●技术指标外观无色透明液体比 重1.10±0.02PH值2.05～2.50除垢率≥99%●注意事项1、本剂的水溶液呈酸性。2、储存于阴暗处，避免阳光直接照射。3、避免弄到皮肤和衣服上，一但弄上要及时清洗。保质期：2年廊坊瑞友科技有限公司专业生产：除锈剂、防锈剂、水处理药剂、除垢剂、缓蚀阻垢剂、杀菌灭藻剂、预膜剂、反渗透阻垢剂、RO膜清洗剂、中央空调清洗剂、锅炉除垢剂、电力设备清洗剂、重油污清洗剂、带电清洗剂、消泡剂、以及生产各种各类其他类型。商品名称：美国蓝旗BFROY系列阻垢剂商品编号：11052000商品型号：BFROY-106产品介绍：BFROY系列阻垢分散剂以精选环保型化学原料以科学的配方经多元复配而成。该品属广普型，对不同的原水质的适应范围较宽，可适应各个品牌的膜元件。包括：陶氏膜，海德能膜，汇通膜等。产品特点：BFROY系列阻垢分散剂在反渗透水处理中有效控制碳酸钙垢、磷酸钙垢、硫酸钡垢的形成，尤其对碳酸钙的阻垢率可达100，对多价金属离子有很好的螯合能力。所有主要的反渗透膜都能使用。符合国家饮用水使用标准，可用于饮用纯水系统。进水的PH从5-10均属于有效范围内。使用量少，使用价值高。液体产品，使用简单，可直接添加或稀释使用。在反渗透水处理系统中使用美国蓝旗反渗透阻垢分散剂可以降低反渗透(RO)、纳滤(NF)、超滤(UF)系统的设备投资费用，可以有效延长膜系统清洗周期，降低运行费用。产品外观：微黄色透明液体产品包装：蓝色塑料桶产品投加方法：BFROY-106标准液直接投加3-5ppm此外，厂家直销：各种滤芯、超滤膜、反渗透膜、各种滤料、膜壳、玻璃钢罐体等水处理配件，一应俱全，为回馈所有新老客户对本公司的一贯支持和厚爱，现所有产品一律特惠，款到发货，欢迎广大新老客户来电垂询！1、反渗透阻垢剂是专门用于反渗透（RO）系统及纳滤（NF）和超滤（UF）系统的阻垢剂，可防止膜面结垢，能提高产水量和产水质量，降低运行费用。 反渗透阻垢剂特点：①在很大的浓度范围内有效的控制无机物结垢②不与铁铝氧化物及硅化合物凝聚形成不溶物③能有效地抑制硅的聚合与沉积，浓水侧SiO2浓度可达290 ppm④可用于反渗透CA及TFC膜、纳滤膜和超滤膜⑤溶解性及稳定性⑥给水PH值在5-10范围内均有效2、反渗透阻垢剂的作用 在说反渗透阻垢剂的作用前，先简述一下反渗透系统：反渗透系统是将原水经过精细过滤器、颗粒活性碳过滤器、压缩活性碳过滤器等,再通过泵加压,利用孔径为1/10000μm(相当于大肠杆菌大小的1/6000,病毒的1/300)的反渗透膜(RO膜),使较高浓度的水变为低浓度水,同时将工业污染物、重金属、细菌、病毒等大量混入水中的杂质全部隔离，从而达到饮用规定的理化指标及卫生标准,产出至清至纯的水,是人体及时补充优质水份的选择.由于RO反渗透技术生产的水纯净度是目前人类掌握的一切制水技术中 高的,洁净度几乎达到100。 反渗透膜是反渗透系统的关键设备，系统长时间连续运行时，水中钙镁等离子会不断析出并在反渗透膜表面附着，形成结垢堵塞膜孔，这样会影响反渗透系统的出水效率，损坏反渗透膜。由于反渗透膜比较昂贵，所以在系统运行中，要增加一段加药系统，在水中投加反渗透阻垢剂，延缓钙镁离子的析出和膜面结垢。 反渗透阻垢剂的基本作用： 络和增溶作用:反渗透阻垢剂溶于水后发生电离,生成带负电性的分子链,它与Ca2+形成可溶于水的络合物或螯合物,从而使无机盐溶解度增加,起到阻垢作用。 晶格畸变作用：由反渗透阻垢剂分子中的部分官能团在无机盐晶核或微晶上,占据了一定位置,阻碍和破坏了无机盐晶体的正常生长,减慢了晶体的增长速率,从而减少了盐垢的形成 静电斥力作用：反渗透阻垢剂溶于水后吸附在无机盐的微晶上,使微粒间斥力增加,阻碍它们的聚结,使它们处于良好的分散状态,从而防止或减少垢物的形成。3、反渗透阻垢剂的用量 反渗透阻垢剂的投加量由于不同厂家配方和浓度不同，而不尽相同，使用时需咨询厂家，进口反渗透阻垢剂用量一般为3-5ppm。4、反渗透阻垢剂投加方式反渗透系统一般有专用的自动加药装置，由加药箱、计量泵等组成，可设置单位时间内加药量，连续添加联系方式泉州海德能水处理设备有限公司电话： 地址：泉州市鲤城区常泰街道新塘工业区（新园路130号）

品牌：德国Reuter名称：Cleanox 1.0型号：EP-01-011重量：5.7kg规格：250x150x260mm功率：1000VA主电压：230V 50HZ 6A次级电压：9.5V AC防护等级：IP43主要功能：清洗、钝化、打标。Cleanox系列专为希望灵活使用清洗设备的金属制造商而设计，无论是在车间还是在装配途中。塑料和铝合金使这三款设备出人意料地轻，而且非常坚固。Reuter是市场上强大的公司之一：80A，常开关时间下的长时间电流，加上200A的脉冲电流；这些价值观让我们的竞争对手相形见绌。清洗TIG接缝，或深色打标；Cleanox 1.0是一种纯交流清洗机，功率为1000 VA，使用碳纤维毛刷清洗焊缝；设备操作简单，是施工现场和管道安装的完美选择；Cleanox 1.0的设计是专为中等尺寸的碳刷设计的；具有60A强大的连续工作电流，脉冲电流可达到200A；仅5.7公斤重；可选的标记集可用于应用深色标签，例如批号或铭牌。德国路德REUTER不锈钢清洗机是一种利用电解原理进行清洗的设备。这种设备可以有效地去除不锈钢材料上的焊接印记和其他污垢，适用于各种类型的不锈钢材料。该清洗机具有以下优点：高效清洗：能够快速、彻底地去除焊接印记和其他污垢。对材料无损伤：采用电解原理，不会对不锈钢材料造成损伤。自动化操作：可以自动控制清洗时间和温度，方便快捷。环保节能：采用水基清洗剂，无有害气体排放，符合环保要求。多功能性强：可以适用于各种类型的不锈钢材料，包括板材、管材和棒材。如果您需要去除不锈钢材料上的焊接印记或其他污垢，德国路德REUTER不锈钢清洗机是一个值得考虑的选项。不锈钢焊道处理设备性价比高TIG焊焊斑黑点全自动清洗机不锈钢焊道清洗机大功率TIG焊焊斑清理机制造商不锈钢焊疤处理设备清洗环保激光焊焊道处理机不锈钢焊道抛光机焊道处理机供应商不锈钢焊缝清洁设备厂家氩弧焊焊接不锈钢钝化设备不锈钢焊道处理机焊道清洗机购买指南

1. 产品概述：RIE-1C 是用于半导体芯片故障分析的小型台式干式蚀刻系统，可高效、低损伤地去除钝化膜，操作简便，放置样品后只需按一下按钮即可完成整个过程，既可以放在桌面上，也可以选择使用支架。 2. 设备应用： 半导体芯片的故障分析。 去除各种类型的钝化膜，如氮化硅、二氧化硅和氧氮化硅等。 光阻剂灰化。 各种硅薄膜的蚀刻，包括硅、多晶硅等。 玻璃基板的表面处理等。3. 设备特点： 操作简单：一键式操作，完成设备操作流程简单便捷，方便用户使用。 设计紧凑：节省空间，可放置在桌面或通过支架放置，适合空间有限的实验室或工作场所。 可处理多种材料：能应对半导体芯片制造过程中的多种材料的蚀刻需求。4. 产品参数： 反应室：石英材质，尺寸为 212mm。 下电极：铝材质，直径 120mm，具备水冷功能。 射频功率：13.56MHz，200W 晶振频率，手动匹配。 进气管：两条。 压力测量：隔膜表（0-2.66×102Pa）。 真空系统：干泵（500L/min）。 尺寸：主机（宽 400mm× 深 440mm× 高 325mm）；支架（宽 400mm× 深 620mm×高 798mm）。

