电子束感生电流

一次性培养皿 （电子束灭菌）产品参数及型号：编号型号直径×高（mm）数量RMB(含税)3-1491-01ND90-15φ90×151箱（10张/袋×50袋）398.003-1491-51优惠装φ90×151套（10箱）3,980.00携带方便，采用叠放时不易横向滑动的结构等，已进行电子束灭菌。特点：● 外围四周有加强棱，叠放起来不易倒塌。 ● 透明度好，便于菌落观察。 ● 采用可防止盖子与主体吸附的构造，不影响通气性。 ● 底面有4分割点，便于对菌落的观察。规格：● 材质：PS（聚苯乙烯） ● 已进行电子束灭菌

特点：• 用于高灵敏度电子束曝光、混合曝光等• 感光波段：e-beam、deep UV(248 nm)• 紫外曝光波段： 负胶：248nm~265nm & 290nm~330nm • 化学放大胶，高灵敏度• 良好的耐干法刻蚀能力旋涂曲线：应用实例： 欢迎致电咨询（电话：010-82867920/21/22），更多光刻胶信息请查看官网：http://www.germantech.com.cn/new/cplook.asp?id=514

特点：• 用于消除电子束曝光、SEM成像、FIB等工艺中的荷电效应• 通过旋涂的方式涂胶，操作简单• 涂胶厚度：40nm @ 4000rpm• 电子束曝光后可溶于水，非常容易去除，且不损伤衬底材料 • 对紫外光、电子束不敏感，无需黄光室 5090.02，适于PMMA、CSAR 62、 HSQ等； 5091.02，适于酚醛树脂基电子束光刻胶，如AR-N 7520导电性：[注]导电胶电阻测量实验结果：胶层越薄，电阻越大，导电性降低。 应用实例：欢迎致电咨询（电话：010-82867920/21/22），更多光刻胶信息请查看官网：http://www.germantech.com.cn/new/cplook.asp?id=514

通过电子束照射，对活体组织（DNA、细胞等）进行损伤无需使用气体、药品等，因此不必担心残留比γ射线灭菌更节省设施空间（在实验室也可设置专门的照射室）

特点：• 用于高分辨电子束曝光、混合曝光等• 感光波段：e-beam、deep UV(248 nm)、i-line(365 nm)• 紫外曝光波段： 负胶：248nm~365nm• 高分辨率(30nm)，高对比度 • 良好的耐干法刻蚀能力旋涂曲线：应用实例：欢迎致电咨询（电话：010-82867920/21/22），更多光刻胶信息请查看官网：http://www.germantech.com.cn/new/cplook.asp?id=514

特点：• 用于高分辨率电子束曝光、单层/多层lift-off工艺、 石墨烯/碳纳米管转移、绝缘保护层等 • 感光波段：e-beam、deep UV(248nm)• 高分辨率( 10nm)，高对比度 • 多种分子量：50K、200K、 600K、 950K• 多种溶剂：苯甲醚、乳酸乙酯、氯苯• 多种固含量实现了多种涂胶厚度• 可定制特殊用PMMA胶950K PMMA参考涂胶厚度：（其他型号的涂胶厚度，请联系销售人员）应用实例：双层PMMA lift-off工艺PMMA Bilayer(950K/600K) - - AR-P 679.03 / AR-P 669.04欢迎致电咨询（电话：010-82867920/21/22），更多光刻胶信息请查看官网：http://www.germantech.com.cn/new/cplook.asp?id=514

特点：• 用于三维电子束曝光、混合曝光等• 感光波段：e-beam、deep UV(248 nm)• 紫外曝光波段： 负胶：248nm~265nm & 290nm~330nm • 化学放大胶，高灵敏度，低对比度( 1)• 良好的耐干法刻蚀能力旋涂曲线：应用实例：欢迎致电咨询（电话：010-82867920/21/22），更多光刻胶信息请查看官网：http://www.germantech.com.cn/new/cplook.asp?id=514

特点：• 用于高分辨率电子束曝光、单层/多层lift-off工艺等• 感光波段：e-beam、deep UV(248nm)• 高分辨率( 10nm)，高灵敏度(PMMA灵敏度的3~4倍)旋涂曲线： 应用实例：欢迎致电咨询（电话：010-82867920/21/22），更多光刻胶信息请查看官网：http://www.germantech.com.cn/new/cplook.asp?id=514

