导电薄膜

基于SiO2/Si晶片的双层CVD石墨烯薄膜将两层单层CVD石墨烯膜转移 到285nm p掺杂的SiO 2 / Si晶片上 尺寸：1cmx1cm 4片将每个石墨烯膜连续转移到晶片上我们的石墨烯薄膜的厚度和质量由拉曼光谱控制该产品的石墨烯覆盖率约为98％石墨烯薄膜是连续的，具有小孔和有机残留物每个石墨烯薄膜主要是单层（超过95％），偶尔有少量多层（低于5％的双层）由于没有A-B堆叠顺序。石墨烯薄膜彼此随机取向。薄层电阻：215-700Ω/平方硅/二氧化硅晶圆的特性：氧化层厚度：285nm颜色：紫罗兰色晶圆厚度：525微米电阻率：0.001-0.005欧姆 - 厘米型号/掺杂剂：P /硼方向：100 前表面：抛光背面：蚀刻应用：石墨烯电子和晶体管导电涂料航空航天工业应用支持金属催化剂微执行器MEMS和NEMS化学和生物传感器基于石墨烯的多功能材料石墨烯研究

产品名称：氮化铝(AlN)薄膜 产品简介：AllN Epitxial范本saphhire提出了氢化物气相外延（HVPE）的方法。氮化铝薄膜又是成本效益的方法，用来取代氮化铝单晶衬底。科晶真诚欢迎您的垂询！技术参数：尺寸 dia50.8mm±1mm蓝宝石衬底取向 c轴（0001)±1.0deg衬底： Al2O3 SiC GaN薄膜厚度：10-5000nm导电类型： 半绝缘型位错密度：XRD FWHM of 0002500arcsec XRD FWHM of 10-121500arcsec 有效面积：80%抛光：单抛光 产品规格： 氮化铝(蓝宝石衬底)：dia2"*1500nm±10% 注：可根据客户需求定制特殊的方向和尺寸。标准包装：1000级超净室，100级超净袋或单片盒封装

TUBALL?INK透明导电膜改质剂 透明导电薄膜(TCFs) 被用作触摸屏、液晶显示器、太阳能电池和有机发光二极管的透明电极制造。OCSiAl的透明导电膜技术达到表面电阻110 奥姆/平方，透明度90%。我们的透明导电膜的优势是高产能的技术，低成本和导电纳米碳管薄膜的耐机械性能。TUBALL?透明导电薄膜具有以下关键的优势：? 适合于大批量生产。生产在室温下，不用真空沉积? 导电涂层优异附着性适合大部分种类的基材? 每平方公尺添加6mg的TUBALL，使透明导电膜的透明度可以达到89%，电阻达到110 OHM/SQ。TCF with TUBALL. SEM image. OCSiAl, 2014. OCSiAl在展会上展示了配备TUBALL?的透明加热器包装规格:250ml

什么是ACF 异方性导电胶膜（Anisotropic Conductive Film，简称ACF）由Sony开发，现广泛用于IC与LCD、FPC与LCD、IC与Film之间的压合绑定，以实现信号的传输与画面的显示。 ACF是同时具有粘接、导电、绝缘三大特性的透明高分子连接材料，其特点在于Z 轴电气导通方向与 XY 绝缘平面的电阻特性具有明显的差异性。当Z 轴导通电阻值与 Y 平面绝缘电阻值的差异超过定比值后，既可称为良好的导电异方性。 基本原理 导通原理:利用导电粒子连接IC 芯片与 LCD 基板两者之间的电极使之成为导通，同时又能避免相邻两电极间导通短路，而达成只在Z轴方向导通之目的。 ACF中导电粒子捕获达到一定的数量时在IC bump 与ITO间才能发挥作用，当捕获粒子数过少时，会直接影响导通效果。所以要求每个bump上达到有效的粒子数量必须大于5个。ACF胶的应用步骤 首先，ACF附着在基材的清洁表面上。然后在不取下薄膜（PET）的情况下施加热量和压力（图1 ACF层压板）。接下来，移除薄膜（图2），IC芯片的电极对齐并精确定位以进行连接（图3）。最后，再次施加热压缩以固定和连接部件（图4 热压缩）。 在层压之前，必须仔细清洁要连接的安装板的表面。特别是，玻璃基板应用酒精、有机溶剂或等离子或紫外线清洁进行清洁。 热压粘合有两种类型：恒热法和脉冲热法。在恒热法中，粘合头连续加热以保持指定温度。在脉冲加热法中，压头仅在应用于ACF时才被加热。使用后一种方法时，会持续监控压头的温度 如果在粘合过程中温度下降，则会迅速升高到指定水平。热压粘合的关键点是控制压头的温度并保持压头和玻璃基板平行。检查导电颗粒的状态、电阻值和粘合后的粘合强度也很重要。目前关于高精度ACF热压粘合一般采用恒热法较多。 使用ACF最重要的一点是选择最佳薄膜。根据基板材料、电极材料和尺寸（厚度、宽度、长度）、节距长度以及要连接的两个电极的温度上限，找到 ACF 树脂和导电颗粒的正确组合至关重要。在确定温度上限时，必须考虑芯片和基材的耐热性。ACF相关热压粘合设备我司同时在生产，可以同步咨询。