InGaAs光电二极管 Fermionics公司于1991年在加利福尼亚成立，它是一家生产InGaAs光电二极管的独立生产商，产品主要是用于光学通信、测试仪器、传感和医学设备应用。高速InGaAs光电二极管（FD50~FD300）描述：1.探测速度非常快、电容低、暗电流低；2.适用于高比特率接收机、高速模拟和数字通信系统、LAN、FDDI、红外仪器和探测应用；3.所有的器件使用平面钝化技术制造；4.光灵敏表面镀有宽带增透膜；5.光灵敏区域直径：50、80、100、150和300微米；6.存储温度：-40~100℃；工作温度：-40~85℃。大面积InGaAs光电二极管（FD500~FD5000W）描述：1.大面积光电二极管用于红外仪器和探测、中速通信系统；2.在波长范围800到1700纳米响应良好；3.分流电阻对低光信号灵敏度高；4.所有器件使用平面钝化技术制造；5.光灵敏表面镀有宽带增透膜；6.光灵敏区域直径：500、1000、1500、2000、3000和5000微米。杭州谱镭光电技术有限公司(HangzhouSPL Photonics Co.,Ltd)是一家专业的光电类科研仪器代理商，致力于服务国内科研院所、高等院校实验室、企业研发部门等。我们代理的产品涉及光电子、激光、光通讯、物理、化学、材料、环保、食品、农业和生物等领域，可广泛应用于教学、科研及产品开发。 我们主要代理的产品有：微型光纤光谱仪、中红外光谱仪、积分球及系统、光谱仪附件、飞秒/皮秒光纤激光器、KHz皮秒固体激光器、超窄线宽光纤激光器、超连续宽带激光器、He-Ne激光器、激光器附件及激光测量仪器、光学元器件、精密机械位移调整架、光纤、光学仪器、光源和太赫兹元器件、高性能大口径瞬态（脉冲）激光波前畸变检测干涉仪（用于流场、波前等分析）、高性能光滑表面缺陷分析仪、大口径近红外平行光管、Semrock公司的高品质生物用滤波片以及Meos公司的光学教学仪器等。 拉曼激光器，量子级联激光器，微型光谱仪，光机械，Oceanoptics，Thorlabs 。。。热线电话： / 传真：网址： /邮箱：

设备规格衬底尺寸：标准尺寸：200mm Dia (8 inch）（可定制)工艺温度：温度范围：RT~500°C （可定制）前驱体路数：最大支持6路前驱体气路（可定制)，包含固、液态前驱体源瓶加热系统：可加热温度范围：RT~150℃反应物路数：支持2路反应物气路（可定制）载气：标准：N2, MFC 流量控制（可定制）压力监测：双薄膜规组合（耐腐蚀)，0.005Torr - 1000Torr本底真空度：5x10-3 Torr真空系统：标准油泵控制系统：19寸显示器，支持触控工业级嵌入式工控机，高可靠性，支持扩展操作系统：Win7 操作系统工业级可编程逻辑控制器，支持现场总线与实时多任务处理操作高温加热模块：独立的源瓶加热模块，可支持RT~200℃预留模块：预留等离子体系统接口，无需更换腔体即可直接升级至等离子体系统（PEALD），实现Thermal-ALD与PEALD的双模式切换 工艺可沉积薄膜种类和应用场景包括：&bull High-K介电材料 (Al2O3, H2O, ZrO2, PrA1Q, Ta2O5, La2O3) &bull 金属互联结构 (Cu, WN, TaN, Ru, In) &bull 催化材料 (Pt, Ir, Co, TiO2):&bull 生物医学涂层 (TiN, ZrN, TiAIN, AlTIN) &bull 金属(Ru, Pd, Ir Pt, Rh, Co, Cu, Fe, Ni &bull 压电层 (ZnO, AIN, ZnS) &bull 透明电学导体 (ZnO:Al, ITO) &bull 光子晶体(ZnO, TiO2, Ta3N5) 机架&bull 框架采用进口铝材搭建，重量轻、承载能力强，散热性好&bull 外壳采用碳钢烤漆及圆角处理，轻便美观，拆卸方便，符合人体工学&bull 显示屏360度自由旋转，可调视距、视角、自由悬停 控制系统&bull 控制系统采用 PLC+工控机+19 寸触摸屏方式实现，系统通过高速以太网进行通讯。&bull 采用 PLC 对设备进行实时控制，同时实现基于Windows7 操作系统的人机界面互动，支持历史数据、工艺配方、报警及日志的储存和导入导出的功能&bull 设备支持“一键沉积”功能，点击运行按键即可自动完成真空抽取、升温、材料沉积、降温等一系列步骤。实现单一或多层材料的沉积；提供独立的手动操作页面，支持手动开关阀门的操作，人机交互同时支持鼠标、键盘和触摸的输入方式&bull 设备运行软件提供用户权限管理功能，可根据用户级别设定使用权限，防止误操作，保证设备和人身安全&bull 设备运行软件提供逻辑互锁功能，防止用户误操作，并弹出信息对话框进行提示&bull 设备运行软件集成安全及参数配置、IO互锁列表信息功能 真空系统 真空测量采用双真空压力计组合方式，工艺数据更真实，更迅速，更精确，为工艺人员提供井真的数据采集来源，为工艺的可重复性提供了可靠的保障应用领域1.纳米材料：ALD 技术沉积参数高度可控，可在各种尺寸的复杂三维微纳结构基底上，实现原子级精度的薄膜形成和生长，可制备出高均匀性、高精度、高保形的纳米级薄膜。ALD具有高致密性以及高纵宽比结构均匀性，为MEMS机械耐磨损层、抗腐蚀层、介电层、憎水涂层、生物相容性涂层、刻蚀掩膜层等提供优质解决方案。ALD技术沉积参数高度可控，可通过精准控制循环数来控制MTJ所需达到的各项参数，是适用于MTJ制造的最佳工艺方案之一。ALD技术可通过表面修饰，改善纳米孔的生物相容性，同时提升抗菌抑菌和促进细胞合成。2.太阳能电池：ALD基材料在c-Si太阳能电池中的应用始于Al2O3，Al2O3是一种非常有效的表面钝化层，被发现可以显着提高c-Si太阳能电池的效率并应用于大规模产业化中。此后的研究中，ALD的应用研究从表面钝化层扩展到载流子传输材料[8]。3.催化：ALD技术很容易地控制纳米颗粒的大小、孔隙结构、含量和分散，有效设计出核壳结构、氧化物/金属倒载结构、氧化物限域结构、具有多金属管套结构和多层结构，且独特的自限制特性可实现催化材料在高比表面材料上的均匀和可控沉积，实现一步步和“自底向上”的方式在原子层面上构建复杂结构的异质催化剂材料而得到广泛研究。利用ALD技术具有饱和自限制的表面反应特性，有效抑制金属有机化合物、配体的空间位置效应，天然的将金属中心原子互相隔离开，抑制金属原子聚集，合成单原子催化剂。利用ALD技术有效调控金属与载体间的相互作用的特性，可获得单金属催化剂，如Ru、Pt、Pd等贵金属。利用ALD技术能调控两种金属元素生长顺序、循环周期数的特性来精准得到双金属纳米催化剂，合成原子级精准的超细金属团簇，如PtPd、PtRu、PdRu等双金属纳米颗粒。利用ALD技术制备金属氧化物，不仅可以制备性能更加优良的多相催化剂，而且可以对负载型催化剂进行改性，达到修饰、保护催化剂的目的。4.锂电池：ALD在锂离子电池中的应用特点：（1）电极材料的制备和改性；（2）阴极材料上的保护镀膜；（3）阳极材料上的人造固体电解质相间（SEI）；（4）锂金属阳极钝化和防止枝晶生长；（5）ALD作用的固态电解质（SSE）；（6）隔离膜上的保护涂层原速科技ALD技术在锂电池领域的应用主要有以下几个方面：a、锂电池PP/PE隔膜包覆，改善隔膜的浸润性，耐压性，热收缩性能b、锂电池正极包覆，改善电池的倍率性能，循环性能等c、锂电池负极包覆，改善电池的倍率性能，循环性能以及安全性能5.光学镀膜：ALD薄膜以饱和吸附的layer-by-layer生长模式，可在结构复杂的几何表面，如大曲面及高纵深比深孔结构，大面积形成高均匀性薄膜，且膜层相较于PVD膜更为致密，在界面处的结合力更强，更适用于未来工业界先进精密光学器件的制造。6.生物医疗：ALD可以通过低温沉积形成非常致密的保护膜，由于是纳米级别的膜厚其本身对医疗设备也不会造成影响，沉积ALD涂层后可以大幅度增加植入设备的寿命以及安全性，也有可能有效的减少更换手术的频率；同时ALD有多种材料都具有生物相容性，这种涂层对人体组织是没有任何细胞毒性的，这使得在再生医学领域中，用于对细胞构建生物相容性底物的制备时，ALD沉积表面涂层能满足对新型生物相容性材料的需求；在药物方面，ALD涂层可以有效的保护颗粒不受周围空气和水分的影响，从而大幅度的延长药物的保质期。7.OLED：几十纳米厚度的ALD封装膜甚至可媲美传统OLED封装技术的阻隔效果，同时具有良好的透光率、热导率、机械强度、耐腐蚀性及与基底的粘结性等性质；ALD封装薄膜因其纳米级的膜厚，可以实现很大程度上的弯曲并保持封装效果不变，这一特性可完美兼容柔性OLED器件封装，真正做到显示屏的可折叠、卷曲；ALD薄膜优异的保型性使其在一些复杂形貌和三维纳米结构的LED表面实现出色的钝化保护层，有效地起到阻隔水氧的作用，提高性能；用ALD在LED表面沉积钝化膜还可以很好地修补被等离子刻蚀造成的破坏性表面，可有效降低漏电流，显著提高LED效率。

