镀膜材料

1. 产品概述：HVD-1800 Series 是韩国真空公司推出的一款高性能部件镀膜设备。它采用了先进的真空镀膜技术，能够在各种部件表面镀上一层或多层具有特定功能和性能的薄膜，如耐磨、耐腐蚀、导电、绝缘、光学等特性的薄膜，以提升部件的性能和使用寿命。 2. 设备应用： 汽车工业：用于汽车零部件的镀膜，如发动机零部件、传动部件、制动部件等，可提高其耐磨性、抗腐蚀性和耐高温性能，减少摩擦损耗，延长部件的使用寿命，进而提升汽车的整体性能和可靠性。 电子行业：应用于电子元器件的镀膜，像半导体芯片、电容器、电阻器等。镀膜可以改善电子元器件的电学性能，如提高导电性、降低电阻，同时也能提供一定的保护作用，防止外界环境对元器件的影响，增强电子设备的稳定性和可靠性。 光学领域：可对光学元件进行镀膜，包括透镜、棱镜、反射镜等。通过精确控制镀膜的厚度和材料，可以实现对光的反射、折射、透射等特性的调控，提高光学元件的光学性能，如增加反射率、提高透过率、减少色散等，广泛应用于相机镜头、望远镜、显微镜等光学仪器中。 机械制造：为机械零部件提供镀膜服务，例如刀具、模具、轴承等。镀膜能够赋予机械零部件更高的硬度、更好的耐磨性和抗腐蚀性，使其在复杂的工作环境下保持良好的工作状态，减少磨损和损坏，提高机械加工的精度和效率，降低生产成本。3. 设备特点： 先进的镀膜技术：采用了多种先进的镀膜工艺，如物理气相沉积（PVD）、化学气相沉积（CVD）等，能够满足不同材料和镀膜要求，确保镀膜的质量和性能。 高精度的膜层控制：配备了精密的膜厚监测和控制系统，可以精确控制镀膜的厚度和均匀性，保证每一批次产品镀膜的一致性，满足对膜层厚度和质量要求较高的应用场景。 高效的生产能力：具备较高的镀膜速率和较短的工艺周期，能够实现大规模的部件镀膜生产，提高生产效率，满足市场对大量镀膜部件的需求。 良好的兼容性：可以适应多种不同形状、尺寸和材料的部件镀膜，对于复杂形状的部件也能实现均匀镀膜，具有广泛的适用性。 可靠的设备稳定性：采用了高品质的材料和先进的制造工艺，确保设备在长时间运行过程中保持稳定的性能，减少设备故障和停机时间，提高设备的利用率和生产效率。4. 产品参数： 镀膜腔室尺寸：通常具有较大的镀膜腔室空间，以容纳不同尺寸的部件，可能在直径和高度上有不同的规格选择，如直径 1.8 米，高度 2 米等。 极限真空度：能够达到较高的极限真空度，比如优于 10^-4 Pa，以保证镀膜过程在高真空环境下进行，减少杂质和气体对镀膜质量的影响。 镀膜温度：可在一定温度范围内进行镀膜，根据不同的镀膜工艺和材料，温度范围可能有所不同，例如常温到几百摄氏度。 电源功率：根据设备的规模和镀膜工艺的需求，配备相应功率的电源，可能在几十千瓦到上百千瓦不等。 气体流量控制：精确控制各种镀膜气体的流量，以确保镀膜过程中气体的比例和供应稳定，气体流量控制精度可能达到 ±1% 或更高。 实际参数可能会因设备的具体配置和定制需求而有所不同。

1 产品概述: 立式溅射镀膜设备，如TS-CJX/M系列，是一种广泛应用于制备各类光学膜和装饰膜的先进设备。该设备采用磁控溅射技术，通过高能离子轰击靶材表面，使靶材原子或分子被溅射出来并沉积在基材表面，形成所需的薄膜层。立式结构设计使得设备在处理大面积基片时具有更高的效率和稳定性。2 设备用途：溅射镀膜设备（立式）的用途广泛，主要包括以下几个方面：光学领域：用于制备眼镜、光学镜片、摄影镜头等光学设备的镀膜，增加其防反射、增透、反射率等光学性能。电子领域：在半导体器件、集成电路、显示器件、太阳能电池板等电子元件的制造中，用于增加导电性、隔热性、防蚀性等功能。汽车工业：用于汽车镜片、灯具、车身涂层等零部件的制造，提高表面硬度、耐蚀性、抗划伤性等性能。医疗设备：在医疗器械的金属镀膜中采用溅射镀膜技术，以提高耐腐蚀性、生物相容性，并增加设备的功能性。3 设备特点溅射镀膜设备（立式）具有以下显著特点：高效沉积：溅射镀膜技术以其高沉积速率著称，能够在较短时间内形成均匀且高质量的薄膜。磁控溅射通过施加磁场进一步增加等离子体密度，提高溅射速率和沉积效率。低温操作：溅射镀膜过程中的低温环境能够有效避免基片材料因高温而发生降解或形变，保证薄膜和基片的整体性能。这对于温度敏感材料的镀膜尤为重要。均匀薄膜：溅射过程中，等离子体在靶材表面均匀分布，确保靶材原子的溅射均匀性。旋转基片技术进一步提高了薄膜在大面积基片上的均匀性。多样化靶材选择：溅射镀膜技术能够处理多种材料，包括金属、合金、陶瓷和复合材料，适用于不同工艺需求。 4 技术参数和特点：溅射镀膜设备SMD系列（立式）SMD系列是镀金属膜、ITO、IGZO、诱电体膜等的枚叶式溅射镀膜设备。仅SMD系列就有超过1000台的丰富的采用实绩，在各种各样的生产环境下运转。及时反映从生产现场听取的意见，进一步提高设备的可靠性。仅基板搬送和侧面镀膜的方式节约空间的设计可以轻松的完成单独基板管理，如成膜条件根据镀膜物不同选择不同的阴排列丰富的经验和数据支持，广泛的镀膜工艺对应

