超薄膜沉积

是在微栅膜的基础上又镀了一层超薄纯碳膜，覆盖在微孔上面，这层膜大约5nm,电子束长时间照射不会产生黑斑，适合粒径较小、分散性较好、衬度较低的样品做较高分辨的实验。 产品编号名称规格YL-6037-C/Cu200超薄碳膜20目YL-6037-C/Ge100超薄锗膜100目YL-6037-C/Cu200坐标超薄膜200目

超薄碳膜，也是支持膜的一种，本公司自主产品，客户可以在此基础上根据实验条件提方案，对产品改进；是在微栅的基础上，叠加了一层很薄的碳膜，一般为3-5nm。这层超薄碳膜的目的，是用薄碳膜把微孔挡住。这主要是针对那些分散性很好的纳米材料，如：10nm以下的样品，分散性极好，如果用微栅就有可能从微孔中漏出，如果在微栅孔边缘，由于膜厚可能会影响观察。所以，用超薄碳膜，就会得到很好的效果。材料：有铜、镍、钼、铝、钨、不锈钢、尼龙等金属及非金属材料。

尺寸：5*10cm厚度：1.6mm铜基六方氮化硼薄膜采用化学气相沉积法（CVD），在高纯铜箔上沉积单层和多层h-BN薄膜。

上海屹持光电技术有限公司专业提供各种镀膜服务：典型实例 1，磁控溅射合金膜2，ICPPECVD 制备高厚低应力氧化硅薄膜3，沉积细胞定位电极4，磁控溅射的 制备的 Au/TiO2 连续 主要设备：1，磁控溅射镀膜系统2，磁控溅射镀膜机3，磁控溅射真空镀膜机4，电子束蒸发镀膜仪5，高密度等离子体增强化学气相沉积设备

尺寸：10*10cm厚度：1.6mm铜基六方氮化硼薄膜采用化学气相沉积法（CVD），在高纯铜箔上沉积单层和多层h-BN薄膜。

超薄碳膜，也是支持膜的一种，本公司自主产品，客户可以在此基础上根据实验条件提方案，对产品改进；是在微栅的基础上，叠加了一层很薄的碳膜，一般为3-5nm。这层超薄碳膜的目的，是用薄碳膜把微孔挡住。这主要是针对那些分散性很好的纳米材料，如：10nm以下的样品，分散性极好，如果用微栅就有可能从微孔中漏出，如果在微栅孔边缘，由于膜厚可能会影响观察。所以，用超薄碳膜，就会得到很好的效果。材料：有铜、镍、钼、铝、钨、不锈钢、尼龙等金属及非金属材料。

CARBON FILL,MGIS碳沉积（多支气体注入系统专用）用于原厂电子显微镜多支气体注入系统，碳沉积（多支气体注入系统专用）是一种存放碳化合物的容器，将药品加热到一定温度，药品气化，在真空压差和可控阀门的作用下，将药品气体喷洒在样品表面，同时在离子束的诱导作用下将碳分子沉积在样品表面。以实现对样品表面形貌的保护，或对样品进行导电处理。大束科技是一家以自主技术驱动的电子显微镜系列核心配件研发制造的供应商和技术服务商。目前公司主要生产电子显微镜的核心配件离子源、电子源以及配套耗材抑制极、拔出极、光阑等销往国内外市场，此外，还为用户提供定制化电子显微镜以及电子枪系统等的维修服务，以及其他技术服务和产品升级等一站式、全方位的支持。在场发射电子源（电子显微镜灯丝）、离子源以及电镜上的高低压电源、电镜控制系统研发制造等领域等均具有优势。

