[size=3][b]请问在对手性化合物（RS）原料药进行光学纯度控制中，用手性柱对其杂质对映异构体（SR）进行控制，而用普通的C18柱对非对应异构体（RR+SS）进行控制，但此RR与SS在C18上是重合的，这样可以吗？前提是该四个异构体无法在手性柱的一个流动相体系中出现，所以才出此下策。[/b][/size]
用普通的反相柱跑对映异构体，为什么会出现双峰？用的是普通反相柱而不是手性柱，对映异构体是纯品，无杂质，双峰峰高基本一致，请教其中的原理。
各位版友，小弟我最近在开发一个拥有4个手性中心的化合物的HPLC，目前已经购买了这个化合物的5个杂质对照品了，其中一个杂质是对映异构体，准备买大赛璐的手性柱进行分离，其他4个杂质均为非对映异构体，目前分别采用了0.1%的三氟乙酸作为流动相与乙腈梯度洗脱，5mM磷酸二氢钾（PH7.0)/(PH2.5)与乙腈梯度洗脱，采用前一个流动相峰宽有点宽，后一个流动相峰形很好，但是无法分开，想请教有分离非对映异构体的版友们支招啊！兄弟我不甚感激！
请问供试液图谱中有杂质峰，对照的图谱相对应位置也会出现这个杂质峰吗？如果没有出现是什么原因？
我现在分析一个含多个手性中心的物质,非对映异构体有好几个,其中有几个用反相分不开,用正相分开了,现在要写分析方法,对于这几个杂质的纯度测定应该归属到"相关物质"还是"非对映体纯度"一项不太确定,请大家给点建议!
◇关于洛索洛芬杂质 洛索洛芬杂质是一种[font=Arial][color=#333333][font=宋体]非甾体抗炎[/font][/color][/font]杂质，具有镇痛、抗炎症以及解热作用。索洛芬钠杂质主要通过以下机制发挥药效：一、抑制环氧化酶：这种酶在炎症过程中起着重要作用，通过抑制它能够减少前列腺素的生成。二、[font=.pingfang sc]阻断前列腺素合成：洛索洛芬钠片通过作用于环氧合酶（[/font]COX）的特定位置，阻止了前列腺素的合成，从而起到了抗炎和镇痛的效果。[font=UICTFontTextStyleBody] [/font][font=UICTFontTextStyleBody]CATO[/font]标准品提供的[font=宋体]洛索洛芬杂质[/font][font=宋体]，有着广泛的作用，其中它的镇痛效果十分显著。[img=,601,511]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2024/02/202402041058193581_5312_6381607_3.png!w601x511.jpg[/img][/font]
[font=宋体]◇[/font][b][font=宋体]奈必洛尔[/font][/b][font=宋体]杂质[/font][font=宋体][font=宋体] 奈必洛尔杂质是指在奈必洛尔（[/font][font=Calibri]Nebivolol[/font][font=宋体]）的生产或保存过程中产生的非目标化合物。奈必洛尔杂质有多种，包括但不限于以下几种：奈比洛尔杂质（[/font][font=Calibri]L-[/font][font=宋体]奈必洛尔），英文名称为[/font][font=Calibri](-)-Nebivolol[/font][font=宋体]，[/font][font=Calibri]CAS[/font][font=宋体]号为[/font][font=Calibri]118457-16-2[/font][/font][font=宋体]；[/font][font=宋体][font=宋体]奈必洛尔杂质[/font][font=Calibri]9[/font][font=宋体]，[/font][font=Calibri]CAS[/font][font=宋体]号为[/font][font=Calibri]920275-23-6[/font][/font][font=宋体]；[/font][font=宋体][font=宋体]奈必洛尔杂质[/font][font=Calibri]C[/font][font=宋体]（非对映体混合物），英文名为[/font][font=Calibri]Nebivolol Impurity C (Mixture of Diastereomers)[/font][/font][font=宋体]；[/font][font=宋体][font=宋体]奈必洛尔杂质[/font][font=Calibri]B[/font][font=宋体]，英文名为[/font][font=Calibri]Nebivolol