单层膜改性熔融石英

透明熔融石英玻璃作为一种不可或缺的重要材料，在现代社会中具备广泛应用价值。其卓越性能使得它在日常生活、科学和工业领域均发挥着重要作用。尽管熔融石英玻璃具备卓越的光学性能、热稳定性和化学耐久性等优异特点，但其高硬度和高脆性使得其可加工能性备受诟病。目前，传统熔融石英玻璃微结构制备工艺面临着流程复杂、成本高昂以及材料易碎等诸多挑战，并且在实现复杂三维（3D）结构方面仍然存在巨大困难。这给新型玻璃微纳米器件的开发、高效制造和在先进功能领域的应用带来了巨大的挑战。近年来，以3D打印/增材制造为代表的先进制造技术为玻璃加工行业带来了全新变革和重大突破。相较于传统的减材及等材成型工艺，这些新兴技术以数字设计和逐层累积为手段，成为赋予玻璃构件极高设计自由度和精确成型能力的强大工具，使得制造任意熔融石英玻璃三维结构成为可能。德国Karlsruhe理工学院科学家利用立体光刻（SLA）技术制备玻璃已取得重要突破（Nature, 2017, 544），成功实现了玻璃制品在质量、复杂度和精确度诸多方面的显著提升。这一里程碑式的进展也预示着通过3D打印技术制造具有出色光学性能的玻璃结构离普及更近了一步。随着时间的推移，全球范围内的研究者一直在不断努力提升玻璃打印技术的精确性。通过采用双光子飞秒激光直写（TPP-DIW）技术，实现了微纳米尺寸3D分辨率的玻璃结构的有效成形（Adv. Mater., 2021, 33）。然而，尽管立体光刻和双光子飞秒激光直写已分别实现了约50 μm和约100 nm的成型分辨率，并在宏观及纳观尺度上显著扩展了玻璃三维构件的应用领域，但由于3D打印技术在精度和效率方面存在固有矛盾，迄今为止，已有文献中报道的方法无法有效地制造出既具有毫米/厘米级尺寸又带有亚微米级特征的复杂玻璃三维结构。这一限制严重影响了该技术在微光学、微流控、微机械及微表面等先进领域上的应用。有鉴于此，香港理工大学3D打印中心温燮文教授联合香港大学机械工程系陆洋教授，在此前工作（Nat. Mater., 2021, 20, 1506）基础上更进一步，提出了一种通过摩方精密面投影微立体光刻（PμSL）3D打印技术制备同时具有亚微米特征及毫米/厘米级尺寸的熔融石英玻璃三维构件的方法。研究者选择了聚乙二醇功能化的二氧化硅纳米颗粒（平均直径~11.5 nm）胶体和两种丙烯酸酯作为聚合物前驱体，保证二氧化硅纳米颗粒良好的相容性和分散性。结合面投影微立体光刻3D打印灵活地创建具有复杂的三维亚微米结构的高性能透明熔融石英玻璃，其分辨率、构建速度及成型幅面均超越了目前大多数其他3D打印玻璃技术几个数量级。 图1：通过面投影微立体光刻3D打印所得透明熔融石英玻璃。（a）面投影微立体光刻3D打印示意图，呈现了打印所得熔融石英玻璃制成微缩维多利亚港的光学和电子显微镜图像。（b）复合纳米前驱体的各化学组分。（c）面投影微立体光刻3D打印透明熔融石英玻璃微透镜阵列在高温环境下展示了出色的稳定性。（d）4 × 6阵列的透明熔融石英玻璃蜂窝结构的光学和电子显微镜图像，其中央的细长悬线具有亚微米级别尺寸。（e）该方案所制备的熔融石英玻璃在分辨率及成型速度上的关系图，及与已报道的其他同类技术的比较。 图2：面投影微立体光刻3D打印所得具有多尺度临界特征的透明熔融石英玻璃多层级点阵。（a）多层级点阵结构；（b）多层级点阵网络；（c & d）单个多层级点阵胞元；（e）多层级架构；（f）基础点阵；（g & h）基础杆件及其具备的亚微米特征。尺寸跨度由mm逐步减少到nm，接近5个数量级。利用面投影微立体光刻3D打印透明熔融石英玻璃微透镜阵列，其具有亚纳米级别的表面粗糙度（Ra≈0.633 nm）。同时，研究者展示了通过3D打印制造的熔融石英玻璃微透镜阵列在成像方面的出色能力，具备优良的均匀性、清晰度、对比度和锐度。 图3：面投影微立体光刻3D打印的具有亚纳米级别表面粗糙度的熔融石英玻璃微透镜阵列。单个透镜的高精度光学显微镜图像，方框区域显示了白光干涉共聚焦显微镜测试结果，沿XY方向均能实现亚纳米级别表面粗糙度，以此制备高均匀性、高清晰度、高对比度和高锐度的微透镜阵列。面投影微立体光刻3D打印技术赋予了熔融石英玻璃微流体器件高精度、简化工艺、高直视性、大结构尺寸及复杂三维设计自由度，进一步展现出该器件出色的液滴/流体操控能力。 图4：面投影微立体光刻3D打印具备超疏水性能的仿生三维熔融石英玻璃微表面结构，以及具有Y型流道的免键合三维熔融石英玻璃微流控芯片。超疏水仿生三维熔融石英玻璃微表面展现了极佳的液滴黏附能力（即“花瓣效应”），即使在翻转180°后仍能牢固锁住液滴；在免键合Y型流道三维熔融石英玻璃微流控芯片，由于表面张力占主导，两种流体呈现了不互溶的“层流”现象。该工作进行于香港城市大学深圳研究院纳米制造实验室，相关成果以“One-photon Three-dimensional Printed Fused Silica Glass with Sub-micron Features”为题发表于国际期刊《自然通讯》（Nature Communications）上，课题组2020级博士研究生黎子永为该论文第一作者。在该研究中，熔融石英玻璃三维微纳样品由摩方精密2 μm精度的nanoArch® P130超高精密3D打印系统制备。相关技术已申请专利，后续将与摩方精密合作进行商业化应用。

HS-DSC-101差示扫描量热仪是一种测量参比端与样品端的热流差与温度参数关系的热分析仪器，主要应用于测量物质加热或冷却过程中的各种特征参数：玻璃化转变温度Tg、氧化诱导期OIT、熔融温度、结晶温度、比热容及热焓等。改性石墨烯增强有机硅涂层及其性能研究【齐鲁工业大学 姚凯 】改性石墨烯增强有机硅涂层及其性能研究上海和晟 HS-DSC-101 差示扫描量热仪

摘要： 1、 熔融法制样的优点： 目前制样方法中有压片法和熔融法两种，而熔融法是世界公认的最先进的制样法。 压片法：将样品粉碎后，压成圆片，就可分析；制样时间短，5分钟可出报告。但因粒度效应、基体效应和矿物效应，分析精度低。 熔融法：将样品与硼化物熔剂在高温加热状态下发生化学反应，并使样品中各元素转化硼酸盐，得到均匀、平整、光洁、透明的玻璃片；并能减少粒度效应、基体效应和矿物效应，分析精度高。 2、 高频熔融制样 高频熔融制样是用高频感应加热方式进行熔融制样，与传统的熔融法相比，有节能、方便、环保、熔样质量高。 高频熔样样片 3、 高频熔融制样基本流程： 1)样品前处理： A、研磨粒度不超过200目。 B、在600&mdash 700℃温度下灼烧后，存于干燥器内。 2)称样：要求样品称量精度达到0.1毫克。 3)配方：不同的样品一定按照不同的配方方法。如： 铁矿石：矿样 /熔剂=1/20 铝土矿：矿样/熔剂=1/5 4)混合：必须要用玻璃棒混合均匀并立即置于干燥器中。 5)熔样：根据不同的矿样，设置相对应的温度（精度± 2℃）和时间(精度± 0.001秒)。 6)取片：不能触摸被测面，放于干燥器皿备用。 4、 高频熔样的适用以下行业： 1)矿业：矿石、精矿、粉尘、金属氧化膜、炉 渣等。 2)窑业：水泥、石灰石、白云石、玻璃、石英、粘土、耐火材料等。 3)钢铁工业：铁矿石、煤、转炉、高炉、电炉渣等。 4)有色工业：氧化铝、铝土矿、铜矿等。 5)化学工业：催化剂、聚合物等。 6)地质土壤：岩石、土壤。

地矿样品的分析由于其基体组成以及将样品转换为溶液的制备过程而颇具挑战。最常用的制备技术是锂熔融，熔融过程包括将样品与过量硼酸锂混合并加热，直至硼酸锂熔化并溶解样品形成均质物后，将得到的固体溶解在酸中进行分析。硼酸锂熔融样品因其含有高浓度的IA族元素，如锂 (Li)、钠 (Na) 和钾 (K) ，使得采用电感耦合等离子体发射光谱（ICP-OES）分析时遇到以下难点：雾化器和进样器内出现沉积物，导致信号漂移，测量结果不稳定。石英炬管很快变得不透明，测量结果的精密度受到很大影响。通过选择合适的样品导入组件，上述困难和挑战均可在珀金埃尔默 Avio ICP-OES 上得到圆满解决：采用配有Elegra™ 氩气加湿器的SeaSpray™ 雾化器来避免雾化器阻塞，并减少中心管头处沉积物形成。采用陶瓷炬管，同时使用1.2mm中心管以减少等离子体负载，减轻不透明现象。图1显示了锂熔融样品12.5小时分析过程中内标元素（钇）的回收率稳定在95~105%之间。图2显示了锂熔融样品12.5小时分析过程中Si、Al、Ca、Mg和Mn元素的回收率稳定在95~105%之间。另外，Avio ICP-OES的PlasmaShear™ 技术也有助于提高高盐基体样品分析的稳定性。该技术可产生空气流来切除等离子体尾焰（图3），避免基体沉积接口窗口。上述结果表明，Elegra™ 氩气加湿器与SeaSpray™ 雾化器、旋流雾室、细孔中心管和陶瓷炬管的联合使用，以及PlasmaShear™ 等离子体尾焰切割技术可以减少盐沉积，从而实现ICP-OES对高盐样品进行准确、稳定的分析。欲了解珀金埃尔默《采用 Avio ICP-OES 对偏硼酸锂熔融样品进行稳定分析》及Avio系列ICP-OES的详细内容，请扫描下方二维码即刻获取应用资料。更多详情请联系当地销售。

