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触变性表征

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触变性表征相关的耗材

  • 石墨烯材料及其他新型低维材料检测表征服务
    泰州石墨烯研究检测平台是泰州市政府与泰州巨纳新能源有限公司共同成立的国内 石墨烯性能测试与结构表征的综合性研究及检测机构。平台目前建有近千平方米的检测洁净室,拥有高分辨拉曼光谱仪、原子力显微镜、三维共聚焦显微镜、电子束曝光系统、近场光学显微镜等国际先进的新材料性能检测及结构表征设备。平台致力于在石墨烯等高新碳材料以及新型低维材料(如各类二维材料、量子点)等领域提供全面专业的检测及表征服务。泰州石墨烯研究检测平台相关检测服务:微区形貌表征:表面洁净度、平整性、层数或厚度判定、均匀性分析等原子结构表征:原子缺陷、层间堆垛方式、电子能带结构等光学性能表征:紫外到红外波段透射、反射、吸收性能等成分检测及分析:元素含量与比率、官能团分析等电学、力学、热学、电化学性能表征等各种定制研究检测服务(如二维材料的光电响应测试)等 检测项目检测内容描述二维材料光电响应测试二维材料的光电响应测试定制化分析实验方案协助制定、数据分析整体解决方案原子力显微镜(AFM)检测石墨烯层数/厚度,尺寸,AFM图像光学显微分析石墨烯层数/厚度,尺寸,对比度分析,光学显微图片荧光显微分析发光样品显微图片3D显微分析石墨烯均匀性,表面起伏度,表面残余物检测拉曼(Raman)光谱分析(单谱) 石墨烯洁净度,层数,掺杂浓度,缺陷含量等拉曼(Raman)光谱分析 (单谱+成像)石墨烯洁净度,层数,掺杂浓度,缺陷含量等扫描电子显微镜(SEM)检测样品微观形貌(分辨率10nm)超高分辨场发射扫描电镜检测获取显微形貌、元素组成及分布信息生物型透射电镜获取显微形貌,适合对分辨率不高但是衬度要求高的高分子、生物型样品透射电子显微镜(TEM)检测获取显微形貌截面离子束抛光用离子束抛光,去除表面应力层,适合复杂样品的EBSD的采集,以及截面样品的SEM观察离子束平面研磨高分辨透射电子显微镜(TEM)检测样品高分辨形貌(分辨率1nm),衍射图(结晶度,晶格取向等)低真空场超高分辨场发射扫描电镜检测获取显微形貌、元素组成及分布信息 变温光学显微镜获取样品的显微形貌,具有明场、暗场、偏光、微分干涉等模式电子背散射衍射—STEM检测获取微观取向信息,可用于晶粒度、晶界、织构、应力等分析X射线光电子能谱(XPS)表面元素含量及化学价态(氧含量分析,成键态),结晶性能等紫外可见吸收光谱分析200-3300nm薄膜、溶液的透射率,吸收率等红外光谱分析(FTIR)红外波段透射(350-7800cm-1),有机物官能团分析等X射线荧光光谱分析元素的定量和半定量分析直读光谱分析获取样品的成分灰分测试获取样品的灰分能谱仪分析获取样品的元素成分和分布,微区域元素的定性和半定量分析等离子体发射光谱元素分析分析样品中无机元素的准确成分及定量辉光放电质谱分析H以外的所有元素,包括常用分析方法难以测定的C,N,O,P,S等轻元素超低检测限,大多数元素的检测限为0.1~0.001ug/G碳硫元素分析C 和 S 的比例元素分析C H O N S 的比例元素分析同位素质谱元素分析:C、N、S 百分含量 同位素质谱:13C、15N含量离子色谱-阴离子阴离子含量分析电感耦合等离子体质谱痕迹量元素测定电子探针 元素定性分析、定量分析X射线衍射分析结晶度、晶粒大小、层间距等显微红外分析微区样品红外光谱采集液相色谱分析样品有机物质的含量圆二色光谱分析液相色谱质谱联用分析 样品有机物质的含量及具体成分气相色谱易挥发的有机物质的含量气相色谱-质谱联用易挥发的有机物质的具体成分核磁共振分析氢谱、碳谱石墨烯薄膜热传导性能测试石墨烯热导率热重分析测试材料的质量随温度的变化,可用于分析构成的比例热差分析测定样品在程序控制温度下产生的热效应,可分析融点、成分构成、热性能、相转变、结晶动力学等信息同步热分析测量样品的热流、转变温度和重量变化三种信息力学性能测试 (氧化石墨烯纸/薄膜等)拉伸应力、拉伸强度、扯断强度、剪切剥离力、杨氏模量等电阻测试(薄膜样品)薄膜面电阻等比表面积测试(BET)测试样品比表面积椭圆偏振分析平板材料或者薄膜的折射率、反射率、膜厚、吸收系数测定电学性能测试(Transport)迁移率,掺杂浓度等纳米粒度分析纳米粒径的分布微米粒度分析微米粒度的分布PH值测试测量PH值
  • Styragel色谱柱——用于表征聚合物
    Styragel色谱柱——用于表征聚合物Styragel色谱柱设计专用于表征聚合物,分为三大系列:用于分析低-中分子量的HR系列,用于高温应用的HT系列,以及用于超高分子量样品的HMW系列。特别控制的聚乙烯二乙烯苯配方,为您的GPC应用提供重现的分析结果。Styragel HR 色谱柱(高分辨)Styragel HR(High Resolution,高分辨)系列色谱柱,专门设计用于低-中分子量样品的分析。色谱柱用坚硬的5μm苯乙烯二乙烯苯颗粒填充,为低分子量样品提供分析所需的最大化分辨率和柱效。Styragel HT 色谱柱(耐高温)Styragel HT(High Temperature,高温)系列色谱柱,专门设计用于中-高分子量范围。色谱柱使用坚硬的10μm苯乙烯二乙烯苯颗粒填充,能够在室温或高温条件下使用而仍保持极佳的分辨率。其所具有的窄的粒径分布,使得柱床结构更稳定,也就是使得Styragel HT柱特别耐用。Styragel HMW 色谱柱(高分子量分析)Styragel HMW(High Molecular Weight,高分子量)系列色谱柱,专门设计用于对剪切力敏感的、超高分子量的聚合物分析。色谱柱使用坚硬的20μm苯乙烯二乙烯苯颗粒填充,而且安装的是特殊设计的大孔径柱筛板,使对聚合物分子的剪切效应最小化。能够在室温或升温条件下使用,有极好的柱寿命。色谱柱规格方面,您可以选择传统的7.8mm内径规格,或者是更节约溶剂的4.6mm内径规格。如前所提的三大Styragel系列柱,均提供4.6mm内径柱;有单一孔径柱,也有混合型柱床柱(E)。使用内径较小的Styragel柱,能够为您节约溶剂消耗及环保处理费用高达2/3。