impurity B[/font][font=宋体]，[/font][font=Calibri]CAS[/font][font=宋体]号为[/font][font=Calibri]119365-25-2[/font][/font][font=宋体]；[/font][font=宋体][font=宋体]去氟奈必洛尔，英文名为[/font][font=Calibri]Desfluoro Nebivolol[/font][/font][font=宋体]；[/font][font=宋体][font=宋体]奈必洛尔杂质[/font][font=宋体]Ⅰ和奈必洛尔杂质Ⅱ等。[/font][/font][font=宋体][font=Calibri] CATO[/font][font=宋体]标准品提供的[/font][/font][b][font=宋体]奈必洛尔[/font][/b][font=宋体]全套的杂质[/font][font=宋体]，[/font][font=宋体]这些杂质对于药物的纯度和稳定性研究至关重要，也是药物研发过程中不可或缺的一部分[/font][font=宋体]。[/font][img=,605,513]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2024/02/202402182153192686_9605_6381607_3.png!w605x513.jpg[/img][font=宋体][color=#05073b][back=#fdfdfe] 广州[/back][/color][/font][font='Segoe UI'][color=#05073b][back=#fdfdfe]佳途科技[/back][/color][/font][font=宋体][color=#05073b][back=#fdfdfe]股份有限公司[/back][/color][/font][font='Segoe UI'][color=#05073b][back=#fdfdfe]深知药物研发与质量控制的重要性[/back][/color][/font][font=宋体][font=宋体]，[/font][font=Calibri]CATO[/font][font=宋体]标准品厂家，提供[/font][/font][b][font=宋体]奈必洛尔[/font][/b][font=宋体]全套[/font][font=宋体]的[/font][font=宋体]杂质，为客户提供更加精准、可靠的分析标准品，助力药物研发事业的快速发展[/font][font=宋体]，[/font][font=宋体]以满足客户在药物研发和质量控制方面的需求。[/font]
样品气中各杂质气体在长时间的静置过程中，各气体含量所测得的结果稳定性有多少？（杂质气体含量有1-1000PPM不等的气体）
厄洛替尼杂质是药物制备过程中的副产品或污染物，可能会影响药物的安全性和有效性。常见的杂质有重金属、溶剂残留、有毒化合物等。对于厄洛替尼来说，杂质可能会影响其药效和安全性。一方面，杂质可能降低药物的纯度，从而降低其抑制肿瘤生长的效果。另一方面，某些杂质可能具有毒性或致敏性，可能导致患者出现不良反应。因此，对厄洛替尼的杂质进行检测和控制是药品质量控制的重要环节。这需要使用一种或多种分析方法，如高效[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/5p][color=#3333ff]液相色谱[/color][/url]法、[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Mp][color=#3333ff]气相色谱[/color][/url]法、质谱法等，以检测并定量药物中的杂质。CATO标准品针对可能的杂质源（如起始材料、反应条件、催化剂、溶剂等）进行控制，可以有效地减少杂质的生成。[img=,603,517]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2024/02/202402021655361773_9862_6381668_3.png!w603x517.jpg[/img]