Vac Techniche真空镀膜 桌面镀膜系统 紧凑型桌面镀膜系统 紧凑型碳纤维镀膜系统DTTDTT: Turbo Triple Thermal Evaporation Source Desktop CoaterVac Techniche三热源台式涂布机为各种形式的源材料提供了一个非常通用的热蒸发系统，包括电线、绳索、颗粒和粉末，与船/篮和线圈源支架兼容。为了便于使用，触摸7英寸彩色屏幕控制具有全自动控制、数据输入和显示功能，专为经验丰富和缺乏经验的操作员设计。控制系统允许记录多达300个历史处理。 三个独立的耐热热蒸发源。蒸发源支架的设计不会造成源材料对彼此的污染。 光源支架的长度可以在50mm~90mm的范围内进行调整。可进行联合蒸发升级 蒸发源篮子线圈/电线

产品简介： GSL-1800X-ZF2蒸发镀膜仪主要应用于大专院校、科研机构、企业实验室及进行微小产品真空镀膜工艺研究、样板试制、操作培训和生产的单位。镀膜仪在蒸发镀膜过程中样品台可以进行旋转，使蒸发的薄膜材料在样品表面均匀分布。配有两组蒸发单元，一个钨舟，一个钨丝篮；钨舟中可以放粉末状的薄膜材料，钨丝篮中可以放条状或块状薄膜材料。控制屏采用7英寸TFT显示屏显示操作界面，TFT式显示器具有高响应度、高亮度、高对比度等优点，触屏操作，实现全图形化界面，易用易懂。镀膜仪使高真空的蒸发镀膜设备，真空度可达3.0×10-4torr。 产品型号 GSL-1800X-ZF2蒸发镀膜仪安装条件本设备要求在海拔1000m以下，温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。1、电：AC220V 50Hz，必须有良好接地2、工作台：落地式，占地面积2m2以上3、通风装置：需要主要特点 1、采用桌面小型一体化结构，将真空腔体、镀膜电源及控制系统进行整合设计，体积与一台A3打印机相仿。 2、采用电阻式双蒸发源结构，可快速实现蒸发源的转换。蒸发单元中装有两组蒸发电极可安装不同的蒸发源，适应相应的镀膜材料。 3、配有0.1%精度蒸发电源，并具有恒流输出功能，对蒸发舟能起到很好的保护作用。 4、可选配石英晶体膜厚控制仪，在镀膜过程中对镀膜速率和膜层厚度进行控制。 5、可将采集到的镀膜数据保存到U盘，便于用户分析控制（选配）。 6、本机将所有功能设计成标准化模块，根据用户不同的需求对相应模块进行组合，以达到优化的镀膜环境，并便于用户维修与维护。 7、操作控制采用7英寸TFT显示屏显示操作界面，触屏操作，实现全图形化界面，易用易懂。技术参数 1、电源：AC220V 1500W 2、蒸发电源功率：1000W 5V 200A 3、蒸发电极有效距离：44mm 4、样品台：?120mm（可旋转） 5、膜厚测量精度：0.1?或0.01?（可选配高精度型） 6、外接真空机组：扩散泵机组（可选配国产110机组或进口机组）（不建议使用扩散泵） 7、极限真空度：3.0×10-3torr（扩散泵）、3.0×10-4torr（分子泵）（不建议使用扩散泵） 8、工作真空度：5.0×10-3torr 9、真空接口：KF40 10、使用环境：温度35℃，湿度75%（相对湿度）不结露，海拔1500m产品规格　尺寸：440mm×240mm×260mm（不包括真空机组）；重量：约47kg（不包括真空泵）

美国Denton金/碳镀膜机 丹顿真空公司位于美国费城，是世界著名真空镀膜设备制造商。从1964年成立至丹顿已为全球客户制造了数千台多种规格的蒸发设备、溅射和PECVD镀膜系统，用于大工业生产、科研开发和小规模制造。丹顿用于科研开发和小规模制造的中小型镀膜设备据美国市场占有率之首。Desk V HP 专用电子显微镜样品制备 – SEM TEM FE-SEM 金/碳镀膜机特点● 内置泵系统● 极短的沉积时间● 一致的沉积参数● 图形界面彩色触摸板● 薄膜厚度控制● 样品清洁的蚀刻模式● 多样靶材材料选择● 更多可选功能

产品简介： GSL-1800X-ZF4蒸发镀膜仪是一款高真空的镀膜仪，特别适合蒸镀对氧较敏感的金属膜（如Ti、Al 、Au等）和小分子的有机物。本机设有4个蒸镀加热舟，每个加热舟都可独立进行蒸镀，加热舟上方有一个可旋转挡板，当其中一个加热舟进行蒸镀时挡板将其它三个钨舟遮住，以防蒸镀材料之间相互污染。若更改部分配置也可实现对有机材料的蒸发镀膜，可满足发光器件及有机太阳能电池方面的研究要求，是一款镀膜效果理想且性价比较高的实验设备。GSL-1800X-ZF4镀膜仪腔底部配有5个水冷电极，在工作过程中可有效保护电极温度不会因温度过高而熔化，进而损坏电极。该机采用金属腔室，具有极高的真空度，真空度可达到5.0×10-7torr，样品台可对样品进行加热，加热温度为室温-500℃，是进行高真空蒸发镀膜的设备。产品名称GSL-1800X-ZF4蒸发镀膜仪产品型号GSL-1800X-ZF4安装条件本设备要求在海拔1000m以下，温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。1、水：设备配有自循环冷却水机（加注纯净水或者去离子水）2、电：AC220V 50Hz，必须有良好接地3、工作台：落地式，占地面积2m2以上。4、通风装置：需要主要特点1、真空控制单元全部集合在一个控制盒内。2、采用独立的蒸镀电流控制器，操作方便快捷。3、真空腔体设有1个KF40旁抽阀（直接与前级机械泵相连，提高效率）、1个CF150闸板阀（直接与分子泵相连）、1个KF16法兰（安装电阻规）、6个CF35法兰（1个安装电离规，1个安装2芯电极，1个安装膜厚仪）3个备用。4、在腔体底部配有5个水冷电极，可支持4个蒸镀加热舟。5、样品台安装在腔体的顶部。6、腔内可装高分辨率的薄膜测厚仪，膜厚测量分辨率（铝）为0.1?。7、可使用循环水冷机。技术参数1、输入：单相AC220V，50Hz/60Hz，功率2.16KW（不含真空泵）2、蒸发输出：电压AC 0-8V连续可调，极限蒸发电流200A，极限蒸发功率1.6KW3、真空腔：?300mm（内径）×400mm，不锈钢，内壁经电抛光处理4、观察窗：?100mm，采用密封圈密封5、真空泵：高抽速涡轮分子泵，抽速600L/s6、真空度：8.0x10-4Pa7、极限真空8.0x10-5Pa8、漏率：6.7×10-8PaL/S9、样品台：φ12010、蒸发舟与样品台间距：150-210mm11、冷却水需量：15L/min产品规格尺寸：900mm×1100mm×1800mm；重量：230kg