当使用具有低谱带展宽体积的GPC系统时,我们的4.6mm内径柱可媲美7.8mm内径柱的高性能。Styragel 保护柱Styragel 4.6mm id x 30mm保护柱,设计用于提高您的Styragel分析柱的柱寿命。该保护柱能够配合沃特世任一系列的GPC柱使用。色谱柱的选择与优化选择合适的色谱柱,对于优化性能至关重要。为一个分析应用挑选最佳色谱柱的规则非常直接:它只对您希望分离的分子提供分离。不要选择色谱柱的排阻上限值比您希望保留分离的最大分子所需的排阻上限还要大的色谱柱。如果希望测量分子量广泛分布时,使用混合柱床(mixed-bed)或扩展范围(extended-range)色谱柱是恰当的选择,这能够对所有分子量大小提供一致的分离能力。Styragel色谱柱提供混合柱床和窄分子量范围柱床两种规格。混合床色谱柱,用字母“E”来标记代表拓展分子量范围(Extended range),特别适合作为筛选柱,适用于当您的样品的分子量范围未知、或是要测量的样品具有广泛的分子量分布时的情况。窄分子量范围柱,在更集中的分子量范围内,提供较大的孔容和更高的分辨率,对于要获得更精确分子量的应用是更有力的工具。Styragel HR系列(高分辨)柱的标准曲线图Styragel HT系列(高温柱)的标准曲线图Styragel HMW系列(高分子量柱)的标准曲线图Styragel柱产品规格货号一览表 7.8 x 300mm 4.6 x 300mm色谱柱 分子量范围 部件号 部件号 部件号 部件号 部件号 部件号 (THF) (DMF) (甲苯) (THF) (DMF) (甲苯)Styragel HT2 100-10,000 WAT054475 WAT054480 WAT054476Styragel HT3 500-30,000 WAT044207 WAT044208 WAT044206 WAT045920 WAT045925 WAT045915Styragel HT4 5,000-600,000 WAT044210 WAT044211 WAT044209 WAT045935 WAT045940 WAT045930Styragel HT5 50,000-4×10 6 WAT044213 WAT044214 WAT044212 WAT045950 WAT045955 WAT045945Styragel HT6 200,000-1×10 7 WAT044216 WAT044217 WAT044215 WAT045965 WAT045970 WAT045960Styragel HT6E 5,000-1×10 7 WAT044219 WAT044220 WAT044218 WAT045980 WAT045985 WAT045975Styragel HR0 .5 0-1,000 WAT044231 WAT044232 WAT044230 WAT045835 WAT045840 WAT045830Styragel HR1 100-5,000 WAT044234 WAT044235 WAT044233 WAT045850 WAT045855 WAT045845Styragel HR2 500-20,000 WAT044237 WAT044238 WAT044236 WAT045865 WAT045870 WAT045860Styragel HR3 500-30,000 WAT044222 WAT044223 WAT044221 WAT045880 WAT045885 WAT045875Styragel HR4 5,000-600,000 WAT044225 WAT044226 WAT044224 WAT045895 WAT045900 WAT045890Styragel HR4E 50-100,000 WAT044240 WAT044241 WAT044239 WAT045805 WAT045810 WAT045800Styragel HR5 50,000-4×10 6 WAT054460 WAT054466 WAT054464Styragel HR5E 2,000-4×10 6 WAT044228 WAT044229 WAT044227 WAT045820 WAT045825 WAT045815Styragel HR6 200,000-1×10 7 WAT054468 WAT054474 WAT054470Styragel HMW2 100-10,000 WAT054488 WAT054494 WAT054490Styragel HMW7 500,000-1×10 8 WAT044201 WAT044202 WAT044220 WAT046805 WAT046810 WAT046800Styragel HMW6E 5,000-1×10 7 WAT044204 WAT044205 WAT044203 WAT046820 WAT046825 WAT046815Styragel保护柱 WAT054405 WAT054415 WAT054410脂溶性凝胶柱Styragel分子量范围选择指南脂溶性凝胶柱Styragel柱溶剂选择指南聚合物 GPC溶剂 柱贮存溶剂(Styragel柱)
  • Styragel色谱柱-用于表征聚合物
    用于非水相样品的GPC色谱柱 Styragel色谱柱 — 用于表征聚合物Styragel色谱柱设计专用于表征聚合物,分为三大系列:用于分析低-中分子量的HR系列,用于高温应用的HT系列,以及用于超高分子量样品的HMW系列。特别控制的聚乙烯二乙烯苯配方,为您的GPC应用提供重现的分析结果。 Styragel HR 高分辨色谱柱Styragel HR(High Resolution,高分辨)系列色谱柱,专门设计用于低-中分子量样品的分析。色谱柱用坚硬的5μm苯乙烯二乙烯苯颗粒填充,为低分子量样品提供分析所需的最大化分辨率和柱效。 Styragel HT 高温色谱柱Styragel HT(High Temperature,高温)系列色谱柱,专门设计用于中-高分子量范围。色谱柱使用坚硬的10μm苯乙烯二乙烯苯颗粒填充,能够在室温或高温条件下使用而仍保持极佳的分辨率。