X射线透射显微成像/能谱（同步辐射）用氮化硅薄膜窗口 产品概述： X-射线薄膜窗能够实现软X-射线(如真空紫外线)的最大透射率。主要用于同步辐射X射线透射显微成像时承载样品。 X-射线越软(能量越低)，穿透能力越差，所需氮化硅薄膜窗越薄。特别在&ldquo 离轴&rdquo 状态工作（即薄膜与光束成一定角度）时，也需要较薄的薄膜窗口，便于X射线更好地穿透。 氮化硅薄膜窗口是利用现代MEMS技术制备而成，由于此种氮化硅窗口选用低应力氮化硅（0-250MP）薄膜，因此比计量式和ST氮化硅薄膜更坚固耐用。提供的氮化硅薄膜窗口非常适合应用于透射成像和透射能谱等广泛的科学研究领域，例如，X-射线（上海光源透射成像/能谱线站）、TEM、SEM、IR、UV等。 现在提供X-射线显微成像/能谱（同步辐射）用氮化硅薄膜窗系列产品，规格如下： 外框尺寸 (4种标准规格): &bull 5 mm x 5 mm (窗口尺寸：1.0 mm 或和 1.5 mm 方形) &bull 7.5 mm x 7.5 mm (窗口尺寸：2.0 mm 或 2.5 mm) &bull 10 mm x 10 mm (窗口尺寸：3.0 mm 或 5 mm 方形) 边框厚度： 200µ m、381µ m、525µ m。 Si3N4薄膜厚度：50、100、150和200nm 我们也可以为用户定制产品（30-500nm），但要100片起订。 本产品为一次性产品，不建议用户重复使用，本产品不能进行超声清洗，适合化学清洗、辉光放电和等离子体清洗。 技术指标： 透光度： 对于X射线用窗口，500nm厚的氮化硅薄膜有很好的X光穿透效果，对于软X射线（例如碳边吸收谱），100-200nm厚的氮化硅薄膜窗口是用户首选。 真空适用性： 真空适用性数据如下： 　 薄膜厚度 窗口面积 压力差 &ge 50 nm &le 1.0 x 1.0 mm 1 atm &ge 100 nm &le 1.5 x 1.5 mm 1 atm &ge 200 nm &le 2.5 x 2.5 mm 1 atm 表面平整度： 氮化硅薄膜窗口产品的表面平整性很稳定（粗糙度小于1nm），对于X射线应用没有任何影响。 温度特性： 氮化硅薄膜窗口产品是耐高温产品，能够承受1000度高温，非常适合在其表面利用CVD方法生长各种纳米材料。 化学特性： 氮化硅薄膜窗口是惰性衬底。 应用简介和优点： 1、 同步辐射X射线（紫外或极紫外）透射成像或透射能谱应用中是不可或缺的样品承载体。 2、 耐高温、惰性衬底，适应各种聚合物、纳米材料、半导体材料、光学晶体材料和功能薄膜材料的制备环境，利于制备理想的用于X射线表征用的自组装单层薄膜或薄膜（薄膜直接沉积在窗口上）。 3、 生物和湿细胞样本的理想承载体。特别是在等离子体处理后，窗口具有很好的亲水性。 4、 耐高温、惰性衬底，也可以用于化学反应和退火效应的原位表征。 5、 适合做为胶体、气凝胶、有机材料和纳米颗粒等的表征实验承载体。 同步辐射X射线应用参考文献：PRL

《HJ1315-2023土壤和沉积物19种金属元素总量的测定 电感耦合等离子体质谱法》将于2024年6月1日正式实施。新标准中，使用微波消解法或电热消解法对样品进行消解，然后使用ICP-MS一次完成19种金属元素的同时测定，解决了土壤和沉积物中元素分析标准多、前处理方法复杂等问题。微波消解法称取0.1±0.0001g土壤样品于微波消解管中，沿内壁滴加少量试验用水润湿样品，依次加入9mL硝酸和3mL盐酸，加盖拧紧，将消解管放入微波消解仪中。参照下表升温程序进行微波消解。消解结束后冷却至室温。从微波消解仪中取出消解管，打开消解管盖子，在消解管中加入2mL氢氟酸，将消解管置于专用赶酸器上，140℃加热至内容物呈不流动的粘稠状态。取下稍冷，加入1mL高氯酸，180℃继续加热至白烟几乎冒尽，内容物呈粘稠状态。取下消解管冷却至室温，用2%硝酸溶液反复多次洗涤管内壁，洗涤液一并转入容量瓶中，用2%硝酸溶液定容至标线，混匀，待测。电热消解前处理称取0.1±0.0001g土壤样品于消解管中，依次加入10mL硝酸，5mL氢氟酸，2mL盐酸，1mL高氯酸，在石墨消解仪上加内盖，150℃加热3小时（可根据实际消解情况加长时间），升温至180℃，打开内盖进行赶酸，如有明显黑色不溶物时，需补加硝酸，继续180℃消解赶酸，待消解液呈粘稠不流动状态时，取下消解管冷却至室温，用2%硝酸溶液洗涤管壁，洗涤液一并转入容量瓶中，用2%硝酸溶液定容至标线，混匀，待测。