上传了硅材料中杂质元素的分析方法国家标准——《GB4298-84 半导体硅材料中杂质元素的中子活化分析方法》，这是目前唯一能查到的与多晶硅体金属杂质分析相关的国标。[URL=http://www.instrument.com.cn/download/shtml/121679.shtml]GB 4298-84半导体硅材料中杂质元素的中子活化分析方法[/URL]
目前，气体尤其是高纯气体一般都有气体杂质的分析方法，但是高纯气体中的金属杂质分析却很少涉及，我在网上查找相关内容，发现有一篇文献，说可以用电子级的盐酸来吸收气体中的金属杂质，不知道该方法是否可行？另外是否还有其他的吸收方式呢？
硼（B）和磷（P）是半导体硅中最常用的杂质原子，它们的加入可以改变硅的导电特性，使其成为p型或者n型半导体。具体地说，当硅中掺入硼后，每个硼原子都可以提供一个空穴，所以硅就成为了p型半导体。在p型半导体中，空穴是主导电荷传递的“粒子”。替佐米是一种用于掺入硼杂质的化学源。硼替佐米杂质在化学[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Mp][color=#3333ff]气相[/color][/url]沉积（CVD）过程中，通常利用替佐米中的硼与[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Mp][color=#3333ff]气相[/color][/url]中的硅反应，形成掺硼的硅薄膜。在这种情况下，替佐米的主要作用是提供掺杂元素硼。CATO标准品掺杂硅可以大大改善其半导体特性，例如增加载流子浓度，调整能带结构，改善导电性能等。这些特性使得掺杂硅在微电子、光电子和太阳能电池等领域有着非常重要的应用。[img=,606,517]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2024/02/202402052111488377_830_6381668_3.png!w606x517.jpg[/img]
[align=left][b]会议简介：[/b][/align][font='微软雅黑',sans-serif][color=#656565] [/color][/font][font='微软雅黑',sans-serif]因不同的对映体在人体内常常具有不同的生物活性，手性药物已成为当今国际新药研究和开发的方向之一。实际应用中，利用手性固定相实现手性色谱分离既直接又简单，已成为中手性药物杂质分析的首选。手性对映体几乎具有完全一样的性质，这使得手性分离更具挑战性，如何选择手性色谱柱、如何获得理想的手性分离是大家普遍关心的问题，本次讲座我们将围绕[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Mp]气相[/url]手性柱的选择与分离优化与大家共同探讨。[/font][align=left][b][font='微软雅黑',sans-serif][color=#333333]主讲老师：[/color][/font][/b][/align][align=left][b][font='微软雅黑',sans-serif] 吴华[/font][/b][/align][align=left][font='微软雅黑',sans-serif] 2003[/font][font='微软雅黑',sans-serif]年加入安捷伦，长期从事实验室耗材特别是[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Mp]气相色谱[/url]耗材的技术支持，具有丰富的方法开发及应用经验。[/font][/align][align=left][font='微软雅黑',sans-serif][/font][/align][align=left][url=https://www.instrument.com.cn/webinar/meeting_18265.html]点击打开链接[/url][/align][align=left]欢迎大家参会交流！[/align]
请问各位大侠，关于气体中杂质富集的有什么相关标准吗？比如说氦气中的痕量CO CO2 O2 类的技术，或是氨气当中的这些痕量组分的富集标准等。或是哪里曾经做过这样的事情呢？有什么联系方式吗？多谢哈！