其所具有的窄的粒径分布,使得柱床结构更稳定,也就是使得Styragel HT柱特别耐用。 Styragel HMW 高分子量色谱柱Styragel HMW(High Molecular Weight,高分子量)系列色谱柱,专门设计用于对剪切力敏感的超高分子量的聚合物分析。色谱柱使用坚硬的20μm苯乙烯二乙烯苯颗粒填充,结合以特殊设计的高孔缝度10μm筛板,使对聚合物分子的剪切效应最小化。能够在室温或高温条件下使用,有极好的柱寿命。 Styragel 保护柱Styragel 4.6mm id x 30mm保护柱,设计用于提高您的Styragel分析柱的柱寿命。该保护柱能够配合沃特世任一系列的脂溶性Styragel GPC柱使用。 订货信息:Styragel柱产品规格货号一览表色谱柱分子量范围7.8 x 300mm4.6 x 300mm*部件号(THF)部件号(DMF)部件号(甲苯)部件号(THF)部件号(DMF)部件号(甲苯)Styragel HT2100-10,000WAT054475WAT054480WAT054476Styragel HT3500-30,000WAT044207WAT044208WAT044206WAT045920WAT045925WAT045915Styragel HT45,000-600,000WAT044210WAT044211WAT044209WAT045935WAT045940WAT045930Styragel HT550,000-4×106WAT044213WAT044214WAT044212WAT045950WAT045955WAT045945Styragel HT6200,000-1×107WAT044216WAT044217WAT044215WAT045965WAT045970WAT045960Styragel HT6E5,000-1×107WAT044219WAT044220WAT044218WAT045980WAT045985WAT045975Styragel HR0.50-1,000WAT044231WAT044232WAT044230WAT045835WAT045840WAT045830Styragel HR1100-5,000WAT044234WAT044235WAT044233WAT045850WAT045855WAT045845Styragel HR2500-20,000WAT044237WAT044238WAT044236WAT045865WAT045870WAT045860Styragel HR3500-30,000WAT044222WAT044223WAT044221WAT045880WAT045885WAT045875Styragel HR45,000-600,000WAT044225WAT044226WAT044224WAT045895WAT045900WAT045890Styragel HR4E50-100,000WAT044240WAT044241WAT044239WAT045805WAT045810WAT045800Styragel HR550,000-4×106WAT054460WAT054466WAT054464———Styragel HR5E2,000-4×106WAT044228WAT044229WAT044227WAT045820WAT045825WAT045815Styragel HR6200,000-1×107WAT054468WAT054474WAT054470———Styragel HMW2100-10,000WAT054488WAT054494WAT054490———Styragel HMW7500,000-1×108WAT044201WAT044202WAT044200WAT046805WAT046810WAT046800Styragel HMW6E5,000-1×107WAT044204WAT044205WAT044203WAT046820WAT046825WAT046815Styragel保护柱—WAT054405WAT054415WAT054410——— *4.6x300mm溶剂节约型Styralgel色谱柱,能够提供与常规7.8x300mm Styragel色谱柱相同的高分辨能力,同时具有减少三分之二有机溶剂消耗的优点。注意!因所使用流速较低,对色谱系统的溶剂输送能力要求较高(精密度与稳定性)。
  • ExoView外泌体全面表征试剂盒—外泌体检测服务
    ExoView外泌体全面表征试剂盒外泌体计数、粒径、蛋白表达、蛋白共定位一次完成 检测样本类型对细胞培养上清、血浆、血清、尿液、脑脊液、唾液等生物样本中的外泌体直接进行分析捕获抗体种类anti-CD81, anti-CD9, anti-CD63, 同型IgG对照;可自定义单次上样体积35 μl稀释样本重复检测数目3复孔荧光抗体种类CD9(Blue)/ CD81(Green)/ CD63(Red) 实验原理① 35 μL外泌体样品滴加在芯片上孵育;② 预先包被的抗体特异结合外泌体表面蛋白以捕获外泌体;③ 再使用荧光抗体特异性标记需要表征的标记物; ④ 后用ExoView R100检测外泌体粒径、计数、蛋白表达(CD9,CD81,CD63等)及共定位。检测流程产品类别产品货号产品名称EV-TETRA-C人外泌体检测试剂盒EV-TETRA-P人血浆外泌体检测试剂盒EV-TETRA-M2鼠外泌体检测试剂盒EV-TETRA-C-CAR人外泌体内容物检测试剂盒EV-TETRA-P-CAR人血浆外泌体内容物检测试剂盒EV-TC-FLEX自由捕获人外泌体检测试剂盒EV-TP-FLEX自由捕获人血浆外泌体检测试剂盒EV-TC-FLEX-CAR自由捕获人外泌体内容物检测试剂盒EV-TP-FLEX-CAR自由捕获人血浆外泌体内容物检测试剂盒EV-TM-FLEX自由捕获鼠外泌体检测试剂盒EV-TM-FLEX-CAR自由捕获鼠外泌体内容物检测试剂盒EV-FLEX-2自由捕获外泌体检测试剂盒EV-FLEX-2 -CAR自由捕获外泌体内容物检测试剂盒EV-CTETRA-1/2/3人外泌体检测试剂盒+1/2/3个自定义捕获抗体EV-CTETRA-1/2/3-CAR人外泌体内容物检测试剂盒+1/2/3个自定义捕获抗体EV-CUST-1/2/3/4/5/6自定义1/2/3/4/5/6抗体捕获外泌体检测试剂盒EV-CUST-1/2/3/4/5/6-CAR自定义1/2/3/4/5/6抗体捕获外泌体内容物检测试剂盒试剂盒特点特异性捕获芯片上可包被多达6种捕获抗体,特异性捕获含特定蛋白标记物的外泌体。