TEM用氮化硅薄膜窗口氮化硅薄膜窗特点 低应力的8, 15 , 50nm厚的氮化硅支撑膜：50nm厚的薄膜具有最大的视野范围；8nm和15nm厚的无孔氮化硅薄膜适用于TEM超高分辨率的应用 氮化硅支撑膜：低应力的LPCVD非化学计量比氮化硅薄膜，良好的平整度、绝缘性和疏水性良好的化学稳定性：图像分辨率和机械强度达到理想的平衡 均匀性：减少了不同区域的不均匀性 TEM断面成像应用的特殊窗口：适用于倾斜断层成像的0.5x1.5mm大窗口，倾斜度最大可达75° 多窗口系列：2窗口，0.1x1.5mm；3x3系列，0.1x0.1mm 可应用于多种显微技术：良好的机械稳定性使得同一种薄膜可应用于TEM, SEM, EDX, XPS and AFM 薄膜和基底耐酸，不会被溶解：可以在酸性条件或常规条件下研究、制备样本 可应用于高温试验环境： 1000°C 可提供更对精确的分析，如样品中的碳含量，减少污染：可用于无碳环境中的TEM成像和分析 容易清洗：机械稳定性和化学稳定性使得薄膜很容易采用辉光放电或等离子清洗，无有机物残留，改善成像质量 良好的平整度：良好的纳米沉积基底和薄膜，无背景结构适合于SEM成像 超净加工，防止支撑膜上残留微粒：100级的超净间内包装 框架厚度：200 and 50μm ：200μm是标准的TEM支撑架；50μm是特殊的TEM支撑架 标准框架直径为3mm 同一批次的氮化硅薄膜窗具有相同的特性氮化硅薄膜窗规格单窗口系列窗口类型薄膜厚度窗口尺寸框架尺寸框架厚度20nm500x500μmΦ3mm100μm20/50nm500x500μmΦ3mm200μm50nm1000x1000μmΦ3mm200μm50nm100x100μmΦ3mm200μm15nm0.25x0.25mmΦ3mm200μm50nm0.25x0.25mm 0.5x0.5mm0.75x0.75mm1.0x1.0mmΦ3mm200μm200nm0.25x0.25mm 0.5x0.5mm0.75x0.75mm1.0x1.0mmΦ3mm200μm15/50/200nm0.25x0.25mmΦ3mm50μm50nm/200nm0.5x1.5mmΦ3mm50μm 多窗口系列窗口类型薄膜厚度窗口尺寸框架尺寸框架厚度50nm2x1阵列，100X1500μmΦ3mm200μm15nm/50nm/200nm2x1阵列，100X1500μmΦ3mm200μm50nm2x1阵列，100X1500μmΦ3mm50μm10nm/20nm3x3阵列，8个窗口100X100μm，1个窗口100X350μmΦ3mm100μm10nm3x3阵列，8个窗口250X250μm，1个窗口250X500μmΦ3mm100μm20nm3x3阵列，8个窗口100X100μm，1个窗口100X350μmΦ3mm200μm50nm3x3阵列，8个窗口100X100μm，1个窗口100X350μmΦ3mm100μm15nm/50nm/200nm3x3阵列，窗口100X100μm，Φ3mm200μm50nm3x3阵列，窗口100X100μm，Φ3mm50μm8nm单窗口，窗口大小：0.6×0.6mm；25个网格，氮化硅支撑膜200nm；网格上的氮化硅薄膜8nm；网格大小：75μm ，网格间距：25μm；Φ3mm200μm 应用简介： 1、适合TEM、SEM、AFM、XPS、EDX等的对同一区域的交叉配对表征。2、大窗口尺寸，适合TEM大角度转动观察。3、无碳、无杂质的清洁TEM观测平台。4、背景氮化硅无定形、无特征。5、耐高温、惰性衬底，适应各种聚合物、纳米材料、半导体材料、光学晶体材料和功能薄膜材料的制备环境，（薄膜直接沉积在窗口上）。6、生物和湿细胞样本的理想承载体。特别是在等离子体处理后，窗口具有很好的亲水性。7、耐高温、惰性衬底，也可以用于化学反应和退火效应的原位表征。8、适合做为胶体、气凝胶、有机材料和纳米颗粒等的表征实验承载体。 详细资料请咨询：021-35359028/ admin@instsun.com

透射电镜（TEM）用氮化硅薄膜窗口 产品概述： 与X射线用氮化硅窗口类似，透射电镜（TEM）用氮化硅薄膜窗口也使用低应力氮化硅薄膜基底。但整体尺度更小，适合TEM装样的要求。窗口有单窗口和多窗口阵列等不同规格。同时NTI也定制多孔氮化硅薄膜窗口。 现在可以提供透射电镜（TEM）用氮化硅薄膜窗系列产品，规格如下： 外框尺寸: &bull 3 mm x 3 mm (窗口尺寸：0.5 mm，薄膜厚度：30 nm) &bull 3 mm x 3 mm (窗口尺寸：1.0 mm，薄膜厚度：50 nm) 边框厚度： 200µ m、381µ m。 Si3N4薄膜厚度： 50nm、100nm 可以为用户定制产品(30-200nm)，但要100片起订。 本产品为一次性产品，不建议用户重复使用，本产品不能进行超声清洗，适合化学清洗、辉光放电和等离子体清洗。 技术指标： 表面平整度： 我们认为薄膜与其下的硅片同样平整， TEM用氮化硅薄膜窗口的表面粗糙度为：0.6-2nm。完全适用于TEM表征。 亲水性： 该窗格呈疏水性，如果样品取自水悬浮液，悬浮微粒则不能均匀地分布在薄膜上。用等离子蚀刻机对薄膜进行亲水处理，可暂时获得亲水效果。虽然没有对其使用寿命进行过测试，但预期可以获得与同样处理的镀碳TEM网格相当的寿命。我们可以生产此种蚀刻窗格，但无法保证其使用寿命。如果实验室有蚀刻工具也可对其进行相应的处理提高其亲水性能。 温度特性： 氮化硅薄膜窗口产品是耐高温产品，能够承受1000度高温，非常适合在其表面利用CVD方法生长各种纳米材料。 化学特性： 氮化硅薄膜窗口是惰性衬底。 应用简介和优点： 1、 适合TEM、SEM、AFM、XPS、EDX等的对同一区域的交叉配对表征。 2、 大窗口尺寸，适合TEM大角度转动观察。 3、 无碳、无杂质的清洁TEM观测平台。 4、 背景氮化硅无定形、无特征。 5、 耐高温、惰性衬底，适应各种聚合物、纳米材料、半导体材料、光学晶体材料和功能薄膜材料的制备环境，（薄膜直接沉积在窗口上）。 6、 生物和湿细胞样本的理想承载体。特别是在等离子体处理后，窗口具有很好的亲水性。。 7、 耐高温、惰性衬底，也可以用于化学反应和退火效应的原位表征。 8、 适合做为胶体、气凝胶、有机材料和纳米颗粒等的表征实验承载体。 详细请咨询：021-35359028/ admin@instsun.com