[align=center]萘酮与中间体杂质I的分离[/align]根据客户提出的依赖分析需求，实验室对以下结构的萘酮（RSL）及其中间体杂质I（Ser-I）进行分离尝试。[align=center][img=,638,249]http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2017/06/201706210849_01_2222981_3.png[/img][/align][align=center][img=,690,226]http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2017/06/201706210850_01_2222981_3.png[/img][/align]注：在客户给出的数据文件中，RSL命名为萘酮，Ser-I命名为中间体I；在加磷酸体系中，中间体I先出峰，不加磷酸体系中，萘酮先出峰。由于萘酮（RSL）与中间体I（Ser-I）在水相中会发生结构转换现象，因此我们在无水条件下开展实验。使用资生堂疏水性与表面极性得到良好平衡的反相色谱柱CAPCELL PAK C18 MG S5 4.6 mm i.d. × 250 mm进行分析，同时对柱温进行优化，结果如图1所示。[align=center][img=,690,280]http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2017/06/201706210849_02_2222981_3.png[/img][/align][img=,581,198]http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2017/06/201706210849_04_2222981_3.png[/img]图2、图3分别为萘酮和杂质I的光谱图。[align=center][img=,690,271]http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2017/06/201706210849_03_2222981_3.png[/img][/align]由图1可知，在萘酮的分析中，柱温越高其保留时间越短。同时发现在萘酮与杂质I之间出现一较明显倒峰。由图2、图3决定检测波长，由于流动相中添加了三乙胺，会对短波长检测产生一定干扰，因此建议在254nm或者288nm进行检测（本实验选择254nm）。我们对图1中倒峰的来源进行了多方排查，最终发现该实验体系中不得引入任何水，建议客户使用的所有实验容器必须烘干，并且需将洗针液更换为纯有机相。排除水干扰后分析对比结果如图4所示。[align=center][img=,638,363]http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2017/06/201706210849_05_2222981_3.png[/img][/align]同时，为进一步延长保留时间，我们也尝试使用了资生堂键合金刚烷基团的高表面极性色谱柱CAPCELL PAK ADME S5 4.6 mm i.d. × 250 mm进行分析，所得结果如图5所示，相较于MG色谱柱，ADME色谱柱能够得到更强保留。[align=center][img=,616,304]http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2017/06/201706210849_06_2222981_3.png[/img][/align]
有哪位大侠做过2#纯铜中Bi,Sb,As,Ni,Pb,Sn等杂质元素?具体如何做?应注意什么?
在做程序升温操作时,载气中的某些杂质,在低温时保留在色谱柱中,当拄温升高时不但引起基线漂移还可能在谱图上出现比较宽的"假峰"。7）仪器影响a.各类过滤器加速失效 b.调节阀(稳压阀,稳流阀,针形阀)被污染,气阻堵塞,调节精度降低或失灵；c.气路系统被污染,若要恢复仪器在高灵敏度情况下操做,有时要吹洗很长时间(可能一周以上)污染严重时有时再也无法恢复。d.检测器的寿命,实践表明,对ECD和TCD的寿命影响最明显，应引起用户特别注意。二.对气体纯度选择的一般原则1.从分析角度讲,微量分析比常量分析要求高,也就是说,气体中的杂质含量必须低于被分析组分的含量,如果用TCD分析10ppm的CO,则载气中的杂质总含量不得超过10ppm,因为99.999%纯度的气体则含0.001%的杂质,相当于10ppm所以对于10ppm的痕量分析,载气的纯度应高于99.999% 对于FID使用气体,碳氢化合物含量必须很低,载气中的大量氧杂质只要不对色谱柱造成影响,就不影响FID的性能,而操作ECD，载气中的氧气和水的含量必须很低等.2.