供稿| 洪艺伦编辑| Norah、孙平校阅| Lucy、Joanna以石墨烯为代表的二维范德华层状材料具有独特的电学、光学、力学、热学等性质，在电子、光电子、能源、环境、航空航天等领域具有广阔的应用前景。目前理论预测得到的层状母体材料已经超过5,600种，包括1800多种可以较容易地或潜在地通过剥落层状母体材料得到的二维层状化合物[1]，像是石墨烯、氮化硼、过渡金属硫族化合物、黑磷烯等均存在已知的三维母体材料。在目前已知的所有三维材料中，块体层状化合物的数量毕竟不是多数。因此，直接生长自然界中尚未发现相应块状母体材料的二维层状材料，成为突破和扩展二维层状材料范围的新“希望”。它们有望为新物理化学特性的发现和潜在的应用前景提供巨大机会，具有重要的科学意义和实用价值。过渡金属碳化物和氮化物(TMCs和TMNs)就是这类材料。然而，由于表面能量的限制，这些非层状材料倾向于岛状生长而非层状生长，往往只能得到几纳米厚度的、横向尺寸约100微米的非均匀二维晶体，这就使得大面积均匀厚度的合成依然困难。那么，如何解决呢？近日，中科院金属所沈阳材料科学国家研究中心任文才研究员团队，提出一种新方案——采用钝化非层状材料的高表面能的位点来促进层状生长，最终制备出一种不存在已知母体材料的全新二维范德华层状材料——MoSi2N4，并获得了厘米级单层薄膜。本次“前沿用户报道”专栏就将为大家介绍这一研究。图1 二维层状MoSi2N4晶体的原子结构：三层（左）的MoSi2N4原子模型和单层的详细横截面晶体结构； 01“平平无奇”Si，实现材料新生长关于二维层状材料的研究，任文才团队多有建树，他们早在2015年就发明了双金属基底化学气相沉积（CVD）方法，并利用该方法制备出多种不同结构的非层状二维过渡金属碳化物晶体材料。但正如上文提到的，这些材料由于表面能限制，使得该富含表面悬键的非层状材料倾向于岛状生长，难以得到厚度均一的单层材料。令人惊喜的是，团队成员在一次实验中打开了新思路。他们在研究如何消除表面悬键对非层状材料生长模式的影响时，想到了从电子饱和的角度出发，发现硅元素可以和非层状氮化钼表面的氮原子成键使其电子达到饱和状态，而硅元素正好是制备体系中使用到的石英管中的主要元素。因此，他们决定从制备体系中的石英管中的Si元素入手，研究Si元素的加入对非层状材料生长的影响。团队成员惊喜地发现， Si元素可以参与到生长中去，成为促进材料生长的绝佳“帮手”。这一意外的发现开启了探索的新方向，他们反复试验，最终确认Si的引入的确可以改变材料的生长模式。他们在CVD生长非层状二维氮化钼的过程中，引入硅元素来钝化其表面悬键，改变其岛状生长模式，最终制备出新型层状二维材料材料——MoSi2N4。图2 (A)单层MoSi2N4薄膜的CVD生长（B）用CVD法生长30min、2h和3.5h的MoSi2N4光学图像，说明了单层薄膜的形成过程（C）CVD生长的15mm×15mm MoSi2N4薄膜转移到SiO2/Si衬底上的照片；（D）一个MoSi2N4薄膜典型的AFM图像，显示厚度~1.17nm；（E）MoSi2N4结构的横截面HAADF-STEM图像，显示层状结构，层间距~1.07nm02Si钝化效果显著，MoSi2N4成功制备任教授团队还对比了加Si与不加Si之间的区别，发现采用Si来进行钝化的方式效果显著，帮助他们获得了一种全新的不存在已知母体材料的二维范德华层状材料——MoSi2N4，并最终可获得厘米级的均匀单层多晶膜。从下图3就可看出，下图为Cu/Mo双金属叠片为基底，NH3为氮源制备的单层和多层材料。通过对比试验发现：在不添加Si的情况下，仅能获得横向尺寸为微米级的非层状超薄 Mo2N晶体，厚度约10 nm且不均匀；而当引入元素Si时，生长明显发生改变：初期形成均匀厚度的三角形区域，且随着生长时间的延长三角形逐渐扩展，同时又有新的三角形样品出现并长大，最后得到均匀的单层多晶膜。利用类似制备方法，他们还制备出了单层WSi2N4。图3 经过高分辨透射电镜的系统表征，发现层状MoSi2N4晶体的每一层中包含N-Si-N-Mo-N-Si-N共7个原子层，可以看成是由两个Si-N层夹持一个N-Mo-N层构成（A）单层MoSi2N4晶体的原子级平面HAADF-STEM原子像；（B）多层MoSi2N4晶体的横截面原子级HAADF-STEM图像03高强度和出色稳定性，后续研发令人期待厘米级单层薄膜已经制备，其性能如何呢？该团队成员继续展开了论证。他们与国家研究中心陈星秋研究组和孙东明研究组合作，最终发现单层MoSi2N4具有半导体性质（带隙约1.94eV）和优于单层MoS2的理论载流子迁移率，同时还表现出优于MoS2等单层半导体材料的力学强度和稳定性。另外，通过使用HORIBA LabRAM HR800拉曼光谱仪进行拉曼光谱测试，获得了显著的拉曼信号，这为后续材料的快速表征提供了有力的证据。这些物理性能的提升，无疑为MoSi2N4进入实际应用奠定了基础，后续这一材料将在电子器件、光电子器件、高透光薄膜和分离膜等领域做更深入的应用探索。不仅如此，团队成员通过理论计算预测出了十多种与单层MoSi2N4具有相同结构的二维层状材料，包含不同带隙的间接带隙半导体、直接带隙半导体和磁性半金属等（图4），这一研究结果也进一步拓宽了二维层状材料的范围，尤其壮大了单层二维层状材料的大家族，具有重要意义。该工作得到了国家自然科学基金委杰出青年科学基金、重大项目、中国科学院从0到1原始创新项目、先导项目以及国家重点研发计划等的资助。图4 理论预测的类MoSi2N4材料家族及相关电子能带结构该研究成果不仅开拓了全新的二维层状MoSi2N4材料家族，拓展了二维材料的物性和应用，而且开辟了制备全新二维范德华层状材料的研究方向，为获得更多新型二维材料提供了新思路。04文章作者&论文原文任文才，中国科学院金属研究所研究员，国家杰出青年科学基金获得者。主要从事石墨烯等二维材料研究，在其制备科学和技术、物性研究及光电、膜技术、储能等应用方面取得了系统性创新成果。在Science、Nature Materials等期刊发表主要论文160多篇，被SCI他引24,000多次。连续入选科睿唯安公布的全球高被引科学家。获授权发明专利60多项（含5项国际专利），多项已产业化，成立两家高新技术企业。获国家自然科学二等奖2次、何梁何利基金科学与技术创新奖、辽宁省自然科学一等奖、中国青年科技奖等。文章标题：Chemical vapor deposition of layered two-dimensional MoSi2N4 materials. Science 369 (6504), 670-674.DOI: 10.1126/science.abb7023免责说明

如何沉积纳米粒子——纳米粒子单层膜沉积实用指南 纳米颗粒的二维致密单层膜沉积是多种技术和科学研究的基础。例如，纳米粒子单层膜可以作为传感器上的功能层，也可以用来生产用于纳米球光刻的胶体掩模。但是，怎样才能高效、可靠地得到具有三维自由度的纳米颗粒溶液，并将这些颗粒限制在横跨大基底的(二维)单层中呢?传统的纳米颗粒沉积技术纳米颗粒沉积技术种类繁多。一些相对简单和快速的方法包括溶剂蒸发、浸渍镀膜和旋涂镀膜。然而，这些技术可能会浪费大量的纳米颗粒，并且无法有效控制纳米颗粒的密度和配位结构。溶剂蒸发溶剂蒸发容易产生所谓的咖啡渍圈环效应，这种效应是由马朗戈尼流动引起的。这将导致不均匀沉积，中心的纳米粒子沉积稀疏，而边缘则形成多层纳米粒子沉积。 浸渍镀膜另一方面，如果只是用纳米粒子覆盖基底，浸渍镀膜将是一种很好的技术。然而，使用这种方法沉积纳米颗粒单分子层是非常具有挑战性的。同时，浸渍镀膜需要大量的纳米颗粒，这在处理昂贵纳米颗粒材料时将成为一个大的限制因素。 旋涂镀膜旋涂镀膜也是一种很有吸引力的方法，因为它易于规模化放大，而且在半导体工业中是一种众所周知的技术。然而，使用这种方法，薄膜的质量和多个工艺参数紧密相关，如：自旋加速度、速度、纳米颗粒的大小、基材的润湿性和所用溶剂。这使得对薄膜属性的精确控制变得非常困难。而且，一般旋涂镀膜需要大量的纳米颗粒溶液。 气液界面的单层镀膜在这里，气液界面沉积纳米颗粒单层提供了一种高度可控的沉积方法，可以将其沉积在几乎任何基底上。纳米颗粒被限制在气液界面，界面面积逐渐减小，使得纳米颗粒更加紧密地聚集在一起，从而可以实现控制沉积密度的目的，因为单位区域面积沉积的纳米颗粒的数量很容易计算，这样对纳米颗粒的需求量就会大大降低。 单层薄膜形成后，可以通过简单的上下提拉基底即可将界面上的薄膜转移到基底上。 在线网络研讨会报名如果您对如何制备纳米颗粒单分子膜感兴趣，想获取更多这方面的知识，请报名参加由伦敦大学学院的Alaric Taylor博士举办的题为“纳米颗粒单分子层薄膜沉积实用指南”的网络研讨会。报告人Alaric Taylor简介：Alaric Taylor博士是伦敦大学学院工程和物理科学研究委员会（EPSRC）研究员，他在纳米光子材料的制造，尤其是通过在气-液界面开发胶体单层自组装方面有很高的造诣。 报告内容：? 详细讲解纳米颗粒沉积的具体操作? 指出需要注意的事情? 讲述纳米颗粒沉积的技巧 报告时间：2018年9月13日下午3:00（北京时间）报名联系：如需参会，请填好下列表格中的信息发送至，邮箱：lauren.li@biolinscientific.com；姓名单位邮箱电话特别提醒：因为可能会涉及电脑、系统、耳机等调试问题，建议大家提前5-10分钟进入链接。

新/品/发/布-NEWPRODUCTLAUNCH-MFi系列新款熔融指数仪满足客户需求，关注行业发展，全新设计，持续创新。Instron全新MFi系列熔融指数仪正式发布！01更高的测试温度MFi系列熔融指数仪的加热炉经过重新设计后更加牢固，标配的测试温度提升至450℃，满足更多如PEEK等材料的测试需求。02更快的流动速率测试能力在配备砝码升降装置的情况下，其移动速率会限制设备的测试能力。新款熔融指数仪重新设计了砝码升降装置，极大提高了设备的测试能力，并且该装置在满负载和最高测试速度的高强度条件下承受了110,000次测试后依旧完好无损。为了防止高流动速率样品在预热阶段的样品损失，除了传统的“零重力”活塞外，Instron还设计了轻型活塞及配套砝码，既能有效减少熔体流失，又能保证熔体始终受力，避免熔体从料筒上方溢出。此外，Instron还重新设计了带有嵌入式位置传感器的新型坚固口模塞，不仅能有效阻止熔体预热阶段的流失，还能在测试开始后实现口模塞自动打开功能。03更强的软件功能MFi新系列熔指仪采用全新的Bluehill-Melt测试软件。Bluehill-Melt延续了Bluehill平台的强大功能以及语言选项，配备了全中文帮助文件。设备配合采用7寸触摸屏，可实时显示图标，观看实时曲线，且能实现异常值自动检测等功能。电脑端的Bluehill-Melt软件还可提供定制化报告等功能，一台电脑即可控制任意数量的设备并实现LIMS传输。04更智能的测试方法用户仅需三步即可完成参数设置：1.选择方法（ISO/ASTM，方法A/B/C）；2.选择材质；3.输入大致的流动速率。全新的专利-智能方法即可创建测试方法并给出测试参数，根据该方法或略作修改后即可开始测试。05更可靠的测试结果专用的专利传感器可确保砝码的正确选择。使用步进电机重新设计的切割装置可提供更高的切割时间精度。同时，更高的位移精度测量及更稳定的温度控制系统，确保了测试结果的可靠性。MFi系列新款熔融指数仪的精彩远不止于此！如欲查看更多设备性能优势请访问Instron官网或联系我们

