电子探针分析

电子探针简介：电子探针(EPMA)是用极细的电子束对样品表面进行照射产生特征性X射线，对特征性X射线进行分光和强度测定，得到微小区域的元素组成及样品表面元素浓度分布的分析装置。EPMA 采用波长色散型X 射线分光器（WDS），与能量色散型X 射线分光器（EDS）相比，具有高分辨率的特点。因此，EPMA与扫描型电子显微镜（SEM）配置EDS 检测器比较，可以进行更高精度和更高灵敏度的分析。 技术特点：岛津电子探针EPMA-1720系列优势在于传承52.5°的高X射线取出角技术，可以进行高灵敏度的X射线测定。高速稳定驱动的样品台，可以高精度设定分析位置和分析区域。配备各种自动功能和联动功能，电子束的设定简单易行。集多年分析经验于一体的控制?分析软件，实现了从数据采集到数据解析及报告制作的清晰易懂、操作便捷的良好操作环境。对于初学者，装备了从SEM 观察到定性分析?成图分析的简易可行的简单模式。数据浏览程序可以方便地进行数据的批次管理。

岛津场发射电子探针EPMA-8050G 开创新纪元——卓越的空间分辨率与超高灵敏度的完美结合 “The Grand EPMA” 诞生搭载最尖端场发射电子光学系统将岛津EPMA分析性能发挥到极致。从SEM观察条件到1μA量级，在各种束流条件下都拥有无与伦比卓越空间分辨率的尖端场发射电子光学系统。结合岛津传统的高性能X射线谱仪，将分析性能发挥至极致。 当之无愧的 “The Grand EPMA” ，最高水准的EPMA诞生！ [性能特点]● 卓越的空间分辨率电子探针可达到的最高级别的二次电子图像分辨率3nm（加速电压30kV），分析条件下No.1的二次电子分辨率。（加速电压10kV时20nm@10nA/50nm@100nA/150nm@1μA）● 大束流超高灵敏度分析实现3.0μA（加速电压30kV）的最大束流。可超高灵敏度进行超微量元素的面分析。并且全束流范围无需更换物镜光阑。● 高性能X射线谱仪秉承岛津电子探针颇具优势的52.5°X射线取出角。采用4英寸罗兰圆半径的分光晶体兼顾高灵敏度与高分辨率。可同时搭载5通道高性能X射线谱仪。分析性能更胜一筹。● 全部分析操作简单易懂全部操作仅靠一个鼠标就可进行的先进可操作性。追求「易懂」的人性化用户界面。搭载导航模式，自动指引直至生成报告。 ◎实现微区超高灵敏度分析的先进技术 1　高亮度肖特基发射体岛津场发射电子枪采用的肖特基发射体比一般传统SEM使用的发射体针尖直径更大，输出更高。即可以保持其高亮度，还可提供高灵敏度分析不可缺少的稳定大电流。 2　 EPMA专用电子光学系统电子光学系统，聚光透镜尽可能的接近电子枪一侧，交叉点不是靠聚光透镜形成，而是由安装在与物镜光阑相同位置上，具有独立构成与控制方式的可变光阑透镜来形成交叉点的。简单的透镜结构，既能获得大束流，同时全部电流条件下设定最合适的打开角度，将电子束压缩到最细。当然是不需要更换物镜光阑的。3　超高真空排气系统电子枪室、中间室、分析腔体之间分别安装有筛孔（orifice）间隔方式的2级差动排气系统。中间室与分析腔体间的气流孔做到最小，以控制流入中间室的气体，使电子枪室始终保持着超高真空，确保发射体稳定工作。4　高灵敏度X射线谱仪岛津场发射电子探针最多可同时搭载5通道兼顾高灵敏度与高分辨率的4英寸X射线谱仪。52.5°的X射线取出角在提高了X射线信号的空间分辨率的同时，又可减小样品对X射线的吸收，实现高灵敏度的分析。 [应用举例] 1. 岛津场发射电子探针EPMA-8050G检测：无铅焊锡焊料中Ag与Cu的分布对无铅焊锡焊料中大量含有Ag的区域进行面分析的数据。（加速电压：10kV；照射电流：20nA）Ag的X射线像中颗粒形状与BSE像（COMPO）的颗粒形状一致。直径约0.1μm的Ag颗粒也清晰可辨（红色虚线圈出）。同时可确认Cu颗粒的存在（黄色虚线圈出）。 岛津场发射电子探针EPMA-8050G应用数据 2. 岛津场发射电子探针EPMA-8050G检测：生物体组织中的金属元素 以下数据为EPMA捕捉到的肿瘤细胞中铂（Pt）元素图像，通过靶向给药将抗肿瘤药物卡铂（铂络合物）导入小鼠头颈部肿瘤组织中后进行分析检测。卡铂通过与癌细胞内的遗传因子DNA链结合，阻碍DNA的分裂（复制）以杀灭癌细胞，我们可以通过元素图像了解抗癌药物以何种形态进入癌细胞内。 岛津场发射电子探针EPMA-8050G应用数据

电子探针是电子光学产品中唯一进行准确定量分析的仪器，利用波谱的高分辨率和能谱的高速度，可以很快将材料中的成份进行精准分析。 详情请咨询捷欧路（北京）科贸有限公司各分公司。

可以安装通用性强、使用方便的能谱仪X射线探测器，组合使用WDS和EDS，能提供无缝、舒适的分析环境。日本电子新开发出的EPMA （电子探针）秉承近半个世纪的EPMA的发展历史，JXA-8230具备用户友好的操作、通过新式简单易用的PC 用户界面提供完整范围的高精度、快速分析，这是JEOL长年来对高可靠性硬件不断改良的结果。JXA-8230电子探针是下一代能完全满足多种需求的强力分析工具之一。EPMA快速启动点击任何一点，就能开始预设的EDS定性、定量分析或WDS分析。用户菜单（User recipes）能保存或调用经常使用的各种不同类型的样品分析条件，菜单中包括了全部的电子光学参数、EDS和WDS参数在内。EDS 的性能数字化脉冲处理器全谱面分布(WD/ED, 样品台和电子束扫描)无风扇SDD (选配)产品规格检测元素范围 WDS：(Be)*1 /B～U, EDS：B～UX射线检测范围 WDS检测的波长范围: 0.087～9.3nm,EDS EDS检测的能量范围: 20keV分光谱仪数量 WDS: 1～5道可选、EDS: 1台，zui大样品尺寸 100mm × 100mm × 50mm（H）加速电压 0.2～30kV（以0.1 kV为步长）束流电流范围 10-12 ～ 10-5 A束流电流稳定度 5%/h, ±0.3%/12h（W）二次电子分辨率 6nm（W）, 5nm（LaB6）*2（W.D. 11mm, 30kV）扫描倍率 ×40 ～ ×300,000（W. D. 11mm）扫描图像分辨率 zui大 5,120× 3,840彩色显示器 EPMA分析用: LCD 1,280 × 1,024SEM操作、 EDS分析用: LCD 1,280 × 1,024*1: 需安装用于Be分析的选配分光晶体。*2: LaB6 为选配。

以场发射 (FE) 电子枪为特色的JEOL电子探针显微分析仪（ EPMA），带来了表面分析世界。JXA-8530F在继承了JXA-8500F的强力硬件（包括 FE 电子枪、电子光学系统和真空系统）的同时，采用电脑操作进行数据的采集和分析，实现了微区分析。友好的PC控制操作环境，使得在极高的放大倍数下能够便利地进行快速、便捷的分析。 - PC平台操作 - 用FE电子枪进行高空间分辨率成像 - “Click Point Analysis”功能和用户菜单（User,s recipe） - 先进的操作 - WD/ED组合系统