阳性外泌体计数芯片捕获外泌体后,可通过SP-IRIS技术直接检测样品中外泌体的数量。 单个外泌体蛋白共定位分析检测每个外泌体的荧光信号并进行统计,可获得荧光共定位信息,用于分析样品中不同表型外泌体的比例(如右图所示)。 无需纯化使用抗体捕获模式,防止样品中杂质影响结果,可直接检测血液、尿液和细胞培养液中的外泌体,未纯化样品的测量结果与纯化后基本一致(如右图所示)。粒径分辨率高 高精度SP-IRIS技术,可检测≥50 nm的外泌体,测量结果与电子显微镜检测结果基本一致,并统计生成外泌体的粒径分布结果(如右图所示)。可检测外泌体内容物 试剂盒配套相应的穿膜剂,可穿透外泌体并对外泌体内容物进行染色并检测,未穿膜时只能检测到跨膜蛋白CD9的荧光信号,穿膜后即可检测到外泌体内容物Syntenin的表达(如右图所示)。测试数据外泌体荧光数量统计 外泌体粒径检测荧光强度与粒径关系 荧光共定位分析 发表文章• Andras Saftics.(2021) Data evaluation for surface-sensitive label-free methods to obtain real-time kinetic and structural information of thin films: A practical review with related software packages. Advances in Colloid and Interface Science. • Kyoung-Won Ko.(2021) Integrated Bioactive Scaffold with Polydeoxyribonucleotide and Stem-Cell-Derived Extracellular Vesicles for Kidney Regeneration. ACS Nano. • Tanina Arab. (2021) Characterization of extracellular vesicles and synthetic nanoparticles with four orthogonal single‐particle analysis platforms. Journal of Extracellular Vesicles. • Niaz Z.Khan.(2021) Spinal cord injury alters microRNA and CD81+ exosome levels in plasma extracellular nanoparticles with neuroinflammatory potential. Brain, Behavior, and Immunity. • Dario Brambilla. (2021) EV Separation: Release of Intact Extracellular Vesicles Immunocaptured on Magnetic Particles. Analytical Chemistry. • Enkhtuya Radna. (2021) Extracellular vesicle mediated feto-maternal HMGB1 signaling induces preterm birth. Lab on a Chip. • Li, M., Soder. (2021) WJMSC‐derived small extracellular vesicle enhance T cell suppression through PD‐L1. Journal of Extracellular Vesicles. • Crescitelli, R. (2021) Isolation and characterization of extracellular vesicle subpopulations from tissues. Nature protocols. • Berger, A. (2021). Local administration of stem cell-derived extracellular vesicles in a thermoresponsivehydrogel promotes a pro-healing effect in a rat model of colo-cutaneous post-surgical fistula. Nanoscale. • Vidal, M. (2020) Exosomes and GPI-anchored proteins: Judicious pairs for investigating biomarkers from body fluids. Advanced drug delivery reviews. • K Cho, H Kook.(2020)Study of immune-tolerized cell lines and extracellular vesicles inductive environment promoting continuous expression and secretion of HLA-G from semiallograft immune tolerance during pregnancy. Journal of Extracellular Vesicles. • Maximillian A. Rogers.(2020)Annexin A1–dependent tethering promotes extracellular vesicle aggregation revealed with single–extracellular vesicle analysis. Cell Biology. • Annette M. Marleau.