SE 800 PV 激光椭偏仪 SENTECH设计了SE 800 PV，用于表征由SiNx/SiO2、SiNx/SiNy或SiNx/Al2O3组成的多层钝化膜和防反射涂层。分析了单晶和多晶硅太阳电池的折射率指数、吸收和膜厚。在配方模式下进行复杂的测量，速度快，操作容易。 纹路晶片防反射涂层和钝化层可以在单晶和多晶硅晶片上测量。 叠层防反射涂层可以分析SiO2/SiNx、Al2O3/SiNx和SiNx1/SiNx2的涂层。 操作简单 不管是专家还是初学者，光谱椭偏仪SE 800 PV都提供了简单的操作。配方模式特别适合质量控制所需的常规应用。 光谱椭偏仪SE 800 PV是分析结晶和多晶硅太阳能电池防反射膜的理想工具。可以测量单层薄膜(SiNx、SiO2、TiO2、Al2O3)和多层叠层膜(SiNX/SiO2、SiNx1/SiNx2、SiNx/Al2O3)。 SE 800 PV是基于步进扫描分析器测量模式。步进扫描分析器模式允许将测量参数匹配到粗糙的样本表面，同时所有光学部件都处于静止状态。SE 800 PV的光源、光学部件和检测器进行了优化，以符合SENTECH的目标，即快速、准确地测量PV应用的折射率指数、吸收和膜厚。 高测量灵敏度、去偏振校正和特殊的集光光学使SE 800 PV成为在粗糙样品表面进行光伏应用的理想仪器。 光谱椭偏仪SE 800 PV具有操作简单的特点、便于研发应用。SpectraRay/4，SENTECH专有的椭偏仪软件，包括两种操作模式。配方模式允许在质量控制中轻松执行常规应用程序。交互模式具有指导性的图形用户界面，适合于研发应用和新配方的开发。 此外，SE 800 PV满足SENresearch光谱椭偏仪系列的所有要求。

产品详情英国Oxford OpAL 开放式样品载入原子沉积（ALD）设备 紧凑型开放式样品载入原子层沉积（ALD）系统OpAL提供了专业的热ALD设备，可以简单明了的升级使用等离子体，使得在同一紧凑设备中集成了等离子体和热ALD。开放式样品载入热ALD，集成等离子体技术现场升级到可使用等离子体从小晶片到200mm大晶片适用于学术、产业、研发的热和/或等离子体化学产品，可用于：氧化物： HfO2, Al2O3, TiO2, SiO2, ZnO, Ta2O5氮化物：TiN, Si3N4金属： Ru, Pt ALD应用举例：纳米电子学高k栅极氧化物存储电容器绝缘层-铜连线间的高纵横比扩散势垒区有机发光二极管和聚合物的无针孔钝化层钝化晶体硅太阳能电池应用于微流体和MEMS的高保形涂层纳米孔结构的涂层生物微机电系统燃料电池 直观性强的的软件提高性能使用与牛津仪器的值得信赖的Plasmalab 产品家族相同的软件平台， OpAL的程序驱动、多用户级别、PC2000TM控制的软件易于操作且可为快速ALD做相应修改。

产品详情牛津Oxford开放式样品载入ALD设备OpAL 紧凑型开放式样品载入原子层沉积（ALD）系统OpAL提供了专业的热ALD设备，可以简单明了的升级使用等离子体，使得在同一紧凑设备中集成了等离子体和热ALD。 开放式样品载入热ALD，集成等离子体技术 现场升级到可使用等离子体 从小晶片到200mm大晶片适用于学术、产业、研发的热和/或等离子体化学产品，可用于：氧化物： HfO2, Al2O3, TiO2, SiO2, ZnO, Ta2O5氮化物：TiN, Si3N4金属： Ru, Pt ALD应用举例： 纳米电子学 高k栅极氧化物 存储电容器绝缘层-铜连线间的高纵横比扩散势垒区 有机发光二极管和聚合物的无针孔钝化层 钝化晶体硅太阳能电池 应用于微流体和MEMS的高保形涂层 纳米孔结构的涂层 生物微机电系统 燃料电池直观性强的的软件提高性能使用与牛津仪器的值得信赖的Plasmalab 产品家族相同的软件平台， OpAL的程序驱动、多用户级别、PC2000TM控制的软件易于操作且可为快速ALD做相应修改。

TMY066系列信息化试剂管理柜柜体采用为双层1.5mm加厚优质钢板材质，防腐蚀性更强。柜体结合了RFID技术及条码技术，便捷、高效、操作简单，刷卡、人脸识别、双锁控制等方式打开柜门，实现了对试剂的出库、入库等记录管理。产品参数：RFID工作频率：902-928MHZ射频协议标准：ISO 1800-6C操作系统：安卓显示屏：43寸电容触摸屏，分辨率：1920*1080功能模块：一二维条码读头、高频读卡、人脸识别、身份证阅读器、移动侦测摄像、双人双锁、手机远程数据查询、温湿度控制、气体监测柜体材质：优质钢板、复合材料、钢化玻璃柜体：分17个单元格整柜工艺：表面、内部经去油-除锈-表调-磷化-清洗-钝化等工序加工而成，表面、内部喷抗腐蚀材料处理尺寸：2600*380*1940，单位：mm电源电压：AC220V±10%/50Hz±1Hz功 耗：＜200w

TMY056系列信息化试剂管理柜柜体采用为双层1.5mm加厚优质钢板材质，防腐蚀性更强。柜体结合了RFID技术及条码技术，便捷、高效、操作简单，刷卡、人脸识别、双锁控制等方式打开柜门，实现了对试剂的出库、入库等记录管理。产品参数： RFID工作频率：902-928MHZ射频协议标准：ISO 1800-6C操作系统：安卓显示屏：14寸电容触摸屏，分辨率：1920*1080功能模块：一二维条码读头、高频读卡、人脸识别、身份证阅读器、移动侦测摄像、双人双锁、手机远程数据查询、温湿度控制、气体监测柜体材质：优质钢板、复合材料、钢化玻璃整柜工艺：表面、内部经去油-除锈-表调-磷化-清洗-钝化等工序加工而成，表面、内部喷抗腐蚀材料处理尺寸：1100*600*2002，单位：mm电源电压：AC220V±10%/50Hz±1Hz功 耗：＜200w