1.设备概述EC400高真空蒸发镀膜设备是一台高精度的蒸发镀膜设备，主要用于在物体表面形成一层均匀的薄膜，以改变物体的性质和外观。该设备利用高真空环境下的物理过程，将金属材料蒸发成气体，并在物体表面沉积形成薄膜。2.主要组成部分真空室：用于提供高真空环境，确保蒸发源和物体表面之间没有气体分子的干扰。蒸发源：内置金属材料（如铜、铝、银、金等），通过加热使其蒸发成气体。膜厚监测仪：用于实时监测薄膜的厚度，确保薄膜质量符合要求。样品台：用于放置待处理的物体，确保其在镀膜过程中的稳定性和位置准确性。真空获得系统：包括真空泵等组件，用于将真空室抽成高真空状态。真空测量系统：用于测量真空室内的气体压力等参数，确保设备的安全运行。气路系统：用于向真空室内通入工艺气体，如氮气等，以调节镀膜环境。PLC+触摸屏自动控制系统：实现设备的自动化控制和操作，提高工作效率和镀膜质量。3.技术特点高真空环境：确保蒸发源和物体表面之间没有气体分子的干扰，提高镀膜质量。高精度控制：通过PLC+触摸屏自动控制系统，实现蒸发源加热温度、沉积时间等参数的精确控制。多功能性：可制备多种类型的薄膜，如金属薄膜、氧化物薄膜、氮化物薄膜等。结构紧凑：设备主机与控制一体化设计，操控方便；结构紧凑，占地面积小。4.应用域EC400高真空蒸发镀膜设备在多个域具有广泛的应用，包括但不限于：纳米薄膜制备：用于开发纳米单层、多层及复合膜层等。材料科学：制备金属膜、合金膜、半导体膜、陶瓷膜及介质膜等，如银、铝、铜、C60、BCP等材料的薄膜。高校与科研院所：用于教学、科研实验及新产品开发等。工业生产：在钙钛矿太阳能电池、OLED、OPV太阳能电池等行业中，用于制备高质量的薄膜材料。

单靶等离子溅射镀膜仪是我公司自主研发的一款高性价比等离子溅射镀膜设备，具有结构紧凑，简单易用，集成度高，设计感强的优势。等离子溅射靶为2英寸的标准尺寸，客户可以根据需要选择1~3个靶的不同配置，以满足镀单层膜或者多种材料多层膜的不同实验需求。仪器所配电源为150W直流高压电源，可用于金属溅射镀膜，尤其适合金银铜等贵金属的镀膜。镀膜仪配有通气接口，可以通入保护性气体，若客户需要通入混合气体，可以联系工作人员自行配置高精度质量流量计以满足实验需要。 单靶等离子溅射镀膜仪适用范围：可用于金属溅射镀膜，尤其适合金银铜等金属的镀膜。主要技术参数样品台尺寸Φ138mm加热温度最高500℃控温精度±1℃转速1-20rpm可调等离子溅射头1支2寸等离子靶真空腔体腔体尺寸Φ180mm×150mm 腔体材料高纯石英观察窗口全向透明开启方式顶盖拆卸式前极泵VRD-4抽气速率旋片泵：1.1L/S 极限真空1.0E-1Pa抽气接口KF16排气接口KF16真空测量数字真空计其他供电电压AC220V,50Hz整机功率800W溅射真空20Pa整机尺寸长360mm宽300mm高470mm整机重量30Kg

三靶等离子溅射镀膜仪是我公司自主研发的一款高性价比等离子溅射镀膜设备，等离子溅射靶为2英寸的标准尺寸，客户可以根据需要选择1~3个靶的不同配置，以满足镀单层膜或者多种材料多层膜的不同实验需求。仪器所配电源为150W直流高压电源，可用于金属溅射镀膜，尤其适合金银铜等贵金属的镀膜。镀膜仪配有通气接口，可以通入保护性气体。仪器采用触摸屏控制，简单直观易于上手，能够一键实现镀膜启停、切换靶位、挡板旋转等操作，十分适合实验室选购。本镀膜仪标配为双极旋片真空泵，其具有体积小，抽真空快，操作简单的优势，若客户有进一步提升真空度的需要，可以联系技术人员选配分子泵组组成高真空系统。三靶等离子溅射镀膜仪适用范围： 可用于金属溅射镀膜，尤其适合金银铜等金属的镀膜。三靶等离子溅射镀膜仪技术参数：三靶等离子溅射镀膜仪样品台尺寸φ138mm控温精度±1℃加热温度*高500℃转速1-20rpm可调直流溅射头数量2"×1 （1~3个靶可选）真空腔体腔体尺寸φ180mm × 150mm观察窗口全向透明腔体材料高纯石英开启方式顶盖上翻式真空系统机械泵旋片泵抽气接口KF16真空测量电阻规排气接口KF16极限真空1.0E-1Pa供电电源AC 220V 50/60Hz抽气速率旋片泵：1.1L/S电源配置数量直流电源 x1*大输出功率150W其他供电电压AC220V,50Hz整机尺寸360mm × 300mm × 470mm整机功率800W整机重量40kg

