电子束感生电流

电子束感生电流 (EBIC) 技术可通过测量样品或设备暴露于电子束时流动的电流，对半导体材料和设备的局部电气性能进行表征。电子束射到半导体上时，会形成电子空穴对。如果载流子（即上文所述的电子空穴对）扩散到带有内置电场的区域，则电子和空穴将分离，电流将流动。当电流流动到外电路时，EBIC 技术会测量该电流。在没有重组中心（自由电子和空穴湮没的位置）的材料中，收集到的电流将是均匀的，而且并不相关。然而，引发电子和空穴重组的样品区域减少了收集电流，造成 EBIC 图中形成对比，因此揭示了半导体样品中（少数）载流子的流动。

在电子元器件的研制阶段、失效分析可纠正设计和研发过程中的错误，缩短研发周期；在电子元器件的生产、测试和使用阶段，失效分析可找出电子元器件的失效原因和引起失效的责任方。扫描电镜作为电子元器件失效分析的一种工具有其独特的特性，扫描电镜除了能够有效地观察试样的形貌之外，还具有能提供电压衬度像、电子束感生电流像、背散射电子像和吸收电子像等光学显微镜所达不到的功能。

本研究以川产道地麦冬药材为研究对象，采用高能电子束辐照处理，综合评估不同剂量 0 (CK) 、2、4、6 kGy 电子束辐照对麦冬微生物含量、感官品质、理化品质、活性成分含量及抗氧化活性的影响， 以期为电子束辐照技术在麦冬加工贮藏中的应用提供理论支撑。

以江苏泰州本地养殖小龙虾为原料加工即食小龙虾,经复合材料真空透明包装,采用高能电子束灭菌,辐照剂量分别为0（对照组）、4、5、6、7 kGy。研究不同电子束辐照后即食小龙虾pH、色差、质构、氨基酸含量、含硫化合物的变化,以及扫描电镜下的微观结构和保温试验情况。

上海伯东客户某光刻机生产商, 生产的电子束光刻机 Electron Beam Lithography System 最大能容纳 300mmφ 的晶圆片和 6英寸的掩模版, 适合纳米压印, 光子器件, 通信设备等多个领域的研发及生产. 经过伯东推荐采购氦质谱检漏仪 ASM 310 用于电子束光刻机腔体检漏.

新型低压电子束焊接加工技术具有凹型阴极、自聚焦和低造价的突出特点，不再需要高真空系统，也无需磁透镜和磁线圈进行电子束的聚焦和偏转，可进行微零件焊接和低熔点材料表面微结构改性。但这种新型技术对氩气工作气压的要求较高，需要在7~12Pa的低真空范围实现高精度的调节和控制。本文针对此高精度控制提出了解决方案，即在电容真空计作为传感器的基础上，采用了电动针阀和超高精度压力控制器，控制精度可达±1%。

在相邻电极的脉冲电子束产生的氩和氧的等离子体中，测量时间分辨离子的流量和能量分布。氩离子和氧离子的能量和流量的时间变化，是跟等离子体的电子温度和离子密度相关的。氧等离子体的延迟时间要比氩的短。这可以通过分析各种离子的损失机理来推断。

在相邻电极的脉冲电子束产生的氩和氧的等离子体中，测量时间分辨离子的流量和能量分布。氩离子和氧离子的能量和流量的时间变化，是跟等离子体的电子温度和离子密度相关的。氧等离子体的延迟时间要比氩的短。这可以通过分析各种离子的损失机理来推断。

上海伯东美国 KRi 考夫曼离子源 KDC 系列, 通过加热灯丝产生电子, 是典型的考夫曼型离子源, 离子源增强设计输出低电流高能量宽束型离子束, 通过同时的或连续的离子轰击表面使原子(分子)沉积在衬底上形成薄膜, 实现辅助镀膜 IBAD.