岛津场发射电子探针EPMA-8050G 开创新纪元——卓越的空间分辨率与超高灵敏度的完美结合 “The Grand EPMA” 诞生搭载最尖端场发射电子光学系统将岛津EPMA分析性能发挥到极致。从SEM观察条件到1μA量级，在各种束流条件下都拥有无与伦比卓越空间分辨率的尖端场发射电子光学系统。结合岛津传统的高性能X射线谱仪，将分析性能发挥至极致。 当之无愧的 “The Grand EPMA” ，最高水准的EPMA诞生！ [性能特点]● 卓越的空间分辨率电子探针可达到的最高级别的二次电子图像分辨率3nm（加速电压30kV），分析条件下No.1的二次电子分辨率。（加速电压10kV时20nm@10nA/50nm@100nA/150nm@1μA）● 大束流超高灵敏度分析实现3.0μA（加速电压30kV）的最大束流。可超高灵敏度进行超微量元素的面分析。并且全束流范围无需更换物镜光阑。● 高性能X射线谱仪秉承岛津电子探针颇具优势的52.5°X射线取出角。采用4英寸罗兰圆半径的分光晶体兼顾高灵敏度与高分辨率。可同时搭载5通道高性能X射线谱仪。分析性能更胜一筹。● 全部分析操作简单易懂全部操作仅靠一个鼠标就可进行的先进可操作性。追求「易懂」的人性化用户界面。搭载导航模式，自动指引直至生成报告。 ◎实现微区超高灵敏度分析的先进技术 1　高亮度肖特基发射体岛津场发射电子枪采用的肖特基发射体比一般传统SEM使用的发射体针尖直径更大，输出更高。即可以保持其高亮度，还可提供高灵敏度分析不可缺少的稳定大电流。 2　 EPMA专用电子光学系统电子光学系统，聚光透镜尽可能的接近电子枪一侧，交叉点不是靠聚光透镜形成，而是由安装在与物镜光阑相同位置上，具有独立构成与控制方式的可变光阑透镜来形成交叉点的。简单的透镜结构，既能获得大束流，同时全部电流条件下设定最合适的打开角度，将电子束压缩到最细。当然是不需要更换物镜光阑的。3　超高真空排气系统电子枪室、中间室、分析腔体之间分别安装有筛孔（orifice）间隔方式的2级差动排气系统。中间室与分析腔体间的气流孔做到最小，以控制流入中间室的气体，使电子枪室始终保持着超高真空，确保发射体稳定工作。4　高灵敏度X射线谱仪岛津场发射电子探针最多可同时搭载5通道兼顾高灵敏度与高分辨率的4英寸X射线谱仪。52.5°的X射线取出角在提高了X射线信号的空间分辨率的同时，又可减小样品对X射线的吸收，实现高灵敏度的分析。 [应用举例] 1. 岛津场发射电子探针EPMA-8050G检测：无铅焊锡焊料中Ag与Cu的分布对无铅焊锡焊料中大量含有Ag的区域进行面分析的数据。（加速电压：10kV；照射电流：20nA）Ag的X射线像中颗粒形状与BSE像（COMPO）的颗粒形状一致。直径约0.1μm的Ag颗粒也清晰可辨（红色虚线圈出）。同时可确认Cu颗粒的存在（黄色虚线圈出）。 岛津场发射电子探针EPMA-8050G应用数据 2. 岛津场发射电子探针EPMA-8050G检测：生物体组织中的金属元素 以下数据为EPMA捕捉到的肿瘤细胞中铂（Pt）元素图像，通过靶向给药将抗肿瘤药物卡铂（铂络合物）导入小鼠头颈部肿瘤组织中后进行分析检测。卡铂通过与癌细胞内的遗传因子DNA链结合，阻碍DNA的分裂（复制）以杀灭癌细胞，我们可以通过元素图像了解抗癌药物以何种形态进入癌细胞内。 岛津场发射电子探针EPMA-8050G应用数据

日本电子JEOL场发射电子探针显微分析仪 JXA-iHP200FJXA-iHP200F在保持高局部微量元素分析性能的同时，追求每个人都能简单快速地使用好仪器。该仪器能更加有效地进行观察分析和操作，是更先进的一体化集成FE-EPMA。 产品规格：检测元素范围：WDS: Be＊1 / B to U, EDS: Be to U检测X-ray 范围：波长范围WDS: 0.087 to 9.3 nm能量范围EDS: 20 keV谱仪数：WDS: 最多5个可选, EDS: 1个最大样品尺寸：100 mm × 100 mm × 50 mm (H)加速电压：1 to 30 kV (0.1 kV steps)探针电流范围：1 pA to 3 μA探针电流稳定性：± 0.3％ / h, ± 1.0％ /12 h＊2二次电子像分辨率（观察模式）：2.5 nm二次电子像分辨率（分析模式下）： 20 nm（ 10 kV, 10 nA） 50 nm（ 10 kV, 100 nA）扫描放大倍率：×40 to 300,000 (W.D. 11 mm)扫描图像分辨率：Maxium 5,120 × 3,840产品特点：电子探针显微分析仪在钢铁、汽车、电子零件和电池材料等各种工业领域，作为研究开发和品质保证的分析工具被广泛使用，其用途越来越广。此外，在学术领域 ，地球空间科学、材料科学领域也在广泛使用，矿物等资源能源研究、各种新型材料研究等，期待在各种各样前沿研究中做出贡献。与此相应，在保持高局部微量元素分析性能的同时，追求每个人都能简单快速地使用好仪器。JXA-iHP200F能更加有效地进行观察分析操作，是更先进的一体化集成场发射EPMA。* EPMA是Electron Probe Microanalyzer简称◇ [Setting] 自动定位，准确安装样品台！迅速找到想观察的点！进样和获取样品台导航像一键完成。从导航像能够指定分析区域。◇ [Analysis] 充分的自动功能，谁都可以拍到高级的SEM像繁琐的设定也能对应，EPMA立马进行元素分析光学显微镜的自动聚焦功能与配备高精度/高速化新系统的SEM自动功能相结合，任谁都可以拍到高级的SEM像。【live Analysis】通过【live Analysis】能够在观察中进行筛选分析。初学者也能操作的【简单的EPMA】。用【EPMA-XRF integration】在XRF数据的基础上能够进行EPMA的条件设定。用【WD/ED integration】能够缩短分析时间。SEM、EDS、XRF、WDS、光学像的集成一体化提高了仪器的操作性能。 通过WD/ED integration，分析时间缩短的例子integration：用这些仪器推定的元素在一体化EPMA上可以一键设定分光晶体的组合◇ [Self Maintenance] 内置18种类校正样品，有效进行校正配置【分光器校正功能】减轻了定期进行分光器校正的作业而且也避免了校正样品设定时的人为失误；利用夜间对仪器进行校正，提高了工作效率。按照【维护通知功能】，在必要时期对仪器进行自我维护，保持设备最佳状态。 维护通知功能【客户支持工具】◇ 标配场发射电子枪能够在高倍率下获得高空间分辨率的SEM像和分析结果。在大电流下保持长时间稳定的热电子枪在短时间内分析微量元素的时候、整夜运行分析大量样品的时候显示出它的威力。

产品详情JXA-iHP100 电子探针显微分析仪 可以安装通用性强、使用方便的能谱仪X射线探测器，组合使用WDS和EDS，能提供无缝、舒适的分析环境。 产品规格：检测元素范围WDS：(Be)*1 /B～U, EDS：B～UX射线检测范围WDS检测的波长范围: 0.087～9.3nm,EDS EDS检测的能量范围: 20keV分光谱仪数量WDS: 1～5道可选、EDS: 1台最大样品尺寸100mm × 100mm × 50mm（H）加速电压0～30kV（以0.1 kV为步长）束流电流范围10-12 ～ 10-5 A束流电流稳定度5%/h, ±0.3%/12h（W）二次电子分辨率6nm（W）, 5nm（LaB6）*2（W.D. 11mm, 30kV）扫描倍率×40 ～ ×300,000（W. D. 11mm）扫描图像分辨率最大 5,120× 3,840彩色显示器EPMA分析用: LCD 1,280 × 1,024SEM操作、 EDS分析用: LCD 1,280 × 1,024光学显微镜分辨率～1um焦深1um真空系统机械泵、分子泵、离子泵 *2真空度样品室: 优于8.0 x 10-4Pa,电子枪: 优于9.0 x 10-5Pa 产品特点： 可以安装通用性强、使用方便的能谱仪X射线探测器，组合使用WDS和EDS，能提供无缝、舒适的分析环境。 日本电子新开发出的EPMA （电子探针）秉承近半个世纪的EPMA的发展历史，JXA-iHP100具备用户友好的操作、通过新式简单易用的PC 用户界面提供完整范围的高精度、快速分析，这是JEOL长年来对高可靠性硬件不断改良的结果。JXA-iHP100电子探针是下一代能完全满足多种需求的强力分析工具之一。 EPMA快速启动 点击任何一点，就能开始预设的EDS定性、定量分析或WDS分析。 用户菜单（User recipes） 能保存或调用经常使用的各种不同类型的样品分析条件，菜单中包括了全部的电子光学参数、EDS和WDS参数在内。 EDS 的性能 数字化脉冲处理器 全谱面分布(WD/ED, 样品台和电子束扫描) 无风扇SDD (选配)