基于SiO2/Si晶片的双层CVD石墨烯薄膜将两层单层CVD石墨烯膜转移 到285nm p掺杂的SiO 2 / Si晶片上 尺寸：1cmx1cm 4片将每个石墨烯膜连续转移到晶片上我们的石墨烯薄膜的厚度和质量由拉曼光谱控制该产品的石墨烯覆盖率约为98％石墨烯薄膜是连续的，具有小孔和有机残留物每个石墨烯薄膜主要是单层（超过95％），偶尔有少量多层（低于5％的双层）由于没有A-B堆叠顺序。石墨烯薄膜彼此随机取向。薄层电阻：215-700Ω/平方硅/二氧化硅晶圆的特性：氧化层厚度：285nm颜色：紫罗兰色晶圆厚度：525微米电阻率：0.001-0.005欧姆 - 厘米型号/掺杂剂：P /硼方向：100前表面：抛光背面：蚀刻应用：石墨烯电子和晶体管导电涂料航空航天工业应用支持金属催化剂微执行器MEMS和NEMS化学和生物传感器基于石墨烯的多功能材料石墨烯研究

基于SiO2/Si晶片的双层CVD石墨烯薄膜将两层单层CVD石墨烯膜转移 到285nm p掺杂的SiO 2 / Si晶片上 尺寸：1cmx1cm 8片将每个石墨烯膜连续转移到晶片上我们的石墨烯薄膜的厚度和质量由拉曼光谱控制该产品的石墨烯覆盖率约为98％石墨烯薄膜是连续的，具有小孔和有机残留物每个石墨烯薄膜主要是单层（超过95％），偶尔有少量多层（低于5％的双层）由于没有A-B堆叠顺序。石墨烯薄膜彼此随机取向。薄层电阻：215-700Ω/平方硅/二氧化硅晶圆的特性：氧化层厚度：285nm颜色：紫罗兰色晶圆厚度：525微米电阻率：0.001-0.005欧姆 - 厘米型号/掺杂剂：P /硼方向：100前表面：抛光背面：蚀刻应用：石墨烯电子和晶体管导电涂料航空航天工业应用支持金属催化剂微执行器MEMS和NEMS化学和生物传感器基于石墨烯的多功能材料石墨烯研究

基于SiO2/Si晶片的双层CVD石墨烯薄膜将两层单层CVD石墨烯膜转移 到285nm p掺杂的SiO 2 / Si晶片上 尺寸：1cmx1cm 8片将每个石墨烯膜连续转移到晶片上我们的石墨烯薄膜的厚度和质量由拉曼光谱控制该产品的石墨烯覆盖率约为98％石墨烯薄膜是连续的，具有小孔和有机残留物每个石墨烯薄膜主要是单层（超过95％），偶尔有少量多层（低于5％的双层）由于没有A-B堆叠顺序。石墨烯薄膜彼此随机取向。薄层电阻：215-700Ω/平方硅/二氧化硅晶圆的特性：氧化层厚度：285nm颜色：紫罗兰色晶圆厚度：525微米电阻率：0.001-0.005欧姆 - 厘米型号/掺杂剂：P /硼方向：100前表面：抛光背面：蚀刻应用：石墨烯电子和晶体管导电涂料航空航天工业应用支持金属催化剂微执行器MEMS和NEMS化学和生物传感器基于石墨烯的多功能材料石墨烯研究

产品及型号：编号型号宽× 长RMB（含税）1-7770-01CCJ-36-201-005012.7mm× 33m¥ 1,140.001-7770-02CCJ-36-201-010025.4mm× 33m¥ 1,870.001-7770-03CCJ-36-201-020050.8mm× 33m¥ 3,740.00特点1. 导电性压敏胶粘剂。 2. 缠绕在电缆上可使电缆具有屏蔽性。规格1. 材质：基体材料／铝、胶粘剂／丙烯类压敏导电带 2. 电阻值：0.0016&Omega /㎠ 3. 阻燃性：UL510合格品 4. 厚度：0.089mm （薄膜厚0.051mm）用途1. EMI屏蔽室和电气机箱等内部的被覆、粘合和糊缝等。