管路经硅钝化处理，快速完成吹气捕集以配合气相层析仪或气相层析质谱仪分析。 具旋风式除水系统，能有效除水而不使极性待分析物流失 具颗粒及泡沫过滤装 ，可防管路堵塞污染 捕捉管升温速率可达9 0 0℃／分 捕捉管冷却速率可达2 4 0℃／分或以上 可由电脑控制，使用网络连线 具L C D 全彩触控面板， W i n d o w s C E 介面； 可存贮2 5 0组方法 适用于5或2 5 m l样品曝气管并可加装气体热脱附套件分析气体 最低冷却温度：室温加1℃ 控温精确度±2℃，温度稳定度±2℃ 捕捉管温度：室温以上至4 5 0℃ 样品输送管：室温以上至2 9 5℃ 控制阀：3 5 0℃

设备规格可处理样品量：克级工艺温度：温度范围：RT~450°C前驱体路数：最大支持4路前驱体气路（可定制)，包含固、液态前驱体源瓶加热系统：可加热温度范围：RT~150℃反应物路数：支持2路反应物气路（可定制）载气：标准：N2, MFC 流量控制（可定制）压力监测：三薄膜规组合（耐腐蚀)，0.005Torr - 1000Torr本底真空度：5x10-3 Torr真空系统：标准油泵控制系统：19寸显示器，支持触控工业级嵌入式工控机，高可靠性，支持扩展操作系统：Win7 操作系统，工业级可编程逻辑控制器，支持现场总线与实时多任务处理操作 工艺 可沉积薄膜种类和应用场景包括：&bull High-K介电材料 (Al2O3, H2O, ZrO2, PrA1Q, Ta2O5, La2O3) &bull 金属互联结构 (Cu, WN, TaN, Ru, In) &bull 催化材料 (Pt, Ir, Co, TiO2):&bull 生物医学涂层 (TiN, ZrN, TiAIN, AlTIN) &bull 金属(Ru, Pd, Ir Pt, Rh, Co, Cu, Fe, Ni） &bull 压电层 (ZnO, AIN, ZnS) &bull 透明电学导体 (ZnO:Al, ITO) &bull 光子晶体(ZnO, TiO2, Ta3N5) 等 机架&bull 框架采用进口铝材搭建，重量轻、承载能力强，散热性好&bull 外壳采用碳钢烤漆及圆角处理，轻便美观，拆卸方便，符合人体工学&bull 显示屏360度自由旋转，可调视距、视角、自由悬停 控制系统&bull 控制系统采用 PLC+工控机+19 寸触摸屏方式实现，系统通过高速以太网进行通讯。&bull 采用 PLC 对设备进行实时控制，同时实现基于Windows7 操作系统的人机界面互动，支持历史数据、工艺配方、报警及日志的储存和导入导出的功能&bull 设备支持“一键沉积”功能，点击运行按键即可自动完成真空抽取、升温、材料沉积、降温等一系列步骤。实现单一或多层材料的沉积；提供独立的手动操作页面，支持手动开关阀门的操作，人机交互同时支持鼠标、键盘和触摸的输入方式&bull 设备运行软件提供用户权限管理功能，可根据用户级别设定使用权限，防止误操作，保证设备和人身安全&bull 设备运行软件提供逻辑互锁功能，防止用户误操作，并弹出信息对话框进行提示&bull 设备运行软件集成安全及参数配置、IO互锁列表信息功能 真空系统 真空测量采用多真空压力计组合方式，工艺数据更真实，更迅速，更精确，为工艺人员提供井真的数据采集来源，为工艺的可重复性提供了可靠的保障应用领域1.纳米材料：ALD 技术沉积参数高度可控，可在各种尺寸的复杂三维微纳结构基底上，实现原子级精度的薄膜形成和生长，可制备出高均匀性、高精度、高保形的纳米级薄膜。ALD具有高致密性以及高纵宽比结构均匀性，为MEMS机械耐磨损层、抗腐蚀层、介电层、憎水涂层、生物相容性涂层、刻蚀掩膜层等提供优质解决方案。ALD技术沉积参数高度可控，可通过精准控制循环数来控制MTJ所需达到的各项参数，是适用于MTJ制造的最佳工艺方案之一。ALD技术可通过表面修饰，改善纳米孔的生物相容性，同时提升抗菌抑菌和促进细胞合成。2.太阳能电池：ALD基材料在c-Si太阳能电池中的应用始于Al2O3，Al2O3是一种非常有效的表面钝化层，被发现可以显着提高c-Si太阳能电池的效率并应用于大规模产业化中。此后的研究中，ALD的应用研究从表面钝化层扩展到载流子传输材料[8]。3.催化：ALD技术很容易地控制纳米颗粒的大小、孔隙结构、含量和分散，有效设计出核壳结构、氧化物/金属倒载结构、氧化物限域结构、具有多金属管套结构和多层结构，且独特的自限制特性可实现催化材料在高比表面材料上的均匀和可控沉积，实现一步步和“自底向上”的方式在原子层面上构建复杂结构的异质催化剂材料而得到广泛研究。利用ALD技术具有饱和自限制的表面反应特性，有效抑制金属有机化合物、配体的空间位置效应，天然的将金属中心原子互相隔离开，抑制金属原子聚集，合成单原子催化剂。利用ALD技术有效调控金属与载体间的相互作用的特性，可获得单金属催化剂，如Ru、Pt、Pd等贵金属。利用ALD技术能调控两种金属元素生长顺序、循环周期数的特性来精准得到双金属纳米催化剂，合成原子级精准的超细金属团簇，如PtPd、PtRu、PdRu等双金属纳米颗粒。利用ALD技术制备金属氧化物，不仅可以制备性能更加优良的多相催化剂，而且可以对负载型催化剂进行改性，达到修饰、保护催化剂的目的。4.锂电池：ALD在锂离子电池中的应用特点：（1）电极材料的制备和改性；（2）阴极材料上的保护镀膜；（3）阳极材料上的人造固体电解质相间（SEI）；（4）锂金属阳极钝化和防止枝晶生长；（5）ALD作用的固态电解质（SSE）；（6）隔离膜上的保护涂层原速科技ALD技术在锂电池领域的应用主要有以下几个方面：a、锂电池PP/PE隔膜包覆，改善隔膜的浸润性，耐压性，热收缩性能b、锂电池正极包覆，改善电池的倍率性能，循环性能等c、锂电池负极包覆，改善电池的倍率性能，循环性能以及安全性能5.光学镀膜：ALD薄膜以饱和吸附的layer-by-layer生长模式，可在结构复杂的几何表面，如大曲面及高纵深比深孔结构，大面积形成高均匀性薄膜，且膜层相较于PVD膜更为致密，在界面处的结合力更强，更适用于未来工业界先进精密光学器件的制造。6.生物医疗：ALD可以通过低温沉积形成非常致密的保护膜，由于是纳米级别的膜厚其本身对医疗设备也不会造成影响，沉积ALD涂层后可以大幅度增加植入设备的寿命以及安全性，也有可能有效的减少更换手术的频率；同时ALD有多种材料都具有生物相容性，这种涂层对人体组织是没有任何细胞毒性的，这使得在再生医学领域中，用于对细胞构建生物相容性底物的制备时，ALD沉积表面涂层能满足对新型生物相容性材料的需求；在药物方面，ALD涂层可以有效的保护颗粒不受周围空气和水分的影响，从而大幅度的延长药物的保质期。7.OLED：几十纳米厚度的ALD封装膜甚至可媲美传统OLED封装技术的阻隔效果，同时具有良好的透光率、热导率、机械强度、耐腐蚀性及与基底的粘结性等性质；ALD封装薄膜因其纳米级的膜厚，可以实现很大程度上的弯曲并保持封装效果不变，这一特性可完美兼容柔性OLED器件封装，真正做到显示屏的可折叠、卷曲；ALD薄膜优异的保型性使其在一些复杂形貌和三维纳米结构的LED表面实现出色的钝化保护层，有效地起到阻隔水氧的作用，提高性能；用ALD在LED表面沉积钝化膜还可以很好地修补被等离子刻蚀造成的破坏性表面，可有效降低漏电流，显著提高LED效率。