(2020)Targeting tumor-derived exosomes using a lectin affinity hemofiltration device. Cancer Research. • Alessandro Gori.(2020)Membrane-Binding Peptides for Extracellular Vesicles On-Chip Analysis. Journal of Extracellular Vesicles. • Rossella Crescitelli.(2020)Subpopulations of extracellular vesicles from humanmetastatic melanoma tissue identified by quantitative proteomics after optimized isolation. Journal of Extracellular Vesicles. • Maria S. Panagopoulou.(2020) Phenotypic analysis of extracellular vesicles: a review on the applications of fluorescence. Journal of Extracellular Vesicles.• WeiYan.(2020) Immune Cell-Derived Exosomes in the Cancer-Immunity Cycle. Trends in Cancer. • Daniel Bachurski. (2019) Small RNA Sequencing across Diverse Biofluids Identifies Optimal Methods for exRNA Isolation. Cell.用户单位 外泌体检测流程:仅需7步实现外泌体快速检测
  • 认证的单晶硅标样 660-615-F 单晶硅标样,已认证,含样品座F
    认证的单晶硅标样,用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm,方格间距10μm,线宽1.9μm,通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线,用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成,深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。认证的单晶硅标样,随标样提供校准证书,但需支付额外费用。保证的准确度为20%。标样由英国NPL实验室(National Physical Laboratory)用激光干涉测量法测定。
  • 认证的单晶硅标样 660-615-F 单晶硅标样,已认证,含样品座F
    认证的单晶硅标样,用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm,方格间距10μm,线宽1.9μm,通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线,用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成,深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。认证的单晶硅标样,随标样提供校准证书,但需支付额外费用。保证的准确度为20%。标样由英国NPL实验室(National Physical Laboratory)用激光干涉测量法测定。
  • 原子力显微镜探针/轻敲模式/轻敲探针/形貌表征/VTESPA-300
    AFM配件,原子力探针,AFM探针,原子力探针针尖,显微镜探针针尖,原子力针尖,原子力显微镜探针针尖,接触探针,纳米压痕探针,氮化硅探针,硅探针,热探针,超尖探针,电子探针,显微镜针尖,原子力显微镜针尖,轻巧模式探针,AFM针尖,接触式探针,磁性探针,导电探针,显微镜探针,探针,布鲁克探针,原子力探针,BRUKER PROBE,AFM PROBE,BRUKER探针,原子力显微镜探针,AFM探针,VEECO探针作为一家能够提供AFM/SPM仪器和AFM/SPM探针的企业,布鲁克公司深刻理解每个单独的组件对于一整套性能AFM系统的价值。布鲁克公司以的生产工艺,专业的AFM领域背景,得天独厚的生产装备,赋予探针制造众多的优势,确保在应用领域中提供完整的AFM解决方案。布鲁克AFM探针制造优势:*Class100级别的无尘室*的设计、制造工序及制造工具*探针设计团队与AFM设备研发团队通力合作,配合紧密*训练有素的生产团队,制造出各种型号的探针*的质量管理体系,确保探针性能行业在实验中,用户所得到的数据取决于探针的质量及探针的重复性。布鲁克的探针具有严格的纳米加工控制,的质量测试,和AFM领域的专业背景。所以用户尽可放心,我们的探针不仅为您当前的应用提供所需的结果,同时也能为将来的研究提供参考数据。
  • 认证的单晶硅标样 660-615-O 单晶硅标样,已认证,含样品座O
    用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm,方格间距10μm,线宽1.9μm,通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线,用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成,深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。随标样提供校准证书,但需支付额外费用。保证的准确度为25%。标样由英国NPL实验室(National Physical Laboratory)用激光干涉测量法测定。
  • 认证的单晶硅标样 660-615-B 单晶硅标样,已认证,含样品座B