电子探针是电子光学产品中唯一进行准确定量分析的仪器，利用波谱的高分辨率和能谱的高速度，可以很快将材料中的成份进行精准分析。 详情请咨询捷欧路（北京）科贸有限公司各分公司。

产品详情高灵敏度 高精度 高分辨率 「简单&bull 易懂的操作」 从软件到硬件凝结的技术，铸就了新一代EPMA。岛津EPMA在保持了一贯的高灵敏度高精度高分辨率的基础上，又新增了简单易懂的操作性能，将电子探针功能发挥较好。既可满足初学者简易操作的需求，又能适合专家级的科研分析。 设计的X射线分光器可以实现高灵敏度高精度分析，X射线取出角决定分析性能，52.5°高取出角更胜一筹 图为小孔穴中异物的分析实例。左下图为铁（Fe）、右下图为钛（Ti）的元素分布。因EPMA-1720具有高取出角，对表面凹凸明显的样品也能进行高精度分析。 从SEM观察到开始分析，简便易行，大幅度提高工作效率。 同一显示器上同时显示高灵敏度的光学图像和SEM图像 在同一个显示器上观察光学图像和SEM图像。 通过高灵敏度的CCD可以观察很暗的样品SEM图像和光学图像在同一显示器上，减少视线的移动 只需单击一下即可开始SEM图像观察只需点击【SEM AUTO】图标，就可以根据事先设定的条件进行SEM图像的观察 束流变换更加简单快速高精度，且保持聚焦只需选定束流目标值即可快速、高精度地自动设定束流通过联动控制，束流大小改变后也能保持图像聚焦状态

概述“The Grand EPMA” 诞生搭载最尖端场发射电子光学系统 将岛津EPMA分析性能发挥到极致从SEM观察条件到1μA量级，在各种束流条件下都拥有无与伦比卓越空间分辨率的尖端场发射电子光学系统。结合岛津传统的高性能X射线谱仪，将分析性能发挥至极致。当之无愧的“The Grand EPMA” ，最高水准的EPMA诞生！超高分辨率面分析对碳膜上Sn球放大3万倍进行面分析。即使是SE图像（左侧）上直径只有50nm左右的Sn颗粒，在X射线图像（右侧）上也是清晰可见。最尖端技术实现■ 无与伦比卓越的空间分辨率EPMA可达到的最高级别的二次电子图像分辨率3nm（加速电压30kV）分析条件下No.1的二次电子分辨率。（加速电压10kV时20nm@10nA/50nm@100nA/150nm@1μA）■ 二次电子图像最高分辨率3nm碳喷镀金颗粒的观察实例。实现最高分辨率3nm（@30kV）。相对较高的束流也可将电子束压细聚焦，更加容易的获得高分辨率的SEM图像。■ 大束流超高灵敏度分析 实现3.0μA（加速电压30kV）的最大束流。全束流范围无需更换物镜光阑。■ 最多可同时搭载5通道高性能4英寸X射线谱仪无人可及的52.5°X射线取出角。4英寸罗兰圆半径兼顾高灵敏度与高分辨率。最多可同时搭载5通道相同规格的X射线谱仪。■ 全部分析操作简单易懂 全部操作仅靠一个鼠标就可进行的先进可操作性。追求「易懂」的人性化用户界面。搭载导航模式，自动指引直至生成报告。超高灵敏度面分析使用1μA束流对不锈钢进行5000倍的面分析。精确地捕捉到了Cr含量轻微不同形成的不同的相（左侧），同时也成功地将含量不足0.1%的Mn分布呈现在我们眼前（右侧）。实现微区超高灵敏度分析的先进技术1　高亮度肖特基发射体 场发射电子枪采用的肖特基发射体比一般传统SEM使用的发射体针尖直径更大，输出更高。即可以保持其高亮度，还可提供高灵敏度分析不可缺少的稳定大电流。2　 EPMA专用电子光学系统 电子光学系统，聚光透镜尽可能的接近电子枪一侧，交叉点不是靠聚光透镜形成，而是由安装在与物镜光阑相同位置上，具有独立构成与控制方式的可变光阑透镜来形成交叉点的（日本专利：第4595778号）。简单的透镜结构，既能获得大束流，同时全部电流条件下设定最合适的打开角度，将电子束压缩到最细。当然是不需要更换物镜光阑的。3　超高真空排气系统 电子枪室、中间室、分析腔体之间分别安装有筛孔（orifice）间隔方式的2级差动排气系统。中间室与分析腔体间的气流孔做到最小，以控制流入中间室的气体，使电子枪室始终保持着超高真空，确保发射体稳定工作。4　高灵敏度X射线谱仪 最多可同时搭载5通道兼顾高灵敏度与高分辨率的4英寸X射线谱仪。52.5°的X射线取出角在提高了X射线信号的空间分辨率的同时，又可减小样品对X射线的吸收，实现高灵敏度的分析。无与伦比卓越的空间分辨率使用分析条件束流，引以为傲No.1的二次电子图像分辨率。（加速电压10kV时，20nm@10nA//50nm@100nA/150nm@1μA）。与原来的电子枪（CeB6、钨灯丝）的结果相比，一目了然。由于可用更大的束流得到与原来电子枪相同分辨率的图像，所以可进行超高灵敏度的X射线分析。 更加值得注意的是，束流为1μA时的SEM图像。能够得到1μA以上束流，而且可以压缩到如此细的只有EPMA-8050G。各种电子枪产生电子束的特性比较（加速电压10kV）大束流超高灵敏度分析场发射类型的SEM、EPMA可实现其他仪器所不能达到的大束流（加速电压30kV时最大3μA）。在超微量元素的检测灵敏度上实现了质的飞跃，将元素面分析时超微量元素成分分布的可视化成为现实。而且，所有束流范围内不需要更换物镜光阑，完全不用担心合轴，实现了高度自动化分析。面的3个图像为不同束流下，对不锈钢中约1%左右Si进行面分析的结果※。束流越大，偏差越小，越能更加清楚的确认包含Si的范围。※ 分析条件：加速电压10kV，积分时间50msec。分析花费时间约1小时。最多可同时搭载5通道高性能4英寸X射线谱仪

产品详情 搭载场发射电子光学系统 高分辨率面分析对碳膜上Sn球放大3万倍进行面分析。即使是SE图像（左侧）上直径只有50nm左右的Sn颗粒，在X射线图像（右侧）上也是清晰可见。 ■ 大束流高灵敏度分析 实现3.0μA（加速电压30kV）的束流。全束流范围无需更换物镜光阑。■ 最多可同时搭载5通道高性能4英寸X射线谱仪无人可及的52.5°X射线取出角。4英寸罗兰圆半径兼顾高灵敏度与高分辨率。最多可同时搭载5通道相同规格的X射线谱仪。■ 全部分析操作简单易懂 全部操作仅靠一个鼠标就可进行的先进可操作性。追求「易懂」的人性化用户界面。搭载导航模式，自动指引直至生成报告。 ■ 优良的空间分辨率EPMA可达到的二次电子图像分辨率3nm（加速电压30kV）分析条件下No.1的二次电子分辨率。（加速电压10kV时20nm@10nA/50nm@100nA/150nm@1μA） ■ 二次电子图像最高分辨率3nm碳喷镀金颗粒的观察实例。3nm（@30kV）。相对较高的束流也可将电子束压细聚焦，更加容易的获得高分辨率的SEM图像 高灵敏度面分析使用1μA束流对不锈钢进行5000倍的面分析。准确地捕捉到了Cr含量轻微不同形成的不同的相（左侧），同时也成功地将含量不足0.1%的Mn分布呈现在我们眼前（右侧）。 实现微区高灵敏度分析的先进技术1　高亮度肖特基发射体 场发射电子枪采用的肖特基发射体比一般传统SEM使用的发射体针尖直径更大，输出更高。即可以保持其高亮度，还可提供高灵敏度分析不可缺少的稳定大电流。2　 EPMA专用电子光学系统 电子光学系统，聚光透镜尽可能的接近电子枪一侧，交叉点不是靠聚光透镜形成，而是由安装在与物镜光阑相同位置上，具有独立构成与控制方式的可变光阑透镜来形成交叉点的。简单的透镜结构，既能获得大束流，同时全部电流条件下设定合适的打开角度，将电子束压缩到最细。当然是不需要更换物镜光阑的。3　高真空排气系统 电子枪室、中间室、分析腔体之间分别安装有筛孔（orifice）间隔方式的2级差动排气系统。中间室与分析腔体间的气流孔做到最小，以控制流入中间室的气体，使电子枪室始终保持着高真空，确保发射体稳定工作。4　高灵敏度X射线谱仪 最多可同时搭载5通道兼顾高灵敏度与高分辨率的4英寸X射线谱仪。52.5°的X射线取出角在提高了X射线信号的空间分辨率的同时，又可减小样品对X射线的吸收，实现高灵敏度的分析。