设备规格衬底尺寸：标准尺寸：300mm Dia (12 inch）（可定制)工艺温度：温度范围：RT~500°C 精度：土1°C（可定制）前驱体路数：最大支持6路前驱体气路（可定制)，包含固、液态前驱体源瓶加热系统：可加热温度范围：RT~150℃反应物路数：支持2路反应物气路（可定制）载气：标准：N2, MFC 流量控制（可定制）压力监测：双薄膜规组合（耐腐蚀)，0.005Torr - 1000Torr本底真空度：5x10-3 Torr真空系统：标准油泵控制系统：19寸显示器，支持触控工业级嵌入式工控机，高可靠性，支持扩展操作系统：Win7 操作系统，工业级可编程逻辑控制器，支持现场总线与实时多任务处理操作 工艺 可沉积薄膜种类和应用场景包括：&bull High-K介电材料 (Al2O3, H2O, ZrO2, PrA1Q, Ta2O5, La2O3) &bull 金属互联结构 (Cu, WN, TaN, Ru, In) &bull 催化材料 (Pt, Ir, Co, TiO2):&bull 生物医学涂层 (TiN, ZrN, TiAIN, AlTIN) &bull 金属(Ru, Pd, Ir Pt, Rh, Co, Cu, Fe, Ni) &bull 压电层 (ZnO, AIN, ZnS) &bull 透明电学导体 (ZnO:Al, ITO) &bull 光子晶体(ZnO, TiO2, Ta3N5) 等 机架&bull 框架采用进口铝材搭建，重量轻、承载能力强，散热性好&bull 外壳采用碳钢烤漆及圆角处理，轻便美观，拆卸方便，符合人体工学&bull 显示屏360度自由旋转，可调视距、视角、自由悬停 控制系统&bull 控制系统采用 PLC+工控机+19 寸触摸屏方式实现，系统通过高速以太网进行通讯。&bull 采用 PLC 对设备进行实时控制，同时实现基于Windows7 操作系统的人机界面互动，支持历史数据、工艺配方、报警及日志的储存和导入导出的功能&bull 设备支持“一键沉积”功能，点击运行按键即可自动完成真空抽取、升温、材料沉积、降温等一系列步骤。实现单一或多层材料的沉积；提供独立的手动操作页面，支持手动开关阀门的操作，人机交互同时支持鼠标、键盘和触摸的输入方式&bull 设备运行软件提供用户权限管理功能，可根据用户级别设定使用权限，防止误操作，保证设备和人身安全&bull 设备运行软件提供逻辑互锁功能，防止用户误操作，并弹出信息对话框进行提示&bull 设备运行软件集成安全及参数配置、IO互锁列表信息功能 真空系统 真空测量采用双真空压力计组合方式，工艺数据更真实，更迅速，更精确，为工艺人员提供井真的数据采集来源，为工艺的可重复性提供了可靠的保障应用领域1.纳米材料：ALD 技术沉积参数高度可控，可在各种尺寸的复杂三维微纳结构基底上，实现原子级精度的薄膜形成和生长，可制备出高均匀性、高精度、高保形的纳米级薄膜。ALD具有高致密性以及高纵宽比结构均匀性，为MEMS机械耐磨损层、抗腐蚀层、介电层、憎水涂层、生物相容性涂层、刻蚀掩膜层等提供优质解决方案。ALD技术沉积参数高度可控，可通过精准控制循环数来控制MTJ所需达到的各项参数，是适用于MTJ制造的最佳工艺方案之一。ALD技术可通过表面修饰，改善纳米孔的生物相容性，同时提升抗菌抑菌和促进细胞合成。2.太阳能电池：ALD基材料在c-Si太阳能电池中的应用始于Al2O3，Al2O3是一种非常有效的表面钝化层，被发现可以显着提高c-Si太阳能电池的效率并应用于大规模产业化中。此后的研究中，ALD的应用研究从表面钝化层扩展到载流子传输材料[8]。3.催化：ALD技术很容易地控制纳米颗粒的大小、孔隙结构、含量和分散，有效设计出核壳结构、氧化物/金属倒载结构、氧化物限域结构、具有多金属管套结构和多层结构，且独特的自限制特性可实现催化材料在高比表面材料上的均匀和可控沉积，实现一步步和“自底向上”的方式在原子层面上构建复杂结构的异质催化剂材料而得到广泛研究。利用ALD技术具有饱和自限制的表面反应特性，有效抑制金属有机化合物、配体的空间位置效应，天然的将金属中心原子互相隔离开，抑制金属原子聚集，合成单原子催化剂。利用ALD技术有效调控金属与载体间的相互作用的特性，可获得单金属催化剂，如Ru、Pt、Pd等贵金属。利用ALD技术能调控两种金属元素生长顺序、循环周期数的特性来精准得到双金属纳米催化剂，合成原子级精准的超细金属团簇，如PtPd、PtRu、PdRu等双金属纳米颗粒。利用ALD技术制备金属氧化物，不仅可以制备性能更加优良的多相催化剂，而且可以对负载型催化剂进行改性，达到修饰、保护催化剂的目的。4.锂电池：ALD在锂离子电池中的应用特点：（1）电极材料的制备和改性；（2）阴极材料上的保护镀膜；（3）阳极材料上的人造固体电解质相间（SEI）；（4）锂金属阳极钝化和防止枝晶生长；（5）ALD作用的固态电解质（SSE）；（6）隔离膜上的保护涂层原速科技ALD技术在锂电池领域的应用主要有以下几个方面：a、锂电池PP/PE隔膜包覆，改善隔膜的浸润性，耐压性，热收缩性能b、锂电池正极包覆，改善电池的倍率性能，循环性能等c、锂电池负极包覆，改善电池的倍率性能，循环性能以及安全性能5.光学镀膜：ALD薄膜以饱和吸附的layer-by-layer生长模式，可在结构复杂的几何表面，如大曲面及高纵深比深孔结构，大面积形成高均匀性薄膜，且膜层相较于PVD膜更为致密，在界面处的结合力更强，更适用于未来工业界先进精密光学器件的制造。6.生物医疗：ALD可以通过低温沉积形成非常致密的保护膜，由于是纳米级别的膜厚其本身对医疗设备也不会造成影响，沉积ALD涂层后可以大幅度增加植入设备的寿命以及安全性，也有可能有效的减少更换手术的频率；同时ALD有多种材料都具有生物相容性，这种涂层对人体组织是没有任何细胞毒性的，这使得在再生医学领域中，用于对细胞构建生物相容性底物的制备时，ALD沉积表面涂层能满足对新型生物相容性材料的需求；在药物方面，ALD涂层可以有效的保护颗粒不受周围空气和水分的影响，从而大幅度的延长药物的保质期。7.OLED：几十纳米厚度的ALD封装膜甚至可媲美传统OLED封装技术的阻隔效果，同时具有良好的透光率、热导率、机械强度、耐腐蚀性及与基底的粘结性等性质；ALD封装薄膜因其纳米级的膜厚，可以实现很大程度上的弯曲并保持封装效果不变，这一特性可完美兼容柔性OLED器件封装，真正做到显示屏的可折叠、卷曲；ALD薄膜优异的保型性使其在一些复杂形貌和三维纳米结构的LED表面实现出色的钝化保护层，有效地起到阻隔水氧的作用，提高性能；用ALD在LED表面沉积钝化膜还可以很好地修补被等离子刻蚀造成的破坏性表面，可有效降低漏电流，显著提高LED效率。