    用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm,方格间距10μm,线宽1.9μm,通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线,用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成,深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。随标样提供校准证书,但需支付额外费用。保证的准确度为16%。标样由英国NPL实验室(National Physical Laboratory)用激光干涉测量法测定。
  • 认证的单晶硅标样 660-615-E 单晶硅标样,已认证,含样品座E
    用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm,方格间距10μm,线宽1.9μm,通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线,用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成,深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。随标样提供校准证书,但需支付额外费用。保证的准确度为19%。标样由英国NPL实验室(National Physical Laboratory)用激光干涉测量法测定。
  • 认证的单晶硅标样 660-615-K 单晶硅标样,已认证,含样品座K
    用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm,方格间距10μm,线宽1.9μm,通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线,用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成,深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。随标样提供校准证书,但需支付额外费用。保证的准确度为22%。标样由英国NPL实验室(National Physical Laboratory)用激光干涉测量法测定。
  • 认证的单晶硅标样 660-615-M 单晶硅标样,已认证,含样品座M
    用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm,方格间距10μm,线宽1.9μm,通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线,用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成,深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。随标样提供校准证书,但需支付额外费用。保证的准确度为24%。标样由英国NPL实验室(National Physical Laboratory)用激光干涉测量法测定。
  • 认证的单晶硅标样 660-615-A 单晶硅标样,已认证,含样品座A
    用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm,方格间距10μm,线宽1.9μm,通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线,用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成,深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。随标样提供校准证书,但需支付额外费用。保证的准确度为15%。标样由英国NPL实验室(National Physical Laboratory)用激光干涉测量法测定。
  • 认证的单晶硅标样 660-615-C 单晶硅标样,已认证,含样品座C
    用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm,方格间距10μm,线宽1.9μm,通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线,用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成,深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。随标样提供校准证书,但需支付额外费用。保证的准确度为17%。标样由英国NPL实验室(National Physical Laboratory)用激光干涉测量法测定。
  • 认证的单晶硅标样 660-615-A 单晶硅标样,已认证,含样品座A
    用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm,方格间距10μm,线宽1.9μm,通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线,用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成,深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。随标样提供校准证书,但需支付额外费用。保证的准确度为15%。标样由英国NPL实验室(National Physical Laboratory)用激光干涉测量法测定。
  • 认证的单晶硅标样 660-615-P 单晶硅标样,已认证,含样品座P