本研究利用电子束辐照保鲜和壳聚糖涂膜保鲜结合起来对凯特芒果进行品质的综合评价。 相对于单一的辐照保鲜， 涂膜辐照综合保鲜很大程度的提高了芒果的货架期。将一层薄膜覆盖在芒果表面， 再进行辐照处理更好地降低了辐照后与果实与空气中微生物的接触， 同时壳聚糖具有抑菌性， 因此将保鲜时效得以延长。 本研究所采用的辐照技术是电子加速器辐照， 相对于钴源辐照减少了消费人群对辐照食品安全性的担忧；而壳聚糖更是一种绿色的生物保鲜膜， 相对于化学保鲜剂壳聚糖涂膜更安全可靠。 涂膜辐照综合保鲜针对四川特产攀枝花凯特芒果进行研究， 降低了芒果的损失增加了经济效益。

如何使用扫描电镜获取最佳的陶瓷类样品图像？飞纳电镜与你一起全方位，多角度分析这个问题。随着电流的增加图像的细腻度增加，信噪比增加，图像质量上升了。这主要是由于相同加速电压下，当增加电子束电流之后，有更多的电子跟样品发生相互作用，电子束在单像素停留时，有更多电子和样品发生相互作用，探头接受了更多的BSD信号；另一方面，图像中单像素范围内电子束与样品的相互作用范围增大，相邻像素的电子束作用范围重合度增加，这样一来单像素的灰度值与邻近像素的灰度值更趋于接近，灰度变化曲线的平滑性更好，给人一种细腻的视觉感受。

目前，电子显微镜技术(electron microscopy)已成为研究机体微细结构的重要手段。常用的有透射电镜 (transmission electron microscope，TEM)和扫描电子显微镜(scanning electron microscope,SEM)。与光镜相比电镜用电子束代替了可见光，用电磁透镜代替了光学透镜并使用荧光屏将肉眼不可见电子束成像。

当电子束与样品相互作用时，会产生背散射电子（BSE）和二次电子（SE）。通过检发射信号可获得样品表面的成分衬度像（背散射电子）和表面形态像（二次电子）。背散射电子和二次电子是如何形成的，为什么它们携带特定的样品信息？此外，能否在一幅图像中同时获得成分和形态信息？

扫描电镜成像主要是利用样品表面的微区特征，如形貌、原子序数、晶体结构或位向等差异，在电子束作用下产生不同强度的物理信号，使荧光屏上不同的区域呈现出不同的亮度，从而获得具有一定衬度的图像。

高岭土是一种化学结构为Al2Si2O5(OH)4 的矿物质粘土及岩石，它富含在高岭石中，即我们已知的高岭土或者陶土，并且被用作铜版纸的涂层颜料。由于它的品质取决于颗粒的大小或者分布，因此用SEM观察是很重要的，但因样品容易受到电子束损伤而较难达到高放大倍率。 日立高新技术公司使用场发射扫描电子显微镜SU8220分别采用100V和500V的着陆电压对高岭土的同样的观测部位进行了拍摄。结果表明着陆电压为100V时，可以很清晰的观察到层状结构；着陆电压为500V时，没有出现太多的层状结构，而是出现了斑状点。 从结果来讲，这种样品非常容易受到电子束损伤，而SU8220却可以用极低的电压得到很高的分辨率，因此使用SU8220是非常理想的。

阿米精控科技（山东）有限公司专注于纳米运动控制及超精密机电系统领域的创新设计及产品研发，是一家集研发设计、制造、销售于一体，拥有全自主知识产权的微纳测控及超精密自动化“系统级硬科技”公司。阿米精控纳米运动平台基于微纳柔性机构和压电执行器实现超高分辨力纳米运动，内置光栅/电容微位移传感器，通过高性能纳米伺服系统实现闭环控制，具有亚纳米级运动分辨率、纳米级运动精度和高速、高动态轨迹扫描功能。

利用薄膜生长法获得的界面高温超导材料是超导领域的一个重要研究方向。由于电子探针定量测试基体修正模型中首先假设电子束与试样交互作用区域的均质性，这种界面高温超导材料的层状膜结构给电子探针的定量测试带来一定的问题。本文以多层复合膜Sb-BaTiO3界面高温超导材料为例，梳理了测试流程。对于干扰谱线的确认和扣减问题进行了方法说明，探讨了基体修正ZAF方法的选择，以期获得更为理想的测试结果。

上海伯东美国 KRi 霍尔离子源 EH 系列, 提供高电流低能量宽束型离子束, KRi 霍尔离子源可以以纳米精度来处理薄膜及表面, 多种型号满足科研及工业, 半导体应用. 霍尔离子源高电流提高镀膜沉积速率, 低能量减少离子轰击损伤表面, 宽束设计提高吞吐量和覆盖沉积区. 整体易操作, 易维护, 安装于各类真空设备中, 例如 e-beam 电子束镀膜机, load lock, 溅射系统, 分子束外延, 脉冲激光沉积等, 实现 IBAD 辅助镀膜的工艺.