X-ray应用薄膜窗口（X-Ray Windows）有两种薄膜，低应力lpcvd氮化硅膜具很强机械强度，适合高温和差压环境；G-FLAT™ 氧化硅膜平坦无褶皱，非常适合x射线显微镜和需要无氮气背景的分析。这些薄膜窗口是X射线显微镜和x射线光谱学技术的理想衬底，经过等离子清洗，无有机污染。平坦、均匀沉积的薄膜具有低场到场可变性和高x射线透射性。G-FLAT™ 氧化硅膜窗口，适合生物成像研究，具有玻璃状亲水表面。外框硅材质，外框大小5*5mm，框厚310μm，膜厚度300nm。无褶皱，与超高真空(UHV)应用兼容。LPCVD氮化硅膜窗口，外框大小5*5mm，框厚320μm，200 MP 低应力无孔氮化硅。产品信息：货号产品描述窗口(Sq.)膜厚规格76042-10G-FLAT™ SiO X-Ray Window500μm100nm20/pk76042-11G-FLAT™ SiO X-Ray Window500μm300nm20/pk76042-12Silicon Nitride X-Ray Window500μm50nm20/pk76042-13Silicon Nitride X-Ray Window1000μm50nm20/pk76042-14Silicon Nitride X-Ray Window500μm100nm20/pk76042-15Silicon Nitride X-Ray Window1000μm100nm20/pk76042-16Silicon Nitride X-Ray Window 1500μm200nm20/pk76042-17Silicon Nitride X-Ray Window2500μm200nm20/pk

超薄长波通滤光片 &bull 超薄，柔性基片&bull 起始波长斜率高&bull 新型薄膜，不易产生划痕通用规格尺寸 (mm):12.5 x 12.5光密度 OD（平均）:2.0 (absolute)长度 (mm):12.50透射率 (%) :85 (average)宽度 (mm):12.50尺寸容差 (mm):±0.1有效孔径 (%):90起始公差 (%) :±3 typical产品介绍超薄长波通滤光片性能强，成本低，是一款新型的薄膜干涉滤光片，采用柔性设计，不易产生划痕，拥有超薄外形（200 - 500μm）。这款滤光片的截止波长在可见光范围内，典型公差为±3%，平均透射率85%。柔性薄膜滤光片是一款复杂的多层滤光片，可满足各种需求，类型包括长波通，边缘和陷波滤光片。超薄长波通滤光片非常适用于高标准的视觉和医疗技术应用。订购信息尺寸 (mm)起始响应波长 (nm)产品编码12.5 x 12.5 450.0035-12212.5 x 12.5 500.0035-12312.5 x 12.5 550.0035-12412.5 x 12.5 600.0035-12512.5 x 12.5 650.0035-12612.5 x 12.5 700.0035-127技术数据

Smart SAGA 亚微米薄膜进行掠入射分析附件Thermo Scientific Smart SAGA 适用于对金属基上的亚微米薄膜进行掠入射分析。Smart SAGA（高光带孔掠射角）极易操作，性能优异，样品区辨识能力极高。 只需将样品平放在水平采样台上，用激光雕刻隔栅进行定位，如需要则转动转轮以设置孔尺寸，然后扫描。掠射角反射系数是用以分析薄涂层或沉淀物的选择性方法，因为高入射角可以增大穿过感兴趣材料的红外光束的光程长度，从而大大改善灵敏度。 由于高入射角和选择性偏极化，因此可获取单层灵敏度。描述80° 固定入射角全金反射光学器件可以分析 10 埃 至 0.5 微米的薄膜永久性固定的偏光镜可以大大减小无益于表面光谱数据的‘S’偏光，从而可以改善灵敏度和采样速度独特的内部滑孔组件可快速调节至四种不同的样品定义形状与尺寸，无需设置孔径。采样板上的激光雕刻隔栅便于在进行定量分析时，重复进行样品定位和遮盖。SpecificationsAngle of Incidence: 80° 平均固定角度Sampling Area两个圆形活动区域： 5mm和 8mm一个椭圆形活动区域： 16 × 8mm开束Optics: 金反射器件Sample Positioning: 样品台上的激光雕刻测量隔栅Polarizer: 锗超薄涂层金属基上的被吸附物润滑剂表面污染物残留物分子单层订货信息：货号类型0033-197For Nicolet Avatar0033-199Specular Reflectance00331XXSmart SAGA