布鲁克（BRUKER）探针不为您当前的应用提供所需的结果，同时也能为将来的研究提供参考数据。AFM配件，原子力探针，AFM探针，原子力探针针尖，显微镜探针针尖，原子力针尖，原子力显微镜探针针尖，接触探针，纳米压痕探针，氮化硅探针，硅探针，热探针，超尖探针，电子探针，显微镜针尖，原子力显微镜针尖，轻巧模式探针，AFM针尖，接触式探针，磁性探针，导电探针，显微镜探针，探针，布鲁克探针，原子力探针，BRUKER PROBE，AFM PROBE，BRUKER探针，原子力显微镜探针，AFM探针，VEECO探针

AFM探针/原子力探针/导电探针(DDESP-10) AFM配件，原子力探针，AFM探针，原子力探针针尖，显微镜探针针尖，原子力针尖，原子力显微镜探针针尖，接触探针，纳米压痕探针，氮化硅探针，硅探针，热探针，超尖探针，电子探针，显微镜针尖，原子力显微镜针尖，轻巧模式探针，AFM针尖，接触式探针，磁性探针，导电探针，显微镜探针，探针，布鲁克探针，原子力探针，BRUKER PROBE，AFM PROBE，BRUKER探针，原子力显微镜探针，AFM探针，VEECO探针作为一家能够提供AFM/SPM仪器和AFM/SPM探针的企业，布鲁克公司深刻理解每个单独的组件对于一整套性能AFM系统的价值。布鲁克公司以的生产工艺，专业的AFM领域背景，得天独厚的生产装备，赋予探针制造众多的优势，确保在应用领域中提供完整的AFM解决方案。布鲁克AFM探针制造优势：*Class100级别的无尘室*的设计、制造工序及制造工具*探针设计团队与AFM设备研发团队通力合作，配合紧密*训练有素的生产团队，制造出各种型号的探针*全面的质量管理体系，确保探针性能行业在实验中，用户所得到的数据取决于探针的质量及探针的重复性。布鲁克的探针具有严格的纳米加工控制，全面的质量测试，和AFM领域的专业背景。所以用户尽可放心，我们的探针不仅为您当前的应用提供所需的结果，同时也能为将来的研究提供参考数据。 Doped Diamond这个系列的探针在针尖的一侧涂有可导电的金刚石涂层。由于金刚石的硬度很高，所以涂层也很耐磨。这类探针的典型应用包括：扫描扩散电阻显微镜 (SSRM)，扫描电容显微镜 (SCM)，和隧道/导电原子力显微镜。 NameMountDescriptionPack SizeTip Radius (nm) DDESP-10UnmountedDoped DLC Coated Tips, 42N/m, 320kHz, Al Reflective Coating1035

肖特基场发射电子探针PlusJXA-8530F Plus采用浸没式肖特基场发射电子枪,优化了角电流密度，能利用2 μA以上的大探针电流进行分析，还提高了分析条件下的二次电子像的分辨率。高级软件新开发了多种基于Windows操作系统的软件，其中包括：能使痕量元素分析更加简便的“痕量元素分析程序”、能自动制作相图的“相图制作器”以及只需简单输入就能对表面凹凸不平样品进行测试的“不平坦样品的分析程序”等。灵活的WDS配置X射线波谱仪可以选择140 R或100 R罗兰圆， 罗兰圆半径为140 mm的XCE/L型X射线谱仪检测范围宽，波长分辨率高和P/ B比优异，100 mm的H型X射线谱仪具有X射线衍射强度高的特点，可以根据需要选择使用。WDS/EDS组合系统JXA-8530FPlus标配了JEOL制造的30平方毫米 SD检测器（以下简称SD检测器），凭借高计数率的SD检测器，在与WDS相同的分析条件下可以进行EDS分析，通过简单的操作就能采集EDS谱图。强力、清洁的真空系统高强力真空系统包括两台磁悬浮涡轮分子泵， 镜筒内还采用两个中间室，通过差动抽气保持电子枪室的高真空。软X射线分析谱仪 (SXES)SXES (Soft X-Ray Emission Spectrometer)软X射线分析谱仪是日本东北大学多元物质科学研究所（寺内正己教授）和日本电子株式会社共同开发的的高分辨率软X射线分析谱仪。 新开发的变栅距衍射光栅(VLS）和高灵敏度的CCD相机组合，同时检测Li-K系谱线和B-K系谱线，该谱仪实现了极高的能量分辨率，因而能进行化学结合状态分析等。miXcroscopy （关联显微镜)miXcroscopy 光学显微镜/扫描电子显微镜关联系统能批量登录光学显微镜指定的坐标数据作为EPMA的分析点，该系统最适合于需要用光学显微镜决定分析位置的样品。多功能样品室样品室的可扩展性强，配备了样品交换室，可以安装各种附件。可以安装的附件：电子背散射衍射系统（EBSD）阴极荧光检测系统软X射线分析谱仪不暴露在大气环境下的转移舱高蚀刻速率的离子源

大气压分析探针 (ASAP) 质谱是原位质谱分析技术，用于升级现有的商品化液-质(LC/MS) 联用平台，快速简便分析固体、液体、组织或材料(如聚合材料)样品中挥发性和半挥发性化合物而无需样品制备和分离。 携带样品的 ASAP 探针插放于商品化的质谱离子源的源体内，热的氮气流使样品快速脱附至空气中，经电晕放电离子化产生质子化(正离子方式)或去质子化(负离子方式)离子，随后进行质谱或多级质谱定性、定量分析。ASAP 不干扰同一源体上的电喷雾(ESI)源或 APCI 源的运行，互为补充，且切换即时便捷。该离子化方式尤其适用于高端液质平台，充分展示其多级质谱的选择性碰撞碎裂能力，进行快速(30秒钟以下)鉴定和高灵敏度定量(pg 级)，以及精确质量分析能力，实现复杂混合物中化合物的快速鉴定和定量分析。成功的例子已经包括(但不限于) Bruker Qh-FTMS&trade , Thermo Ortitrap&trade , Waters Synapt HDMS，和 QTOF 等。ASAP 将成为替代现有的 EI/CI 固体分析探针的优选技术。同时，由于 ASAP 将 LC 分离和质谱分析相隔离，对于实现复杂液相色谱分离体系(如使用磷酸盐等非挥发性缓冲盐)的液质联用，将成为可能。 　例如，ASAP 用于轻松观察比较植物叶在正常气候条件下和在寒冷和黑暗条件下的不同化学变化。又比如，聚合物添加物可以 ASAP 快速鉴别，同时，在较高温度下聚合物本身热裂解，更增加鉴定可靠性。 ASAP 还可快速检测生物体液如尿样中的药物而无需样品前处理，或应用于检查钱币上的毒物等。环境污染物比如多环芳烃(PAH)，以及石油中的高馏分成份，均可以ASAP 轻松分析。产品性能：1、可升级 FT-MS、TOF、QTOF、离子阱、Orbitrap，单四极杆、三重四级杆、或其他各种类型的质谱仪2、兼容安捷伦、布鲁克、SCIEX、赛默飞、沃特斯等厂家的 LC-MS 液质质谱仪3、可分析液体、粘液、固体、粉末样品4、无需繁杂的样品制备和耗时的色谱分离5、样品分析在 30 秒内完成6、采用氮气为载气，无需消耗化学溶剂，无需处理化学废液，为“绿色”检测技术7、无需流动相，无需色谱设备及分离用消耗品（如色谱泵、色谱柱、进样器、试管）8、可供调节的实验参数少，简便易学9、不干扰 ESI 和 APCI 离子化。同一源体可安装 ASAP 和 APCI（或 ESI）离子化探针10、载气（氮气）流速取决于质谱仪随机携带的 APCI 源的氮气流速，通常为2.0-6.0 L/分之间（可依质谱仪型号不同而有所不同） 11、放电电压：利用质谱仪随机携带的 APCI（或ESI）源的放电电压12、气体加热：利用质谱仪随机携带的 APCI（或ESI） 源的加热传感功能，通常为 25℃ - 500℃（取决于自带源的温度范围）13、质量范围：取决于质谱仪本身的质量范围，通常为 5～3000 amu14、检测限：取决于质谱仪本身的灵敏度，通常为 1-10 pg 绝对量或 ppb 级浓度15、调节式探针：可调节电绝缘样品管的伸出幅度，便于灵敏度调谐16、无真空切换，样品分析在常压下进行17、工作环境条件：工作电压：230V,+/-10V；操作环境温度：10-400℃18、该仪器不属于含放射源设备或射线装置制造厂商：IonSense，Inc.（美国），大中华区代理为华质泰科生物技术（北京）有限公司。