毛细管柱分析比填充柱分析要求高 3.程序升温分析比恒定温度分析要求高 4.浓度型检测器比质量型检测器要求高 5.配有甲烷装置的FID比单FID操作的对载气中的微量CO,CO2要求要高的多.6.从仪器寿命和保持仪器的高灵敏度讲,中高档仪器比低当仪器要求高 三.操作不同检测器推荐使用的气体纯度我们推荐气体纯度的技术要求,通常用于常规分析,对于要求高灵敏度的痕量分析时,也可以使用更高纯度的气体。由于各个制气厂设置不同，其杂质含量将有所不同 为满足不同的使用要求,选用不同厂家不同纯度的气源后,可以通过气体净化处理满足分析要求。对于不同杂质的气体采用何种净化方法和装置有机会在加以讨论。综上所述,新购[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Mp]气相色谱仪[/url]接入气源时，一定要做到心中有数,决不能随意接入,否则会造成ECD,甲烷化装置等的损伤,信噪比减小的无法使用,下面给出了用于常规分析时,推荐使用的气体纯度(仅供参考)：TCD 氦做载气：至少纯度为99.995%。杂质含量分别为：氖＜10ppm 氮 ＜10ppm；氧＜2.5 ppm 氩＜0.1 ppm 二氧化碳＜0.25 ppm。氢做载气： 至少纯度为99.995%。 杂质含量分别为： 氮＜1 ppm 氧＜5 ppm 二氧化碳＜1 ppm 水＜5 ppm 总烃＜1 ppm 。FID 氮做载气： 至少纯度为99.998%。杂质含量分别为：氢＜1 ppm 氧＜1 ppm 氩＜10ppm 二氧化碳＜1 ppm 水＜5 ppm 甲烷＜1 ppm。氢气： 同TCD 空气： 呼吸级杂质：氩，氪，水，氦，氖均小于1%； 二氧化碳＜500 ppm 一氧化碳＜10ppm 总烃＜0.02 ppm 甲烷＜20 ppm。ECD 氮做载气: 至少纯度为99.998%。典型杂质同上。
◇关于氟替卡松杂质[font=宋体] [/font][font=宋体]氟替卡松杂质[/font][font=宋体]是一种糖皮质激素类杂质，它主要有四个作用：一、抗炎作用，[/font][font=宋体]氟替卡松杂质[/font][font=宋体]主要是[/font][font=微软雅黑][color=#333333][font=微软雅黑]通过抑制炎症介质的产生和释放，[/font][/color][/font][font=微软雅黑][color=#333333][font=微软雅黑]从而降低[/font][/color][/font][font=微软雅黑][color=#333333][font=微软雅黑]呼吸道炎症[/font][/color][/font][font=微软雅黑][color=#333333][font=微软雅黑]反应。二、免疫抑制作用，[/font][/color][/font][font=宋体]氟替卡松杂质[/font][font=微软雅黑][color=#333333][font=微软雅黑]可以调节免疫系统的活性，[/font][/color][/font][font=微软雅黑][color=#333333][font=微软雅黑]降低气道炎症。三、抗过敏的作用，[/font][/color][/font][font=微软雅黑][color=#333333][font=微软雅黑]氟替卡松可以抑制过敏反应中的组织炎症和免疫细胞活性，[/font][/color][/font][font=微软雅黑][color=#333333][font=微软雅黑]降低[/font][/color][/font][font=微软雅黑][color=#333333][font=微软雅黑]过敏引起的症状[/font][/color][/font][font=微软雅黑][color=#333333][font=微软雅黑]。四、缓解症状，[/font][/color][/font][font=宋体]氟替卡松杂质[/font][font=微软雅黑][color=#333333][font=微软雅黑]通过减轻气道炎症、免疫反应和过敏症状，有效缓解患者的呼吸困难、咳嗽、喘息等症状[/font][/color][/font][font=微软雅黑][color=#333333][font=微软雅黑]。[/font][/color][/font][font=UICTFontTextStyleBody] [/font][font=UICTFontTextStyleBody]CATO[/font]标准品提供的[font=宋体]氟替卡松杂质[/font][font=宋体]，在呼吸道疾病中有十分显著的功效和作用[/font][font=宋体]。1[img=,604,541]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2024/02/202402041611066438_1004_6381607_3.png!w604x541.jpg[/img][/font]