帕纳科公司是思百吉集团下属的X射线分析技术公司，而XRF Scientific公司是材料表征领域的样品制备专家。近日，帕纳科与XRF Scientific两家公司结成了XRF样品制备领域的OEM战略联盟。在此协议下，由Steve Prossor领导的XRF Scientific子公司Automated Fusion Technology公司将向帕纳科公司提供样品制备设备。 　　Pittcon2010上首次发布的Eagon 2 全自动台式双样品熔融系统，是此项合作签署后经过12个多月的技术和商业讨论后的成功成果，“在纵观所有的熔融技术之后，我们更加清楚的看到，与XRF Scientific公司一起，我们可以把最安全、实用，功能齐全、强大的自动化熔融设备推向市场：the Eagon 2是一种高性能、低成本的解决方案。”帕纳科公司XRF产品经理Simon Milner先生说到。此合作协议包括：合作双方互相发展和共享知识产权，合作推出的仪器设备将在2010年初开始生产。 　　在低熔融硼酸锂盐存在情况下，熔融或溶解一个样品将阻止测量过程中的一些不利，如：矿物学的，晶粒尺寸或方向的影响，当制备一种助熔剂或硼酸锂盐玻璃时，不必使其熔融即可产生均匀的样品。这是一个用在采矿工业的特殊方法，其使拥有丰富矿产资源的澳大利亚成为相关公司的天堂。 　　截止2009年6月30日，XRF Scientific公司12个月的营业额达1710万澳元时，其净收入达200万澳元，与前一年相比，公司的收入增长了14% 而截止12月31日的6个月内，公司的收入急速下降了36%，只有660万澳元 此次下降抹去了公司的净利润，公司的净利润下降了82%，只有27万澳元。在今年的开端，XRF Scientific公司没有债务并且在银行拥有450万澳元的现金。另外，大量新推出的仪器设备，以及采矿工业市场的复苏，预示着2010年将有一个很好的前景，XRF Scientific公司的常务董事，Terry Sweet先生评论到。

XRF科技公司最新推出全自动机器人电热熔融炉系统 　　澳大利亚XRF Scientific Ltd公司旗下MODUTEMP在2010年最新推出全自动机器人电热熔融炉系统——专为X荧光光谱仪制备样品，其双通道系统能达到每小时50-60个样品的自动处理量。上海凯来实验设备有限公司是其在中国的总代理。　　 　　全自动机器人电热熔融炉系统集合了从样品准备、坩埚/模具装卸、全熔融过程监控、自动倒模到熔片装卸等功能。真正将实验人员从高温恶劣环境中解放出来，也完全消除了人工备样过程中可能引入的分析误差，从而也大大提高了工作效率，保证了样品制备的可靠性和可重复性。 　　关于XRF Scientific Ltd 　　澳大利亚XRF Scientific Ltd公司是世界领先的激光诱导击穿光谱仪(LIBS)、熔融炉、高纯助溶剂、铂金/铂合金器皿制造商。 　　它生产的熔样机以坚固耐用、安全易操作、高效高通量著称。在世界钢铁行业内被广泛的大量的使用，已成为钢铁企业先进化验室的标准配置之一。 　　关于上海凯来实验设备有限公司 　　总部设在中国上海，成立于2004年。作为德国Haver & Boecker公司、Bϋ rkle公司、英国Optical Activity公司和Index Instruments公司、美国Ahura公司、Inorganic Venture公司、Reichert公司和W.S. Tyler公司、澳大利亚XRF Scientific 公司、瑞士SONOSWISS公司等在中国的总代理，以及作为德国Hirschmann、HosokawaAlpine的南方区总代理和Dionex液相产品上海区总代理。凯来公司致力于为生命科学和化学分析实验室用户提供优质的科学仪器及服务，同时希望不断完善自身，为客户提供更多更好的解决方案。 　　更多信息请登录www.chemlabcorp.com了解。

伴随着药物研究领域高通量的筛选需要、食品安全问题的加剧，生活节奏的加快与时间成本的提升，试剂成本的上涨导致分析成本的提高，色谱工作者对快速液相色谱的需求急速增加。Sigma-Aldrich公司旗下分析品牌 Supelco于2008年首发推出具有革命性突破的熔融核填料技术（Fused-CoreTM)的Ascentis Express 2.7&mu m液相色谱柱，可提高色谱分离速率、辨别率和敏锐度，而无须本钱投入更新仪器。在HPLC上能够实现UPLC的效果，在UPLC上实现更好的效果。 Sigma-Aldrich公司旗下分析品牌 Supelco 于2012年8月又首发推出 Ascentis Express 5&mu m 熔融核液相色谱柱。该色谱柱基于熔融核技术，性能超越传统全孔5&mu m和3&mu m色谱柱，在不增加柱压的情况下，实现快速高效分离，可作为传统5&mu m色谱柱的新型标准柱。 　 为让广大分析工作者了解Sigma-Aldrich公司5&mu m熔融核技术的原理和应用， Sigma-Aldrich公司产品专员陈娟将做客仪器信息网网络讲堂，为您解读Ascentis Express 5&mu m 熔融核液相色谱柱技术和应用。 　　一、活动组办方 　　主办：仪器信息网 　　协办：西格玛-奥德里奇(上海)有限公司 二、讲座时间 　　开课时间：2012-12-20 10:00 （教室于 2012-12-20 9:30:00开放） 会议时长： 2小时 三、活动地点 　　仪器信息网&mdash &mdash 网络讲堂&mdash &mdash Ascentis Express 5um熔融核快速液相色谱柱技术及应用 　　 四、活动内容 　　1、主讲人：西格玛-奥德里奇公司分析业务产品专员陈娟 2、主讲内容： 第一部分 快速液相的发展 第二部分 Ascentis Express的熔融核技术原理 第三部分 Ascentis Express 5&mu m熔融核色谱柱产品介绍 第四部分 Ascentis Express 5&mu m熔融核色谱柱的应用 第五部分 Ascentis Express 5&mu m熔融核色谱柱的特点总结 第六部分 答疑 您可直接点击如下链接http://www.instrument.com.cn/webinar/meeting/meetingInsidePage/645 报名参加Sigma-Aldrich 2012年12月20日在仪器信息网的网络讲堂《Ascentis Express 5um熔融核快速液相色谱柱技术及应用》在线听讲并提问。 更多信息可致电021-61415566-8242或者email至connie.chen@sial.com咨询

机台型号： ZB-908B熔喷布PP料熔融指数仪一. 用途:ZB-908B熔喷布PP料熔融指数仪是在原体积法熔融指数仪的基础上做了改进，用于测量流速极快的熔喷布原料聚丙烯纤维等材料而专门开发的一款仪器，是按GB3682-2000的试验方法测定塑性高聚物在高温下流动性能的仪器，既适用于质量法（MFR）也可以使用体积法（MVR）进行测试；B型一体机为用户提供了更加便利的测试方法，流速测试范围广，可以测试3000g/10min范围内的PP原料。二. 主要特征：1.挤压出料部分：出料口直径：Φ2.095±0.005毫米出料口长度：8.000±0.025毫米装料筒直径：Φ9.550±0.025毫米装料筒长度：152±0.1毫米活塞杆头直径：9.475±0.015毫米活塞杆头长度：6.350±0.100毫米2.标准试验力（八级）1级：0.325 kg=（活塞杆+砝码托盘+隔热套+1号砝码体）=3.187N2级：1.200 kg=(0.325+2号0.875砝码)=11.77 N3级：2.160 kg=(0.325+3号1.835砝码)=21.18 N4级：3.800 kg=(0.325+4号3.475砝码)=37.26 N5级：5.000 kg=(0.325+5号4.675砝码)=49.03 N6级：10.000 kg=(0.325+5号4.675砝码+6号5.000砝码)=98.07 N7级：12.000 kg=(0.325+5号4.675砝码+6号5.000+7号2.500砝码)=122.58 N8级：21.600 kg=(0.325+2号0.875砝码+3号1.835+4号3.475+5号4.675+6号5.000+7号2.500+8号2.915砝码)=211.82 N砝码质量相对误差≤0.5%3.温度范围：室温-450℃4.恒温精度：±0.5℃5.电源：220V±10% 50Hz6.测量方式：质量法（g/10min）/体积法（cm3/10min）7.工作环境条件：环境温度为10℃-40℃；环境相对湿度为30%-80%；周围无腐蚀性介质，无较强的空气对流；周围无振动、无较强的磁场干扰8.测试范围：0.01g/10min~3000g/10min9.仪器外形尺寸：250×350×600mm（长×宽×高）10.重量：约80Kg。创新点：针对熔融状态下流速过快的材料（比如PP料）研发的一款新产品。其工作原理为增加了响应速度较高的编码器，以便读取熔体流动的位移，通过体积法的方式计算出熔融指数值；解决了以往传统质量法熔融指数仪达不到的功能。 ZB-908B熔喷布PP料熔融指数仪

近日，美国知名材料试验机厂商天氏欧森（Tinius Olsen 简称T.O）公司向市场隆重推出新一代MP1200熔融指数测定仪，该款仪器已于4月18-21日在上海举办的国际橡塑展上首次亮相。 MP1200型熔融指数仪有手动加砝码的基本型和带有电动砝码升降装置的自动型。基本型适用于A法测试，自动型及选配附件适用于A法和B法测试，仪器符合ISO、ASTM、BS、DIN、JIS等多项常用国际标准。在被广泛应用的原有MP600熔融指数仪基础上，MP1200型熔融指数仪整合了多项新型设计提升仪器的整体性能。这些新型设计包括： --三段式加热器 不同于以往常见的双段式加热器，MP1200配备的是三段式加热器，每区段均配备独立的铂金温度传感器，以提高设备的温度稳定性与均匀度，熔炉温度精度与炉身温度均匀度均可控制在0.1℃内。 --炉身隔热效果增强 通过改进熔炉内部结构和保温材料使得炉身隔热效果明显增强，炉内最高运行温度达450℃，炉体外温则大大降低，有效确保安全操作、避免烫伤。 --彩色触摸屏操控系统，USB接口 采用了包含中英文等多种语言的菜单式触摸屏操作控制系统，配合强大的Horizon数据分析软件，能够简单便捷地设定、存储所需的测试方法以便随时调用，并保存最新的25个测试结果。用户如需要更复杂的统计过程控制，可通过USB数据线将测试仪器与Horizon软件相连接，控制并收集测试数据，并根据要求生成报告与控制图表。 --锥形带槽砝码设计 高效的锥形砝码设计方便用户在测试进行时安全地安装、卸载砝码。 --口模下落式释放装置及金属镜 口模释放装置方便用户轻松取下口模进行清洁。操作者可通过标配的金属镜实时观察挤出物及口模状况。 --手动、自动切割装置选配 可选配手动及自动切刀切割挤出物 更多产品信息请致电详询锡莱亚太拉斯有限公司。 深圳 0755-26711168 上海 021-61213788 北京 010-65815766 香港 852-34434888 关于锡莱亚太拉斯有限公司SDL Atlas Ltd 锡莱亚太拉斯有限公司SDL Atlas Ltd是美国天氏欧森（T.O）公司在中国区域的独家代理,公司在香港、深圳、北京、上海、成都、沈阳、常州等城市设有经销服务机构。负责仪器销售、安装、培训、校准、保养、技术支持等服务，产品涉及纺织、汽车、涂料、石化、塑料、橡胶、航空航天、建材、医药等行业。为不同行业的客户提供优秀及切合需要的材料测试解决方案。 网址：www.sdlatlas.com.cn