真空镀膜厚度仪金属镀层测厚仪是一种用于精确测量金属镀层厚度的仪器，它对于镀铝膜、真空镀膜、镀铝纸等材料的质量控制具有重要意义。该仪器采用电阻法作为检测原理，通过测量电阻值的变化来推算金属镀层的厚度。 金属镀层测厚仪主要由测量探头、测量电路和数据处理系统三部分组成。测量探头通过与被测样品表面接触来获取电阻值，其内部结构通常包括一对电极和测量线路，用于测量样品的电阻值。测量电路则将探头测得的电阻值转化为可读的数据，并将其传输到数据处理系统进行处理。 在测量镀铝膜、真空镀膜和镀铝纸等材料时，金属镀层测厚仪能够对其表面和底层的电阻值进行精确测量。由于不同金属材料的电阻率不同，因此可以通过测量电阻值的变化来推算金属镀层的厚度。具体来说，金属镀层测厚仪会根据样品的电阻值变化来计算出金属镀层的厚度，并将结果以数字或图表的形式显示出来。 金属镀层测厚仪具有高精度、高分辨率和高灵敏度的优点，能够准确地测量出金属镀层的厚度，从而为生产厂家提供可靠的质量保证。同时，该仪器还具有操作简单、使用方便的特点，能够满足工业生产中对快速、简便测量的需求。 金属镀层测厚仪的优点还包括其非破坏性测量方式，即不会对被测样品造成损害。这使得生产厂家可以在生产过程中进行在线测量，及时发现并解决问题，大大提高了生产效率和产品质量。此外，金属镀层测厚仪还可以通过计算机接口实现数据共享和远程控制，提高了测量的自动化程度和便捷性。 金属镀层测厚仪是一种高精度、高分辨率、高灵敏度的仪器，采用电阻法检测原理，能够准确地测量出镀铝膜、真空镀膜、镀铝纸等材料金属镀层的厚度。它具有操作简单、使用方便和非破坏性测量等优点，适用于工业生产中的在线测量，能够提高生产效率和产品质量。 技术参数 厚度测量范围 厚度50-570&angst 方块电阻测量范围 0.5-5Ω 方块电阻测量误差 ±1% 样品尺寸 100×100mm 夹样精度 ±0.1mm 测温范围 0～50℃，精度±1℃ 外形尺寸 370mm×330mm×450mm （长宽高） 重 量 19kg 工作温度 23℃±2℃ 相对湿度 80%,无凝露 工作电源 220V 50Hz 真空镀膜厚度仪此为广告

广州竞赢离子溅射仪全国诚招代理广州竞赢成立于2007一直以来专业从事代理和销售国内外品牌的各类电镜耗材及电镜附属设备，客户涉及高校、科研院所、企业、政府部门等多个领域。凭借着优异的产品和服务为广州市公安局、广东医附院、复旦大学、华南理工大学、中山大学、电子五所、哈尔滨工业大学、贵州大学等等国内各地域客户建立起良好的供销关系。JY-S100磁控离子溅射仪是一款结构紧凑的桌面小型镀膜系统，特别适用于扫描电镜成像中非导电样品高质量镀膜。在扫描电子显微镜（SEM）样品制备中，JY-S100磁控离子溅射仪在不同类型的样品，如生物标本和材料样品制备中发挥着至关重要的作用。对于生物标本，JY-S100磁控离子溅射仪有助于在样品表面形成一层导电层，防止荷电效应并减少电子束对样品表面的损伤。这种导电层使得在不影响其完整性的情况下更好地成像细胞、组织和纤维等微妙的生物结构。高质量的镀膜还能增强二次电子信号，从而提高图像分辨率和对比度。对于材料样品，JY-S100磁控离子溅射仪在给样品镀上均匀且薄的导电层方面至关重要，使得样品的表面形貌和成分能够进行高分辨率成像。这对于非导电材料（如陶瓷、聚合物和复合材料）尤为重要，因为荷电效应可能导致成像伪像和失真。JY-S100提供的精确且一致的镀膜确保了SEM图像准确地反映了样品的表面特征，使研究人员能够深入了解材料的性能和性能。主要特性通过高效低压直流磁控头进行冷态精细的喷镀过程，避免样品表面受损。操作容易快捷，控制的参数包括放气以及氩气换气控制。数字化的喷镀电流控制不受样品室内气压影响，可得到一致的镀膜速率和高质量的镀膜效果。可使用多种金属靶材：Au， Au/Pd,，Pt,，Pt/Pd（Au靶为标配），靶材更换快速方便。技术参数溅射系统靶材Au 靶为标配，可选 Pt，直径 57mm x 0.1mm 厚标准样品台可以装载 12 个 SEM 样品座，高度可调范围为 60mm※旋转倾斜样品台（选配）旋转速度：0~60rpm 连续可调，倾斜角度：-90°~ 90°连续可调；不锈钢腔体：直径 120mm X 高 75mm；观察窗：直径 120mm X 高 45mm；标配旋转台直径 40mm，可放 4 个标准样品台，其它规格可订做；具有双重锁紧装置，可确保样品在旋转倾斜时不会松动脱落。溅射电流微处理器控制，安全互锁，可调，电流 5~30mA，程序化数字控制计量表真空： Atm - 1*10-3mbar，电流：0~99mA控制方法带有“开始”“暂停”按钮的微处理控制器（1－999s），自动抽气、溅射、关机后自动放气。真空系统抽气速率133L/MIN极限真空10-4 mbar 级噪音56dB

产品简介：钙钛矿镀膜机主要由有机/金属源蒸发沉积室、真空排气系统、真空测量系统、蒸发源、样品加热控温、电控系统、配气系统等部分组成。适用于制备金属单质薄膜、半导体薄膜、氧化物薄膜、有机薄膜等，可用于科研单位进行新材料、新工艺薄膜研究工作，也可用于大批量生产前的试验工作，广泛应用于有机、无机、钙钛矿薄膜太阳能电池、OLED等研究领域。 产品型号钙钛矿镀膜机主要特点1、样品位于真空室上方，蒸发源位于真空室下方，向上蒸发镀膜，且蒸发源带有挡板装置。2、设有烘烤加热功能，可在镀膜过程中加热样品，最高烘烤加热温度为180℃。3、设有断水、断电连锁保护报警装置及防误操作保护报警装置。技术参数1、镀膜室：不锈钢材料，采用方形前后开门结构，内带有防污板，腔室尺寸约为600mm×450mm×450mm2、真空排气系统：采用分子泵+机械泵系统3、真空度：镀膜室极限真空≤6×10-4Pa4、系统漏率：≤1×10-7Pa5、蒸发源：安装在真空室的下底上；有机蒸发源4个、容积5ml，2台蒸发电源，可测温、控温，加热温度 400℃，功率0.5KW；无机蒸发源4套、容积5ml，2台蒸发电源，加热电流300A，功率3.2KW； 蒸发源挡板采用自动磁力控制方式控制其开启6、样品架：安装在真空室的上盖上，可放置?120mm的样品、载玻片，旋转速度0-30rpm7、加热温度：RT-180℃，测温、控温8、膜厚控制仪：石英晶振膜厚控制仪，膜厚测量范围0-999999?