降解速度因材料不同而有很大差异，有些样品你可能根本看不到。如果样品降解并且会干扰您的结果，那么这里有一些提示可以减缓降解：• 用喷金设备溅射金膜涂覆样品以减缓降解。金膜越厚，效果越好。但要小心，不要用金膜遮盖细节。• 降低电流和加速电压。• 在样品的非重要区域调整拍照参数（例如对焦和对比度）。当设置好之后，移动到目标区域，立即拍照并迅速离开，这样就尽可能减少了电子束照射时间。

本文使用岛津电子探针显微分析仪EPMA-1720依据讨论的检测方法对两类硅酸盐玻璃试样进行了定性谱图的测试解析和微区定量测试，获得了理想的测试结果。针对硅酸盐玻璃的微区成分定量测试难点和分析方法进行了探讨，同时对加速电压的选择和含有电子束照射敏感的碱金属元素测试等注意事项进行了说明。

扫描电子显微镜成像的基本原理是通过灯丝枪产生一定量的游离电子，经高压加速获取更大的动能，与样品表面碰撞，产生二次电子和背散射电子信号，经由相关探测器接收，转化成我们直观看到的图像。那么一个样品最终的成像效果好或者不好的判断依据有哪些呢？直观的感觉是这张照片好不好看，清不清晰。归根结底就两个特点来决定：1、照片清晰程度，这一点由分辨率决定；2、照片的细节呈现，这一点由加速电压和电子束质量决定。在一定程度上，提高加速电压，是有助于分辨率提升的，但带来的明显副作用就是电子穿透效应，使得样品形貌变得透明化，表面细节虚化，无法判断，这便成了一个矛盾的选择。所以，只考虑提升加速电压来提高照片清晰度，并不是上上策。

由导电性颗粒和非导电液体混合而成的电流变液的微观结构状态在有无外电场作用差异巨大，从而表现出显著不同的流变特性。这类体系有着广泛应用前景，对电流变液流变特性的系统表征有十分重要的意义和实用价值，TA仪器最新研制的电流变附件是研究这类流变的理想工具。

近年来，随着科技的发展和材料尺寸的不断缩小，扫描电镜（SEM）已经成为一种非常有价值的表征方法。SEM作为一种通用的工具，方便用户可以对各种各样的材料进行多种不同类型的分析。为获得更好的结果，用户应该仔细设定SEM参数。其中一个设置是束斑直径，即照射在样品上的电子束直径。在这篇博客中，阐述了如何在SEM中调整束斑直径，以及如何在高分辨率成像和大束流之间实现平衡，以获得最佳结果。

随着基于铌酸锂LN的光源、光调制、光探测等重要器件的实现，铌酸锂LN光子集成芯片有望像硅基集成电路一样，成为高速率、高容量、低能耗光学信息处理的重要平台，在光量子计算、大数据中心、人工智能及光传感激光雷达等领域彰显其应用价值。由于铌酸锂LN的特殊化学性能，IBE离子束刻蚀+EBL电子束曝光是最优的解决方案。

扫描电镜激发样品的物理信号（二次电子、背散射电子、特征 X 射线等）主要取决于入射电子束的加速电压，当高能量的电子束入射到同一样品时，入射电子束与试样相互作用区范围的大小随加速电压的升高而增大。

上海伯东某科研客户的研究方向是物理量传感器，用于监测土壤的力学结构变化，一般用于山体、岩石和冻土等环境研究。这种传感器通过镀膜、沉积、刻蚀等工艺多次循环来加工，Au 和 Pt 是传感器加工中常用的涂层，在完成镀膜（溅镀 Sputter 或者电子束蒸镀 E-beam）用传统的湿法刻蚀、ICP 刻蚀和 RIE 刻蚀等工艺无法有效的刻蚀出所需的图形。离子束刻蚀 IBE 作为最有效的刻蚀方案可以解决这个问题，刻蚀那些很难刻蚀的硬质或惰性材料。