世界测量领域的领导者雷尼绍公司，在最近于北京中国国际展览中心举行的中国国际机床工具展览会 (CIMES 2012) 上，获得了巨大成功。雷尼绍展出并演示了一系列新型测量产品，吸引了大批观众前来参观。展出的产品包括用于坐标测量机的PH20全自动五轴旋转测座、QC20-W无线球杆仪以及全新推出的EquatorTM比对仪。此外，雷尼绍还首次在中国展出了领先的激光熔融金属成型技术。 通过此次CIMES展会，雷尼绍AM（快速成型）产品线正式进入中国市场，旨在为中国地区的航空航天、医疗、汽车和科研等领域的机构提供本地化的方案咨询、项目协作、技术和服务支持；带来欧洲和北美市场的应用经验，为相关领域的以金属材质为加工基础的新产品、关键项目、定制化和小批量制作需求提供快捷、稳定、高品质的金属熔融快速制造系统平台。该产品同时也为该领域的设计师和专业研发人员在保证加工速度、缩短开发流程、降低成本的前提下最大限度地释放出不受结构、工艺和人员等因素限制的开发潜能，从而优化产品和项目的可行性或商业性，避免产品生命周期中特别是产生于开发流程中的出错成本。 激光熔融金属成型技术亮相CIMES 在CIMES期间，雷尼绍展示了AM系统的演示流程和相关行业通过AM激光熔融金属快速成型系统加工的实际产品。应用涉及到航空航天、汽车、医疗植入、电子、消费品、模具和艺术等领域；产品材料范围覆盖了高密度的不锈钢、钴铬合金、铝合金和钛合金等。在谈到客户对AM产品的热烈回响时，雷尼绍AMPD产品经理马骏说：&ldquo 现场客户来自多个工业领域，其中有部分客户已经在使用雷尼绍其他产品线的方案，如测量和机床配套产品，对雷尼绍的品质、支持以及服务有着较好的应用体验。他们对AM技术、应用、材料和用户领域参考表现出极大的关注。部分来自航空航天、医疗和科研领域的专家表示，会结合所在单位或机构的实际技术需求与雷尼绍作更深入地沟通与交流。&rdquo AM250激光熔融快速成型机 如需了解详细信息，请访问http://www.renishaw.com.cn/zh/additive-manufacturing--15239

近期，中国科学院上海光学精密机械研究所强场激光物理国家重点实验室研究团队，在利用强场激光驱动单层MoS2的偶次谐波频移方面取得进展。相关研究成果以Frequency shift of even-order high harmonic generation in monolayer MoS2为题，发表在《光学快报》(Optics Express)上。固体材料中的高次谐波辐射是重要的探测物质基本性质的光谱学技术，已被用于重建晶体能带结构、探测Berry曲率和检测拓扑相变等方面的研究。近年来，二维层状材料备受关注，为进一步研究高次谐波产生带来新的契机。由于材料仅有单个或少数个原子层厚度，其空间尺度远小于驱动激光的波长，可有效避免非线性传输的影响，因而成为探讨激光场驱动超快动力学的理想材料。其中，单层二硫化钼(MoS2)因非中心对称结构和显著的非线性引起了科学家的广泛关注。此前，该团队在MoS2的HHG光谱中，观察到偶次谐波表现出异常增强，并将其归因于贝里联络控制不同半周期间的光谱干涉 。此外，量子轨迹分析表明跃迁偶极矩相位和贝里联络会调制释放光子的能量和动量，但目前尚无实验观察证实。 　　研究团队利用实验室自建的中红外激光光源激发单层MoS2产生高次谐波光谱发现，当驱动激光偏振沿扶手方向时，偶次谐波中心频率会产生显著移动，且频移的谐波能量与单层MoS2带隙能量相接近。此外，研究还发现相邻级次的偶次谐波频移方向相反，即6次谐波红移，而8次谐波蓝移的现象。该团队基于半导体布洛赫方程和电子轨道鞍点计算，揭示了频移产生的微观物理机制，证实了偶次谐波的频移现象主要来自带间极化过程。理论分析进一步表明，跃迁偶极矩相位和贝利联络共同调制电子-空穴对复合的时刻和动量，导致相邻半周期释放光子的频率变化，进而改变不同谐波级次的中心频率，最终引起MoS2光谱六次红移和八次蓝移。该研究揭示了跃迁偶极矩相位和Berry联络在非中心对称材料强场光学响应方面具有重要作用，有助于从根本上剖析非中心对称材料中的超快载流子动力学。图1. 模拟的高次谐波光谱再现了实验观测。图2. (a)带间光谱不同级次的频移，(b)谐波频移随晶体方位角的依赖关系。

近日，中国科学技术大学地球和空间科学学院倪怀玮教授研究团队通过实验技术创新，建立了用电导率突变在高温高压富水条件下原位确定岩石熔融温度的方法，为解决关于地球俯冲带熔融条件的争议奠定了基础。相关成果以“Determination of the H2O-Saturated Solidus of Albite by Electrical Conductivity”为题发表于地球科学国际知名NI期刊《Journal of Geophysical Research-Solid Earth》上。俯冲带是大洋板块向地球深部俯冲，引发地震和火山活动，实现地表与深部之间物质循环的重要场所。大洋板块经过海水热液蚀变，所以俯冲带环境富含水以及其他挥发分，它们对岩石的相变可产生重要影响。俯冲带深部的岩石在高温高压富水条件下的熔融温度仍存在巨大争议，不同实验研究获得的固相线温度（即起始熔融温度）相差可高达500度，这主要是因为传统实验体系在淬火过程中会发生复杂变化，难以从实验产物中辨识熔融与否。为了解决这一难题，倪怀玮教授团队开发了用电导率突变在高温高压富水条件下原位确定岩石熔融温度的方法。本项研究以钠长石-水作为实验体系，将阻抗分析仪的探针接入活塞圆筒压机，在0.35-1.7 GPa和200-1250°C条件下监测体系电导率的变化。研究结果显示，体系的电导率在较窄温度区间范围内发生显著变化（图1），最大突变达到60倍。电导率突变所对应的温度与文献中公认的钠长石-水体系相图高度吻合（图2）。这项研究为解决关于俯冲带板片和地幔楔熔融条件和熔融过程的争议奠定了良好基础。中国科学技术大学地球和空间科学学院郭璇副教授为论文的第一和通讯作者。该项研究工作得到了科技部重点研发计划变革性技术关键科学问题专项“超临界地质流体的性质和效应”项目、国家自然科学基金、中央高校基本科研业务费专项资金及统筹推进世界一流大学和一流学科建设专项资金资助。图1 钠长石在富水条件下熔融时电导率升高几十倍图2 电导率突变温度与钠长石-水体系相图高度吻合文章链接：https://agupubs.onlinelibrary.wiley.com/doi/10.1029/2021JB023269

TGA检测HDPE的熔融与分解Newsletter No. 3c-DTA® 是通过计算得到的DTA信号，可以提高热重仪器温度校正的精度，不需要磁性居里点标样。它还可以在测量热重信号的同时得到吸放热信号，比如质量损失挥发导致的吸热、无质量变化时可能伴随着熔融。测试结果的相关对应性很好，不受硬件影响。所有TGA样品支架（TG209F1 Iris® /Libra® ，TG209F3 Tarsus® ，STA449F1/F3 Jupiter® ）都能够实现c-DTA功能。图 1 铑丝的双熔融峰，使用耐驰STA测量图1是TG209F1 Libra® 以10K/min，N2气氛下测试10.31mg高密度聚乙烯HDPE样品的TG曲线。样品在420°C开始分解之前（绿色TG曲线），c-DTA曲线（红色）检测到位于128.8°C的熔融峰。同样的测试条件，DSC200F3 Maia® 测得的样品熔融峰为128.2°C（黑色曲线），由此可见，c-DTA测得的结果是比较可靠的。

意大利NOSELAB-ATS厂商向市场推出新型高级自动熔融指数仪, 该仪器具有LCD彩色大屏幕触摸屏设定及控制 配备4种不同重量的砝码自动升降系统,按预设参数自动控制全检测过程.可旋转炉体，便于清洗。可选件分析研究型，热稳定性及流变特性软件 详细介绍请见. http://www.instrument.com.cn/netshow/C138010.htm

近年来，转角石墨烯受到国内的关注。转角石墨烯所具有的大周期莫尔晶格（Moiré pattern）及其所带来的能带折叠效应可以诱导出丰富、新奇的电子结构。尤其是在一些特殊的小角度上，电子结构中所出现的平带会衍生出较多不寻常的现象，如超导、强关联、自发铁磁性等。       目前，多数研究采用机械剥离和逐层转移的物理方法对转角石墨烯样品进行制备，而该方法存在条件苛刻、产出率低、界面污染等问题。为发展更加高效的制备技术，科学家通过对化学气相沉积法中衬底的设计，陆续突破了几种类型的转角石墨烯的规模化制备难题。然而，关于多层石墨烯的转角周期的可控制备方面，尚无比较普适的解决办法。       近日，中国科学院深圳先进技术研究院、上海科技大学、中国科学院上海微系统与信息技术研究所、中国人民大学和德国慕尼黑工业大学，寻找到一种石墨烯的折纸方法，可实现高层间周期的转角石墨烯的可控制备。研究发现，铂金表面生长的石墨烯会形成一定的褶皱，褶皱长大后向两旁倒下，并在一些位置撕裂形成一个四重的螺旋位错中心。褶皱倒下时会折叠其一侧的石墨烯，带来与褶皱的“手性”角（也就是褶皱的方向与石墨烯晶向的夹角）具有两倍关系的单层转角。科学家称之为“一维手性到二维转角的转化关系”，并利用折纸模型对该现象进行了形象的演示。该研究进一步探讨了所形成的螺旋位错再生长带来的新奇现象，并发现各层石墨烯会随着再生长形成具有周期性的四层转角结构，其中第1、3层与原始石墨烯的晶向相同，而2、4层的晶向由褶皱手性角所决定。因此研究提出了一种新的周期转角多层石墨烯的制备方法，即通过控制石墨烯褶皱形成的方向，制备具有特殊层间转角周期的多层石墨烯。该方法可用于多种可以形成褶皱的其他二维材料。      相关研究成果以《通过石墨烯螺旋的一维到二维的生长将手性转化为转角》（Conversion of Chirality to Twisting via 1D-to-2D Growth of Graphene Spirals）为题，发表在《自然-材料》（Nature Materials）上。研究工作得到国家自然科学基金、中国科学院和国家重点研发计划等的支持。图1. 石墨烯折纸现象的记录与演示。（a-d）原位ESEM实验所记录的褶皱形成、倒下和再生长的过程；（e-h）相应过程的示意图；（i-l）利用折纸模型演示褶皱的形成、倒下和再生长。图2. 螺旋位错附近的再生长过程。（a-d）原位SEM实验所记录的多个反向螺旋位错附近的再生长过程；（e-h）动力学蒙特卡洛对该过程的模拟演示；（i）原子尺度分辨率STM所表征的石墨烯褶皱“手性”角；（j-l）利用折纸模型演示褶皱倒下时形成的螺旋位错及下层石墨烯出现的转角；（m-t）螺旋位错再生长所带来的四层周期转角结构示意图。图3. 石墨烯螺旋的再生长和合并。（a-f）原位ESEM实验所记录的褶皱出现到最终生长成多层转角石墨烯的全过程；（g）TEM表征下的多层转角石墨烯；（h）原子分辨率的多层转角石墨烯表征图；（i-k）动力学蒙特卡洛对该过程的模拟。      图4. 多层螺旋石墨烯和多层堆垛石墨输运性质的区别。（a）原子力显微镜观察到的螺旋位错中心；（b-d）输运性质检测时的实验设置；（e-g）多层螺旋石墨烯和多层堆垛石墨的电阻和磁阻随温度变化的关系。