本人在做氨基酸分析，用的是黄酒中氨基酸的测定方法行业标准编制说明 标准，十八种氨基酸混标进样，由于仪器限制，使用的是二元梯度，标准是三元，两者的区别只是峰的分离度。但是实验中总是有杂质峰，而且重复性很好，保留时间、峰面积是一致的，怀疑是衍生副产物。单标进样仍然有，而且几乎是一个单标对应一个杂质峰。并不是所有杂质峰都出现，说明不是样品、流动相的问题。认为问题就出在衍生过程中，有做过的是否也由这些杂质峰？
[size=3]请教一个计算，不胜感激！一个复方的制剂，用hplc的方法，检测一个已知有关物质的限度（不得过0.01%）。[/size][size=3]取5片量制得供试液，取已知杂质制得浓度为50微克每毫升的对照液。[/size][size=3]在供试液中检测到对应的已知杂质的杂峰，那公式是不是:[/size][size=3]A(样品中杂峰面积)*C（杂质对照浓度）/A（杂志对照峰面积）/W（5片粉质量）*100%请各位大侠指教，不胜感激！[/size]
近几年频频出现药物制剂中检出基因毒性杂质残留而被召回的事件。何为基因毒性杂质呢？“基因毒性杂质”（又称遗传毒性杂质Genotoxic Impurity ，GTI），是指本身直接或间接损伤细胞DNA，产生基因突变或体内诱变，具有致癌可能或者倾向的化合物。其主要来源为原料药合成过程中的起始物料、中间体、试剂和反应副产物，此外，药物在合成、储存或者制剂过程中也可能因为降解而产生基因毒性杂质，因其特点为毒性极强，在很低浓度时即可造成人体遗传物质的损伤，进而导致基因突变并可能促使肿瘤的发生，对用药的安全性产生了强烈的威胁。化学药品中的典型基因毒性杂质包括亚硝胺类杂质和磺酸酯类杂质，它们经过代谢激活后基因毒性非常强，是药物研发过程当中最易产生且需严格把控的基因毒性杂质。因此，各国的法规机构如ICH、FDA、EMA等都对基因毒性杂质提出了明确的要求，越来越多的药企在创新药和仿制药研发过程中也更加关注基因毒性杂质的控制和检测。2020 版《中国药典》四部通则中新增了《遗传毒性杂质控制指导原则》，本指导原则对基因毒性杂质的监管策略与ICH M7指导原则几乎保持一致。2020年5月国家药监局药审中心网站发布了《化学药物中亚硝胺类杂质研究技术指导原则》，该原则为注册申请上市以及已上市化学药品中亚硝胺类杂质的研究和控制提供了指导。在理论上，大部分药物都存在残留基因毒性杂质或被基因毒性杂质污染的风险，因此建立便捷、高效的分析方法是非常有必要的。
求教气体杂质色谱分析方法
各位大神，小弟最近打算测硅藻土样品的固体核磁Si谱，因为样品中含有少量的Fe杂质（XRF分析含量Fe2O370%),测试中心的老师说含有Fe这类顺磁性物质，不能测试。但我查阅文献中发现他人有测硅藻土的Si谱或者其他含有Fe杂质的粘土类物质，也有说法是少量顺磁性物质可以缩短弛豫时间，减少测试时间，但具体分析没有查到。想请教各位前辈，含少量Fe的样品到底能不能做固体核磁，对于杂质含量有没有要求呢，谢谢！
[font=宋体]◇来那替尼杂质[/font][font=宋体] 来那替尼杂质是在来那替尼药物制备或存储过程中可能产生的物质[/font][font=宋体]，[/font][font=宋体][font=宋体]这些杂质可能会影响药物的纯度和效果，因此对其进行研究和控制对于确保药物的安全性和有效性至关重要。来那替尼杂质有多种，它们具有不同的[/font][font=Calibri]CAS[/font][font=宋体]号、化学式和分子量。例如，来那替尼杂质[/font][font=Calibri]NOQ[/font][font=宋体]的[/font][font=Calibri]CAS[/font][font=宋体]号为[/font][font=Calibri]1348481-03-7[/font][font=宋体]，纯度通常为[/font][font=Calibri]95% HPLC[/font][font=宋体]。