设备规格衬底尺寸：标准尺寸：200mm Dia (8 inch）（可定制)工艺温度：温度范围：RT~500°C （可定制）前驱体路数：最大支持6路前驱体气路（可定制)，包含固、液态前驱体源瓶加热系统：可加热温度范围：RT~150℃反应物路数：支持2路反应物气路（可定制）载气：标准：N2, MFC 流量控制（可定制）等离子体系统：支持4路等离子体气体（可定制）射频功率：0~1000W压力监测：双薄膜规组合（耐腐蚀)，0.005Torr - 1000Torr本底真空度：5x10-3 Torr真空系统：标准油泵控制系统：19寸显示器，支持触控工业级嵌入式工控机，高可靠性，支持扩展操作系统：Win7 操作系统，工业级可编程逻辑控制器，支持现场总线与实时多任务处理操作高温加热模块：独立的源瓶加热模块，可支持RT~200℃ 工艺可沉积薄膜种类和应用场景包括：&bull High-K介电材料 (Al2O3, H2O, ZrO2, PrA1Q, Ta2O5, La2O3) &bull 金属互联结构 (Cu, WN, TaN, Ru, In) &bull 催化材料 (Pt, Ir, Co, TiO2):&bull 生物医学涂层 (TiN, ZrN, TiAIN, AlTIN) &bull 金属(Ru, Pd, Ir Pt, Rh, Co, Cu, Fe, Ni &bull 压电层 (ZnO, AIN, ZnS) &bull 透明电学导体 (ZnO:Al, ITO) &bull 光子晶体(ZnO, TiO2, Ta3N5) 等 机架&bull 框架采用进口铝材搭建，重量轻、承载能力强，散热性好&bull 外壳采用碳钢烤漆及圆角处理，轻便美观，拆卸方便，符合人体工学&bull 显示屏360度自由旋转，可调视距、视角、自由悬停 控制系统&bull 控制系统采用 PLC+工控机+19 寸触摸屏方式实现，系统通过高速以太网进行通讯。&bull 采用 PLC 对设备进行实时控制，同时实现基于Windows7 操作系统的人机界面互动，支持历史数据、工艺配方、报警及日志的储存和导入导出的功能&bull 设备支持“一键沉积”功能，点击运行按键即可自动完成真空抽取、升温、材料沉积、降温等一系列步骤。实现单一或多层材料的沉积；提供独立的手动操作页面，支持手动开关阀门的操作，人机交互同时支持鼠标、键盘和触摸的输入方式&bull 设备运行软件提供用户权限管理功能，可根据用户级别设定使用权限，防止误操作，保证设备和人身安全&bull 设备运行软件提供逻辑互锁功能，防止用户误操作，并弹出信息对话框进行提示&bull 设备运行软件集成安全及参数配置、IO互锁列表信息功能 真空系统 真空测量采用双真空压力计组合方式，工艺数据更真实，更迅速，更精确，为工艺人员提供井真的数据采集来源，为工艺的可重复性提供了可靠的保障应用领域1.纳米材料：ALD 技术沉积参数高度可控，可在各种尺寸的复杂三维微纳结构基底上，实现原子级精度的薄膜形成和生长，可制备出高均匀性、高精度、高保形的纳米级薄膜。ALD具有高致密性以及高纵宽比结构均匀性，为MEMS机械耐磨损层、抗腐蚀层、介电层、憎水涂层、生物相容性涂层、刻蚀掩膜层等提供优质解决方案。ALD技术沉积参数高度可控，可通过精准控制循环数来控制MTJ所需达到的各项参数，是适用于MTJ制造的最佳工艺方案之一。ALD技术可通过表面修饰，改善纳米孔的生物相容性，同时提升抗菌抑菌和促进细胞合成。2.太阳能电池：ALD基材料在c-Si太阳能电池中的应用始于Al2O3，Al2O3是一种非常有效的表面钝化层，被发现可以显着提高c-Si太阳能电池的效率并应用于大规模产业化中。此后的研究中，ALD的应用研究从表面钝化层扩展到载流子传输材料[8]。3.催化：ALD技术很容易地控制纳米颗粒的大小、孔隙结构、含量和分散，有效设计出核壳结构、氧化物/金属倒载结构、氧化物限域结构、具有多金属管套结构和多层结构，且独特的自限制特性可实现催化材料在高比表面材料上的均匀和可控沉积，实现一步步和“自底向上”的方式在原子层面上构建复杂结构的异质催化剂材料而得到广泛研究。利用ALD技术具有饱和自限制的表面反应特性，有效抑制金属有机化合物、配体的空间位置效应，天然的将金属中心原子互相隔离开，抑制金属原子聚集，合成单原子催化剂。利用ALD技术有效调控金属与载体间的相互作用的特性，可获得单金属催化剂，如Ru、Pt、Pd等贵金属。利用ALD技术能调控两种金属元素生长顺序、循环周期数的特性来精准得到双金属纳米催化剂，合成原子级精准的超细金属团簇，如PtPd、PtRu、PdRu等双金属纳米颗粒。利用ALD技术制备金属氧化物，不仅可以制备性能更加优良的多相催化剂，而且可以对负载型催化剂进行改性，达到修饰、保护催化剂的目的。4.锂电池：ALD在锂离子电池中的应用特点：（1）电极材料的制备和改性；（2）阴极材料上的保护镀膜；（3）阳极材料上的人造固体电解质相间（SEI）；（4）锂金属阳极钝化和防止枝晶生长；（5）ALD作用的固态电解质（SSE）；（6）隔离膜上的保护涂层原速科技ALD技术在锂电池领域的应用主要有以下几个方面：a、锂电池PP/PE隔膜包覆，改善隔膜的浸润性，耐压性，热收缩性能b、锂电池正极包覆，改善电池的倍率性能，循环性能等c、锂电池负极包覆，改善电池的倍率性能，循环性能以及安全性能5.光学镀膜：ALD薄膜以饱和吸附的layer-by-layer生长模式，可在结构复杂的几何表面，如大曲面及高纵深比深孔结构，大面积形成高均匀性薄膜，且膜层相较于PVD膜更为致密，在界面处的结合力更强，更适用于未来工业界先进精密光学器件的制造。6.生物医疗：ALD可以通过低温沉积形成非常致密的保护膜，由于是纳米级别的膜厚其本身对医疗设备也不会造成影响，沉积ALD涂层后可以大幅度增加植入设备的寿命以及安全性，也有可能有效的减少更换手术的频率；同时ALD有多种材料都具有生物相容性，这种涂层对人体组织是没有任何细胞毒性的，这使得在再生医学领域中，用于对细胞构建生物相容性底物的制备时，ALD沉积表面涂层能满足对新型生物相容性材料的需求；在药物方面，ALD涂层可以有效的保护颗粒不受周围空气和水分的影响，从而大幅度的延长药物的保质期。7.OLED：几十纳米厚度的ALD封装膜甚至可媲美传统OLED封装技术的阻隔效果，同时具有良好的透光率、热导率、机械强度、耐腐蚀性及与基底的粘结性等性质；ALD封装薄膜因其纳米级的膜厚，可以实现很大程度上的弯曲并保持封装效果不变，这一特性可完美兼容柔性OLED器件封装，真正做到显示屏的可折叠、卷曲；ALD薄膜优异的保型性使其在一些复杂形貌和三维纳米结构的LED表面实现出色的钝化保护层，有效地起到阻隔水氧的作用，提高性能；用ALD在LED表面沉积钝化膜还可以很好地修补被等离子刻蚀造成的破坏性表面，可有效降低漏电流，显著提高LED效率。