SDL Atlas将于2012年4月18-21日参加在上海浦东新国际博览中心举行的第二十六届中国国际塑料橡胶工业展﹝简称「2012国际橡塑展」Chinaplas 2012﹞。 SDL Atlas是Atlas与Tinius Olsen在中国大陆及港澳地区的独家代理商与服务商。在本届展会上，可以参观到多款由锡莱亚太拉斯有限公司生产和代理的塑料测试仪器，如来自美国知名材料老化测试专家ATLAS公司生产的Ci4000氙灯老化试验机，美国著名材料试验机厂商Tinius Olsen生产的测试设备：万能材料试验机、MP1200熔融指数测试仪，以及锡莱亚太拉斯生产的测试家用电器着火危险性的SafQ GW-3020灼热丝测试仪和颜色评审灯箱等。 本届展会上将有全新的MP1200型熔融指数测试仪面市。MP1200型熔融指数仪采用三段式加热器设计，并且每段均配有独立的铂金温度传感器，以提高设备的温度稳定性、精度以及温度均匀性；新型MP1200熔融指数仪采用触摸屏控制，配合使用强大的Horizon数据分析软件，可以简单方便地将所需的测试方法设置储存以便随时调用。如需要更复杂的统计过程控制，还可通过USB数据线将测试仪与Horizon软件相接，以控制并收集仪器的数据，根据要求生成报告与控制图表。此外，MP1200熔融指数仪其他创新设计还包括口模释放装置，用户可以轻松取下口模进行清洁。新式锥形带槽砝码设计，使得装载与卸载更安全。挤出物切割器有手动和自动两种可选配，标配的金属镜子方便操作员看到挤出物及口模的实时状况。 现诚意邀请阁下参观我司展台，欢迎届时莅临！若想了解更多信息，请登录我司的网上展台查询： http://www.chinaplasonline.com/ExhibitorDB12/lang-simp/cid-53137/src-511/CompanyProfile.aspx。 日期： 2012年4月18-21日 地点： 上海新国际博览中心（中国上海市浦东新区龙阳路2345号） 展台： W1K67 「CHINAPLAS 国际橡塑展」伴随着中国塑料及橡胶行业成长近30年，至今已发展成为亚洲最具规模之橡塑业展会，并对中国橡塑业的发展产生了积极的推动作用。目前，「CHINAPLAS 国际橡塑展」不单是亚洲最大型的塑料及橡胶业展览会，业内人士更公认其影响力仅次于全球第一大橡塑展的德国「K展」及第二的美国「NPE展」，成为橡塑业的世界第三大展会。 展品范围: 辅助设备 吹塑机 化工及原料、辅料 挤出机及挤出生产线 注塑机 计算器辅助设计及生产系统 预加工、回收利用机械及设备 修饰、装潢、印刷及印标机械及设备 泡沫、反应或增强树脂机械 测量、控制及试验设备 模具 零部件 后加工及其它加工机械 压机 半制成品 焊机等

【科学背景】二维半导体是当今研究的热点，因为它们具有潜在的在下一代电子和光电子器件中发挥重要作用的特性。然而，尽管已经取得了一定进展，但已知的二维半导体普遍存在着热导率较低的问题，这限制了它们在高性能器件中的应用。为了解决这一挑战，科学家们开始寻找具有高热导率的二维半导体。在这种背景下，MoSi2N4作为一种新兴的二维半导体受到了关注。相较于已知的二维半导体，MoSi2N4具有更高的电子和空穴迁移率，光学透射率以及断裂强度和杨氏模量等方面的性能。然而，尽管其结构更加复杂，MoSi2N4被预测具有异常高的热导率。为验证这一预测，中国科学院金属研究所沈阳国家材料科学实验室、中国科学技术大学材料科学与工程学院Wencai Ren教授等人进行了实验测量，并发现悬浮单层MoSi2N4的热导率高达173 Wm–1K–1，远高于已知的二维半导体。通过第一性原理计算，他们发现这种异常高的热导率得益于MoSi2N4的高德拜温度和低格林尼森参数，这两者都与其高杨氏模量相关。这项研究不仅为下一代电子和光电子器件提供了有望实现高性能的新材料，而且为设计具有高效热传导的二维材料提供了重要参考。【科学亮点】（1）实验首次利用非接触的光热拉曼技术，对悬浮单层MoSi2N4的热导率进行了实验测量。（2）通过该实验，我们在室温下测量到了约为173 Wm–1K–1的高热导率，这一结果远高于已知的二维半导体如MoS2、WS2、MoSe2、WSe2和黑磷。（3）这一结果证明了MoSi2N4具有异常高的热导率，为其作为下一代电子和光电子器件的候选材料奠定了基础。（4）第一性原理计算揭示了MoSi2N4的热导率高的原因，主要归因于其高德拜温度和低格林尼森参数，这两者又强烈依赖于材料的高杨氏模量，后者是由最外层Si-N双层引起的。【科学图文】图1：化学气相沉积生长的MoSi2N4晶体的表征。图2. SiO2/Si衬底上单层MoSi2N4晶体的拉曼表征。图3：利用光热拉曼技术对悬浮单层MoSi2N4晶体的热导率测量。图4：单层MoSi2N4晶体的异常高热导率。图5：对单层MoSi2N4异常高热导率的理论分析。【科学结论】在单层MoSi2N4中发现异常高的热导率，不仅确立了该材料具有同时高载流子迁移率的基准二维半导体，可用于下一代电子和光电子器件，还为设计具有高效热传导性能的二维材料提供了新的见解。然而，本研究中测得的单层MoSi2N4的热导率低于理论计算结果，这可以归因于以下两个事实。首先，MoSi2N4晶体具有一定浓度的热力学平衡点缺陷，如通过iDPC-STEM成像观察到的N空位。与其他二维材料中的缺陷类似，随着N空位密度的增加，Si-N双层的热导率显著下降。此外，N2空位在高频声子散射中起主要作用，而N1空位影响较小。其次，MoSi2N4中的褶皱，作为一种形式的平面外扭曲变形，会导致强烈的声子局部化和增强的声子散射，从而类似于其他二维材料，降低了热导率。在未来，制备具有高质量的硅片尺度单晶单层MoSi2N4是利用其高热导率和载流子迁移率用于下一代电子和光电子器件的关键。原文详情：He, C., Xu, C., Chen, C. et al. Unusually high thermal conductivity in suspended monolayer MoSi2N4. Nat Commun 15, 4832 (2024). https://doi.org/10.1038/s41467-024-48888-9

时间：2012年12月1日至2012年12月31日 活动期间购买Ascentis Express 5&mu m色谱柱任何一款，享受6折 继2008年首发 Ascentis Express 2.7 &mu m 熔融核液相色谱柱在市场上热卖之后， Sigma-Aldrich公司旗下分析品牌 Supelco 于2012年8月又首发推出 Ascentis Express 5&mu m 熔融核液相色谱柱。该色谱柱基于熔融核技术，性能超越传统全孔5&mu m和3&mu m色谱柱，在不增加柱压的情况下，实现快速高效分离，可作为传统5&mu m色谱柱的新型标准柱。 同等分析条件和色谱柱尺寸下替代传统5&mu m 色谱柱 方法可直接转移 柱效远高于全孔5&mu m液相色谱柱，与全孔3&mu m色谱柱相当 柱压与传统5&mu m相当 分析时间仅为原来的一半，亦合适生物样品LC/MS分析 Ascentis Express 5&mu m熔融核色谱柱与传统全孔5&mu m、传统全孔3&mu m色谱柱最高塔板数/压力的比较 更多产品详情，可参见Sigma-Aldrich.com/express5 或致电021-61415566-8242或者email至connie.chen@sial.com 您现在还可报名参加Sigma-Aldrich 2012年12月20日在仪器信息网的网络讲堂 《Ascentis Express 5um熔融核快速液相色谱柱技术及应用》在线听讲并提问。 链接如下：http://www.instrument.com.cn/webinar/meeting/meetingInsidePage/645

01背景介绍自石墨烯被发现以来，二维(two-dimensional, 2D)材料因其奇妙的特性吸引了大量的研究兴趣。特别是二维形式的材料由于更大的面体积比可以更有效的性能调节，通常表现出比块体材料更好的性能。迄今为止，已有许多具有优异性能的二维材料被报道和研究，如硅烯、磷烯、MoS2等，它们在电子、光电子、催化、热电等方面显示出应用潜力。在微电子革命中，宽带隙半导体占有关键地位。例如，2014年诺贝尔物理学奖材料氮化镓(GaN)已被广泛应用于大功率电子设备和蓝光LED中。此外，氧化锌(ZnO)也是一种广泛应用于透明电子领域的n型半导体，其直接宽频带隙可达3.4 eV。在透明电子的潜在应用中，n型半导体的有效质量通常较小，而p型半导体的有效质量通常较大。然而，人们发现立方纤锌矿(γ-CuI)中的块状碘化铜是一种有效质量小的p型半导体，具有较高的载流子迁移率，在与n型半导体耦合的应用中很有用。例如，γ-CuI由于其较大的Seebeck系数，在热电中具有潜在的应用。二维材料与块体材料相比，一般具有额外的突出性能，因此预期单层CuI可能比γ-CuI具有更好的性能。作为一种非层状I-VII族化合物，CuI存在α、β和γ三个不同的相。温度的变化会导致CuI的相变，即在温度超过643 K时，从立方的γ-相转变为六方的β-相，在温度超过673 K时，β-相进一步转变为立方的α-相。因此，不同的条件下，CuI的结构是很丰富的。超薄的二维γ-CuI纳米片已于2018年在实验上成功合成 [npj 2D Mater. Appl., 2018, 2, 1–7.]。然而，合成的CuI纳米片是非层状γ-CuI的膜状结构，由于尺寸的限制，单层CuI的结构可能与γ-CuI薄膜中的单层结构不同。因此，需要对单层CuI的结构和稳定性进行全面研究。在这项研究中，我们预测了单层CuI的稳定结构，并系统地开展电子、光学和热性质的研究。与γ-CuI相比，单层CuI中发现直接带隙较大，可实现超高的光传输。此外，预测了单层CuI的超低热导率，比大多数半导体低1 ~ 2个数量级。直接宽频带隙和超低热导率的单层CuI使其在透明和可穿戴电子产品方面有潜在应用。02成果掠影近日，湖南大学的徐金园（第一作者）、陈艾伶（第二作者）、余林凤（第三作者）、魏东海（第四作者）、秦光照（通讯作者），和郑州大学的秦真真、田骐琨（第五作者）、湘潭大学的王慧敏开展合作研究，基于第一性原理计算，预测了p型宽带隙半导体γ-CuI(碘化亚铜)的单层对应物的稳定结构，并结合声子玻尔兹曼方程研究了其传热特性。单层CuI的热导率仅为0.116 W m-1K-1，甚至能与空气的热导率(0.023 W m-1K-1)相当，大大低于γ-CuI (0.997 W m-1K-1)和其他典型半导体。此外，单层CuI具有3.57 eV的超宽直接带隙，比γ-CuI (2.95-3.1 eV)更大，具有更好的光学性能，在纳米/光电子领域有广阔的应用前景。单层CuI在电子、光学和热输运性能方面具有多功能优势，本研究报道的单层CuI极低的热导率和宽直接带隙将在透明电子和可穿戴电子领域有潜在的应用前景。研究成果以“The record low thermal conductivity of monolayer Cuprous Iodide (CuI) with direct wide bandgap”为题发表于《Nanoscale》期刊。03图文导读图1. 声子色散证实了CuI单层结构的稳定性。单层CuI(记为ML-CuI)几种可能的结构:(a)类石墨烯结构，(b)稳定的四原子层结构，(c)夹层结构。(d)稳定的γ相快体结构(记为γ-CuI)。(e-h)声子色散曲线对应于(a-d)所示的结构。给出了部分状态密度(pDOS)。通过测试二维材料的所有可能的结构模式，发现除了如图1(b)所示的弯曲夹层结构外，单层CuI都存在虚频。平面六边形蜂窝结构中的单层CuI，类似于石墨烯和三明治夹层结构，如图1(a,c)所示作为对比示例，其中声子色散中的虚频揭示了其结构的不稳定性[图1(e,f)]。因此，通过考察单层CuI在不同二维结构模式下的稳定性，成功发现单层CuI具有两个弯曲子层的稳定结构，表现出与硅烯相似的特征。优化后的单层CuI晶格常数为a꞊b꞊4.18 Å，与实验结果(4.19 Å)吻合较好。而在空间群为F3m的闪锌矿结构中，得到的优化晶格常数a=b=c=6.08 Å与文献的结果(5.99-6.03 Å)吻合较好。此外，LDA泛函优化得到的单层CuI和γ-CuI的晶格常数分别为4.01和5.87 Å，为此后续计算都基于更准确的PBE泛函。通过观察晶格振动的投影态密度，发现Cu和I原子在不同频率下的贡献几乎相等。此外，光学声子分支之间存在带隙[图1(g)]，这可能导致先前报道的光学声子模式散射减弱。相反，在γ-CuI中不存在声子频率带隙[图1(h)]。图2. 热导率及相关参数的收敛性测试。(a)原子间相互作用随原子距离的变化。(b)热导率对截断距离的收敛性。彩色椭圆标记收敛值。(c)热导率相对于Q点的收敛性。(d)单层CuI和γ-CuI的热导率随温度的函数关系。在稳定结构的基础上，比较研究了单层CuI和γ-CuI的热输运性质。基于原子间相互作用的分析验证了热导率的收敛性[图2(a)]。如图2(b)所示，热导率随着截止距离的增加而降低，其中出现了几个阶段。热导率的下降是由于更多的原子间相互作用和更多的声子-声子散射。注意，当截止距离大于6 Å时，热导率仍呈下降趋势，说明CuI单层中长程相互作用的影响显著。这种长程的相互作用通常存在于具有共振键的材料中，如磷烯和PbTe。通过收敛性测试，预测单层CuI在300 K时的热导率为0.116 W m-1K-1[图2(c)]，这是接近空气热导率的极低值。单层CuI的超低热导率远远低于大多数已知的半导体。此外，计算得到的γ-CuI的热导率为0.997 W m-1K-1，与Yang等的实验结果~0.55 W m-1K-1基本吻合，值得注意的是Yang等人的实验结果测量了多晶态γ-CuI。此外，单层CuI和γ-CuI的热导率随温度的变化完全符合1/T递减关系[图2(d)]。考虑到温度对热输运的影响，今后研究声子水动力效应对单层CuI热输运特性的影响，特别是在低温条件下，可能是很有意义的。图3. 单层CuI和γ-CuI在300 K的热输运特性。(a)群速度，(b)相空间，(c)声子弛豫时间，(d) Grüneisen参数，(e)尺寸相关热导率的模态分析。(f)平面外方向(ZA)、横向(TA)和纵向(LA)声子和光学声子分支对热导率的贡献百分比。超低导热率的潜在机制可能与重原子Cu和I有关，也可能与单层CuI的屈曲结构有关。声子群速度[图3(a)]和弛豫时间[图3(c)]都较小，而散射相空间[图3(b)]较大。总的来说，单层CuI (1.6055)的Grüneisen参数的绝对总值显著大于γ-CuI (0.4828)。即使在低频下Grüneisen参数没有显著差异[图3(d)]，单层CuI和γ-CuI的声子散射相空间却相差近一个数量级，如图3(b)所示。因此，低频声子弛豫时间的显著差异[图3(c)]在于不同的散射相空间。此外，单层CuI的声子平均自由程(MFP)低于γ-CuI，如图3(e)所示。因此，在单层CuI中产生了超低的热导率，这将有利于电源在可穿戴设备或物联网的应用，具有良好的热电性能。此外，详细分析发现，光学声子模式在单层CuI[图3(f)]中的较大贡献是由于相应频率处相空间相对较小，这是由图1(g)所示的光学声子分支之间的带隙造成的。图4. 单层CuI的电子结构。(a)单层CuI和(h)γ-CuI的电子能带结构，其中电子局部化函数(ELF)以插图形式表示。(b-d)单层CuI和(i)γ-CuI的轨道投影态密度(pDOS)。(e)透射系数，(f)吸收系数，(g)反射系数。在验证了CuI单层结构稳定的情况后，进一步研究其电子结构，如图4(a)所示。利用PBE泛函，预测了单层CuI的直接带隙，导带最小值(CBM)和价带最大值(VBM)都位于Gamma点。PBE预测其带隙为2.07 eV。我们利用HSE06进行了高精度计算，得到带隙为3.57 eV。如图4 (h)所示，单层CuI的带隙(3.57 eV)大于体γ-CuI的带隙(2.95 eV)，这与Mustonen, K.等报道的3.17 eV非常吻合，使单层CuI成为一种很有前景的直接宽频带隙半导体。此外，VBM主要由Cu-d轨道贡献，如图4(b-d)的pDOS所示。能带结构、pDOS和ELF揭示的电子特性的不同行为是单层CuI和γ-CuI不同热输运性质的原因。电子结构对光学性质也有重要影响。如图4(e-g)所示，在0 - 7ev的能量范围内，单层CuI的吸收系数[图4(f)]和折射系数[图4(g)]不断增大，说明单层CuI在该区域的吸收和折射能力增强。相应的，随着透射系数的减小，单层CuI的光子传输能力[图4(e)]也变弱。当光子能量大于7 eV时，CuI的吸收和折射系数开始显著减弱，最终在8 eV的能量阈值处达到一个平台。值得注意的是，与声子的吸收和传输能力相比，单层CuI对光子的反射效率较低，最高不超过2%。对于光子吸收，单层CuI的工作区域在5.0 - 7.5 eV的能量范围内，而可见光的光子能量在1.62 - 3.11 eV之间。显然，CuI的主要吸收光是紫外光，高达20%。