卤化物钙钛矿已成为下一代光电应用(如太阳能电池和发光二极管)的特殊候选者。钙钛矿薄膜在微观和纳米尺度上具有非均质性。对纳米尺度的理解是开发和改进这些新型材料的基础。CL允许在高空间分辨率下探测材料的特性。然而，这些软半导体对电子束损伤非常敏感，这主要阻碍了CL的使用。

扫描电子显微镜是观察物质微观表面形貌的主要工具，它主要由真空系统、电子光学系统、图像系统和控制系统组成。现代扫描电子显微镜图像显示系统和控制系统都已经实现PC控制下的数字化，同时增加了图像处理功能，能够容易的与通用软件相结合，方便编辑报告、论文和信息传送。对于早期模拟图像系统和专用计算机控制的数字图像系统的扫描电子显微镜可以通过外接计算机图像采集系统实现模拟图像数字化，或图像系统数字化。什么是模拟图像数字化？就是将获取的图像模拟信号经过模数转换器（ADC）变成数据输入到计算机中存储、显示和处理。根据这种原理制成的图像系统，就是我们常说的被动式图像系统。其优点：采集卡电路简单，价格便宜。缺点：安装、调试困难，因为它需要和扫描电子显微镜的扫描系统同步，所以要改变原扫描电子显微镜内部电路，稍不小心就会造成事故，给扫描电子显微镜带来硬伤。另外，由于不能和扫描电子显微镜扫描真正同步，采集到的图像变形，最为明显的是圆变为椭圆，同时不能实时处理，只有将采集到的图像存储以后进行处理，才可以输出。什么是图像系统数字化？用数字扫描系统替代模拟扫描系统，由此获取的图像信号数据，完全对应电子束扫描点上的样品信息，图像显示分辨率对应电子束在样品上扫描过的行和列的点数，图像扫描和图像显示全数字化。需要说明的是现代数字扫描电子显微镜自定义分辨率值为：1024×1024，这是一个最佳值（从采集速度和分辨率两方面考虑），这和被动式图像系统所谓的图像分辨率不是一个概念。我们称这样的系统为主动式图像系统，国外升级扫描电子显微镜也是采用此种方法。其优点：图像质量高，速度快，不会产生图像变形等问题，安装简单，因为所有扫描电子显微镜都预留有外部图像控制接口，当外部控制信号到来时，内部扫描部分自动被旁路，显示部分被消隐，不需要改变任何内部电路结构。缺点：采集卡电路复杂，成本高。 综述，以上介绍了两种扫描电子显微镜改造图像系统的方法，最主要的区别在于是“被动式图像系统”还是“主动式图像系统”上，其中主动式图像系统是近年来国际上普遍使用的，因为被动式图像系统是一种早期图像数字化过渡产品，所谓的图像分辨率实质上是模拟信号取样点数，并非数字图像分辨率，像质较差，而主动式图像系统标称的分辨率才真正是数字图像分辨率，可以有效提高图像质量。

扫描电镜（SEM）用电子束扫描样品表面，收集携带电子束与样品相互作用信息的反射电子。如果样品仓内残留有空气，空气原子与电子束相互作用，部分偏转电子，并在图像上增加噪声。这就是扫描电镜成像前必须达到一定真空度的原因。但是，虽然高的真空对于准确的分析来说是至关重要的，但它也会对某些类型的材料成像产生负面影响，例如含有水分的样品。阅读这篇博客，了解如何在扫描电镜的真空环境中观察对真空敏感的样品，并保持样品结构完整。

最近，有飞纳电镜用户询问关于电子束分析样品时可以穿透样品的深度的问题，这里小编将为大家详细介绍一下。扫描电镜是利用聚焦电子束进行微区样品表面形貌和成分分析，电子从发射源（灯丝）经光路系统最终到达样品表面，电子束直径可到 10 nm 以下，场发射电镜的聚集电子束直径会更小。聚焦电子束到达样品表面会激发出多种物理信号，包括二次电子（SE），背散射电子（BSE），俄歇电子（AE）、特征 X 射线（X-ray）、透射电子（TE）等。