特点：• 用于高分辨率电子束曝光等• 感光波段：e-beam• 高分辨率( 10 nm)， 高对比度(14)• 高深宽比，高工艺稳定性 • 优异的耐干法刻蚀能力• 采用不同的显影液(AR 600-546/ 548/ 549)，可实现 不同程度的灵敏度• 可实现Lift-off工艺，操作简单• 溶剂为苯甲醚(安全溶剂) 旋涂曲线：应用实例：欢迎致电咨询（电话：010-82867920/21/22），更多光刻胶信息请查看官网：http://www.germantech.com.cn/new/cplook.asp?id=514

Made in UK, 英国EM Resist Ltd出品的光刻胶（1%-17% PMMA、SML系列电子束曝光阻剂），PMMA是常用的普通正阻剂；SML系列阻剂是高分辨率高深宽比的正阻剂。高档的SML正阻剂特点：无需邻近效应校正，低加速电压下也能使用，可提高EBL设备能力并制作出传统PMMA做不出来的新颖微纳器件，特别适合科研应用；有SML50、SML100、SML300、SML600、SML1000、SML2000等系列型号（数字表示光刻胶涂布厚度）。[资料]PMMA (Polymethyl – Methacrylate；聚甲基丙烯酸甲酯；positive tone, polymer chain scission type for Electron beam, DUV, x-ray and multi-level lithography) is a widely used, versatile resist that is used for many imaging (and non-imaging) micro-electronic applications as well as a protective coating for wafer thinning, a bonding adhesive and as a sacrificial layer, but is commonly used as a high resolution positive resist for direct write with e-beam. EM Resist Ltd specialises in electron beam lithography resists and applications. We develop and manufacture electron beam resists in a purpose built clean-room facility to ensure maximum quality and performance.Our products and expertise are the result of many years research by experienced physicists and material scientists in both academia and industry. EM Resist products are provided in a clean room compatible box, if you need Material Safety Data Sheets, Process Information, Example design files and other useful information, please contact with our Chinese Distributor(www.tansi.com.cn).PMMA Product Options. First,select which solvent(Anisole or Chlorobenzene) best suits your application. Second,select which solid percentage(1%-17%, 20nm-3500nm) of thickness required.Third,choose a volume to suit your usage needs.

上海屹持光电技术有限公司专业提供各种镀膜服务：典型实例 1，磁控溅射合金膜2，ICPPECVD 制备高厚低应力氧化硅薄膜3，沉积细胞定位电极4，磁控溅射的 制备的 Au/TiO2 连续 主要设备：1，磁控溅射镀膜系统2，磁控溅射镀膜机3，磁控溅射真空镀膜机4，电子束蒸发镀膜仪5，高密度等离子体增强化学气相沉积设备

功能概述：用于透射电镜、扫描电镜、聚焦离子束、电子束光刻机、电子束焊接机、电子束3D打印、电子束蒸镀等领域；主要性能：真空范围：≤2.7 x 10∧-7Pa，温度范围：1750～1850K，针尖曲率半径：0.4~0.9um

简介： CS10电流变送器监测沿单根导线的直流电的范围为0.15 A至200 A。它输出是毫伏信号，适合本公司多种数据记录器直接测量。优点： 应用包括电动机或发电机的负载条件，效率研究，间歇性的故障检测和粗分表计量；封闭示，不能直接连接电气到系统。技术规格：CS10电流变送器工作原理是用磁性的CR8459电流互感器来检测电线磁场产生的电流。CS10的外部用电线外皮保护，不能连接其他电子设备到系统。CS10可用于测量不需要高精度的，如电动机或发电机负载状态监测，效率研究，间歇性的故障检测，粗分表计量。 技术参数：型号技术参数测量范围0.15—200A频率50赫兹和60赫兹电阻100MΩ@ 500 VDC高电势2000 V额定电流200A精度实际值的±5％（10Ω最大负荷）工作温度-25°C至+55°C外壳材料聚丙烯树脂构造物环氧树脂封装外直径4.8厘米（1.89英寸）内径1.9厘米（0.75英寸）身高1.7厘米（0.67英寸） 产地：美国