微透析采样系统(Microdialysis)是一种从生物活体内进行动态微量生化取样的技术，具有活体连续取样、动态观察、定量分析、采样量小、组织损伤轻等特点。主要由微量注射泵，清醒活动装置，微透析探针，自动收集器组成。本系统在神经科学、医药研究等领域已获得越来越广泛的应用。微透析采样系统主要原理是将一种具有半透膜的探针置于实验动物的特定组织中, 利用泵推送溶液至探针处,从而使组织内的目标物质通过半透膜扩散到探针内，以达到从组织内取出需要测量的低分子量物质,以便于进一步的分析。这套设备可对麻醉或清醒的动物进行连续的灌流实验，为医学、药学、生命科学等领域的发展提供了崭新的技术。应用范畴：精神药物学、神经病理及癌症研究、药物动态学及毒物学、生理学药理学、生命胺分析、乙酰胆素/胆碱分析、自由基/氨基酸分析、各种组织生化/药物分析。工作原理：完整的脑部微透析系统包含以下几个部分：微透析泵用于连续提供灌流液，微透析泵较高的稳定性和精确性有利于透析实验的进行。微透析探针清醒动物活动装置透析探针附件：液体切换器，探针支架，管路，接头等，起到导引，定位，固定等作用微透析液收集器配合微透析采集系统进行微透析样本的采集和低温保存。微透析样品收集器，用于样品的低温保存。该仪器具有 20 个样品位，单探针模式下连续收集 20 个样品，或者双探针模式下连续收集 2×10 个样品。最小可采集 1ul 的样品。保存温度为 8℃冷却微量收集器可同步收集1–2个透析液，配合双通道微透析泵可同步做2通道微透析取样实验；最低冷却温度：8℃；收集样品数：64 个(300μL瓶)或40个(2mL瓶)宽屏幕液晶显示4X20字符，RS232及USB接； 请关注玉研仪器的更多相关产品。如对产品细节和价格感兴趣，敬请来电咨询！

一、产品概述：探针台是一种用于微小电子元件和材料的测试设备，广泛应用于半导体、材料科学和微电子领域。它提供一个稳定的平台，用于精确定位和连接探针，以实现对样品的电气测试和分析。二、设备用途/原理：设备用途探针台主要用于测试集成电路、薄膜材料和微结构等的电气性能。常见应用包括半导体器件的参数测试、材料的电阻率测量和故障分析等。通过高精度的定位和可调节的探针，研究人员能够获取样品的详细电气特性。工作原理探针台的工作原理是通过机械系统将探针精确地定位到样品的特定接触点。设备通常配备高分辨率的光学系统，用于观察样品并调整探针的位置。当探针接触样品时，可以通过外部测试设备（如源测量单元）施加电流或电压，并测量相应的电压或电流反应。通过这种方式，研究人员可以获取样品的电气参数，分析其性能和特性。三、主要技术指标：1. 探针台主要应用于晶圆、芯片、器件、封装等半导体制程测试环节2. 样品尺寸：碎片~12英寸3. 自动化：手动、半自动、全自动4. 测试环境：高低温、磁场、真空5. 探针台类型：分析探针台、直流、射频、高压、毫米波、太赫兹、硅光测量、芯片测量、定制化等。

手动探针台 测试探针台半导体领域探针台 在集成电路的研发、生产制造、实效分析过程中，经常要量测内部的电参数，由于制成的越来越低，没有办法用简单的万用表、示波器的表笔来探测信号。手动分析探针台能很好的帮助工程人员实现微小位置的电学参数测试。Advanced在中国推出手动分析探针台近10年历史，销售实绩800多台，并且以每年的销量稳居行业销量榜首。行业知名客户有：友达光电、华映光电、奇美光电、群创光电、飞兆半导体、德州仪器、华虹集成、华为、电子五所、航天808所、航天201所、中科院微电子所、苏州中科院纳米研究所、复旦大学、上海交通大学、西安电子科技大学、温州大学、福州大学、厦门大学等等……手动探针台 测试探针台手动探针台 测试探针台型号： PW-600/PW-800规格：chuck尺寸150mm（200mm）X,Y电动移动行程150mm（200mm）chuck粗调升降8mm，微调升降30mm可搭配MOTIC金相显微镜或者AEC实体显微镜针座摆放个数6～8颗显微镜X-Y-Z移动范围2“x2”x2“可搭配Probe card测试适用领域：6寸/8寸Wafer、IC测试之产品手动探针台 测试探针台型号： PW-400 规格：chuck尺寸100mmX,Y移动行程100mmchuck Z轴方向升降10mm（选项）搭配AEC实体显微镜针座摆放个数2～4颗适用领域：4寸Wafer，如晶圆厂、LED、学术单位等 RF高频探针台 手动探针台 测试探针台东、南、西、北测试臂搭配美国GGB高频测试头DC~10/40/50/67GHZ （GSG,GS,SG）Pitch 100～1500um探针材料：BeCu/Tungsten

CH-12 综合性分析探针台测试系统 最大可用于12英寸以内样品测试；操作便捷，功能其全，高效精准 ；可满足晶片测试、光电器件测试、PCB/IC测试、射频测试、高压大电流测试等 CINDBEST CH-8|8"~12" 综合性分析探针台测试系统 特点/应用 ◆ 最大可用于12英寸以内样品测试◆ 同轴丝杠传动结构，线性移动◆ 大手柄驱动，操作舒适，无回程差设计◆ 针座平台快速、微调升降功能◆ 可搭配多种类型显微镜◆ 晶片测试、光电器件测试、PCB/IC测试、射频测试、高压大电流测试等◆ 结构模块化设计，可无缝升级◆ 探针台可根据客户要求定制。 台体规格 型号：CH-8/CH-12 样品台尺寸：8英寸/12英寸 水平旋转：可360度旋转，可微调15度，精度0.1度，带角度锁死装置 X-Y移动行程：8英寸*8英寸/12英寸*12英寸 X-Y移动精度：10微米/1微米 样品固定：真空吸附，中心吸附孔，多圈吸附环 针座平台：U型针座平台，最多可放置10个探针座 平台升降：可快速升降6mm/可微调升降25mm 背电极测试：样品台电学独立悬空，4mm插孔可接背电极 外形尺寸：840mm长*600mm宽*700mm高/950mm长*700mm宽*700mm高 重量：约100千克/150千克 光学系统 显微镜类型：单筒显微镜/体式显微镜/金相显微镜 放大倍率：16X-200X/20X-4000X 移动行程：X-Y轴行程2英寸*2英寸/水平360度旋转，Z轴行程50.8mm 光源：外置LED环形光源/同轴光源 CCD：200万像素/500万像素/1200万像素 定位器 X-Y-Z移动行程：12mm*12mm*12mm 移动精度：10微米/2微米/0.7微米/0.5微米 吸附方式：磁力吸附/真空吸附 线缆：同轴线/三轴线 漏电精度：10pA/100fA/10fA 固定探针：弹簧固定/管状固定 接头类型：BNC/三轴/香蕉头/鳄鱼夹/接线端子 针尖直径：0.2微米/1微米/2微米/5微米/10微米/20微米 针尖材质：钨钢/铍铜 可选附件： 加热台、显示器、转接头、射频测试配件、屏蔽箱、光学平台、镀金卡盘、光电测试配件、高压测试配件、显微镜快速倾仰装置、激光系统、探针卡夹具。