TEM用纯Si薄膜窗 纯硅薄膜窗特点 纳米级厚度：薄膜厚度为5-15nm，比目前无定形碳薄膜窗口还薄，为高倍成像减少了背景干扰； 清洗：采用等离子清洗，无有机物残留，改善成像质量； 均匀性：减少了不同区域的不均匀性； 稳定性：高电子束电流和退火温度下具有很好的稳定性(600℃ for non-porous, 1000℃ for nanoporous)； 减少污染：彩色污染仅为C膜的一半； 纳米孔：为纳米尺寸材料提供稳定的成像，无背景干扰； Si成分：溅镀沉积、纯的Si； 最小的背景信号：可对含Ni或C样品进行元素分析； 纯硅薄膜窗规格 单窗口系列窗口类型薄膜厚度窗口尺寸框架尺寸框架厚度5nm25x25μmΦ3mm100μm30nm500x500μm纳米孔10-60nmΦ3mm100μm多窗口系列窗口类型薄膜厚度窗口尺寸框架尺寸框架厚度5nm2x1阵列，50X1500μmΦ3mm100μm9nm/15nm2x1阵列，100X1500μmΦ3mm100μm5nm2x1阵列，100X100μmΦ3mm200μm9nm/15nm2x1阵列，100X1500μmΦ3mm200μm5nm3x3阵列，8个窗口50X50μm，1个窗口50X100μmΦ3mm100μm5nm/9nm3x3阵列，8个窗口100X100μm，1个窗口100X350μmΦ3mm100μm9nm3x3阵列，8个窗口100X100μm，1个窗口100X350μmΦ3mm200μm15nm3x3阵列，8个窗口100X100μm，1个窗口100X350μmΦ3mm100μm30nm3x3阵列，8个窗口100X100μm，1个窗口100X350μm；纳米孔10-60nmΦ3mm100μm15nm3x3阵列，窗口100X100μmΦ3mm200μm详细资料请咨询：021-35359028/ admin@instsun.com

IPEXTM 840/860 PLD系列 脉冲激光沉积用准分子激光器Excimer Lasers for Pulsed Laser Deposition基于轻工机械最畅销的Ipex系列工业级准分子激光器，为PLD应用优化了激光器优秀的光束匀称性，脉冲到脉冲能量稳定和短脉冲持续时间在所有重复率能量恒定最长气体寿命和最低运行成本的ICONTM（在镍集成陶瓷）技术EasyClean自动光学密封，以保持填充气体，减少维护时停机时间高亮度镜头，适用于要求低光束发散或延长相干长度定制光束传输系统IPEX-840/860系列准分子激光器在脉冲激光沉积（PLD）领域展现了优异的性能、耐用性、可靠性和满足研究人员和系统集成商要求的易于集成性能。稳定性能得到可靠PLD结果：能量恒定IPEX-840/860系列激光器的指定脉冲能量从单脉冲到最大重复频率都是恒定的。这与其他有竞争力的激光器智能在地重复频率能量恒定和能量岁脉冲重复率上升而快速下降形成鲜明对比。LightMachinery的方法使PLD的工艺参数与激光重复率是一个恒量。恒定脉冲稳定性在PLD应用中，脉冲能量受一个先进的能量监视器监控，能够准确的调节放电电压和混合气体，在任何操作条件，包括PLD需要的突发脉冲，恒定输出能量。指向性恒定不变高稳定性使镜片座能够有200m-radian指向稳定性和光学维护后不需要调制光束角度光束质量稳定性IPEX-840/860系列激光器的光束强度分布被设计为边缘陡峭，顶部平坦，特别是激光管寿命的微小变化。PLD光束传输系统我们可以针对任何特定的PLD要求提供完整的激光传输系统规格 设备电源： 单相，200-240V，20A，50/60Hz冷却水：5 litres/minute，5-20℃，40-60psig激光气体：预混合气，具体请联系我们

超薄碳膜，也是支持膜的一种，本公司自主产品，客户可以在此基础上根据实验条件提方案，对产品改进；是在微栅的基础上，叠加了一层很薄的碳膜，一般为3-5nm。这层超薄碳膜的目的，是用薄碳膜把微孔挡住。这主要是针对那些分散性很好的纳米材料，如：10nm以下的样品，分散性极好，如果用微栅就有可能从微孔中漏出，如果在微栅孔边缘，由于膜厚可能会影响观察。所以，用超薄碳膜，就会得到很好的效果。材料：有铜、镍、钼、铝、钨、不锈钢、尼龙等金属及非金属材料。