锂离子电池”锂离子电池是一种二次电池，主要依靠锂离子在正极和负极之间移动来工作。在充放电过程中，锂离子穿过隔膜在两个电极之间往返嵌入和脱嵌，锂离子能量的存储和释放通过电极材料的氧化还原反应实现。锂离子电池主要由正极材料、隔膜、负极材料、电解液和其他材料组成。其中，隔膜在锂离子电池中起到阻止正负极直接接触的作用，并允许电解液中的锂离子自由通过，提供锂离子传输的微孔通道。锂离子电池隔膜的孔径尺寸、多孔程度、分布均一性、厚度直接影响电解液的扩散速率和安全性，对电池的性能有很大影响。如果隔膜的孔径太小，锂离子的透过性受限，影响电池中锂离子的传输性能，使得电池内阻增大；如果孔径太大，锂枝晶的生长可能会刺穿隔膜，造成短路或爆炸等事故[1]。场发射扫描电镜在锂电隔膜检测中的应用”使用扫描电镜可以观察隔膜的孔径尺寸和分布均匀性，还可以对多层和有涂覆隔膜的截面进行观察，测量隔膜厚度。传统的商业化隔膜材料多为聚烯烃材料所制备的微孔膜，包括聚乙烯（PE）、聚丙烯（PP）单层膜及PP/PE/PP三层复合膜。聚烯烃类的高分子材料绝缘不导电，并且对电子束非常敏感，高压下观察会导致荷电效应，高分子隔膜的精细结构也会被电子束损伤。国仪量子自主研发的SEM5000型场发射扫描电镜，具备低压高分辨的能力，可以在低压下直接观察隔膜表面的精细结构，并且不会对隔膜产生损伤。隔膜的制备工艺主要分为干法和湿法两类[2]。干法即熔融拉伸法，包括单向拉伸工艺和双向拉伸工艺，工艺过程简单，制造成本低，是锂离子电池隔膜生产的常用方法。干法制备的隔膜具有扁长状微孔（图1），但制备的隔膜较厚，且微孔均匀性差、孔径和孔隙率较难控制，组装后的电池能量密度低，主要应用于中低端锂离子电池。场发射扫描电镜在锂电隔膜检测中的应用”图1 干法拉伸隔膜/0.5KV/Inlens湿法即热致相分离法，将聚合物与高沸点溶剂等混合熔融，经过降温相分离、拉伸、萃取干燥、热处理定型等工艺制得微孔膜。与干法工艺相比较，湿法工艺稳定可控，制得的隔膜厚度薄、力学强度高、孔径分布均匀且相互贯穿（图2）。使用湿法工艺制得的隔膜虽然成本高于干法工艺，但组装后的电池能量密度高、充放电性能好，多应用于中高端的锂离子电池。结合国仪量子自主研发的孔径分析系统，可以对隔膜的孔径、孔隙率等特征进行快速自动化的分析（图3）。图2 湿法拉伸隔膜/1KV/Inlens图3 隔膜孔径分析/1KV/Inlens虽然聚烯烃类的隔膜广泛应用于锂离子电池中，但受材料本身力学性能、耐热性及表面惰性的限制，单纯的聚烯烃隔膜无法满足锂离子电池高安全性和高性能的要求。为此，需要对聚烯烃隔膜进行表面改性，以提高其力学性能、耐热性及与电解质的亲和力。其中，目前最常使用的方法就是对隔膜进行表面物理涂覆[3]。无机陶瓷材料（图4）具有耐热性好、化学稳定性高的特点，并且表面的极性官能团有利于改善聚烯烃隔膜对电解液的浸润性，故其常作为涂覆颗粒以增强隔膜的耐热性和电化学性能。图5为经无机陶瓷颗粒涂覆后隔膜的陶瓷面的表面形貌。图4 氧化铝陶瓷粉末/5KV/BSED图5 陶瓷涂覆隔膜/1KV/Inlens

11月14日，全国塑料标准化技术委员会2023年年会暨标准审查会在海南省琼海市博鳌亚洲湾国际大酒店正式召开，仕家万联作为塑料标委会观察员成员之一，荣幸受邀参加，并在现场为大家展示讲解智能化熔融指数仪等多款产品；随着智慧实验室建设发展，实验室对智能化技术与全自动设备的需求日渐迫切。但在实际应用层面，操作复杂化、试验过程难以连续、数据重复性不理想等问题让许多用户对“自动设备”望而却步。为契合行业需求，我司致力于持续推动智能化精密物性分析设备拥抱市场，帮助企业用户更好地应对发展挑战，加速科技创新。此次大会上，我司展示讲解的智能化熔融指数仪特有智能化机械手系统，可连续进行12~50组样品自动循环测试，自动进样自动加载和切换砝码、自动测试、自动切割、自动称重计算、自动清洗等完全智能化测试过程，吸引了众多业内人士参观交流。

2018年10月15日-10月18日，2018（第五届）国际材料与试验发展高端论坛在北京国家会议中心隆重召开。众多院士、千余名国内外相关领域著名专家、学者、技术人员齐聚一堂，围绕“材料与试验技术创新及标准化、实验室能力验证助力材料产业高质量发展”的主题展开报告与交流。同期，由国际钢铁工业分析委员会与中国金属学会分析测试分会联合主办的第十九届国际冶金及材料分析测试学术报告会（ICASI’2018 & CCATM’2018）也顺利召开。联合大会现场作为冶金及材料分析测试领域内最具权威性、最具影响力、最大规模的学术报告会暨展览会，吸引了国内外相关领域的专家、学者、技术人员及仪器设备厂商参加，充分展示了国内外冶金及材料领域分析方法及测试技术的最新进展。培安公司受邀携Katanax X-600电熔融炉如期而至，助力第十九届国际冶金及材料分析测试学术报告会CCATM2018成功召开，引得业界众多专家学者、用户莅临培安仪器展区参观交流。Katanax公司Jean-Fran?ois Nolin全程参与此次会议，与用户进行了深刻的沟通交流。展位现场图