超高真空低温四探针扫描探针显微镜美国RHK Technology 成立于1981 年。作为SPM 工业中的领军仪器制造商，RHK-Technology 始终保持着鲜明的特色：创新性、可靠性、产品设计的开放性与的客户支持。凭借着其优异的系统设计、精良的制造工艺、再加上与著名科学家的紧密合作，二十多年来RHK Technology 源源不断地向全科学家们输送着先进的、高精度的科学分析仪器。变温QuadraProbe UHV 4-探针SPM系统是RHK公司生产的多探针UHV SPM系统中的一种，该系统提供了多种分析功能、配备了多个超高真空室和相应的电子控制单元与软件，可以大地满足客户全面的研究应用需要。基本系统中提供了低温4探针扫描隧道显微镜（SPM），扫描电子显微镜（SEM），样品准备室和用于传输样品和针的快速进样室。其他的设备如扫描俄歇显微镜（SAM）也可选配以满足客户特别的研究需要。技术参数：- 样品温度：10K（LHe）； 80K（LN2）- 扫描范围：1.5μm（300K）；500nm （10K）- X，Y，Z粗进针：±1.5mm/step motion- 样品定位精度：±1.5mm- STM分辨率：四个探针均可实现HOPG的原子分辨- SEM分辨率：小于20nm- 针材料：钨或者铂、金等金属修饰的钨针。 主要特点：- 四个探针都能实现原子分辨；- 真正的样品和针低温操作（10K），得到佳的高分辨谱图；- 探针与样品立地传输与准备；- 所有探针具有先进的控制操作；- 用户可编程控制的开放性控制环境；- 制冷采用Bath Cryostat构造，大地减少了液氦的消耗；- 可升到非接触式AFM；- 样品台处配有可选择的超导磁体；- 通过光纤实现样品的光学激发。

1：四探针测试仪 四探针检测仪 四探针测定仪/四探针电阻率测定仪 型号：HARTS-8HARTS-8型数字式四探针测试仪是运用四探针测量原理的多用途综合测量设备。该仪器按照单晶硅物理测试方法家标准并参考美 A.S.T.M 标准而的，于测试半导体材料电阻率及方块电阻（薄层电阻）的仪器。仪器由主机、测试台、四探针探头、计算机等分组成，测量数据既可由主机直接显示，亦可由计算机控制测试采集测试数据到计算机中加以分析，然后以表格，图形方式统计分析显示测试结果。仪器采用了电子行、装配。具有能选择直观、测量取数快、度、测量范围宽、稳定性好、结构紧凑、易操作等特点。本仪器适用于半导体材料厂、半导体器件厂、科研单位、等院校对半导体材料的电阻性能测试。　术　　标 ： 测量范围 电阻率：10-5～105 &Omega .cm(可扩展)； 方块电阻：10-4～106 &Omega /□(可扩展)； 电导率：10-5～105 s/cm； 电阻：10-5～105 &Omega ； 可测晶片直径 140mmX150mm(配S-2A型测试台)； 200mmX200mm(配S-2B型测试台)； 400mmX500mm(配S-2C型测试台)；恒流源 电流量程分为1&mu A、10&mu A、100&mu A、1mA、10mA、100mA六档，各档电流连续可调数字电压表 量程及表示形式：000.00～199.99mV；　　　　 分辨力：10&mu V； 输入阻抗：1000M&Omega ； 度：± 0.1% ； 显示：四位半红色发光管数字显示；性、量程自动显示；四探针探头基本标 间距：1± 0.01mm； 针间缘电阻：&ge 1000M&Omega ； 机械游移率：&le 0.3%； 探针：碳化钨或速钢Ф0.5mm； 探针压力：5～16 牛顿(总力)；四探针探头应用参数 (见探头附带的合格证)模拟电阻测量相对误差( 按JJG508-87行) 0.01&Omega 、0.1&Omega 、1&Omega 、10&Omega 、100&Omega 、1000&Omega 、10000&Omega &le 0.3%± 1字整机测量相对误差(用硅标样片：0.01-180&Omega .cm测试)&le ± 5%整机测量标准不确定度 &le 5%计算机通讯接口 并口，速并行采集数据，连接电脑使用时采集数据到电脑的时间只需要1.5 秒（在 0.1mA、1mA、10mA、100mA量程档时）。连接电脑使用时带自动测量 能，自动选择适合样品测试电流量程；标准使用环境 温度：23± 2℃； 相对湿度：&le 65%； 无频干扰； 无强光直射；配置 四探针测试仪主机、探针台、四探针探头、 2：多种气体采样器/多种气体取样器/多种气体出样器（100ml） 型号：HAD/CZY-100产品介绍：主要用于检查空气中各种气体的含量。配合气体检测管使用。配套使用检测管的方法及优势：1、用砂片稍用力将检测管两端各划圈割印。2、用硅胶管套套住检测管上的箭头所端，沿切割印掰断，用同样方法掰断另端。3、用硅胶管套套住检测管上的箭头所端（防止漏气），插入所要检测标注的气体通道口上（稍用力插紧）。注意方向性，箭头方向代表气体流过方向。4、将所需检测的若干项的检测管，按以上方法均插好之后，接通电源，即可正常使用。5、调节所需检测气体对应的时间控制器，使其符合标（见附表）。6、检测结束，拔出检测管。7、手持检测管箭头朝下，并垂直于地面放在与目光基本不平的位置，观察管上颜色变化所刻度，既为被检测气体的浓度。 （1）双重优点：测量气体的检测管实际是将化学分析方法仪器化，是种定量、定性、定值的检测方式,具有化学分析和仪器分析的双重优点。（2）适应性好：检测管现有Ⅰ、Ⅱ、Ⅲ三种，从零点到几个PPM（10-6）到百分之几十，适用范围很大，为分析作提供了很大方便。（3）操作简便：为专业检验人员提供了很大的方便，操作人员按照使用说明书操作方法行测试即可。（4）使用安：使用时手动操作，无需要电源、热源，在有易燃易气体存在的场所能安使用。（5）分析速度快：由于操作方便，使得每次分析所需时间大为缩短，般仅需十几分钟即可得知结果，其分析速度是何化学分析和仪器方法不能比拟的。（6）测量度：在检测管含量标度的确定上模拟了现场分析条件，采用不同标准气标定，克服了化学分析中易带入的方法误差。同时减少了人为误差。 温馨提示：以上产品资料与图片顺序相对应。

1. 产品概述：探针台是一种精密的电子测试设备，主要用于半导体行业、光电行业、集成电路以及封装的测试。它广泛应用于复杂、高速器件的精密电气测量，旨在确保产品质量及可靠性，并缩减研发时间和器件制造工艺的成本。探针台通常由载物台（样品台）、光学元件、卡盘、探针卡、探针夹具及电缆组件等部分组成，其核心部件包括x-y工作台，该工作台的结构对探针台的性能和使用体验有重要影响。2.设备用途/原理：晶圆检测：在半导体制造过程中，探针台主要用于晶圆制造环节的晶圆检测，确保晶圆上的晶粒依次与探针接触并逐个测试，实现更加精确的数据测试测量。芯片研发和故障分析：探针台可用于芯片研发过程中的原型验证和性能评估，帮助工程师及时发现和解决潜在问题，优化芯片设计。同时，它也可用于芯片的故障分析，定位问题区域。封装检测：在封装工艺之前，探针台用于对芯片进行CP测试（Chip Probing Test），确保封装前的芯片性能符合标准。其他应用：探针台还广泛应用于光电检测、功率器件测试、MEMS测试、PCB测试、液晶面板测试、测量表面电阻率测试、精密仪器生产检测、航空航天实验等领域。3.设备特点 1 高精度定位：探针台配备高精度的定位系统和微调机构，能够精确地将探针定位到芯片上的指定测试点，并实现稳定的接触，确保测试的准确性和可靠性。 2 多功能性：探针台支持多种测试需求，包括电压、电流、电阻、频率、温度等参数的测量，以及小电流量测、电容量测、高压量测、R/F量测、I/O点量测等。 3 高效测试：探针台支持多点测试，能够同时测试芯片上的多个测试点，提高测试效率。此外，一些先进的探针台还具备自动化功能，能够自动完成测试序列，进一步减少人工干预。4.设备参数可移动压板，高度调节 40 mm，接触/分离行程 200 μm，重复精度± 1 μm具有可调摩擦力和阶段锁定的卡盘阶段，独特的Z轴卡盘调整和90毫米的拉出磁性定位器具有 1 μm 特征分辨率和 3 个带精密滚珠轴承的线性轴包括匹配的电缆和基材射频卡盘 ±3 μm 表面平面度独特的 200 μm 压板接触/分离行程，精度≤± 1 μm，可实现可重复接触