Zygo光学元件光学镀膜ZYGO世界一流的镀膜设计工程师和技术人员与我们的计量和光学制造团队紧密合作，为我们的客户提供“一站式购物”体验。这简化了您的供应链，降低了项目风险和整体时间。如果您的基材在镀膜后必须满足所有要求，请选择一个单一的垂直整合制造商。反射涂层保护性和增强金属（金、银、铝）铬镍铁合金、镍、铬和钛多层定制电介质设计减反射涂层UV到MWIR光谱范围（248nm到5μm）宽带（BBAR），单频或双频，还提供定制设计EMI网格上的减反射涂层特殊涂层高LIDT，包括飞秒激光应用滤波器分光镜ZYGO的优势工程设计、制造、计量、镀膜一应俱全直径达45英寸[1145mm]和重量达300磅[136kg]的大型基板在各种材料上沉积定制镀膜设计根据标准MIL、ISO规格在内部进行环境和耐久性测试成熟的涂层应力补偿技术ZYGO业界领先的计量系统会在镀膜后对所有规格进行认证我们还提供涂层翻新服务

钙钛矿镀膜机主要由有机/金属源蒸发沉积室、真空排气系统、真空测量系统、蒸发源、样品加热控温、电控系统、配气系统等部分组成。适用于制备金属单质薄膜、半导体薄膜、氧化物薄膜、有机薄膜等，可用于科研单位进行新材料、新工艺薄膜研究工作，也可用于大批量生产前的试验工作，广泛应用于有机、无机、钙钛矿薄膜太阳能电池、OLED等研究领域。主要特点1、样品位于真空室上方，蒸发源位于真空室下方，向上蒸发镀膜，且蒸发源带有挡板装置。2、设有烘烤加热功能，可在镀膜过程中加热样品，最高烘烤加热温度为180℃。3、设有断水、断电连锁保护报警装置及防误操作保护报警装置。技术参数1、镀膜室：不锈钢材料，采用方形前后开门结构，内带有防污板，腔室尺寸约为600mm×450mm×450mm2、真空排气系统：采用分子泵+机械泵系统3、真空度：镀膜室极限真空≤6×10-4Pa4、系统漏率：≤1×10-7Pa5、蒸发源：安装在真空室的下底上；有机蒸发源4个、容积5ml，2台蒸发电源，可测温、控温，加热温度 400℃，功率0.5KW；无机蒸发源4套、容积5ml，2台蒸发电源，加热电流300A，功率3.2KW；蒸　　　　　 发源挡板采用自动磁力控制方式控制其开启6、样品架：安装在真空室的上盖上，可放置?120mm的样品、载玻片，旋转速度0-30rpm7、加热温度：RT-180℃，测温、控温8、膜厚控制仪：石英晶振膜厚控制仪，膜厚测量范围0-999999A

双靶磁控溅射镀膜仪双靶磁控溅射镀膜仪为我公司研发的配有两个靶位的小型实验室用镀膜仪，可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜等。磁控溅射相较于普通的等离子溅射拥有能量高速度快的优点，镀膜速率高，样品温升低，是典型的高速低温溅射。磁控靶配有水冷夹层，水冷机能够有效的带走热量，避免热量在靶面聚集，使磁控镀膜能长时间稳定工作。与同类设备相比，这款双靶磁控溅射镀膜仪不仅应用广泛，且体积小便于操作，是一款实验室制备薄膜的理想设备。技术参数：项目明细供电电压AC220V，50Hz整机功率3KW极限真空度10-6torr载样台参数尺寸φ140mm加热温度最高500℃控温精度±1℃转速技术参数： 1-20rpm可调磁控溅射头参数数量2个2”磁控溅射头冷却方式水冷，所需流速10L/min水冷机规格16L/min流速的循环水冷机真空腔体腔体尺寸φ300mm X 300mm H腔体材料不锈钢观察窗口φ100mm开启方式上顶开式，便于更换靶材气体流量控制器4路分别通N2，Ar，O2，空气； 量程均为0-500sccm真空泵配有一套分子泵系统，抽速600L/S膜厚仪石英振动薄膜测厚仪一台，分辨率0.10 ?溅射电源直流电源一台，500W，适用于制备金属膜射频电源一台，300W，适用于非金属镀膜操作方式面板按钮操作整机尺寸1400mm X 750mm X 1300mm整机重量300kg

派瑞林镀膜的方式为气相沉积CVD，其防护性能明显优于喷漆、环氧、电镀等传统三防工艺，广泛应用于电路板PCBA、线圈马达、硅橡胶制品、磁性材料、LED/OLED、传感器、电池、医疗产品等，上述产品经parylene镀膜后可起到防水、耐腐蚀、耐高压、耐盐雾的作用，可大大提高产品性能，延长使用寿命。 此设备适用于磁性材料、橡胶件、金属件、电路板、医疗器械等产品的立式固定涂敷，以达到防霉菌、防潮湿、防盐雾的三防效果，并且对于磁性材料、电路板等产品也有较理想的耐压功能，延长产品的寿命，提高产品可靠性

产品型号：ei-501 本设备是用于在半导体或特种材料基板上进行金属、ITO等材料蒸镀的批处理式高真空蒸发镀膜设备。可通过触摸屏进行集中操作控制，自动完成从真空排气至镀膜的所有过程。适用于半导体、LED、电力电子等行业芯片的科研及小批量生产。 ※产品优点 ※产品用途◆占地面积小 ◆Power device ◆易操作&易管理 ◆LED，LD行业◆高生产量 ◆研究开发◆设备构造简洁，便于安装维护 ◆电力电子行业 ※产品特征 ◆可以搭载多种蒸发源(EB，RH、EB+RH等) ◆可以搭载多种夹具，对应不同工艺(lift-off, planetary,satellite 等). ◆可以搭载多种基板 基板尺寸从2寸到6寸，基板材料为硅，玻璃 ◆等可以通过LCD 触摸屏进行操作 ◆PC控制系统以及各种功能(工艺参数，记录数据，维护保养) ※内部结构 ※产品配置

派瑞林镀膜的方式为气相沉积CVD，其防护性能明显优于喷漆、环氧、电镀等传统三防工艺，广泛应用于电路板PCBA、线圈马达、硅橡胶制品、磁性材料、LED/OLED、传感器、电池、医疗产品等，上述产品经parylene镀膜后可起到防水、耐腐蚀、耐高压、耐盐雾的作用，可大大提高产品性能，延长使用寿命。 此设备适用于磁性材料、橡胶件、金属件、电池等产品的滚动涂敷，以达到防霉菌、防潮湿、防盐雾的三防效果，并且对于电池等产品也有较好的耐压功能，延长产品的寿命，提高产品可靠性。