关键词：熔喷布是什么？熔喷布是以聚丙烯为主要原料的过滤材料。其纤维直径可以达到1～5微米，这些具有独特的毛细结构的超细纤维增加单位面积纤维的数量和表面积，从而使熔喷布具有很好的过滤性、屏蔽性、绝热性和吸油性，可用于空气、液体过滤材料、隔离材料、吸纳材料、口罩材料、保暖材料及擦拭布等领域剪开一个医用口罩，你会发现：口罩有三层，（内层）吸湿层、（中层）核心过滤层、和（外层）阻水层。因为按照国家的生产规定，医用口罩至少包含3层无纺布（N95 级别口罩，结构上做了优化：（中层）核心过滤过滤层层数更多了，厚度更厚了）。S层：聚丙烯PP专用树脂（中国石化）-无纺布厂-口罩厂M层：高熔融指数的聚丙烯PP专用树脂（中国石化）-改性塑料厂（防疫期间，中国石化攻关生产熔喷布专用料）-熔喷无纺布厂-口罩厂。熔喷布俗称口罩的“心脏”，是口罩中间的过滤层，能过滤细菌，阻止病菌传播。熔喷布是一种以高熔融指数的聚丙烯PP为材料，由许多纵横交错的纤维以随机方向层叠而成的膜，纤维直径范围 0.5~10 微米，其纤维直径大约有头发丝的三十分之一。空隙多、结构蓬松、抗褶皱能力好，具有独特的毛细结构的超细纤维增加单位面积纤维的数量和表面积，从而使熔喷布具有很好的过滤性、屏蔽性、绝热性和吸油性。可用于空气、液体过滤材料、隔离材料、吸纳材料、口罩材料、保暖材料、吸油材料及擦拭布等领域。头发、纺粘纤维、熔喷纤维直径对比应用范围：（1）医疗卫生用布：手术衣、防护服、消毒包布、口罩、尿片、妇女卫生巾等；（2）家庭装饰用布：贴墙布、台布、床单、床罩等；（3）跟装用布：衬里、粘合衬、絮片、定型棉、各种合成革底布等；（4）工业用布：过滤材料、绝缘材料、水泥包装袋、土工布、包覆布等；（5）农业用布：作物保护布、育秧布、灌溉布、保温幕帘等；（6）其它：太空棉、保温隔音材料、吸油毡、烟过滤嘴、袋包茶叶袋等。熔喷布过滤材料是由聚丙烯超细纤维随机分布沾结在一起，外观洁白、平整、柔软，材料纤维细度为0.5-1.0μm，纤维的随机分布提供了纤维间更多的热粘合机会，因而使熔喷气体过滤材料具有更大的比表面积，更高的孔隙率（≥75%）。经过高压驻极过滤效率，使产品具有低阻、高效、高容尘等特点。

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【平公资采2024171号】尧山实验室PEEK材料实验设备采购项目-公开招标公告 河南省-平顶山市 状态：公告 更新时间： 2024-02-27 中小微企业融资申请 项目概况 尧山实验室PEEK材料实验设备采购项目招标项目的潜在投标人应在平顶山市公共资源交易中心电子交易系统获取招标文件，并于2024年03月19日09时40分（北京时间）前递交投标文件。 一、项目基本情况 1、项目编号：2024-02-46 2、项目名称：尧山实验室PEEK材料实验设备采购项目 3、采购方式：公开招标 4、预算金额：1,902,000.00元 最高限价：1902000元 序号 包号 包名称 包预算（元） 包最高限价（元） 1 平公资采2024171号-1 尧山实验室PEEK材料实验设备采购项目第一标段 1902000 1902000 5、采购需求（包括但不限于标的的名称、数量、简要技术需求或服务要求等） 5.1.采购内容：尧山实验室PEEK材料实验设备采购项目，采购双螺杆挤出机2套、注塑设备1套、注塑成型模具1套、高温烘箱1台、熔融指数测试仪1套、电阻率测试仪1套、摆锤式冲击试验机1套、冷却循环系统1套、实验用通风橱2套，主要用于PEEK材料的制备及基础测试。5.2.质量要求：合格；5.3. 供货期：合同签订后60日历天内完成供货、安装、调试、验收并交付使用。5.4.标段划分：本项目划分为1个标段； 6、合同履行期限：同供货期。 7、本项目是否接受联合体投标：否 8、是否接受进口产品：否 9、是否专门面向中小企业：否 二、申请人资格要求： 1、满足《中华人民共和国政府采购法》第二十二条规定； 2、落实政府采购政策满足的资格要求： 本项目非专门面向中小企业采购。供应商为中小微企业、监狱企业、残疾人福利性单位，落实中小企业价格评审优惠政策；中小企业划型标准请依据工信部联企业（2011）300号文件之规定。 3、本项目的特定资格要求 3.1、具有独立承担民事责任的能力（提供有效的营业执照、税务登记证、组织机构代码证或三证合一营业执照，也可提供电子营业执照）。3.2、具有良好的商业信誉和健全的财务会计制度（提供承诺函）。3.3、具有履行合同所必需的设备和专业技术能力（提供承诺函）。3.4、具有依法缴纳税收和社会保障资金的良好记录（提供承诺函）。3.5、参加政府采购活动前三年内，在经营活动中没有重大违法记录（成立不足三年的新企业从成立时间开始,提供承诺函）。3.6、提供公告发布之后“信用中国”网站的“失信被执行人”（自动跳转至“中国执行信息公开网”）、和“重大税收违法失信主体”、“中国政府采购网”网站的“政府采购严重违法失信行为记录名单”查询结果页面截图，若有不良记录，则投标无效，执行财库【2016】125号文。3.7单位负责人为同一人或者存在控股、管理关系的不同单位，不得同时参加本项目的投标，提供在“国家企业信用信息公示系统”中查询打印的相关材料并加盖公章（需包含公司基本信息、股东信息及股权变更信息）。3.8本项目不接受联合体投标，采用资格后审。 三、获取招标文件 1.时间：2024年02月28日 至 2024年03月18日，每天上午00:00至12:00，下午12:00至23:59（北京时间，法定节假日除外。） 2.地点：平顶山市公共资源交易中心电子交易系统 3.方式：潜在供应商需凭CA数字证书通过平顶山市公共资源交易中心网（网址：http://www.pdsggzy.com/）“供应商登录”入口进入交易系统进行下载。具体操作请查看以下链接：链接地址：http://www.pdsggzy.com/fwzn/11020.jhtml 办理CA证书：http://www.pdsggzy.com/tzgg/10814.jhtml 4.售价：0元 四、投标截止时间及地点 1.时间：2024年03月19日09时40分（北京时间） 2.地点：平顶山市公共资源交易中心电子交易系统 五、开标时间及地点 1.时间：2024年03月19日09时40分（北京时间） 2.地点：平顶山市公共资源交易中心电子交易系统 六、发布公告的媒介及招标公告期限 本次招标公告在《河南省政府采购网》、《平顶山市政府采购网》、《全国公共资源交易平台（河南省.平顶山市）》上发布， 招标公告期限为五个工作日 。 七、其他补充事宜 1.监督单位：平顶山市政府采购服务中心统一信用代码：12410400MB1N33980Q联系方式：0375-26275912.平顶山市公共资源交易中心全面实行在线“不见面”开标，供应商远程在线解密投标文件，不再到开标现场，供应商开标前应仔细阅读招标文件中《“不见面”开标注意事项及操作流程》。3.各投标人如有异议可通过平顶山市公共资源交易平台向招标人（代理机构）、行政监督部门在线提出质疑（异议）、投诉。4.该公告已同步至“平顶山市公共资源交易中心微信公众号”，可通过公众号中的服务栏目进行查阅。 八、凡对本次招标提出询问，请按照以下方式联系 1. 采购人信息 名称：尧山实验室 地址：平顶山市城乡一体化示范区未来路南段（平顶山学院湖滨校区） 联系人：张先生 联系方式：18801095683 2.采购代理机构信息（如有） 名称：平顶山江河润泽工程管理咨询有限公司 地址：平顶山新城区蓝湾国际东一单元8楼西户 联系人：赵女士 联系方式：0375-3388693 13383753709 3.项目联系方式 项目联系人：赵女士 联系方式：0375-3388693 13383753709 × 扫码打开掌上仪信通App 查看联系方式 $('.clickModel').click(function () { $('.modelDiv').show() }) $('.closeModel').click(function () {$('.modelDiv').hide() }) 基本信息 关键内容：冲击试验机,熔融指数仪,冷水机,干燥箱 开标时间：2024-03-19 09:40 预算金额：190.20万元 采购单位：尧山实验室 采购联系人：点击查看 采购联系方式：点击查看 招标代理机构：平顶山江河润泽工程管理咨询有限公司 代理联系人：点击查看 代理联系方式：点击查看 详细信息 【平公资采2024171号】尧山实验室PEEK材料实验设备采购项目-公开招标公告 河南省-平顶山市 状态：公告 更新时间： 2024-02-27 中小微企业融资申请 项目概况 尧山实验室PEEK材料实验设备采购项目招标项目的潜在投标人应在平顶山市公共资源交易中心电子交易系统获取招标文件，并于2024年03月19日09时40分（北京时间）前递交投标文件。 一、项目基本情况 1、项目编号：2024-02-46 2、项目名称：尧山实验室PEEK材料实验设备采购项目 3、采购方式：公开招标 4、预算金额：1,902,000.00元 最高限价：1902000元 序号 包号 包名称 包预算（元） 包最高限价（元） 1 平公资采2024171号-1 尧山实验室PEEK材料实验设备采购项目第一标段 1902000 19020005、采购需求（包括但不限于标的的名称、数量、简要技术需求或服务要求等） 5.1.采购内容：尧山实验室PEEK材料实验设备采购项目，采购双螺杆挤出机2套、注塑设备1套、注塑成型模具1套、高温烘箱1台、熔融指数测试仪1套、电阻率测试仪1套、摆锤式冲击试验机1套、冷却循环系统1套、实验用通风橱2套，主要用于PEEK材料的制备及基础测试。5.2.质量要求：合格；5.3. 供货期：合同签订后60日历天内完成供货、安装、调试、验收并交付使用。5.4.标段划分：本项目划分为1个标段； 6、合同履行期限：同供货期。 7、本项目是否接受联合体投标：否 8、是否接受进口产品：否 9、是否专门面向中小企业：否 二、申请人资格要求： 1、满足《中华人民共和国政府采购法》第二十二条规定； 2、落实政府采购政策满足的资格要求： 本项目非专门面向中小企业采购。供应商为中小微企业、监狱企业、残疾人福利性单位，落实中小企业价格评审优惠政策；中小企业划型标准请依据工信部联企业（2011）300号文件之规定。 3、本项目的特定资格要求 3.1、具有独立承担民事责任的能力（提供有效的营业执照、税务登记证、组织机构代码证或三证合一营业执照，也可提供电子营业执照）。3.2、具有良好的商业信誉和健全的财务会计制度（提供承诺函）。3.3、具有履行合同所必需的设备和专业技术能力（提供承诺函）。3.4、具有依法缴纳税收和社会保障资金的良好记录（提供承诺函）。3.5、参加政府采购活动前三年内，在经营活动中没有重大违法记录（成立不足三年的新企业从成立时间开始,提供承诺函）。3.6、提供公告发布之后“信用中国”网站的“失信被执行人”（自动跳转至“中国执行信息公开网”）、和“重大税收违法失信主体”、“中国政府采购网”网站的“政府采购严重违法失信行为记录名单”查询结果页面截图，若有不良记录，则投标无效，执行财库【2016】125号文。3.7单位负责人为同一人或者存在控股、管理关系的不同单位，不得同时参加本项目的投标，提供在“国家企业信用信息公示系统”中查询打印的相关材料并加盖公章（需包含公司基本信息、股东信息及股权变更信息）。3.8本项目不接受联合体投标，采用资格后审。 三、获取招标文件 1.时间：2024年02月28日 至 2024年03月18日，每天上午00:00至12:00，下午12:00至23:59（北京时间，法定节假日除外。） 2.地点：平顶山市公共资源交易中心电子交易系统 3.方式：潜在供应商需凭CA数字证书通过平顶山市公共资源交易中心网（网址：http://www.pdsggzy.com/）“供应商登录”入口进入交易系统进行下载。具体操作请查看以下链接：链接地址：http://www.pdsggzy.com/fwzn/11020.jhtml 办理CA证书：http://www.pdsggzy.com/tzgg/10814.jhtml 4.售价：0元 四、投标截止时间及地点 1.时间：2024年03月19日09时40分（北京时间） 2.地点：平顶山市公共资源交易中心电子交易系统 五、开标时间及地点 1.时间：2024年03月19日09时40分（北京时间） 2.地点：平顶山市公共资源交易中心电子交易系统 六、发布公告的媒介及招标公告期限 本次招标公告在《河南省政府采购网》、《平顶山市政府采购网》、《全国公共资源交易平台（河南省.平顶山市）》上发布， 招标公告期限为五个工作日 。 七、其他补充事宜 1.监督单位：平顶山市政府采购服务中心统一信用代码：12410400MB1N33980Q联系方式：0375-26275912.平顶山市公共资源交易中心全面实行在线“不见面”开标，供应商远程在线解密投标文件，不再到开标现场，供应商开标前应仔细阅读招标文件中《“不见面”开标注意事项及操作流程》。3.各投标人如有异议可通过平顶山市公共资源交易平台向招标人（代理机构）、行政监督部门在线提出质疑（异议）、投诉。4.该公告已同步至“平顶山市公共资源交易中心微信公众号”，可通过公众号中的服务栏目进行查阅。 八、凡对本次招标提出询问，请按照以下方式联系 1. 采购人信息 名称：尧山实验室 地址：平顶山市城乡一体化示范区未来路南段（平顶山学院湖滨校区） 联系人：张先生 联系方式：18801095683 2.采购代理机构信息（如有） 名称：平顶山江河润泽工程管理咨询有限公司 地址：平顶山新城区蓝湾国际东一单元8楼西户 联系人：赵女士 联系方式：0375-3388693 13383753709 3.项目联系方式 项目联系人：赵女士 联系方式：0375-3388693 13383753709