Atlas™ 标准薄膜制样机与高温薄膜制样系统Specac的等厚度薄膜制样工具主要用于高分子材料的光谱测定，根据热压制膜原理，所得到的样品是纯样品，谱图中只出现样品信息。Specac公司为满足客户的不同需求，提供三种等厚度薄膜制样工具，不仅可以将较厚的聚合物变成更薄的薄膜，还能将粒状，块状或板材，如药包材料，包装材料，特殊包裹材料等不规则的聚合物变成可以检测的薄膜。 GS15800高温薄膜制样系统技术参数： 最高操作温度高达400℃ 满足高端科研的要求 一周期40分钟 通过CE安全认证 集成的供热制冷设备? 2T的载荷极限 0.015, 0.025, 0.050, 0.100, 0.250, 0.500mm 薄膜直径29mm 压力范围0-2吨 一体式加热盘系统 双数字显示，精度1度 安全切换装置：70℃ 切断加热希同/55℃ 重启加热系统 一体式冷却盘高温薄膜制样机P/N GS15800有一组加热板是嵌入到薄膜制样机中的，所以当P/N GS15800装载在压 片机上时， 是不需要额外的Atlas 加热压盘P/NGS15515的。订购信息GS15640标准薄膜制样机特点：独立加热压盘，满足不同直径薄膜需要独立冷却盘，可缩短制膜周期重现性哈，制备过程简单 制膜过程无需化学品，成本低6种不同厚度的垫圈，适合各种高分子材料技术参数： 操作温度高达300℃ 一周期30分钟 4T的载荷极限 0.015, 0.025, 0.050, 0.100, 0.250, 0.500mm 薄膜直径29mm 双数字显示，精度℃ 可配套加热板P/N GS15515使用 冷却系统停止时切断加热系统 冷却水流速大于0.2/min时重启加热系统 独立冷却盒订购信息GS15640 Atlas™ 标准薄膜制样机包括: 0.015, 0.025, 0.050, 0.100, 0.250和0.500 mm 垫圈铝膜 直径40mm(200 片)Specacards 卡夹式，圆形通光孔直径10mm，样品架(20张)不锈钢镊子GS15800 Atlas™ 高温薄膜制样系统包括: 0.015, 0.025, 0.050, 0.100, 0.250and 0.500 mm 垫圈铝膜直径40mm(200 片)制作铝膜样品杯的工具Specacards 卡夹式，圆形通光孔直径10mm，样品架(20张)不锈钢镊子高稳定性及高精度的温度控制器(400℃) 薄膜制样套装GS15631 Atlas™ 标准型薄膜制样套装1包括: 薄膜制样系统(GS15640) 加热板和加热压盘以及数字全自动温控器(300°C) (GS15515)GS15633 Atlas™ 标准型薄膜制样套装2包括: 薄膜制样系统(GS15640)加热板和加热压盘以及数字温控器(300oC) (GS15515)15T手动液压机(GS15011)(对于GS15800,GS15631和GS15633，请指定220V或110V电压和使用的国家。)GS15800 Atlas™ 高温薄膜制样系统套装 包括: 高温薄膜制样系统(GS15800) 15T手动液压机(GS15011)(请指定220V或110V电压和使用的国家。)备件及耗材GS03800 卡夹式，圆形通光孔直径10mm，样品架 (100张/盒)GS03805 用于固定易伸缩薄膜样品的尼龙卡簧(20)GS03810 10mm x 25mm 矩形通光孔Specacards (100)GS03820 磁性薄膜样品架 圆形通光孔直径25mmGS15627 直径为40mm的铝膜(200)GS15641 冷却盒 用于标准薄膜制样系统 替换GS15642 标准薄膜制样压盘套装GS15629 标准薄膜制样机可替换的垫圈组件GS15805 高温薄膜制样机可替换的垫圈组件

成卷的或预先切成方形或圆形的Prolene，超聚酯，聚丙烯，Mylar，聚碳酸脂和聚酰亚胺样品支撑薄膜。 成卷的薄膜(7.6cm×15.2m） 正方形薄膜（63.5mm×63.5mm） 圆形薄膜（直径63.5mm） 多孔聚丙烯薄膜（6.4cm×5.1m）

教学型光学薄膜测厚仪配件是一款低价台式光学薄膜厚度测量仪,可测量薄膜厚度,薄膜的吸收率/透过率，薄膜反射率，荧光等，也可测量膜层的厚度,光学常量（折射率n和k)。光学薄膜测厚仪配件基于白光反射光谱技术，膜层的表面和底面反射的光VIS/NIR光谱，也是干涉型号被嵌入的光谱仪收集分析，结合多次反射原理，给出膜层的厚度和光学常数（n，k)，到货即可使用，仅仅需要用户准备一台计算机提供USB接口即可，操作非常方便。光学薄膜测厚仪配件参数 可测膜厚： 100nm-30微米；波长范围: 300-1000nm 探测器：650像素Si CCD阵列，12bit A/D精度：1%斑点大小：0.5mm 光源：钨灯-汞灯（360-2000nm)所测样品大小：10-150mm, 计算机要求：Windows XP, vista, Win7均可，USB接口；尺寸：320x360x180mm 重量：9.2kg光学薄膜测厚仪配件应用用于薄膜吸收率,透过率和荧光测量，用于化学和生物薄膜测量，传感测量用于光电子薄膜结构测量 用于半导体制造用于聚合物薄膜测量 在线薄膜测量用于光学镀膜测量