布鲁斯特型薄膜偏振片材质BK7, UVFS直径/尺寸公差+0/-0.1 mm厚度公差±0.1 mm通光孔径90%表面质量20-10 S-D透射波前畸变（TWD）λ/10 @ 632.8 nm平行度误差30 arcsec消光比Tp / Ts200:1典型的传输Tp 95%典型的反射Rs 99.5%入射角Brewster angle激光损伤阈值报告www.altechna.com/lidt布鲁斯特薄膜偏振器用于高能量应用。它们的损伤阈值高达10 J /cm2@ 1064 nm，持续8 ns。布鲁斯特偏振器被用作Glan-Taylor激光偏振棱镜或立方偏振分束器的替代品。典型地，BK7或UVFS电介质涂布的布鲁斯特型薄膜偏振器将高能量激光束的s偏振分量和p偏振分量分开，并用于腔内和腔外的使用。典型的极化比Tp / Ts是200：1，在56°AOI（布鲁斯特角）下达到。为获得zui佳传输效果，布鲁斯特型薄膜偏振器应安装在适当的支架上进行角度调节。双波段或其他尺寸的薄膜偏振器可应要求提供。1）有效分离s偏振分量和p偏振分量2）针对流行的激光波长进行了优化3）许多布鲁斯特薄膜偏光片都可以从STOCK快速交货！ Altechna在标准，定制或客户提供的光学器件上提供各种高性能光学镀膜。我们的涂料覆盖从深紫外（193纳米）到远红外（25微米）的波长范围，涂层的zui大部分是在波长范围内zui常见的266纳米到2微米的激光和照明光源。我们根据个人要求提供一套标准和定制涂料：?防反射涂层?高反射涂层?分束器涂层?部分反射涂层?偏光片涂层?过滤涂料?超快GDD补偿涂层?Gires-Tournois干涉镜（GTI）?可变反射镜?金属涂层 在Altechna，我们的目标是以zui高的标准为不断增长的光子市场提供高损伤阈值，高质量涂层。每个涂层都是特殊的，多年来在光电领域，我们了解到灵活性是满足客户高要求的关键，因此我们的涂层采用不同的技术，分别选择不同的涂层。这里是我们在Altechna提供的涂层技术列表：?电子束蒸发?离子辅助沉积?离子束溅射?磁控溅射每种技术都是不同的，并根据光谱灵敏度，损伤阈值，硬度，表面质量等的要求使用。电子束蒸发离子辅助沉积离子束溅射磁控管溅射沉积速率10 ?/sec~10 ?/sec~3 ?/sec1-6 ?/sec每次涂布面积3000 cm23000 cm2500 cm22000 cm2导热系数LowMediumHighHigh涂层温度范围200 - 300°C20 - 100°C20 - 150°C20-100°C层数1-50~50200Up to 200密度和孔隙度PorousDenseNear bulkNear bulk粘连/耐久性LowGoodExcellentExcellent湿度敏感性YesYes, smallNoNo老化影响YesYes, smallNoNo内在应力 100MPa~ 100MPaFew 100MPaFew 100 MPa尺寸，mm基底材料波长，nm产品编号?25.4 x 3UVFS795-805 (centered @ 800 nm)2-BFP-0800-0254?25.4 x 3UVFS780-820 (centered @ 800 nm)2-BFP-0800-A-025420 x 40 x 5UVFS7802-BFP-0780-204020 x 40 x 5UVFS780-820 (centered @ 800 nm)2-BFP-0800-A-204020 x 40 x 5UVFS795-805 (centered @ 800 nm)2-BFP-0800-2040?25.4 x 3BK715502-BFP-1550-0254?25.4 x 3UVFS3432-BFP-0343-0254?25.4 x 3UVFS1020-1040 (centered @ 1030 nm)2-BFP-1030-0254?25.4 x 3UVFS2662-BFP-0266-025420 x 40 x 5UVFS1020-1040 (centered @ 1030 nm)2-BFP-1030-204020 x 40 x 5UVFS3552-BFP-0355-2040?25.4 x 3UVFS 5322-BFP-0532-0254?25.4 x 3UVFS10642-BFP-1064-025420 x 40 x 5UVFS2662-BFP-0266-204020 x 40 x 5UVFS5152-BFP-0515-2040?25.4 x 3UVFS7802-BFP-0780-0254?25.4 x 3UVFS4002-BFP-0400-025420 x 40 x 5UVFS4002-BFP-0400-204020 x 40 x 5BK715502-BFP-1550-204020 x 40 x 5UVFS5322-BFP-0532-204020 x 40 x 5UVFS10642-BFP-1064-204020 x 40 x 5UVFS3432-BFP-0343-2040?25.4 x 3UVFS3552-BFP-0355-0254?25.4 x 3UVFS5152-BFP-0515-0254定制你可以根据您的需求定制这个产品。如果您没有找到适合您的应用，请与我们联系，以便定制解决方案。