俄歇电子能谱仪（Auger Electron Spectrometer, AES）为微电子业常见的表面分析技术之一。原理是利用一电子束为激发源，使表面原子之内层能阶的电子游离出，原电子位置则会产生电洞，导致能量不稳定，此时外层电子会填补产生之电洞，进而释放能量传递至外层能阶电子，造成接受能量的电子被激发游离，游离的电子即为Auger电子。因其具有特定的动能，所以能依据动能的不同来判定材料表面的元素种类。PHI的710纳米探针俄歇扫描 提供高性能的俄歇（AES）频谱分析，俄歇成像和溅射深度分析的复合材料包括：纳米材料，催化剂，金属和电子设备。维持基于PHI CMA的核心俄歇仪器性能，和响应了用户所要求以提高二次电子（SE）成像性能和高能量分辨率光谱。PHI的同轴镜分析仪（CMA）提供了同轴分析仪和电子枪的几何实现高灵敏度多角度广泛收集，以便完成三维结构图，在纳米级技术的发展这是最基础的。为了提高SE成像性能，闪烁探测器（Scintillator）已被添加以提高图像质量，另再加上数码按钮的用户界面再一次的提高了易用性。在不用修改CMA和仍维持俄歇在纳米分析的优势下，再添加了高能量分辨率光谱模式，使化学态分析的可能再大大的提高。总括来说，700Xi以优越的俄歇纳米探针从世界ling先的俄歇表面分析仪器，提供了实用和成熟的技术，以满足纳米尺度所需要的广泛实验与研发的用途。同轴电子枪和分析几何和高级的俄歇灵敏度：710的场发射电子源提供了一个高亮度而直径小于6 nm的电子束以产生二次电子成像。710的同轴几何使用了“同轴式分析器（CMA）”，促使高灵敏度俄歇通过广泛角度收集进行分析，即使样品是表面平滑或复杂的形状或高表面粗糙度，都可以确保迅速完成所有分析程序。高稳定性成像平台：隔声外壳与振动隔离器提供更稳定的成像和分析。隔声外壳从真空控制面板降低频率范围从30赫兹到5K赫兹左右的20 dB的声压等级（SPL），稳定的温度大约降低系统造成SEM图像漂移。新的振动隔离器也减少了地面振动对扫描电镜图像和小面积分析的影响。增强的SE图像用户界面：PHI710增强SE成像性能，闪烁器检测器（Scintillator）已被添加在仪器上从而提高图像质量，加上数码按钮的用户界面更再次提高了使用的方便性。新的高分辨率光谱模式：随着PHI的新技术，能量分辨率可调从0.5%到0.05%。多种化学物质的状态可以更容易有效的被观察出来。PHI SmartSoft-AES用户界面：PHI SmartSoft是一个操作仪器上为用户的需要而着想的软件界面。该软件是任务导向型和卷标在顶部的显示指引用户通过引入样品，分析点的定义，并设置了分析。多个位置分析可以定义和zui佳范例的定位提供了一个强大的“自动Z轴调整”的功能。在广泛使用的软件设置，可让新手能够快速，方便地设置了测量，并在未来可以轻易的重复以往或常用的类似测量。

MPS-C-3X0磁体探针台系统是世界上第一个探针台，能够在被测试的器件上提供三维磁场控制。真正独特的专利设计使自旋电子器件的做晶圆级测试、纳米电子和许多其他材料和器件在所需磁场中准确的测试和测量。自旋流和自旋矩振荡器测试，磁模拟和识别复杂的多层结构的各向异性只是应用我们的MPS系统的几个案例。MPS系列磁体探针台特点：MPS系列磁体探针台是市场上唯一能提供在应用磁场中对任意两或三维定位的探针台，是自旋电子器件的特性和自旋电子学研究的一个最终的探针台解决方案。MPS系列磁探针台是唯一在市场上提供的晶圆级别的矢量磁场探测的探针台，特适合于在生产环境中自旋和磁电子器件测试。MPS系列磁体探针台完全可定制的，基于开源的LabVIEW的控制软件，很容易与最常见的测试和测量设备集成。高分辨率微定位器40、80、100和200tpi下探针的微米级定位螺钉。数据收集和/或分析与广泛的输出格式和选项可用。系统提供了三维霍尔探头，以提供无与伦比的稳定性和精度所施加的磁场通过闭环控制。可选项：升级为150mm或200mm晶圆。扩展磁场均匀性/稳定性。高分辨率显微镜。用于探测期间的域成像偏振显微镜。 升级射频探针 扩展温度范围探测 相机的广泛选择 晶片卡盘广泛的选择 对micropositioners广泛的选择，探针和探针尖端武器 超真空泵 受控环境测量........

LCS-4000系列分析探针台配有激光切割系统带有集成激光切割系统的LCS-4000探针台为用户提供了半导体诊断切割，失效分析，修整，标记和顶层去除的最大灵活性。所有这些功能都可以在微观层面上进行，所有这些都在这一系统上进行，这提供了非常易于使用的高水平性能。集成的激光切割系统可用于通过激光烧蚀接触引线，牺牲层和其他材料来改变集成电路上的导体，而不会损坏设计内部构件。这种激光微调工艺允许选择性地去除层，例如去除顶层，并且可以有助于半导体失效分析或微调器件特性，例如电阻，电容或RF特性。MicroXact的激光切割系统还能够通过切断将故障组件连接到电路其余部分的金属线来隔离故障组件。预构建逻辑包括自动识别晶片上的故障器件并通过烧蚀从晶片上完全擦除这些器件。LCS-4000提供电动，半自动或全自动配置系统，可通过各种设计选项和附件轻松配置用于各种应用。设计用于同时进行DC和/或RF探测，同时激光微调引导或消除设备中的缺陷。完全电动系统允许用户独立远程定位样品台，压板和显微镜，同时系统完全包含在不透光的外壳中，以便系统安全，轻松地操作。标准配置包括独立的100 mm x 100 mm运动范围，适用于样品台和显微镜（可提供更大的范围）。多轴双操纵杆控制器可轻松操作所有运动组件，并可定制以包含各种附加功能。可以升级系统以包括晶片探测的半自动控制。位于工作站两侧的隔离直通端子可方便地连接到微定位器，可针对BNC，三轴或DC引脚连接进行定制。型号LCS-4000晶圆尺寸高达100mm（可提供更大尺寸）XY舞台行程高达100mm x 100mm（可提供更大的范围）XY舞台分辨率电动，有多种选择压板行程12.7mm或更多压板调整双粗和精控制平板平面150mm以下12.7μm

1 产品概述： 探针台是一种精密的电子测试设备，主要用于半导体行业、光电行业、集成电路以及封装的测试。它集成了载物台、光学元件、卡盘、探针卡、探针夹具及电缆组件等多个部分，能够确保从晶圆表面向精密仪器输送更稳定的信号，从而进行高精度的电气测量。探针台根据操作方式可分为手动、半自动和全自动三种类型，每种类型都有其特定的应用场景和优势。2 设备用途：探针台的主要用途包括：半导体测试：在晶圆加工之后、封装工艺之前的CP测试环节，探针台负责晶圆的输送与定位，确保晶圆上的晶粒依次与探针接触并逐个测试，实现更加精确的数据测试测量。它广泛应用于晶圆检测、芯片研发和故障分析等应用。光电行业测试：在光电行业中，探针台同样用于测试光电元件和组件的性能，确保产品的质量和可靠性。集成电路测试：探针台可用于集成电路的测试，包括功能测试、电参数测试等，帮助工程师评估和优化集成电路的性能。封装测试：在封装工艺之前，探针台可以对封装基板进行测试，确保封装过程中不会出现质量问题。3 设备特点 探针台具有以下显著特点：高精度：探针台配备高精度的定位系统和微调机构，能够精确地将探针定位到芯片上的指定测试点，并实现稳定的接触，确保测试的准确性和可靠性。多功能性：探针台可用于多种测试场景，包括晶圆检测、芯片研发、故障分析、网络测量等，具有广泛的应用范围。自动化程度高：全自动探针台通常配备有晶圆材料处理搬运单元（MHU）、模式识别（自动对准）等功能，能够自动完成测试序列，减少人工干预，提高测试效率。灵活性：探针台可根据测试需求进行配置和调整，如可选配接入光纤，将电学探针替换为光纤，提高测试灵活性。4 设备参数： 出色的测试精度：短 DUT 和 ISP 分离，实现佳光收集，骰子偏移补偿 通过热卡盘支持实现准确稳定的温度控制。 可编程拾取和放置力在5g~200g之间。 全屏蔽暗盒设计消除了不必要的照明干扰。 具有高引脚数探测能力（4 ~ 256 通道）的多站点测试，可实现高吞吐量。 电学/光学特性的综合统计和分析工具：色度 （xyz）、强度、辐照度。