手持式薄膜测厚仪配件是全球首款便携式光学薄膜厚度测量仪,可测量透明或半透明单层薄膜或膜系的薄膜厚度,薄膜的吸收率/透过率，薄膜反射率，荧光等。手持式薄膜测厚仪可测量膜层的厚度,光学常量（折射率n和k)，薄膜厚度测量范围为350-1000nm，不需要电线连接，也不需要实验室安装空间，它从USB连接中获取工作电源，这种独特设计方便客户移动测量，只需USB线缆从计算机控制测量即可，采用全球领先的3648像素和16bit的光谱仪，具有超高稳定性的LED和荧光灯混合光源，光源寿命高达20000小时，手持式薄膜测厚仪配件特色USB接口供电，不需要额外的线缆供电超级便携方便现场使用超低价格手持式薄膜测厚仪配件参数 可测膜厚： 15nm-90微米；波长范围: 360-1050nm 探测器：3648像素Si CCD阵列，16bit A/D精度：1nm 斑点大小：0.5mm 光源：LED混合光源（ 360-1050nm )所测样品大小：10-150mm, 计算机要求：Windows XP, vista, Win7均可，USB接口；尺寸：300x110x500mm 重量：600克手持式薄膜测厚仪配件应用用于薄膜吸收率,透过率和荧光测量，用于化学和生物薄膜测量，传感测量用于光电子薄膜结构测量 用于半导体制造用于聚合物薄膜测量 在线薄膜测量用于光学镀膜测量

薄膜厚度测量系统配件是一种模块化设计的薄膜厚度测量仪，可灵活扩展成精密的薄膜测量仪器，可在此基础上衍生出多种基于白光反射光谱技术的薄膜厚度测试仪，比如标准吸收/透过率，反射率的测量，薄膜的测量，薄膜温度和厚度的测量。薄膜厚度测量系统配件：核心模块----光谱仪；外壳模块----各种精密精美的仪器外壳；工作面积模块----测量工作区域；光纤模块----根据不同测量任务配备各种光纤附件；测量室-/环境罩---给测量带去超净工作区域。薄膜厚度测量仪核心模块---光谱仪孚光精仪提供多种光谱仪类型，不同光谱范围和光源，满足各种测量应用

单层石墨烯膜增长方法：CVD合成、质量控制：光学显微镜&拉曼检测，外观（颜色）：透明，透明度：97%,外观（形状）：薄，覆盖率：95%，石墨烯层数：1，厚度（原理上）：0.345毫微米，场效应管电子AI203迁移率：2,000cm2/Vs,场效应管SIO2/SI的电子迁移率：4,000cm2/Vs,电阻：170欧姆平方米，晶粒尺寸：约10μm，基材铜铝箔：厚度：18μm、应用程序：石墨烯研究、多功能的电池、电子、航空航天工业、微机电系统和NEMS，微执行器，导电涂料。

薄膜拉力测试仪、塑料薄膜拉伸强度检测、塑料薄膜剥离测试仪介绍：LQJ211万能材料试验机有着超大数显控制系统-为主机曲线、力值、速度和变形动态显示，加上电脑可实现微机操作，参数随意设定，可以做不同材料30KN以内的拉伸、压缩、弯曲、剥离、撕裂、剪切、刺破、低调疲劳等多项力学试验.可根据国际标准ISO.JIS.ASTM.DIN等国际标准和国外标准进行试验和提供数据.以windows操作系统使试验数据曲线动态显示,试验数据可以任意删加,对曲线操作更加简便.轻松.随时随地都可以进行曲线遍历.叠加.分离.缩放.打印等全电子显示监控. 薄膜拉力测试仪、塑料薄膜拉伸强度检测、塑料薄膜剥离测试仪技术参数 Main specifications 1、最大负荷Load Accuracy： 30KN（任意选） 2、荷重元精度Load Accuracy： 0.01% 3、测试精度Measuring accuracy： ± 0.5% 4、操作方式Control： 全电脑控制,windows模式操作 5、有效试验宽度Valid width： 约420mm 6、有效拉伸空间Stroke： 约800mm 7、试验速度Tetxing speed : 0.001~500mm/min 8、速度精度 Speed Accuracy：: ± 0.5%以内； 9、位移测量精度Stroke Accuracy： ± 0.5%以内； 10、变形测量精度Displacement Accuracy： ± 0.5%以内 11、安全装置 Safety device： 电子限位保护，紧急停止键 Safeguard stroke 12、机台重量Main Unit Weight ： 约140kg

低VOC，抗老化能力强，极薄的固化薄膜即可产生强导电能力，使用前样品台表面应保持清洁与干燥，电阻率0.015 ohms/sq/mil (25&mu m)。

薄膜偏振片英文名Thin film polarizer，薄膜偏振片是一种介质镀膜偏振片把s光和p光分开，适合高功率激光或高能量激光应用，适合内腔和外腔应用。布儒斯特型薄膜偏振片又叫Thin film polarizer,布儒斯特角偏振片，是一种适合高能激光应用的偏振片，损伤阈值高达10J/cm2 @1064nm 8ns. 薄膜偏振片常常作为格兰泰勒棱镜和偏振立方分束器（偏振立方体）的替代用品使用。常用的基质材料是BK7和紫外熔炉石英。56度入射角（布儒斯特角）情况下的 偏振比值Tp/Ts=200：1.特点：1）薄膜偏振片,Thin film polarizer有效地分开s光和p光 2）薄膜偏振片,Thin film polarizer配备有库存，可以立刻发货。薄膜偏振片标准参数 材料：BK7, UVFS直径公差：+0.0/-0.12mm厚度公差：+/-0.2mm净孔径：90%表面质量： 20-10 scratch&dig表面平整度：Lambda/10 @633nm平行度：30arec sec 消光比Tp/Ts：200:1典型透过率： Tp90%典型反射率：Ts99.5%激光损伤阈值： 5J/cm2 10ns 1064nm现有产品：266nm,343nm, 355nm, 400nm, 515nm, 532nm,780nm, 780-820nm, 795-805nm,940nm980nm, 1020-1040nm, 1064nm, 1550nm偏振片中国领先的进口精密激光光学器件旗舰型服务商--孚光精仪！