简介： CS10电流变送器监测沿单根导线的直流电的范围为0.15 A至200 A。它输出是毫伏信号，适合本公司多种数据记录器直接测量。优点： 应用包括电动机或发电机的负载条件，效率研究，间歇性的故障检测和粗分表计量；封闭示，不能直接连接电气到系统。技术规格：CS10电流变送器工作原理是用磁性的CR8459电流互感器来检测电线磁场产生的电流。CS10的外部用电线外皮保护，不能连接其他电子设备到系统。CS10可用于测量不需要高精度的，如电动机或发电机负载状态监测，效率研究，间歇性的故障检测，粗分表计量。 技术参数：型号技术参数测量范围0.15—200A频率50赫兹和60赫兹电阻100MΩ@ 500 VDC高电势2000 V额定电流200A精度实际值的±5％（10Ω最大负荷）工作温度-25°C至+55°C外壳材料聚丙烯树脂构造物环氧树脂封装外直径4.8厘米（1.89英寸）内径1.9厘米（0.75英寸）身高1.7厘米（0.67英寸） 产地：美国

简介： CS15电流变送器是CS10的升级版，监测直流电的范围为0.15 A至125 A。它输出是毫伏信号，适合本公司CR200（X）数据采集器配合使用。优点： 应用包括电动机或发电机的负载条件，效率研究，间歇性的故障检测和粗分表计量；封闭示，不能直接连接电气到系统。技术规格：CS15电流变送器工作原理是用磁性电流互感器来检测电线磁场产生的电流。CS15的外部用电线外皮保护，不能连接其他电子设备到系统。可用于测量不需要高精度的，如电动机或发电机负载状态监测，效率研究，间歇性的故障检测，粗分表计量。 技术参数：型号技术参数测量范围0.15—125A频率50赫兹和60赫兹电阻100MΩ@ 500 VDC高电势2000 V额定电流125A精度实际值的±5％（10Ω最大负荷）工作温度-25°C至+55°C外壳材料聚丙烯树脂构造物环氧树脂封装外直径4.8厘米（1.89英寸）内径1.9厘米（0.75英寸）身高1.7厘米（0.67英寸） 产地：美国

简介： CS15电流变送器是CS10的升级版，监测直流电的范围为0.15 A至125 A。它输出是毫伏信号，适合本公司CR200（X）数据采集器配合使用。优点： 应用包括电动机或发电机的负载条件，效率研究，间歇性的故障检测和粗分表计量；封闭示，不能直接连接电气到系统。技术规格：CS15电流变送器工作原理是用磁性电流互感器来检测电线磁场产生的电流。CS15的外部用电线外皮保护，不能连接其他电子设备到系统。可用于测量不需要高精度的，如电动机或发电机负载状态监测，效率研究，间歇性的故障检测，粗分表计量。 技术参数：型号技术参数测量范围0.15—125A频率50赫兹和60赫兹电阻100MΩ@ 500 VDC高电势2000 V额定电流125A精度实际值的±5％（10Ω最大负荷）工作温度-25°C至+55°C外壳材料聚丙烯树脂构造物环氧树脂封装外直径4.8厘米（1.89英寸）内径1.9厘米（0.75英寸）身高1.7厘米（0.67英寸） 产地：美国

大和电子科技株式会社成立于1967年，是一家电子显微镜灯丝制造商。 公司成立53年来，一直努力稳定供应灯丝，随着电子显微镜的发展，我们不断追求灯丝制造技术和精度的极限。我们使用电子显微镜专用等级的钨丝，在真空中进行退火处理，以消除灯丝的残余应力。 因此，在电子显微镜下使用时，漂移较少，裂纹的产生也得到抑制，从而获得更稳定的电子束。此外，我们还将自行研发的点焊机与定制的夹具相结合，进行精确焊接。 之后，使用定心夹具在确认中心精度的同时进行定心，因此无需在安装时进行繁杂的定心作业。用途：用于扫描电子显微镜和透射电子显微镜的电子枪种类：热电子发射型灯丝材质：● 灯丝：W、Ta、Re、Th-W、其它● 灯丝焊接柱：Kovar、Ta、Mo、其它● 陶瓷底座：AlO2、MgO?SiO2焊接：灯丝和焊接柱的焊接：电阻点焊灯丝和陶瓷座：玻璃密封，钎焊特征：● 使用电镜专用等级的灯丝● 点焊机为自主研发设备，专用于灯丝焊接。与定制的夹具结合使用，进行精确焊接 可实现从线径φ0.02的极细丝到线径φ0.5左右的极粗丝的焊接● 灯丝（多晶）的尖端可加工成发夹型、点型、尖锐型、线圈型等形状● 真空退火处理（安装设备后释放稳定的电子束）● 无需在安装设备时进行繁琐的定心工作（可提供定心灯丝套件）● 使用各种测量仪器进行产品检验合格后发货除上述灯丝外，还生产场发射发射器、质谱仪用灯丝、气相沉积用灯丝、各种加热器等。如您想了解更多关于产品的报价、型号、参数等信息，欢迎来电或留言咨询。