迈锐探针台LCS-4000系列分析探针台配有激光切割系统配有集成激光切割系统的LCS-4000探针台为用户提供了半导体诊断切割，失效分析，修整，标记和顶层去除的最大灵活性。所有这些功能都可以在微观层面上进行，所有这些都在这一系统上进行，这提供了非常易于使用的高水平性能。集成的激光切割系统可用于通过激光烧蚀接触引线，牺牲层和其他材料来改变集成电路上的导体，而不会损坏设计内部构件。这种激光微调工艺允许选择性地去除层，例如去除顶层，并且可以有助于半导体失效分析或微调器件特性，例如电阻，电容或RF特性。MicroXact的激光切割系统还能够通过切断将故障组件连接到电路其余部分的金属线来隔离故障组件。预构建逻辑包括自动识别晶片上的故障器件并通过烧蚀从晶片上完全擦除这些器件。LCS-4000提供电动，半自动或全自动配置系统，可通过各种设计选项和附件轻松配置用于各种应用。设计用于同时进行DC和/或RF探测，同时激光微调引导或消除设备中的缺陷。完全电动系统允许用户独立远程定位样品台，压板和显微镜，同时系统完全包含在不透光的外壳中，以便系统安全，轻松地操作。标准配置包括独立的100 mm x 100 mm运动范围，适用于样品台和显微镜（可提供更大的范围）。多轴双操纵杆控制器可轻松操作所有运动组件，并可定制以包含各种附加功能。可以升级系统以包括晶片探测的半自动控制。位于工作站两侧的隔离直通端子可方便地连接到微定位器，可针对BNC，三轴或DC引脚连接进行定制。型号LCS-4000晶圆尺寸高达100mm（可提供更大尺寸）XY舞台行程高达100mm x 100mm（可提供更大的范围）XY舞台分辨率电动，有多种选择压板行程12.7mm或更多压板调整双粗和精控制平板平面150mm以下12.7μm强烈推荐用于需要低于0°C的测试或屏蔽的应用可用选项：加热或冷却卡盘，变焦镜或复合显微镜，各种屏蔽，用于直流和射频测量的卡盘选择等等型号SPS-2800SPS-2600晶圆尺寸高达200mm高达100mm电机类型步进电机XY舞台行程高达200mmx200mm高达125mmx125mmXY舞台分辨率电动，6.5μm重复性显微镜高品质立体声变焦，工作距离可达200mm，放大倍率范围为3.5X至180X馈通终端BNC，Triax或香蕉插头系统尺寸122厘米宽x122厘米深x 92厘米高78厘米宽x80厘米深x 58厘米高

1 产品概述： 探针台是一种精密的电子测试设备，主要用于半导体行业、光电行业、集成电路以及封装的测试。它集成了载物台、光学元件、卡盘、探针卡、探针夹具及电缆组件等多个部分，能够确保从晶圆表面向精密仪器输送更稳定的信号，从而进行高精度的电气测量。探针台根据操作方式可分为手动、半自动和全自动三种类型，每种类型都有其特定的应用场景和优势。2 设备用途：探针台的主要用途包括：半导体测试：在晶圆加工之后、封装工艺之前的CP测试环节，探针台负责晶圆的输送与定位，确保晶圆上的晶粒依次与探针接触并逐个测试，实现更加精确的数据测试测量。它广泛应用于晶圆检测、芯片研发和故障分析等应用。光电行业测试：在光电行业中，探针台同样用于测试光电元件和组件的性能，确保产品的质量和可靠性。集成电路测试：探针台可用于集成电路的测试，包括功能测试、电参数测试等，帮助工程师评估和优化集成电路的性能。封装测试：在封装工艺之前，探针台可以对封装基板进行测试，确保封装过程中不会出现质量问题。3 设备特点探针台具有以下显著特点：高精度：探针台配备高精度的定位系统和微调机构，能够精确地将探针定位到芯片上的指定测试点，并实现稳定的接触，确保测试的准确性和可靠性。多功能性：探针台可用于多种测试场景，包括晶圆检测、芯片研发、故障分析、网络测量等，具有广泛的应用范围。自动化程度高：全自动探针台通常配备有晶圆材料处理搬运单元（MHU）、模式识别（自动对准）等功能，能够自动完成测试序列，减少人工干预，提高测试效率。灵活性：探针台可根据测试需求进行配置和调整，如可选配接入光纤，将电学探针替换为光纤，提高测试灵活性。4 设备参数：结合了精确的探测台、完全集成的控制软件和微调的电动定位系统高度可配置的晶圆探针台系列可处理 2“ ~ 8” 晶圆，并提供全面的卡盘系统和探针机构选择。高精度电气和光学测量（DC/RF/脉冲）。可选的接触机构选项包括：探针卡座 （PCH）、楔形探针卡和 MPI F1 单探针模块。灵活选择精密光收集和耦合光学元件，以满足您的特定测试要求。MPI 探针台控制软件提供全面的控制功能，从基本的晶圆对准、映射、探针标记检测到部署 MPI 先进的针对准机构 （NAM） 技术。MPI 光子学测试系统采用以用户为中心的设计，可根据您的独特测试要求灵活配置和编程。

1 产品概述： 探针台是一种精密的电子测试设备，主要用于半导体行业、光电行业、集成电路以及封装的测试。它集成了载物台、光学元件、卡盘、探针卡、探针夹具及电缆组件等多个部分，能够确保从晶圆表面向精密仪器输送更稳定的信号，从而进行高精度的电气测量。探针台根据操作方式可分为手动、半自动和全自动三种类型，每种类型都有其特定的应用场景和优势。2 设备用途：探针台的主要用途包括：半导体测试：在晶圆加工之后、封装工艺之前的CP测试环节，探针台负责晶圆的输送与定位，确保晶圆上的晶粒依次与探针接触并逐个测试，实现更加精确的数据测试测量。它广泛应用于晶圆检测、芯片研发和故障分析等应用。光电行业测试：在光电行业中，探针台同样用于测试光电元件和组件的性能，确保产品的质量和可靠性。集成电路测试：探针台可用于集成电路的测试，包括功能测试、电参数测试等，帮助工程师评估和优化集成电路的性能。封装测试：在封装工艺之前，探针台可以对封装基板进行测试，确保封装过程中不会出现质量问题。3 设备特点探针台具有以下显著特点：高精度：探针台配备高精度的定位系统和微调机构，能够精确地将探针定位到芯片上的指定测试点，并实现稳定的接触，确保测试的准确性和可靠性。多功能性：探针台可用于多种测试场景，包括晶圆检测、芯片研发、故障分析、网络测量等，具有广泛的应用范围。自动化程度高：全自动探针台通常配备有晶圆材料处理搬运单元（MHU）、模式识别（自动对准）等功能，能够自动完成测试序列，减少人工干预，提高测试效率。灵活性：探针台可根据测试需求进行配置和调整，如可选配接入光纤，将电学探针替换为光纤，提高测试灵活性。VEGA 顶部探针 （TP） 系列主要特点端温度测试能力（-40° 至 +200°C）。高性能装载机系统可轻松处理各种设备类型，如薄/翘曲晶圆、普通晶圆、衬底、封装或其他设备。多种光学/检测器选择，可满足您测试 LIV、近场和远场光学特性的确切需求。可选的接触机构选项包括：探针卡座 （PCH）、楔形探针卡和 MPI F1 单探针模块，可实现高精度测量。MPI 探针台控制软件提供全面的控制功能，从基本的晶圆对准、映射、探针标记检测到部署 MPI 先进的针对准机构 （NAM） 技术。MPI 光子学测试系统采用以用户为中心的设计，可根据您的独特测试要求灵活配置和编程。