specac_迷你等厚度薄膜制样套装 等厚度薄膜制样工具主要用于高分子材料的光谱测定。根据热压制膜原理，所得到样品是纯样品，谱图中只出现样品信息。Specac公司为满足客户的不同需求，提供了3种等厚度薄膜制样工具。不仅可以将较厚的聚合物变成更薄的薄膜，还可以将粒状、块状或板材等不规则形状的聚合物变成可以用光谱检测的薄膜。 视频：http://v.youku.com/v_show/id_XNDg3ODI1OTc2.html 点击观看视频

迷你薄膜制样套装一款5分钟就能实现红外透射分析专用的聚合物薄膜制样机特点：液压机与加热压盘以及温控器一体化的设计体积小巧，方便存储，携带薄膜重现性好，使用快捷 无需化学品，成本低,6种不同的垫圈这种设计允许加热板先进行预加热，温度升高至样品所需的熔点，并保持这个温度。样品在被引入到预加热板之前，薄膜制样机就可以独立的为几克的样品准备好相应的载荷和合适的定型圈。当薄膜制样机达到预设温度并稳定后，通常使用0.5T负载转动丝杆来热压薄膜。一旦从热压机上移走，低温块体薄膜制备制样机可以在冷却板上快速冷却到室温，压制成型的薄膜可以移除。薄膜样品可被镶嵌在一个3×2英寸的自粘帖卡片(Specacard) 上以用于红外透射光谱分析使用。与传统方法相比，这个过程可缩短薄膜制备的周期，实际上，制作一个薄膜样品的周期可小于5分钟。如何制备薄膜样品放置好隔热板, 选择好定型圈和较小的铝膜，放到下方组件上。1) 将样品放到铝膜的中央位置，然后在上面覆盖上较大的铝膜和上方组件2) 将准备好的以上组件整体放置到预加热板平面间，再施加1T位的载荷。3) 一旦样品完成压缩从压片机取出，分开组件，小心的将铝膜从样品上剥离。4) 制成的薄膜放入Specacard，然后一同放置到光谱仪器中进行分析。 技术参数： 快速，可重复的制备薄膜样品 样品熔点范围从室温到260℃ 标准薄膜厚度15,25，50, 100,250和500μm 直径15mm 压力范围0-2吨 制样包包括液压机和集成的加热板 周期5分钟 加热压盘直径25mm 加热压盘最大功率：35W 温度控制器：双数字显示，精度1℃ 加热压盘可调距离0-20mm 独立冷却盘 重量5.7kg 订购信息 迷你薄膜制样套装 GS03970 迷你薄膜制样套装 备件及耗材 GS03971 迷你薄膜制样组件 (包括压板组件，隔热板， 下压板组件，定型圈组件) GS03972 定型圈(15, 25, 50, 100, 250 和500 μm GS03973 铝膜(200 对) GS03974 迷你薄膜制样机冷却板 GS03975 迷你薄膜制样机压板(包括上压板，隔热板，下压板) GS03800 Specacards (100包) 直径10mm的圆形通光孔 GS15628 不锈钢镊子

金/铂是惰性金属，不容易发生氧化、水解和其它表面反应。普通金/铂电极制作需要反复抛光磨制，稳定性和重现性较差，不利于生物传感器的小型化和商品化。 Micrux公司采用100%金属材料（非金属/油墨印刷）制作的铂和金薄膜电极 - 适用于修饰和研发传感器或生物传感器 - 前处理方便，节省时间 - 可以多次重复使用，成本低廉 - 尺寸小，提供了很好的可靠性和可重复性，性噪比（S/N）佳。 电极设计： 1、SE-1设计，应用于铂和金薄膜电极，工作电极（WE）直径为1mm. 2、交叉指环型阵列电极（IDRA），由2对交叉的12电极组成。 3、交叉阵列电极（IDA），由2对交叉的12电极组成。 微电极设计，工作电极线宽和间隙都为10&mu m，和SE-1设计一样应用于铂和金薄膜电极。 电极适配器，使得薄膜（微）电极易于操作。 电极通过连接器可与各品牌电化学工作站匹配。 电极保存：干燥环境，旁边可以放置硅胶