设备规格衬底尺寸：标准尺寸：200mm Dia (8 inch）（可定制)工艺温度：温度范围：RT~500°C （可定制）前驱体路数：最大支持6路前驱体气路（可定制)，包含固、液态前驱体源瓶加热系统：可加热温度范围：RT~150℃反应物路数：支持2路反应物气路（可定制）载气：标准：N2, MFC 流量控制（可定制）等离子体系统：支持4路等离子体气体（可定制）射频功率：0~1000W压力监测：双薄膜规组合（耐腐蚀)，0.005Torr - 1000Torr本底真空度：5x10-3 Torr真空系统：标准油泵控制系统：19寸显示器，支持触控工业级嵌入式工控机，高可靠性，支持扩展操作系统：Win7 操作系统，工业级可编程逻辑控制器，支持现场总线与实时多任务处理操作高温加热模块：独立的源瓶加热模块，可支持RT~200℃手套箱系统：设备集成手套箱，标准可支持双手套，单工位（可定制） 工艺可沉积薄膜种类和应用场景包括：&bull High-K介电材料 (A,O, H1O, ZrO PrA1Q, Ta, 0s. 1a,0) &bull 金属互联结构 (Cu, WN, TaN, Ru, In) &bull 催化材料 (Pt, Ir, Co, TiO, V,0g):&bull 生物医学涂层 (TiN, ZIN, TiAIN, AITIN) &bull 金属(Ru, Pd, Ir Pt, Rh, Co, Cu, Fe, Ni) &bull 压电层 (ZnO, AIN, ZnS) &bull 透明电学导体 (ZnO:Al, ITO) &bull 光子晶体(ZnO,ZnSIMn, Ti0, Ta,N.) 等。 机架&bull 框架采用进口铝材搭建，重量轻、承载能力强，散热性好&bull 外壳采用碳钢烤漆及圆角处理，轻便美观，拆卸方便，符合人体工学&bull 显示屏360度自由旋转，可调视距、视角、自由悬停 控制系统&bull 控制系统采用 PLC+工控机+19 寸触摸屏方式实现，系统通过高速以太网进行通讯。&bull 采用 PLC 对设备进行实时控制，同时实现基于Windows7 操作系统的人机界面互动，支持历史数据、工艺配方、报警及日志的储存和导入导出的功能&bull 设备支持“一键沉积”功能，点击运行按键即可自动完成真空抽取、升温、材料沉积、降温等一系列步骤。实现单一或多层材料的沉积；提供独立的手动操作页面，支持手动开关阀门的操作，人机交互同时支持鼠标、键盘和触摸的输入方式&bull 设备运行软件提供用户权限管理功能，可根据用户级别设定使用权限，防止误操作，保证设备和人身安全&bull 设备运行软件提供逻辑互锁功能，防止用户误操作，并弹出信息对话框进行提示&bull 设备运行软件集成安全及参数配置、IO互锁列表信息功能 真空系统 真空测量采用双真空压力计组合方式，工艺数据更真实，更迅速，更精确，为工艺人员提供井真的数据采集来源，为工艺的可重复性提供了可靠的保障应用领域1.纳米材料：ALD 技术沉积参数高度可控，可在各种尺寸的复杂三维微纳结构基底上，实现原子级精度的薄膜形成和生长，可制备出高均匀性、高精度、高保形的纳米级薄膜。ALD具有高致密性以及高纵宽比结构均匀性，为MEMS机械耐磨损层、抗腐蚀层、介电层、憎水涂层、生物相容性涂层、刻蚀掩膜层等提供优质解决方案。ALD技术沉积参数高度可控，可通过精准控制循环数来控制MTJ所需达到的各项参数，是适用于MTJ制造的最佳工艺方案之一。ALD技术可通过表面修饰，改善纳米孔的生物相容性，同时提升抗菌抑菌和促进细胞合成。2.太阳能电池：ALD基材料在c-Si太阳能电池中的应用始于Al2O3，Al2O3是一种非常有效的表面钝化层，被发现可以显着提高c-Si太阳能电池的效率并应用于大规模产业化中。此后的研究中，ALD的应用研究从表面钝化层扩展到载流子传输材料[8]。3.催化：ALD技术很容易地控制纳米颗粒的大小、孔隙结构、含量和分散，有效设计出核壳结构、氧化物/金属倒载结构、氧化物限域结构、具有多金属管套结构和多层结构，且独特的自限制特性可实现催化材料在高比表面材料上的均匀和可控沉积，实现一步步和“自底向上”的方式在原子层面上构建复杂结构的异质催化剂材料而得到广泛研究。利用ALD技术具有饱和自限制的表面反应特性，有效抑制金属有机化合物、配体的空间位置效应，天然的将金属中心原子互相隔离开，抑制金属原子聚集，合成单原子催化剂。利用ALD技术有效调控金属与载体间的相互作用的特性，可获得单金属催化剂，如Ru、Pt、Pd等贵金属。利用ALD技术能调控两种金属元素生长顺序、循环周期数的特性来精准得到双金属纳米催化剂，合成原子级精准的超细金属团簇，如PtPd、PtRu、PdRu等双金属纳米颗粒。利用ALD技术制备金属氧化物，不仅可以制备性能更加优良的多相催化剂，而且可以对负载型催化剂进行改性，达到修饰、保护催化剂的目的。4.锂电池：ALD在锂离子电池中的应用特点：（1）电极材料的制备和改性；（2）阴极材料上的保护镀膜；（3）阳极材料上的人造固体电解质相间（SEI）；（4）锂金属阳极钝化和防止枝晶生长；（5）ALD作用的固态电解质（SSE）；（6）隔离膜上的保护涂层原速科技ALD技术在锂电池领域的应用主要有以下几个方面：a、锂电池PP/PE隔膜包覆，改善隔膜的浸润性，耐压性，热收缩性能b、锂电池正极包覆，改善电池的倍率性能，循环性能等c、锂电池负极包覆，改善电池的倍率性能，循环性能以及安全性能5.光学镀膜：ALD薄膜以饱和吸附的layer-by-layer生长模式，可在结构复杂的几何表面，如大曲面及高纵深比深孔结构，大面积形成高均匀性薄膜，且膜层相较于PVD膜更为致密，在界面处的结合力更强，更适用于未来工业界先进精密光学器件的制造。6.生物医疗：ALD可以通过低温沉积形成非常致密的保护膜，由于是纳米级别的膜厚其本身对医疗设备也不会造成影响，沉积ALD涂层后可以大幅度增加植入设备的寿命以及安全性，也有可能有效的减少更换手术的频率；同时ALD有多种材料都具有生物相容性，这种涂层对人体组织是没有任何细胞毒性的，这使得在再生医学领域中，用于对细胞构建生物相容性底物的制备时，ALD沉积表面涂层能满足对新型生物相容性材料的需求；在药物方面，ALD涂层可以有效的保护颗粒不受周围空气和水分的影响，从而大幅度的延长药物的保质期。7.OLED：几十纳米厚度的ALD封装膜甚至可媲美传统OLED封装技术的阻隔效果，同时具有良好的透光率、热导率、机械强度、耐腐蚀性及与基底的粘结性等性质；ALD封装薄膜因其纳米级的膜厚，可以实现很大程度上的弯曲并保持封装效果不变，这一特性可完美兼容柔性OLED器件封装，真正做到显示屏的可折叠、卷曲；ALD薄膜优异的保型性使其在一些复杂形貌和三维纳米结构的LED表面实现出色的钝化保护层，有效地起到阻隔水氧的作用，提高性能；用ALD在LED表面沉积钝化膜还可以很好地修补被等离子刻蚀造成的破坏性表面，可有效降低漏电流，显著提高LED效率。