    用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm,方格间距10μm,线宽1.9μm,通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线,用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成,深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。随标样提供校准证书,但需支付额外费用。保证的准确度为26%。标样由英国NPL实验室(National Physical Laboratory)用激光干涉测量法测定。
  • 认证的单晶硅标样 660-615-O 单晶硅标样,已认证,含样品座O
    用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm,方格间距10μm,线宽1.9μm,通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线,用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成,深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。随标样提供校准证书,但需支付额外费用。保证的准确度为25%。标样由英国NPL实验室(National Physical Laboratory)用激光干涉测量法测定。
  • 认证的单晶硅标样 660-615-C 单晶硅标样,已认证,含样品座C
    用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm,方格间距10μm,线宽1.9μm,通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线,用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成,深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。随标样提供校准证书,但需支付额外费用。保证的准确度为17%。标样由英国NPL实验室(National Physical Laboratory)用激光干涉测量法测定。
  • 认证的单晶硅标样 660-615-K 单晶硅标样,已认证,含样品座K
    用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm,方格间距10μm,线宽1.9μm,通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线,用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成,深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。随标样提供校准证书,但需支付额外费用。保证的准确度为22%。标样由英国NPL实验室(National Physical Laboratory)用激光干涉测量法测定。
  • 认证的单晶硅标样 660-615-M 单晶硅标样,已认证,含样品座M
    用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm,方格间距10μm,线宽1.9μm,通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线,用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成,深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。随标样提供校准证书,但需支付额外费用。保证的准确度为24%。标样由英国NPL实验室(National Physical Laboratory)用激光干涉测量法测定。
  • 认证的单晶硅标样 660-615-D 单晶硅标样,已认证,含样品座D
    用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm,方格间距10μm,线宽1.9μm,通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线,用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成,深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。随标样提供校准证书,但需支付额外费用。保证的准确度为18%。标样由英国NPL实验室(National Physical Laboratory)用激光干涉测量法测定。
  • 认证的单晶硅标样 660-615-B 单晶硅标样,已认证,含样品座B
    用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm,方格间距10μm,线宽1.9μm,通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线,用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成,深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。随标样提供校准证书,但需支付额外费用。保证的准确度为16%。标样由英国NPL实验室(National Physical Laboratory)用激光干涉测量法测定。
  • 认证的单晶硅标样 660-615-P 单晶硅标样,已认证,含样品座P
    用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm,方格间距10μm,线宽1.9μm,通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线,用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成,深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。随标样提供校准证书,但需支付额外费用。保证的准确度为26%。标样由英国NPL实验室(National Physical Laboratory)用激光干涉测量法测定。