X射线荧光膜、土壤样品杯膜、X-RAY样品膜、Prolene膜、ROHS测试膜、XRF有方形托架的圆片薄膜--美国Chemplex--3018# 现货供应：XRF样品膜、XRF薄膜、EDX样品膜、EDX薄膜、样品薄膜、X-RAY样品膜、ROHS测试膜、X-ray样品膜、X荧光光谱仪样品膜、光谱仪样品膜、迈拉膜、麦拉膜、Mylar膜、美国Chemplex样品膜、CAT.NO：106、CAT.NO：150、CAT.NO：250、CAT.NO：256、CAT.NO：257、CAT.NO：416、CAT.NO：426、CAT.NO：3014样品膜、Sample Film。 品名：XRF样品膜Sample Film目录编号CAT. NO：3018产品信息：Prolene膜，厚度4.0μm，直径63.5mm，100片/盒品牌：美国Chemplex Industries.Inc.（原装进口）货期：现货起订量：1盒以上。 现货供应：XRF样品膜、XRF测试薄膜、EDX样品膜、EDX薄膜、样品薄膜、X-RAY样品膜、ROHS测试膜、X-ray样品膜、X荧光光谱仪样品膜、光谱仪样品膜、迈拉膜、麦拉膜、Mylar膜、美国Chemplex样品膜、CAT.NO：106、CAT.NO：150、CAT.NO：250、CAT.NO：256、CAT.NO：257、CAT.NO：416、CAT.NO：426、CAT.NO：3014样品膜、Sample Film。

溶氧仪配件 tp351-003 薄膜按键

FEP薄膜：也叫特氟龙薄膜，聚全氟乙丙烯薄膜；其特征主要有：1、耐高低温:-200～205℃ ，外观透明如保鲜膜，使用方便，环保；2、具有不粘性,拼水,拼油:水接触角θ=114о 电可靠性，高绝缘，不漏电；3、高透明度:透明度参考家用保鲜膜，对紫外线、可见光有很好的穿透性；4、耐强酸强碱，耐各种有机及无机化学溶剂，丙酮、醇类等各种腐蚀性溶剂；5、多作为封口膜，用于密封一些强腐蚀型瓶口；隔离实验室的一些腐蚀性溶剂；6、典型用途实例：中科院地化所常用来野外考察收集样品时，接收雨水用，通常会配套我公司同系列的FEP 透明管使用；品名宽度（mm）厚度mmFEP薄膜 200-2500.02-0.0150.03-0.040.05-0.150.15-0.2可按照客户要求生产250-280250-300300-35050060080010001200 FEP材质其他产品FEP取样瓶、容量瓶、洗瓶、滴瓶、消解瓶、消解管、离心管、薄膜、移液管、透明管、烧杯、分液漏斗，其他实验室常用器皿耗材等等。

金/铂是惰性金属，不容易发生氧化、水解和其它表面反应。普通金/铂电极制作需要反复抛光磨制，稳定性和重现性较差，不利于生物传感器的小型化和商品化。 Micrux公司采用100%金属材料（非金属/油墨印刷）制作的铂和金薄膜电极 - 适用于修饰和研发传感器或生物传感器 - 前处理方便，节省时间 - 可以多次重复使用，成本低廉 - 尺寸小，提供了很好的可靠性和可重复性，性噪比（S/N）佳。 电极设计： 1、SE-1设计，应用于铂和金薄膜电极，工作电极（WE）直径为1mm. 2、交叉指环型阵列电极（IDRA），由2对交叉的12电极组成。 3、交叉阵列电极（IDA），由2对交叉的12电极组成。 微电极设计，工作电极线宽和间隙都为10&mu m，和SE-1设计一样应用于铂和金薄膜电极。 电极适配器，使得薄膜（微）电极易于操作。 电极通过连接器可与各品牌电化学工作站匹配。 电极保存：干燥环境，旁边可以放置硅胶