派瑞林真空镀膜机用独特的真空气相沉积工艺制备，由活性小分子在基材表面“生长〞出完全敷形的聚合物薄膜涂层 ，具有其他涂层难以比拟的性能优势。它能涂敷到各种形状的表面，包括尖说的校边 ，裂缝里和内表面。可应用于航空航天、新能源汽车、电路板、磁性材料、传感器、硅橡胶、密封件、医疗器械等行业，具有广阔的市场前景。这款MQP-3001小设备腔体小，均匀性良好，适合科研单位进行实验研究，操作简便，稳定性强。公司始终以信誉求发展，以质量求生存为宗旨，坚持以人为本，与时俱进科技创新，公司将一如既往，努力打造优良品牌，同时也真诚地为用户提供周详的服务．有充足的技术及生产加工能力，欢迎广大客户选购本公司真空镀膜设备和派瑞林（Parylene）原材料以及来件涂层加工。

金属镀膜设备是实验室常用的镀膜设备，是一种溅射工艺.AJA成立后2年内，AJA就研发出了的ATC系列溅射系统，共焦溅射设备，带旋转基片和原位偏转磁控溅射靶源。技术突破实现了薄膜均匀性，并且可以控制单层、多层以及合金薄膜沉积。AJA专注磁控镀膜及PVD领域长达30多年，在各类别细分领域应用方面从研发到兼顾批产有着稳定的经验。AJA不仅提供成熟的研发和批量工艺，并且在的研究和应用领域，比如：声学膜、光学膜、磁学电学复合或多层多类别单膜、金属膜及合金薄膜等方面均有好的应用。其磁控核心部件如靶枪等更是广为使用。在集成化，多腔室应用方面，AJA也足具经验，从实验室到新兴材料电子行业都在积极吸收和采纳AJA的解决方案。AJA进入中国市场首先以客户（科研院所和企业）为主要应用，其中有接近一半是用户慕名主动采购。

1.产品概述MS450多靶磁控溅射镀膜系统由沈阳科友仪器等制造商生产，是一款集高真空、多靶材、磁控溅射技术于一体的镀膜设备。该系统能够在所需基材上沉积多种类型的涂层，包括耐磨损涂层、自润滑涂层、抗腐蚀涂层、抗高温氧化涂层、透明导电涂层等，广泛应用于高校、科研院所的教学、科研实验及生产型企业期探索性实验及开发新产品等。2.产品组成MS450多靶磁控溅射镀膜系统主要由以下几个部分组成：真空室：提供高真空环境，确保镀膜过程中的气体分子干扰小化。溅射靶枪：内置多种靶材，如金属、陶瓷等，通过磁控溅射技术将靶材原子溅射到基材表面。溅射电源：提供稳定的电源供应，支持直流(DC)、中频(MF)、射频(RF)等多种溅射模式。加热样品台：用于加热基材，提高镀膜质量和附着力。流量控制系统：精确控制工艺气体的流量和压强，确保镀膜过程的稳定性和可控性。真空获得系统：包括真空泵等组件，用于将真空室抽至高真空状态。真空测量系统：实时监测真空室内的气体压力等参数。气路系统：用于向真空室内通入工艺气体，如氩气等。PLC+触摸屏自动控制系统：实现设备的自动化控制和操作，提高工作效率和镀膜质量。3.工作原理MS450多靶磁控溅射镀膜系统的工作原理基于磁控溅射技术。在镀膜过程中，电子在电场的作用下飞向基片，并与氩原子发生碰撞，使其电离产生出Ar正离子和新的电子。Ar正离子在电场的作用下加速飞向阴靶，并以高能量轰击靶表面，使靶材发生溅射。溅射出的靶原子或分子在基片表面沉积成膜。同时，二次电子在电场和磁场的作用下产生E×B漂移，被束缚在靠近靶表面的等离子体区域内，电离出更多的Ar正离子来轰击靶材，从而实现高的沉积速率。4.技术特点多靶材选择：支持多种靶材的溅射镀膜，满足不同材料的镀膜需求。高真空环境：提供高真空环境，确保镀膜过程的稳定性和镀膜质量。高精度控制：通过PLC+触摸屏自动控制系统实现设备的精确控制和操作。高沉积速率：利用磁控溅射技术实现高的沉积速率和均匀的膜层质量。广泛适用性：适用于金属、陶瓷、玻璃等多种基材的镀膜处理。5.应用域MS450多靶磁控溅射镀膜系统广泛应用于以下域：材料科学：用于开发纳米单层、多层及复合膜层等新型材料。电子工程：制备金属膜、合金膜、半导体膜等电子材料，应用于太阳能电池、OLED等域。工业生产：在汽车零部件、航空航天器件等域制备耐磨损、抗腐蚀等高性能涂层。综上所述，MS450多靶磁控溅射镀膜系统以其先进的技术特点和广泛的应用域，在材料科学和工业生产中发挥着重要作用。