柔性电子是新兴技术，在信息、能源、生物医疗等领域具有广阔的应用前景。其中，柔性集成电路可用于便携式、可穿戴、可植入式的电子产品中，对器件的低功耗提出了极高的技术需求。相对于传统半导体材料，单层二硫化钼二维半导体具有原子级厚度、合适的带隙且兼具刚性（面内）和柔性（面外），是备受瞩目的柔性集成电路沟道材料。然而，推动二维半导体柔性集成电路走向实际应用并形成竞争力，降低器件功耗、同时保持器件性能是关键技术挑战之一。 中国科学院物理研究所/北京凝聚态物理国家研究中心研究员张广宇课题组器件研究方向近年来聚焦于二维半导体，在高质量二维半导体晶圆制备、柔性薄膜晶体管器件和集成电路等方向取得了重要进展。近年来的代表性工作包括实现百微米以上大晶畴及高定向的单层二硫化钼4英寸晶圆，进而利用逐层外延实现了层数控制的多层二硫化钼4英寸晶圆；率先实现单层二硫化钼柔性晶体管和逻辑门电路的大面积集成；展示单层二硫化钼柔性环振电路的人工视网膜应用，模拟人眼感光后电脉冲信号产生、传导和处理的功能。 近期，该课题组博士研究生汤建、田金朋等发展了一种金属埋栅结合超薄栅介质层沉积工艺（图1），将高介电常数HfO2栅介质层厚度缩减至5 nm，对应等效氧化物厚度（EOT）降低至1 nm。所制备的硬衬底上的场效应晶体管器件操作电压可以等比例缩放至3 V以内，亚阈值摆幅达到75 mV/dec，接近室温极限60 mV/dec。同时，研究通过优化金属沉积工艺，使得金属电极与二硫化钼之间无损伤接触，避免费米能级钉扎，使接触电阻降低至Rc 96%）、高性能（平均迁移率~70 cm2 V-1 s-1）以及均匀的阈值电压分布（0.96 ± 0.4 V）。当操作电压在降低到0.5 V以下时，反相器依然具备大噪音容限和高增益、器件单元功耗低至10.3 pWμm-1；各种逻辑门电路也能够保持正确的布尔运算和稳定的输出（图3）；11阶环振电路可以稳定地输出正弦信号，一直到操作电压降低到0.3 V以下（图4）。 该工作展示了单层二硫化钼柔性集成电路可以兼具高性能和低功耗，为二维半导体基集成电路的发展走向实际应用提供了技术铺垫。相关结果近期以Low power flexible monolayer MoS2 integrated circuits为题，发表在《自然-通讯》（Nature Communications 2023 14, 3633）上。研究工作得到国家重点研发计划、国家自然科学基金和中国科学院战略性先导科技专项（B类）等的支持。该研究由物理所与松山湖材料实验室联合完成。

近日，华南师范大学物理与电信工程学院/广东省量子调控工程与材料重点实验室副研究员朱起忠与香港大学博士翟大伟、教授姚望合作，在单层过渡金属硫化物的激子特性方面取得重要研究进展。他们在理论上提出了基于层内激子产生偏振与轨道角动量锁定的单光子源及其阵列的方案。相关研究发表于国际权威学术期刊Nano Letters。　　单光子源在量子信息和量子通讯中具有重要的应用价值。近些年来，研究人员发现单层过渡金属硫化物（TMD）中的激子可以作为很好的单光子源，具有高度的可集成性和可调控性，并且莫尔周期外势中的激子普遍被认为可以实现单光子源阵列。这引起了研究人员的广泛兴趣和大量研究。　　然而，目前研究的基于TMD的单光子源发出的光子只有偏振自由度，而我们知道光子除了偏振自由度外还有轨道角动量自由度。能否利用TMD中的激子来产生携带轨道角动量以及偏振和轨道角动量纠缠的光子呢？如果可以做到，这将在充分利用TMD中单光子源的优势的基础上提供一个新的产生内部自由度纠缠的单光子源，预期将在领域内引起广泛的兴趣。　　最新研究中，研究人员在考虑TMD层内激子的能谷轨道耦合的基础上，发现通过利用将TMD铺在各项同性的纳米泡上产生的各向同性的应力束缚势，应力外势中的激子本征态具有能谷和轨道角动量纠缠的特性。利用光与激子的耦合理论，他们进一步证明了这样得到的能谷和轨道角动量纠缠的激子可以被携带轨道角动量的光子激发，也可以通过激子复合发出偏振和轨道角动量纠缠的单光子。　　研究组又进一步提出，基于转角氮化硼衬底产生的大周期莫尔外势，TMD中的带电激子在此基础上可以形成发出偏振和轨道角动量纠缠的单光子源的阵列。　　该研究工作提出了基于TMD中的激子产生偏振和轨道角动量纠缠的单光子源及其阵列的一种新方案，对基于TMD的单光子源研究起到了推动作用，具有潜在的应用前景。　　上述研究得到了国家自然科学基金和广东省自然科学基金的支持。华南师范大学硕士研究生张迪为该论文第一作者，朱起忠为通讯作者，华南师范大学为第一单位。

【科学背景】随着二维半导体研究的深入，过渡金属硫化物（TMDs）因其独特的光电特性和材料纯净度而引起了广泛关注。TMDs作为一种重要的范德华半导体材料，具有在低温和低载流子密度下表现出丰富的量子多体基态的潜力。然而，实现这些潜力的关键在于制作在低温和低载流子密度下仍能保持透明的低电阻欧姆接触，这一直是一个重大挑战。制作单层TMDs电接触的主要问题在于肖特基势垒的形成和费米能级钉扎现象。工作函数调谐金属可以帮助降低肖特基势垒高度，而在接触区域掺杂半导体可以用于减少势垒宽度。然而，通常用于实现对厚半导体透明电接触的技术，如离子注入和扩散金属接触，不能应用于单层TMDs，因为它们的原子薄结构。尽管转移金属、范德华材料和半金属等接触材料已经被应用于TMDs，但这些技术在低温和低载流子密度下的高性能接触仍然难以实现。为了解决这些问题，美国哥伦比亚大学（Columbia University）Cory R. Dean教授的研究团队采用了一种新型接触方案，利用范德华电子受体α-RuCl3，实现对单层WSe2的高透明p型接触。作者将α-RuCl3与WSe2的一侧接口，以在接触区域引入大量空穴掺杂，而在另一侧使用几层石墨形成金属接触。通过机械组装将电荷转移和接触层引入二维半导体，使作者能够在一个全范德华异质结构中实现完全接触和封装的二维半导体。本研究解决了在低温和低载流子密度下实现高性能电接触的难题。通过电荷转移接触方案，作者测得了创纪录的空穴迁移率和极低的通道载流子密度，使得作者能够研究在低载流子密度和强磁场下的量子输运特性。在这些条件下，作者观察到了维格纳晶体预期形成的密度下的金属-绝缘体相变（MIT），以及单层WSe2中分数量子霍尔效应（FQHE）的电输运特征。此外，范德华组装的设计灵活性使得电荷转移结构可以应用于依赖二维半导体电输运的各种器件，包括那些设计在室温下运行的器件。通过改进器件组装和接触界面的掺杂剖面设计，可以进一步提高接触性能。新型范德华电荷转移材料的识别可以为工程化的稳健n型和p型接触提供平台，其电阻有望接近或优于少层TMDs中报告的最低值。本研究为未来的器件在理解和利用TMD异质结构中的各种相关基态方面提供了新的可能性。【科学亮点】1. 实验首次采用电荷转移层实现了单层WSe2的高度透明p型接触，成功测得了创纪录的80,000&thinsp cm² &thinsp V⁻ ¹ &thinsp s⁻ ¹ 的空穴迁移率，并在低至1.6&thinsp ×&thinsp 10¹ ¹ &thinsp cm⁻ ² 的通道载流子密度下进行了测量。2. 实验通过将α-RuCl3与WSe2接口，引入大量空穴掺杂，同时在另一侧使用几层石墨形成金属接触，实现了完全接触和封装的二维半导体，确保了高性能接触在低密度下的表现：&bull 在低温和高磁场条件下，首次观察到密度低至1.6&thinsp ×&thinsp 10¹ ¹ &thinsp cm⁻ ² 时的金属-绝缘体相变（MIT），该密度下预期维格纳晶体形成。&bull 在强磁场下，首次在单层WSe2中观察到分数量子霍尔效应（FQHE）的电输运特征。&bull 通过范德华组装的设计灵活性，电荷转移结构能够应用于各种二维半导体器件，包括在室温下运行的器件。3. 该实验的成功展示了高纯度单层WSe2在低载流子密度和高磁场下的优异量子输运特性，指出了未来可以通过改进器件组装和掺杂剖面设计进一步提升接触性能的方向：&bull 新型范德华电荷转移材料的识别，有望为稳健的n型和p型接触提供平台，电阻可能接近或优于目前报告的最低值。&bull 新接触方案的实现，为理解和操控TMD异质结构中出现的各种相关基态的输运特性提供了新的机会。【科学图文】图1：电荷转移接触结构。图2：低密度硒化钨WSe2的输运性质。图3： 低密度金属－绝缘体转变metal–insulator transition，MIT。图4：观察分数量子霍尔效应。【科学启迪】本研究开创性地展示了通过电荷转移接触实现高性能电输运特性的可能性。这一创新方法为二维半导体器件的设计和应用提供了新的思路。通过引入α-RuCl3作为电子受体，作者成功在单层WSe2中实现了高透明p型接触，显著提高了空穴迁移率，并能在极低的载流子密度下进行测量。这一技术突破使得在低温和高磁场下研究二维半导体的量子现象成为可能，尤其是在观察低温金属-绝缘体相变和分数量子霍尔效应方面，提供了新的实验平台。范德华组装的设计灵活性也表明，这种电荷转移结构可以广泛应用于各种依赖二维半导体电输运的器件中，包括那些在室温下运行的设备。未来，通过优化器件组装和接触界面的掺杂剖面设计，电接触性能有望进一步提升。此外，识别和引入新型范德华电荷转移材料，将有助于开发出更加稳健的n型和p型接触，可能接近或超越目前少层TMDs中最低电阻值。这些技术进展不仅推动了基础物理研究的发展，还为下一代高性能电子器件的设计和制造奠定了基础，有望在未来的量子计算和高效电子器件领域产生深远影响。原文详情：Pack, J., Guo, Y., Liu, Z. et al. Charge-transfer contacts for the measurement of correlated states in high-mobility WSe2. Nat. Nanotechnol. (2024). https://doi.org/10.1038/s41565-024-01702-5