chemplex样品薄膜型号：090，250品牌：chemplex产地：美国 一、产品介绍： 在用x荧光光谱仪进行rohs检测，weee检测和一般材料成分分析时，由于样品的不规则（特别是液体、粉末等），需要借助样品杯和薄膜辅助检测；但不合适的样品薄膜往往造成样品污染并影响材料成分分析的x射线信号和检测结果。选择适当的薄膜材料对于分析结果至关重要。 在现有的众多不同的物质类型中，只有为数不多的几种具备能满足光谱化学需要的一致性和化学、物理属性。 如何选择薄膜样本支撑窗材料？适当的薄膜样本支撑窗的选择主要以满足首要重要的实验室要求为基础： 使用方便快捷； 避免造成待测样品污染； 优越的分析物透射比与强度； 对待测样品的耐化学性。chemplex industries有限公司专业从事样品前处理设备、耗材研发和生产的公司，是x射线光谱仪（xrf）配件耗材领域的全球知名厂商。chemplex xrf样品杯和样品薄膜用于rohs、weee专业测试仪器盛放小颗粒固体，粉末，液体，适用于各种品牌的x射线荧光光谱仪。chemplex样品薄膜薄膜张力特性极/佳，与样品杯组合使用，适合盛放各类金属重物、液体或粉末。对特别配制的塑料和保持其物理和化学属性一致性的特别关注，使得chemplex xrf样本杯、样品薄膜在xrf物质成分分析应用范围和性能上无与伦比。chemplex的许多xrf样本杯、样品薄膜被列为新颖独特的设计和应用，并被美国专利商标局授予知识产权地位。美同达作为美国chemplex公司的中国代理商，提供chemplex所有系列用于对应欧盟rohs和weee环保检测仪器——x射线荧光光谱仪（xrf）的检测实验消耗产品！我们不仅能够为您提供样品薄膜、样品杯, 还可根据您的样品应用为您选择、定制合适的样品薄膜、样品杯。 二、适用仪器：德国斯派克spectro、英国牛津oxford、日本堀场horiba、飞利浦/帕纳科philips/panalytical、德国布鲁克 bruker、美国赛默飞世尔科技（热电）thermo，瑞士arl及日本理学rigaku, siemens, spectrace,jordan, kevex, metorex,fisons, asoma，venus 200,valley等生产的x荧光光谱仪(xrf)。（适用x 射线荧光光谱仪品牌型号：所有x射线荧光光谱仪包括：尼通(niton)：xlt797z 、xlt794、xlt898 ；伊诺斯(innov-x)：alpha6000；牛津(oxford)：met-5000；帕纳科(panalytical)：minipal4、 minipal2；精工(seiko)：sea1000a；斯派克（spectro）：xepos、midex m；热电(thermo)：arl quant’x；日本电子（jeol）jsx－3400r；horriba等。） 三、spectromembrane® 样品薄膜随着spectromembrane® 样本支撑托架的面世，在处理薄膜时用户不再需要担心静电附着或潜在的污染风险或吸引空中颗粒等问题。除样本杯外，薄膜不再近距离接触其它任何物体。薄膜处理将通过使用集成的托框完成，托框能够在组装过程中自动分离，留下绷紧的薄膜样本平面。spectromembrane® 薄膜样本支撑托架由一块粘在托架上作为支撑物的薄膜样本支撑物质组成。在把薄膜物质粘在xrf样本杯上时，薄膜物质并不会被直接处理，这就消除了污染的可能性。接近完成或在完成附着时，薄膜将自动从托架上分离，留下绷紧的无皱样本支撑窗。

目标应用： 半导体薄膜（光刻胶） 玻璃减反膜测量 蓝宝石薄膜（光刻胶） ITO薄膜 太阳能薄膜玻璃 各种衬底上的各种膜厚 卷对卷柔性涂布 颜色测量 车灯镀膜厚度 其他需要测量膜厚的场合 阳极氧化厚度产品型号A3-SR-100 产品尺寸 W270*D217*（H90+H140）测试支架（配手动150X150毫米测量平台和硅片托盘）测试方式可见光,反射 波长范围380-1050纳米光源钨卤素灯(寿命10000小时) 光路和传感器光纤式(FILBER )+进口光谱仪 入射角0 度 (垂直入射) (0 DEGREE) 参考光样品硅片光斑大小LIGHT SPOTAbout 1 mm（标配，可以根据用户要求配置）样品大小SAMPLE SIZE150mm,配150X150毫米行程的工作台和6英寸硅片托盘 膜厚测量性能指标（THICKNESS SPECIFICATION）：产品型号A3-SR-100厚度测量 1Thickness15 nm - 100 um 折射率 1（厚度要求）N 100nm and up准确性 2 Accuracy 2 nm 或0. 5%精度 3precision0.1 nm1表内为典型数值, 实际上材料和待测结构也会影响性能2 使用硅片上的二氧化硅测量，实际上材料和待测结构也会影响性能3 使用硅片上的二氧化硅（500纳米）测量30次得出的1阶标准均方差,每次测量小于1秒.

X-RAY样品膜、XRF測試用的Prolene膜、XRF样品膜、ROHS测试膜、迈拉膜--美国Chemplex 416# 现货供应：XRF样品膜、XRF薄膜、EDX样品膜、EDX薄膜、样品薄膜、X-RAY样品膜、ROHS测试膜、X-ray样品膜、X荧光光谱仪样品膜、光谱仪样品膜、迈拉膜、麦拉膜、Mylar膜、美国Chemplex样品膜、CAT.NO：106、CAT.NO：150、CAT.NO：250、CAT.NO：256、CAT.NO：257、CAT.NO：416、CAT.NO：426、CAT.NO：3014样品膜、Sample Film。 品名：XRF样品膜Sample Film目录编号CAT. NO：416产品信息：Prolene膜，卷轴，厚度4.0 μm，宽7.6cm x 长91.4m，1卷/盒品牌：美国Chemplex Industries.Inc.（原装进口）货期：现货起订量：1盒以上。 产品详细信息：Pre-Perforated Thin-Film Sampel SupportsPROLENE® FILMCAT. NO：416Gauge：0.00016”，4.0 μm；0.16mil，40,640ATypical Impurities，PPM：Ca, P, Fe, Zn, Cu, Zr, Ti, AlChemplex® INDUSTRIES，INC.ROLL：3” x 300’ (7.6cm x 91.4m)； Lot No：082176。 现货供应：XRF样品膜、XRF测试薄膜、EDX样品膜、EDX薄膜、样品薄膜、X-RAY样品膜、ROHS测试膜、X-ray样品膜、X荧光光谱仪样品膜、光谱仪样品膜、迈拉膜、麦拉膜、Mylar膜、美国Chemplex样品膜、CAT.NO：106、CAT.NO：150、CAT.NO：250、CAT.NO：256、CAT.NO：257、CAT.NO：416、CAT.NO：426、CAT.NO：3014样品膜、Sample Film。