超薄碳膜，也是支持膜的一种，本公司自主产品，客户可以在此基础上根据实验条件提方案，对产品改进；是在微栅的基础上，叠加了一层很薄的碳膜，一般为3-5nm。这层超薄碳膜的目的，是用薄碳膜把微孔挡住。这主要是针对那些分散性很好的纳米材料，如：10nm以下的样品，分散性极好，如果用微栅就有可能从微孔中漏出，如果在微栅孔边缘，由于膜厚可能会影响观察。所以，用超薄碳膜，就会得到很好的效果。材料：有铜、镍、钼、铝、钨、不锈钢、尼龙等金属及非金属材料。

超薄纯碳膜是在碳支持膜的基础上，将有机层用特殊方法去除后得到的纯碳膜（金属网上直接被覆一层纯碳膜）。纯碳膜在各种电子显微镜下观察均十分稳定，特别适合于需要在有机溶剂或高温下处理的样品，更小的背景干扰。碳膜厚度在3-4nm。产品描述货号规格纯碳膜，200目，铜网（方形孔）CF200-Cu-UL50个/盒纯碳膜，300目，铜网（方形孔）CF300-Cu-UL50个/盒纯碳膜，400目，铜网（方形孔）CF400-Cu-UL50个/盒纯碳膜，200目，镍网（方形孔）CF200-Ni-UL50个/盒纯碳膜，200目，镍网（方形孔）CF300-Ni-UL50个/盒纯碳膜，200目，金网（方形孔）CF200-Au-UL50个/盒纯碳膜，400目，铜网（方形孔）国产100个

满足GB 17378.5-2007 海洋监测规范第5部分沉积物分析

用途：用于对河底淤泥或者沉积物进行分层采样，标准采样深度为3米，最短采样长度约为30厘米，可以分3层，用户可以额外选配分层采样器附管，来增加采样长度。特点：采集淤泥样品，可连续采样连接杆标配三米，其他长度可订制。取样管标配0.9米，其他长度可订制。包含采集淤泥所需全套部件滑动锤取样时更轻松。含便携箱，携带方便。 技术规格：序号名称描述数量1取样管直径5.2CM、SUS304不锈钢材质、螺纹连接3件2滑动锤重量8 lb、优质碳素钢材质、螺纹连接1件3重型十字手柄优质碳素钢材质、配有橡塑手柄、十字头可拆卸（可连接滑动锤，也可直接用吸能锤敲击）1件4采样器头I带阀门，SUS304不锈钢材质、螺纹连接1件5采样器头IISUS304不锈钢材质、螺纹连接1件6连接杆长1米、每10CM处有刻度、SUS304不锈钢材质、螺纹连接3件7.取样衬筒直径4.4CM、PC透明管，长度：12”2支、24”1支、36”1支4件8衬筒管盖尼龙材质8件9手套防滑、防水、棉布内衬1副10活动扳手12英寸、带防滑手柄2件11清洁刷尼龙1件12卷尺5米1件13皮带扳手长22.5CM1件14豪华便携箱内带防震海绵、ABS材质1件产地：中国

薄膜溶解测量仪用于实时监测薄膜在液体过程中的薄膜厚度和光学常量（n, k)的变化，是全球领先的薄膜溶解测量仪和薄膜溶解测试仪。为了这种特色的测量，孚光精仪公司特意为薄膜溶解测量仪研发了Teflon样品池用于测量薄膜样品，使用一种岔头探针水平安装在Teflon 样品池的外部，距离玻璃窗口非常接近，使用白光反射光谱技术（WLRS)，实时测量薄膜厚度和折射率，并通过专业软件记录下这些数据。另外，根据需要，我们还能够在测量区域下安装搅拌装置stirrer，提供力学激励振动。孚光精仪还特意为薄膜溶解测量仪提供垂直的样品夹具，以固定小尺寸的硅样品或3' ' ，4' ' 直径的Si 晶圆。根据溶解过程的不同，如溶解速度的不同，它能够以实时或离线的方式测量，反射率数据都能够存储下来以便后续处理使用。还能够测量几十个纳米厚度的光致抗蚀剂和聚合物薄膜堆的溶解过程，而且还可以测量薄膜的膨胀等特殊现象。对于薄膜厚度的测量，薄膜溶解测厚仪需要光滑，具有反射性的衬底，对于光学常数测量，平整的反射衬底即可满足测量需要。如果衬底是透明的，衬底的背面不能具有反射性。能够给出两个参数：例如两个薄膜的厚度或一个薄膜的厚度和光学常量，已经成功应用于测量反射衬底（Si晶圆）上各种光滑，透明或轻度吸收薄膜的溶解过程，可研究的薄膜包括SiO2薄膜,SiNx薄膜,光致抗蚀剂薄膜，聚合物薄膜层等。薄膜溶解测量仪参数 可测膜厚： 5nm-150微米；波长范围：200-1100nm 精度：0.5% 分辨率：0.02nm 测量点光斑大小：0.5mm可测样品大小：10-100mm计算机要求：Windows XP, vista, Win7均可，USB接口；尺寸：360x400x180mm重量：15kg 电力要求：110/230VAC薄膜溶解测量仪应用：聚合物薄膜光致抗蚀剂薄膜测量化学和生物薄膜测量，传感测量光电子薄膜结构测量 在线测量光学镀膜测量 能够以实时或离线的方式测量，反射率数据都能够存储下来以便后续处理使用。