  • 认证的单晶硅标样 660-615-L 单晶硅标样,已认证,含样品座L
    用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm,方格间距10μm,线宽1.9μm,通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线,用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成,深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。随标样提供校准证书,但需支付额外费用。保证的准确度为23%。标样由英国NPL实验室(National Physical Laboratory)用激光干涉测量法测定。
  • 认证的单晶硅标样 660-615-L 单晶硅标样,已认证,含样品座L
    用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm,方格间距10μm,线宽1.9μm,通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线,用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成,深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。随标样提供校准证书,但需支付额外费用。保证的准确度为23%。标样由英国NPL实验室(National Physical Laboratory)用激光干涉测量法测定。
  • 认证的单晶硅标样 660-615-G 单晶硅标样,已认证,含样品座G
    用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm,方格间距10μm,线宽1.9μm,通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线,用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成,深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。随标样提供校准证书,但需支付额外费用。保证的准确度为21%。标样由英国NPL实验室(National Physical Laboratory)用激光干涉测量法测定。
  • 认证的单晶硅标样 660-615-D 单晶硅标样,已认证,含样品座D
    用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm,方格间距10μm,线宽1.9μm,通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线,用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成,深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。随标样提供校准证书,但需支付额外费用。保证的准确度为18%。标样由英国NPL实验室(National Physical Laboratory)用激光干涉测量法测定。
  • 认证的单晶硅标样 660-615-E 单晶硅标样,已认证,含样品座E
    用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm,方格间距10μm,线宽1.9μm,通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线,用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成,深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。随标样提供校准证书,但需支付额外费用。保证的准确度为19%。标样由英国NPL实验室(National Physical Laboratory)用激光干涉测量法测定。
  • 认证的单晶硅标样 660-615-G 单晶硅标样,已认证,含样品座G
    用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm,方格间距10μm,线宽1.9μm,通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线,用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成,深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。随标样提供校准证书,但需支付额外费用。保证的准确度为21%。标样由英国NPL实验室(National Physical Laboratory)用激光干涉测量法测定。
  • 认证的单晶硅标样
    用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm,方格间距10μm,线宽1.9μm,通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线,用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成,深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。随标样提供校准证书,但需支付额外费用。保证的准确度为27%。标样由英国NPL实验室(National Physical Laboratory)用激光干涉测量法测定。
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