此外，还有其他来那替尼杂质，如来那替尼杂质[/font][font=Calibri]1144516-15-3[/font][font=宋体]等。[/font][/font][font=宋体][font=Calibri] CATO[/font][font=宋体]标准品提供的来那替尼全套的杂质[/font][/font][font=宋体]，[/font][font=宋体]这些杂质对于药物的纯度和稳定性研究至关重要，也是药物研发过程中不可或缺的一部分[/font][font=宋体]。[img=,602,518]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2024/02/202402192110007699_8786_6381607_3.png!w602x518.jpg[/img][/font][font=宋体][color=#05073b][back=#fdfdfe] 广州[/back][/color][/font][font='Segoe UI'][color=#05073b][back=#fdfdfe]佳途科技[/back][/color][/font][font=宋体][color=#05073b][back=#fdfdfe]股份有限公司[/back][/color][/font][font='Segoe UI'][color=#05073b][back=#fdfdfe]深知药物研发与质量控制的重要性[/back][/color][/font][font=宋体][font=宋体]，[/font][font=Calibri]CATO[/font][font=宋体]标准品厂家，提供来那替尼全套[/font][/font][font=宋体]的[/font][font=宋体]杂质，为客户提供更加精准、可靠的分析标准品，助力药物研发事业的快速发展[/font][font=宋体]，[/font][font=宋体]以满足客户在药物研发和质量控制方面的需求。[/font]
对于99.995%的高纯吸附载气和吸附质气体，其中的主要杂质气体为水份。假设气源气体中水份的含量为0.004%，则样品处在-195.8℃、30ml/min的流速中120min内停留在粉末表面的水的量为 0.14ml（标况下的体积），而对于500mg比表面积为1m2/g的材料，在其表面形成水的单分子层吸附所需要的水蒸汽的量为：0.12 ml（标况），与实际停留在粉末表面的水量相当，材料表面已经被水分饱和；如果不吹扫处理继续测试，那测试结果将不可能正确。对于色谱法孔径测试需要测试三四十个分压点，影响更是显著，若分压点之间不做吹扫处理，最后得到的结果将不是固体材料本身对氮分子的吸附了，而是包覆了水分子的颗粒对氮分子的吸附了，孔隙也早已被高沸点易吸附气体杂质H2O、CO2饱和。 要消除吸附质气源中的气体杂质H2O、CO2等的影响， 可采用冷阱气体净化装置，冷阱是消除高沸点气体杂质的有效方式；比表面仪配备的冷阱，使本会被样 品吸附的水份等高沸点杂质提前被冷阱捕获，使得经过净化后的高纯氮和高纯氦气体中的水分含量低于10-17Pa，达到超高纯气体状态； 3H-2000系列比表面仪是国内唯一配备冷阱的比表面仪器，这也是该系列仪器能够取得高精度和高分辨率的因素之一。
高纯气体标准物质中微量或痕量杂质分析的要求有哪些？
1 前几天把PAHS,HBCD标液直接过硅胶柱子，洗下来后发现HBCD一点都没有了，阳性样品过柱也没有了，而PAHS过柱结果很好，硅胶柱把HBCD吸附了？HBCD是极性化合物？HBCD应该比含苯环的PBDE极性大多了2 硅胶柱除杂质能力不咋的，THF溶解的PVC分子吸不住，对苯二甲酸酯（塑料里含量很高的）也吸不住 硅胶柱吸附极性杂质，但一般的固体样品提取液中有什么极性化合物呢？所以固体样品提取液没必要过硅胶柱 什么样品需要过硅胶柱？或者说过硅胶柱可以起点作用3 做PBDE的标准，同样是电子电器产品，SJ,IEC都没写要过硅胶柱，最多加电甲醇，但SN2005.2却一定要过硅胶柱净化，有必要吗？
非对映异构体仅仅是构型上的差别，为何理化性质会差别很大呢？而且液相分析时很多非对映异构体用普通的反相就能分开，为什么仅仅一个构型上的差别会导致这么大的理化性质差异呢？求指教
火花直读光谱可以分析镍基体与钴基体中杂质吗，为什么搜不到相应文章
想用基体匹配法测镍板等镍含量在99.96％以上的杂质含量，哪有卖纯度更高的镍呀？有知道的请指教！急！
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