聚合物薄膜测厚仪配件用于测量聚合物薄膜、有机薄膜、高分子薄膜和 光致抗蚀剂薄膜, 光刻胶膜,光刻薄膜,光阻膜在加热或制冷情况下薄膜厚度和光学常量（n, k)的变化。为了这种特色的测量，孚光精仪公司特意研发了专业的软件和算法，使得该聚合物薄膜测厚仪能够给出薄膜的物理化学指标：例如玻璃化转变温度 glass transition temperature (Tg)，热分解温度，薄膜的厚度测量范围也高达10nm--100微米。聚合物薄膜测厚仪配件在传统薄膜测厚仪的基础上添加了加热/制冷的温度控制单元，使用白光反射光谱技术（WLRS)，实时测量薄膜厚度和折射率，并通过专业软件记录下这些数据，能够快速实时给出薄膜厚度和薄膜光学常量等物理化学性能数据，并且能够控制薄膜加热和制冷的速度，是聚合物薄膜特性深入研究的理想工具。干膜测厚仪所使用的软件也适合薄膜的其他热性能研究，例如：薄膜的热消融/热剥蚀thermal ablation研究，薄膜光学性质随温度的变化，薄膜预烘烤Post Apply Bake，光刻过程后烘烤 Post Exposure Bake对薄膜厚度的损失等诸多研究。对于薄膜的厚度测量，这款聚合物薄膜测厚仪,薄膜热特性测厚仪要求薄膜衬底是透明的，背面是不反射的。它能够处理最高4层薄膜的膜堆layer stacks，给出两个参数：例如两个薄膜的厚度或一个薄膜的厚度和光学常量。这套聚合物薄膜测厚仪,薄膜热特性测厚仪已经成功应用于测量不同聚合物薄膜的热性能，光刻薄膜的热处理影响分析，Si晶圆wafer上的光致抗蚀剂薄膜分析等。聚合物薄膜测厚仪配件参数 可测膜厚： 5nm-150微米；波长范围：200-1100nm 精度：0.5%分辨率：0.02nm 测量点光斑大小：0.5mm可测样品大小：10-100mm计算机要求：Windows XP, vista, Win7均可，USB接口；尺寸：360x400x180mm重量：13.5kg 电力要求：110/230VAC聚合物薄膜测厚仪配件应用聚合物薄膜测量光致抗蚀剂薄膜测量化学和生物薄膜测量，传感测量光电子薄膜结构测量 半导体薄膜厚度测量在线测量光学镀膜测量聚合物薄膜厚度测量polymer films测量测量有机薄膜厚度测量光致抗蚀剂薄膜测光刻胶膜测厚测量光刻薄膜厚度测量光阻薄膜测厚测量光阻膜厚度

1，适用于测试玻璃，薄膜等透明固体样品2，适用于本公司所有常规型号光度计

显微薄膜测量仪配件是一款超级紧凑而功能多样的薄膜测试仪系统，可以结合显微镜测量薄膜的吸收率，透过率，反射率以及测量点的荧光。薄膜测试仪通过反射率的测量，测量点处的薄膜厚度，薄膜光学常量（n &k)以及thick film stacks都能在瞬间测量出来。整套显微薄膜测量仪的组成是：光栅光谱仪（200-1100nm)+显微镜目镜 适配器+软件+显微镜（可选）。其中目镜适配器包含镜头，可增加光的收集。标准的40X物镜可做到测量点直径约200微米。更高倍数的物镜的测量点更小。整套薄膜测量仪和薄膜测试仪到货即可使用，仅仅需要用户准备一台计算机提供USB接口即可，操作非常方便。 安装到显微镜上的薄膜测量仪照片 薄膜测试仪SiO2薄膜测量结果（20X物镜）薄膜厚度测试仪配件软件 这款薄膜测试仪配备专业的仪器控制，光谱测量和薄膜测量功能的软件，具有广阔的应用范围。该薄膜厚度测试仪软件能够实时采集吸收率，透过率，反射率和荧光光谱，并且能够能够快速计算出结果。对于吸收率/透过率模式的配置，所有的典型参数如 A, T可快速计算出来。其他的非标准参数，如signal integration也能测量出来。对于反射率测量，该薄膜厚度测试仪软件能够精确测量膜层小于10层薄膜厚度（《10nm到100微米）， 光学常量（n & k)。 薄膜厚度测试仪配件参数 可测膜厚： 10nm-150微米； 波长范围：200-1100nm 精度：0.5% 分辨率：0.02nm 光源：使用显微镜光源 光斑大小：由显微镜物镜决定 计算机要求：Windows XP, vista, Win7均可，USB接口； 尺寸：120x120x120mm 重量：1.2kg 薄膜厚度测试仪配件应用 测量薄膜吸收率,透过率 测量化学薄膜和生物薄膜测量 光电子薄膜结构测量 半导体制造 聚合物测量 在线测量 光学镀膜测量