设备规格衬底尺寸：标准尺寸：100mm Dia (4 inch）（可定制)工艺温度：温度范围：RT~400°C 精度：土1°C（可定制）前驱体路数：最大支持6路前驱体气路（可定制)，包含固、液态前驱体源瓶加热系统：可加热温度范围：RT~150℃反应物路数：支持2路反应物气路（可定制）载气：标准：N2, MFC 流量控制（可定制）高真空系统：高性能分子泵，支持对高真空的真空度需求控制系统：19寸显示器，支持触控工业级嵌入式工控机，高可靠性，支持扩展操作系统：Win7 操作系统，工业级可编程逻辑控制器，支持现场总线与实时多任务处理操作传片系统：手动磁力杆传片，配置专用传片腔体、门阀以及真空系统（可定制） 工艺可沉积薄膜种类和应用场景包括：&bull High-K介电材料 (Al2O3, H2O, ZrO2, PrA1Q, Ta2O5, La2O3) &bull 金属互联结构 (Cu, WN, TaN, Ru, In) &bull 催化材料 (Pt, Ir, Co, TiO2):&bull 生物医学涂层 (TiN, ZrN, TiAIN, AlTIN) &bull 金属(Ru, Pd, Ir Pt, Rh, Co, Cu, Fe, Ni &bull 压电层 (ZnO, AIN, ZnS) &bull 透明电学导体 (ZnO:Al, ITO) &bull 光子晶体(ZnO, TiO2, Ta3N5) 等 机架&bull 框架采用进口铝材搭建，重量轻、承载能力强，散热性好&bull 外壳采用碳钢烤漆及圆角处理，轻便美观，拆卸方便，符合人体工学&bull 显示屏360度自由旋转，可调视距、视角、自由悬停控制系统&bull 控制系统采用 PLC+工控机+19 寸触摸屏方式实现，系统通过高速以太网进行通讯。&bull 采用 PLC 对设备进行实时控制，同时实现基于Windows7 操作系统的人机界面互动，支持历史数据、工艺配方、报警及日志的储存和导入导出的功能&bull 设备支持“一键沉积”功能，点击运行按键即可自动完成真空抽取、升温、材料沉积、降温等一系列步骤。实现单一或多层材料的沉积；提供独立的手动操作页面，支持手动开关阀门的操作，人机交互同时支持鼠标、键盘和触摸的输入方式&bull 设备运行软件提供用户权限管理功能，可根据用户级别设定使用权限，防止误操作，保证设备和人身安全&bull 设备运行软件提供逻辑互锁功能，防止用户误操作，并弹出信息对话框进行提示&bull 设备运行软件集成安全及参数配置、IO互锁列表信息功能应用领域1.纳米材料：ALD 技术沉积参数高度可控，可在各种尺寸的复杂三维微纳结构基底上，实现原子级精度的薄膜形成和生长，可制备出高均匀性、高精度、高保形的纳米级薄膜。ALD具有高致密性以及高纵宽比结构均匀性，为MEMS机械耐磨损层、抗腐蚀层、介电层、憎水涂层、生物相容性涂层、刻蚀掩膜层等提供优质解决方案。ALD技术沉积参数高度可控，可通过精准控制循环数来控制MTJ所需达到的各项参数，是适用于MTJ制造的最佳工艺方案之一。ALD技术可通过表面修饰，改善纳米孔的生物相容性，同时提升抗菌抑菌和促进细胞合成。2.太阳能电池：ALD基材料在c-Si太阳能电池中的应用始于Al2O3，Al2O3是一种非常有效的表面钝化层，被发现可以显着提高c-Si太阳能电池的效率并应用于大规模产业化中。此后的研究中，ALD的应用研究从表面钝化层扩展到载流子传输材料[8]。3.催化：ALD技术很容易地控制纳米颗粒的大小、孔隙结构、含量和分散，有效设计出核壳结构、氧化物/金属倒载结构、氧化物限域结构、具有多金属管套结构和多层结构，且独特的自限制特性可实现催化材料在高比表面材料上的均匀和可控沉积，实现一步步和“自底向上”的方式在原子层面上构建复杂结构的异质催化剂材料而得到广泛研究。利用ALD技术具有饱和自限制的表面反应特性，有效抑制金属有机化合物、配体的空间位置效应，天然的将金属中心原子互相隔离开，抑制金属原子聚集，合成单原子催化剂。利用ALD技术有效调控金属与载体间的相互作用的特性，可获得单金属催化剂，如Ru、Pt、Pd等贵金属。利用ALD技术能调控两种金属元素生长顺序、循环周期数的特性来精准得到双金属纳米催化剂，合成原子级精准的超细金属团簇，如PtPd、PtRu、PdRu等双金属纳米颗粒。利用ALD技术制备金属氧化物，不仅可以制备性能更加优良的多相催化剂，而且可以对负载型催化剂进行改性，达到修饰、保护催化剂的目的。4.锂电池：ALD在锂离子电池中的应用特点：（1）电极材料的制备和改性；（2）阴极材料上的保护镀膜；（3）阳极材料上的人造固体电解质相间（SEI）；（4）锂金属阳极钝化和防止枝晶生长；（5）ALD作用的固态电解质（SSE）；（6）隔离膜上的保护涂层原速科技ALD技术在锂电池领域的应用主要有以下几个方面：a、锂电池PP/PE隔膜包覆，改善隔膜的浸润性，耐压性，热收缩性能b、锂电池正极包覆，改善电池的倍率性能，循环性能等c、锂电池负极包覆，改善电池的倍率性能，循环性能以及安全性能5.光学镀膜：ALD薄膜以饱和吸附的layer-by-layer生长模式，可在结构复杂的几何表面，如大曲面及高纵深比深孔结构，大面积形成高均匀性薄膜，且膜层相较于PVD膜更为致密，在界面处的结合力更强，更适用于未来工业界先进精密光学器件的制造。6.生物医疗：ALD可以通过低温沉积形成非常致密的保护膜，由于是纳米级别的膜厚其本身对医疗设备也不会造成影响，沉积ALD涂层后可以大幅度增加植入设备的寿命以及安全性，也有可能有效的减少更换手术的频率；同时ALD有多种材料都具有生物相容性，这种涂层对人体组织是没有任何细胞毒性的，这使得在再生医学领域中，用于对细胞构建生物相容性底物的制备时，ALD沉积表面涂层能满足对新型生物相容性材料的需求；在药物方面，ALD涂层可以有效的保护颗粒不受周围空气和水分的影响，从而大幅度的延长药物的保质期。7.OLED：几十纳米厚度的ALD封装膜甚至可媲美传统OLED封装技术的阻隔效果，同时具有良好的透光率、热导率、机械强度、耐腐蚀性及与基底的粘结性等性质；ALD封装薄膜因其纳米级的膜厚，可以实现很大程度上的弯曲并保持封装效果不变，这一特性可完美兼容柔性OLED器件封装，真正做到显示屏的可折叠、卷曲；ALD薄膜优异的保型性使其在一些复杂形貌和三维纳米结构的LED表面实现出色的钝化保护层，有效地起到阻隔水氧的作用，提高性能；用ALD在LED表面沉积钝化膜还可以很好地修补被等离子刻蚀造成的破坏性表面，可有效降低漏电流，显著提高LED效率。

OpAL系统是一种带有等离子体选项的直开式热原子层沉积（ALD）设备。 它可通过清晰而易行的途径升级为等离子体 ALD，这样便可在一个结构紧凑的设备上实现等离子体和热ALD。紧凑型直开式热原子层沉积（ALD）设备，带有等离子选项适用于小尺寸至200mm的晶圆片蒸汽吸取或鼓泡四种液体或固体前驱体实时检测选项，包括与ALD控制软件相联的光谱椭偏仪ALD产品家族涵盖的系列设备可以满足学术界、企业研发和小规模生产的多种需求实时监测选项，包括与ALD控制软件相联的光谱椭偏仪OpAL系统可通过清晰而易行的途径升级为等离子体，这样便可在一个结构紧凑的设备上实现等离子体和热ALD牛津仪器有大量的工艺储备，并且还在不断开发新的工艺。我们为所有的ALD设备提供终身免费的、延续不断的工艺支持，我们还将为您提供关于开发新材料的建议，同时继续与您共享包括新工艺配方在内的新的ALD工艺进展。特征可配备带有样品传送入口的氮气吹扫手套箱 - 适用于干燥环境易于拆卸的内腔室 - 减少腔室清洗时间机柜可安装在抽气管路上并附带氮气吹扫 - 以确保健康和安全的承诺气动起重装置 - 用于安全打开腔室可配备抽气罩或氮气吹扫手套箱 - 以确保健康和安全的承诺应用纳米电子高K栅氧化物存储电容电介质用于Cu互连的高深宽比扩散隔层用于OLED和聚合物的无针孔钝化层用于晶体硅太阳能电池的钝化用于微流体和MEM的高保形涂层纳米多孔结构的涂层生物MEMS燃料电池

1. 产品概述Scaler HK430 热原子层沉积系统，填孔能力以及良好的薄膜均匀性。2. 设备用途/原理Scaler HK430 热原子层沉积系统，填孔能力以及良好的薄膜均匀性，腔室结构设计，具备良好的防酸腐蚀能力，优化机台结构，缩小占地面积。友好的人机交互和安全性设计保障系统稳定、安全、高效。3. 设备特点晶圆尺寸 12 英寸，适用材料 氧化铪、氧化锆、氧化铝，适用工艺 栅介质层、介质层、钝化层，适用域 科研、集成电路、先进封装。