日本原装实验室/研发专用台式浸渍提拉镀膜仪， Z轴和X轴双轴控制，具有提拉角度调节功能。ND-0407-S5日本热销的超低速浸渍提拉镀膜仪，它可以通过控制工作两轴和θ角以及对角线提拉来调节提拉角度。客户的需求：对基材进行垂直、高精度、超低速镀膜以改变提拉角度和溶液的密度对基材进行镀膜两种液体交替对基材进行镀膜在提拉途中，通过改变提拉速度来控制膜厚 ND-0407-S5能够满足客户的需求：可以提供超低速的常规垂直镀膜可以通过调整θ角来获取提拉角度可以采用不同的液体（例如交替吸附等）进行镀膜独立运动和复合运动均可操作（在两个轴上）具有可以连续点运行的新功能 产品特点：可以对玻璃、有机玻璃、铜箔、管状材料等基材以纳米速度（变速单位：1nm）进行浸渍镀膜。适用于纳米级薄膜、蛋白石薄膜的形成和粒子阵列的生成等。采用触控面板操作方式，在触控面板上，可以轻松完成设置速度变化点(最多16个点)、速度变化(以1nm为单位)、重复运动、运动模式记忆(最多8个模式)的操作。双轴同步操作和单轴单独运行操作都可以轻松完成。触控面板采用日语、英语两种语言，且可以一键式切换。 产品应用： 主要用于溶胶-凝胶法等液相法制备薄膜材料。 工作原理：浸渍提拉镀膜仪的原理是将基材垂直浸入镀膜溶液(溶胶)中浸渍，然后将基材从溶液中垂直低速提拉起来，并使附着的液膜在空气（气相）中凝胶的方法。浸渍提拉法的具体工艺流程如下：1. 将基材垂直浸入镀膜溶液（溶胶）中浸渍。2. 利用镀膜溶液的粘度、表面张力和重力之间的相互作用开始提拉，提拉过程必须保证液面无振动，且基材垂直、匀速、平稳、连续上升，从而确保在基材表面形成连续、均匀的薄膜。3. 基材的提拉速度与镀膜溶液的粘度和附着液向下流动的重力之间的关系，控制着镀膜的厚度；4. 形成均匀的薄膜，并完成“湿凝胶膜”向“干凝胶膜”的转变。”干凝胶膜”经过进一步的干燥及高温热处理便得到所需的纳米薄膜材料。 技术参数：行程：Z轴：100mm；X轴：100mm速度(Min)：1nm/s速度(Max)：60mm/s操作方法：触控面板屏幕显示语言：英文/日文处理速度指定数量：16个停止位置指定数量：16个停止时间指定数量：16个连续运行模式：有手动运行模式：有存储程序的数量：8个程序监控功能(当前速度):有监控功能(当前位置):有剩余监控时间：有重复运行：有标准夹具：材料：聚丙烯(PP)电源：AC100V、300VA承重量(max)：500g处理尺寸(max)：100mm(H）线性运行模式：无设备尺寸(mm)：442(W)×250(D)×451(H)控制箱尺寸(mm):300(W)×285(D)×163(H)备注：※线性运行模式是指改变速度时，停止时间为零秒。※手动运行模式是指以设定的速度进行上升/下降运行（上升速度和下降速度的另一种设置）。

基本介绍产品描述 手套箱蒸镀一体机 工作原理 本系统由真空镀膜系统和手套箱系统集成而成，可在高真空蒸镀腔室中完成薄膜蒸镀，并在手套箱高纯惰性气体氛围下进行样品的存放、制备以及蒸镀后样品的检测。性能特点蒸发镀膜与手套箱组合，实现蒸镀、封装、测试等工艺全封闭制作，使整个薄膜生长和器件制备过程高度集成在一个完整的可控环境氛围的系统中，消除有机大面积电路制备过程中大气环境中不稳定因素影响，保障了高性能、大面积有机光电器件和电路的制备。技术参数材料：304不锈钢，厚度3mm 外表面：304不锈钢 内表面：油膜拉丝面使用说明设备用途 主要用于太阳能电池钙钛矿、OLED和PLED、半导体制备等实验研究与应用。 采购须知面议

Ossila公司浸渍提拉镀膜机英国Ossila公司浸渍提拉镀膜机性能卓越，内置软件，操作简单，价格经济，为科研领域工作者提供一款理想的适用于液相镀膜制备而设计的精密仪器。目前在化学、材料科学的研究中，被广泛应用于溶胶-凝胶（sol-gel）法薄膜材料制备。如硅片、晶片、玻璃、陶瓷、金属等所有固体材料表面薄片材料镀膜工艺，可以控制膜片提出速度，进而控制涂层厚度，保证良好重复性。提供2年的质保，为使用者提供更高的保障。功能特征u 高精度电机---Ossila浸渍提拉镀膜机采用高精度电机，样品浸渍重复性好。u 平滑运动---Ossila浸渍提拉镀膜机采用微频步进电机，基片浸入、提出过程平滑准确，保证浸渍镀膜效果。u 基片兼容性好---各种尺寸、形状和材质的基片都可以，兼容性好。u 浸渍速度可设置范围广---Ossila浸渍提拉镀膜机基片浸提速度自0.01mm/秒至50mm/秒可设置。只需一台浸渍提拉镀膜机,便可以实现不同厚度的浸渍镀膜效果。u 形体小巧---Ossila浸渍提拉镀膜机占地面积小，只需20cmx30cm空间即可工作，适合大多数实验室。u 坚固耐用，防滑式设计---Ossila浸渍提拉镀膜机采用防滑台脚设计，具有牢牢的抓地功能，避免工作过程不会发生位移。u 软件操作简单---Ossila浸渍提拉镀膜机的内置软件(不需外接电脑)可以实现手动和自动控制。用户界面友好，实验编程和参数设置简单。样品的浸入速度、停留时间、提出速度、干燥时间等整个浸渍过程都是可调可控。手动浸渍情况下，用户可独立设置系统的样品浸入和提出。u 全彩显示屏---任何照明条件下、无论从任何角度，彩色显示屏都有良好的可识别性，视觉舒适性好。u 内置安全措施----Ossila浸渍提拉镀膜机内置软件多种安全保护，包括基于软件的碰撞探测功能，为用户提供高级别的安全性。当基片或工作臂碰到提拉镀膜机底座或烧杯底时系统自动停止工作。降低样品、玻璃容器或提拉机本身受损的风险。u 样品提出速度可变---样品提出速度在整个基片长度范围内可调整，以达到不同涂层厚度梯度效果，快速优化胶片厚度。u 用户协议可保存---Ossila浸渍提拉镀膜机可以存储20个不同的用户协议，每个协议可设置保存20个不同的步骤编程，可随时调用，节省时间，尤其适用于多个科学家共用一台设备的非常繁忙的实验室。u 快速释放夹---用户可以快速往工作臂上加样和卸样。u 标尺的磁铁固位---夹子下方有内置磁铁块，可以很方便地将金属标尺固定到位，便于测量(标尺是标配)。技术规格v 最小提取速度：0.01mm.s-1。v 提取速度：50 mm s-1。v 速度再重现性：±0.01%@1mms-1，±0.1% @10mm.s-1，± 0.3% @ 50mm.s-1。v 最长行程：100 mm。v 循环次数：1000个循环。v 定时器最长可设置时间：99:59:59 (时:分:秒)。v 内置软件特征：提出速度可变，重复循环，碰撞检测功能。v 程序数量：20。v 电源：DC24V。v 产品整体尺寸：宽200mmx高350mm (450mm完全展开)x长300mm。v 运输重量5kg。