特点：• 用于LIGA、X射线掩膜板加工等• 感光波段：e-beam、X-ray、synchrotron• 基于PMMA的厚胶• 涂胶厚度从几微米到上百微米，覆盖能力好旋涂曲线：应用实例：欢迎致电咨询（电话：010-82867920/21/22），更多光刻胶信息请查看官网：http://www.germantech.com.cn/new/cplook.asp?id=514

这款电镜X射线发生器是专门为电子显微镜设计的X射线发生器，广泛用于电子显微镜的X射线荧光光谱分析，是理想X射线荧光光谱X射线发生器。电镜X射线发生器紧凑的设计和滑动安装允许与样品非常接近。 专利的多毛细管光学聚焦x射线激发下降到10μ的样品斑点尺寸。 Xb提供10μm和40μm的斑点尺寸。 集成的高压电源最大功率为50瓦（35-50千伏，取决于阳极材料为1.0毫安）。 紧密耦合提供与传统“桌面”或“独立”单元相当的XRF分析结果。 Xb被设计成不干扰电子显微镜的正常操作，包括在同一样品上使用电子束，同时收集所有元素。不需要特殊的冷却电子束（来自扫描电子显微镜）产生非常高的背景隐藏样品中的微量元素。 来自真正的“X射线”源的X射线没有这种效果。 使用Xb低ppm级别的元素可以轻松识别，量化，甚至产生痕量X射线图，以查看样品中微量元素的元素分布。电镜X射线发生器应用：艺术与考古 石油EDXRF化学 药物应用涂料和薄膜 塑料，聚合物和橡胶化妆品 电镀和电镀浴环境 木材处理应用食品应用 其他应用取证金属和矿石矿产和矿产品电镜X射线发生器规格 ?X 规格 阳极类型 侧窗 目标材料 Ag，Cu，Mo，Rh＆W 加速电压 0-50kV 光束电流 最大1mA阳极点尺寸 10，20，40μm 准直器尺寸 专利聚毛发聚焦光学 源过滤器 可应要求提供 冷却要求 风机冷却功率 100瓦 控制/安全 可变控制kV /μA，X射线开/关按钮，kV /μA显示，内部互锁快门。 联锁到SEM，键控上电开关，HV-On灯，警示灯

这款扫描电镜X射线源专门用于电子显微镜设计的X射线源，非常适合扫描电镜的XRF光谱分析,是理想的XRF射线源和X射线荧光光谱仪X射线源。 扫描电镜X射线源具有紧凑的设计和滑动安装功能，允许与样品非常接近。 取向在样品表面的小到大的激发区域产生高“通量”（x射线）。 扫描电镜X射线源?XSEMTM提供500μ至25mm的激发区域。 集成的高压电源最大功率为10瓦（35千伏和0.1毫安，取决于阳极材料）。 紧密耦合提供与传统“台式”或“独立”单元相当的XRF分析结果。扫描电镜X射线源?X SEMTM设计使其不影响电子显微镜的正常工作，包括在同一样品上使用电子束，同时同时收集所有元素。不需要特殊的冷却。 电子束（来自扫描电子显微镜）产生非常高的背景隐藏样品中的微量元素。 来自真正的“X射线”源的X射线没有这种效果。 使用扫描电镜X射线源?XSEMTM可以轻松识别，量化，甚至生成痕量X射线图，以查看样品中微量元素的元素分布。 应用： 艺术与考古 石油EDXRF 化学 药物应用 涂料和薄膜 塑料，聚合物和橡胶 化妆品 电镀和电镀浴 环境 木材处理应用 食品应用 其他应用 取证 金属和矿石 矿产和矿产品 ?X 规格 阳极类型 端窗传输 目标材料 Ag，Mo＆W 加速电压 10-35kV 光束电流 0-100μA 阳极点尺寸 500μm 准直器尺寸 200μm，500μm，1000μm（其他可选） 源过滤器 可应要求提供 冷却要求 传导冷却，不需要风扇 控制/安全 可变控制kV /μA，X射线开/关按钮，kV /μA显示。 连接到SEM，键控上电开关，集成高压电源，HV-On灯，警示灯