超薄碳膜，也是支持膜的一种，本公司自主产品，客户可以在此基础上根据实验条件提方案，对产品改进；是在微栅的基础上，叠加了一层很薄的碳膜，一般为3-5nm。这层超薄碳膜的目的，是用薄碳膜把微孔挡住。这主要是针对那些分散性很好的纳米材料，如：10nm以下的样品，分散性极好，如果用微栅就有可能从微孔中漏出，如果在微栅孔边缘，由于膜厚可能会影响观察。所以，用超薄碳膜，就会得到很好的效果。材料：有铜、镍、钼、铝、钨、不锈钢、尼龙等金属及非金属材料。

超薄碳膜，也是支持膜的一种，本公司自主产品，客户可以在此基础上根据实验条件提方案，对产品改进；是在微栅的基础上，叠加了一层很薄的碳膜，一般为3-5nm。这层超薄碳膜的目的，是用薄碳膜把微孔挡住。这主要是针对那些分散性很好的纳米材料，如：10nm以下的样品，分散性极好，如果用微栅就有可能从微孔中漏出，如果在微栅孔边缘，由于膜厚可能会影响观察。所以，用超薄碳膜，就会得到很好的效果。材料：有铜、镍、钼、铝、钨、不锈钢、尼龙等金属及非金属材料。

产品名称：氮化铝(AlN)薄膜 产品简介：AllN Epitxial范本saphhire提出了氢化物气相外延（HVPE）的方法。氮化铝薄膜又是成本效益的方法，用来取代氮化铝单晶衬底。科晶真诚欢迎您的垂询！技术参数：尺寸 dia50.8mm±1mm蓝宝石衬底取向 c轴（0001)±1.0deg衬底： Al2O3 SiC GaN薄膜厚度：10-5000nm导电类型： 半绝缘型位错密度：XRD FWHM of 0002500arcsec XRD FWHM of 10-121500arcsec 有效面积：80%抛光：单抛光 产品规格： 氮化铝(蓝宝石衬底)：dia2"*1500nm±10% 注：可根据客户需求定制特殊的方向和尺寸。标准包装：1000级超净室，100级超净袋或单片盒封装

金刚石研磨片 金刚石研磨片由精密的分级金刚石组成，统一的聚脂薄膜衬背。它可长久良好的研磨性，并且适应原料种类或硬度的变化。它试用于未封装的横截面，TEM截面/平面观察用抛光，背部抛光，以及用来减薄pre-FIB 样品。ALLIED独特的色码包装可以方便快捷的识别产品的微米级。

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400目蕾丝超薄连续碳膜没有方华膜（Formvar）支撑，在蕾丝碳膜上镀一层更薄的碳膜（厚度小于3nm），是可用的最薄纯碳支持膜。由400目铜网支撑的蕾丝碳膜，是不规则碳膜，碳膜上的孔洞花样不一，真正的“镂空”透视设计。碳支持层覆在蕾丝碳膜上，可以得到支撑，而且几乎不干扰TEM成像。非常适合观察纳米管，病毒颗粒和其他小颗粒物质，是高分辨率显微镜及透射电子显微镜的理想选择。订购信息：货号产品名称规格01824Ultrathin Carbon Film on Lacey Carbon Support Film, 400 mesh, Copper25个/盒

薄膜拉力测试仪、塑料薄膜拉伸强度检测、塑料薄膜剥离测试仪介绍：LQJ211万能材料试验机有着超大数显控制系统-为主机曲线、力值、速度和变形动态显示，加上电脑可实现微机操作，参数随意设定，可以做不同材料30KN以内的拉伸、压缩、弯曲、剥离、撕裂、剪切、刺破、低调疲劳等多项力学试验.可根据国际标准ISO.JIS.ASTM.DIN等国际标准和国外标准进行试验和提供数据.以windows操作系统使试验数据曲线动态显示,试验数据可以任意删加,对曲线操作更加简便.轻松.随时随地都可以进行曲线遍历.叠加.分离.缩放.打印等全电子显示监控. 薄膜拉力测试仪、塑料薄膜拉伸强度检测、塑料薄膜剥离测试仪技术参数 Main specifications 1、最大负荷Load Accuracy： 30KN（任意选） 2、荷重元精度Load Accuracy： 0.01% 3、测试精度Measuring accuracy： ± 0.5% 4、操作方式Control： 全电脑控制,windows模式操作 5、有效试验宽度Valid width： 约420mm 6、有效拉伸空间Stroke： 约800mm 7、试验速度Tetxing speed : 0.001~500mm/min 8、速度精度 Speed Accuracy：: ± 0.5%以内； 9、位移测量精度Stroke Accuracy： ± 0.5%以内； 10、变形测量精度Displacement Accuracy： ± 0.5%以内 11、安全装置 Safety device： 电子限位保护，紧急停止键 Safeguard stroke 12、机台重量Main Unit Weight ： 约140kg