SD-800C型热蒸发镀膜仪把待镀膜的基片或工件置于真空室内，通过对镀膜材料加热使其蒸发气化而沉积与基体或工件表面并形成薄膜或涂层的工艺过程。通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面，称为热蒸发镀膜，热蒸发镀膜技术是历史最悠久的镀膜技术之一。SD-800C型热蒸发镀膜机一般主要用于蒸发碳。使用超纯的碳纤维绳为严格的高分辨扫描电镜、透射电镜、EBSD及探针分析提供高质量的镀膜处理。因为碳原子能够直接沉积在样品表面而不发生横向移动，所以碳能够形成小于1nm的颗粒。参数： 仪器尺寸 ： 340mm×390mm×300mm（W×D×H） 真空样品室： 硼硅酸盐玻璃 170mm×130mm（D×H） 蒸发材料: 碳纤维双丝可A\B分别选择 操作真空： 4×10-2mbar 工作电压： 0-30V /AC 蒸碳电流： 0-100A 蒸碳时间： 0-1s 真空泵： 2升两级机械旋转泵(国产飞越VRD-8)特点：1、简单、经济、可靠、外观精美。2、真空保护可避免真空过低造成设备短路。3、碳纤维绳更加细腻均匀、快速，更有利于分析材料结构。

产品简介：磁控溅射卷绕镀膜机是磁控溅射多用途卷绕镀膜设备，适用于在 PET 和无纺布上镀制金属膜（铜，铝等）功能性薄膜，设备采用先进的磁控溅射镀膜技术，配备直流、射频磁控溅射系统，适合镀制软磁合金膜、金属膜、导电膜、合金膜、介质膜等。技术参数卷膜条件镀膜材料：PET 和无纺布适用制膜：软磁合金膜、金属膜、导电膜、合金膜、介质膜等。基材厚度：125～300μm有效镀膜宽幅：≤800 mm最大卷绕直径：Φ400 mm卷绕芯轴内径：4 寸基材卷绕速度：1～2 m/min基材卷绕张力：30 ～ 200 N张力系统：交流伺服溅镀方式：单面真空条件极限真空（空载、洁净）：8×10-4Pa恢复真空时间（空载、清洁）：105Pa ～ 5×10-3Pa≤60 min系统真空漏率：1.0×10-10 Pa.m3/s磁控溅射阴极数量：3 个膜均匀性偏差：≤±10%

六源有机无机联合蒸发镀膜设备适用于制备金属单质薄膜、半导体薄膜、氧化物薄膜、有机薄膜等，可用于科研单位进行新材料、新工艺薄膜研究工作，也可用于大批量生产前的试验工作。OPV系列真空蒸发镀膜与手套箱联合系统的用户群体为科研院所及实验室，将真空蒸发系统工作室置于Glove box无水、无氧、无尘的超纯环境中，PVD与Glove box硬件无缝对接，操控融合一体，广泛应用于有机、无机、钙钛矿薄膜太阳能电池、OLED等研究领域。产品型号六源有机无机联合蒸发镀膜设备主要特点1、样品在镀膜过程中，带有烘烤加热功能，最高烘烤加热温度为：室温～180℃，测温控温。2、设备带有断水断电连锁保护报警装置、防误操作保护报警装置。技术参数1、镀膜室：镀膜腔室尺寸约为600×450×450mm，不锈钢材料，方形前后开门结构，内带有防污板。2、抽气系统：采用分子泵+机械泵抽气系统： 真空度：镀膜室的极限真空≤6×10-4Pa； 系统漏率≤1×10-7PaL/s。3、蒸发源系统： 有机源蒸发源4个，容积5ml，2台蒸发电源，可测温控温，加热温度400℃，功率0.5Kw； 挡板：蒸发源挡板采用自动磁力控制方式，控制其开启； 安装：蒸发源安装在真空室的下底上。4、样品架系统：样品架可放置大小为Φ120mm的样品，载玻片；样品架可旋转，旋转速度为：0～30转/分；安装：样品安装在真空室的上盖上，蒸发源安装在真空室的下盖上，向上蒸发镀膜，蒸发源都带有挡板装置。7、 5、无机蒸发源2套、容积5ml，2台蒸发电源，加热电流300A，功率3.2Kw；8、 6、石英晶振膜厚控制仪：膜厚测量范围0-999999?。

真空镀膜系统MBRAUN研发出一系列镀膜系统，配合多种可选配件和定制化方案，用于多种镀膜工艺领域中. MBRAUN的镀膜系统可集成多种主流蒸镀工艺，如热蒸镀、温控蒸镀(用于有机材料)、电子束蒸发等一体化方案；以及射频、直流或脉冲直流磁控溅射以及被动式磁控溅射等.OPTIvap模块化设计可单独使用(S)或集成于手套箱(G)不同的模块之间可实现自由组合多基板&多掩模工艺一致性标准偏差在+/-3 %区间(几何式设计可缩小至+/-1 %)OPTIvap 4可用于大小150x150 mm或直径150 mm (6英寸)的基板OPTIvap 6可用于大小200x200 mm 或直径280 mm (8英寸)的基板 应用：复杂的多层镀膜设备(用于OLED,OPV)光学镀膜光伏、半导体行业

小型高真空不锈钢腔体热蒸发镀膜仪CY-EVP180G-HV本仪器是一款高真空紧凑型热蒸发镀膜仪，蒸发温度从200℃到1700℃，采用钨丝篮作为蒸发源，蒸发源外套高纯氧化铝坩埚。上盖装有可旋转的样品台，能够有效提高成膜的均匀度。仪器拥有高精度的温度控制系统，采用循环加热方式，能够稳定蒸发金属及有机物。采用不锈钢高真空腔体设计，配高精度分子泵，能够达到高真空要求，较高的真空度能够有效提升蒸发镀膜的效率及质量小型高真空热蒸发镀膜仪用途： 本仪器适用于蒸发涂覆大多数金属和某些有机材料薄膜。

. 1适用于铟等金属材料的蒸发镀膜2. 由真空镀膜室、蒸发源、工件架、分子泵真空获得和测量系统、膜厚控制仪、机架及电气控制系统等组成3. 配置多组蒸发源，均有电动挡板，多个水冷电极，蒸发源交替使用4. 工件架可放置不同尺寸样品，镀膜均匀性良好，蒸发距离较远，转速连续可调，样品盘水冷