型电流注入探头 型号；HA-ZN23110A. 概述： HA- ZN23110A型电流注入探头，主要用于向电缆线、连接线注入电流，或者用于电缆线、连接线、骚扰电流的测量。2. 作特性：2.1 频率范围：10kHz～60MHz2.2 传输导纳：见图三2.3 输入阻抗：50Ω2.4 输入插座：N型2.5 大承受率：200W2.6 外形尺寸及重量：a. 外形尺寸：220×180×48（mm）b. 内径尺寸：Φ58c. 重量：2.8kg

威思曼高压电源推出的MUB高功率高压电源模块，MUB系列模块可以输出2路电压，每路正负极性任意选择，每路单独控制，当俩路输出为同极性时，可用于电流要求较高的场合；当俩路极性相反时，通常用于推挽式电路供电应用。MUB系列属于印刷电路板安装高功率高压模块电源。MUB系列印制电路板安装型高功率高压电源模块无论在产品的外观、功率密度上均是目前市场超前的模块，这种基于 SMT 的高压电源模块具有优越的性能和很高的可靠性，MUB是系统集成商OEM的理想选择，系统集成更轻松。主要用途： 电容充电、电容特性测试、电子束、离子束、质谱仪、半导体测试、脉冲电源供电、高压测试、电泳、蛋白质提取、电缆绝缘测试、电子元器件老化、医疗化工、科学实验、工业应用。高稳定性0.01％超低纹波温度系数10ppm/℃电压调整率0.01％负载调整率0.01％短路保护和电弧放电保护客户可OEM定制，价格有优势输入：30W,40W,50W,60W,DC24V输入，对应输入电流：30W为1.7A,40W为2.3A,50W为2.9A,60W为3.5A,输出电压：250V,500V,1K,2KV,4KV,6KV。62V,125V,6-9KV可定制。输出电流：0.67mA-480mA输出功率：30W,40W,50W,60W,高稳定性0.01％超低纹波温度系数10ppm/℃电压调整率0.01％负载调整率0.01％短路保护和电弧放电保护工作温度：0-50℃储存温度：-40- +85℃湿度：20-80%RH(不结露）尺寸：1.12”H x 2.86”W x 2.86”D(28.5mm x 72.6mm x72.6mm).

放大倍数校准标样MRS-4: 应用 EM - SEM, SE和BSE模式、 SEM/FIB、TEM (特制) 扫描显微镜与表面轮廓仪- STM、AFM，图案高度为100nm? 光镜 – 透射、反射、明/暗场、相差、共焦 化学成像- EDS、WDS、XRF、XPS、Auger等，图案为100nm CrO2 和 Cr在石英上形成。 粒径计算- 含用于校准的系列圆、方形和矩形图案 图案设计MRS-3由高精密度直写电子束制造设备所制，石英上的图案为抗反射的Cr。二次电子像和背散射电子像反差好。图案表面镀有特殊导电材料，使该标样适

【型　　号】MMA【功率(W)】0.5W,1W,2W【最大输出电压(kV)】,0.1,0.2,0.3,0.4,0.5,0.8,1,1.1,1.25,1.5,2,【在线订购】【在线下载】 威思曼高压电源推出的MMA模块高压电源是光电倍增管，质谱仪，电子显微镜等专用超低噪音，高稳定性，小型化模块。价格有优势。主要用途： 光电倍增管、电离室、正比计数管、盖革-弥勒(G-M)计数管、电泳、透镜、质谱仪、探测器、探测器、闪烁器、电子束、离子束、静电印刷、高电压偏置、医疗化工，科学实验，工业应用。 MMA系列是一款印制电路板安装式高压电源，体积小，超低纹波5mV，超高稳定性，15ppm低温度漂移,六面屏蔽超低噪声。有过流、短路、拉弧等保护。输入电压：12±0.5V （可选：-5：5V±1V，-15：15V±1V ,-24：24V±1V ）输入电流：空载：60mA满载：200mA 输出电压范围：100V,200V,300V,400V,500V,800V,1KV,1.KV,1.25KV,1.5KV,2KV最大输出功率：0.5W,1W,2W。电压调整率：0.01%，典型的。负载调整率：0.01%，典型的。稳定性： 每小时0.01%，每8小时0.03%。纹波/噪音：5mV（最大电压和最大电流时），典型的。输出电压控制：通过外部电压控制（0 V 到 +5 V）电压控制输入阻抗：100KΩ输出电压上升时间:50ms（0-99%）温度系数：15ppm/℃温度：工作温度：0℃到50℃储存温度：-20℃到+70℃湿度：工作湿度：80%以下，无冷凝。储存湿度：80%以下，无冷凝。保护功能：模块有输入电压极性接反保护，控制电压大或接反保护，持续的过载保护,短路保护,拉弧保护尺寸：D30 X W15 X H12重量：20g（0.7 OZ)

STRIP,TOMAHAWK,#02光阑条，用于原厂聚焦离子束TOMAHAWK型号的离子枪，光阑条是一个条状薄片上有多个不同孔径的圆孔，通过不同的孔径限制离子束的电流强度。以实现不同离子束电流间的切换。大束科技是一家以自主技术驱动的电子显微镜系列核心配件研发制造的供应商和技术服务商。目前公司主要生产电子显微镜的核心配件离子源、电子源以及配套耗材抑制极、拔出极、光阑等销往国内外市场，此外，还为用户提供定制化电子显微镜以及电子枪系统等的维修服务，以及其他技术服务和产品升级等一站式、全方位的支持。在场发射电子源（电子显微镜灯丝）、离子源以及电镜上的高低压电源、电镜控制系统研发制造等领域等均具有优势。

放大倍数校准标样MRS-4: 应用 EM - SEM, SE和BSE模式、 SEM/FIB、TEM (特制) 扫描显微镜与表面轮廓仪- STM、AFM，图案高度为100nm? 光镜 – 透射、反射、明/暗场、相差、共焦 化学成像- EDS、WDS、XRF、XPS、Auger等，图案为100nm CrO2 和 Cr在石英上形成。 粒径计算- 含用于校准的系列圆、方形和矩形图案 图案设计MRS-3由高精密度直写电子束制造设备所制，石英上的图案为抗反射的Cr。二次电子像和背散射电子像反差好。图案表面镀有特殊导电材料，使该标样适

应用? EM - SEM, SE和BSE模式、 SEM/FIB、TEM (特制) 扫描显微镜与表面轮廓仪- STM、AFM，图案高度为100nm光镜 – 透射、反射、明/暗场、相差、共焦化学成像- EDS、WDS、XRF、XPS、Auger等，图案为100nm CrO2 和 Cr在石英上形成。粒径计算- 含用于校准的系列圆、方形和矩形图案 图案设计MRS-3由高精密度直写电子束制造设备所制，石英上的图案为抗反射的Cr。二次电子像和背散射电子像反差好。图案表面镀有特殊导电材料，使该标样适

应用? EM - SEM, SE和BSE模式、 SEM/FIB、TEM (特制) 扫描显微镜与表面轮廓仪- STM、AFM，图案高度为100nm光镜 – 透射、反射、明/暗场、相差、共焦化学成像- EDS、WDS、XRF、XPS、Auger等，图案为100nm CrO2 和 Cr在石英上形成。粒径计算- 含用于校准的系列圆、方形和矩形图案 图案设计MRS-3由高精密度直写电子束制造设备所制，石英上的图案为抗反射的Cr。二次电子像和背散射电子像反差好。图案表面镀有特殊导电材料，使该标样适

MSD 电子倍增器和备用角管电子倍增器的使用寿命与流经的电流和所受到的污染或凝结直接相关。当电压超过2500 V 时，更换电子倍增器或备用角管。要最大程度地延长电子倍增管的使用寿命，应注意以下几点：. 保持尽可能高的真空度，特别是在分析器多路连接管中. 极其谨慎小心的放真空、抽真空及所有真空系统的操作，使泵油本底保持最低. 放空结束后，在扫描前要进行4 小时抽真空和热平衡. 密切注意本底污染和泄漏，并及时维修. 不要过度频繁地调谐，PFTBA 可能会在较长时间内导致较高本底. 如果真空度变差或电压高于2600 V，更换电子倍增器

特点：• 用于增强光刻胶和衬底的黏附性• 用于紫外光刻胶、电子束光刻胶、特殊功能用光刻胶等• 采用旋涂的方式进行涂覆，操作简单• 涂覆厚度：15nm@ 4000rpm• 和传统的HMDS相比，毒性更小，使用更安全，更经济实惠• new版本与旧版AR 300-80相比,烘烤温度降低 （60℃ 热板 2min）